JPH07243815A - 寸法測定装置および変位測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 少ないセンサ数の簡単な構成によって、広範
囲にわたる高さまたは厚さあるいはこれらの変位を高精
度に測定できる測定装置を提供する。 【構成】 測定対象物１１の表面に対して斜め上方の位
置に配置され、等間隔の平行な複数本の測定用光１５を
順次タイミングを異ならせて照射する投光器１３と、測
定対象物１１の表面に対して垂直上方でかつ投光器１３
とほぼ同一の高さ位置に配置され、投光器１３からの測
定用光１５の測定対象物１１による散乱光１６を検出し
て該散乱光の入射位置に対応した信号を出力するポジシ
ョニングセンサ１８と、このセンサ１８の出力と複数本
の測定用光１６のうち散乱光１５としてポジショニング
センサ１８により検出された測定用光の位置とから測定
対象物１１の高さまたは厚さを求める演算回路２１とを
有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、測定対象物の高さまた
は厚さを測定する寸法測定装置および寸法の変位を測定
する変位測定装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】測定対象物の高さを測定する測定装置と
して、三角測量の原理を利用したものが知られている。
図４、図５にその具体例を示す。図４に示す変位測定装
置においては、測定対象物１０１の垂直上方より投光器
１０２によって測定用光１０３を測定対象物１０１に照
射し、測定対象物１０１の表面で散乱された散乱光１０
４を受光レンズ１０５を介してポジショニングセンサ１
０６に導く。ポジショニングセンサ１０６からは散乱光
１０４の入射位置に対応した出力が得られる。そこで、
ポジショニングセンサ１０６の出力から図示しない演算
回路で散乱光１０４の入射角度を求め、この入射角度か
ら三角測量の原理で測定対象物１０１の高さを算出す
る。

【０００３】一方、図５に示す高さ測定装置において
は、測定対象物１０１の垂直上方より投光器１０２によ
って測定用光１０３を測定対象物１０１に照射し、測定
対象物１０１の表面で散乱された散乱光１０４をスリッ
トを有する遮蔽管１０７の内側に配置された光電子増倍
管１０８によって検出する。遮蔽管１０７を矢印で示す
ように回転させると、光電子増倍管１０８は散乱光１０
４の入射角度に応じたタイミングで間欠的に散乱光１０
４を検出することになる。そこで、光電子増倍管１０８
による散乱光１０４の検出タイミングから散乱光１０４
の入射角度を求め、この入射角度から三角測量の原理で
測定対象物１０１の高さを算出する。

【０００４】このような高さ測定装置において、測定対
象物として種々の高さのものがあると、それだけ測定範
囲は広くなる。測定範囲が広くなると、センサ（ポジシ
ョニングセンサ１０６等）の分解能が固定であれば、測
定範囲が広がる分だけ測定精度が低下する。

【０００５】例えば、個々の測定対象物毎に高さ測定を
行い、その測定結果に基づいて厚さを一定にする制御を
行う圧延ラインでは、高さの変位を精度良く測定するこ
とが要求される。すなわち、高さ変位の測定には広い測
定範囲にわたって高い測定精度が要求される。しかし、
上述した従来の高さ測定装置ではこの要求を満たすこと
が難しい。

【０００６】この要求に対しては、高さ測定範囲が広い
場合、センサの数を増やして測定精度の低下を防ぐ方法
が考えられる。しかし、圧延ラインにおいて数点の高さ
測定を行う場合には、必要なセンサ数が極めて多くなる
ため、高さ測定のための回路部も含めて測定装置全体が
複雑かつ大規模なシステムとなってしまい、現実性に乏
しい。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の高さ測定装置では広い測定範囲にわたる高さ測定を高
精度に行うことが難しく、また測定範囲が広い場合にセ
ンサ数を増やして測定精度を確保しようとすると、極め
て多数のセンサが必要となり、構成が複雑かつ大規模と
なってしまうという問題があった。

