JPH07242691A - １位にカルボキシメチレン基を有する４−ホスホノグルコサミン類 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 １） 一般式 【化１】 ［式中、Ｒ¹ ：Ｈ；カルボキシル基の保護基 Ｒ² 、Ｒ³ ：置換されていてもよいＣ₆ −Ｃ₂₀アルカノ
イル基 Ｒ⁴ ：Ｈ；置換されていてもよいベンジル基；置
換されていてもよいフェニル基 Ｒ⁵ ：Ｈ；水酸基の保護基 ｎ ：１乃至１８ ］で表される化合物及びその塩。 【効果】 上記化合物（Ｉ）は、優れたマクロファージ活性化作用
又はマクロファージ活性抑制作用を有し、前者の作用を
有する化合物は免疫賦活剤又は抗腫瘍剤として、後者の
作用を有する化合物は、抗炎症剤、抗自己免疫疾患剤又
は免疫抑制剤としてきわめて有用である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【従来の技術】サルモネラ菌、大腸菌のようなグラム陰
性菌の最外膜を覆っているリポポリサッカライド（ＬＰ
Ｓ）はマクロファージ活性化作用を有し、免疫系に良好
な刺激を与えることが知られているが、一方、強い内毒
素活性も示す。これらＬＰＳの生物活性は、ＬＰＳの比
較的小さい部分、即ち、リピドＡの部分に存在すること
が判明した。このリピドＡは２つのグルコサミンが１−
６結合し、それぞれのグルコサミンの２−と３−位に
（Ｒ）−３−ヒドロキシテトラデカノイル基、また２′
−と３′−位に（Ｒ）−３−アルカノイルオキシテトラ
デカノイル基がエステル結合又はアミド結合していて直
鎖状の多糖を細胞膜に固定化する役目を担っている。こ
のリピドＡ生合成前駆体としてモノサッカライドである
リピドＸ、及びリピドＹが大腸菌のホスファチジルグリ
セロール生合成欠損株より分離され、活性が調べられた
結果、リピドＡと同様の活性を示すことが明らかとなっ
た（松浦ら、フェブス．レターズ，第１６７巻２２８頁
（１９８４年）［FEBS.Lett.,１６７，２２６，（１９
８４）］、木曽ら、アグリカルチュラル・バイオロジカ
ル・ケミストリ−、第４８巻２５１頁（１９８４年）
［Agric. Biol. Chem., ４８，２５１，（１９８
４）］、木曽ら、カーボハイドレート・リザーチ、第１
６２巻１２７頁（１９８７）［Carbohydr.Res., １６
２，１２７（１９８７）] ）。

【０００２】

【発明が解決しようとする課題】上記リピドＸ、及びリ
ピドＹは強いマクロファージ活性化作用を有し、免疫賦
活剤又は抗腫瘍剤としての可能性を有しているが、一方
では、細菌の内毒素類似物であることによる毒性、発熱
作用等を有していることにより、未だ実用には到ってい
ない。我々発明者の課題は毒性、発熱作用等の副作用が
少ない、免疫賦活剤又は抗腫瘍剤として有用な化合物を
開発することである。他方、これらの化合物の或るもの
は、マクロファージの活性化を抑える性質を示すものも
あるため、毒性、発熱作用等の副作用が少ない、抗炎症
症剤、抗自己免疫疾患剤、免疫抑制剤として有用な化合
物を開発することである。

【０００３】

【課題を解決する手段】本発明者等は、マクロファージ
活性化作用を有するリピドＡ還元末端類縁体の合成と、
その薬理活性について永年に亘り鋭意研究を行った結
果、既知の化合物とは構造を異にする新規なリピドＡ非
還元末端部、即ち１位にカルボキシメチレン基を有する
４−ホスホノグルコサミン類が優れたマクロファージ活
性化作用を有し、ＬＰＳアゴニストとして、免疫賦活剤
又は抗腫瘍剤として有用であることを見いだした。他
方、これらの化合物のうち或るものは、マクロファージ
の活性化を抑える作用を示したため、ＬＰＳアンタゴニ
ストとして、抗炎症剤、抗自己免疫疾患剤、免疫抑制剤
として有用であることを見いだし、本発明を完成した。

【０００４】

【発明の構成】本発明の新規な１位にカルボキシメチレ
ン基を有する４−ホスホノグルコサミン類は一般式

【０００５】

【化２】

【０００６】［式中、Ｒ¹ は水素原子；カルボキシル基
の保護基を示し、Ｒ² 及びＲ³ は同一又は異って下記
（置換基Ａ群）より選択された基で、少なくとも１個以
上置換されていてもよい炭素数６乃至２０個のアルカノ
イル基を示し、Ｒ⁴ は水素原子；同一又は異って下記
（置換基Ｂ群）より選択された基で、少なくとも１個以
上置換されていてもよいベンジル基；同一又は異って下
記（置換基Ｂ群）より選択された基で、少なくとも１個
以上置換されていてもよいフェニル基を示し、Ｒ⁵ は水
素原子；水酸基の保護基を示し、ｎは１乃至１８を示
す。

【０００７】（置換基Ａ群）ハロゲン原子；保護されて
いてもよい水酸基；ハロゲン原子で置換されていてもよ
い炭素数６乃至２０個のアルカノイルオキシ基 （置換基Ｂ群）Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ基；ニトロ基 ］で表わされる化合物及びその塩に関するものである。

【０００８】上記一般式（Ｉ）に於いて、Ｒ¹ は、好適
には、水素原子、ジＣ₆ −Ｃ₁₀アリールメチル基、又は
Ｃ₂ −Ｃ₅ アルカノイルオキシメチル基であり、更に好
適には、ジフェニルメチル又はピバロイルオキシメチル
基であり、より更に好適には、水素原子である。ｎは、
好適には、１乃至１０であり、更に好適には、１乃至６
であり、より更に好適には、１乃至４である。Ｒ² 及び
Ｒ³ は、好適には、Ｃ₁₀−Ｃ₁₈アルカノイル基であり、
更に好適には、Ｃ₁₂−Ｃ₁₈アルカノイル基であり、より
更に好適には、Ｃ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイル基である。Ｒ²
及びＲ³ の置換基は、好適には、１乃至１０個の、フッ
素、塩素原子；保護されていてもよい水酸基；若しくは
フッ素、塩素原子で置換されていてもよいＣ₁₀−Ｃ₁₈ア
ルカノイルオキシ基であり、更に好適には、１乃至５個
のフッ素原子；水酸基；若しくはフッ素、塩素原子で置
換されていてもよいＣ₁₂−Ｃ₁₈アルカノイルオキシ基で
あり、より更に好適には、１乃至３個の、フッ素原子；
若しくはフッ素、塩素原子で置換されていてもよいＣ₁₄
−Ｃ₁₆アルカノイルオキシ基である。Ｒ⁴ は、好適に
は、水素原子；フェニル基；又はアルコキシ基で置換さ
れていてもよいベンジル基であり、更に好適には、水素
原子である。Ｒ⁵ は、好適には、水素原子；Ｃ₂ −Ｃ₆
アルカノイル基；ハロゲノＣ₂ −Ｃ₄ アルカノイル基；
又はアラルキルオキシカルボニル基であり、更に好適に
は、アセチル基、トリフルオロメチル基又はベンジルオ
キシカルボニル基であり、より更に好適には、水素原子
であるまた、好適な化合物として、 （１）Ｒ¹ が水素原子であり、ｎが１乃至２であり、Ｒ
² が１又は２個の、フッ素若しくは塩素原子で置換され
ていてもよいＣ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイル基であり、Ｒ³ が
Ｃ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイルオキシ基で置換されていてもよ
いＣ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイル基であり、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ が水
素原子である化合物。

【０００９】（２）Ｒ¹ が水素原子であり、ｎが３乃至
４であり、Ｒ² が１又は２個の、フッ素若しくは塩素原
子で置換されていてもよいＣ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイル基で
あり、Ｒ³ がＣ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイルオキシ基で置換さ
れていてもよいＣ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイル基であり、Ｒ⁴
及びＲ⁵ が水素原子である化合物。

【００１０】を挙げることができる。

【００１１】Ｒ¹ の定義におけるカルボキシル基の保護
基としては、反応における基及び生体に投与する際のプ
ロドラッグ化のための基を示し、例えば、メチル、エチ
ル、ｔ−ブチルのような炭素数１乃至４個の低級アルキ
ル基；アセトキシメチル、ピバロイルオキシメチルのよ
うなアルカノイルオキシメチル基；エトキシカルボニル
オキシメチル、イソプロポキシカルボニルオキシメチ
ル、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル、１−
（エトキシカルボニルオキシ）エチルのような低級アル
コキシカルボニルオキシアルキル基；フタリジル基；又
は（５−メチル−２−オキソ−５−メチル−１，３−ジ
オキソレン−４−イル）メチル基；ベンジル、ｐ−ニト
ロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、２，４−ジメトキ
シベンジルのような１又は２個の置換基を有してもよい
ベンジル基；又はトリメチルシリル、ジメチル−ｔ−ブ
チルシリル、ジフェニル−ｔ−ブチルシリル基のような
同一又は異なって、炭素数１乃至３個の低級アルキル基
又はフェニル基で置換された３置換シリル基；ジフェニ
ルメチル基を挙げることができるが、好適には、反応的
には、ジフェニルメチル基であり、プロドラッグ的に
は、アルカノイルオキシメチル基であり、更に好適に
は、ピバロイルオキシメチル基である。

【００１２】Ｒ² 及びＲ³ の定義における「（置換基Ａ
群）中のハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６
乃至２０個のアルカノイル（オキシ）基」及び「置換さ
れていてもよい炭素数６乃至２０個のアルカノイル基」
は、例えば、ペンチルカルボニル、ヘキシルカルボニ
ル、ヘプチルカルボニル、オクチルカルボニル、ノニル
カルボニル、デシルカルボニル、３−メチルノニルカル
ボニル、８−メチルノニルカルボニル、３−エチルオク
チルカルボニル、３，７−ジメチルオクチルカルボニ
ル、ウンデシルカルボニル、ドデシルカルボニル、トリ
デシルカルボニル、テトラデシルカルボニル、ペンタデ
シルカルボニル、ヘキサデシルカルボニル、１−メチル
ペンタデシルカルボニル、１４−メチルペンタデシルカ
ルボニル、１３，１３−ジメチルテトラデシルカルボニ
ル、ヘプタデシルカルボニル、１５−メチルヘキサデシ
ルカルボニル、オクタデシルカルボニル、１−メチルヘ
プタデシルカルボニル及びノナデシルカルボニルを挙げ
ることができるが、好適には、炭素数１０乃至１８個の
直鎖又は分枝鎖アルカノイル基であり、更に好適には、
炭素数１２乃至１８個の直鎖又は分枝鎖アルカノイル基
であり、より更に好適には、炭素数１２乃至１８個の直
鎖アルカノイル基である。

【００１３】Ｒ² 及びＲ³ の定義における（置換基Ａ
群）中の「ハロゲン原子」及び「ハロゲン原子で置換さ
れてもよい炭素数６乃至２０個のアルカノイルオキシ
基」における「ハロゲン原子」としては、弗素、塩素、
臭素又は、沃素原子を示し、好適には、フッ素又は塩素
原子であり、更に好適には、フッ素原子である。

【００１４】Ｒ² 及びＲ³ の定義における（置換基Ａ
群）中の「保護されていてもよい水酸基」における「水
酸基の保護基」としては、例えば、ベンジル、ｐ−ニト
ロベンジル、４−メトキシベンジル、２，４−ジメトキ
シベンジル、４−エトキシベンジル、又はベンジルオキ
シカルボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、
４−メトキシベンジルオキシカルボニル、２，４−ジメ
トキシベンジルオキシカルボニル、４−エトキシベンジ
ルオキシカルボニルのような、１乃至２個の置換基を有
してもよいベンジル基又は１乃至２個の置換基を有して
もよいベンジルオキシカルボニル基であり得、好適に
は、１乃至２個の置換基を有してもよいベンジル基であ
り、更に好適には、ベンジル基である。

【００１５】Ｒ⁴ の定義における（置換基Ｂ群）中のＣ
₁ −Ｃ₄ アルコキシ基は、例えば、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブト
キシ、sec-ブトキシ、ter- ブトキシ基のような炭素数
１乃至４個の直鎖又は分子状のアルコキシ基であり、好
適には、メトキシ、エトキシ基であり、更に好適には、
メトキシ基である。

【００１６】Ｒ⁴ の定義における「同一又は異って（置
換基Ｂ群）より選択された基で、少なくとも１個以上置
換されていてもよいベンジル基」は、例えば、ベンジ
ル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、２，
４−ジメトキシベンジルのような置換基を有してもよい
ベンジル基であり、好適には、ベンジル基又はｐ−メト
キシベンジル基であり、更に好適には、ベンジル基であ
る。

【００１７】Ｒ⁴ の定義における「同一又は異って（置
換基Ｂ群）より選択された基で、少なくとも１個以上置
換されていてもよいフェニル基」は、例えば、フェニ
ル、ｐ−ニトロフェニル、ｏ−メトキシフェニル、ｐ−
メトキシフェニル、２，４−ジメトキシフェニルのよう
な置換基を有してもよいフェニル基であり、好適には、
フェニル基又はｐ−メトキシフェニル基であり、更に好
適には、フェニル基である。

