JPH07241972A - 二軸配向積層ポリエステルフィルム - Google Patents

二軸配向積層ポリエステルフィルム

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JPH07241972A
JPH07241972A JP3718294A JP3718294A JPH07241972A JP H07241972 A JPH07241972 A JP H07241972A JP 3718294 A JP3718294 A JP 3718294A JP 3718294 A JP3718294 A JP 3718294A JP H07241972 A JPH07241972 A JP H07241972A
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JP
Japan
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layer
particles
biaxially oriented
polyester film
film
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Application number
JP3718294A
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English (en)
Inventor
Ikuo Hagiwara
郁夫 萩原
Shinji Takauchi
伸治 高内
Tsuyoshi Ota
堅 太田
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 少なくとも2層以上の積層構成からなる二軸
配向積層ポリエステルフィルムにおいて、片方の最外層
(A層)及び他方の最外層(B層)がそれぞれ下記の条
件を満足し、かつ該二軸配向積層ポリエステルフィルム
の総厚が10μm以下、長手方向のF−5値が14kg
/mm2 以上であることを特徴とする二軸配向積層ポリ
エステルフィルム。 【効果】 厚さ10μm以下のフィルムを支持体とした
高密度磁気記録媒体およびその支持体として、走行・ハ
ンドリング・巻特性と高出力特性とを同時に満足させる
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は二軸配向ポリエステルフ
ィルムに関し、特に、高密度磁気記録媒体用フィルムと
して好適な表面特性の改良を図った二軸配向積層ポリエ
ステルフィルムに関する。
【0002】
【従来の技術】二軸配向ポリエステルフィルムとして
は、球形のシリカ粒子を含有せしめたフィルムが知られ
ている(例えば、特開昭59−171623号公報)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の二軸配向ポ
リエステルフィルムは、高密度磁気記録媒体用途におい
て、テープとしての高出力特性、高密度化を達成させる
ために、フィルム表面はますます平坦かつ薄膜になり、
製膜時、スリット時、テープ製造時の各工程で走行性不
良、ハンドリング性低下、ロール状に巻取り時のしわ発
生等の問題があった。また、上記問題を解決するために
フィルム表面を粗くすると、画質(出力)低下を引起こ
すという問題があった。特に、厚さ10μm以下のフィ
ルムにおいては、走行・ハンドリング・巻特性を維持し
つつ高出力特性を達成することには限界があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を行った結果、厚さ10μm以下
のフィルムにおいて、磁気記録媒体用としての走行・ハ
ンドリング・巻特性と高出力特性を同時に満足させ得る
フィルムを見い出し、本発明に到達した。
【0005】即ち、本発明は、少なくとも2層以上の積
層構成からなる二軸配向積層ポリエステルフィルムにお
いて、片方の最外層(A層)及び他方の最外層(B層)
がそれぞれ下記の条件を満足し、かつ該二軸配向積層ポ
リエステルフィルムの総厚が10μm以下、長手方向の
F−5値が14kg/mm2 以上であることを特徴とす
る二軸配向積層ポリエステルフィルム。
【0006】A層:平均粒子径0.05〜0.5μの球
