JPH0528216B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0528216B2 JPH0528216B2 JP59138894A JP13889484A JPH0528216B2 JP H0528216 B2 JPH0528216 B2 JP H0528216B2 JP 59138894 A JP59138894 A JP 59138894A JP 13889484 A JP13889484 A JP 13889484A JP H0528216 B2 JPH0528216 B2 JP H0528216B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substituted product
- reaction
- nuclear substituted
- methyl
- phenol
- Prior art date
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、N−アルキルジフエニルアミンまた
はその核置換体(以下N−アルキルジフエニルア
ミン類と略記)を得る為の工業的に有利な改良さ
れた製造方法に関する。
はその核置換体(以下N−アルキルジフエニルア
ミン類と略記)を得る為の工業的に有利な改良さ
れた製造方法に関する。
さらに詳しくは触媒及びフエノールまたはその
核置換体(以下フエノール類と略記)の存在下
に、N−アルキルアニリン類またはその核置換体
(以下N−アルキルアミン類と略記)と、フエノ
ール類に対応するシクロヘキサノン類を反応さ
せ、縮合反応及び分子間の水素移動によりN−ア
ルキルジフエニルアミン類を製造する方法に関す
る。
核置換体(以下フエノール類と略記)の存在下
に、N−アルキルアニリン類またはその核置換体
(以下N−アルキルアミン類と略記)と、フエノ
ール類に対応するシクロヘキサノン類を反応さ
せ、縮合反応及び分子間の水素移動によりN−ア
ルキルジフエニルアミン類を製造する方法に関す
る。
N−アルキルジフエニルアミン類は合成染料や
ゴム薬などの有機化合物の中間体として極めて有
用なものである。
ゴム薬などの有機化合物の中間体として極めて有
用なものである。
従来の技術
従来、このN−アルキルジフエニルアミン類は
ジフエニルアミン類とハロゲン化アルキル、ジア
ルキル硫酸、もしくはトリアルキルホスフエート
との反応やジフエニルアミンの塩酸塩とアルコー
ルとの反応等により得る方法などが、古くより知
られているが、工業的な方法としては有利な方法
とはいえなかつた。
ジフエニルアミン類とハロゲン化アルキル、ジア
ルキル硫酸、もしくはトリアルキルホスフエート
との反応やジフエニルアミンの塩酸塩とアルコー
ルとの反応等により得る方法などが、古くより知
られているが、工業的な方法としては有利な方法
とはいえなかつた。
本発明方法と類似の方法としては米国特許
3219704明細書中にはパラジユーム触媒の存在下、
N−メチルアニリンとシクロヘキサノンとの加熱
反応により得られたシツフ塩基の脱水素化反応に
より、N−メチルジフエニルアミンを得る方法が
記載されている。しかしながらこの方法では脱水
素化反応を水素受容体の不存在下で行なわれてい
るため、N−メチルアニリンとシクロヘキサノン
をほぼ当量比使用しているにもかかわらず、収率
は47%程度であり満足できるものではなかつた。
またこのような方法では入手困難なシクロヘキサ
ノン類を反応に使用する場合は、対応するフエノ
ール類から別工程で合成するなどの必要があつ
た。
3219704明細書中にはパラジユーム触媒の存在下、
N−メチルアニリンとシクロヘキサノンとの加熱
反応により得られたシツフ塩基の脱水素化反応に
より、N−メチルジフエニルアミンを得る方法が
記載されている。しかしながらこの方法では脱水
素化反応を水素受容体の不存在下で行なわれてい
るため、N−メチルアニリンとシクロヘキサノン
をほぼ当量比使用しているにもかかわらず、収率
は47%程度であり満足できるものではなかつた。
またこのような方法では入手困難なシクロヘキサ
ノン類を反応に使用する場合は、対応するフエノ
ール類から別工程で合成するなどの必要があつ
た。
問題点を解決するための手段
本発明者等はこれらの点を改良すべく工業的に