【００１８】Ｒ⁵ の定義における「水酸基の保護基」と
しては、反応における保護基及び生体に投与する際の保
護基を示し、例えば、ベンジルオキシカルボニル、４−
メトキシベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキ
シベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキ
シカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニルの
ような、１乃至２個の低級アルコキシ又はニトロ基でア
リール環が置換されていてもよいアラルキルオキシカル
ボニル基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
ｔ−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニルのよ
うな低級アルコキシカルボニル基；２，２，２−トリク
ロロエトキシカルボニル、２−トリメチルシリルエトキ
シカルボニルのようなハロゲン又はトリ低級アルキルシ
リル基で置換された低級アルコキシカルボニル基；ビニ
ルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのような
アルケニルオキシカルボニル基；ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイ
ル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイ
ル、ラウロイル、ミリストイル、トリデカノイル、パル
ミトイル、ステアロイルのようなアルカノイル基；クロ
ロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、
トリフルオロアセチルのようなハロゲン化アルカノイル
基；メトキシアセチルのような低級アルコキシアルカノ
イル基；（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイルのような
不飽和アルカノイル基等のアルカノイル基；ベンゾイ
ル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリール
カルボニル基；２−ブロモベンゾイル、４−クロロベン
ゾイルのようなハロゲン置換アリールカルボニル基；
２，４，６−トリメチルベンゾイル、４−トルオイルの
ような低級アルキル置換アリールカルボニル基；４−ア
ニソイルのような低級アルコキシ置換アリールカルボニ
ル基；４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルの
ようなニトロ置換アリールカルボニル基；２−（メトキ
シカルボニル）ベンゾイルのような低級アルコキシカル
ボニル置換アリールカルボニル基；４−フェニルベンゾ
イルのようなアリール化アリールカルボニル基等の芳香
族アシル基；テトラヒドロピラン−２−イル、３−ブロ
モテトラヒドロピラン−２−イル、４−メトキシテトラ
ヒドロピラン−４−イル、テトラヒドロチオピラン−２
−イル、４−メトキシテトラヒドロチオピラン−４−イ
ルのようなテトラヒドロピラニル又はテトラヒドロチオ
ピラニル基；テトラヒドロフラン−２−イル、テトラヒ
ドロチオフラン−２−イルのようなテトラヒドロフラニ
ル又はテトラヒドロチオフラニル基；トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、
ｔ−ブチルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリ
ル、メチルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシ
リル、、ジフェニルメチルシリル、ジフェニル−ｔ−ブ
チルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェニル
ジイソプロピルシリルのような同一又は異なって、炭素
数１乃至４個の低級アルキル基又はフェニル基で置換さ
れた３置換シリル基；メトキシメチル、１，１−ジメチ
ル−１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシ
メチル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、ｔ−
ブトキシメチルのような低級アルコキシメチル基；２−
メトキシエトキシメチルのような低級アルコキシ化低級
アルコキシメチル基；２，２，２−トリクロロエトキシ
メチル、ビス（２−クロロエトキシ）メチルのようなハ
ロゲン化低級アルコキシメチル等のアルコキシメチル
基；１−エトキシエチル、１−メチル−１−メトキシエ
チル、１−（イソプロポキシ）エチルのような低級アル
コキシ化エチル基；２，２，２−トリクロロエチルのよ
うなハロゲン化エチル基；２−（フェニルゼレニル）エ
チルのようなアリールゼレニル化エチル基等の置換エチ
ル基；ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル、
α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニル
メチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニル
メチル、９−アンスリルメチル、４−メチルベンジル、
２，４，６−トリメチルベンジル、３，４，５−トリメ
チルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メトキシフ
ェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニ
トロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモベンジ
ル、４−シアノベンジル、４−シアノベンジルジフェニ
ルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチル、ピペロ
ニルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、
ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換されたアラルキ
ル基；アリル基等のアルケニル基のような反応における
保護基；式−ＣＯＣＨ₂ ＣＨ₂ ＣＯＯＨ、−ＣＯＣＨ₂
ＣＨ（ＯＨ）ＣＯＯＨ若しくは−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ
ＯＨを有する化合物のような末端にカルボキシ基を有す
るアルカノイル基又はピバロイルオキシメチルオキシカ
ルボニルのような生体に投与する際の保護基を挙げるこ
とができるが、好適には、アルカノイル基、ハロゲン置
換アルカノイル基、アラルキルオキシカルボニル基であ
り、更に好適には、アセチル基又はベンジルオキシカル
ボニル基である。

【００１９】本発明の化合物は、塩にすることができる
が、そのような塩としては、例えば、ナトリウム、カリ
ウムのようなアルカリ金属の塩、カルシウムのようなア
ルカリ土類金属の塩、トリエチルアミン、トリメチルア
ミンのような有機塩基の塩を挙げることができるが好適
には、アルカリ金属の塩であり、更に好適には、ナトリ
ウムの塩である。

【００２０】本発明の化合物は、分子中に不斉炭素原子
を有し、各々がＳ配位、Ｒ配位である立体立体異性体が
存在するが、その各々、あるいはそれらの混合物のいず
れも本発明に包含される。

【００２１】代表的化合物として、例えば次の表に記載
する化合物Ｉa （Ｒ⁴ ＝水素原子、Ｒ⁵ ＝水素原子）を
挙げることができるが、本発明はこれらの化合物に限定
されるものではない。

【００２２】

【化３】

【００２３】

【表１】 ─────────────────────────────────── 例示化合物 Ｒ² Ｒ³ ─────────────────────────────────── １ −COCH₂CH(OH)C₇H₁₅ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ ２ −COCH₂CH(OH)C₉H₁₉ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ ３ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ ４ −COCH₂CH(OH)C₁₃H₂₇ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ ５ −COCH₂CH(OH)C₁₅H₃₁ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ ６ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OH)C₇H₁₅ ７ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OH)C₁₅H₃₁ ８ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHClCH(OH)C₁₁H₂₃ ９ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₉H₁₉ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ １０ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ １１ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₃H₂₇ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ １２ −COCH₂CH(OCOC₉H₁₉)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ １３ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₉H₁₉)C₁₁H₂₃ １４ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ １５ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₉H₁₉ １６ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHClCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １７ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １８ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₉H₁₉)C₁₁H₂₃ １９ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ２０ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₉H₁₉ ２１ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₃H₂₇ ２２ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHF(CH₂)₂CH(OH)C₉H₁₉ ２３ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHF(CH₂)₃CH(OH)C₈H₁₇ ２４ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHCl(CH₂)₄CH(OH)C₇H₁₅ ２５ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHBr(CH₂)₅CH(OH)C₆H₁₃ ２６ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHF(CH₂)₆CH(OH)C₅H₁₁ ２７ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ ２８ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OH)C₉H₁₉ ２９ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OH)C₁₃H₂₇ ３０ −COCHClCH(OH)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ ３１ −COCHBrCH(OH)C₁₃H₂₇ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ ３２ −COCHFCH(OH)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OH)C₉H₁₉ ３３ −COCHClCH(OH)C₁₃H₂₇ −COCH₂CH(OH)C₁₃H₂₇ ３４ −COCHFCH(OH)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OH)C₁₃H₂₇ ３５ −COCHFCH(OH)C₁₃H₂₇ −COCH₂CH(OH)C₉H₁₉ ３６ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ３７ −COCHClCH(OH)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OCOC₉H₁₉)C₁₁H₂₃ ３８ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ３９ −COCHFCH(OH)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₉H₁₉ ４０ −COCHFCH(OH)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₃H₂₇ ４１ −COCHClCH(OH)C₁₃H₂₇ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ４２ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ ４３ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ４４ −COCHFCH(OCOC₉H₁₉)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₉H₁₉)C₁₁H₂₃ ４５ −COCHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ４６ −COCHClCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₃H₂₇ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₉H₁₉ ４７ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ ４８ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ４９ −COCHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ ５０ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ５１ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OH)C₉H₁₉ ５２ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OH)C₁₃H₂₇ ５３ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₅H₃₁)C₁₁H₂₃ ５４ −COCHFCH(OH)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ ５５ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ５６ −COCHFCH(OH)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ５７ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ ５８ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ５９ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ６０ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ ６１ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ６２ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ６３ −COCHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ ６４ −COCHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ６５ −COCHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCHFCH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ６６ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₂H₂₅)C₁₁H₂₃ ６７ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₂H₂₅)C₁₁H₂₃ ６８ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₂H₂₅)C₁₁H₂₃ ６９ −COCH₂CH(OH)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₂H₂₅)C₁₁H₂₃ ７０ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₂H₂₅)C₁₁H₂₃ ７１ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₂H₂₅)C₁₁H₂₃ ７２ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₀H₂₁)C₁₁H₂₃ ７３ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₀H₂₁)C₁₁H₂₃ ７４ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₀H₂₁)C₁₁H₂₃ ７５ −COCH₂CH(OH)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₀H₂₁)C₁₁H₂₃ ７６ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₀H₂₁)C₁₁H₂₃ ７７ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₉H₁₉ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₀H₂₁)C₁₁H₂₃ ７８ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ７９ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ８０ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ８１ −COCH₂CH(OH)C₉H₁₉ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ８２ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₉H₁₉ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ８３ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₉H₁₉ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ ８４ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ８５ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ８６ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ８７ −COCH₂CH(OH)C₉H₁₉ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ８８ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₉H₁₉ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ８９ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₉H₁₉ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ９０ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OH)C₁₁H₂₃ ９１ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OH)C₁₁H₂₃ ９２ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OH)C₁₁H₂₃ ９３ −COCH₂CH(OH)C₉H₁₉ −COCF₂CH(OH)C₁₁H₂₃ ９４ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₉H₁₉ −COCF₂CH(OH)C₁₁H₂₃ ９５ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₉H₁₉ −COCF₂CH(OH)C₁₁H₂₃ ９６ −COCF₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ９７ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ９８ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ ９９ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₂H₂₅)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ １００ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₀H₂₁)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ １０１ −COCF₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １０２ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １０３ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １０４ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₂H₂₅)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １０５ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₀H₂₁)C₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １０６ −COCF₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ １０７ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ １０８ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ １０９ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₂H₂₅)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ １１０ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₀H₂₁)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ １１１ −COCF₂CH(OH)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １１２ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １１３ −COCF₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １１４ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₂H₂₅)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １１５ −COCH₂CH(OCOCF₂C₁₀H₂₁)C₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １１６ −COCF₂C₁₂H₂₅ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ １１７ −COCF₂C₁₂H₂₅ −COCH₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １１８ −COCHFCH(OH)C₁₁H₂₃ −COC₁₃H₂₇ １１９ −COCHF(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ −COC₁₃H₂₇ １２０ −COCH₂CHFC₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₃H₂₇)C₁₁H₂₃ １２１ −COCH₂CHFC₁₁H₂₃ −COCF₂CH(OCOC₁₁H₂₃)C₁₁H₂₃ １２２ −COCH₂CHFC₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OH)C₁₁H₂₃ １２３ −COCH₂CHFC₁₁H₂₃ −COCH₂CH(OCOC₁₅H₃₁)C₁₁H₂₃ ──────────────────────────────────── 上記例示化合物のうち、好適な化合物としては、ｎ＝１
−１８を示す化合物番号１４、１５、１９、３６、３
８、５９、６６、７２、７８、８４、８７、９１、９
３、９６、９７、９８、９９、１０１、１０２、１０
３、１０４、１０６、１０７、１０８、１１１、１１
２、１１３、１１６、１１７及び１２０の化合物を挙げ
ることができる。

【００２４】更に、好適な化合物としては、ｎ＝１、
２、３又は４を示す化合物番号１４、３８、５９、６
６、７２、７８、８４、９６、１０１、１０６、１１
１、１１６、１１７及び１２０の化合物を挙げることが
できる。

【００２５】（製造方法）本発明の化合物の製造方法を
以下に示す。

【００２６】

【化４】

【００２７】

【化５】

【００２８】

【化６】

【００２９】

【化７】

【００３０】

【化８】

【００３１】

【化９】

【００３２】

【化１０】

【００３３】

【化１１】

【００３４】

【化１２】

【００３５】

【化１３】

【００３６】反応工程表中、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 及
びｎは前述のものと同意義を有している。（Ｉaa）は一
般式（Ｉ）において、１位の配位がαを示し、Ｒ¹ 、Ｒ
⁴ 及びＲ⁵ が水素原子であることを示し、（Ｉba）は一
般式（Ｉ）において、１位の配位がβを示し、Ｒ¹ 、Ｒ
⁴ 及びＲ⁵ が水素原子であることを示す。

【００３７】（ＩＩa ）は一般式（ＩＩ）において、２
位アミノ基上の置換基がトリクロロエトキシカルボニル
基であることを示し、（ＩＩb ）は、一般式（ＩＩ）に
おいて、２位アミノ基の置換基がトリフルオロアセチル
基であることを示す。Ｘ及びＸ’はフッ素、塩素、臭素
又は沃素のようなハロゲン原子を示し、好適には、塩素
原子又は臭素原子である。

【００３８】化合物（ＩＩa ）は、［テトラヘドロンレ
ターズ、第２２巻、第５１３頁（１９８１年）、(Tetra
hedron letters,22,513(1981) ）］、（ＩＩb ）は、
［工業化学雑誌、第６０巻、第２２０５頁（１９８７
年）、(Bull.Chem.Soc.Japan, 60,2205(1987) ）］に記
載されている公知の化合物である。

【００３９】１．Ａ法 （第Ａ１工程）本工程は、化合物（ＩＩa ）の１位に臭
素原子を導入し、１−ブロモ体（ＩＩＩa ）を得る工程
である。

【００４０】使用される溶剤としては、酢酸等の酸性溶
剤が好適であるが、反応を阻害せず、出発物質をある程
度溶解するものであれば、以下のような溶剤との混液も
可能である。即ち、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、
石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレン
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲ
ン化炭化水素類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシ
エタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよう
なエーテル類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのような
ニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリル
のようなニトリル類があげられる。

【００４１】使用されるブロモ化剤としては、５％−５
０％（特に３０％）の臭化水素酸の酢酸溶液が好適であ
る。

【００４２】反応温度は、０℃乃至１００℃で行なわれ
るが、好適には、１０℃乃至４０℃である。

【００４３】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常１０分乃至２４時
間であり、好適には１乃至５時間である。

【００４４】例えば、水と酢酸エチルのような混和しな
い有機溶媒を加え、適宜飽和重曹水等で中和し、不溶物
が存在する場合には濾過により除去した後、水洗後、目
的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム
等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。

【００４５】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【００４６】（第Ａ２工程）本工程は一般式（ＩＩＩa
）で表されるブロモ体を不活性溶剤中、銀触媒及び脱
水剤の存在下、得られた１位ブロモ体に、アルケニルア
ルコールCH₂=CH-(CH₂)_nOH （ｎは前述のものと同意義を
示す）を反応させ、一般式（ＩＶa ）で表されるα−ア
ルケニル体に変換する工程である。

【００４７】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、例えば、第Ａ１工程において用いられた脂肪
族炭化水素類；芳香族炭化水素類；ハロゲン化炭化水素
類；エーテル類；ニトロ化合物類；ニトリル類をあげる
ことができ、好適には、ハロゲン化炭化水素類（特にメ
チレンクロリド）である。

【００４８】使用される銀触媒としては、トリフルオロ
メタンスルホン酸銀、過塩素酸銀等の強酸の銀塩があげ
られ、好適には過塩素酸銀である。

【００４９】使用される脱水剤としてはモレキューラー
シーブス又は無水硫酸マグネシウム、無水硫酸カルシウ
ム等の無水硫酸塩があげられ、好適には無水硫酸カルシ
ウムである。

【００５０】反応温度は、０℃乃至１００℃で行なわれ
るが、好適には、１０℃乃至４０℃である。

【００５１】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常１０分乃至１０時
間であり、好適には３０分乃至２時間である。

【００５２】例えば、反応混合物を適宜、飽和重曹水で
中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去
した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を
加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水
硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによ
って得られる。

【００５３】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【００５４】（第Ａ３工程）本工程は、化合物（ＩＶa
）の２−アミノ基の保護基の除去により遊離アミノ誘
導体（Ｖa ）を得る工程である。

【００５５】アミノ基の保護基が、トリハロゲノエトキ
シカルボニル基である場合には、酢酸中、亜鉛末を用い
て行うのが一般的である。

【００５６】反応温度は、２０℃乃至１５０℃で行なわ
れるが、好適には、４０℃乃至８０℃である。反応時間
は、反応温度、原料、試薬又は使用される溶剤等により
異なるが、通常３０分乃至１０時間であり、好適には１
乃至５時間である。

【００５７】例えば、反応混合物に不溶物が存在する場
合には濾過により除去した後、溶剤を留去し、減圧下乾
燥後、遊離のアミノ基を有する化合物が得られる。さら
に適宜、希塩酸等を加え、溶剤を留去することによって
塩酸塩が得られる。

【００５８】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶又は再沈殿等によって更に精製できる。

【００５９】（第Ａ４工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基の存在下、化合物（Ｖa ）の遊離アミノ基を、式：
Ｒ² Ｘ（Ｒ² は前述のものと同意義を示し、Ｘは好適に
は塩素原子又は臭素原子である）で表されるカルボン酸
ハライドを用いて、アミド化し、化合物（ＶＩa ）に変
換する工程である。

