JPH0724726A - 研磨布 - Google Patents

研磨布

Info

Publication number
JPH0724726A
JPH0724726A JP5189420A JP18942093A JPH0724726A JP H0724726 A JPH0724726 A JP H0724726A JP 5189420 A JP5189420 A JP 5189420A JP 18942093 A JP18942093 A JP 18942093A JP H0724726 A JPH0724726 A JP H0724726A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
resin
woven fabric
polishing cloth
polysulfone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5189420A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2509870B2 (ja
Inventor
Kenichiro Shiozawa
健一郎 塩澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chiyoda Corp
Original Assignee
Chiyoda Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chiyoda Corp filed Critical Chiyoda Corp
Priority to JP5189420A priority Critical patent/JP2509870B2/ja
Publication of JPH0724726A publication Critical patent/JPH0724726A/ja
Priority to US08/396,929 priority patent/US5510175A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2509870B2 publication Critical patent/JP2509870B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/02—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
    • B24D3/20—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially organic
    • B24D3/28—Resins or natural or synthetic macromolecular compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D11/00—Constructional features of flexible abrasive materials; Special features in the manufacture of such materials
    • B24D11/02—Backings, e.g. foils, webs, mesh fabrics
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T442/00—Fabric [woven, knitted, or nonwoven textile or cloth, etc.]
    • Y10T442/20—Coated or impregnated woven, knit, or nonwoven fabric which is not [a] associated with another preformed layer or fiber layer or, [b] with respect to woven and knit, characterized, respectively, by a particular or differential weave or knit, wherein the coating or impregnation is neither a foamed material nor a free metal or alloy layer
    • Y10T442/2139—Coating or impregnation specified as porous or permeable to a specific substance [e.g., water vapor, air, etc.]
    • Y10T442/2148—Coating or impregnation is specified as microporous but is not a foam