有利な方法を鋭意検討の結果、水素移動触媒、及
びフエノール類の存在下、N−アルキルアミン類
とフエノール類に対応するシクロヘキサノン類を
加熱反応させることにより、N−アルキルアミン
類とシクロヘキサノン類との縮合反応による中間
体の生成、及びこの脱水素反応が起り、同時に縮
合で消費されたシクロヘキサノン類に見合う分の
フエノール類が同一反応系内で容易に還元されシ
クロヘキサノン類を生成することを見出し本発明
に到達した。
有利な方法を鋭意検討の結果、水素移動触媒、及
びフエノール類の存在下、N−アルキルアミン類
とフエノール類に対応するシクロヘキサノン類を
加熱反応させることにより、N−アルキルアミン
類とシクロヘキサノン類との縮合反応による中間
体の生成、及びこの脱水素反応が起り、同時に縮
合で消費されたシクロヘキサノン類に見合う分の
フエノール類が同一反応系内で容易に還元されシ
クロヘキサノン類を生成することを見出し本発明
に到達した。
即ち本発明方法は、水素移動触媒の存在下に、
フエノール類、N−アルキルアニリン類、及び反
応に用いるフエノール類に対応するシクロヘキサ
ノン類を加熱反応させるか、または、最初から反
応系中にシクロヘキサノン類を共存させることな
く、過剰に仕込んだフエノール類を、N−アルキ
ルアミン類中で水素加圧下にその一部を対応する
シクロヘキサノン類に変換し、引続きフエノール
類及びN−アルキルアミン類と加熱反応させるこ
とを特徴とするN−アルキルジフエニルアミン類
の製造方法である。
フエノール類、N−アルキルアニリン類、及び反
応に用いるフエノール類に対応するシクロヘキサ
ノン類を加熱反応させるか、または、最初から反
応系中にシクロヘキサノン類を共存させることな
く、過剰に仕込んだフエノール類を、N−アルキ
ルアミン類中で水素加圧下にその一部を対応する
シクロヘキサノン類に変換し、引続きフエノール
類及びN−アルキルアミン類と加熱反応させるこ
とを特徴とするN−アルキルジフエニルアミン類
の製造方法である。
本発明の方法では反応速度及び目的生成物への
選択率の面で満足の行く結果が得られるだけでな
く、N−アルキルアミン類とシクロヘキサノン類
との反応により生成した中間体が脱水素されて生
成した水素は、フエノール類の還元、つまりシク
ロヘキサノン類の生成に同一反応系中で全て利用
される為極めて効率的である。さらに、核置換体
N−アルキルジフエニルアミン類のある種の製造
において、相当する適当なシクロヘキサノン類の
入手が困難である場合も、フエノール類さえあれ
ばシクロヘキサノン類の替りに過剰量のフエノー
ル類を使用してあらかじめ水素を仕込み、フエノ
ール類の一部をシクロヘキサノン類に変換させた
後反応させればよく、適用範囲が広い等数々の利
点がある。また、フエノール類は水素受容体であ
り、且つその結果生成されるシクロヘキサノン類
の供給源でもある為、目的生成物のN−アルキル
ジフエニルアミン類を取出す際分離されるシクロ
ヘキサノン類を含んだフエノール類は混合物のま
ま反応系に循環再使用でいる。
選択率の面で満足の行く結果が得られるだけでな
く、N−アルキルアミン類とシクロヘキサノン類
との反応により生成した中間体が脱水素されて生
成した水素は、フエノール類の還元、つまりシク
ロヘキサノン類の生成に同一反応系中で全て利用
される為極めて効率的である。さらに、核置換体
N−アルキルジフエニルアミン類のある種の製造
において、相当する適当なシクロヘキサノン類の
入手が困難である場合も、フエノール類さえあれ
ばシクロヘキサノン類の替りに過剰量のフエノー
ル類を使用してあらかじめ水素を仕込み、フエノ
ール類の一部をシクロヘキサノン類に変換させた
後反応させればよく、適用範囲が広い等数々の利
点がある。また、フエノール類は水素受容体であ
り、且つその結果生成されるシクロヘキサノン類
の供給源でもある為、目的生成物のN−アルキル
ジフエニルアミン類を取出す際分離されるシクロ
ヘキサノン類を含んだフエノール類は混合物のま
ま反応系に循環再使用でいる。
本発明の方法において原料として使用されるフ
エノール類としては、フエノール、メチルフエノ
ール、エチルフエノール、イソプロピルフエノー
ル、ブチルフエノール、2,4−ジメチルフエノ
ール、2,4,6−トリメチルフエノール、2,