【００６０】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、例えば、第Ａ１工程において使用
した脂肪族炭化水素類；芳香族炭化水素類；ハロゲン化
炭化水素類；エーテル類；ニトロ化合物類；ニトリル類
を挙げることができ、好適には、ハロゲン化炭化水素類
（特にメチレンクロリド）である。

【００６１】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リ
チウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなア
ルカリ金属炭酸水素塩類；及びトリエチルアミン、トリ
ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチ
ルモルホリン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノ）ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアニリンのような有機塩基類；をあげることがで
き、好適には、有機塩基類（特にトリエチルアミン）で
ある。

【００６２】反応温度は、０℃乃至１００℃で行なわれ
るが、好適には、１０℃乃至４０℃である。

【００６３】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常５分乃至５時間で
あり、好適には１０分乃至１時間である。

【００６４】例えば、水と酢酸エチルのような混和しな
い有機溶媒を加え、１Ｎ塩酸で洗浄し、水洗後、目的化
合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で
乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。

【００６５】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムカラムカラムクロマト
グラフィー等によって更に精製できる。

【００６６】（第Ａ５工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基の存在下、化合物（ＶＩa ）に存在する全てのアシ
ル保護基（アセチル基）を除去し、化合物（ＶＩＩa ）
を製造する工程である。

【００６７】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、例えば、第Ａ１工程において使用
した脂肪族炭化水素類；芳香族炭化水素類；ハロゲン化
炭化水素類；エーテル類；の他にメタノール、エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、イソアミルア
ルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタ
ノール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のよ
うなアルコール類；をあげることができ、好適にはアル
コール類（特にメタノール）である。

【００６８】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、例えば、第Ａ４工程で用いられたアル
カリ金属炭酸塩類；アルカリ金属炭酸水素塩類；水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化
リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩基
類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシドのようなア
ルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナトリ
ウム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカプ
タンアルカリ金属類；アンモニア水をあげることがで
き、好適にはアルカリ金属アルコキシド類（特にナトリ
ウムメトキシド）である。

【００６９】反応温度は、０℃乃至１００℃で行なわれ
るが、好適には、１０℃乃至４０℃である。

【００７０】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常１０分乃至１０時
間であり、好適には１０分乃至１時間である。

【００７１】例えば、反応混合物を適宜、酢酸等で中和
し、そのまま減圧下濃縮したのち、水と酢酸エチルのよ
うな混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を
含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥
後、溶剤を留去することによって得られる。

【００７２】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できるが、未精製でのものを次の工程
に用いることができる。

【００７３】（第Ａ６工程）本工程は、化合物（ＶＩＩ
a ）内の４位及び６位の水酸基を、不活性溶剤中、酸触
媒の存在下、アセトナイド化試薬で保護し、アセトナイ
ド化体（ＶＩＩＩa）に変換する工程である。

【００７４】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、例えば、第Ａ１工程において使用
された脂肪族炭化水素類；芳香族炭化水素類；ハロゲン
化炭化水素類；エーテル類；ニトロ化合物類；ニトリル
類；の他にホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；をあげることができ、好適には、アミ
ド類（ジメチルホルムアミド）またはアセトンである。

【００７５】使用されるアセトナイド化試薬としては、
ジメトキシプロパンが好適である。また、アセトンを溶
剤として使用する場合には、必ずしも、アセトナイド化
試薬は必要ない。

【００７６】使用される酸触媒としては、カンファース
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ピリジニウムｐ−
トルエンスルホネート等があげられ、好適にはピリジニ
ウムｐ−トルエンスルホネートである。

【００７７】反応温度は、０℃乃至１００℃で行なわれ
るが、好適には、１０℃乃至４０℃である。

【００７８】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常２時間乃至２４時
間であり、好適には２乃至８時間である。

【００７９】例えば、反応混合物を濃縮し、水と酢酸エ
チルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的
化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等
で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。

【００８０】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムカラムカラムクロマト
グラフィー等によって更に精製できる。

【００８１】（第Ａ７工程）本工程は、化合物（ＶＩＩ
Ｉa ）の３位の遊離水酸基を、不活性溶剤中、縮合剤及
び塩基の存在下、カルボン酸Ｒ³ Ｈ（Ｒ³ は前述のもの
と同意義を示す）を反応させて、３−アシル誘導体（Ｉ
Ｘa ）を得る工程である。

【００８２】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、脂肪族炭化水素類；芳香族炭化水
素類；ハロゲン化炭化水素類；エーテル類；ニトロ化合
物類；ニトリル類をあげることができ、好適にはハロゲ
ン化炭化水素類（特にメチレンクロリド）である。

【００８３】使用される縮合剤としては、例えば、アゾ
ジカルボン酸ジエチル−トリフェニルホスフィンのよう
なアゾジカルボン酸ジ低級アルキル−トリフェニルホス
フィン類、Ｎ−エチル−５−フェニルイソオキサゾリウ
ム−３′−スルホナートのようなＮ−低級アルキル−５
−アリールイソオキサゾリウム−３′−スルホナート
類、Ｎ′，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド（Ｄ
ＣＣ）のようなＮ′，Ｎ′−ジシクロアルキルカルボジ
イミド類、ジ−２−ピリジルジセレニドのようなジヘテ
ロアリールジセレニド類、トリフェニルホスフィンのよ
うなトリアリールホスフィン類、ｐ−ニトロベンゼンス
ルホニルトリアゾリドのようなアリールスルホニルトリ
アゾリド類、２−クロル−１−メチルピリジニウムヨー
ダイドのような２−ハロ−１−低級アルキルピリジニウ
ムハライド及びジフェニルホスホリルアジド(DPPA)のよ
うなジアリールホスホリルアジド類、Ｎ，Ｎ′−カルボ
ジイミダゾール（ＣＤＩ）のようなイミダゾール誘導
体、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBT)のような
ベンゾトリアゾール誘導体、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノル
ボルネン−２，３−ジカルボキシイミド(HONB)のような
ジカルボキシイミド誘導体、１−エチル−３−（３−ジ
メチルアミノプロピル）カルボイミド(EDAPC) のような
カルボジイミド誘導体をあげることができるが、好適に
は、ＤＣＣである。

【００８４】使用される塩基としては、第Ａ４工程で使
用された有機塩基類があげられ、好適には、ピリジン類
（特に４−ジメチルアミノピリジン）である。

【００８５】反応温度は、０℃乃至１００℃で行なわれ
るが、好適には、１０℃乃至４０℃である。

【００８６】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常５分乃至５時間で
あり、好適には３０分乃至２時間である。

【００８７】例えば、反応混合物を適宜、飽和重曹水で
中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去
した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を
加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水
硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによ
って得られる。

【００８８】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【００８９】（第Ａ８工程）本工程は、不活性溶剤中、
酸の存在下、化合物（ＩＸa ）の４位及び６位の水酸基
で保護基を形成するアセトナイドの脱保護化により化合
物（Ｘa ）を得る工程である。

【００９０】使用される溶剤としては、酢酸等の酸性溶
剤が好適であるが、反応を阻害せず、出発物質をある程
度溶解するものであれば、以下のような溶剤との混液も
可能である。即ち、第Ａ１工程で使用した脂肪族炭化水
素類；芳香族炭化水素類；ハロゲン化炭化水素類；エー
テル類；ニトロ化合物類；ニトリル類をあげることがで
き、好適にはエーテル類（特にテトラヒドロフラン）で
ある。

【００９１】使用される酸としては、通常の反応におい
て酸触媒として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸
のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスルホン
酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のプレンス
テッド酸をあげることができ、好適には無機酸であり、
更に好適には酢酸である。

【００９２】反応温度は、０℃乃至１５０℃で行なわれ
るが、好適には、４０℃乃至８０℃である。

【００９３】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常１時間乃至２４時
間であり、好適には５乃至１０時間である。

【００９４】例えば、反応混合物を適宜、飽和重曹水で
中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去
した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を
加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水
硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによ
って得られる。

【００９５】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （第Ａ９工程）化合物（Ｘa ）の遊離水酸基のうち、６
位の１級水酸基を保護化することにより化合物（ＸＩa
）に変換する工程である。

【００９６】本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、
式：Ｒ⁵ Ｘ’で表される保護化試薬（Ｒ⁵ は前述のもの
と同意義を示し、Ｘ’はハロゲン原子（特に塩素原子又
は臭素原子を示す。）を反応させ、６位の１級水酸基の
みを保護する工程である。

【００９７】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、例えば、第Ａ１工程で使用した脂
肪族炭化水素類；芳香族炭化水素類；ハロゲン化炭化水
素類；エーテル類；ニトリル類をあげることができ、好
適にはエーテル類（特にテトラヒドロフラン）である。
使用される保護基としては、水素化分解反応により除去
し得る基を導入するものが好適であり、例えば、ベンジ
ルクロロホルメート、ベンジルオキシルカルボニルメチ
ルクロリドがあげられる。

【００９８】使用される塩基としては、第Ａ４工程にお
いて使用されたトリアルキルアミン類；Ｎ−アルキルモ
ルホリン類；ピリジン類；アニリン類のような有機塩基
の他に、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−
５−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オク
タン(DABCO) 、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］
ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類であ
り、好適には、ピリジン類（特にピリジン）である。

【００９９】反応温度は、０℃乃至１００℃で行なわれ
るが、好適には、１０℃乃至４０℃である。

【０１００】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常５分乃至５時間で
あり、好適には３０分乃至２時間である。

【０１０１】例えば、不溶物が存在する場合には濾過に
より除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有
機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去する
ことによって得られる。

【０１０２】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【０１０３】（第Ａ１０工程）不活性溶剤中、塩基の存
在下、化合物（ＸＩa ）の４位の２級水酸基を式：(Ｒ⁴
Ｏ)₂Ｐ（Ｐ＝Ｏ）−Ｃｌ［Ｒ⁴ は前述のものと同意義
を示す。］で表されるリン化合物を反応させ化合物（Ｘ
ＩＩa ）に変換する工程である。

【０１０４】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、第Ａ１工程で使用された脂肪族炭
化水素類；芳香族炭化水素類；ハロゲン化炭化水素類；
エーテル類；ニトロ化合物類；ニトリル類をあげること
ができ、好適には、ハロゲン化炭化水素類（特にメチレ
ンクロリド）である。

【０１０５】使用されるりん化合物としては、ジベンジ
ルクロロホスフェートまたはジフェニルクロロホスフェ
ートが好適である。

【０１０６】使用される塩基としては、例えば、第Ａ４
工程において使用された有機塩基類であり、好適にはピ
リジン類（特に、４−ジメチルアミノピリジン）であ
る。

【０１０７】反応温度は、０℃乃至１００℃で行なわれ
るが、好適には、１０℃乃至４０℃である。

【０１０８】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常１０分乃至５時間
であり、好適には３０分乃至２時間である。

【０１０９】例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不
溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢
酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、
目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウ
ム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。

【０１１０】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【０１１１】（第Ａ１１工程）本工程は不活性溶剤中、
酸化剤（場合より、酸化補助剤を加える）を反応させ、
化合物（ＸＩＩa ）のアルケニル基を開裂させ、カルボ
ン酸化合物（ＸＩＩＩa ）を得る工程である。

【０１１２】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、例えば、第Ａ１工程において使用された脂肪
族炭化水素類；芳香族炭化水素類；ハロゲン化炭化水素
類；ニトロ化合物類；ニトリル類；の他にアセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ホルムアミ
ド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメ
チルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類
をあげることができるが、好適には、ニトリル類があげ
られ、特に二酸化ルテニウム触媒を酸化剤として用いる
場合には、アセトニトリル／四塩化炭素／水の混合溶液
である。

【０１１３】使用される酸化剤としては、過マンガン酸
カリウム、無水クロム酸、二酸化ルテニウムがあげら
れ、二酸化ルテニウムが特に好適であるが、酸化補助剤
として、メタ過ヨウ素酸ナトリウムを用いるのがさらに
よい。

【０１１４】反応温度は、０℃乃至１００℃で行なわれ
るが、好適には、１０℃乃至４０℃である。

【０１１５】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常１時間乃至２４時
間であり、好適には３乃至１０時間である。

【０１１６】例えば、反応混合物を、又、不溶物が存在
する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチルの
ような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物
を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥
後、溶剤を留去することによって得られる。得られた目
的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又
はカラムクロマトグラフィー等によって更に精製でき
る。

【０１１７】（第Ａ１２工程）本工程は、化合物（ＸＩ
ＩＩa ）より、６位の水酸基の保護基を除去した化合物
（ＸＩＶa ）を得る工程である。

【０１１８】本工程において、Ｒ⁵ を除去し、遊離の水
酸基を有する化合物を得る場合には、Ｒ⁵ としてベンジ
ル基である化合物を使用し、接触還元によるのが一般的
である。また、ジフェニルメチル基で保護されたカルボ
キシル基を有する化合物の脱保護化も達成される。

【０１１９】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、例えば、第Ａ５工程において用い
られた脂肪族炭化水素類；ハロゲン化炭化水素類；エー
テル類；アルコール類をあげることができ、好適には、
アルコール類又はエーテル類（特にテトラヒドロフラ
ン）である。

【０１２０】接触還元に使用する触媒としては、パラジ
ウム黒、パラジウム／炭素、水酸化パラジウム／炭素が
あげられ、好適には１０％パラジウム／炭素である。

【０１２１】使用する水素圧は通常圧力１乃至１０気圧
である。

【０１２２】反応温度は、０℃乃至５０℃で行なわれる
が、好適には、室温である。

【０１２３】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常１時間乃至２４時
間であり、好適には１乃至１０時間である。

【０１２４】例えば、触媒を濾過により除去した後、溶
剤を留去することによって得られる。

【０１２５】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【０１２６】（第Ａ１３工程）本工程は、化合物（ＸＩ
Ｖa ）よりリン酸部分の保護基の除去した化合物（Ｉa
a）を製造する工程である。

【０１２７】Ｒ⁴ を除去し、遊離のリン酸基を有する化
合物を得る場合には、Ｒ⁴ としてフェニル基である化合
物を使用し、接触還元によるのが一般的である。

【０１２８】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、例えば、第Ａ５工程において用い
られた脂肪族炭化水素類；芳香族炭化水素類；ハロゲン
化炭化水素類；エーテル類；アルコール類をあげること
ができ、好適には、アルコール類又はエーテル類（特に
テトラヒドロフラン）である。

【０１２９】接触還元に使用する触媒としては、好適に
は酸化白金である。

【０１３０】使用する水素圧は通常圧力１乃至１０気圧
である。

【０１３１】反応温度は、０℃乃至５０℃で行なわれる
が、好適には、１０℃乃至４０℃である。

【０１３２】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常３０分乃至５時間
であり、好適には３乃至５時間である。

【０１３３】例えば、反応混合物に不溶物が存在する場
合には濾過により除去し、溶剤を留去することによって
得られる。

【０１３４】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【０１３５】（第Ａ１４工程）本工程は、所望の反応で
あり、化合物（Ｉaa）のプロドラッグ化した化合物を製
造する工程である。

【０１３６】本化合物のカルボン酸の保護基を導入する
には、塩基類存在下に、ハライド類を反応させる通常の
方法が用いられる。

【０１３７】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、好適には、ハロゲン化炭化水素
類；エーテル類；アルコール類；ケトン類；アミド類；
スルホキシド類である。