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)
  • Nonwoven Fabrics (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 金属、半導体基盤、ガラス等の精密表面研磨
に使用される研磨布の品質改良を目的とする。 【構成】 人造繊維よりなる不織布をポリサルホン樹脂
とポリウレタン樹脂の混合樹脂溶液に含浸、湿式凝固、
水洗、乾燥して、不織布を微細気孔を内在するポリサル
ホン樹脂とポリウレタン樹脂との混合樹脂多孔体で結
合、固定化した研磨布。 【効果】 研磨加工工程で研磨布に加わる圧力と熱によ
る樹脂の変型が少なく、多孔構造が損われることがない
ため研磨砥粒の目づまりによる研磨傷の発生がなく、研
磨性能の低下が少なく且つ耐摩耗性のよい耐久性にすぐ
れた研磨布を提供することが出来る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は金属、半導体基盤、ガラ
ス等の表面精密研磨に使用される研磨布の品質改良に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来金属、シリコン、ガリウム・砒素等
の半導体基盤、ガラス、セラミックス等の表面を超精密
に研磨するために、一次研磨及び二次研磨に不織布にポ
リウレタン樹脂溶液を含浸し、非溶媒である水中にて、
湿式凝固させることにより、無数の細孔を含んだ微多孔
構造のポリウレタン樹脂で不織布繊維を結合、固定化し
た研磨布が使用されているがこれはポリウレタン多孔構
造が研磨砥粒を含む研磨液を保持すると同時に排出され
る機能があるためである。しかし多孔構造のポリウレタ
ン樹脂は研磨加工時に加わる圧力と温度によって変形し
やすく砥粒の目づまりによる研磨性能の低下、研磨傷の
発生等、品質、生産性に問題があった。更に最近、高
圧、高速研磨が要求されており、この傾向はますます顕
著になり、改良が必要とされている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のように
研磨工程で加わる圧力と温度によって多孔構造の変形が
なくしたがって研磨性能の低下、研磨砥粒の目づまりに
よる研磨傷の発生のない且つ耐摩耗性のよい、品質、生
産性及び耐久性の秀れた研磨布を提供するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、レーヨン、ポリエステル、ビニロン等の人造繊維よ
りなる不織布を、例えばジメチルホルムアミド、ジメチ
ルピロリドン等の有機溶媒にポリサルホン樹脂とポリウ
レタン樹脂を溶解した樹脂溶液に含浸し、ついで非溶媒
である水中に浸漬、凝固することにより形成される無数
の微細孔を有する多孔質のポリサルホンとポリウレタン
混合樹脂にて不織布を一体的に結合し固定化して構成し
ている。本発明に使用されるポリサルホン樹脂は芳香族
系ポリサルホン樹脂でポリサルホン、ポリアリルサルホ
ン、ポリエーテルサルホン樹脂等がある。又ポリウレタ
ン樹脂はウレタン結合を有する重合体でエステルタイ
プ、エーテルタイプ等のポリウレタン樹脂が使用出来
る。
【０００５】
【作用】上記の様に多孔構造のポリサルホンとポリウレ
タンの混合樹脂で不織布を結合、固定化した構造の研磨
布であるためポリサルホン樹脂の特性である秀れた耐熱
性、高い熱変形温度とポリウレタン樹脂の特性であるゴ
ム弾性と秀れた耐摩耗性により相互に各々がもっている
欠点を補うことにより更にポリサルホン樹脂とポリウレ
タン樹脂の混合比率によりその性能を調整することが出
来るため研磨する材料の性質、研磨加工条件及び要求さ
れる品質によりポリサルホンとポリウレタン樹脂の混合
比率を適宜調整することが出来る。さらに本発明による
湿式凝固法にて多孔構造を形成することが出来るためそ
の孔径、空孔率、孔の形状、強度等の性能を調整するこ
とが出来樹脂の混合比率による性能調整と相まって広い
範囲に研磨布としての性能をコントロールすることが出
来る。
【０００６】
【実施例】繊維織度１．５デニールのビニロン短繊維よ
りなるニードリング不織布（重量２２０ｇ／ｍ2 、密度
０．１８、厚さ１．２５ｍｍ）をポリサルホン樹脂（日
産化学ユーデルサルホン）７５％、エーテル型ポリウレ
タン樹脂２５％をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）で溶
解した樹脂溶液（樹脂固型分１８％重量比）に含浸し樹
脂付着量を１００％重量比とした。この含浸不織布を非
溶媒である水中に浸漬し完全に凝固させた后、水洗脱溶
剤、乾燥して多孔構造の上記配合樹脂でビニロン不織布
を結合、固定化されたシートを得た。このシートの表皮
層をスライサーで除去し厚さ１．１ｍｍ、重量４２０ｇ
／ｍ2 、密度０．３８ｇ／ｃｍ2 の研磨布を作成した。
この研磨布を使用し平均粒子径０．０５ミクロンのコロ
イダルシリカを含む研磨液でシリコンウエハーを研磨し
た結果目づまり発生までの時間が従来のウレタン樹脂に
よるものに比べ２．５倍長い結果が得られた。
【０００７】［実施例２］繊維織度１．５デニールのボ
リエステル繊維３０％、３．０デニールのビニロン繊維
７０％よりなるニードリング不織布（重量４０００ｇ／
ｍ2 、密度０．１３ｇ／ｍ3 、厚さ３０ｍｍ）をポリエ
ーテルサルホン（ＩＣＩ製）５５％、エステル型ポリウ
レタン樹脂４５％をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）に
溶解した樹脂溶液（樹脂固型分１６．５％重量比）に含
浸し樹脂付着量１４０％重量比とした。この含浸不織布
を非溶媒である水中に浸漬し、含浸した樹脂を完全に凝
固した后、充分水洗、脱溶剤、乾燥し、重量９５００ｇ
／ｍ2 、密度０．２９ｇ／ｃｍ3 、厚さ３３ｍｍの多孔
構造の上記組成樹脂で結合、固定化した不織布シートを
得た。このシートを円盤状に裁断成型しブラウン管用ガ
ラスを酸化セリウムを含む研磨液で研磨した結果従来の
ウレタン樹脂研磨布に比べ目づまりによる研磨傷の発生
と同時に研磨量の低下がなく且つウレタン樹脂研磨布と
同等の耐摩耗性がえられた。研磨傷による製品歩留を１
０％強向上することが出来た。同時に生産性を約２０％
向上することが出来た。
【０００８】
【発明の効果】本発明は多孔構造のポリサルホンとポリ
ウレタンとの混合樹脂でレーヨン、ビニロン、ポリエス
テル繊維等の人造繊維よりなる不織布を結合、固定化し
てなる研磨布であるため研磨工程で加わる圧力と熱によ
る樹脂の変型が少なく多孔構造が損われることがないた
め、研磨性能の低下が少なく、研磨砥粒の目づまりによ
る研磨傷の発生がなく、且つ耐摩耗のよい耐久性にすぐ
れた研磨布が提供できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｄ０４Ｈ 1/64 Ａ 7199−3Ｂ Ｄ０６Ｍ 15/564 15/63

