JPH072420B2 - オフセットインキング装置用ピットローラー及び該ピットローラーの製造方法 - Google Patents
オフセットインキング装置用ピットローラー及び該ピットローラーの製造方法Info
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- JPH072420B2 JPH072420B2 JP63321840A JP32184088A JPH072420B2 JP H072420 B2 JPH072420 B2 JP H072420B2 JP 63321840 A JP63321840 A JP 63321840A JP 32184088 A JP32184088 A JP 32184088A JP H072420 B2 JPH072420 B2 JP H072420B2
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41N7/06—Shells for rollers of printing machines for inking rollers
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- Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はオフセット平版印刷機のインキング装置、特に
ショートインキング装置のピットローラーに関し、ピッ
トローラーはランドにより相互に分離されたピット(小
穴)を有し、セラミック材料を包含し、インキに親和す
る特に銅の表面を有し、その外周に載置され鈍角で設置
された少なくとも1個のドクターと協働する。別の観点
から本発明はこのピットローラーの製造方法にも関す
る。
ショートインキング装置のピットローラーに関し、ピッ
トローラーはランドにより相互に分離されたピット(小
穴)を有し、セラミック材料を包含し、インキに親和す
る特に銅の表面を有し、その外周に載置され鈍角で設置
された少なくとも1個のドクターと協働する。別の観点
から本発明はこのピットローラーの製造方法にも関す
る。
この種のピットローラーは米国特許第4637310号明細書
で既に提案されている。この周知の構成では、小穴(ピ
ット)を形成した基本体からなり、この基本体が基本体
の成形につづいて2重の層を備えている。ピットの幅と
深さは、層形式の際に変更される。従って被覆の形成が
完全に正確な厚みで実施できないから、所望の寸法から
出発しても出来上ったピットの寸法を正確には出来な
い。この欠点とは別に、周知の構成ではピットの形成後
に被覆を実施するので、ランドの幅が比較的広く形成さ
れ、このことは時として望ましいものとはならない。更
に、ランドがその中心部でセラミックス材料からなり、
その線で比較的やわらかい材料から形成され、耐摩耗性
の観点から望ましくないということにもなる。周知のロ
ーラーでは、二重被覆の内側層がセラミック材料からな
り、外側層が銅からなる。この外側層は外面で取除か
れ、ピット内にはライニングを形成しながらの残され
る。
で既に提案されている。この周知の構成では、小穴(ピ
ット)を形成した基本体からなり、この基本体が基本体
の成形につづいて2重の層を備えている。ピットの幅と
深さは、層形式の際に変更される。従って被覆の形成が
完全に正確な厚みで実施できないから、所望の寸法から
出発しても出来上ったピットの寸法を正確には出来な
い。この欠点とは別に、周知の構成ではピットの形成後
に被覆を実施するので、ランドの幅が比較的広く形成さ
れ、このことは時として望ましいものとはならない。更
に、ランドがその中心部でセラミックス材料からなり、
その線で比較的やわらかい材料から形成され、耐摩耗性
の観点から望ましくないということにもなる。周知のロ
ーラーでは、二重被覆の内側層がセラミック材料からな
り、外側層が銅からなる。この外側層は外面で取除か
れ、ピット内にはライニングを形成しながらの残され
る。
本発明の課題は上記従来技術の欠点を取除いたピットロ
ーラーを提供し、更にこのピットローラーの製造方法を
提供することにある。
ーラーを提供し、更にこのピットローラーの製造方法を
