JPH07230948A - マスクアライナ - Google Patents
マスクアライナInfo
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- JPH07230948A JPH07230948A JP6021408A JP2140894A JPH07230948A JP H07230948 A JPH07230948 A JP H07230948A JP 6021408 A JP6021408 A JP 6021408A JP 2140894 A JP2140894 A JP 2140894A JP H07230948 A JPH07230948 A JP H07230948A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 微小間隔から広間隔のアライメントに対応で
きるようにする。 【構成】 下面の内辺どうしを互いに密着させてＶ字形
状に形成した一対の平行四辺形プリズム５、５の各々の
傾斜面に全反射機能を有するミラー６、６を設ける一
方、一対の平行四辺形プリズム５、５の上方に一対の対
物レンズ８、８を水平方向に移動可能に設け、一方の対
物レンズ８を一方の平行四辺形プリズム５に、他方の対
物レンズ８を他方の平行四辺形プリズム５にそれぞれ対
向させる。各平行四辺形プリズム５の視野内に位置する
被アライメント物１２は、各平行四辺形プリズム５で捉
えられ、各傾斜面のミラー６、６で反射されて各平行四
辺形プリズム５の上面側から出射され、各対物レンズ８
に導かれる。
きるようにする。 【構成】 下面の内辺どうしを互いに密着させてＶ字形
状に形成した一対の平行四辺形プリズム５、５の各々の
傾斜面に全反射機能を有するミラー６、６を設ける一
方、一対の平行四辺形プリズム５、５の上方に一対の対
物レンズ８、８を水平方向に移動可能に設け、一方の対
物レンズ８を一方の平行四辺形プリズム５に、他方の対
物レンズ８を他方の平行四辺形プリズム５にそれぞれ対
向させる。各平行四辺形プリズム５の視野内に位置する
被アライメント物１２は、各平行四辺形プリズム５で捉
えられ、各傾斜面のミラー６、６で反射されて各平行四
辺形プリズム５の上面側から出射され、各対物レンズ８
に導かれる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は集積回路及びセンサ等
を製造する際のマスク合せ等に有効なマスクアライナに
関し、特に、微小間隔（５ｍｍ程度）のアライメントに
対応可能なマスクアライナに関するものである。
を製造する際のマスク合せ等に有効なマスクアライナに
関し、特に、微小間隔（５ｍｍ程度）のアライメントに
対応可能なマスクアライナに関するものである。
【０００２】
【従来技術およびその問題点】一般に、集積回路及びセ
ンサ等を製造する場合、シリコン基板上に形成したパタ
ーンに次の工程のマスクの位置を相対的に合わせ、その
マスクパターンをレジストに紫外光で焼き付ける工程
（所謂マスク合せ・露光）がある。この場合、マスクと
基板を数１０μｍ平行に離し、その拡大像を顕微鏡で見
ながらＸ軸、Ｙ軸および回転を手動的に合わせ、あるい
は予め位置合わせマーク（ターゲット）を付けておき、
そのマークの位置を光学的に検出する（例えば反射率が
異なることを利用する）ことにより自動的に合わせ、そ
の後適宜の手段でマスクを基板に密着させ、露光するよ
うになっている。
ンサ等を製造する場合、シリコン基板上に形成したパタ
ーンに次の工程のマスクの位置を相対的に合わせ、その
マスクパターンをレジストに紫外光で焼き付ける工程
（所謂マスク合せ・露光）がある。この場合、マスクと
基板を数１０μｍ平行に離し、その拡大像を顕微鏡で見
ながらＸ軸、Ｙ軸および回転を手動的に合わせ、あるい
は予め位置合わせマーク（ターゲット）を付けておき、
そのマークの位置を光学的に検出する（例えば反射率が
異なることを利用する）ことにより自動的に合わせ、そ
の後適宜の手段でマスクを基板に密着させ、露光するよ
うになっている。
【０００３】このような工程においては、通常、一眼二
視野顕微鏡や二眼二視野顕微鏡が用いられているが、前
者は、対物レンズにより倍率と視野が決定されてしまう