6−ジ−t−ブチル−4−メチルフエノール等ア
ルキルフエノール、3−メトキシフエノール、4
−メトキシフエノール等アルコキシフエノール等
が挙げられる。その使用量はシクロヘキサノン類
を始めから共存させる場合はN−アルキルアニリ
ン類と当量以上であれば特に問題ないが、通常は
溶剤としても使用するのが有利であり、アミン類
に対し2〜20モル倍の過剰量、好ましくは4〜10
モル倍使用するのが良い。
エノール類としては、フエノール、メチルフエノ
ール、エチルフエノール、イソプロピルフエノー
ル、ブチルフエノール、2,4−ジメチルフエノ
ール、2,4,6−トリメチルフエノール、2,
6−ジ−t−ブチル−4−メチルフエノール等ア
ルキルフエノール、3−メトキシフエノール、4
−メトキシフエノール等アルコキシフエノール等
が挙げられる。その使用量はシクロヘキサノン類
を始めから共存させる場合はN−アルキルアニリ
ン類と当量以上であれば特に問題ないが、通常は
溶剤としても使用するのが有利であり、アミン類
に対し2〜20モル倍の過剰量、好ましくは4〜10
モル倍使用するのが良い。
N−アルキルアミン類としては、N−メチル−
アニリン、N−エチル−アニリン、N−プロピル
−アニリン、N−イソプロピル−アニリン、N−
イソブチル−アニリン、2−メチル−N−メチル
アニリン、4−エチル−N−メチル−アニリン、
4−ドデシル−N−メチル−アニリン、4−デシ
ル−N−メチル−アニリン、3,4−ジメトキシ
−N−メチル−アニリン、2−メチル−4−メト
キシ−N−メチル−アニリン等、核にアルキル及
び/またはアルコキシ基を有するN−アルキル−
アニリン、O−アミノ安臭香酸またはそのエステ
ルのN−アルキル化合物、4−シクロヘキシル−
N−メチル−アニリン、4−ベンジル−N−メチ
ル−アニリン、4−フエノキシ−N−メチル−ア
ニリン、2−フロロ−N−メチル−アニリン、4
−ヒドロキシ−N−メチル−アニリン、α−アミ
ノナフタレンのN−アルキル化合物等が挙げられ
る。
アニリン、N−エチル−アニリン、N−プロピル
−アニリン、N−イソプロピル−アニリン、N−
イソブチル−アニリン、2−メチル−N−メチル
アニリン、4−エチル−N−メチル−アニリン、
4−ドデシル−N−メチル−アニリン、4−デシ
ル−N−メチル−アニリン、3,4−ジメトキシ
−N−メチル−アニリン、2−メチル−4−メト
キシ−N−メチル−アニリン等、核にアルキル及
び/またはアルコキシ基を有するN−アルキル−
アニリン、O−アミノ安臭香酸またはそのエステ
ルのN−アルキル化合物、4−シクロヘキシル−
N−メチル−アニリン、4−ベンジル−N−メチ
ル−アニリン、4−フエノキシ−N−メチル−ア
ニリン、2−フロロ−N−メチル−アニリン、4
−ヒドロキシ−N−メチル−アニリン、α−アミ
ノナフタレンのN−アルキル化合物等が挙げられ
る。
シクロヘキサノン類としては前述のフエノール
類に対応するシクロヘキサノン類が用いられ、そ
の使用量はN−アルキルアミン類に対し触媒量の
約0.03モル倍以上であれば特に問題ないが、好ま
しくは0.05〜0.40モル倍が良い。この使用量より
少ないと反応速度が小さくなり、また、これより
多くなると目的とするN−アルキルジフエニルア
ミン類の収率が低下するので好ましくない。
類に対応するシクロヘキサノン類が用いられ、そ
の使用量はN−アルキルアミン類に対し触媒量の
約0.03モル倍以上であれば特に問題ないが、好ま
しくは0.05〜0.40モル倍が良い。この使用量より
少ないと反応速度が小さくなり、また、これより
多くなると目的とするN−アルキルジフエニルア
ミン類の収率が低下するので好ましくない。
また、反応の最初からシクロヘキサノン類を使
用しない場合はフエノール類に対し、前記の適量
のシクロヘキサノン類を生成するに相当する量、
即ち約0.06モル倍以上好ましくは0.10〜0.80モル
倍の水素を反応器に封入後加熱反応すればよい。
用しない場合はフエノール類に対し、前記の適量
のシクロヘキサノン類を生成するに相当する量、
即ち約0.06モル倍以上好ましくは0.10〜0.80モル
倍の水素を反応器に封入後加熱反応すればよい。
本発明の方法において使用される触媒として
は、脱水素反応及び還元反応の両方の機能を有す
る触媒である必要があるが、通常好適な水素化還