【０１３８】使用塩基としては、好適には、トリエチル
アミン、エチルジイソプロピルアミン、ジシクロヘキシ
ルアミンのような有機塩基；炭酸水素ナトリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩
若しくは炭酸水素塩である。保護化試薬としては、アセ
トキシメチルクロライド、ピバロイルオキシメチルブロ
マイド、ピバロイルオキシメチルクロライドのような脂
肪族アシルオキシメチルハライド類；エトキシカルボニ
ルオキシメチルクロライド、イソプロポキシカルボニル
オキシメチルクロライド、１−（エトキシカルボニルオ
キシ）エチルクロリド、１−（エトキシカルボニルオキ
シ）エチルヨーダイドのような低級アルコキシカルボニ
ルオキシアルキルハライド類；フタリジルハライド類；
又は（５−メチル−２−オキソ−５−メチル−１，３−
ジオキソレン−４−イル）メチルハライド類を反応させ
る。

【０１３９】反応温度は、０℃乃至１００℃で行なわれ
るが、好適には、１０℃乃至５０℃である。

【０１４０】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常５分乃至２４時間
であり、好適には３０分乃至２時間である。

【０１４１】２．Ｂ法 （第Ｂ１工程） 化合物（ＩＩ
b ）に不活性溶剤中、鉄触媒及び脱水剤の存在下、アル
ケニルアルコールCH₂=CH-(CH₂)_nOH （ｎは前述のものと
同意義を示す）を反応させ、直接、化合物（ＩＶb ）を
得る工程である。 使用される溶剤としては、反応を阻
害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に
限定はなく、例えば、第Ａ１工程において使用した脂肪
族炭化水素類；芳香族炭化水素類；ハロゲン化炭化水素
類；エーテル類；ニトロ化合物類；ニトリル類をあげる
ことができ、好適には、ハロゲン化炭化水素類（特にメ
チレンクロリド）である。

【０１４２】使用される触媒としては、四塩化錫、トリ
フルオロボラン／エーテラート、塩化アルミニウム、塩
化第二鉄等のルイス酸があげられ、好適には塩化第二鉄
である。

【０１４３】使用される脱水剤としてはモレキューラー
シーブス又は無水硫酸マグネシウム、無水硫酸カルシウ
ム等の無水硫酸塩があげられ、好適には無水硫酸カルシ
ウムである。

【０１４４】反応温度は、０℃乃至１００℃で行なわれ
るが、好適には、１０℃乃至４０℃である。

【０１４５】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常１時間乃至５０時
間であり、好適には１乃至１０時間である。

【０１４６】例えば、反応混合物を適宜中、飽和重曹水
で中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除
去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒
を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無
水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することに
よって得られる。

【０１４７】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。 （第Ｂ２工程）本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在
下、化合物（ＩＶb ）に存在するアセチル基を除去し、
化合物（ＸＶb ）を製造する工程である。

【０１４８】本工程は（第Ａ５工程）と同一の操作で行
う。但し、アルカリは、アンモニア水が良好である。

【０１４９】（第Ｂ３工程）本工程は、化合物（ＸＶb
）内の４位及び６位の水酸基を、不活性溶剤中、酸触
媒の存在下、アセトナイド化試薬で保護し、アセトナイ
ド化体（ＸＶＩb ）に変換する工程である。

【０１５０】本工程は（第Ａ６工程）と同一の操作で行
う。

【０１５１】（第Ｂ４工程）本工程は、化合物（ＸＶＩ
b ）の２位の保護基を、不活性溶剤中、塩基の存在下、
脱保護し、遊離アミノ体（ＸＶＩＩb ）に変換する工程
である。

【０１５２】２−アミノ基の保護基が、トリフルオロア
セチル基である場合には、不活性溶剤中、塩基を用い
て、除去するのが一般的である。

【０１５３】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はなく、例えば、第Ａ５工程において使用した脂肪族炭
化水素類；芳香族炭化水素類；ハロゲン化炭化水素類；
エーテル類；ニトロ化合物類；ニトリル類；アルコール
類を挙げることができ、好適には、エタノールである。
使用される塩基としては、通常の反応において塩基とし
て使用されるものであれば、特に限定はないが、好適に
は、第Ａ５工程において使用したアルカリ金属炭酸塩
類；アルカリ金属炭酸水素塩類；アルカリ金属水素化物
類；アルカリ金属水酸化物等の無機塩基類；アルカリ金
属アルコキシド類；メルカプタンアルカリ金属類があげ
られ、好適には、アルカリ金属水酸化物類（特に水酸化
ナトリウム）である。

【０１５４】反応温度は、０℃乃至１００℃で行なわれ
るが、好適には、１０℃乃至４０℃である。

【０１５５】反応時間は、反応温度、原料、試薬又は使
用される溶剤等により異なるが、通常１０分乃至５時間
であり、好適には３０分乃至２時間である。

【０１５６】例えば、反応混合物を適宜、１Ｎ−塩酸を
用いて中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過によ
り除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機
溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去する
ことによって得られる。

【０１５７】得られた目的化合物は必要ならば、常法、
例えば再結晶、再沈殿又はカラムクロマトグラフィー等
によって更に精製できる。

【０１５８】（第Ｂ５工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基の存在下、化合物（ＸＶＩＩb ）の２位の遊離アミ
ノ基を、式：Ｒ² Ｘ（Ｒ² は前述のものと同意義を示
し、Ｘは好適には塩素原子又は臭素原子である）で表さ
れるカルボン酸ハライドを用いて、アミド化し、化合物
（ＶＩＩＩb ）に変換する工程である。

【０１５９】本工程は（第Ａ４工程）と同一の操作で行
う。

【０１６０】（第Ｂ６工程）本工程は、化合物（ＶＩＩ
Ｉa ）の３位の遊離水酸基を、不活性溶剤中、縮合剤及
び塩基の存在下、カルボン酸Ｒ³ Ｈ（Ｒ³ は前述のもの
と同意義を示す）を反応させて、３−アシル誘導体（Ｖ
ＩＩＩb ）を得る工程である。

【０１６１】本工程は（第Ａ７工程）と同一の操作によ
って行う。

【０１６２】（第Ｂ７工程）本工程は、不活性溶剤中、
酸の存在下、化合物（ＩＸa ）の４位及び６位の水酸基
で保護基を形成するアセトナイドの脱保護化により化合
物（Ｘa ）を得る工程である。

【０１６３】本工程は（第Ａ８工程）と同一の操作によ
って行う。

【０１６４】（第Ｂ８工程）化合物（Ｘa ）の遊離水酸
基のうち、６位の１級水酸基を保護化することにより化
合物（ＸＩa ）に変換する工程である。

【０１６５】本工程は、（第Ａ９工程）と同一の操作に
よって行う。

【０１６６】（第Ｂ９工程）本工程は、化合物（ＸＩb
）の４位の３級水酸基を式：( Ｒ⁴ Ｏ)₂Ｐ（Ｐ＝Ｏ）
−Ｃｌ［Ｒ⁴ は前述のものと同意義を示す。］で表され
るリン化合物と不活性溶剤中、塩基の存在下、反応させ
化合物（ＸＩＩb ）に変換する工程である。

【０１６７】本工程は、（第Ａ１０工程）と同一の操作
によって行う。

【０１６８】（第Ｂ１０工程）本工程は不活性溶剤中、
酸化剤（場合より、酸化補助剤を加える）を反応させ、
化合物（ＸＩＩb ）のアルケニル基を開裂させ、カルボ
ン酸化合物（ＸＩＩＩb ）を得る工程である。

【０１６９】本工程は、（第Ａ１１工程）と同一の操作
によって行う。

【０１７０】（第Ｂ１１工程）本工程は、化合物（ＸＩ
ＩＩb ）より、６位の水酸基の保護基を除去した化合物
（ＸＩＶb ）を得る工程である。

【０１７１】本工程は、（第Ａ１２工程）と同一の操作
によって行う。

【０１７２】（第Ｂ１２工程）本工程は、化合物（ＸＩ
Ｉa ）よりリン酸部分の保護基の除去した化合物（Ｉb
a）を製造する工程である。

【０１７３】本工程は、（第Ａ１３工程）と同一の操作
によって行う。

【０１７４】（第Ｂ１３工程）本工程は、所望の工程で
あり、化合物（Ｉba）よりプロドラッグ化のためのエス
テル化した化合物を製造する工程である。

【０１７５】本工程は、（第Ａ１４工程）と同一の操作
によって行う。

【０１７６】３．Ｃ法（第Ｃ１工程）本工程は（第Ａ７
工程）によって得られた３−アシル誘導体（ＩＸa ）を
出発物質とし、不活性溶剤中、酸化剤（場合より、酸化
補助剤を加える）を反応させ、同化合物（ＩＸa ）のア
ルケニル基を開裂させ、カルボン酸化合物（ＸＶＩＩＩ
a ）を得る工程である。

【０１７７】本工程は（第Ａ１１工程）と同一の操作に
従って行う。

【０１７８】（第Ｃ２工程）本工程は、カルボン酸化合
物（ＸＶＩＩＩa ）をエステル化しエステル化合物（Ｘ
ＩＸa ）に変換する工程である。

【０１７９】（第Ｃ３工程） 本工程は、カルボン酸エ
ステル化合物（ＸＩＸa ）の４位及び６位水酸基で保護
基を形成するアセトナイドを（第Ａ８工程）と同様の方
法による脱保護化反応により化合物（ＸＸa ）を得る工
程である。

【０１８０】本工程は（第Ａ８工程）と同一の操作に従
って行う。

【０１８１】（第Ｃ４工程）本工程は、化合物（ＸＸa
）の遊離水酸基のうち、６位の１級水酸基を保護化す
ることにより化合物（ＸＸＩa ）を得る工程である。

【０１８２】本工程は（第Ａ９工程）の方法と同一の方
法に従って行う。

【０１８３】（第Ｃ５工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基の存在下、化合物（ＸＸＩa ）の４位の３級水酸基
を式：( Ｒ⁴ Ｏ)₂Ｐ（Ｐ＝Ｏ）−Ｃｌ［Ｒ⁴ は前述のも
のと同意義を示す。］で表されるりん化合物を反応させ
化合物（ＸＸＩＩa ）に変換する工程である。

【０１８４】本工程は（第Ａ１０工程）の方法と同一の
方法に従って行う。

【０１８５】（第Ｃ６工程）本工程は、不活性溶剤中、
触媒存在下、化合物（ＸＸＩＩa ）のカルボン酸の保護
基及び６位の水酸基の保護基を接触還元により除去した
化合物（ＸＩＩＩa）を得る工程である。本工程は（第
Ａ１２工程）の方法と同一の操作に従って行う。

【０１８６】（第Ｃ７工程）本工程は、化合物（ＸＩＶ
a ）よりリン酸部分の保護基を除去した化合物（Ｉaa）
を製造する工程である。本工程は（第Ａ１３工程）の方
法と同一の方法に従って行う。 （第Ｃ８工程）本工程は、所望の工程であり、化合物
（Ｉaa）よりプロドラッグ化のためのエステル化した化
合物を製造する工程である。

【０１８７】本工程は、（第Ａ１４工程）と同一の操作
によって行う。

【０１８８】４．Ｄ法（第Ｄ１工程） 本工程は、（第Ｂ１０工程）において製造したリン化合
物（ＸＩＩb ）を出発物質として用い、不活性溶剤中、
酸化剤（場合より、酸化補助剤を加える）を反応させ、
化合物（ＸＩＩb ）のアルケニル基を開裂させ、カルボ
ン酸化合物（ＸＩＩＩb ）を得る工程である。

【０１８９】本工程は（第Ａ１１工程）の方法と同一の
方法に従って行う。 （第Ｄ２工程）本工程は、化合物（ＸＩＩＩb ）のカル
ボン酸をエステル化し相当するエステル化合物（ＸＸＩ
Ｉb ）を得る工程である。

【０１９０】保護化剤としては、ジフェニルジアゾメタ
ンを用いた。 （第Ｄ３程）本工程は、化合物（ＸＸＩＩb ）のカルボ
ン酸の保護基及び６位保護基を不活性溶剤中、触媒存在
下、脱保護化し、化合物（ＸＩＶb ）を得る工程であ
る。

【０１９１】本工程は（第Ａ１２工程）と同一の操作に
より行った。

【０１９２】（第Ｄ４程）本工程は、化合物（ＸＸＩＶ
b ）よりリン酸部分の保護基の除去した化合物（Ｉba）
を製造する工程である。

【０１９３】本工程は（第Ａ１３工程）と同一の操作に
より行った。

【０１９４】（第Ｄ５工程）本工程は、所望の工程であ
り、化合物（Ｉba）よりプロドラッグ化のためのエステ
ル化した化合物を製造する工程である。

【０１９５】本工程は、（第Ａ１４工程）と同一の操作
によって行う。

【０１９６】

【発明の効果】本発明の化合物（Ｉ）は、優れたマクロ
ファージ活性化作用を示し、また、毒性も弱かった。従
って、本発明の化合物（Ｉ）は、免疫賦活剤又は抗腫瘍
剤として有用である。他方、化合物（Ｉ）の或るもの
は、マクロファージ活性化を著しく抑えたため、これら
の化合物は、抗炎症剤、抗自己免疫疾患剤、免疫抑制剤
として有用である。

【０１９７】本発明の化合物（Ｉ）の投与形態として
は、例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくは
シロップ剤等による経口投与又は注射剤若しくは座剤等
による非経口投与を挙げることができる。これらの製剤
は、賦型剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤、安定剤、矯味矯
臭剤等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。

【０１９８】その使用量は症状、年齢等により異なる
が、１日0.01−５０mg体重を通常成人に対して、１日１
回又は数回に分けて投与することができる。

【０１９９】以下に、実施例をあげて本発明をさらに具
体的に説明する。

【０２００】

【実施例】

［Ａ法］ 実施例 I(a)４−ペンテニル ２−デオキシ−３，４，６−Ｏ−トリ
アセチル−２−（２，２，２−トリクロロエチルオキシ
カルボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノサイド 化合物２−デオキシ−２，３，４，６−Ｏ−テトラアセ
チル−２−（２，２，２−トリクロロエチルオキシカル
ボニルアミノ）−α−Ｄ−グルコピラノサイド９ｇ（1
7.22mmol)を酢酸５mlに溶解し、３０％臭化水素酸−酢
酸１mlを室温にて加え、同室にて２時間撹拌した。酢酸
エチルにて希釈し、飽和重曹水にて中和し、有機層を分
取し、水、飽和食塩水にて洗浄、無水硫酸マグネシウム
にて乾燥した。濾過、濃縮し、残査をシリカゲルカラム
に付し、ヘキサン：酢酸エチル（２：１）で展開し、上
記化合物の１位−ブロム体を7.35ｇ（13.52mmol)得た。
更に、無水硫酸カルシウム7.36ｇ（54.1mmol）、過塩素
酸銀3.64ｇ（17.58mmol)を乾燥ジクロロメタン１２０ml
に懸濁させ、室温にて５分間撹拌し、前記操作にて得た
１−ブロム体の乾燥ジクロロメタン１００ml溶液、４−
ペンテン−１−オール2.8 ml（27.04mmol)を加え、室温
にて１時間撹拌した。反応液を飽和重曹水にて中和し、
セライト濾過、濾液のジクロロメタン層を水にて洗浄し
無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過、濃縮し、残
査をシリカゲルカラムに付し、ヘキサン：酢酸エチル
（２：１）にて精製し、目的化合物を２工程で6.19ｇ
（65.5％）得た。