形粒子を含有し、H3以上の粗大突起が5個/100c
2 以下、3次元表面粗さ(SRa)が10nm以下。
【0007】B層:平均粒子径0.1〜1.0μの球形
粒子を含有し、3次元表面粗さ(SRa)が10〜40
nm、厚み(tB )と含有される粒子の平均粒子径(d
B )の比tB /dB が0.2〜10、カレンダー削れ指
数が200個/m2 以下。
【0008】以下本発明を更に詳細に説明する。
【0009】本発明のA層およびB層を構成するポリエ
ステルとは、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン
2,6−ジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸またはそ
のエステルと、エチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、テトラメチレングリコール等のグリコールとを重
縮合させて得られるポリエステルである。かかるポリエ
ステルの代表的なものとして、ポリエチレンテレフタレ
ートやポリエチレン−2,6−ナフタレート等を挙げる
ことができる。該ポリエステルはホモポリマーであって
も良く、また第3成分を共重合させたものでもよい。い
ずれにしても、本発明においてはエチレンテレフタレー
ト単位および/またはエチレン−2,6−ナフタレート
単位が80モル%以上、好ましくは90モル%以上であ
るポリエステルがよい。
【0010】本発明のフィルムを構成するA層面は磁気
記録媒体とした際に磁性面とするのがよい。したがっ
て、A層中の粒子は、平均粒子径0.05〜0.5μm
の実質的に球形の粒子、特に0.1〜0.3μmの球形
粒子が好ましく用いられる。平均粒子径が0.5μmを
越えると磁気記録媒体とした時に高出力特性が得られ難
い。一方、平均粒子径が0.05μm未満の場合、ポリ
エステル中への分散性が難かしくなり、凝集体が発生し
て後述するH3以上の粗大突起となる恐れがある。
【0011】上記0.05〜0.5μmの平均粒子径を
有した球形粒子としては、シリカおよび有機粒子(ポリ
スチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリアクリ
ル系粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリジビニルベ
ンゼン粒子等)を挙げることができ、特に架橋ポリジビ
ニルベンゼン粒子は、粗大突起、耐削れ性の点でも一層
良好となるので望ましい。
【0012】これらの粒子は、次の粗大突起および3次
元表面粗さを満足させる範囲内で数種の大きさ、種類を
組合せてもよい。
【0013】また、A層はH3以上の粗大突起が5(個
/100cm2 )以下、好ましくは2(個/100cm
2 )以下、さらに好ましくは0(個/100cm2 )で
ある必要がある。H3以上の粗大突起が5(個/100
cm2 )を越えると磁気記録媒体とした時にドロップア
ウトが多くなり好ましくない。
【0014】本発明ではH2以下の粗大突起は特に限定
しないが、H2レベルの粗大突起が100(個/100
cm2 )以下、好ましくは50(個/100cm2 )以
下、さらに好ましくは10(個/100cm2 )以下で
あり、H1レベルの粗大突起が300(個/100cm
2 )以下、好ましくは150(個/100cm2 )以
下、更に好ましくは80(個/100cm2 )以下であ
ることが望ましい。非球形の粒子(不定形粒子)を用い
ると粒度分布が広く、粗大突起が多くなり好ましくな
い。
【0015】さらに、A層の3次元表面粗さ(SRa)
は10nm以下、好ましくは8nm以下、さらに好まし
くは5nm以下である必要がある。3次元表面粗さ(S
Ra)が10nmを越えると磁気記録媒体とした時に高
出力特性が得られ難い。
【0016】A層中の粒子含有量は上記SRaを満足さ
せ得れば特に限定されないが、通常は0.01〜1.0
重量%、好ましくは0.04〜0.7重量%、更に好ま
しくは0.07〜0.4重量%が良い。
【0017】本発明のフィルムを構成するB層面は磁気
記録媒体とした際に走行面(非磁性面)とするのがよ
い。したがって、B層中の粒子は、平均粒子径0.1〜
1.0μmの実質的に球形の粒子、好ましくは0.2〜