【０００８】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたもので、センサ数の少ない簡単な構成によ
って、広範囲にわたる高さまたは厚さ、さらにはこれら
の変位を高精度に測定できる測定装置を提供することを
目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明は測定対象物の表面に対して斜め上方の位置
に配置され、等間隔の平行な複数本の測定用光を順次タ
イミングを異ならせて照射する光照射手段と、前記測定
対象物の表面に対して垂直上方でかつ前記光照射手段と
ほぼ同一の高さ位置に配置され、前記光照射手段からの
測定用光の前記測定対象物による散乱光を検出して該散
乱光の入射位置に対応した信号を出力する検出手段と、
この検出手段の出力と前記複数本の測定用光のうち前記
散乱光として前記検出手段により検出された測定用光の
位置とから前記測定対象物の高さまたは厚さを求める演
算手段とを具備することを特徴とする。

【００１０】ここで、前記演算手段は、より具体的には
前記検出手段が前記散乱光を検出したタイミングから該
散乱光が前記複数本の測定用光のうちのどの測定用光に
よるものかを認識し、この認識結果と前記検出手段の出
力から前記測定対象物の高さまたは厚さを求める。

【００１１】また、本発明は測定対象物の表面に対して
斜め上方の位置に配置され、等間隔の平行な複数本の測
定用光を順次タイミングを異ならせて照射する第１の光
照射手段と、前記測定対象物の裏面に対して斜め下方の
位置に配置され、等間隔の平行な複数本の測定用光を順
次タイミングを異ならせて照射する第２の光照射手段
と、前記測定対象物の表面に対して垂直上方でかつ前記
第１の光照射手段とほぼ同一の高さ位置に配置され、前
記第１の光照射手段からの測定用光の該測定対象物によ
る散乱光を検出して該散乱光の入射位置に対応した信号
を出力する第１の検出手段と、前記測定対象物の表面に
対して垂直下方でかつ前記第２の光照射手段とほぼ同一
の高さ位置に配置され、前記第２の光照射手段からの測
定用光の該測定対象物による散乱光を検出して該散乱光
の入射位置に対応した信号を出力する第２の検出手段
と、前記第１の検出手段の出力から前記測定対象物の表
面の高さを求める第１の演算手段と、前記第２の検出手
段の出力から前記測定対象物の裏面の高さを求める第２
の演算手段とを具備することを特徴とする。

【００１２】

【作用】このように本発明の測定装置では、測定対象物
の表面に対して斜め上方の位置から等間隔の平行な複数
本の測定用光を順次タイミングを異ならせて照射し、測
定対象物の表面に対して垂直上方の位置で測定対象物に
よる測定用光の散乱光を検出して、散乱光の入射位置と
散乱光として検出される測定用光の位置から測定対象物
の高さまたは厚さを演算により求める。

【００１３】すなわち、測定対象物の高さまたは厚さが
僅かに変化すると、測定対象物に照射された測定用光の
散乱位置が変化して、検出手段に対する散乱光の入射位
置が変化する。また、測定対象物の高さまたは厚さが大
きく変化すると、検出手段により散乱光として検出され
る測定用光の位置が異なってくる。この場合、高さまた
は厚さの測定精度は検出手段の分解能で決まり、測定範
囲は複数本の測定用光の照射範囲により決まる。

【００１４】従って、複数本の測定用光の照射範囲を広
くすることにより、広範囲にわたって高精度に測定対象
物の高さまたは厚さを測定することが可能となる。ま
た、本発明では高さまたは厚さの変位を測定することも
でき、その場合は高さまたは厚さの測定時よりさらに高
い測定精度が得られる。

【００１５】さらに、測定対象物の表面および裏面につ
いてもそれぞれ上記と同様の測定を行うことができ、そ
の場合には測定対象物が基準面に置かれていない場合で
も、高さまたは厚さの測定が可能となる。

【００１６】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。まず、図１（ａ）（ｂ）を用いて本発明における
高さまたは厚さの測定原理を説明する。図１（ａ）に示
すように、測定対象物１を基準面２の上におき、測定対
象物１の表面に対して斜めの位置ｂ１〜ｂ７から等間隔
の平行な複数本の測定用光３を照射する。そして、測定
対象物１の表面で散乱された散乱光４を測定対象物１の
表面に対して垂直の位置に設けられた散乱位置検出器５
に入射し、散乱光４の入射位置に対応した出力を得る。
ここで、複数本の測定用光３の間隔は、２本以上の測定
用光の測定対象物１による散乱光が同時に散乱位置検出
器５に入射しない条件に設定される。

