JPH0723267B2 - メタライズ用組成物 - Google Patents

メタライズ用組成物

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JPH0723267B2
JPH0723267B2 JP60017449A JP1744985A JPH0723267B2 JP H0723267 B2 JPH0723267 B2 JP H0723267B2 JP 60017449 A JP60017449 A JP 60017449A JP 1744985 A JP1744985 A JP 1744985A JP H0723267 B2 JPH0723267 B2 JP H0723267B2
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JP
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aluminum
metal layer
metallized metal
metallizing composition
hydride
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JP60017449A
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幹男 藤井
倫一 長田
昭好 岡本
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Kyocera Corp
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Kyocera Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はセラミック体にメタライズ金属層を形成するた
めのメタライズ用組成物に関し、より詳細には非磁性体
であるアルミニウム(Al)がロウ付けされるメタライズ
金属層の形成に使用されるメタライズ用組成物に関する
ものである。
(従来の技術) 従来、セラミックは電気絶縁性、化学的安定性、機械的
強度等の特性に優れていることから半導体素子を収納す
るICパッケージや回路配線を有する回路基板等の電子部
品に多用されており、セラミック体の表面には外部リー
ド端子等がロウ付けされるメタライズ金属層が被着形成
されている。かかるセラミック体表面のメタライズ金属
層は通常、モリブデン−マンガン(Mo−Mn)、タングス
テン(W)等の高融点金属粉末に有機バインダー及び有
機溶剤を添加し、ペースト状と成したものをアルミナか
ら成る生もしくは焼結セラミック体表面にスクリーン印
刷により被着させ、しかる后、前記セラミック体を還元
雰囲気中で焼成し、高融点金属とセラミック体とを焼結
一体化させることにより作製されている。
(発明が解決しようとする問題点) しかし乍ら、この従来のモリブデン−マンガン等を使用
したメタライズ金属層は鉄(Fe)、コバール(Fe−Ni−
Co)等をロウ付けする銀ロウ材とは濡れ性が良く、鉄等
は強固にロウ付けし得るものの非磁性材料であるアルミ
ニウム(Al)をロウ付けするアルミニウムロウ材とは濡
れ性が悪く、その結果、従来のモリブデン−マンガン等
を使用したメタライズ金属層上には直接非磁性材料のア
ルミニウムはロウ付けできないという欠点を有してい
た。そのため、電子、磁気等が作用する電子部品におい
て、その電子、磁気の作用に悪影響を与えないような非
磁性材料から成る端子等をロウ付けしたい場合、その要
求は満されず、電子部品の特性は低下し、信頼性の悪い
ものであった。
(発明の目的) 本発明者等は上記欠点に鑑み種々の実験の結果、チタン
もしくはその水素化物とアルミニウムもしくはその合金
との共晶物はセラミックに対して活性があり、5kg/mm2
以上の強度で強固に接合するとともにアルミニウムをロ
ウ付けするアルミニウムロウ材とも濡れ性が極めて良い
ことを知見した。
本発明は上記知見に基づき非磁性材料であるアルミニウ
ムを強固にロウ付けすることが可能なメタライズ金属層
を形成することのできるメタライズ用組成物を提供する
ことをその目的とするものである。
本発明のメタライズ用組成物は電子、磁気が作用する電
子部品、具体的には加速管等に非磁性材料であるアルミ
ニウムから成る端子等をロウ付けするメタライズ金属層
の形成に好適に使用される。
(問題点を解決するための手段) 本発明のメタライズ用組成物においてはチタンもしくは
その水素化物2乃至50重量%とアルミニウムもしくはそ
の合金50乃至98重量%とから成ることを特徴とするもの
である。
本発明のメタライズ用組成物においてはチタンもしくは