元反応触媒は脱水素反応にも適する。具体的に
は、ラネーニツケル、還元ニツケルもしくはニツ
ケル担体触媒、タネーコバルト、還元コバルトも
しくはコバルト担体触媒、ラネー銅、還元銅もし
くは銅担体触媒、周期律表第8族の貴金属触媒も
しくはその貴金属が担体として、炭素、アルミ
ナ、炭酸バリウム等に担持された触媒、レニウム
−炭素等のレニウム触媒、銅−クロム酸化物触媒
等が挙げられる。これらの触媒の内、好ましくは
パラジウムであり、特にパラジウム−炭素、パラ
ジウムーアルミナ及びパラジウム−酸化マグネシ
ウム等の担体に担持されたパラジウム触媒が好ま
しい。その使用量は前記アミン類に対し金属原子
として通常0.001〜0.2グラム原子、好ましくは
0.004〜0.1グラム原子がよい。
は、脱水素反応及び還元反応の両方の機能を有す
る触媒である必要があるが、通常好適な水素化還
元反応触媒は脱水素反応にも適する。具体的に
は、ラネーニツケル、還元ニツケルもしくはニツ
ケル担体触媒、タネーコバルト、還元コバルトも
しくはコバルト担体触媒、ラネー銅、還元銅もし
くは銅担体触媒、周期律表第8族の貴金属触媒も
しくはその貴金属が担体として、炭素、アルミ
ナ、炭酸バリウム等に担持された触媒、レニウム
−炭素等のレニウム触媒、銅−クロム酸化物触媒
等が挙げられる。これらの触媒の内、好ましくは
パラジウムであり、特にパラジウム−炭素、パラ
ジウムーアルミナ及びパラジウム−酸化マグネシ
ウム等の担体に担持されたパラジウム触媒が好ま
しい。その使用量は前記アミン類に対し金属原子
として通常0.001〜0.2グラム原子、好ましくは
0.004〜0.1グラム原子がよい。
尚、本発明の方法においてはフエノール類を自
溶媒として使用するのが有利でありその他の反応
溶媒を使用する必要は無いが、勿論使用しても何
ら支障は無い。
溶媒として使用するのが有利でありその他の反応
溶媒を使用する必要は無いが、勿論使用しても何
ら支障は無い。
反応の際の温度は重要であり通常100℃〜200
℃、好ましくは130℃〜200℃の範囲で選ばれる。
℃、好ましくは130℃〜200℃の範囲で選ばれる。
生成したジフエニルアミン類は反応終了後の混
合物を蒸留、晶析、抽出等の常法に従つて処理す
ることにより得られる。例えば、反応終了液を
過した触媒を分離する。この回収触媒は再使用で
きる。液を濃縮し、シクロヘキサノン類を含ん
だフエノール類を回収する。その留分は混合物の
まま再使用できる。釜内のジフエニルアミン類は
場合によつてはそのまま次の反応原料として使用
できるが必要なら蒸留、晶析等により精製する。
合物を蒸留、晶析、抽出等の常法に従つて処理す
ることにより得られる。例えば、反応終了液を
過した触媒を分離する。この回収触媒は再使用で
きる。液を濃縮し、シクロヘキサノン類を含ん
だフエノール類を回収する。その留分は混合物の
まま再使用できる。釜内のジフエニルアミン類は
場合によつてはそのまま次の反応原料として使用
できるが必要なら蒸留、晶析等により精製する。
次に、本発明の方法を実施例によつて具体的に
説明する。
説明する。
〔実施例 1〕
内容積500mlのステンレス製オートクレーブに
2−メチル−N−メチル−アニリン24.2g(0.2
モル)、フエノール94.1g(1.0モル)、シクロヘ
キサノン2.0g(0.02モル)、及び5%パラジウム
−炭素(日本エンゲルハルド社製)1.07gを仕込
んだ。オートクレーブ内を窒素置換した後、150
℃に昇温した、攪拌下にその温度で8時間反応さ
せた後、室温に冷却後反応混合液を過して触媒
を分離した。液の一部を採取し、ガスクロマト
グラフイーにより分析して未反応原料及び生成物
を定量した。その結果、未反応の2−メチル−N
−メチル−アニリンが0.8g(転化率96.7%)残
存し、2−メチル−N−メチル−ジフエニルアミ
ンが33.8g(選択率88.7%)生成していた。液
を濃縮蒸留してシクロヘキノンを含んだフエノー
ル75.8gの留分を分離回収した。その中のシクロ
ヘキサノン濃度は2.2%であり、これは仕込んだ
シクロヘキサノン量の83.4%に相当する。
2−メチル−N−メチル−アニリン24.2g(0.2
モル)、フエノール94.1g(1.0モル)、シクロヘ
キサノン2.0g(0.02モル)、及び5%パラジウム
−炭素(日本エンゲルハルド社製)1.07gを仕込
