JPH0725836A - ジノニルジフェニルアミンの製造法 - Google Patents
ジノニルジフェニルアミンの製造法Info
- Publication number
- JPH0725836A JPH0725836A JP5173894A JP17389493A JPH0725836A JP H0725836 A JPH0725836 A JP H0725836A JP 5173894 A JP5173894 A JP 5173894A JP 17389493 A JP17389493 A JP 17389493A JP H0725836 A JPH0725836 A JP H0725836A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dinonyldiphenylamine
- catalysts
- producing
- nonylaniline
- palladium
- Prior art date
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- Pending
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 脱水素触媒の存在下に、Ｎ−（ノニルシク
ロヘキシル）ノニルアニリンを脱水素反応させるジノニ
ルジフェニルアミンの製造法。 【効果】 高収率でジノニルジフェニルアミンが得ら
れる。
ロヘキシル）ノニルアニリンを脱水素反応させるジノニ
ルジフェニルアミンの製造法。 【効果】 高収率でジノニルジフェニルアミンが得ら
れる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ジノニルジフェニルア
ミンの新規な製造法に関する。本発明の方法によって得
られるジノニルジフェニルアミンは、鉱油、合成油等の
酸化防止剤、樹脂添加剤として有用な化合物である。
ミンの新規な製造法に関する。本発明の方法によって得
られるジノニルジフェニルアミンは、鉱油、合成油等の
酸化防止剤、樹脂添加剤として有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ジノニ
ルジフェニルアミンの製造方法としては、塩化アルミニ
ウム、塩化亜鉛等の金属ハロゲン化物や硫酸、燐酸、酸
性白土等の酸性触媒を用いてノネンとジフェニルアミン
をフリーデルクラフツアルキル化反応させる方法（特開
平２−１８８５５５）が既に公知である。
ルジフェニルアミンの製造方法としては、塩化アルミニ
ウム、塩化亜鉛等の金属ハロゲン化物や硫酸、燐酸、酸
性白土等の酸性触媒を用いてノネンとジフェニルアミン
をフリーデルクラフツアルキル化反応させる方法（特開
平２−１８８５５５）が既に公知である。
【０００３】しかしながらこの方法では完全にノネンを
ジフェニルアミンへ付加させることは困難であり、生成
物中にモノ置換体を含む純度の低いジノニルジフェニル
アミンしか得られないという問題点があった。
ジフェニルアミンへ付加させることは困難であり、生成
物中にモノ置換体を含む純度の低いジノニルジフェニル
アミンしか得られないという問題点があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記問題
点を解決し、更に工業的に有利な、新規な製造方法につ
き鋭意検討した。その結果、Ｎ−（ノニルシクロヘキシ
ル）ノニルアニリンを脱水素反応させることによってジ
ノニルジフェニルアミンが容易に得られることを見出し
本発明に到達した。
点を解決し、更に工業的に有利な、新規な製造方法につ
き鋭意検討した。その結果、Ｎ−（ノニルシクロヘキシ
ル）ノニルアニリンを脱水素反応させることによってジ
ノニルジフェニルアミンが容易に得られることを見出し
本発明に到達した。
【０００５】即ち、本発明は、脱水素触媒の存在下に、
Ｎ−（ノニルシクロヘキシル）ノニルアニリンを脱水素
反応させることを特徴とするジノニルジフェニルアミン
の製造法である。
Ｎ−（ノニルシクロヘキシル）ノニルアニリンを脱水素
反応させることを特徴とするジノニルジフェニルアミン
の製造法である。
【０００６】本発明方法において、原料として使用する
Ｎ−（ノニルシクロヘキシル）ノニルアニリンは、ノニ
ルフェノールを水素添加することにより容易に製造され
るノニルシクロヘキサノンと、更にノニルシクロヘキサ
ノンをアンモニアと反応させることによって得られるノ
ニルアニリンとを脱水縮合、更に水素添加することによ
って得られる。また、ノニルシクロヘキサノンとノニル
アニリンの脱水縮合及び不均化反応により、ジノニルジ
フェニルアミンと共に得られる。ノニルシクロヘキサノ
ン及びノニルアニリンの原料となるノニルフェノール
は、フェノールとノネンのフリーデルクラフツアルキル
化反応によって製造され容易に入手可能である。ノニル
フェノールを得る該反応は、前記した従来のジフェニル
アミンとノネンとのフリーデルクラフツアルキル化反応
に比べ、より穏和な条件下で行うことができ、且つ高収