【００１７】まず、測定対象物１の表面から散乱位置検
出器５までの距離ｙ１を以下のようにして求める。今、
複数本の測定用光３の水平方向の間隔（ｂ１〜ｂ７の間
隔）をｈ、測定対象物１の表面に対する測定用光３の入
射角をθ、測定用光３と散乱位置検出器５の受光面端間
の水平距離をＬとし、また散乱位置検出器５における散
乱光４の入射位置（入射位置と受光面端間の水平距離）
をｘ１とする。

【００１８】図１（ａ）の例の場合、散乱位置検出器５
にはｂ４の位置（散乱位置検出器５の受光面端から距離
Ｌ＋３ｈの位置）から照射された測定用光による散乱光
４が入射している。ここで、検査対象物１に対して複数
本の測定用光３をタイミングを異ならせて順次選択的に
照射すると、散乱光位置検出器５が散乱光４を検出した
タイミングから、散乱位置検出器５に入射する散乱光４
がｂ１〜ｂ７のうちのどの位置から照射された測定用光
によるものであるかが分かり、この場合はｂ４の位置
（散乱位置検出器５の受光面端から距離Ｌ＋３ｈの位
置）から照射された測定用光によるものであることが認
識される。従って、測定対象物１の表面から散乱位置検
出器５までの距離ｙ１は、次式により求めることができ
る。

【００１９】 ｙ１＝ｃｏｔａｎθ（ｘ１＋Ｌ＋３ｈ） （１） 測定対象物１の裏面（基準面２）と散乱位置検出器５と
の距離ｚは固定であるので、測定対象物１の高さは、次
式で求まる。

【００２０】 ｚ−ｙ１＝ｚ−ｃｏｔａｎθ（ｘ１＋Ｌ＋３ｈ） （２） 次に、対象物１の高さが図１（ａ）の場合と比較的大き
く異なる場合について図１（ｂ）を用いて説明する。

【００２１】図１（ｂ）の場合、散乱位置検出器５にお
ける散乱光４の入射位置はｘ２である。また、図１
（ａ）の例の場合と同様に、検査対象物１に対して複数
本の平行な測定用光３をタイミングを異ならせて順次選
択的に照射することにより、散乱光位置検出器５が散乱
光４を検出したタイミングから、散乱位置検出器５に入
射する散乱光４はｂ２の位置から照射された測定用光に
よるものであることが認識される。

【００２２】従って、測定対象物１の表面から散乱位置
検出器５までの距離ｙ２は、 ｙ２＝ｃｏｔａｎθ（ｘ１＋Ｌ＋ｈ） （３） となり、測定対象物１の高さは、 ｚ−ｙ２＝ｚ−ｃｏｔａｎθ（ｘ１＋Ｌ＋ｈ） （４） で求められる。

【００２３】この場合、高さ測定精度は散乱位置検出器
５の分解能で決まるため、この散乱位置検出器５の検出
範囲ａが狭ければ散乱位置の検出精度が高くなる。ま
た、測定範囲は複数本の測定用光３の照射範囲に依存
し、図１の例の場合は測定用光３は７本であるため、
（７−１）・ｈ＝６・ｈで決まることになる。従って、
測定用光３の本数を増やすことにより、広範囲にわたっ
て散乱位置検出器５の分解能で定まる高精度の高さ測定
が可能となる。

【００２４】ところで、図１の場合、ｂ１〜ｂ７の間隔
ｈの誤差（Δｈとする）や、測定対象物１に対する測定
用光３の入射角θの誤差（Δθとする）が散乱位置検出
器５での検出精度の低下要因となり、これは結果的に高
さ測定誤差となる。この高さ測定誤差Δｙは、次式で与
えられる。

【００２５】 Δｙmax ＝ｃｏｔａｎθ・（Δｈ・ｎ） ＋｛ｃｏｔａｎθ−ｃｏｔａｎ（θ＋Δθ）｝・（ｘ＋Ｌ＋ｈ・ｎ） （５） 但し、Δｙmax は高さ測定誤差の最大値、ｎは散乱位置
検出器５に入射した散乱光４となる測定用光３がｂｍの
位置から照射された場合にｎ＝ｍ−１で表される数、ｘ
は散乱位置検出器５での散乱光４の検出位置である。