んだ。オートクレーブ内を窒素置換した後、150
℃に昇温した、攪拌下にその温度で8時間反応さ
せた後、室温に冷却後反応混合液を過して触媒
を分離した。液の一部を採取し、ガスクロマト
グラフイーにより分析して未反応原料及び生成物
を定量した。その結果、未反応の2−メチル−N
−メチル−アニリンが0.8g(転化率96.7%)残
存し、2−メチル−N−メチル−ジフエニルアミ
ンが33.8g(選択率88.7%)生成していた。液
を濃縮蒸留してシクロヘキノンを含んだフエノー
ル75.8gの留分を分離回収した。その中のシクロ
ヘキサノン濃度は2.2%であり、これは仕込んだ
シクロヘキサノン量の83.4%に相当する。
引き続き、上記回収触媒及びシクロヘキサノン
を含んだ回収フエノール留分に、新たにシクロヘ
キサノンの追加は行わず、フエノール20.0グラ
ム、2−メチル−N−メチル−ジフエニルアミン
の選択率は90.0%であつた。また回収したフエノ
ール留分中シクロヘキサノン濃度は2.4%であつ
た。
を含んだ回収フエノール留分に、新たにシクロヘ
キサノンの追加は行わず、フエノール20.0グラ
ム、2−メチル−N−メチル−ジフエニルアミン
の選択率は90.0%であつた。また回収したフエノ
ール留分中シクロヘキサノン濃度は2.4%であつ
た。
〔実施例 2〕
実施例−1に用いた5gパラジウム−炭素に替
え、5%パラジウム−酸化マグネシウムを用いた
以外は実施例−1と同様に反応、処理した。その
結果、未反応2−メチル−N−メチル−アニリン
が1.2g(転化率95.0%)残存し、2−メチル−
N−メチル−ジフエニルアミンが33.1g(選択率
88.4%)生成していた。
え、5%パラジウム−酸化マグネシウムを用いた
以外は実施例−1と同様に反応、処理した。その
結果、未反応2−メチル−N−メチル−アニリン
が1.2g(転化率95.0%)残存し、2−メチル−
N−メチル−ジフエニルアミンが33.1g(選択率
88.4%)生成していた。
〔実施例 3〕
最初の仕込みにシクロヘキサノンが無い以外、
実施例−1のとおりに仕込んだ。オートクレーブ
内を窒素置換した後、水素で5Kg/cm2Gに加圧し
た。この水素量は2−メチル−N−メチル−アニ
リンに対し約0.3モル倍に相当する。引き続き、
実施例−1と同様に反応、処理した。その結果、
2−メチル−N−メチル−ジフエニルアミンが選
択率90.5%で生成した。また、回収したフエノー
ル留分中にはシクロヘキサノンが存在し、その濃
度は3.0%であつた。
実施例−1のとおりに仕込んだ。オートクレーブ
内を窒素置換した後、水素で5Kg/cm2Gに加圧し
た。この水素量は2−メチル−N−メチル−アニ
リンに対し約0.3モル倍に相当する。引き続き、
実施例−1と同様に反応、処理した。その結果、
2−メチル−N−メチル−ジフエニルアミンが選
択率90.5%で生成した。また、回収したフエノー
ル留分中にはシクロヘキサノンが存在し、その濃
度は3.0%であつた。
〔実施例 4〕
反応温度が250℃で3時間反応した以外、実施
例−1と同様に反応、処理した。その結果、2−
メチル−N−メチル−ジフエニルアミンが選択率
76.3%で生成していたが、反応温度を高くするの
反応に不利益となる結果を得た。
例−1と同様に反応、処理した。その結果、2−
メチル−N−メチル−ジフエニルアミンが選択率
76.3%で生成していたが、反応温度を高くするの
反応に不利益となる結果を得た。
〔実施例 5〕
フエノールが3,5ジメチル−フエノールであ
る以外、実施例−3と同様に反応、処理した。未
反応が若干多く。2−メチル−N−メチル−アニ
リンの転化率は85.6%であり、目的生成物の選択
率は89.0%であつた。
る以外、実施例−3と同様に反応、処理した。未
反応が若干多く。2−メチル−N−メチル−アニ
リンの転化率は85.6%であり、目的生成物の選択
率は89.0%であつた。
〔実施例 6〕
2−メチル−N−メチル−アニリンが2−メチ
ル−4−メトキシ−N−メチル−アニリンである
以外実施例−1と同様に反応処理した。その結
果、転化率97.5%、目的生成物が選択率89.0%で
得られた。
ル−4−メトキシ−N−メチル−アニリンである
以外実施例−1と同様に反応処理した。その結
果、転化率97.5%、目的生成物が選択率89.0%で
得られた。
