JPH047513A - 正立型顕微鏡 - Google Patents
正立型顕微鏡Info
- Publication number
- JPH047513A JPH047513A JP2109288A JP10928890A JPH047513A JP H047513 A JPH047513 A JP H047513A JP 2109288 A JP2109288 A JP 2109288A JP 10928890 A JP10928890 A JP 10928890A JP H047513 A JPH047513 A JP H047513A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- arm
- lens barrel
- support member
- main body
- body base
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、微小物質を対物レンズと接眼レンズによって
拡大し微小物質の詳細部を観察するもので、特に半導体
の検査等に使用される正立型顕微鏡に関する。
拡大し微小物質の詳細部を観察するもので、特に半導体
の検査等に使用される正立型顕微鏡に関する。
従来の正立型顕微鏡は、第3図、第4図に示す如く、対
物レンズを含む光軸上において、前記対物レンズの後方
で落射照明の光学系を内蔵したアーム部の上部、落射照
明装置が取付可能なアーム部の上部、又はアーム部に落
射装置を取付けたその上に鏡筒が取付けられる構造のも
のであった。
物レンズを含む光軸上において、前記対物レンズの後方
で落射照明の光学系を内蔵したアーム部の上部、落射照
明装置が取付可能なアーム部の上部、又はアーム部に落
射装置を取付けたその上に鏡筒が取付けられる構造のも
のであった。
−古手導体のDRAMは、今日でも3年に4倍というペ
ースで集積度が増大している。そのため顕微鏡で観察さ
れるパターンも当然微細化が進んでおり、今後もますま
すその方向に進むものと思われる。半導体を生産するた
めの現在のネックは発塵によりウェハにごみが付着し歩
留まりが下がる事であり、その発塵の第1の原因は人か
ら発生するものである。半導体の製造工程においてはほ
ぼ自動化されているが検査工程においてはまだ人手によ
る方法も残っており今後もその方法が続くものと思われ
る。
ースで集積度が増大している。そのため顕微鏡で観察さ
れるパターンも当然微細化が進んでおり、今後もますま
すその方向に進むものと思われる。半導体を生産するた
めの現在のネックは発塵によりウェハにごみが付着し歩
留まりが下がる事であり、その発塵の第1の原因は人か
ら発生するものである。半導体の製造工程においてはほ
ぼ自動化されているが検査工程においてはまだ人手によ
る方法も残っており今後もその方法が続くものと思われ
る。
しかしながら従来の正立型顕微鏡においては、上述の様
な構造になっているため、人からの発塵、特に検査をす
る人の息が直接ウェハにかがってしまったり、操作時に
腕をウェハ面より上にあげた時にごみをウェハ上に落と
してしまうという問題点があった。
な構造になっているため、人からの発塵、特に検査をす
る人の息が直接ウェハにかがってしまったり、操作時に
腕をウェハ面より上にあげた時にごみをウェハ上に落と
してしまうという問題点があった。
また、従来の正立型顕微鏡用付属品の写真装置やテレビ
カメラ・測光装置等は、第5図に示す如く鏡筒の上部に
取付ける構造となっているので、取付は位置が高い所と
なりウェハの真上に来てしまい写真装置や測光装置の操
作時においてもウェハ上にゴミを落してしまうという問
題があった。
カメラ・測光装置等は、第5図に示す如く鏡筒の上部に
取付ける構造となっているので、取付は位置が高い所と
なりウェハの真上に来てしまい写真装置や測光装置の操
作時においてもウェハ上にゴミを落してしまうという問
題があった。
また操作する態勢も位置が高い所のため操作性が悪いと
いう問題もあった。
いう問題もあった。
さらに、それらの付属品にはシャッタ等が入っており、
その操作時に振動源になってしまうと共に構造的にも鏡
筒の上に積み重ねる形のため振動には強い構造とはいえ
ず、また前述した如くパターンはどんどん微細化してお
り検査する時の顕微鏡の総合倍率も高くなって来ている
現状においては振動は極力避けなければならないが、こ
の点に於ても耐振性に問題点がある。
その操作時に振動源になってしまうと共に構造的にも鏡
筒の上に積み重ねる形のため振動には強い構造とはいえ
ず、また前述した如くパターンはどんどん微細化してお
り検査する時の顕微鏡の総合倍率も高くなって来ている
現状においては振動は極力避けなければならないが、こ
の点に於ても耐振性に問題点がある。
また、従来の王立型顕微鏡は前述以外の付属品でオート
フォーカス装置や中間変倍装置、偏光装置等の中間鏡筒