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 人造繊維よりなる不織布をポリサルホン
    樹脂とポリウレタン樹脂の混合樹脂溶液に含浸し、湿式
    凝固、乾燥して不織布を微細気孔を内在する、ポリサル
    ホン樹脂とポリウレタン樹脂の混合樹脂多孔体で結合、
    固定化することを特徴とする研磨布。
JP5189420A 1993-06-30 1993-06-30 研磨布 Expired - Lifetime JP2509870B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5189420A JP2509870B2 (ja) 1993-06-30 1993-06-30 研磨布
US08/396,929 US5510175A (en) 1993-06-30 1995-03-01 Polishing cloth

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5189420A JP2509870B2 (ja) 1993-06-30 1993-06-30 研磨布
US08/396,929 US5510175A (en) 1993-06-30 1995-03-01 Polishing cloth

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0724726A true JPH0724726A (ja) 1995-01-27
JP2509870B2 JP2509870B2 (ja) 1996-06-26

Family

ID=26505463

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5189420A Expired - Lifetime JP2509870B2 (ja) 1993-06-30 1993-06-30 研磨布

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5510175A (ja)
JP (1) JP2509870B2 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007184638A (ja) * 2007-03-26 2007-07-19 Rohm & Haas Electronic Materials Cmp Holdings Inc 研磨パッドの製造方法
US7347328B2 (en) 2001-10-04 2008-03-25 Arca Systems Ag Collapsible container for transport and storage
JP2011212809A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Fujibo Holdings Inc 研磨パッド
JP2011230205A (ja) * 2010-04-26 2011-11-17 Fujibo Holdings Inc 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法
US8109402B2 (en) 2001-10-04 2012-02-07 Schoeller Arca Systems Ab Collapsible container for transport and storage
JP2012101333A (ja) * 2010-11-11 2012-05-31 Fujibo Holdings Inc 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法
JP2012529547A (ja) * 2009-06-10 2012-11-22 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア ポリウレタン分散液の製造における新規の溶媒
CN113370088A (zh) * 2021-04-02 2021-09-10 山东玻纤集团股份有限公司 一种玻纤增强砂轮网布智能化生产方法
JP2022157069A (ja) * 2021-03-31 2022-10-14 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 研磨パッド及びウェハ研磨方法
CN116926777A (zh) * 2023-07-20 2023-10-24 山东浩然特塑股份有限公司 一种含硅微球气凝胶修饰的超疏水多级结构聚砜纳米纤维织物及其制备方法和应用