ため、広間隔（３０ｍｍ以上）のアライメントには対応
できない。また、リレーレンズの交換が困難であり、光
学系が複雑なために高価であるという問題がある。一
方、後者は、広間隔のアライメントに対応でき、倍率の
設定も容易であるが、二つの対物レンズがぶつかってし
まうため微小間隔（５ｍｍ程度）のアライメントに対応
できないという問題点がある。
視野顕微鏡や二眼二視野顕微鏡が用いられているが、前
者は、対物レンズにより倍率と視野が決定されてしまう
ため、広間隔（３０ｍｍ以上）のアライメントには対応
できない。また、リレーレンズの交換が困難であり、光
学系が複雑なために高価であるという問題がある。一
方、後者は、広間隔のアライメントに対応でき、倍率の
設定も容易であるが、二つの対物レンズがぶつかってし
まうため微小間隔（５ｍｍ程度）のアライメントに対応
できないという問題点がある。
【０００４】この発明は前記のような従来のもののもつ
問題点を解決したものであって、微小間隔のアライメン
トにも広間隔のアライメントにも十分に対応できるとと
もに、構成が簡単で安価なマスクアライナを提供するこ
とを目的とするものである。
問題点を解決したものであって、微小間隔のアライメン
トにも広間隔のアライメントにも十分に対応できるとと
もに、構成が簡単で安価なマスクアライナを提供するこ
とを目的とするものである。
【０００５】
【問題点を解決するための手段】上記の問題点を解決す
るためこの発明は、互いに近接あるいは密着して設けら
れるとともに、入射の間隔よりも広い出射の間隔を有す
る一対のプリズムと、このプリズムの上方に設けられる
とともに、各々が水平方向に移動可能な一対の対物レン
ズとを具え、各プリズムの視野内に位置する被アライメ
ント物が各プリズムを介して各対物レンズに導かれる手
段を採用したものである。
るためこの発明は、互いに近接あるいは密着して設けら
れるとともに、入射の間隔よりも広い出射の間隔を有す
る一対のプリズムと、このプリズムの上方に設けられる
とともに、各々が水平方向に移動可能な一対の対物レン
ズとを具え、各プリズムの視野内に位置する被アライメ
ント物が各プリズムを介して各対物レンズに導かれる手
段を採用したものである。
【０００６】
【作用】この発明は前記のような手段を採用したことに
より、各プリズムの視野内に位置する被アライメント物
は、各プリズムを介して各対物レンズに導かれることに
なる。この場合、各プリズムどうしは互いに近接あるい
は密着して設けられているので、微小間隔のアライメン
トにも十分に対応できることになる。
より、各プリズムの視野内に位置する被アライメント物
は、各プリズムを介して各対物レンズに導かれることに
なる。この場合、各プリズムどうしは互いに近接あるい
は密着して設けられているので、微小間隔のアライメン
トにも十分に対応できることになる。
【０００７】
【実施例】以下、図面に示すこの発明の実施例について
説明する。図１〜図３には、この発明によるマスクアラ
イナの一実施例が示されていて、図１は全体を示す概略
図、図２は図１に示すものの部分拡大図、図３は図１に
示すものの対物レンズとプリズム部との関係を示した説
明図である。
説明する。図１〜図３には、この発明によるマスクアラ
イナの一実施例が示されていて、図１は全体を示す概略
図、図２は図１に示すものの部分拡大図、図３は図１に
示すものの対物レンズとプリズム部との関係を示した説
明図である。
【０００８】すなわち、このマスクアライナは、基台１
上に立設されている基枠２に取り付けられる顕微鏡部３
と、この顕微鏡部３に対向するように前記基台１上に設
けられるとともに、上面側に被アライメント物である基
板１２及びマスク１２を載置可能、かつ、載置した基板
１２及びマスク１２のＸ−Ｙ方向、回転の位置調整が可
能な試料台１１とを具えている。
上に立設されている基枠２に取り付けられる顕微鏡部３
と、この顕微鏡部３に対向するように前記基台１上に設
けられるとともに、上面側に被アライメント物である基
板１２及びマスク１２を載置可能、かつ、載置した基板
１２及びマスク１２のＸ−Ｙ方向、回転の位置調整が可
能な試料台１１とを具えている。
【０００９】前記顕微鏡部３は、前記試料台１１上に載