を取付ける場合は、第6図に示す如く鏡筒とアームの間
にそれらの付属品を揮入する構造となっているので、そ
のためにそれらの付属品を使用すると鏡筒の位置がます
ます高くなってしまう問題があった。
フォーカス装置や中間変倍装置、偏光装置等の中間鏡筒
を取付ける場合は、第6図に示す如く鏡筒とアームの間
にそれらの付属品を揮入する構造となっているので、そ
のためにそれらの付属品を使用すると鏡筒の位置がます
ます高くなってしまう問題があった。
本発明の目的は操作性が良く、ウェハ上に人からの発塵
及び付属品からのごみの落下がなく、耐振性に優れた安
定性のある正立型顕微鏡を捉供することにある。
及び付属品からのごみの落下がなく、耐振性に優れた安
定性のある正立型顕微鏡を捉供することにある。
上記目的の為に本発明では、本体ベース部(5)と、該
本体ベース部(5)上面近傍に配置されたステージ(8
)と、該ステージ(8)に対する対物レンズ(21)を
保持する対物レンズレボルバ−(7)をその端部に固設
したアーム部(1)と、該アーム部(1)を支持すると
共に前記本体ベース部(5)の一端に固設されたアーム
支持部材(2)と、該アーム支持部材(2)に対峙し、
鏡筒部(4)を支持すると共に前記本体ベース部(5)
の他端部に固設された鏡筒支持部材(10)と、を有す
ることを課題解決の手段とするものである。
本体ベース部(5)上面近傍に配置されたステージ(8
)と、該ステージ(8)に対する対物レンズ(21)を
保持する対物レンズレボルバ−(7)をその端部に固設
したアーム部(1)と、該アーム部(1)を支持すると
共に前記本体ベース部(5)の一端に固設されたアーム
支持部材(2)と、該アーム支持部材(2)に対峙し、
鏡筒部(4)を支持すると共に前記本体ベース部(5)
の他端部に固設された鏡筒支持部材(10)と、を有す
ることを課題解決の手段とするものである。
本発明においては、試料を観察する鏡筒部を従来の垂直
方向の配置から水平方向に離れるように配置したので観
察時又は検査時において、人の息が直接試料にかかる如
き不都合はない。
方向の配置から水平方向に離れるように配置したので観
察時又は検査時において、人の息が直接試料にかかる如
き不都合はない。
また、顕微鏡の操作で通常使用される上下動部のノブや
、写真装置等、本体ベース部の所望の位置に配置するこ
とが出来るので、従来の操作性の悪さが解消すると共に
、撮影時の操作によって発塵する如き不都合は解消する
。
、写真装置等、本体ベース部の所望の位置に配置するこ
とが出来るので、従来の操作性の悪さが解消すると共に
、撮影時の操作によって発塵する如き不都合は解消する
。
更には付属装置の積重ねをする従来の構成とは変えて、
装置それぞれを少なくとも単独に配置するようにしたの
で構造的に安定すると共に観察する位置(高さ)も一定
に保つ事ができる。又傾角鏡筒を取付けることにより、
個人差による高さの微調節や俯視角の調節が出来る。
装置それぞれを少なくとも単独に配置するようにしたの
で構造的に安定すると共に観察する位置(高さ)も一定
に保つ事ができる。又傾角鏡筒を取付けることにより、
個人差による高さの微調節や俯視角の調節が出来る。
第1図は本発明の一実施例の側面図であり、第2図はそ
の光学系の配置図と外枠の位置関係図である。
の光学系の配置図と外枠の位置関係図である。
第1図、第2図において対物レンズレボルバ−(7)は
ベース部(5)中央にある光軸(6)上で、アーム部(
1)先端に取付けられている。アーム部(1)の内部に
は落射照明用の光学系(11)が配置されており、アー
ム後部に取付けられた不図示のランプあるいは別光源ら
導かれたファイバ等によって落射照明が可能になる。ア
ーム後部にはアーム部を支えているアーム支持部材(2
)があり、そのアーム支持部材(2)がベー ス部後部
に取付けられている。
ベース部(5)中央にある光軸(6)上で、アーム部(
1)先端に取付けられている。アーム部(1)の内部に
は落射照明用の光学系(11)が配置されており、アー
ム後部に取付けられた不図示のランプあるいは別光源ら
導かれたファイバ等によって落射照明が可能になる。ア
ーム後部にはアーム部を支えているアーム支持部材(2
)があり、そのアーム支持部材(2)がベー ス部後部
に取付けられている。
ベース部(5)中央には前述の光軸(6)があり、その
光軸に対してステージがステージ取付部へ (3)に取付けられており、該ステージ取付部(3)は
不図示の上下動機構によって光軸(6)方向に駆動する
。その上下動機構を駆動する手段はベース部の前側側面
に設けられているノブ(9)による。さらにそのノブは
同軸上に2、ないし3ケのノブを持ち粗動及び微動ある
いは中動にてステージ(8)を上下させそれによって標
本のピント合わせを可能としている。またステージ光軸
(6)に対して垂直方向に移動可能で、ステージに設け