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5858889A (en) * 1997-09-03 1999-01-12 Chin-San; Hsieh Environment-friendly active cloth and its manufacturing method
US6550092B1 (en) * 2000-04-26 2003-04-22 S. C. Johnson & Son, Inc. Cleaning sheet with particle retaining cavities
TW200521167A (en) * 2003-12-31 2005-07-01 San Fang Chemical Industry Co Polymer sheet material and method for making the same
US20070207687A1 (en) * 2004-05-03 2007-09-06 San Fang Chemical Industry Co., Ltd. Method for producing artificial leather
TWI275679B (en) * 2004-09-16 2007-03-11 San Fang Chemical Industry Co Artificial leather materials having elongational elasticity
US20080149264A1 (en) * 2004-11-09 2008-06-26 Chung-Chih Feng Method for Making Flameproof Environmentally Friendly Artificial Leather
US20080095945A1 (en) * 2004-12-30 2008-04-24 Ching-Tang Wang Method for Making Macromolecular Laminate
TWI297049B (en) * 2005-05-17 2008-05-21 San Fang Chemical Industry Co Artificial leather having ultramicro fiber in conjugate fiber of substrate
TW200641193A (en) * 2005-05-27 2006-12-01 San Fang Chemical Industry Co A polishing panel of micro fibers and its manufacturing method
US20080187715A1 (en) * 2005-08-08 2008-08-07 Ko-Feng Wang Elastic Laminate and Method for Making The Same
US20080220701A1 (en) * 2005-12-30 2008-09-11 Chung-Ching Feng Polishing Pad and Method for Making the Same
US20070155268A1 (en) * 2005-12-30 2007-07-05 San Fang Chemical Industry Co., Ltd. Polishing pad and method for manufacturing the polishing pad
TWI302575B (en) * 2006-12-07 2008-11-01 San Fang Chemical Industry Co Manufacturing method for ultrafine carbon fiber by using core and sheath conjugate melt spinning
TW200825244A (en) 2006-12-13 2008-06-16 San Fang Chemical Industry Co Flexible artificial leather and its manufacturing method
DE102013201663B4 (de) 2012-12-04 2020-04-23 Siltronic Ag Verfahren zum Polieren einer Halbleiterscheibe
DE102013211086A1 (de) 2013-06-14 2013-11-28 Siltronic Ag Verfahren zum Polieren einer Halbleiterscheibe
CN105773317A (zh) * 2014-12-15 2016-07-20 比亚迪股份有限公司 一种合金加工件的表面修饰方法
DE102016222063A1 (de) 2016-11-10 2018-05-17 Siltronic Ag Verfahren zum beidseitigen Polieren einer Halbleiterscheibe
JP6951895B2 (ja) * 2017-07-25 2021-10-20 ニッタ・デュポン株式会社 研磨布
DE102017217490A1 (de) 2017-09-29 2019-04-04 Siltronic Ag Verfahren zum beidseitigen Polieren einer Halbleiterscheibe
DE102018216304A1 (de) 2018-09-25 2020-03-26 Siltronic Ag Verfahren zum Polieren einer Halbleiterscheibe
EP4212280A1 (de) 2022-01-12 2023-07-19 Siltronic AG Verfahren zum aufbringen eines poliertuchs an einen polierteller
CN119036303B (zh) * 2024-08-05 2025-04-15 上海映智研磨材料有限公司 一种抛光垫及其制备方法和用途