置した基板１２及びマスク１２の像を捉えるプリズム部
４と、このプリズム部４の上方に対向して設けられると
ともに、プリズム部４から出射された像を一対の接眼レ
ンズ１０、１０に導く一対の対物レンズ８、８とを具え
ている。
置した基板１２及びマスク１２の像を捉えるプリズム部
４と、このプリズム部４の上方に対向して設けられると
ともに、プリズム部４から出射された像を一対の接眼レ
ンズ１０、１０に導く一対の対物レンズ８、８とを具え
ている。
【００１０】前記プリズム部４は、中心部に上下面が開
口するＶ字形状の溝７ａが穿設されるとともに、上端部
が前記基枠２に図示しないボルト等を介して固定される
略Ｕ字形状のプリズムホルダ７と、前記溝７ａ内に溝７
ａの形状に合致するように装着される一対の平行四辺形
プリズム５、５とを具えており、この場合、各平行四辺
形プリズム５の上下面が水平方向を向くように、前記プ
リズムホルダ７の前記基枠２に対する取付け位置が調整
されている。
口するＶ字形状の溝７ａが穿設されるとともに、上端部
が前記基枠２に図示しないボルト等を介して固定される
略Ｕ字形状のプリズムホルダ７と、前記溝７ａ内に溝７
ａの形状に合致するように装着される一対の平行四辺形
プリズム５、５とを具えており、この場合、各平行四辺
形プリズム５の上下面が水平方向を向くように、前記プ
リズムホルダ７の前記基枠２に対する取付け位置が調整
されている。
【００１１】前記各平行四辺形プリズム５の各傾斜面に
はそれぞれ全反射機能を有するミラー６、６が反射面を
内側（プリズム側）にした状態で蒸着等により一体に設
けられ、内側の傾斜面に位置するミラー６、６の下端ど
うしは互いに密着するようになっている。
はそれぞれ全反射機能を有するミラー６、６が反射面を
内側（プリズム側）にした状態で蒸着等により一体に設
けられ、内側の傾斜面に位置するミラー６、６の下端ど
うしは互いに密着するようになっている。
【００１２】前記一対の対物レンズ８、８は、前記プリ
ズムホルダ７の上方の前記基枠２に取り付けられている
とともに、所定の範囲内を水平方向に移動可能となって
いる一対の可動部材９、９の各々に装着され、各々の可
動部材９、９と一体に所定の範囲内を水平方向に移動可
能となっている。
ズムホルダ７の上方の前記基枠２に取り付けられている
とともに、所定の範囲内を水平方向に移動可能となって
いる一対の可動部材９、９の各々に装着され、各々の可
動部材９、９と一体に所定の範囲内を水平方向に移動可
能となっている。
【００１３】この場合、一方の対物レンズ８が一方の平
行四辺形プリズム５の上面に対向し、他方の対物レンズ
８が他方の平行四辺形プリズム５の上面に対向し、か
つ、各々の対物レンズ８の光軸が垂直方向を向くよう
に、各々の対物レンズ８、８は各々の可動部材９、９に
取り付けられているとともに、一方の対物レンズ８が一
方の平行四辺形プリズム５の上面の全範囲を捉え、他方
の対物レンズ８が他方の平行四辺形プリズム５の上面の
全範囲を捉えられるように、各々の可動部材９、９の水
平方向の移動範囲が調整されている。
行四辺形プリズム５の上面に対向し、他方の対物レンズ
８が他方の平行四辺形プリズム５の上面に対向し、か
つ、各々の対物レンズ８の光軸が垂直方向を向くよう
に、各々の対物レンズ８、８は各々の可動部材９、９に
取り付けられているとともに、一方の対物レンズ８が一
方の平行四辺形プリズム５の上面の全範囲を捉え、他方
の対物レンズ８が他方の平行四辺形プリズム５の上面の
全範囲を捉えられるように、各々の可動部材９、９の水
平方向の移動範囲が調整されている。
【００１４】そして、上記のようにプリズムホルダ７に
装着した一対の平行四辺形プリズム５、５の各々の下面
に含まれる範囲内、すなわち図３中Ｏ〜Ｘの範囲内また
はＯ〜Ｙの範囲内が各平行四辺形プリズム５の視野とな
るものであり、この視野内に位置する被アライメント物
１２である基板１２及びマスク１２の像が各平行四辺形
プリズム５で捉えられ、各平行四辺形プリズム５の各傾
斜面のミラー６、６で反射され、各平行四辺形プリズム
５の上面側から出射されて各対物レンズ８に導かれ、各
対物レンズ８から各接眼レンズ１０に導かれるものであ
る。
装着した一対の平行四辺形プリズム５、５の各々の下面