【００２６】一方、高さ変位測定誤差Δｘは次式で求め
られる。 Δｘmax ＝｛ｃｏｔａｎθ−ｃｏｔａｎ（θ＋Δθ）｝・ａ （６） 但し、Δｘmax ａは高さ変位測定誤差の最大値、散乱位
置検出器５の検出範囲である。

【００２７】一般に、ａ＜＜（ｘ＋Ｌ＋ｈ・ｎ）である
から、式（５）（６）より高さ測定精度に対し、より高
精度の高さ変位測定精度が得られることが分かる。図２
は、本発明の一実施例に係る測定装置の構成を示す図で
ある。同図に示すように、測定対象物１１は水平な基準
面１２に置かれている。この測定対象物１１の斜め上方
の位置に、投光器１３が配置されている。この投光器１
３は、例えばレーザ発振器またはＬＥＤなどの発光素子
を等間隔で水平方向に配列して構成され、各発光素子は
測定対象物１１に向けて配置されている。そして、この
投光器１３は駆動回路１４によって駆動されることによ
り、各々の発光素子から等間隔の平行な複数本の測定用
光１５を順次タイミングを異ならせて測定対象物１１に
照射する。

【００２８】一方、測定対象物１１の垂直上方、かつ投
光器１３とほぼ同一の高さ位置に、測定用光１５の測定
対象物１１による散乱光１６を受光レンズ１７を介して
受光するようにポジショニングセンサ１８が配置されて
いる。このポジショニングセンサ１８は、例えばＰＳＤ
(Position Sensitive Detector) またはＣＣＤセンサに
より構成され、測定対象物１１による散乱光１６を検出
してその入射位置に対応した信号（位置検出出力１９）
を出力する。言い換えれば、ポジショニングセンサ１８
は図１（ａ）（ｂ）における散乱位置検出器５に相当
し、測定対象物１１上の散乱光１６の散乱位置を検出す
る。

【００２９】ポジショニングセンサ１８からの位置検出
出力１９は、駆動回路１４からのタイミング信号２０と
ともに演算回路２１に入力される。タイミング信号２０
は、駆動回路１４が投光器１３がどの発光素子を駆動し
たかを示す信号、つまり複数本の測定用光１５のうちど
の測定用光が測定対象物１１に照射されたかを示す信号
である。演算回路２１は、ポジショニングセンサ１８へ
の散乱光１６の入射位置を示す位置検出出力１９と、駆
動回路１４からのタイミング信号２０に基づいて、式
（１）と同様にして測定対象物１１の表面からポジショ
ニングセンサ１８までの距離ｙを求め、式（２）と同様
に距離ｙを測定対象物１１の裏面（基準面１２）からポ
ジジョニングセンサ１８までの距離ｚ（既知）から差し
引くことにより、測定対象物１１の高さを求め、測定結
果２２を出力する。

【００３０】図３は、本発明の他の実施例に係る高さ測
定装置の構成を示す図である。図３において、レーザ光
源３１からのレーザ光はポリゴンミラー３２に入射され
る。ポリゴンミラー３２は、駆動回路３３により駆動さ
れて矢印方向に回転することによって、入射したレーザ
光を偏向走査する。偏向走査されたレーザ光は、レンズ
３４により同一方向に向かう平行光とされ、複数のスリ
ットを有するスリット板３５に入射する。スリット板３
５の各スリットを通過したレーザ光は、各スリットに対
応した設けられたミラー３６によって反射され、測定対
象物１１の斜め上方から等間隔の平行な複数本の測定用
光３７として測定対象物１１に順次タイミングを異なら
せて照射される。

【００３１】一方、本実施例ではポジショニングセンサ
に代えて、スリット４０を有する遮蔽管３９とその内側
に配置された光電子増倍管４１を用いている。遮蔽管３
９は矢印で示すように回転する。すなわち、測定対象物
１１による測定用光３７の散乱光３８は、スリット４０
を通過して光電子増倍管４１に入射する。この場合、遮
蔽管３９の１回転時のどのタイミング（回転位相）で光
電子増倍管４１が散乱光３８を受光したかにより、散乱
光３８の散乱位置を検出することができ、光電子増倍管
４１は、この散乱位置を示す位置検出出力４２を発生す
る。