〔実施例 7〕
2−メチル−N−メチル−アニリンが2−クロ
ロ−N−メチル−アニリンである以外実施例−1
と同様に反応処理した。その結果、転化率96.7%
で、目的生成物が選択率89.5%で得られた。
ロ−N−メチル−アニリンである以外実施例−1
と同様に反応処理した。その結果、転化率96.7%
で、目的生成物が選択率89.5%で得られた。
〔実施例 8〕
2−メチル−N−メチル−アニリンが4−エト
キシ−N−エチル−アニリンである以外、実施例
−1と同様に反応処理した。その結果、転化率
93.3%で、目的生成物が選択率86.2%で得られ
た。
キシ−N−エチル−アニリンである以外、実施例
−1と同様に反応処理した。その結果、転化率
93.3%で、目的生成物が選択率86.2%で得られ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 水素移動触媒の存在下に、フエノールまたは
その核置換体、N−アルキルアニリン類またはそ
の核置換体、及び上記反応に用いるフエノールま
たはその核置換体に対応するシクロヘキサノン類
を加熱反応させることを特徴とするN−アルキル
ジフエニルアミンまたはその核置換体の製造方
法。 2 水素移動触媒の存在下に、過剰量のフエノー
ルまたはその核置換体を、N−アルキルアニリン
類またはその核置換体中で水素加圧下に、その一
部を対応するシクロヘキサノン類に変換させてフ
エノールまたはその核置換体、及びN−アルキル
アニリン類またはその核置換体と加熱反応させる
ことを特徴とするN−アルキルジフエニルアミン
またはその核置換体の製造方法。 3 加熱反応マスから得られたN−アルキルジフ
エニルアミンまたはその核置換体を分離後、副生
成物のシクロヘキサノン類を含むフエノールまた
はその核置換体を反応系へ循環して再使用する特
許請求の範囲第1項または第2項記載の方法。 4 加熱反応温度が、130〜200℃である特許請求
の範囲第1項または第2項記載の方法。 5 水素移動触媒が、パラジウムである特許請求
の範囲第1項または第2項記載の方法。 6 フエノールまたはその核置換体を、N−アル
キルアニリン類またはその核置換体に対し、2〜
20モル倍の過剰量用いる特許請求の範囲第1項ま
たは第2項記載の方法。 7 シクロヘキサノン類を、N−アルキルアミン
類に対し、0.05〜0.40モル倍存在させる特許請求
の範囲第1項または第29記載の方法。
Priority Applications (14)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59138894A JPS6118748A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | N−アルキルジフエニルアミンまたはその核置換体の製造方法 |
| CA000476192A CA1244836A (en) | 1984-03-14 | 1985-03-11 | Process for producing diphenylamines or n,n'-diphenyl- phenylenediamines |
| NL8500698A NL8500698A (nl) | 1984-03-14 | 1985-03-12 | Werkwijze voor het bereiden van difenylaminen of n,n'-difenylfenyleendiaminen. |
| SE8501223A SE466015B (sv) | 1984-03-14 | 1985-03-12 | Foerfarande foer framstaellning av difenylaminer eller n,n'-difenyl-fenylendiaminer |
| GB08506474A GB2156806B (en) | 1984-03-14 | 1985-03-13 | Production of diphenylamines or n,n'-diphenyl-phenylenediamines |
| AU39864/85A AU563858B2 (en) | 1984-03-14 | 1985-03-14 | Preparation diphenylamines and n n:-diphenyl- phenylenediamines |