に含まれる範囲内、すなわち図３中Ｏ〜Ｘの範囲内また
はＯ〜Ｙの範囲内が各平行四辺形プリズム５の視野とな
るものであり、この視野内に位置する被アライメント物
１２である基板１２及びマスク１２の像が各平行四辺形
プリズム５で捉えられ、各平行四辺形プリズム５の各傾
斜面のミラー６、６で反射され、各平行四辺形プリズム
５の上面側から出射されて各対物レンズ８に導かれ、各
対物レンズ８から各接眼レンズ１０に導かれるものであ
る。
【００１５】すなわち、図中Ｏ点近傍に位置する基板１
２またはマスク１２であっても、Ｘ点またはＹ点近傍に
位置する基板１２またはマスク１２であっても、それら
は各平行四辺形プリズム５の下面側で確実に捉えられる
とともに、各平行四辺形プリズム５の各傾斜面のミラー
６、６で反射されて各平行四辺形プリズム５の上面側か
ら出射される。そして、各平行四辺形プリズム５の上方
に位置している各対物レンズ８は、各平行四辺形プリズ
ム５の上面の全範囲を捉えられる範囲内を移動可能とな
っているので、各平行四辺形プリズム５の上面側から出
射される各像は各対物レンズ８に確実に入射され、各接
眼レンズ１０に導かれることになる。
２またはマスク１２であっても、Ｘ点またはＹ点近傍に
位置する基板１２またはマスク１２であっても、それら
は各平行四辺形プリズム５の下面側で確実に捉えられる
とともに、各平行四辺形プリズム５の各傾斜面のミラー
６、６で反射されて各平行四辺形プリズム５の上面側か
ら出射される。そして、各平行四辺形プリズム５の上方
に位置している各対物レンズ８は、各平行四辺形プリズ
ム５の上面の全範囲を捉えられる範囲内を移動可能とな
っているので、各平行四辺形プリズム５の上面側から出
射される各像は各対物レンズ８に確実に入射され、各接
眼レンズ１０に導かれることになる。
【００１６】したがって、各平行四辺形プリズム５の上
下面の面積、傾斜角度等を適宜の値に設定することによ
り、集積回路及びセンサ等を製造する場合の基板１２上
の所定の位置にマスク１２を位置決めする所謂マスク合
せ工程において、従来困難であった微小間隔（５ｍｍ程
度）のアライメントにも、広間隔（３０ｍｍ以上）のア
ライメントにも十分に対応できることになり、汎用性を
向上させることができることになる。
下面の面積、傾斜角度等を適宜の値に設定することによ
り、集積回路及びセンサ等を製造する場合の基板１２上
の所定の位置にマスク１２を位置決めする所謂マスク合
せ工程において、従来困難であった微小間隔（５ｍｍ程
度）のアライメントにも、広間隔（３０ｍｍ以上）のア
ライメントにも十分に対応できることになり、汎用性を
向上させることができることになる。
【００１７】また、上記のように構成したこの実施例に
よるマスクアライナは、各傾斜面に全反射機能を有する
ミラー６、６を設けた一対の平行四辺形プリズム５、５
と、この一対の平行四辺形プリズム５、５に対向するよ
うに水平方向に移動可能に設けた一対の対物レンズ８、
８からなる簡単な構造のものであるので、結像するのに
高価な光学系を一切必要とせず、安価なものを提供する
ことができることになる。
よるマスクアライナは、各傾斜面に全反射機能を有する
ミラー６、６を設けた一対の平行四辺形プリズム５、５
と、この一対の平行四辺形プリズム５、５に対向するよ
うに水平方向に移動可能に設けた一対の対物レンズ８、
８からなる簡単な構造のものであるので、結像するのに
高価な光学系を一切必要とせず、安価なものを提供する
ことができることになる。
【００１８】なお、前記の説明においては、プリズム部
４に一対の平行四辺形プリズム５、５を設けたが、一対
の三角形プリズムを設けても同様の作用・効果が得られ
るものであり、この場合には、三角形プリズムの傾斜面
が全反射機能を有するように構成すればよいものであ
る。また、平行四辺形プリズム５、５を用いずにプリズ
ムホルダ７にミラー６、６のみを所定の角度で装着する
ようにしても同様の作用・効果が得られるものである。
さらに、各平行四辺形プリズム５、５の入射面を曲面と
してレンズ機能を持たせ、省スペースのクローズアップ
ダウンレンズとして使用してもよいものである。
４に一対の平行四辺形プリズム５、５を設けたが、一対
の三角形プリズムを設けても同様の作用・効果が得られ