提供することにある。
〔課題を解決する手段〕 本発明の課題は、先ず円筒形の未成形ローラー基体から
出発し、インキに親和する材料、特に銅からなる被覆を
施し、次いでピット(小穴)を設け、該ピットがセラミ
ック材料の層からなるランドで包囲されていることによ
り解決している。更に本発明の課題は、先ず未成形ロー
ラーを銅で被覆し、その後セラミック材で被覆し、更に
セラミック層を貫通し、銅層に達するピットを設けるこ
とにより解決している。
出発し、インキに親和する材料、特に銅からなる被覆を
施し、次いでピット(小穴)を設け、該ピットがセラミ
ック材料の層からなるランドで包囲されていることによ
り解決している。更に本発明の課題は、先ず未成形ロー
ラーを銅で被覆し、その後セラミック材で被覆し、更に
セラミック層を貫通し、銅層に達するピットを設けるこ
とにより解決している。
この様な解決手段により、ローラーの外周面がセラミッ
ク材から形成されるので高度な耐摩耗性を備えることに
なる。他方ピット(小穴)の内部は銅からなるので、イ
ンキが親和するからインキの付着性を良好にできる。更
に銅層とセラミック層とを研削できるので、各層の厚み
を正確にでき、従って両層を備えたローラーの寸法と調
心性とを正確に加工することを可能としている。又ピッ
ト(小穴)の成形が前後の加工段で実施されるので、ピ
ットの配置及び成形を正確にできることも利点である。
ク材から形成されるので高度な耐摩耗性を備えることに
なる。他方ピット(小穴)の内部は銅からなるので、イ
ンキが親和するからインキの付着性を良好にできる。更
に銅層とセラミック層とを研削できるので、各層の厚み
を正確にでき、従って両層を備えたローラーの寸法と調
心性とを正確に加工することを可能としている。又ピッ
ト(小穴)の成形が前後の加工段で実施されるので、ピ
ットの配置及び成形を正確にできることも利点である。
内側の銅層は容易に剥がすことができるので、ピットロ
ーラーが損傷を受けても全体の被覆層を容易に剥がすこ
とができ、従って再加工が容易となる。又内側の層が銅
層であることによりこれを電気メッキで施すことが可能
であり、この電気メッキは所望の厚みの銅層を容易に形
成できる。又セラミック層はプラズマ溶射により形成で
き、プラズマ溶射はセラミック層を形成中にはローラー
基体の温度を過度に上げることなく、従って銅層を傷め
ることもないという利点がある。
ーラーが損傷を受けても全体の被覆層を容易に剥がすこ
とができ、従って再加工が容易となる。又内側の層が銅
層であることによりこれを電気メッキで施すことが可能
であり、この電気メッキは所望の厚みの銅層を容易に形
成できる。又セラミック層はプラズマ溶射により形成で
き、プラズマ溶射はセラミック層を形成中にはローラー
基体の温度を過度に上げることなく、従って銅層を傷め
ることもないという利点がある。
第1図に示しているインキング装置は片反シリンダー
(1)を有し、この片反シリンダー(1)は硬いオフセ
ット平版印刷機のインクと共に用いられる。この片反シ
リンダー(1)は、版シリンダー(1)と同一直径のゴ
ム引きローラ(2)と協働する。ゴム引きローラー
(2)は又小径のピットローラー(3)と協働する。ゴ
ムローラー(2)は同時に湿し装置(4)と協働する。
ピットローラー(3)の外周は、第1図に示している様
に多数の小穴即ちピットの境界を決めるランド(6)と
共に拡大して示したピット(5)を有している。
(1)を有し、この片反シリンダー(1)は硬いオフセ
ット平版印刷機のインクと共に用いられる。この片反シ
リンダー(1)は、版シリンダー(1)と同一直径のゴ
ム引きローラ(2)と協働する。ゴム引きローラー
(2)は又小径のピットローラー(3)と協働する。ゴ
ムローラー(2)は同時に湿し装置(4)と協働する。
ピットローラー(3)の外周は、第1図に示している様
に多数の小穴即ちピットの境界を決めるランド(6)と
共に拡大して示したピット(5)を有している。
ピット(5)はインクで充満され、ランド(6)の表面
は少なくとも1個のドクターによりインキを剥ぎ取られ
る。従ってピット(5)内にはピット(5)の容量に合
せて正確に計量されたインキが収められている。ピット
