JPH0725850A - ｓＰＬＡ２阻害剤である１Ｈ−インドール−３−アセトアミド - Google Patents

ｓＰＬＡ２阻害剤である１Ｈ−インドール−３−アセトアミド

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JPH0725850A
JPH0725850A JP6077650A JP7765094A JPH0725850A JP H0725850 A JPH0725850 A JP H0725850A JP 6077650 A JP6077650 A JP 6077650A JP 7765094 A JP7765094 A JP 7765094A JP H0725850 A JPH0725850 A JP H0725850A
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methoxy
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Robert D Dillard
ロバート・ディレイン・ディラード
Susan E Draheim
スーザン・エリザベス・ドラヘイム
Robert B Hermann
ロバート・ベル・ハーマン
Richard W Schevitz
リチャード・ウォルター・シェビッツ
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 式（Ｉ）で示される化合物、その医薬的に許
容しうる塩及びプロドラッグ誘導体、ならびにｓＰＬＡ
２を介する脂肪酸放出を阻害する目的で当該化合物等を
使用すること。 〔式中、Ｘは酸素または硫黄；Ｒ１はＣ６〜Ｃ２０アル
キル、アリール、−（ＣＨ２）ｎＲ８０，−ＮＨ−Ｒ
８１等；Ｒ２は水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ３アルキル、
Ｃ１〜Ｃ２アルコキシ、−ＣＨＯ，−ＣＮ等；Ｒ３は水
素、ハロゲン、メチル；Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６，Ｒ７は水
素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキ
ル、アリール、−ＮＲ８２Ｒ８３等；Ｒ８０はアルキ
ル、シクロアルキル等；Ｒ８１はアルキル、シクロアル
キル、アリール等；Ｒ８２，Ｒ８３は水素、Ｃ１〜Ｃ
１０アルキル、−Ｚ−（ＣＨ２）ｐ−Ｑ等；ＺはＯ，Ｎ
Ｈ，Ｓ等；Ｑは−ＣＯＮＨ２、５−テトラゾリル、−Ｓ
Ｏ３Ｈ，−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２等；ｎは１〜８；ｐは１
〜５；である〕 【効果】式（Ｉ）で示される化合物は菌血症ショックな
どのような病状の処置に有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】発明の背景 発明の分野 本発明は、ｓＰＬＡ2に仲介される敗血症ショックのよ
うな症状における脂肪酸放出を阻止するために有用であ
る新規１Ｈ−インドール−３−アセトアミドに関する。
【０００２】背景情報 ヒト非膵臓性内分泌性ホスホリパーゼＡ2（以下、「ｓ
ＰＬＡ2」と略記する）の構造と物理的性質は二報文、
即ち、Ｓｅｉｌｈａｍｅｒ，Ｊｅｆｆｒｅｙ Ｊ．、Ｐ
ｒｕｚａｎｓｋｉ，Ｗａｌｄｅｍａｒ、Ｖａｄｅｓ Ｐ
ｅｔｅｒ、Ｐｌａｎｔ，Ｓｈｅｌｌｅｙ、Ｍｉｌｌｅ
ｒ，Ｊｕｄｙ Ａ．、Ｋｌｏｓｓ，ＪｅａｎおよびＪｏ
ｈｎｓｏｎ，Ｌｏｒｉｎ Ｋ．による「リューマチ性関
節炎の滑液中に存在するホスホリパーゼＡ2のクローニ
ングと組換え発現（Ｃｌｏｎｉｎｇ ａｎｄ Ｒｅｃｏ
ｍｂｉｎａｎｔ Ｅｘｐｒｅｓｓｉｏｎ ｏｆ Ｐｈｏ
ｓｐｈｏｌｉｐａｓｅ Ａ2 Ｐｒｅｓｅｎｔ ｉｎ
Ｒｈｅｕｍａｔｏｉｄ Ａｒｔｈｒｉｔｉｃ Ｓｙｎｏ
ｖｉａｌ Ｆｌｕｉｄ）」、Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌｏ
ｆ Ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、２６
４巻、１０号、４月５日発行、５３３５〜５３３８頁、
１９８９年およびＫｒａｍｅｒ，Ｒｕｔｈ Ｍ．、Ｈｅ
ｓｓｉｏｎ，Ｃａｔｈｅｒｉｎｅ、Ｊｏｈａｎｓｅｎ，
Ｂｅｒｉｔ、Ｈａｙｅｓ，Ｇｒｅｔｃｈｅｎ、ＭｃＧｒ
ａｙ，Ｐａｕｌａ、Ｃｈｏｗ，Ｅ．Ｐｉｎｇｃｈａｎ