0.9μm、更に好ましくは0.3〜0.8μmの実質
的に球形の粒子が用いられる。平均粒子径が1.0μm
を越えると磁気記録媒体製造過程でカレンダー削れが発
生し易くなったり、また、フィルム総厚が10μ以下と
薄いために上記工程での転写および/または突き上げ作
用によって磁性面粗れが発生する恐れがあり好ましくな
い。一方、平均粒子径が0.1μm未満では走行・ハン
ドリング性向上に必要な表面形成が不充分となり好まし
くない。
【0018】上記0.1〜1.0μmの平均粒子径を有
した球形粒子としては前述のA層に用いられる種類と同
一の粒子種を挙げることができる。特に架橋ポリジビニ
ルベンゼン粒子は耐カレンダー削れ性の点でも一層良好
となるので望ましい。これらの粒子は次の3次元表面粗
さ、B層厚み(tB )/平均粒子径(dB )およびカレ
ンダー削れ指数を満足させる範囲内で数種の大きさ、種
類を組合せて用いてもよい。特に小径粒子/大径粒子の
組合せは走行・ハンドリング・巻特性を一層良好とさせ
るので望ましい。尚、本発明の目的を達成する範囲内で
非球形粒子、具体的にはシリカ、合成炭酸カルシウム、
二酸化チタン、カーボンブラック、架橋有機高分子化合
物等を補助的に少量用いてもよい。
【0019】ここで本発明においては、B層の厚み(t
B )と含有される粒子の平均粒子径(dB )の比である
B /dB が0.2〜10、好ましくは0.25〜7、
さらに好ましくは0.3〜4である必要がある。tB
B が10を越えると走行・ハンドリング・巻特性が低
下し、また極端な場合はB層中の粒子によってA層表面
にうねりを発生させ、磁気記録媒体とした時に出力低下
をもたらす恐れがあり好ましくない。一方、tB /dB
が0.2未満となると粒子が脱落し易くなり、耐カレン
ダー削れ性が低下する恐れがあり好ましくない。
【0020】また、B層はその3次元表面粗さ(SR
a)が10〜40nm、好ましくは13〜30nm、さ
らに好ましくは15〜25nmである必要がある。SR
aが40nmを越えると磁気記録媒体製造過程での転写
および/または突き上げ作用によって磁性面粗れが発生
し、高出力特性が得られなくなり好ましくない。一方、
SRaが10nm未満では走行・ハンドリング・巻特性
が不良となり好ましくない。
【0021】さらに、B層はカレンダー削れ指数が20
0(個/m2 )以下、好ましくは150(個/m2 )以
下、さらに好ましくは100(個/m2 )以下である必
要がある。カレンダー削れ指数が200(個/m2 )を
越えると磁気記録媒体製造過程でのカレンダー装置の頻
繁なクリーニングが必要となり経済的でなく、磁気記録
媒体とした時にドロップアウトが多くなり好ましくな
い。特に非球形の粒子(不定形粒子)を用いると、カレ
ンダー削れ指数が高くなるので好ましくない。
【0022】B層中の粒子含有量は上記SRaを満足さ
せ得れば特に限定されないが、通常は0.1〜8重量
%、好ましくは0.3〜5重量%、更に好ましくは0.
5〜3重量%が良い。
【0023】以上説明したとおり、本発明の積層ポリエ
ステルフィルムはその総厚が10μm以下、好ましくは
8.5μm以下、さらに好ましくは7μm以下の場合に
顕著な効能を発揮する。総厚が10μmを越えたフィル
ムの場合、比較的平滑な両表面であってもハンドリング
・巻特性は充分に実用範囲内であり問題ない。
【0024】また、本発明の積層ポリエステルフィルム
は総厚が10μm以下となるため、長手方向のF−5値
は14(kg/mm2 )以上、好ましくは16(kg/
mm2 )以上、更に好ましくは17(kg/mm2 )以
上である必要がある。長手方向のF−5値が14(kg
/mm2 )未満となると磁気記録媒体とした時に、走行
耐久性(テープエッジダメージ、テープ折れ)が低下し
好ましくない。尚、本発明では長手方向に対して直角方
向(横方向)のF−5値は特に限定しないが、通常10
(kg/mm2 )以上であればよい。
【0025】本発明フィルムは、A層及びB層がフィル
ムの両最外層に設けられていれば良く、両層の間に1層
以上の中間層が存在してもしなくともいずれでも構わな
いが、本発明フィルムの総厚が10μm以下と薄いた
め、製膜性の点からは該中間層を有しない2層構成が好
ましい。
【0026】次に本発明フィルムの製造方法について2
層構成の場合を例に説明する。