るものであり、この場合には、三角形プリズムの傾斜面
が全反射機能を有するように構成すればよいものであ
る。また、平行四辺形プリズム５、５を用いずにプリズ
ムホルダ７にミラー６、６のみを所定の角度で装着する
ようにしても同様の作用・効果が得られるものである。
さらに、各平行四辺形プリズム５、５の入射面を曲面と
してレンズ機能を持たせ、省スペースのクローズアップ
ダウンレンズとして使用してもよいものである。
【００１９】
【発明の効果】この発明は請求項１に示した構成にした
ことにより、各プリズムの視野内に位置する被アライメ
ント物は、各プリズムを介して各対物レンズに導かれる
ことになり、この場合、各プリズムは互いに近接あるい
は密着して設けられているので、各プリズムの下面の範
囲内であれば確実に被アライメント物を捉えることがで
きる。また、各プリズムによって形成される出射の間隔
は入射の間隔よりも広くなっており、しかも、各プリズ
ムの上方に設けられている各対物レンズは水平方向に移
動可能となっているので、各プリズムから出射される像
は確実に各対物レンズに導かれることになる。したがっ
て、微小間隔のアライメントにも、広間隔のアライメン
トにも十分に対応できることになる。また、一対のプリ
ズムの上方に一対の対物レンズを移動可能に設けた簡単
な構造のものであり、結像するのに高価な光学系等を一
切必要とすることがないので、安価なものを提供するこ
とができることになるという優れた効果を有するもので
ある。
ことにより、各プリズムの視野内に位置する被アライメ
ント物は、各プリズムを介して各対物レンズに導かれる
ことになり、この場合、各プリズムは互いに近接あるい
は密着して設けられているので、各プリズムの下面の範
囲内であれば確実に被アライメント物を捉えることがで
きる。また、各プリズムによって形成される出射の間隔
は入射の間隔よりも広くなっており、しかも、各プリズ
ムの上方に設けられている各対物レンズは水平方向に移
動可能となっているので、各プリズムから出射される像
は確実に各対物レンズに導かれることになる。したがっ
て、微小間隔のアライメントにも、広間隔のアライメン
トにも十分に対応できることになる。また、一対のプリ
ズムの上方に一対の対物レンズを移動可能に設けた簡単
な構造のものであり、結像するのに高価な光学系等を一
切必要とすることがないので、安価なものを提供するこ
とができることになるという優れた効果を有するもので
ある。
【図１】この発明によるマスクアライナの一実施例の全
体を示した概略図である。
体を示した概略図である。
【図２】図１に示すものの部分拡大図である。
【図３】図１に示すものの対物レンズとプリズム部との
関係を示した説明図である。
関係を示した説明図である。
１……基台 ２……基枠 ３……顕微鏡部 ４……プリズム部 ５……平行四辺形プリズム ６……ミラー ７……プリズムホルダ ７ａ……溝 ８……対物レンズ ９……可動部材 １０……接眼レンズ １１……試料台 １２……被アライメント物
Claims (1)
- 【請求項１】 互いに近接あるいは密着して設けられる
とともに、入射の間隔よりも広い出射の間隔を有する一
対のプリズム（５）（５）と、該プリズム（５）（５）
の上方に設けられるとともに、各々が水平方向に移動可
能な一対の対物レンズ（８）（８）とを具え、各プリズ
ム（５）（５）の視野内に位置する被アライメント物
（１２）（１２）が各プリズム（５）（５）を介して各
対物レンズ（８）（８）に導かれることを特徴とするマ
スクアライナ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6021408A JPH07230948A (ja) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | マスクアライナ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6021408A JPH07230948A (ja) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | マスクアライナ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07230948A true JPH07230948A (ja) | 1995-08-29 |