| IT19908/85A IT1184730B (it) | 1984-03-14 | 1985-03-14 | Procedimento per produrre difenilammine oppure n,n'-difenil-fenilendiammine |
| CH1144/85A CH663410A5 (de) | 1984-03-14 | 1985-03-14 | Verfahren zur herstellung von diphenylaminen und n,n'-diphenyl-phenylendiaminen. |
| DE19853509209 DE3509209A1 (de) | 1984-03-14 | 1985-03-14 | Verfahren zur herstellung von diphenylaminen oder n,n'-diphenylphenylendiaminen |
| KR1019850001635A KR870001998B1 (ko) | 1984-03-14 | 1985-03-14 | 디페닐아민 또는 n, n'-디페닐-페닐렌디아민의 제조방법 |
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| US07/232,011 US4952731A (en) | 1984-03-14 | 1988-08-15 | Process for producing diphenylamines or N,N'-diphenyl-phenylenediamines |
| US07/246,014 US4871875A (en) | 1984-03-14 | 1988-09-14 | Process for producing diphenylamines or N,N'-diphenylphenylenediamines |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59138894A JPS6118748A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | N−アルキルジフエニルアミンまたはその核置換体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6118748A JPS6118748A (ja) | 1986-01-27 |
| JPH0528216B2 true JPH0528216B2 (ja) | 1993-04-23 |
Family
ID=15232603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59138894A Granted JPS6118748A (ja) | 1984-03-14 | 1984-07-06 | N−アルキルジフエニルアミンまたはその核置換体の製造方法 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JPS6118748A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7352955B2 (ja) * | 2019-11-29 | 2023-09-29 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | フェノール類から芳香族アミン化合物を製造する方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60193949A (ja) * | 1984-03-14 | 1985-10-02 | Mitsui Toatsu Chem Inc | ジフエニルアミンまたはその核置換体の製造方法 |
-
1984
- 1984-07-06 JP JP59138894A patent/JPS6118748A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6118748A (ja) | 1986-01-27 |
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