【0027】まず、ポリエステルに粒子を含有させる方
法としては、ジオール成分であるエチレングリコール等
のスラリーの形で分散させ、該スラリーを所定のジカル
ボン酸成分と重合させる方法、あるいは粒子を水スラリ
ーの形で、予め重合させたポリエステルと混合し、ベン
ト方式の2軸押出機を用いて混練して練り込む方法等を
挙げることができる。ここで、粒子のエチレングリコー
ル等のスラリーを140〜200℃、特に180〜20
0℃の温度で30分〜5時間、特に1〜3時間熱処理し
たり、粒子の水スラリー中に水溶性高分子分散剤を少量
添加して分散安定化処理する方法は、本発明の粗大突
起、カレンダー削れに優れたフィルムを得るのに有効で
ある。
【0028】粒子の含有量を調節する方法としては、上
記方法で高濃度マスターを作っておき、それを製膜時に
粒子を実質的に含有しないポリエステルで希釈して粒子
の含有量を調節する方法が有効である。
【0029】かくして調節されたポリエステル原料を必
要に応じて乾燥させる。
【0030】次に、本発明の二軸配向積層フィルムを得
る方法としては次の方法が有効である。
【0031】A層を形成するポリエステル原料AとB層
を形成するポリエステル原料Bを公知の溶融積層用押出
機に供給し、スリット状のダイからシート状に押出し、
キャスティングロール上で冷却固化させて未延伸フィル
ムを作る。ここで、2台の押出し機、2層のマニホール
ドまたは合流ブロックを用いてポリエステル原料A,B
を積層し、ダイから2層のシートを押出し、キャスティ
ングロール上で冷却して未延伸フィルムを作る方法が好
ましい。
【0032】次に該未延伸フィルムを二軸延伸、熱固定
させる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または同時
二軸延伸法を用いることができるが、逐次二軸延伸法が
好ましい。通常、90〜130℃の温度で長手方向に
2.5倍以上延伸した後、幅方向に80〜160℃の温
度で3倍以上延伸し、次に150〜230℃の温度で熱
処理する。長手方向の延伸速度は5000〜50000
%/分の範囲が好ましく、また幅方向の延伸速度は10
00〜20000%/分が好ましい。もちろん長手・幅
方向に延伸した後、さらに110〜180℃の温度で長
手方向に1.03〜2.5倍再延伸および/または13
0〜200℃の温度で幅方向に1.03〜1.5倍再延
伸した後に熱処理する方法も用いられる。
【0033】
【物性の測定方法ならびに効果の評価方法】本発明の特
性値の測定方法ならびに効果の評価方法は次のとおりで
ある。
【0034】(1) フィルム厚み 10枚重ねた幅方向長さ1mのフィルムをマイクロメー
ターを用いて、幅方向等間隔に10ケ所の厚みを測定
し、その平均値を10で割った値をフィルム厚みとし
た。
【0035】(2) F−5値 ASTM D882−67に規定された方法にしたがっ
て、インストロンタイプの引張り試験機を用いて、25
℃×65%RH下で測定した。
【0036】(3) 平均粒子径 フィルムからポリエステルをプラズマ灰化処理法で除去
し粒子を露出させる。処理条件としては、ポリエステル
は灰化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択す
る。これをSEM(走査型電子顕微鏡)で観察し、粒子
の画像(粒子によってできる光の濃淡)をイメージアナ
ライザーに結びつけ、観察箇所を変えて粒子数5000
個以上で次の数値処理を行ない、それによって求めた数
平均径Dを平均粒径とする。
【0037】D=ΣDi /N (ここで、Di は粒子の円相当径、Nは個数である)。
【0038】(4) 積層厚さ フィルム断面をTEM(透過型電子顕微鏡)で観察し、
粒子濃度の変化状態やコントラストの差から界面を認識
し積層厚さを求める。
【0039】(5) 粗大突起 測定面同士を2枚重ね合わせて静電気力で密着させる
(印荷電圧:5.4kV)。2枚のフィルム間で粗大突
起部分の光の干渉によって生じるニュートン環から粗大
突起の高さを判定し、1重環の粗大突起をH1、2重環
の粗大突起をH2、3重環以上の粗大突起をH3以上と
した。測定面積は50cm2 であり、2枚重ねているた
め個/100cm2 となる。なお、光源はハロゲンラン
プに564nmのバンドパスフィルターをかけて用い