ローラー(3)へのインキの供給及びローラー(3)か
らのインキの除去はインキ槽のドクター(7)により実
行され、ドクター(7)はこの場合2個のドクターブレ
ートからなり、このドクターブレートは負の角度でピッ
トローラ(3)に載置されていて、この間にインキを充
満することでインキ槽も形成している。第2〜4図に示
している様に、ピットローラー(3)は鋼材からなる芯
(8)からなり、芯(8)は両端で軸受させると共に外
周を被覆されている。芯(8)は円筒形の外面を有して
いて、例えば電気メッキにより連続的な銅の層(9)を
被覆している。銅の層(9)の厚みは約50μであり、被
覆が電気メッキで作られるのには充分の厚みである。銅
層(9)を作った後で所望の寸法にするため芯(8)を
研削及び/又は研摩処理する。これは第2図にこの加工
精度を示している。この様に外面を加工して、所望の正
確な寸法と正確な円筒形をしている銅表面は第3図に示
している様に連続的なセラミック層(10)の被覆を受け
ている。このセラミック層は、例えばCrOで形成され
る。このセラミック層(10)はプラズマ溶射法によって
付与できる。この目的で電弧が形成され、この電弧がセ
ラミック材料を含むガス流れをノズルから吹付けられ
る。この様にすると、基体温度が100℃から250℃に上昇
するだけだから、銅層(9)はセラミック層を付与して
も損傷を受けることがない。セラミック層の付与が終了
すると、ローラーは第3図に示している加工精度に加工
する。この加工は研摩、研削、ラッピング等を含むこと
もある。銅層(9)を付与し、セラミック層(10)を成
形した後ではローラーの表面が高品質になるばかりでな
く、セラミック層(10)の厚みを正確且つ均一にし、調
心性も確保できる。セラミック層(10)の厚みは約10μ
〜15μ程度でよく、この厚みは銅層(9)の厚みの約1/
3程度となる。
は少なくとも1個のドクターによりインキを剥ぎ取られ
る。従ってピット(5)内にはピット(5)の容量に合
せて正確に計量されたインキが収められている。ピット
ローラー(3)へのインキの供給及びローラー(3)か
らのインキの除去はインキ槽のドクター(7)により実
行され、ドクター(7)はこの場合2個のドクターブレ
ートからなり、このドクターブレートは負の角度でピッ
トローラ(3)に載置されていて、この間にインキを充
満することでインキ槽も形成している。第2〜4図に示
している様に、ピットローラー(3)は鋼材からなる芯
(8)からなり、芯(8)は両端で軸受させると共に外
周を被覆されている。芯(8)は円筒形の外面を有して
いて、例えば電気メッキにより連続的な銅の層(9)を
被覆している。銅の層(9)の厚みは約50μであり、被
覆が電気メッキで作られるのには充分の厚みである。銅
層(9)を作った後で所望の寸法にするため芯(8)を
研削及び/又は研摩処理する。これは第2図にこの加工
精度を示している。この様に外面を加工して、所望の正
確な寸法と正確な円筒形をしている銅表面は第3図に示
している様に連続的なセラミック層(10)の被覆を受け
ている。このセラミック層は、例えばCrOで形成され
る。このセラミック層(10)はプラズマ溶射法によって
付与できる。この目的で電弧が形成され、この電弧がセ
ラミック材料を含むガス流れをノズルから吹付けられ
る。この様にすると、基体温度が100℃から250℃に上昇
するだけだから、銅層(9)はセラミック層を付与して
も損傷を受けることがない。セラミック層の付与が終了
すると、ローラーは第3図に示している加工精度に加工
する。この加工は研摩、研削、ラッピング等を含むこと
もある。銅層(9)を付与し、セラミック層(10)を成
形した後ではローラーの表面が高品質になるばかりでな
く、セラミック層(10)の厚みを正確且つ均一にし、調
心性も確保できる。セラミック層(10)の厚みは約10μ
〜15μ程度でよく、この厚みは銅層(9)の厚みの約1/
3程度となる。
第4図に示している様に、三層構造の被覆を有するロー
ラーは周囲が周り込まれ、小穴、即ちピット(5)が形
成される。周り込み深さは、ピット(5)が外側のセラ
ミック層(10)を貫通し、銅層内に延在し、銅層を貫通