られている不図示のつまみによってX1Y方向に動く。
光軸に対してステージがステージ取付部へ (3)に取付けられており、該ステージ取付部(3)は
不図示の上下動機構によって光軸(6)方向に駆動する
。その上下動機構を駆動する手段はベース部の前側側面
に設けられているノブ(9)による。さらにそのノブは
同軸上に2、ないし3ケのノブを持ち粗動及び微動ある
いは中動にてステージ(8)を上下させそれによって標
本のピント合わせを可能としている。またステージ光軸
(6)に対して垂直方向に移動可能で、ステージに設け
られている不図示のつまみによってX1Y方向に動く。
そのことにより標本をステージの移動範囲内で観察する
事ができ、観察位置の移動も前述のつまみにより任意の
位置へ容易に行うことができる。
事ができ、観察位置の移動も前述のつまみにより任意の
位置へ容易に行うことができる。
ステージ(8)の下部のベース部(5)の光軸(6)上
には、透過照明用の光学系(12)が配置され、ステー
ジ取付は部(3)には透過照明用のコンデンサ(13)
が取付けられている。ベース後部あるいは側面部に不図
示のランプあるいは別光源から導かれたファイバ等によ
って、前述の透過照明用光学系とコンデンサによって透
過照明が可能になる。
には、透過照明用の光学系(12)が配置され、ステー
ジ取付は部(3)には透過照明用のコンデンサ(13)
が取付けられている。ベース後部あるいは側面部に不図
示のランプあるいは別光源から導かれたファイバ等によ
って、前述の透過照明用光学系とコンデンサによって透
過照明が可能になる。
ベース部(5)前側には鏡筒支持部材(10)がありそ
の先端部に鏡筒(4)が取付いている。
の先端部に鏡筒(4)が取付いている。
結像光学系は、対物レンズ(21)及び落射照明用の反
射ミラー(22)を通過後反射ミラー(23)またはプ
リズムによって、アーム内を後方に光軸を変えアーム内
を通過する。さらにアーム後方で反射ミラー(24)ま
たはプリズムによって光軸を下に向けてアーム支持部材
(2)内を通過させる。アーム支持部材(2)内を通過
した光束はベース部後方で反射ミラー(25)またはプ
リズムによって光軸を手前側に変更させベース内を通過
させる。前述の対物レンズを含む光軸(6)より手前側
に設けた鏡筒側へ反射ミラー(26,27,28)また
はプリズムによって光軸を変更し鏡筒内に光束を導き、
そこで像を作りその像を接眼レンズ(29)で拡大して
標本を観察する。
射ミラー(22)を通過後反射ミラー(23)またはプ
リズムによって、アーム内を後方に光軸を変えアーム内
を通過する。さらにアーム後方で反射ミラー(24)ま
たはプリズムによって光軸を下に向けてアーム支持部材
(2)内を通過させる。アーム支持部材(2)内を通過
した光束はベース部後方で反射ミラー(25)またはプ
リズムによって光軸を手前側に変更させベース内を通過
させる。前述の対物レンズを含む光軸(6)より手前側
に設けた鏡筒側へ反射ミラー(26,27,28)また
はプリズムによって光軸を変更し鏡筒内に光束を導き、
そこで像を作りその像を接眼レンズ(29)で拡大して
標本を観察する。
結像光学系では、光路中にリレーレンズ等を入れ2〜3
ケ所像を作ることによってその部分にスケールやマスク
等を入れる事ができ、それによって観察像と同一視野に
てスケールやマスク等が観察できる。
ケ所像を作ることによってその部分にスケールやマスク
等を入れる事ができ、それによって観察像と同一視野に
てスケールやマスク等が観察できる。
反射ミラー(26)の部分をハーフミラ−またはプリズ
ム等で光路を2つに分は一方を鏡筒側へ、もう一方をさ
らに手前側にもってくる事により鏡筒の下部に写真装置
(31)等を設置することができる。
ム等で光路を2つに分は一方を鏡筒側へ、もう一方をさ
らに手前側にもってくる事により鏡筒の下部に写真装置
(31)等を設置することができる。
以上のように本発明によれば鏡筒部を試料位置から水平
方向に離したので試料上に人の息が直接かかったり、操
作時に塵が落ちたりすることが起きない効果がある。
方向に離したので試料上に人の息が直接かかったり、操
作時に塵が落ちたりすることが起きない効果がある。
また、本体ベース部の所望の位置に付属品を配設出来る
ので、付属品を積重ねて使用する必要がなく、そのため
鏡筒を所定位置(高さ)に保つことが可能となると共に
その操作性、耐振性が向上する効果もある。
ので、付属品を積重ねて使用する必要がなく、そのため
鏡筒を所定位置(高さ)に保つことが可能となると共に
その操作性、耐振性が向上する効果もある。
更には結像光学系では光路中にリレーレンズを使用し複
数ケ所像を作ることが出来るのでその部分にスケールや
マスク等を入れることが出来るので、観察像と同一視野
にてスケールやマスク等が観察できる効果もある。
数ケ所像を作ることが出来るのでその部分にスケールや