ｇ、Ｔｉｚａｒｄ，ＲｉｃｈａｒｄおよびＰｅｐｉｎｓ
ｋｙ，Ｒ．Ｂｌａｋｅによる「ヒトの非膵臓性ホスホリ
パーゼＡ2の構造と性質（Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ ａｎｄ
Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ ａ Ｈｕｍａｎ Ｎｏ
ｎ−ｐａｎｃｒｅａｔｉｃ Ｐｈｏｓｐｈｏｌｉｐａｓ
ｅ Ａ2）」、Ｔｈｅ Ｊｏ ｕｒｎａｌ ｏｆ Ｂｉｏ
ｌｏｇｉｃａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、２６４巻、１０
号、４月５日発行、５７６８〜５７７５頁、１９８９年
に詳記されており、これらは参考のために引用する。
【０００３】ｓＰＬＡ2は膜ホスホリピドを加水分解す
るアラキドン酸カスケードにおける律速酵素であると信
じられている。それで、ｓＰＬＡ2が仲介する脂肪酸
（たとえば、アラキドン酸）の放出を阻害する化合物を
開発することが重要である。このような化合物はｓＰＬ
Ａ2の過剰生産により惹起および／または維持される敗
血症ショック、成人呼吸困難症候群、膵臓炎、外傷、気
管支喘息、アレルギー性鼻炎、リューマチ性関節炎など
のような病状の一般的な処置に価値があろう。グリオキ
シルアミド官能基を持つインドリル−３置換化合物につ
いて米国特許２８２５７３４に記載がある。この特許は
グリオキシアミドを３−（２−アミノ−１−ヒドロキシ
エチル）インドールに変換する方法に関する。米国特許
３２７１４１６はインドリル脂肪族酸を日焼け防止剤お
よび中間体として記載する。これらの酸は−ＮＨ2置換
されうる（請求項１のＭの定義参照）し、また、窒素ま
たは硫黄官能基による５−または６位置換が必要であ
る。
【０００４】米国特許２８９０２２３およびＥｌｌｉｏ
ｔｔ Ｓｈａｗの報文「セロトニンに関連するトリプタ
ミン類の合成（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ｏｆ Ｔｒｙｐｔ
ａｍｉｎｅｓ Ｒｅｌａｔｅｄ ｔｏ Ｓｅｒｏｔｏｎ
ｉｎ）」、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、７７巻、１
９５５年、（４３１９〜４３２４頁）は３−インドール
酢酸のアミド誘導体数種を記載する。これらの化合物は
５−低級アルコキシトリプタミンの製造に用いられ、脳
内のセロトニン関連機能に影響するという有用性を持つ
と述べられている。加えるに、Ｍａｒｃ Ｊｕｌｉａ、
Ｊｅａｎ ＩｇｏｌｅｎおよびＨａｎｎｅ Ｉｇｏｌｅ
ｎの報文、「インドール系の研究ＶＩ．置換トリプタミ
ンについて（Ｒｅｃｈｅｒｃｈｅｓ ｅｎ ｓｅｒｉｅ
ｉｎｄｏｌｉｑｕｅ．ＶＩ ｓｕｒ ｔｒｙｐｔａｍ
ｉｎｅｓ ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｅｓ）」、Ｂｕｌｌ．Ｓ
ｏｃ．Ｃｈｉｍ．Ｆｒａｎｃｅ、１９６２年、１０６０
〜１０６８頁はある種のインドール−３−アセトアミド
およびそのトリプタミン誘導体への変換を記載する。選
択されたインドリルアミド型化合物は文献には関節炎疾
患の処置のために記載されている。それで、米国特許３
１９６１６２、３２４２１６２、３２４２１６３および
３２４２１９３（カラム３、５５〜６０行、実施例５６
参照）はインドリル脂肪族酸をその関連する塩、エステ
ルおよびアミドと共に記載する。これらの化合物はイン
ドメタシンのような化合物と近縁であり、１位に置換ベ
ンジル基を持ち、サイクロオキシゲネース阻害剤として
の有用な作用を示すらしい。
【０００５】Ｅ．Ｗａｌｔｏｎなどによる報文「１−ｐ
−クロロベンジル−５−メチルインドール−３−酢酸の
数種の同族体（Ｓｏｍｅ Ａｎａｌｏｇｓ ｏｆ １−
ｐ−Ｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｙｌ−５−ｍｅｔｈｙｌｉｎ
ｄｏｌｅ−３−ａｃｅｔｉｃＡｃｉｄ）」、Ｊ．Ｍｅ
ｄ．Ｃｈｅｍ．、１１巻、１９６８年、１２５２〜１２
５５頁は３−（１−ｐ−クロロベンジル−５−メトキシ
−３−メチルインドール−２）プロピオン酸メチル異性
体の製造を記載する。Ｅ．Ｒｏｍｏなどによる報文「２
−アリール−３−インドールアセトアミド（ＦＧＩＮ−
１）：ミトコンドリアＤＢＩ受容体（ＭＤＲ）に対する
新しい一群の強力で特異的なリガンド（２−Ａｒｙｌ−
３−Ｉｎｄｏｌｅａｃｅｔａｍｉｄｅｓ（ＦＧＩＮ−