【０２０１】 元素分析 C₂₀H₂₈NO₁₀Cl₃ ：548.8 Calcd. C. 43.77 H. 5.14 N. 2.55 Cl 19.38 Found. 44.06 5.29 2.47 19.21 赤外線吸収スペクトル νmax (CHCl₃) 1745,1515,1363,1203-1230,1030 cm^{-1 1} H-NMRスペクトル δppm ２７０MHz （CDCl₃) 1.65-1.82(2H,m), 1.98-2.22｛11H,m[2.01(3H,s), 2.04
(3H,s), 2.10(3H,s)を含む] ｝, 3.43-3.52(1H,m), 3.6
8-3.79(1H,m), 3.94-4.16(3H,m), 4.26(1H,d,d,J=4.6,
11.9Hz), 4.67(1H,d,J=11.9Hz), 4.80(1H,d,J=11.9Hz),
4.87(1H,d,J=3.3Hz), 4.98-5.17(3H,m), 5.17-5.32(2
H,m), 5.72-5.90(1H,m) 実施例 I(b)４−ペンテニル ２−デオキシ−２−（２，２−ジフル
オロテトラデカナミド）−３，４，６−Ｏ−トリアセチ
ル−α−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 I(a) でえられた化合物５．６１ｇ（10.22mmol)
を酢酸５０mlに溶解、亜鉛粉末６ｇを加え、６０℃にて
１時間３０分撹拌した。反応液を濾過し、濃縮、トルエ
ンにて酢酸を共沸させ、残査を４規定ジオキサン−塩酸
にて塩酸塩とし、塩酸塩を乾燥ジクロロメタン１００ml
に溶解しトリエチルアミン３．１２ml（22.49mmol)を加
え、氷冷下にて２，２−ジフルオロテトラデカノイルク
ロリド（化合物３に対し1.1 等量）の乾燥ジクロロメタ
ン溶液２０mlを滴下し、室温にて３０分間撹拌した。酢
酸エチルにて希釈し、１規定塩酸、飽和食塩水にて洗浄
し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過、濃縮
し、残査をシリカゲルカラムに付し、ヘキサン：酢酸エ
チル（２：１）で精製し、目的化合物ジフルオロテトラ
デカナミド誘導体を２工程で５．３８ｇ（８５％）得
た。

【０２０２】 元素分析 C₃₁H₅₁F₂NO₉ ：619.74 Calcd. C. 60.08 H. 8.30 N. 2.26 F. 6.13 Found. 59.82 8.40 2.28 6.13 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 2927,2856,1752,1713,1641,1531,1368,1232,1130,1040
cm^{-1 1} H-NMRスペクトル δppm ２７０MHz （CDCl₃) 0.88(3H,t,J=5.9-7.3Hz), 1.18-1.45(20H,m), 1.64-1.8
1(2H,m), 1.94-2.20｛13H,m[2.00(3H,s), 2.04(3H,s),
2.10(3H,s)を含む] ｝, 3.40-3.54(1H,m), 3.68-3.90(1
H,m), 3.94-4.06(1H,m), 4.06-4.18(1H,m), 4.22-4.40
(2H,m), 4.86(1H,d,J=3.3Hz), 4.98-5.20(3H,m), 5.28
(1H,t,J=9.9Hz), 5.72-5.88(1H,m), 6.55(1H,d,J=9.2H
z) 実施例 I(c)４−ペンテニル ２−デオキシ−２−（２，２−ジフル
オロテトラデカナミド）−４，６−Ｏ−イソプロピリデ
ン−α−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 I(b) で得られたジフルオロテトラデカナミド誘
導体、3.75ｇ（6.05mmol) をメタノール３０mlに溶解さ
せ、室温にてナトリウムメトキシド0.98ｇ（18.15mmol)
を加え、同温にて３０分間撹拌した。酢酸にて反応液を
中和し、濃縮、残査に酢酸エチル、飽和重曹水を加え、
酢酸エチル層を水、飽和食塩水にて洗浄し無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。濾過、濃縮し、残査をジメチルホ
ルムアミド３０mlに溶解し、ジメトキシプロパン３０m
l、ピリジニウムｐ−トルエンスルフォネート２００mg
を加え、室温にて５時間撹拌した。反応液を濃縮し、酢
酸エチルにて希釈、飽和重曹水、水、飽和食塩水にて洗
浄、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過、濃縮
し、残査をシリカゲルクロマトに付し、ヘキサン：酢酸
エチル（３：１）で精製し、目的化合物を２工程で2.83
ｇ（87.6％）得た。

【０２０３】 元素分析 C₂₈H₄₉F₂NO₆ ：533.7 Calcd. C. 63.01 H. 9.25 N. 2.62 F. 7.12 Found. 63.14 9.05 2.66 7.11 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3475,2958,2923,2853,1720,1534,1469,1377,1271,1206,
1137cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm （CDCl₃) 0.88(3H,t,J=6.6Hz), 1.18-1.56 ｛26H,m[1.44(3H,s),
1.52(3H,s)を含む] ｝, 1.65-1.76(2H,m), 1.98-2.21(4
H,m), 2.43(1H,d,J=3.3Hz -OH), 3.34-3.47(1H,m), 3.5
6-3.92(6H,m), 4.17(1H,t,d,d,J=4.0, 9.2, 9.9Hz), 4.
80(1H,d,J=3.3Hz C₁-H), 4.90-5.12(2H,m), 5.73-5.90
(1H,m), 6.59(1H,d,J=8.6Hz) 実施例 I(d)４−ペンテニル ２−デオキシ−２−（２，２−ジフル
オロテトラデカナミド）−４，６−Ｏ−イソプロピリデ
ン−３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキ
シ）テトラデカノイル〕−α−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 I(c) で得られた化合物、2.7 ｇ（5.06mmol) を
乾燥ジクロロメタン３０mlに溶解させ、３Ｒ−３−（テ
トラデカノイルオキシ）テトラデカン酸2.53ｇ（5.56mm
ol）、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド1.36
ｇ（6.58mmol）、４−ジメチルアミノピリジン0.62ｇ
（5.06mmol）を加え、室温にて１時間撹拌した。

【０２０４】反応液を濃縮し、酢酸エチルにて希釈し、
濾過、濾液を飽和重曹水、水、飽和食塩水にて洗浄、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過、濃縮、残査をシ
リカゲルカラムに付し、ヘキサン：酢酸エチル（６：
１）で精製し、目的化合物を4.82ｇ（98.2％）得た。

【０２０５】 元素分析 C₅₆H₁₀₁F₂NO₉：970.41 Calcd. C. 69.31 H. 10.49 N. 1.44 F. 3.92 Found. 69.49 10.60 1.55 3.93 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 2996,2956,2851,1736,1716,1534,1469cm^{-1 1} H-NMR ２７０MHz δppm （CDCl₃) 0.88(9H,t,J=5.9-7.3Hz), 1.10-1.76 ｛70H,m[1.39(3H,
s), 1.49(3H,s)を含む] ｝, 1.91-2.19(4H,m), 2.26(2
H,t,J=7.3-7.9Hz), 2.48(1H,d,d,J=6.6, 15.8Hz), 2.64
(1H,d,d,J=6.6, 15.8Hz), 3.36-3.42(1H,m), 3.66-3.95
(5H,m), 4.21(1H,d,t,J=3.3, 9.9Hz), 4.80(1H,d,J=4.0
Hz), 4.97-5.10(2H,m), 5.11-5.29(2H,m), 5.73-5.87(1
H,m), 6.67(1H,d,J=9.2Hz) 実施例 I(e)４−ペンテニル ２−デオキシ−２−（２，２−ジフル
オロテトラデカナミド）−３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−
（テトラデカノイルオキシ）テトラデカノイル〕−α−
Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 I(d) で得られた化合物、2.22ｇ（2.29mmol) を
９０％酢酸水３０mlに懸濁させ６０℃に加温するが化合
物８は溶解せず。テトラヒドロフラン２０mlを加え均一
層とし、６０℃にて８時間撹拌した。反応液を濃縮し、
酢酸エチルで希釈、飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過、濃縮し、
残査をシリカゲルカラムに付し、ヘキサン：酢酸エチル
（２：１）で精製し、目的化合物３−（テトラデカノイ
ルオキシ）テトラデカノイル誘導体を1.65ｇ（82.2％）
得た。

【０２０６】 元素分析 C₅₃H₉₇F₂NO₉ ：930.347 Calcd. C. 68.42 H. 10.51 N. 1.51 F. 4.08 Found. 68.18 10.21 1.51 4.10 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3465,3301,2956,2920,2851,1737,1721,1697,1686,1547,
1469,1200,1177,1107,1065cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm （CDCl₃) 0.88(9H,t,J=6.6-7.3Hz), 1.17-1.77(64H,m), 1.93-2.1
9(5H,m -OH×1 を含む), 2.31(2H,t,J=7.3-7.9Hz), 2.4
2-2.58(2H,m), 3.35-3.47(1H,m), 3.49(1H,d,J=3.3Hz -
OH×1), 3.65-3.94(5H,m), 4.11-4.23(1H,m), 4.84(1H,
d,J=3.3Hz), 4.97-5.20(4H,m), 5.73-5.88(1H,m), 6.77
(1H,d,J=9.2Hz) 実施例 I(f)４−ペンテニル ６−Ｏ−ベンジルオキシカルボニル−
２−デオキシ−２−（２，２−ジフルオロテトラデカナ
ミド）−３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイル
オキシ）テトラデカノイル〕−α−Ｄ−グルコピラノサ
イド 実施例 I(e) で得られた３−（テトラデカノイルオキ
シ）テトラデカノイル誘導体化合物、1.50ｇ（1.6mmol)
を乾燥テトラヒドロフラン２０mlに溶解し、ピリジン0.
2 ml（2.42mmol）を加え、氷冷下にてベンジルオキシカ
ルボニルクロライド0.4 ml（2.26mmol）を滴下した。室
温にて１時間撹拌した。反応液を濃縮、酢酸エチルにて
希釈し、１規定塩酸、飽和重曹水、飽和食塩水にて洗浄
し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過、濃縮
し、残査をシリカゲルカラムに付し、ヘキサン：酢酸エ
チル（５：１）で精製し、目的化合物６−Ｏ−ベンジル
オキシカルボニル誘導体を1.57ｇ（91.5％）得た。

【０２０７】 元素分析 C₆₁H₁₀₃F₂NO₁₁ ：1064.48 Calcd. C. 68.83 H. 9.75 N. 1.32 F. 3.57 Found. 68.55 9.81 1.30 3.55 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3290,2956,2919,2850,1745,1734,1721,1696,1547,1499,
1290,1259,1199,1177cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm （CDCl₃) 0.88(9H,t,J=6.6Hz), 1.18-1.74(64H,m), 1.91-2.17(4
H,m), 2.26-2.32(2H,m), 2.42-2.57(2H,m), 3.34-3.43
(1H,m), 3.51(1H,d,J=4.0Hz -OH), 3.58-3.75(2H,m),
3.82-3.91(1H,m), 4.12-4.24(1H,m), 4.41-4.52(2H,m),
4.82(1H,d,J=3.3Hz), 4.94-5.16(4H,m), 5.18(2H,s),
5.71-5.86(1H,m), 6.73(1H,d,J=8.6Hz), 7.32-7.45(5H,
m) 実施例 I(g)４−ペンテニル ６−Ｏ−ベンジルオキシカルボニル−
２−デオキシ−２−（２，２−ジフルオロテトラデカナ
ミド）−４−Ｏ−ジフェニルフォスフィニル−３−Ｏ−
〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキシ）テトラデ
カノイル〕−α−Ｄ−グルコピラノシド 実施例 I(f) で得られた６−Ｏ−ベンジルオキシカルボ
ニル誘導体化合物1.4ｇ（1.315mmol)を乾燥ジクロロメ
タン１５mlに溶解し、４−ジメチルアミノピリジン２４
１mg（1.97mmol）を加え、室温にてジフェニルクロロホ
スフェート４２５mg（1.58mmol）の乾燥ジクロロメタン
溶液を滴下し、同温にて１時間撹拌した。反応液を濃縮
し、酢酸エチルにて希釈し、飽和重曹水、水、飽和食塩
水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾
過、濃縮し、残査をシリカゲルカラムに付し、ヘキサ
ン：酢酸エチル（５：１）で精製し、目的化合物４−ホ
スホン酸誘導体を1.57ｇ（92.1％）得た。

【０２０８】 元素分析 C₇₃H₁₁₂F₂NO₁₄P：1296.66 Calcd. C. 67.62 H. 8.71 N. 1.08 F. 2.93 P. 2.39 Found. 67.58 8.88 1.05 2.85 2.17 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 2958,2921,2873,2851,1753,1738,1717,1590,1530,1487,
1472,1456,1342,1283,1265,1256,1233,1193,1172,1035,
971 cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm （CDCl₃) 0.88(9H,t,J=6.6-7.2Hz), 1.11-1.76(64H,m), 1.92-2.1
8(6H,m), 2.38-2.54(2H,m), 3.35-3.46(1H,m), 3.65-3.
74(1H,m), 3.97-4.09(1H,m), 4.19-4.37(3H,m), 4.74(1
H,q,J=9.2-9.9Hz), 4.85(1H,d,J=3.3Hz), 4.98-5.18(5
H,m), 5.46(1H,d,d,J=9.2,10.6Hz), 5.72-5.87(1H,m),
6.69(1H,d,J=8.6Hz),7.13-7.43(15H,m) 実施例 I(h)３−カルボキシプロピル ６−Ｏ−ベンジルオキシカル
ボニル−２−デオキシ−２−（２，２−ジフルオロテト
ラデカナミド）−４−Ｏ−ジフェニルフォスフィニル−
３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキシ）
テトラデカノイル〕−α−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 I(g) で得られた４−ホスホン酸誘導体化合物９
６０mg（0.74mmol) をアセトニトリル、四塩化炭素、水
（６ml、６ml、９ml）に溶解し、室温にてメタ過よう素
酸ナトリウム１０ｇ、二酸化ルテニウム２０mgを添加
し、同温にて５時間撹拌した。酢酸エチルにて希釈し、
水、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて
乾燥した。濾過、濃縮し、残査をシリカゲルカラムに付
し、ヘキサン：酢酸エチル（１：１）にて精製し、目的
化合物を５６８mg（58.4％）得た。 元素分析 C₇₂H₁₁₀F₂NO₁₆P：1314.63 Calcd. C. 65.78 H. 8.43 N. 1.07 F. 2.89 P. 2.36 Found. 65.73 8.70 1.07 2.81 2.42 赤外線吸収スペクトル νmax (CHCl₃) 2925,2850,1743,1710,1590,1490,1265,1085,1020,960
cm^{-1 1} H-NMRスペクトル δppm ２７０MHz （CDCl₃) 0.88(9H,t,J=6.6Hz), 1.08-1.57(62H,m), 1.90-2.18(6
H,m), 2.31-2.55(4H,m), 3.36-3.51(1H,m), 3.71-3.85
(1H,m), 3.97-4.08(1H,m), 4.15-4.38(3H,m), 4.73(1H,
q,J=9.2-9.9Hz), 4.80(1H,d,J=3.3Hz), 5.02-5.17(3H,
m), 5.42(1H,d,d,J=9.2, 10.6Hz), 7.00(1H,d,J=9.2H
z), 7.11-7.38(16H,m) 実施例 I(i) ３−カルボキシプロピル ２−デオキシ−２−（２，２
−ジフルオロテトラデカナミド）−４−Ｏ−ジフェニル
フォスフィニル−３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデ
カノイルオキシ）テトラデカノイル〕−α−Ｄ−グルコ
ピラノサイド 実施例 I(h) で得られた化合物７９０mg（0.60mmol) を
乾燥テトラヒドロフラン１０mlに溶解し、１０％パラジ
ウム−炭素５０mgを加え、水素ガス気流中、水素化分解
反応を室温にて３時間行なった。反応液を濾過、濃縮
し、シリカゲルカラムに付し、酢酸エチルにて精製し、
目的化合物を５８０mg（81.8％）得た。