マスク等を入れることが出来るので、観察像と同一視野
にてスケールやマスク等が観察できる効果もある。
また、写真装置で写真撮影をした場合は、写真の中に顕
微鏡像と一緒にスケールやマスクを写すこともできる。
微鏡像と一緒にスケールやマスクを写すこともできる。
第1図は、本発明による王立型顕微鏡の側面図、第2図
は本発明による正立型顕微鏡の光学系の配置図と外枠の
位置関係図、 第3図は従来の正立型顕微鏡のアーム部に落射照明装置
が内蔵されているタイプを示す側面図、第4図は従来の
正立型顕微鏡に落射照明装置を取付けたタイプを示す側
面図、 第5図は従来の正立型顕微鏡に写真装置を取付けた状態
を示す側面図、 第6図は従来の正立型顕微鏡に変倍装置等の中間鏡筒を
取付けた状態を示す側面図である。 [主要部分の符号の説明] 1・・・・・・アーム部、2・・・・・・スタンド部、
3・・・・・・上下動部、4・・・・・・鏡筒部、5・
・・・・・ベース部、6・・・・・・光軸、7・・・・
・・対物レンズレボルバ、8・・・・・・ステージ、9
・・・・・・ステージ上下動用ノブ、10・・・・・・
鏡筒支持部材、 11・・・・・・落射照明用光学系、 12・・・・・・透過照明用光学系、 13・・・・・・透過照明用コンデンサ、21・・・・
・・対物レンズ、 22・・・・・・落射照明用ハーフミラ−23,24,
25,26,27,28・・・・・・反射ミラー 29・・・・・・接眼レンズ、31・・・・・・写真装
置。
は本発明による正立型顕微鏡の光学系の配置図と外枠の
位置関係図、 第3図は従来の正立型顕微鏡のアーム部に落射照明装置
が内蔵されているタイプを示す側面図、第4図は従来の
正立型顕微鏡に落射照明装置を取付けたタイプを示す側
面図、 第5図は従来の正立型顕微鏡に写真装置を取付けた状態
を示す側面図、 第6図は従来の正立型顕微鏡に変倍装置等の中間鏡筒を
取付けた状態を示す側面図である。 [主要部分の符号の説明] 1・・・・・・アーム部、2・・・・・・スタンド部、
3・・・・・・上下動部、4・・・・・・鏡筒部、5・
・・・・・ベース部、6・・・・・・光軸、7・・・・
・・対物レンズレボルバ、8・・・・・・ステージ、9
・・・・・・ステージ上下動用ノブ、10・・・・・・
鏡筒支持部材、 11・・・・・・落射照明用光学系、 12・・・・・・透過照明用光学系、 13・・・・・・透過照明用コンデンサ、21・・・・
・・対物レンズ、 22・・・・・・落射照明用ハーフミラ−23,24,
25,26,27,28・・・・・・反射ミラー 29・・・・・・接眼レンズ、31・・・・・・写真装
置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 本体ベース部と、該本体ベース部上面近傍に配置さ
れたステージと、該ステージに対する対物レンズを保持
する対物レンズレボルバーをその端部に固設したアーム
部と、該アーム部を支持すると共に前記本体ベース部の
一端に固設されたアーム支持部材と、該アーム支持部材
に対峙し、鏡筒部を支持すると共に前記本体ベース部の
他端部に固設された鏡筒支持部材と、を有することを特
徴とする正立型顕微鏡。 2 前記アーム部、前記アーム支持部材、前記本体ベー
ス部、及前記鏡筒支持部材はそれぞれの内部に観察光学
系の光路を有することを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の正立型顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2109288A JPH047513A (ja) | 1990-04-25 | 1990-04-25 | 正立型顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2109288A JPH047513A (ja) | 1990-04-25 | 1990-04-25 | 正立型顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH047513A true JPH047513A (ja) | 1992-01-10 |
Family
ID=14506377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2109288A Pending JPH047513A (ja) | 1990-04-25 | 1990-04-25 | 正立型顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH047513A (ja) |
-
1990
- 1990-04-25 JP JP2109288A patent/JPH047513A/ja active Pending
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