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3067482A (en) * 1958-07-03 1962-12-11 Du Pont Sheet material and process of making same
US3504457A (en) * 1966-07-05 1970-04-07 Geoscience Instr Corp Polishing apparatus
US3579591A (en) * 1967-10-19 1971-05-18 Bayer Ag 4,4'-bis-(hydroxyarloxy)-phenylsulfone
US3701681A (en) * 1971-02-16 1972-10-31 Walter T Murphy Microporous coatings for textile fabrics from cements of polyurethane in dimethylformamide adjusted to ph range 3 to 6
DE2448133C2 (de) * 1974-10-09 1982-07-01 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur Beschichtung von Substraten
US4208486A (en) * 1977-05-17 1980-06-17 Exxon Research & Engineering Co. Stabilization of organic amide solvents and polymer solutions thereof
US4728552A (en) * 1984-07-06 1988-03-01 Rodel, Inc. Substrate containing fibers of predetermined orientation and process of making the same
US4627936A (en) * 1984-10-05 1986-12-09 Gould Paper Corp. Towel premoistened with antistatic solution for cleaning cathode-ray tubes and the like
US4927432A (en) * 1986-03-25 1990-05-22 Rodel, Inc. Pad material for grinding, lapping and polishing
US5171308A (en) * 1990-05-11 1992-12-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polyesters and their use in compostable products such as disposable diapers
US5094914A (en) * 1990-12-20 1992-03-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Microporous elastic segmented polyurethane shaped structure

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7347328B2 (en) 2001-10-04 2008-03-25 Arca Systems Ag Collapsible container for transport and storage
US8109402B2 (en) 2001-10-04 2012-02-07 Schoeller Arca Systems Ab Collapsible container for transport and storage
JP2007184638A (ja) * 2007-03-26 2007-07-19 Rohm & Haas Electronic Materials Cmp Holdings Inc 研磨パッドの製造方法
JP2012529547A (ja) * 2009-06-10 2012-11-22 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア ポリウレタン分散液の製造における新規の溶媒
JP2011212809A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Fujibo Holdings Inc 研磨パッド
JP2011230205A (ja) * 2010-04-26 2011-11-17 Fujibo Holdings Inc 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法
JP2012101333A (ja) * 2010-11-11 2012-05-31 Fujibo Holdings Inc 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法
JP2022157069A (ja) * 2021-03-31 2022-10-14 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 研磨パッド及びウェハ研磨方法
CN113370088A (zh) * 2021-04-02 2021-09-10 山东玻纤集团股份有限公司 一种玻纤增强砂轮网布智能化生产方法
CN116926777A (zh) * 2023-07-20 2023-10-24 山东浩然特塑股份有限公司 一种含硅微球气凝胶修饰的超疏水多级结构聚砜纳米纤维织物及其制备方法和应用

Also Published As

Publication number Publication date
US5510175A (en) 1996-04-23
JP2509870B2 (ja) 1996-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2509870B2 (ja) 研磨布
US6099954A (en) Polishing material and method of polishing a surface
KR900008335B1 (ko) 연삭, 랍핑 및 광택용 패드재료
EP0320146B1 (en) Glass polishing article
KR100767226B1 (ko) 연마기포 및 연마방법
CN105359258A (zh) 研磨垫及其制造方法
CN116766077B (zh) 一种cmp抛光垫及其制备方法
JPH058178A (ja) 半導体ウエハー研磨用クロス
JPH10249709A (ja) 研磨布
JPH0525635B2 (ja)
JPH0356870B2 (ja)
JPH10128674A (ja) 研磨用パッド
WO2026032144A1 (zh) 一种抛光垫及其制备方法和用途
JPH0959395A (ja) 研磨用パッド
JP2005335028A (ja) 精密研磨用の研磨布及びその製造方法
US20180036861A1 (en) Polishing pad, polishing apparatus and method for manufacturing polishing pad
JP2002154050A (ja) 研磨用パッドおよびそれを用いた研磨装置ならびに研磨方法
JPH1190836A (ja) 研磨布
JP2711469B2 (ja) 研磨クロスとその養生方法
JPH085014B2 (ja) 研磨布
JPH03234475A (ja) 研磨布
JP2002059358A (ja) 研磨用パッドおよびそれを用いた研磨装置ならびに研磨方法
JPH07108465A (ja) 研磨布
JP2010221316A (ja) 研磨布
JP2003124166A (ja) 研磨パッドおよびそれを用いた研磨装置及び研磨方法