た。
【0040】(6) 3次元表面粗さ (株)小坂研究所製 表面粗さ測定機(ET−30H
K)を用い、触針の先端半径2μm、サンプリングピッ
チ5μm、カットオフ0.25mm、縦倍率50000
倍、測定スピード100μm/s、記録本数80本の条
件で測定した。
【0041】(A) 3次元中心面平均粗さ(SRa) 粗さ曲面の中心面上に直交座標軸X,Y軸を置き中心面
に直交する軸をZ軸とし、粗さ曲面をf(X,Y)、基
準面の大きさLx,Lyとしたとき、SRaは次式から
求められる。
【0042】
【数1】 (7) カレンダー削れ指数 幅270mmのフィルムを金属ロールと弾性ロールから
なる1段カレンダー装置を用いて、下記条件で処理した
後、弾性ロールに付着した削れ物を純水で水洗し、その
中に含有する3μm以上の削れ粉の個数をカウントする
(He−Neレーザー散乱による粒度分布測定装置使
用)。
【0043】通過フィルム面積1m2 当りに換算した3
μm以上の削れ粉の個数が200個以下の場合は良好、
200個を越えると不良と判定した。
【0044】延べ走行長 :3000m 走行速度 :80m/分 金属ロール温度 :95℃ 線圧 :200kg/cm (8) 巻特性 フィルムを幅1000mm、長さ10000mのロール
に巻き上げ(スリット速度250m/分)、該ロールの
たてしわ、よこしわおよび端面ずれの発生状態を詳細に
検査し、次のとおり判定した。
【0045】優:たてしわ、よこしわおよび端面ずれが
全くない。
【0046】良:端面ずれが1mm以内、たてしわ、よ
こしわはない。
【0047】不良:たてしわあるいはよこしわが、ロー
ル巻き上げ直後または10時間以内に認められるか、端
面ずれが1mmを越えるもの。
【0048】良までが実用上問題ないレベルである。ま
た、巻特性が良レベル以上のものは走行性・ハンドリン
グ性も良好であり、よく相関がある。
【0049】(9) 出力特性、走行耐久性 フィルムA層面側に、充分混合、分散処理した下記組成
の磁性層用塗料を塗布、磁場配向、乾燥、カレンダー処
理し、次に、フィルムB層面側に下記組成のバック用塗
料を塗布、乾燥し、さらに60℃で48時間キュアリン
グしてロール状原反を得た。ここで、磁性層は2.0μ
m厚、バック層は0.4μm厚となる様調製した。最後
に、ロール状原反を8mm幅にスリットし、8mm用ハ
ーフに組み込んで測定用サンプルを得た。
【0050】 磁性層用塗料組成 強磁性合金粉末 100部 (抗磁力=1800Oe,粒子サイズ=0.25μm,針状比=10/1) 塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体 15部 ポリウレタン樹脂 5部 ポリイソシアネート 6.5部 ミリスチン酸 2部 レシチン 1部 酸化アルミ粉末(平均粒子径:0.2μm) 4部 カーボンブラック(平均粒子径:0.09μm) 1部 メチルエチルケトン 180部 トルエン 40部 シクロヘキサノン 80部 バック層用塗料組成 カーボンブラック(平均粒子径:0.03μm) 100部 カーボンブラック(平均粒子径:0.28μm) 4部 ニトロセルロース 100部 ポリウレタン樹脂 20部 ポリイソシアネート 20部 メチルエチルケトン 480部 トルエン 20部 (A) 出力特性 SONY製EV−S33を用いてテレビ試験波形発生器
によって100%クロマ信号を記録し、その再生信号か
らカラービデオノイズ測定器でクロマS/Nを測定し
た。
【0051】このクロマS/Nを市販されている8mm
スタンダードビデオテープと比較して、ランク付けし
た。
【0052】出力特性:◎(差が+2dB以上) 出力特性:○(差が0〜+2dB) 出力特性:×(差が0dB以下) (B) 走行耐久性 SONY製EV−S33を用いて、25℃、75%RH
下で50パス走行させた時のテープエッジダメージを目
視で判定した。
【0053】◎:エッジダメージなし。
【0054】○:エッジダメージが極軽微に認められる
が、実用上問題ない。
【0055】×:エッジダメージがあり、実用上問題と
なる。
【0056】
【実施例】以下本発明を実施例によって更に詳細に説明
するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。