【０２０９】 元素分析 C₆₄H₁₀₄F₂NO₁₄P：1180.494 Calcd. C. 65.12 H. 8.88 N. 1.19 F. 3.22 P. 2.62 Found. 64.89 8.87 1.19 3.08 2.54 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3493,3445,3339,3069,2956,2922,2852,1743,1702,1592,
1537,1492,1290,1192,1164cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm (CDCl₃) 0.88(9H,t,J=5.9-7.3Hz), 1.06-1.60(62H,m), 1.91-2.2
1(6H,m), 2.32-2.55(4H,m), 3.41-3.51(1H,m), 3.63(2
H,s), 3.71-3.87(2H,m), 4.31(1H,d,t,J=3.3, 10.6Hz),
4.77(1H,q,J=9.2-9.9Hz), 4.85(1H,d,J=3.3Hz), 5.12
(1H,m), 5.44(1H,d,d,J=9.2, 11.2Hz), 6.98(1H,d,J=9.
2Hz), 7.13-7.40(10H,m) 実施例 I(j) （例示化合物番号：１１６）３−カルボキシプロピル ２−デオキシ−２−（２，２
−ジフルオロテトラデカナミド）−４−Ｏ−ホスホノ−
３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキシ）
テトラデカノイル〕−α−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 I(i) で得られた２１２mg（0.180mmol)を乾燥テ
トラヒドロフラン５mlに溶解し、酸化白金２０mgを加
え、水素ガス気流中、水素化分解反応を室温にて３時間
行なった。反応液を濾過、濃縮し、目的化合物を１８４
mg（99.6％）得た。

【０２１０】 元素分析 C₅₂H₉₆NO₁₄F₂P ：1028.299 Calcd. C. 60.74 H. 9.41 N. 1.36 F. 3.70 P. 3.01 Found. 60.64 9.08 1.39 3.57 3.02 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3271,2957,2920,2851,1743,1704,1561,1468,1188,1055,
1045cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm （重ピリジン） 0.82-0.98(9H,m), 1.18-2.03(64H,m), 2.25-2.55(6H,
m), 3.01(1H,d,d,J=6.4,16.1Hz), 3.26(1H,d,d,J=6.4,
16.6Hz), 3.47-3.51(1H,m), 3.78-3.93(1H,m),4.07-4.2
1(2H,m), 4.48-4.60(1H,m), 4.90-5.05(1H,m), 5.14-5.
30｛2H,m[5.26(1H,d,J=3.4Hz）を含む] ｝, 5.61-5.74
(1H,m), 6.12(1H,d,d,J=9.3, 10.7Hz), 8.34(4H,b,-OH
×3, -COOH), 9.29(1H,d,J=9.3Hz) NEG. FAB MS (M-NBA) M/Z 1026(M-H) ^- , 798, 590, 572, 97, 79 ［Ｂ法］ 実施例 II(a)４−ペンテニル ２−デオキシ−３，４，６−Ｏ−トリ
アセチル−２−トリフルオロアセトアミド−β−Ｄ−グ
ルコピラノサイド 無水硫酸カルシウム1.84ｇ（13.53mmol)、塩化第２鉄1.
1 ｇ（6.77mmol) を乾燥ジクロロメタン５０mlに懸濁さ
せ、１０分間撹拌した。次いで２−デオキシ−２，３，
４，６，テトラアセチル−２−（トリフルオロアセチル
アミノ）−β−グルコピラノサイド、２ｇ（4.5mmol)と
４−ペンテン−１−オール2.33ml（22.6mmol) を室温に
て加え、同温にて５時間撹拌した。反応液をクロロホル
ム５０ml、飽和重曹水５０mlに加え、室温にて１時間撹
拌した。有機層を飽和重曹水にて洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥した。濾過、濃縮し、残査をシリカゲ
ルカラムに付し、ヘキサン：酢酸エチル（３：１）で精
製し、目的化合物を1.56ｇ（73.7％）得た。

【０２１１】 元素分析 C₁₉H₂₆NF₃O₉ ：469.41 Calcd. C. 48.62 H. 5.58 N. 2.98 F. 12.14 Found. 48.76 5.68 3.07 11.94 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3316,1752,1709,1562,1378,1230,1181,1076,1043cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm （CDCl₃) 1.62-1.76(2H,m), 2.02-2.22｛11H,m[2.04(6H,s) 2.10
(3H,s）を含む] ｝, 3.43-3.54(1H,m), 3.69-3.78(1H,
m), 3.84-4.06(2H,m), 4.15(1H,d,d,J=2.0-2.6,11.9H
z), 4.29(1H,d,d,J=4.6, 11.9Hz), 4.64(1H,d,J=7.9H
z), 4.95-5.03(2H,m), 5.11(1H,d,d,J=9.2, 9.9Hz), 5.
29(1H,d,d,J=9.2, 10.6Hz), 5.69-5.88(1H,m), 6.50(1
H,d,J=8.6Hz) 実施例 II(b)４−ペンテニル ２−デオキシ−４，６−Ｏ−イソプロ
ピリデン−２−トリフルオロアセトアミド−β−Ｄ−グ
ルコピラノサイド 実施例 II(a)で得られた化合物6.79ｇ（14.46mmol)をメ
タノール７０mlに溶解させ、７mlのアンモニア水を室温
にて加え、同温にて６時間撹拌した。反応液を濃縮し、
残査をシリカゲルクロマトに付し、酢酸エチルにて溶出
し、約4 ｇのトリオールを得た（化合物１７）。トリオ
ールを再び乾燥ジメチルホルムアミド25mlに溶解し、
２，２−ジメトキシプロパン３０ml、ピリジニウムｐ−
トルエンスルホネート100 mgを加え室温にて6 時間撹拌
した。反応液を濃縮し、酢酸エチルにて希釈、飽和重曹
水、水、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウム
にて乾燥した。濾過、濃縮し、残査をシリカゲルカラム
に付し、ヘキサン：酢酸エチル（２：１）で精製し、目
的化合物イソプロピリデン誘導体を２工程で4.26ｇ（7
6.8％）得た。 元素分析 C₁₆H₂₄F₃NO₆ ：383.36 Calcd. C. 50.13 H. 6.31 N. 3.65 F. 14.87 Found. 49.95 6.21 3.75 14.90 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3483,3323,2944,2886,1705,1561,1386,1378,1272,1207,
1182,1110,1090,1039,851 cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm （CDCl₃) 1.43(3H,s), 1.51(3H,s), 1.60-1.75(2H,m), 2.03-2.14
(2H,m), 2.90(1H,d,J=3.3Hz -OH), 3.32(1H,d,t,J=5.3,
9.9Hz), 3.44-3.60(3H,m), 3.75-3.99(3H,m),4.05-4.1
5(1H,m), 4.77(1H,d,J=7.9Hz), 4.94-5.05(2H,m), 5.70
-5.85(1H,m),6.54(1H,d,J=6.6Hz) 実施例 II(c)４−ペンテニル ２−アミノ−２−デオキシ−４，６−
Ｏ−イソプロピリデン−β−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 II(b)で得られたイソプロピリデン誘導体化合物
10.59mmol)をエタノール６０mlに溶解させ、１規定の水
酸化ナトリウム水溶液３０mlを室温にて加え、同温にて
１時間撹拌した。反応液を濃縮し、酢酸エチルと水を加
え、酢酸エチル層をとり、水、飽和食塩水にて洗浄し、
無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過、濃縮し、残
査をシリカゲルクロマトに付し、酢酸エチル：メタノー
ル（１９：１）にて精製し、目的化合物２−アミノ誘導
体を2.68ｇ（88.1％）得た。

【０２１２】元素分析 C₁₄H₂₅NO₅ ：287.36 Calcd. C. 58.52 H. 8.77 N. 4.87 Found. 58.14 9.17 4.81¹ H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm （CDCl₃) 1.43(3H,s), 1.51(3H,s), 1.67-1.80(2H,m), 1.88(3H,
s,-OH,-NH₂), 2.09-2.20(2H,m), 2.75(1H,d,d,J=8.6,
9.2Hz), 3.26(1H,d,t,J=5.3, 9.9Hz), 3.42-3.63(3H,
m), 3.76-3.96(3H,m), 4.23(1H,d,J=7.9Hz), 4.95-5.08
(2H,m), 5.73-5.90(1H,m) 実施例 II(d)４−ペンテニル ２−デオキシ−２−（２，２−ジフル
オロテトラデカナミド）−４，６−Ｏ−イソプロピリデ
ン−β−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 II(c)で得られた２−アミノ誘導体化合物2.47ｇ
（8.6mmol)を乾燥ジクロロメタン２５mlに溶解し、トリ
エチルアミン１．５５ml（11.2mmol）を加え、氷冷下に
て２，２−ジフルオロテトラデカノイルクロリド（２−
アミノ誘導体化合物１９に対して1.1 等量）の乾燥ジク
ロロメタン溶液２５mlを滴下し、室温にて１時間撹拌し
た。反応液を濃縮し、酢酸エチルにて希釈、１規定塩酸
水、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて
乾燥した。濾過、濃縮し、残査をシリカゲルカラムに付
し、ヘキサン：酢酸エチル（２：１）で精製し、目的化
合物ジフルオロテトラデカナミド誘導体を3.97ｇ（86.5
％）得た。

【０２１３】 元素分析 C₂₈H₄₉F₂NO₆ ：533.695 Calcd. C. 63.01 H. 9.25 N. 2.62 F. 7.12 Found. 62.73 9.25 2.63 7.09 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3488,3330,2924,2853,1683,1555,1469,1379,1271,1203,
1179,1115,1092,1042cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm （CDCl₃) 0.88(3H,t,J=6.6Hz), 1.14-1.55 ｛26H,m[1.44(3H,s),
1.52(3H,s)を含む] ｝, 1.60-1.76(2H,m), 1.98-2.19(4
H,m), 3.20(1H,d,J=2.6Hz -OH), 3.31(1H,d,t,J=5.3,
9.9Hz), 3.40-3.64(3H,m), 3.75-4.10(4H,m), 4.70(1H,
d,J=8.6Hz), 4.93-5.07(2H,m), 5.70-5.87(1H,m), 6.52
(1H,d,J=6.6Hz) 実施例 II(e)４−ペンテニル ２−デオキシ−２−（２，２−ジフル
オロテトラデカナミド）−４，６−Ｏ−イソプロピリデ
ン−３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキ
シ）テトラデカノイル〕−β−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 II(d)で得られたジフルオロテトラデカナミド誘
導体化合物3.68ｇ（6.9mmol)を実施例I(d)と同様に操作
し、目的化合物を5.62ｇ（８４％）得た。

【０２１４】 元素分析 C₅₆H₁₀₁F₂NO₉：970.41 Calcd. C. 69.31 H. 10.49 N. 1.44 F. 3.92 Found. 69.55 10.21 1.50 3.97 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3348,2955,2921,2873,2851,1735,1684,1548,1468,1382,
1369,1203,1185,1101cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm 0.88(9H,t,J=6.6Hz), 1.17-1.52 ｛68H,m[1.37(3H,s),
1.48(3H,s)を含む] ｝, 1.52-1.70(2H,m), 1.92-2.14(4
H,m), 2.26(2H,t,J=7.3-7.9Hz), 2.49(1H,d,d,J=6.6, 1
5.2Hz), 2.63(1H,d,d,J=6.6, 15.2Hz), 3.28-3.52(2H,
m), 3.68-4.02(5H,m), 4.61(1H,d,J=8.6Hz), 4.91-5.05
(2H,m), 5.11-5.27(2H,m), 5.68-5.87(1H,m), 6.52(1H,
d,J=9.2Hz) 実施例 II(f)４−ペンテニル ２−デオキシ−２−（２，２−ジフル
オロテトラデカナミド）−３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−
（テトラデカノイルオキシ）テトラデカノイル〕−β−
Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 II(e)で得られた化合物5.2 ｇ（5.36mmol) を実
施例 I(e) と同様に操作し、目的化合物４，６−ジヒド
ロキシ誘導体を4.88ｇ（９８％）得た。

【０２１５】 元素分析 C₅₃H₉₇F₂NO₉ ：930.35 Calcd. C. 68.42 H. 10.51 N. 1.51 F. 4.08 Found. 68.19 10.59 1.54 4.00 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3505,3290,2956,2921,2815,1732,1684,1555,1469,1378,
1321,1198,1104,1083,1045cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm (CDCl₃) 0.88(9H,t,J=6.6Hz), 1.12-1.43(62H,m), 1.52-1.71(2
H,m), 1.92-2.19(5H,m,OH×１を含む), 2.30(2H,t,J=7.
3Hz), 2.43-2.60(2H,m), 3.40-3.55(2H,m), 3.60-3.74
(2H,m,OH×１を含む), 3.77-4.04(4H,m), 4.55(1H,d,J=
7.9Hz), 4.92-5.16(4H,m), 5.68-5.86(1H,m), 6.60(1H,
d,J=8.6Hz) 実施例 II(g)４−ペンテニル ６−Ｏ−ベンジルオキシカルボニル−
２−デオキシ−２−（２，２−ジフルオロテトラデカナ
ミド）−３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３（テトラデカノイルオ
キシ）テトラデカノイル〕−β−Ｄ−グルコピラノサイ
ド 実施例 II(f)で得られた４，６−ジヒドロキシ誘導体4.
8 ｇ（5.16mmol) を実施例 I(f) と同様に操作し、目的
化合物３−テトラデカノイル誘導体を3.71ｇ（67.6％）
得た。また原料を0.83ｇ回収した。