【００３２】光電子増倍管４１からの位置検出出力４２
は、ポリゴンミラー３２を回転させる駆動回路３３から
のタイミング信号４３とともに演算回路４４に入力され
る。タイミング信号４３は、駆動回路３３によるポリゴ
ンミラー３２の回転位相を示す信号、つまり複数本の測
定用光３７のうちどの測定用光が測定対象物１１に照射
されたかを示す信号である。

【００３３】演算回路４４は、光電子増倍管４１からの
散乱光３８の入射位置を示す位置検出出力４２と、駆動
回路３３からのタイミング信号４３に基づいて、式
（１）と同様にして測定対象物１１の表面から光電子増
倍管４１までの距離ｙを求め、式（２）と同様に距離ｙ
を測定対象物１１の裏面（基準面１２）からポジジョニ
ングセンサ１８までの距離ｚ（既知）から差し引くこと
により、測定対象物１１の高さを求め、測定結果４５を
出力する。

【００３４】なお、本発明は上述した実施例に限定され
るものではなく、種々変形して実施することができる。
例えば、上記実施例では高さ測定の場合について述べた
が、基準面からの測定対象物の表面までの高さは測定対
象物の厚さでもあるので、全く同様の構成で厚さ測定に
も適用することができる。また、本発明は高さや厚さそ
のものでなく、これら高さまたは厚さの変位の測定にも
適用できることはいうまでもない。さらに、高さまたは
厚さの分布あるいは高さまたは厚さの変位の分布を測定
することも可能である。その場合、受光系（散乱位置検
出器５、ポジショニングセンサ１８、光電子増倍管４１
等）を同一平面上に複数個配列することにより、広範囲
の分布を測定することができる。

【００３５】また、上記実施例では測定対象物の表面の
高さを測定したが、測定対象物の表面および裏面の両方
に対して上記実施例と同様の構成の測定装置を配置して
もよい。すなわち、測定対象物の表面に対して斜め上方
の位置および斜め下方の位置に、等間隔の平行な複数本
の測定用光を順次タイミングを異ならせて照射する第１
および第２の光照射手段をそれぞれ配置するとともに、
測定対象物の表面に対して垂直上方および垂直下方でか
つ第１および第２の光照射手段とほぼ同一の高さ位置
に、第１および第２の光照射手段からの測定用光の該測
定対象物による散乱光を検出して該散乱光の入射位置に
対応した信号を出力する第１および第２の検出手段をそ
れぞれ配置し、第１の検出手段の出力から第１の演算手
段により測定対象物の表面の高さを求め、第２の検出手
段の出力から第２の演算手段により測定対象物の裏面の
高さを求める構成とする。

【００３６】このようにすると、上記実施例のように測
定対象物を基準面の上に置いて測定を行う必要がなく、
測定対象物の表裏両面の高さ位置が不定の場合でも、高
さまたは厚さ、あるいは高さまたは厚さの変位を測定す
ることが可能である。また、本発明は光照射手段と検出
手段の位置を入れ替えても同様に実施することができ
る。

【００３７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば測
定対象物の表面に対して斜め上方の位置から等間隔の平
行な複数本の測定用光を順次タイミングを異ならせて照
射し、測定対象物の表面に対して垂直上方の位置で測定
対象物による測定用光の散乱光を検出して、散乱光の入
射位置と散乱光として検出される測定用光の位置から測
定対象物の高さまたは厚さを演算により求めることによ
り、高さまたは厚さあるいはこれらの変位を多数のセン
サを用いることなく簡単な構成で広範囲にわたって高精
度に測定することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による高さ測定の原理を説明するための
図