率でノニルフェノールが得られる。叉、最初にノニル基
を導入しておくことでモノ置換体等の副生物がないとい
う利点がある。
Ｎ−（ノニルシクロヘキシル）ノニルアニリンは、ノニ
ルフェノールを水素添加することにより容易に製造され
るノニルシクロヘキサノンと、更にノニルシクロヘキサ
ノンをアンモニアと反応させることによって得られるノ
ニルアニリンとを脱水縮合、更に水素添加することによ
って得られる。また、ノニルシクロヘキサノンとノニル
アニリンの脱水縮合及び不均化反応により、ジノニルジ
フェニルアミンと共に得られる。ノニルシクロヘキサノ
ン及びノニルアニリンの原料となるノニルフェノール
は、フェノールとノネンのフリーデルクラフツアルキル
化反応によって製造され容易に入手可能である。ノニル
フェノールを得る該反応は、前記した従来のジフェニル
アミンとノネンとのフリーデルクラフツアルキル化反応
に比べ、より穏和な条件下で行うことができ、且つ高収
率でノニルフェノールが得られる。叉、最初にノニル基
を導入しておくことでモノ置換体等の副生物がないとい
う利点がある。
【０００７】本発明方法において使用される脱水素触媒
としては、公知のいかなるものでもよいが、具体的には
ラネーニッケル、還元ニッケル、ニッケルを硅藻土、ア
ルミナ、軽石、シリカゲル、酸性白土などの種々の担体
に担持したニッケル担体触媒；ラネーコバルト、還元コ
バルト、コバルト、コバルト・担体触媒などのコバルト
触媒；ラネー銅、還元銅、銅・担体触媒などの銅触媒；
パラジウム黒、酸化パラジウム、コロイドパラジウム、
パラジウム・炭素、パラジウム・硫酸バリウム、パラジ
ウム・炭酸バリウムなどのパラジウム触媒；白金黒、コ
ロイド白金、白金海綿、酸化白金、硫化白金、白金・炭
素などの白金・担体触媒等の白金触媒；コロイドロジウ
ム、ロジウム・炭素、酸化ロジウムなどのロジウム触
媒；ルテニウム触媒などの白金族触媒；七酸化ニレニウ
ム、レニウム炭素などのレニウム触媒；銅クロム酸化物
触媒；酸化モリブデン触媒；酸化バナジウム触媒；酸化
タングステン触媒などを例示することができる。これら
の触媒のうちではパラジウム触媒を使用することが好ま
しく、特にパラジウム・担体触媒を使用することが好ま
しく、とりわけパラジウム・炭素、パラジウム・アルミ
ナを使用するのが良い。
としては、公知のいかなるものでもよいが、具体的には
ラネーニッケル、還元ニッケル、ニッケルを硅藻土、ア
ルミナ、軽石、シリカゲル、酸性白土などの種々の担体
に担持したニッケル担体触媒；ラネーコバルト、還元コ
バルト、コバルト、コバルト・担体触媒などのコバルト
触媒；ラネー銅、還元銅、銅・担体触媒などの銅触媒；
パラジウム黒、酸化パラジウム、コロイドパラジウム、
パラジウム・炭素、パラジウム・硫酸バリウム、パラジ
ウム・炭酸バリウムなどのパラジウム触媒；白金黒、コ
ロイド白金、白金海綿、酸化白金、硫化白金、白金・炭
素などの白金・担体触媒等の白金触媒；コロイドロジウ
ム、ロジウム・炭素、酸化ロジウムなどのロジウム触
媒；ルテニウム触媒などの白金族触媒；七酸化ニレニウ
ム、レニウム炭素などのレニウム触媒；銅クロム酸化物
触媒；酸化モリブデン触媒；酸化バナジウム触媒；酸化
タングステン触媒などを例示することができる。これら
の触媒のうちではパラジウム触媒を使用することが好ま
しく、特にパラジウム・担体触媒を使用することが好ま
しく、とりわけパラジウム・炭素、パラジウム・アルミ
ナを使用するのが良い。
【０００８】これらの脱水素触媒の使用量は、原料のＮ
−（ノニルシクロヘキシル）ノニルアニリンに対し、金
属原子として０．００１〜１．０グラム原子、好ましく
は０．００２〜０．２グラム原子が良い。本発明方法に
おいて、生成する水素はそのまま反応系外へ放出させる
か、あるいは種々の還元性材料の何れかを水素受容体と
して使用し、これらにキャッチさせても良い。還元性材
料としてはオレフィン類、ニトロ化合物、フェノール類
等が挙げられる。特にフェノール類中のノニルフェノー
ルを水素受容体とすればその結果生成するノニルシクロ
ヘキサノンがＮ−（ノニルシクロヘキシル）ノニルアニ
リンの原料となり好ましい。
−（ノニルシクロヘキシル）ノニルアニリンに対し、金
属原子として０．００１〜１．０グラム原子、好ましく
は０．００２〜０．２グラム原子が良い。本発明方法に
おいて、生成する水素はそのまま反応系外へ放出させる
か、あるいは種々の還元性材料の何れかを水素受容体と
して使用し、これらにキャッチさせても良い。還元性材
料としてはオレフィン類、ニトロ化合物、フェノール類
等が挙げられる。特にフェノール類中のノニルフェノー
ルを水素受容体とすればその結果生成するノニルシクロ
ヘキサノンがＮ−（ノニルシクロヘキシル）ノニルアニ
リンの原料となり好ましい。
【０００９】本発明方法は、ノニルフェノール自溶媒あ
るいは原料及び生成物と不活性な公知の有機溶剤中で行
うことができる。
るいは原料及び生成物と不活性な公知の有機溶剤中で行
うことができる。
【００１０】本発明の方法における反応温度は通常１０
０〜３００℃、好ましくは１５０〜２５０℃の範囲で選
ばれる。