【0057】実施例1 粒子として平均粒子径0.2μmのコロイダルシリカに
起因する球形シリカ粒子を含有したエチレングリコール
スラリーを調製し、該スラリーを190℃で2時間熱処
理した後、テレフタル酸ジメチルとエステル交換反応さ
せ、重縮合し、該粒子を所定量含有したチップ(A)
(A層を形成するポリエステル原料A)を製造した。同
様にして、0.3μmの球形シリカ粒子を所定量含有し
たチップ(B)(B層を形成するポリエステル原料B)
を製造した。
【0058】これらのチップをそれぞれ160℃で5時
間減圧乾燥した後、チップ(A)を押出機1に供給し2
90℃で溶融し、一方、チップ(B)を押出機2に供給
し、280℃で溶融して、両ポリマを合流ブロックで合
流積層し、静電印加キャスト法を用いて表面温度25℃
のキャスティングドラム上に押出し、冷却固化させ、2
層構造の未延伸フィルムを得た。
【0059】ここで、それぞれの押出機の吐出量を調節
することによって総厚みおよびB層の厚み(即ち、tB
/dB )を調製した。
【0060】該未延伸フィルムを温度95℃にて長手方
向に3.5倍延伸し、次いでステンタを用いて95℃で
幅方向に4.0倍延伸し、更に140℃の温度で長手方
向に再度1.5倍延伸した後、定長下で210℃にて5
秒間熱処理し、総厚み7μmの二軸配向積層ポリエステ
ルフィルムを得た。該フィルムの特性を表1、表2に示
すが、パラメータは本発明の範囲内にあり、良好なフィ
ルム特性が得られた。
【0061】実施例2 平均粒子径0.3μmの球形架橋ポリジビニルベンゼン
粒子の水スラリーをベント式二軸混練押出機に供給し、
水分をベントで系外に押し出しながら該粒子をポリエス
テルに練り込み、B層を形成するポリエステル原料Bの
チップ(B' )を製造して用いた以外は実施例1と同様
にして総厚み7μmの二軸配向積層ポリエステルフィル
ムを得た。該フィルムのパラメータおよび特性は表1、
表2に示したとおりであった。
【0062】実施例3 実施例2で用いたチップ(B' )を無粒子のポリエステ
ル原料で希釈してA層を形成するポリエステル原料
(A' )として用いた以外は実施例2と同様にして総厚
み7μmの二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。
該フィルムのパラメータおよび特性は表1、表2に示し
たとおりであった。
【0063】実施例4 平均粒子径0.8μmの球形架橋ポリジビニルベンゼン
粒子の水スラリーをベント式二軸混練押出機に供給し、
水分をベントで系外に押し出しながら該粒子をポリエス
テルに練り込み、B層を形成するポリエステル原料Bの
チップ(B”)を製造した。
【0064】該チップ(B”)をB層の原料の一部とし
て用い、押出機1および押出機2の吐出量を変えた以外
は実施例3と同様にして総厚み6μmの二軸配向積層ポ
リエステルフィルムを得た。該フィルムのパラメータお
よび特性は表1に示したとおりであった。
【0065】実施例5 実施例2で用いたチップ(B' )を無粒子のポリエステ
ル原料で希釈してA層を形成するポリエステル原料
(A' )として用いた以外は実施例1と同様にして総厚
み7μmの二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。
該フィルムのパラメータおよび特性は表1に示したとお
りであった。
【0066】比較例1 無粒子のポリエステル原料で希釈してB層の3次元表面
粗さを9nmとした以外は実施例1と同様にして二軸配
向積層ポリエステルフィルムを得た。表1に示したとお
り、B層の表面粗さが平滑になると巻特性が不良であっ
た。
【0067】比較例2 A層の3次元表面粗さが15nmとなるように粒子含有
量を調製した以外は実施例1と同様にして二軸配向積層
ポリエステルフィルムを得た。表1に示したとおり、A
層の表面粗さが大きくなるとテープ出力特性が不良であ
った。
【0068】比較例3 長手方向の再延伸倍率を1.1倍とし、かつ押出機1の
吐出量を調節した以外は実施例1と同様にしてF−5
(MD)値:12.0kg/mm2 の二軸配向積層ポリ
エステルフィルムを得た。表1に示したとおり、F−5
(MD)値が小さくなると巻特性、テープ出力、テープ
走行耐久性ともに不良であった。