Family
ID=12054214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6021408A Pending JPH07230948A (ja) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | マスクアライナ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07230948A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120099107A1 (en) * | 2010-10-25 | 2012-04-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Workpiece Alignment Device |
| JP2020532735A (ja) * | 2017-09-05 | 2020-11-12 | ウェイモ エルエルシー | 互いに位置整合された伝送経路および受信経路を有するｌｉｄａｒ |
| CN113571408A (zh) * | 2021-06-29 | 2021-10-29 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种euv掩膜板对准标记及其优化方法和制备方法 |
| CN116113810A (zh) * | 2020-08-07 | 2023-05-12 | 柯尼卡美能达株式会社 | 光学装置、色彩亮度计以及色彩计 |
-
1994
- 1994-02-18 JP JP6021408A patent/JPH07230948A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20120099107A1 (en) * | 2010-10-25 | 2012-04-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Workpiece Alignment Device |
| US8836943B2 (en) * | 2010-10-25 | 2014-09-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Workpiece alignment device |
| JP2020532735A (ja) * | 2017-09-05 | 2020-11-12 | ウェイモ エルエルシー | 互いに位置整合された伝送経路および受信経路を有するｌｉｄａｒ |
| US11802942B2 (en) | 2017-09-05 | 2023-10-31 | Waymo Llc | LIDAR with co-aligned transmit and receive paths |
| US12510633B2 (en) | 2017-09-05 | 2025-12-30 | Waymo Llc | LIDAR with co-aligned transmit and receive paths |
| CN116113810A (zh) * | 2020-08-07 | 2023-05-12 | 柯尼卡美能达株式会社 | 光学装置、色彩亮度计以及色彩计 |
| CN113571408A (zh) * | 2021-06-29 | 2021-10-29 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种euv掩膜板对准标记及其优化方法和制备方法 |
| CN113571408B (zh) * | 2021-06-29 | 2024-02-09 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种euv掩膜板对准标记及其优化方法和制备方法 |
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