しない性度に選択している。従ってピットの内端は銅内
に存在している。銅層を50μ及びセラミック層を10μ〜
15μに選択した場合、ピットの深さは約25μ〜30μでよ
い。この場合特に28μとしている。45μ以上の深さは実
際には望ましくなく、従って50μという銅層の厚みは全
く満足したものである。セラミック材料の外側表面層を
有するローラーの小穴周り込み工程は汎用の加工、即ち
レーザービーム加工で実施されるから高精度の加工を保
証できる。周り込み加工で残されるランド(6)は、セ
ラミック材料から形成された表面を有し、従って鋭く耐
久性のある縁で形成されている。
ラーは周囲が周り込まれ、小穴、即ちピット(5)が形
成される。周り込み深さは、ピット(5)が外側のセラ
ミック層(10)を貫通し、銅層内に延在し、銅層を貫通
しない性度に選択している。従ってピットの内端は銅内
に存在している。銅層を50μ及びセラミック層を10μ〜
15μに選択した場合、ピットの深さは約25μ〜30μでよ
い。この場合特に28μとしている。45μ以上の深さは実
際には望ましくなく、従って50μという銅層の厚みは全
く満足したものである。セラミック材料の外側表面層を
有するローラーの小穴周り込み工程は汎用の加工、即ち
レーザービーム加工で実施されるから高精度の加工を保
証できる。周り込み加工で残されるランド(6)は、セ
ラミック材料から形成された表面を有し、従って鋭く耐
久性のある縁で形成されている。
最初の周り込み工程中に、レーザービームはセラミック
層を貫通し、銅層の所望の深さに達するように設定され
る。ピットの深さをより深くするときには、エッチング
加工を施し、クラビア印刷の場合の様に印刷機からロー
ラーを外さないで実施してもよい。ピットをより小さく
したいときには、銅電気メッキを施すことにより実施す
る。この加工は例えばピットローラーをある範囲で補正
するのに用いられる。当然ながら、先ず最初の周り込み
加工をレーザービームのみでセラミック層に実施し、次
いで銅層をエッチング加工することもできる。この目的
でレーザービームはセラミック層のみを貫通するように
調節する。
層を貫通し、銅層の所望の深さに達するように設定され
る。ピットの深さをより深くするときには、エッチング
加工を施し、クラビア印刷の場合の様に印刷機からロー
ラーを外さないで実施してもよい。ピットをより小さく
したいときには、銅電気メッキを施すことにより実施す
る。この加工は例えばピットローラーをある範囲で補正
するのに用いられる。当然ながら、先ず最初の周り込み
加工をレーザービームのみでセラミック層に実施し、次
いで銅層をエッチング加工することもできる。この目的
でレーザービームはセラミック層のみを貫通するように
調節する。
第1図はオフセット平版印刷機のインク装置の側面図で
あり、第2〜4図は本発明によるピットローラーの加工
順をそれぞれ示した側面図である。 図中参照番号の説明 3……ピットローラ、5……ピット(小穴)、6……ラ
ンド、8……ローラー芯、9……銅層、10……セラミッ
ク層。
あり、第2〜4図は本発明によるピットローラーの加工
順をそれぞれ示した側面図である。 図中参照番号の説明 3……ピットローラ、5……ピット(小穴)、6……ラ
ンド、8……ローラー芯、9……銅層、10……セラミッ
ク層。
Claims (13)
- 【請求項1】オフセット平版印刷機用インキング装置に
用いるピットローラーにして、ランドによって相互に分
離された深さの浅いピットを有し、ドクターにより払拭
されるように配置され、セラミック材料を包含し、前記
ピットが印刷インクに親和する内面を有しているピット
ローラーにおいて、インクと親和する内側材料からなる
被覆を担持し、該被覆内に形成されたピットを有し、ラ
ンドとしてのセラミック層によって被覆されている円筒
形ローラー体を有しているピットローラー。 - 【請求項2】オフセット平版印刷機用インキング装置に
用いられ、オフセット平版インキに親和する材料からな
る内側層と該内側層上に設けたセラミック材料の外側層
と、セラミック材料内に設けたピットとを有するピット
ローラーの製造方法において、先ずインキに親和する材
料で円筒形ローラー体を被覆し、次いでセラミック材料