【図２】本発明の一実施例に係る高さ測定装置の構成を
示す図

【図３】本発明の他の実施例に係る高さ測定装置の構成
を示す図

【図４】従来の高さ測定装置の一例を示す図

【図５】従来の高さ測定装置の他の例を示す図

【符号の説明】

１…測定対象物 ２…基準面 ３…測定用光 ４…散乱光 ５…散乱位置検出器 １１…測定対象物 １２…基準面 １３…投光器 １４…投光器駆動回路 １５…測定用光 １６…散乱光 １７…受光レン
ズ １８…ポジショニングセンサ １９…位置検出
出力 ２０…タイミング信号 ２１…演算回路 ２２…測定結果 ３１…レーザ光
源 ３２…ポリゴンミラー ３３…ポリゴン
ミラー駆動回路 ３４…レンズ ３５…スリット
板 ３６…ミラー ３７…測定用光 ３８…散乱光 ３９…遮蔽管 ４０…スリット ４１…光電子増
倍管 ４２…位置検出出力 ４３…タイミン
グ信号 ４４…演算回路 ４５…測定結果

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】測定対象物の表面に対して斜め上方の位置
   に配置され、等間隔の平行な複数本の測定用光を順次タ
   イミングを異ならせて照射する光照射手段と、 前記測定対象物の表面に対して垂直上方でかつ前記光照
   射手段とほぼ同一の高さ位置に配置され、前記光照射手
   段からの測定用光の前記測定対象物による散乱光を検出
   して該散乱光の入射位置に対応した出力を発生する検出
   手段と、 この検出手段の出力と前記複数本の測定用光のうち前記
   散乱光として前記検出手段により検出された測定用光の
   位置とから前記測定対象物の高さまたは厚さを求める演
   算手段とを具備することを特徴とする寸法測定装置。
2. 【請求項２】前記演算手段は、前記検出手段が前記散乱
   光を検出したタイミングから該散乱光が前記複数本の測
   定用光のうちのどの測定用光によるものかを認識し、こ
   の認識結果と前記検出手段の出力から前記測定対象物の
   高さまたは厚さを求めることを特徴とする請求項１に記
   載の寸法測定装置。
3. 【請求項３】前記光照射手段は、前記測定対象物の斜め
   上方に前記測定対象物に向けて等間隔で配置された複数
   の光源と、これら複数の光源を順次タイミングを異なら
   せて選択的に駆動する駆動手段とを有し、前記複数の光
   源からの光を前記等間隔の平行な複数本の測定用光とし
   て前記測定対象物に照射することを特徴とする請求項１
   に記載の寸法測定装置。
4. 【請求項４】前記光照射手段は、レーザ光源と、このレ
   ーザ光源からのレーザ光を反射させる回転可能に設けら
   れたミラーと、このミラーにより反射されかつ該ミラー
   の回転に伴い偏向走査されたレーザ光を同一方向に向か
   う平行光とするためのレンズとを有し、前記レンズによ
   り平行光とされたレーザ光を前記測定対象物の斜め上方
   から前記等間隔の平行な複数本の測定用光として前記測
   定対象物に照射することを特徴とする請求項１に記載の
   寸法測定装置。
5. 【請求項５】測定対象物の表面に対して斜め上方の位置
   に配置され、等間隔の平行な複数本の測定用光を順次タ
   イミングを異ならせて照射する第１の光照射手段と、 前記測定対象物の裏面に対して斜め下方の位置に配置さ
   れ、等間隔の平行な複数本の測定用光を順次タイミング
   を異ならせて照射する第２の光照射手段と、 前記測定対象物の表面に対して垂直上方でかつ前記第１
   の光照射手段とほぼ同一の高さ位置に配置され、前記第
   １の光照射手段からの測定用光の前記測定対象物による
   散乱光を検出して該散乱光の入射位置に対応した信号を
   出力する第１の検出手段と、 前記測定対象物の表面に対して垂直下方でかつ前記第２
   の光照射手段とほぼ同一の高さ位置に配置され、前記第
   ２の光照射手段からの測定用光の前記測定対象物による
   散乱光を検出して該散乱光の入射位置に対応した信号を
   出力する第２の検出手段と、 前記第１の検出手段の出力から前記測定対象物の表面の
   高さを求める第１の演算手段と、 前記第２の検出手段の出力から前記測定対象物の裏面の
   高さを求める第２の演算手段とを具備することを特徴と
   する寸法測定装置。
6. 【請求項６】請求項１乃至５のいずれかに記載の寸法測
   定装置を用いて前記測定対象物の高さまたは厚さの変位
   を測定することを特徴とする変位測定装置。