０〜３００℃、好ましくは１５０〜２５０℃の範囲で選
ばれる。
【００１１】反応終了後、冷却した反応混合溶液は濾過
し、触媒を分離する。この回収触媒は再使用できる。次
いで、ろ液を減圧蒸留し、溶媒を留去して残留物として
ジノニルジフェニルアミンを得る。
し、触媒を分離する。この回収触媒は再使用できる。次
いで、ろ液を減圧蒸留し、溶媒を留去して残留物として
ジノニルジフェニルアミンを得る。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の方法を実施例によって具体的
に説明する。 実施例１ 分離器を備えた還流冷却器、温度計、及び撹拌装置を備
えた２００ｍｌの丸底フラスコにエヌ・イー・ケムキャ
ット社製５％Ｐｄ／Ｃ（５０％含水品）１．１０ｇ、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル５０ｇ、Ｎ−（ノ
ニルシクロヘキシル）ノニルアニリン２１．３９ｇ
（０．０５モル）を装入した。反応器内を撹拌しながら
２００℃まで昇温し、その温度を保ったまま８時間反応
を行った。次いで反応液を冷却し、反応混合液より５％
Ｐｄ／Ｃを濾別した。濾液の一部を採取し液体クロマト
グラフィーにより分析した結果、ジノニルジフェニルア
ミンの収率は９８．５％であった。
に説明する。 実施例１ 分離器を備えた還流冷却器、温度計、及び撹拌装置を備
えた２００ｍｌの丸底フラスコにエヌ・イー・ケムキャ
ット社製５％Ｐｄ／Ｃ（５０％含水品）１．１０ｇ、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル５０ｇ、Ｎ−（ノ
ニルシクロヘキシル）ノニルアニリン２１．３９ｇ
（０．０５モル）を装入した。反応器内を撹拌しながら
２００℃まで昇温し、その温度を保ったまま８時間反応
を行った。次いで反応液を冷却し、反応混合液より５％
Ｐｄ／Ｃを濾別した。濾液の一部を採取し液体クロマト
グラフィーにより分析した結果、ジノニルジフェニルア
ミンの収率は９８．５％であった。
【００１３】
【発明の効果】脱水素触媒の存在下、Ｎ−（ノニルシク
ロヘキシル）ノニルアニリンを脱水素反応させることに
より、容易に且つ高収率でジノニルジフェニルアミンを
得ることができる。
ロヘキシル）ノニルアニリンを脱水素反応させることに
より、容易に且つ高収率でジノニルジフェニルアミンを
得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 脱水素触媒の存在下に、Ｎ−（ノニルシ
クロヘキシル）ノニルアニリンを脱水素反応させること
を特徴とするジノニルジフェニルアミンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5173894A JPH0725836A (ja) | 1993-07-14 | 1993-07-14 | ジノニルジフェニルアミンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5173894A JPH0725836A (ja) | 1993-07-14 | 1993-07-14 | ジノニルジフェニルアミンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0725836A true JPH0725836A (ja) | 1995-01-27 |
Family
ID=15969071
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5173894A Pending JPH0725836A (ja) | 1993-07-14 | 1993-07-14 | ジノニルジフェニルアミンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0725836A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100447125C (zh) * | 2006-11-22 | 2008-12-31 | 中国石油兰州石油化工公司 | 通过烷基化反应制备二壬基二苯胺的工艺 |
| CN102531920A (zh) * | 2010-12-30 | 2012-07-04 | 中国石油化工股份有限公司 | 二壬基二苯胺的制备方法 |
-
1993
- 1993-07-14 JP JP5173894A patent/JPH0725836A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100447125C (zh) * | 2006-11-22 | 2008-12-31 | 中国石油兰州石油化工公司 | 通过烷基化反应制备二壬基二苯胺的工艺 |
| CN102531920A (zh) * | 2010-12-30 | 2012-07-04 | 中国石油化工股份有限公司 | 二壬基二苯胺的制备方法 |
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