【0069】比較例4 押出機2の吐出量を調節してtB /dB を0.15とし
た以外は実施例1と同様にして二軸配向積層ポリエステ
ルフィルムを得た。該フィルムはB層の吐出量を低くし
たためB層中の総粒子数も低減し、3次元表面粗さは1
3nmとなった。表1に示したとおり、tB /dB が小
さくなるとカレンダー削れ指数が大きくなり、テープ出
力特性も不良であった。
【0070】比較例5 押出機2の吐出量を調節してtB /dB を11とし、か
つB層の粒子含有量を調製して3次元表面粗さを30n
mとし、さらに総厚みを7μmとするために押出機1の
吐出量を調節した以外は実施例1と同様にして二軸配向
積層ポリエステルフィルムを得た。表1に示したとお
り、tB /dB が大きくなると巻特性、テープ出力特性
ともに不良であった。
【0071】比較例6 押出機2の吐出量を調節してB層の3次元表面粗さを4
5nmとした以外は実施例4と同様にして総厚み6.5
μmの二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。表1
に示したとおり、B層の3次元表面粗さが大きくなると
テープ出力特性は不良であった。
【0072】比較例7 A層を構成する粒子として平均粒子径0.3μmの不定
形炭酸カルシウムを用いた以外は実施例1と同様にして
二軸配向積層ポリエステルフィルムを得た。表1に示し
たとおり、A層のH3以上の粗大突起数は7(個/10
0cm2 )となり、テープ出力特性は不良であった。
【0073】比較例8 B層を構成する粒子として平均粒子径0.3μmの不定
形酸化チタンを用いた以外は実施例1と同様にして二軸
配向積層ポリエステルフィルムを得た。表1に示したと
おり、カレンダー削れ指数が330(個/m2 )と高く
なるとともに、テープ出力特性も不良であった。
【0074】
【表1】
【表2】
【0075】
【発明の効果】本発明の二軸配向積層フィルムは、片面
(A層面)が磁気記録媒体とした際の磁性面となり、別
の片面(B層面)が走行面となるようにそれぞれの表面
特性を規定することによって、厚さ10μm以下のフィ
ルムを支持体とした高密度磁気記録媒体およびその支持
体として、走行・ハンドリング・巻特性と高出力特性と
を同時に満足させることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29K 67:00 105:16 B29L 9:00

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも2層以上の積層構成からなる
    二軸配向積層ポリエステルフィルムにおいて、片方の最
    外層(A層)及び他方の最外層(B層)がそれぞれ下記
    の条件を満足し、かつ該二軸配向積層ポリエステルフィ
    ルムの総厚が10μm以下、長手方向のF−5値が14
    kg/mm2 以上であることを特徴とする二軸配向積層
    ポリエステルフィルム。 A層:平均粒子径0.05〜0.5μmの球形粒子を含
    有し、H3以上の粗大突起が5個/100cm2 以下、
    3次元表面粗さ(SRa)が10nm以下。 B層:平均粒子径0.1〜1.0μmの球形粒子を含有
    し、3次元表面粗さ(SRa)が10〜40nm、厚み
    (tB )と含有される粒子の平均粒子径(dB)の比t
    B /dB が0.2〜10、カレンダー削れ指数が200
    個/m2 以下。
  2. 【請求項2】 A層の球形粒子がシリカで、B層の球形
    粒子がシリカであることを特徴とする請求項1記載の二
    軸配向積層ポリエステルフィルム。
  3. 【請求項3】 A層の球形粒子がシリカで、B層の球形
    粒子が有機粒子であることを特徴とする請求項1記載の
    二軸配向積層ポリエステルフィルム。
  4. 【請求項4】 A層の球形粒子が有機粒子で、B層の球
    形粒子が有機粒子であることを特徴とする請求項1記載
    の二軸配向積層ポリエステルフィルム。
  5. 【請求項5】 有機粒子が架橋ポリジビニルベンゼン粒
    子であることを特徴とする請求項3または4に記載の二
    軸配向積層ポリエステルフィルム。
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