で被覆し、その後ローラー体のセラミック層を貫通する
ようにピットを形成し、インキに親和する材料の層迄ピ
ットを延在させているピットローラーの製造方法。 - 【請求項3】インキに親和する材料を設けた後、その層
を円周方向に加工、特に研削する請求項2に記載の製造
方法。 - 【請求項4】セラミック層を設けた後、円周方向に加
工、特に研削及び/又は研磨する請求項2に記載の製造
方法。 - 【請求項5】インキに親和する材料が電気メッキされた
銅層である請求項2に記載の製造方法。 - 【請求項6】インキに親和する材料が約50μの厚さの層
を有している請求項2に記載の製造方法。 - 【請求項7】セラミック層がプラズマ溶射により設けら
れている請求項2に記載の製造方法。 - 【請求項8】セラミック層が約10〜15μの厚さである請
求項2に記載の製造方法。 - 【請求項9】ピットの深さが45μより小さく、特に25μ
〜30μ、就中28μである請求項2に記載の製造方法。 - 【請求項10】ピットが少なくともセラミック層の厚み
に等しい深さに、レーザービームを用いて形成される請
求項2に記載の製造方法。 - 【請求項11】レーザービームによりビットを形成及び
/又はインキに親和する材料として銅を電気メッキした
後ローラーを腐刻する請求項10に記載の製造方法。 - 【請求項12】インキに親和する材料が銅であり、セラ
ミック材料がCrOである請求項2に記載の製造方法。 - 【請求項13】インキに親和する材料が銅であり、ショ
ートインキング装置に用いられ、ローラー表面に対して
鈍角の角度で設けたドクターを有している請求項1に記
載の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3744131.0 | 1987-12-24 | ||
| DE19873744131 DE3744131A1 (de) | 1987-12-24 | 1987-12-24 | Rasterwalze fuer ein offsetfarbwerk sowie verfahren zur herstellung einer derartigen rasterwalze |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01222961A JPH01222961A (ja) | 1989-09-06 |
| JPH072420B2 true JPH072420B2 (ja) | 1995-01-18 |
Family
ID=6343630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63321840A Expired - Fee Related JPH072420B2 (ja) | 1987-12-24 | 1988-12-20 | オフセットインキング装置用ピットローラー及び該ピットローラーの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4879791A (ja) |
| EP (1) | EP0324939B1 (ja) |
| JP (1) | JPH072420B2 (ja) |
| DE (2) | DE3744131A1 (ja) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2740865B2 (ja) * | 1988-10-03 | 1998-04-15 | 株式会社東京機械製作所 | 印刷用ローラー |
| US4912824A (en) * | 1989-03-14 | 1990-04-03 | Inta-Roto Gravure, Inc. | Engraved micro-ceramic-coated cylinder and coating process therefor |
| DE4007130C1 (ja) * | 1990-03-07 | 1991-06-27 | Kurt Zecher Gmbh, 4790 Paderborn, De | |
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