【０２１６】 元素分析 C₆₁H₁₀₃F₂NO₁₁ ：1064.48 Calcd. C. 68.83 H. 9.75 N. 1.32 F. 3.57 Found. 68.60 9.73 1.39 3.48 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3479,3328,2923,2852,1728,1691,1550,1468,1458,1397,
1287,1262,1189,1111,1090,950,915,697cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm (CDCl₃) 0.88(9H,t,J=6.6-7.3Hz), 1.12-1.70(64H,m), 1.92-2.1
4(4H,m), 2.29(2H,t,J=7.3-7.9Hz), 2.43-2.59(2H,m),
3.38-3.48(1H,m), 3.54-3.67(3H,m,OHを含む),3.79-4.0
2(2H,m), 4.36-4.45(1H,m), 4.48-4.58(2H,m), 4.90-5.
12(4H,m), 5.18(2H,s), 5.67-5.83(1H,m), 6.62(1H,d,J
=9.2Hz), 7.33-7.43(5H,m) 実施例 II(h)４−ペンテニル ６−Ｏ−ベンジルオキシカルボニル−
２−デオキシ−２−（２，２−ジフルオロテトラデカナ
ミド）−４−Ｏ−ジフェニルフォスフィニル−３−Ｏ−
〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキシ）テトラデ
カノイル〕−β−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 II(g)で得られた化合物３−テトラデカノイル誘
導体3.48ｇ（3.27mmol) を実施例 I(g) と同様に操作
し、目的化合物４−ホスホン酸誘導体を4.06ｇ（９６
％）得た。

【０２１７】 元素分析 C₇₃H₁₁₂F₂NO₁₄P：1296.66 Calcd. C. 67.62 H. 8.71 N. 1.08 F. 2.93 P. 2.39 Found. 68.12 8.57 1.08 2.83 2.25 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3362,2955,2920,2851,1746,1728,1687,1542,1494,1469,
1290,1277,1256,1192,1172,1128,967,957 cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm (CDCl₃) 0.88(9H,t,J=6.6Hz), 1.10-1.69(64H,m), 1.90-2.13(4
H,m), 2.17(2H,t,J=7.3-7.9Hz), 2.26-2.47(2H,m), 3.3
8-3.50(1H,m), 3.56-3.70(1H,m), 3.73-3.89(2H,m), 4.
17-4.28(1H,m), 4.32-4.42(1H,m), 4.70(1H,q,J=9.9H
z), 4.91-5.20(6H,m), 5.60(1H,d,d,J=9.2, 10.6Hz),
5.68-5.85(1H,m), 6.77(1H,d,J=7.9Hz), 7.10-7.40(15
H,m) 実施例 II(i)３−カルボキシプロピル ６−Ｏ−ベンジルオキシカル
ボニル−２−デオキシ−２−（２，２−ジフルオロテト
ラデカナミド）−４−Ｏ−ジフェニルフォスフィニル−
３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキシ）
テトラデカノイル〕−β−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 II(g)で得られた４−ホスホン酸誘導体化合物1.
00ｇ（0.77mmol) を実施例 I(h) と同様に操作し、目的
化合物を0.55ｇ（54.2％）得た。

【０２１８】 元素分析 C₇₂H₁₁₀F₂NO₁₆P：1314.63 Calcd. C. 65.78 H. 8.43 N. 1.07 F. 2.89 P. 2.36 Found. 65.56 8.38 1.22 2.82 2.28 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3349,2957,2923,2853,1753,1728,1694,1591,1542,1493,
1468,1457,1292,1260,1240,1193,1169,1114,1066,1040,
1026,1010,953 cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm (CDCl₃) 0.88(9H,t,J=6.6Hz), 1.05-1.61(62H,m), 1.78-2.22(6
H,m), 2.28-2.46(4H,m), 3.45-3.58(1H,m), 3.62-3.89
(3H,m), 4.15-4.26(1H,m), 4.38(1H,d,d,J=2.0,9.9Hz),
4.71(1H,q,J=9.2-9.9Hz), 4.95(1H,d,J=7.9Hz), 5.01-
5.20(3H,m), 5.58(1H,d,d,J=9.2, 9.9Hz), 6.94(1H,d,J
=7.9Hz), 7.09-7.43(15H,m) 実施例 II(j)３−カルボキシプロピル ２−デオキシ−２−（２，２
−ジフルオロテトラデカナミド）−４−Ｏ−ジフェニル
フォスフィニル−３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデ
カノイルオキシ）テトラデカノイル〕−β−Ｄ−グルコ
ピラノサイド 実施例 II(i)で得られた化合物６３０mg（0.479mmol)を
実施例 I(i) と同様に操作し、目的化合物を４４４mg
（78.5％）得た。

【０２１９】 元素分析 C₆₄H₁₀₄F₂NO₁₄P：1180.494 Calcd. C. 65.12 H. 8.88 N. 1.19 F. 3.22 P. 2.62 Found. 64.89 9.02 1.20 3.12 2.61 赤外線吸収スペクトル νmax (CHCl₃) 3400,2930,2850,1715,1630,1530,1485,1319,1185,1110,
1025,965 cm ^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm (CDCl₃) 0.88(9H,t,J=5.9-7.3Hz), 1.05-1.60(62H,m), 1.81-2.2
3(6H,m), 2.30-2.51(4H,m), 3.49-3.67(3H,m), 3.68-3.
82(2H,m), 3.83-3.95(1H,m), 4.75(1H,q,J=9.2Hz), 4.9
2(1H,d,J=8.6Hz), 5.08-5.20(1H,m), 5.61(1H,d,d,J=9.
2, 9.9Hz), 6.99(1H,d,J=7.9Hz), 7.12-7.42(10H,m) 実施例 II(k)（例示化合物番号：１１６）３−カルボキシプロピル ２−デオキシ−２−（２，２
−ジフルオロテトラデカナミド）−４−Ｏ−ホスホノ−
３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキシ）
テトラデカノイル〕−β−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 II(j)で得られた化合物１５０mg（0.127mmol)を
実施例 I(j) と同様に操作し、目的化合物を１１６mg
（88.8％）得た。

【０２２０】 元素分析 C₅₂H₉₆NO₁₄F₂P ・ H₂O ：1046.314 Calcd. C. 59.70 H. 9.44 N. 1.34 F. 3.63 P. 2.96 Found. 59.85 9.31 1.35 3.61 2.77 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3248,2957,2920,2851,1733,1690,1561,1468,1191cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm （重ピリジン） 0.78-0.98(9H,m), 1.07-2.02(62H,m), 2.08-2.23(2H,
m), 2.28-2.54(4H,m), 2.63-2.78(2H,m), 3.03(1H,d,d,
J=6.8-7.3, 16.1-16.6Hz), 3.32(1H,d,d,J=5.9-6.4, 1
6.1-16.6Hz), 3.67(1H,d,J=9.8Hz), 3.72-3.85(1H,m),
4.04-4.22(2H,m),4.42-4.55(1H,m), 4.66(1H,q,J=8.8-1
0.3Hz), 5.08-5.27 ｛2H,m[5.13(1H,d,J=8.3Hz）を含
む] ｝, 5.66-5.80(1H,m), 6.16(1H,d,d,J=9.8, 10.3H
z), 7.34(4H,b), 10.21(1H,d,J=9.3Hz) ［Ｃ法］ 実施例 III(a)（ジフェニルメチルオキシカルボニル）メチル ２−デ
オキシ−２−（２，２−ジフルオロテトラデカナミド）
−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−Ｏ−〔（３Ｒ）
−３−（テトラデカノイルオキシ）テトラデカノイル〕
−α−Ｄ−グルコピラノサイド アリル ２−デオキシ−２−（２，２−ジフルオロテト
ラデカナミド）−４，６−Ｏ−イソプロピリデン−３−
Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキシ）テト
ラデカノイル〕−α−Ｄ−グルコピラノサイド５００mg
（0.53mmol）をアセトニトリル、四塩化炭素、水（１０
ml、１０ml、１５ml）に溶解し、室温にてメタ過よう素
酸ナトリウム４ｇ、二酸化ルテニウム１５mgを添加し、
同温にて３時間撹拌した。酢酸エチルにて希釈し、水、
飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥
した。濾過濃縮し、残査をテトラヒドロフラン３mlに溶
解し、ジフェニルジアゾメタン１５０mg（0.80mmol）を
室温にて加え終夜撹拌した。反応液を酢酸にてクエンチ
し、濃縮し、残査をシリカゲルクロマトに付し、ヘキサ
ン：酢酸エチル（９：１−５：１）にて精製し、目的化
合物ジフェニルメチル誘導体を４０９mg（６８％）得
た。

【０２２１】 元素分析 C₆₆H₁₀₅F₂NO₁₁ ：1126.55 Calcd. C. 70.37 H. 9.39 N. 1.24 F. 3.37 Found. 70.31 9.57 1.40 3.43 赤外線吸収スペクトル νmax(CHCl₃) 2925,2860,1745,1710,1530,1465,1265,1180,1135,1087
cm^{-1 1} H-NMRスペクトル δppm ２７０MHz (CDCl₃) 0.88(9H,t,J=5.9-7.0Hz), 1.18-1.65 ｛68H,m[1.48(3H,
s), 1.57(3H,s)を含む] ｝, 1.89-2.13(2H,m), 2.25(2
H,t,J=7.3Hz), 2.47(1H,d,d,J=7.3, 15.2Hz), 2.63(1H,
d,d,J=7.3, 15.2Hz), 3.67-3.89(4H,m), 4.20-4.36 ｛3
H,m[4.29(2H,s)を含む] ｝, 4.90(1H,d,J=3.3Hz), 5.10
-5.29(2H,m), 6.89-6.99(2H,m), 7.26-7.40(10H,m) 実施例 III(b)（ジフェニルメチルオキシカルボニル）メチル ２−デ
オキシ−２−（２，２−ジフルオロテトラデカナミド）
−３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキ
シ）テトラデカノイル〕−α−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 III(a) で得られたジフェニルメチル誘導体化合
物６９０mg（0.612mmol)を、９０％酢酸１０mlに懸濁さ
せ、６０−６５℃に加温し、３時間撹拌した。反応液を
濃縮し、残査をシリカゲルクロマトに付し、ヘキサン：
酢酸エチル（２：１）にて精製し、目的化合物ジヒドロ
キシ誘導体を３６３mg（５５％）得た。 元素分析 C₆₃H₁₀₁F₂NO₁₁ ：1086.49 Calcd. C. 69.65 H. 9.37 N. 1.29 F. 3.50 Found. 69.49 9.45 1.29 3.49 赤外線吸収スペクトル νmax(CHCl₃) 3430,2920,2850,1742,1710,1530,1465,1455,1375,1182,
1145,1082 cm^{-1 1} H-NMRスペクトル δppm ２７０MHz (CDCl₃) 0.88(9H,t,J=5.9-7.3Hz), 1.12-1.67(62H,m), 1.87-2.1
3(3H,m,-OH×1 を含む), 2.25-2.33(2H,m), 2.41-2.58
(2H,m), 3.51(1H,d,J=3.3Hz -OH×1), 3.66-3.90(4H,
m), 4.16-4.28(1H,m), 4.32(2H,s), 4.94(1H,d,J=4.0H
z), 5.02-5.23(2H,m), 6.96(1H,s), 7.04(1H,d,J=8.6H
z), 7.26-7.42(10H,m) 実施例 III(c)（ジフェニルメチルオキシカルボニル）メチル ６−Ｏ
−ベンジルオキシカルボニル−２−デオキシ−２−
（２，２−ジフルオロテトラデカナミド）−３−Ｏ−
〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキシ）テトラデ
カノイル〕−α−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 III(b) で得られた４，６−ジヒドロキシ誘導体
化合物４１８mg（0.385mmol)を乾燥ジクロロメタン５ml
に溶解し、４−ジメチルアミノピリジン４７mg（0.385m
mol)を加え、更に氷冷下にてベンジルオキシカルボニル
クロライド１６４mg（0.962mmol)を添加した。氷冷下５
分間ほど撹拌したのち室温にて１時間撹拌した。反応液
を濃縮し、酢酸エチルにて希釈し濾過した。濾液を飽和
重曹水、水、飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥した。濾過、濃縮し、残査をシリカゲルカ
ラムに付し、ヘキサン：酢酸エチル（５：１）にて精製
し、目的化合物６−ベンジルオキシカルボニル誘導体を
２１６mg（４６％）得た。 元素分析 C₇₁H₁₀₇F₂NO₁₃ ：1220.62 Calcd. C. 69.86 H. 8.84 N. 1.15 F. 3.11 Found. 69.69 8.55 1.40 2.90 赤外線吸収スペクトル νmax(CHCl₃) 3440,2925,2855,1745,1710,1530,1465,1457,1380,1265
cm^{-1 1} H-NMRスペクトル δppm ２７０MHz (CDCl₃) 0.88(9H,t,J=5.9-6.6Hz), 1.16-1.67(62H,m), 1.91-2.1
2(2H,m), 2.24-2.33(2H,m), 2.41-2.57(2H,m), 3.50(1
H,d,J=4.0Hz -OH), 3.58-3.68(1H,m), 3.92-4.02(1H,
m), 4.16-4.47(5H,m), 4.90(1H,d,J=4.0Hz), 5.01-5.25
(4H,m), 6.94(1H,s), 7.01(1H,d,J=9.2Hz), 7.24-7.42
(15H,m) 実施例 III(d)（ジフェニルメチルオキシカルボニル）メチル ６−Ｏ
−ベンジルオキシカルボニル−２−デオキシ−２−
（２，２−ジフルオロテトラデカナミド）−４−Ｏ−ジ
フェニルフォスフィニル３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テ
トラデカノイルオキシ）テトラデカノイル〕−α−Ｄ−
グルコピラノサイド 実施例 III(c) で得られた６−ベンジルオキシカルボニ
ル誘導体化合物１７７mg（0.145mmol)を乾燥ジクロロメ
タン２mlに溶解し、４−ジメチルアミノピリジン３５mg
（0.29mmol）を加え、室温にてジフェニルクロロホスフ
ェート７８mg（0.29mmol）の乾燥ジクロロメタン１ml溶
液を滴下し、１時間撹拌した。反応液を濃縮し、酢酸エ
チルにて希釈、飽和重曹水、水、飽和食塩水にて洗浄
し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過、濃縮
し、残査をシリカゲルカラムに付し、ヘキサン：酢酸エ
チル（３：１）にて精製し、目的化合物４−ホスホン酸
誘導体を２０４mg（96.8％）得た。

【０２２２】赤外線吸収スペクトル νmax(CHCl₃) 2920,2850,1750,1710,1590,1530,1490,1475,1265,1185,
1160,960 cm^{-1 1} H-NMRスペクトル δppm （CDCl₃) 0.88(9H,t,J=6.6Hz), 1.16-1.60(62H,m), 1.90-2.16(4
H,m), 2.39-2.52(2H,m), 4.08-4.35(6H,m), 4.76(1H,q,
J=9.2Hz), 4.93(1H,d,J=4.0Hz), 4.99 ｛3H,m [5.01(1
H,d,J=11.9Hz), 5.09(1H,d,J=11.9Hz)を含む] ｝, 5.47
(1H,d,d,J=9.2,10.6Hz), 6.89-6.99(2H,m), 7.10-7.43
(25H,m) 実施例 III(e)カルボキシメチル２−デオキシ−２−（２，２−ジフル
オロテトラデカナミド）−４−Ｏ−ジフェニルフォスフ
ィニル−３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイル
オキシ）テトラデカノイル〕−α−Ｄ−グルコピラノサ
イド 実施例 III(d) で得られた４−ホスホン酸誘導体化合物
７３mg（0.05mmol) を乾燥テトラヒドロフラン２mlに溶
解し、１０％パラジウム−炭素１７mgを加え、水素ガス
気流中、水素化分解反応を室温にて３時間行なった。反
応液を濾過、濃縮し、シリカゲルカラムに付し、酢酸エ
チル：メタノール（１０：１）にて精製し、目的化合物
を50.2mg（８７％）得た。