その水素化物の量が2重量%以下、アルミニウムもしく
はその合金の量が98重量%以上であるとチタンもしくは
その水素化物とアルミニウムもしくはその合金とで形成
される共晶物の絶対量が不足しメタライズ金属層とセラ
ミックとの接合強度が低下する。
またチタンもしくはその水素化物の量が50重量%以上、
アルミニウムもしくはその合金の量が50重量%以下であ
るとメタライズ用組成物の溶融温度が極めて高くなり、
一般の焼成温度(700〜800℃)ではメタライズ金属層を
セラミックに強固に接合できない。
よって、本発明のメタライズ用組成物においてはチタン
もしくはその水素化物は2乃至50重量%の範囲に、また
アルミニウムもしくはその合金は50乃至98重量%の範囲
に特定される。
本発明のメタライズ用組成物はチタンもしくはその水素
化物の粉末と、アルミニウムもしくはその合金の粉末と
を混合し、混合粉末状となすかチタンもしくはその水素
化物の箔とアルミニウムもしくはその合金の箔とを重ね
合せ二層構造となすか、粉末状のチタンもしくはその水
素化物と箔状のアルミニウムもしくはその合金とを組合
せるかあるいはその逆の組合せによってメタライズ用組
成物として使用される。
(実施例) 次に本発明を実施例に基づき説明する。
まず、チタン(Ti)もしくはその水素化物(TiH2)及び
アルミニウム(Al)もしくはその合金(例えばAl−Si)
の粉末及び箔を準備し、これを下表に示すような組み合
せ、厚みでメタライズ用試料を得た。次にこれをアルミ
ナ(Al2O3)、炭化珪素(SiC)、窒化珪素(Si3N4)か
ら成るセラミック体表面に直径5mmの円形状に取着する
とともに真空炉中、約700℃の温度で焼成し、セラミッ
ク体表面にメタライズ金属層を被着させる。そして次に
直径5mm、長さ20mmのアルミニウム(Al)からなる円柱
体をアルミニウムロウ材を介してロウ付けし、しかる
后、アルミニウム円柱体を垂直方向に引っ張り、単位面
積当りの接合強度を調べた。
尚、前記チタンもしくはその水素化物及びアルミニウム
もしくはその合金は粉末状のものを使用する場合、その
粒径を1〜5μmに調整し、これに有機バインダー及び
溶剤を添加するとともに混練機で10時間混練し、ペース
ト状となしてセラミック体表面に取着した。
また試料番号24〜26は本発明品と比較するための比較試
料であり従来一般に使用されているモリブデン−マンガ
ン(Mo−Mn)から成るメタライズ用組成物である。
上記の結果を下表に示す。
(発明の効果) 上記実験結果からも判るように従来のメタライズ用組成
物(Mo−Mn)を使用したメタライズ金属層はアルミナ
(Al2O3)には被着されるものの炭化珪素(SiC)、窒化
珪素(Si3N4)には一切被着されず、またアルミナ(Al2
O3)に被着されたメタライズ金属層上には非磁性材料で
あるアルミニウム(Al)がロウ付けできないのに対し、
本発明のメタライズ用組成物を使用したメタライズ金属
層はアルミナ(Al2O3)、炭化珪素(SiC)、及び窒化珪
素(Si3N4)のいずれのセラミック体にも接合強度5kg/m
m2以上の強度で被着させることができ、かつ非磁性材料
であるアルミニウム(Al)も直接強固にロウ付けするこ
とができる。特にチタンもしくはその水素化物3乃至35
重量%、アルミニウムもしくはその合金65乃至97重量%
から成るメタライズ用組成物を使用したメタライズ金属
層はその接合強度が10kg/mm2以上と極めて強く、非磁性
材料であるアルミニウムをロウ付けするメタライズ金属
層を形成するメタライズ用組成物として好適である。
したがって、本発明のメタライズ用組成物は電子、磁気
が作用する電子部品において、非磁性材料から成る端子
等がロウ付けされるメタライズ金属層の形成に極めて有
用である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】セラミックにメタライズ金属層を5kg/mm2
    以上の接合強度で接合させることができるメタライズ用
    組成物であって、2乃至50重量%のチタン水素化物と、
    50乃至98重量%のアルミニウムもしくはその合金とから
    成ることを特徴とするメタライズ用組成物。
JP60017449A 1985-01-30 1985-01-30 メタライズ用組成物 Expired - Lifetime JPH0723267B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6177676A (ja) * 1984-09-21 1986-04-21 旭硝子株式会社 窒化珪素体の接合体および接合方法

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