【０２２３】赤外線吸収スペクトル νmax (CHCl₃) 3420,2920,2845,1725,1705,1590,1530,1490,1180,1160,
960 cm^{-1 1} H-NMRスペクトル δppm （CDCl₃+D₂O) 0.88(9H,t,J=5.9-7.2Hz), 0.98-1.56(62H,m), 1.88-2.1
7(4H,m), 2.27-2.54(2H,m), 3.50-3.74(2H,m), 3.94-4.
21(3H,m), 4.24-4.38(1H,m), 4.57-4.79(1H,m), 4.95(1
H,d,J=3.3Hz), 5.06-5.19(1H,m), 5.57(1H,t,J=9.9Hz),
7.12-7.38(10H,m) 実施例 III(f) （例示化合物番号：１１６）カルボキシメチル ２−デオキシ−２−（２，２−ジフ
ルオロテトラデカナミド）−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ
−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキシ）テトラ
デカノイル〕−α−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例 III(e) で得られた化合物５８mg（0.05mmol) を
乾燥テトラヒドロフラン２mlに溶解し、酸化白金２０mg
を加え水素ガス気流中、水素化分解反応を室温にて３時
間行なった。反応液を濾過、濃縮し、目的化合物４−ホ
スホノ−１−カルボン酸誘導体を４９mg（97.3％）得
た。

【０２２４】赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3333,2957,2924,2854,1738,1709,1540,1468 cm^{-1 1} H-NMRスペクトル ２７０MHz δppm （重ピリジン＋D₂
O) 0.78-1.05(9H,m), 1.07-2.03(62H,m), 2.31-2.52(4H,
m), 3.02-3.16(1H,m), 3.28-3.39(1H,m), 4.01-4.22(2
H,m), 4.35-4.63(3H,m), 4.86-4.96(1H,m), 5.01-5.21
(1H,m), 5.48(1H,d,J=2.9Hz), 5.65-5.79(1H,m), 6.17
(1H,d,J=9.3Hz) NEG. FAB MS M/Z 998(M-H)^- , 770,562,544,227,97,79 実施例IV(a) （ジフェニルメチルオキシカルボニル）メチル ６−Ｏ
−ベンジルオキシカルボニル−２−デオキシ−２−
（２，２−ジフルオロテトラデカナミド）−４−Ｏ−ジ
フェニルフォスフィニル−３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−
（テトラデカノイルオキシ）テトラデカノイル〕−β−
Ｄ−グルコピラノサイド アリル ６−Ｏ−ベンジルオキシカルボニル−２−デオ
キシ−２−（２，２−ジフルオロテトラデカナミド）−
４−Ｏ−ジフェニルフォスフィニル−３−Ｏ−〔（３
Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキシ）テトラデカノイ
ル〕−β−Ｄ−グルコピラノサイド1.92ｇ（1.51mmol)
をアセトニトリル、四塩化炭素、水（１０ml，１０ml，
１５ml）に溶解し、室温にてメタ過よう素酸ナトリウム
１０ｇ、二酸化ルテニウム２０mgを添加し、同温にて２
時間撹拌した。酢酸エチルにて希釈し、水、飽和食塩水
にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過
濃縮し、残査をテトラヒドロフラン１０mlに溶解し、ジ
フェニルジアゾメタン５９０mg（3.02mmol）を室温にて
加え、終夜撹拌した。反応液を酢酸にてクエンチし、濃
縮、残査をシリカゲルカラムに付し、ヘキサン：酢酸エ
チル（５：１）にて精製し、目的化合物を1.06mg（４８
％）得た。

【０２２５】 元素分析 C₈₃H₁₁₆F₂NO₁₆P：1452.80 Calcd. C. 68.62 H. 8.05 N. 0.96 F. 2.62 P. 2.13 Found. 68.66 8.13 1.00 2.57 2.10 赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 2921,2851,1760,1744,1727,1699,1468,1457,1294,1275,
1246,1207,1163,1113,1100,1066,1043,1028,971,953 cm
^{-1 1} H-NMRスペクトル δppm ２７０MHz （CDCl₃) 0.88(9H,t,J=5.9-7.3Hz), 1.11-1.65(62H,m), 1.87-2.0
7(2H,m), 2.14(2H,t,J=7.3-7.9Hz), 2.33-2.50(2H,m),
3.65-3.78(1H,m), 3.90(1H,q,J=9.9Hz), 4.18(1H,d,d,J
=4.6-5.3, 11.9-12.5Hz), 4.26-4.33 ｛3H,m[4.34(2H,
s）を含む] ｝,4.71(1H,q,J=9.2-9.9Hz), 4.90(1H,d,J=
8.6Hz), 5.00-5.18 ｛3H,m[5.02((1H,d,J=11.9Hz), 5.0
9(1H,d,J=11.9Hz)を含む] ｝, 5.43(1H,d,d,J=9.2, 10.
6Hz), 6.88-7.01 ｛2H,m｛6.94(1H,s)を含む｝, 7.10-
7.21(5H,m), 7.22-7.46(25H,m) 実施例IV(b)カルボキシメチル ２−デオキシ−２−（２，２−ジフ
ルオロテトラデカナミド）−４−Ｏ−ジフェニルフォス
フィニル−３−Ｏ−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイ
ルオキシ）テトラデカノイル〕−β−Ｄ−グルコピラノ
サイド 実施例IV(a) で得られた化合物５３０mg（0.365mmol)を
乾燥テトラヒドロフラン５mlに溶解し、１０％パラジウ
ム−炭素５０mgを加え、水素ガス気流中、水素化分解反
応を室温にて３時間行なった。反応液を濾過、濃縮し、
シリカゲルカラムに付し、酢酸エチル：メタノール（１
０：１）にて精製し、目的化合物を３４０mg（８１％）
得た。

【０２２６】赤外線吸収スペクトル νmax (CHCl₃) 3330,2920,2845,1745,1725,1700,1590,1490,1463,1280,
1185,1160,1023,955cm^{-1 1} H-NMR ２７０MHz δppm （DMSO-d₆+D₂O) 0.85(9H,t,J=6.6Hz), 0.95-1.55(62H,m), 1.86-2.11(4
H,m), 2.30-2.41(2H,m), 3.35-3.50(1H,m), 3.57-3.68
(2H,m), 3.70-3.77(1H,m), 3.83-3.95(2H,m), 4.64(1H,
q,J=8.8Hz), 4.90(1H,d,J=8.1Hz), 4.92-5.05(1H,m),
5.32(1H,t,J=9.5Hz), 6.75(1H,d,J=8.8Hz), 7.12-7.28
(6H,m), 7.35-7.43(4H,m) 実施例IV(c) （例示化合物番号：１１６）カルボキシメチル ２−デオキシ−２−（２，２−ジフ
ルオロテトラデカナミド）−４−Ｏ−ホスホノ−３−Ｏ
−〔（３Ｒ）−３−（テトラデカノイルオキシ）テトラ
デカノイル〕−β−Ｄ−グルコピラノサイド 実施例IV(b) で得られた化合物１１０mg（0.095mmol)を
乾燥テトラヒドロフラン５mlに溶解し、酸化白金５０mg
を加え、水素ガス気流中、水素化分解反応を室温にて３
時間行なった。反応液を濾過、濃縮し、目的化合物を６
５mg（６８％）得た。

【０２２７】赤外線吸収スペクトル νmax (KBr) 3294,2957,2920,2851,1731,1670,1554,1468,1191,1165,
1111,1074 cm^-1 実施例V ： マクロファージ活性試験 1 マウスマクロファージ系細胞株 J774.1 を用いて、in v
itro で TNFαを産生させた。産生された TNFαはエン
ドジェン（ ENDOGEN ）社の ELISA KITにより定量し
た。

【０２２８】評価方法は、西島らの方法（プロシーディ
ングズ・オブ・ザ・ナチュラル・アカデミー・オブ・サ
イエンシズ・オブ・ＵＳＡ、第８２巻２８２頁（１９８
５年）、[Proc.Natl.Acad.Sci.USA.,82,282(1985)]）に
より行った。

【０２２９】10 ng/mlの LPS( リポポリサッカライド)
により、６時間の間に J774.1 細胞10⁵個につき約 10 n
gの TNFαが産生された（標準産生量：100%とする）。

【０２３０】マクロファージ活性化試験（アゴニスト試
験）については、LPS 非存在下、実施例の化合物による
TNFαの産生量が標準産生量の５０％に達する濃度を求
め、ＥＤ₅₀として表した。

【０２３１】マクロファージ抑制試験（アンタゴニスト
試験）については、LPS 10 ng/ml存在下、実施例化合物
存在下での TNFαの産生量を標準産生量の５０％に抑制
する濃度を求め、ＥＤ₅₀として表した。

【０２３２】各化合物の細胞毒性については、実施例各
化合物存在下での６時間後の J774.1 細胞の細胞生存率
(cell viability) を MTT法により測定し、化合物非存
在下での細胞生存率 (cell viability) の５０％に抑制
する濃度をＩＣ₅₀で表した。

【０２３３】

【表２】 ──────────────────────────────────── 実施例 化合物Ｎｏ． ＥＤ₅₀ ＩＣ₅₀ ＥＤ₅₀／ＩＣ₅₀ ( μM ) ( μM ) ────────────────────────────────── アゴニスト (Ij) １．６ ５６ ３５ ────────────────────────────────── アンタゴニスト (IIIf) ０．３６ ＞１００ ＞２８０ ────────────────────────────────────マクロファージ活性試験 2 遊離［¹⁴C ］プロスタグランジンＤ₂ の測定 マクロファ−ジ活性化作用とプロスタグランジンＤ₂ 遊
離作用は相関関係があるので［ゾエラ−等、ジャーナル
・オブ・ザ・バイオロジカル・ケミストリー、第２６２
巻、３５号、１７２１２頁（１９８７年）J.Biol.Che
m., 262,17212-17220(1987) ］、これについて試験を行
なった。細胞を、各1 mlの培養液の入った12穴の培養皿
に、1 穴当たり5 x 10⁵ 個蒔き、これを37℃で一夜培養
した。これに、0.1 μCi/ml の［¹⁴C ］アラキドン酸を
加え、18時間標識を行なった。各穴を0.5 mlの培養液で
3 回洗浄し、被検化合物を加えた後、37℃で12時間培養
した。その培養液を採取し、5 分間遠心して細胞を除い
た。この培養液を酸性にして、遊離したプロスタグラン
ジンD₂をクロロホルム：エタノール（２：１、容積比）
で抽出し、クロロホルム、酢酸エチル、エタノール、酢
酸（２０：２０：４：１、容積比）の展開溶媒系で薄層
クロマトグラフィ−を行ない、分離した。ラベルされた
プロスタグランジンD₂をオ−トラジオグラフィ−にて同
定し、放射活性に対応した部位を薄層からかき取り、液
体シンチレ−ションカウンタ−で測定し、 LPS( リポポ
リサッカライド) により遊離されたプロスタグランジン
の値と比較した。

【０２３４】

【表３】 ─────────────────────────────────── 化合物番号 プロスタグランジンD₂ （濃度） （カウント／分） ─────────────────────────────────── アゴニスト ＬＰＳ (1 μg/ml) ８３２８ ────────────────────────────────── (Ij) (10μM) ５２４１ (IIIf) (10μM) ２７４１ ───────────────────────────────────

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/70 ＡＥＤ Ｃ０７Ｈ 11/04 (72)発明者 荒井 雅巳 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 西島 正弘 神奈川県川崎市宮前区宮前平１−４−29− Ａ−101 (72)発明者 赤松 穣 東京都杉並区清水１−26−21

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式 【化１】 ［式中、Ｒ¹ は水素原子又はカルボキシル基の保護基を
   示し、Ｒ² 及びＲ³ は同一又は異って下記（置換基Ａ
   群）より選択された基で、少なくとも１個以上置換され
   ていてもよい炭素数６乃至２０個のアルカノイル基を示
   し、Ｒ⁴ は水素原子；同一又は異って下記（置換基Ｂ
   群）より選択された基で、少なくとも１個以上置換され
   ていてもよいベンジル基；同一又は異って下記（置換基
   Ｂ群）より選択された基で、少なくとも１個以上置換さ
   れていてもよいフェニル基を示し、Ｒ⁵は水素原子；水
   酸基の保護基を示し、ｎは１乃至１８を示す。 （置換基Ａ群）ハロゲン原子；保護されてもいてもよい
   水酸基；ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６
   乃至２０個のアルカノイルオキシ基 （置換基Ｂ群）Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ基；ニトロ基 ］で表わされる化合物及びその塩。
2. 【請求項２】Ｒ¹ が水素原子；ジＣ₆ −Ｃ₁₀アリールメ
   チル基；又はＣ₂ −Ｃ₅ アルカノイルオキシメチル基で
   あり、ｎが１乃至１０であり、Ｒ² 及びＲ³ がＣ₁₀−Ｃ
   ₁₈アルカノイル基であり、同基の置換基が、（置換基Ａ
   群）より選択された１乃至１０個の、フッ素原子、塩素
   原子；保護されていてもよい水酸基；又はフッ素、塩素
   原子で置換されていてもよいＣ₁₀−Ｃ₁₈アルカノイルオ
   キシ基であり、Ｒ⁴ は水素原子；フェニル基；又はアル
   コキシ基で置換されていてもよいベンジル基であり、Ｒ
   ⁵ が水素原子、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルカノイル基、ハロゲノＣ
   ₂ −Ｃ₄ アルカノイル基；又はアラルキルオキシカルボ
   ニル基である請求項１に記載の化合物及びその塩。
3. 【請求項３】Ｒ¹ が水素原子であり、ｎが１乃至６であ
   り、Ｒ² 及びＲ³ が１乃至５個の、フッ素原子；水酸
   基；若しくはフッ素、塩素原子で置換されていてもよい
   Ｃ₁₂−Ｃ₁₈アルカノイルオキシ基で置換されていてもよ
   いＣ₁₂−Ｃ₁₈アルカノイル基であり、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ が水素
   原子である請求項１に記載の化合物及びその塩。
4. 【請求項４】Ｒ¹ が水素原子であり、ｎが１又は２であ
   り、Ｒ² が１又は２個の、フッ素若しくは塩素原子で置
   換されていてもよいＣ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイル基であり、
   Ｒ³がＣ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイルオキシ基置換されていて
   もよいＣ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイル基であり、Ｒ⁴ 及びＲ⁵
   が水素原子である請求項１に記載の化合物及びその塩。
5. 【請求項５】Ｒ¹ が水素原子であり、ｎが３又は４であ
   り、Ｒ² が１又は２個の、フッ素若しくは塩素原子で置
   換されていてもよいＣ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイル基であり、
   Ｒ³が１乃至２個の、Ｃ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイルオキシ基
   置換されていてもよいＣ₁₄−Ｃ₁₆アルカノイル基であ
   り、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ が水素原子である請求項１に記載の化
   合物及びその塩。
6. 【請求項６】請求項４に記載の化合物を有効成分とする
   抗炎症症剤、抗自己免疫疾患剤又は免疫抑制剤。
7. 【請求項７】請求項５に記載の化合物を有効成分とする
   免疫賦活剤又は抗腫瘍剤。