１）：Ａ Ｎｅｗ Ｃｌａｓｓ ｏｆ Ｐｏｔｅｎｔ
ａｎｄＳｐｅｃｉｆｉｃ Ｌｉｇａｎｄｓ ｆｏｒ ｔ
ｈｅ Ｍｉｔｏｃｈｏｎｄｒｉａｌ ＤＢＩ Ｒｅｃｅ
ｐｔｏｒ （ＭＤＲ））」、Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌｏ
ｆ Ｐｈａｒｍａｃｏｌｏｇｙ ａｎｄ Ｅｘｐｅｒｉ
ｍｅｎｔａｌ Ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃｓ、２６２巻、
３号（９７１〜９７８頁）は哺乳類の中枢神経系での研
究に応用されるある種の２−アリール−３−インドール
アセトアミドを記載する。ｓＰＬＡ2が起こす病気のた
めに新らしい化合物および処置法を開発するのは望まし
いことである。
【０００６】発明の要約 本発明は１Ｈ−インドール−３−アセトアミドとして知
られ、ヒトｓＰＬＡ2が仲介する脂肪酸の放出を阻害す
る一群の化合物の新規用法に関する。本発明は、また、
ヒトのｓＰＬＡ2の阻害剤として強力で選択的な効果を
持つ一群の新規な１Ｈ−インドール−３−アセトアミド
に関する。本発明は、また、本発明の１Ｈ−インドール
−３−アセトアミドを含む医薬的組成物に関する。本発
明は、また、本発明の１Ｈ−インドール−３−アセトア
ミドを用いる敗血症ショックの予防および処置法に関す
る。
【０００７】発明の詳細な説明 定義： 本発明の１Ｈ−インドール−３−アセトアミドに
は以下の定義語を用いる。用語「アルキル」はそれ自体
または他の置換基の一部として、別途の定義がない限
り、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、３級ブチル、イソブチル、２級−ブチル、ｎ
−ペンチルおよびｎ−ヘキシルのような直線状または分
枝状鎖の１価の炭化水素残基を意味する。用語「アルケ
ニル」はそれ自体または他の用語と組み合わせて用いら
れ、ビニル、プロペニル、クロトニル、イソペンテニル
および各種ブテニル異性体のような基に代表され、記載
範囲の炭素原子数を持つ直線状または分枝状鎖の１価炭
化水素基を意味する。用語「ハロ」はフルオロ、クロ
ロ、ブロモまたはヨードを意味する。
【０００８】用語「ヘテロ環残基」は単環または多環
の、飽和または不飽和の、置換または非置換の窒素、酸
素または硫黄からなる群から選ばれるヘテロ原子１個か
ら３個を含み、環原子５個から１４個を持つヘテロ環核
から誘導される残基を示す。典型的なヘテロ環残基は下
記である：ピロリル、フラニル、チオフェニル、ピラゾ
リル、イミダゾリル、フェニルイミダゾリル、トリアゾ
リル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、
チアジアゾリル、インドリル、カルバゾリル、ノルハル
マニル、アザインドリル、ベンゾフラニル、ジベンゾフ
ラニル、チアナフセネイル、ジベンゾチオフェニル、イ
ンダゾリル、イミダゾ（１．２−Ａ）ピリジニル、ベン
ゾトリアゾリル、アントラニリル、１，２−ベンズイソ
オキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、プリニル、ピリジニル、ジピリジリル、フェニルピ
リジニル、ベンジルピリジニル、ピリミジニル、フェニ
ルピリミジニル、ピラジニル、１，３，５−トリアジニ
ル、キノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、キノキ
サリニル。用語「炭素環残基」は飽和または不飽和の、
置換または非置換の、５員から１４員の、環形成原子が
炭素原子のみである有機骨格から誘導される残基を示
す。典型的な炭素環残基は下記である：シクロアルキ
ル、シクロアルケニル、フェニル、ナフチル、ノルボル
ナニル、ビシクロヘプタジエニル、トルイル、キシレニ
ル、ビフェニル、インデニル、アセナフチレニルおよび
アントラセニルである。
【０００９】用語「非妨害置換基」はインドール骨格の
４、５、６および／または７位での置換に適する基（以
下の式Ｉに示す）および前記定義のヘテロ環残基および
炭素環残基への置換に適する残基を示す。非妨害残基の
好例は下記である：Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルケ
ニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキニル、Ｃ7〜Ｃ12アラルキル、Ｃ7
〜Ｃ12アルクアリール、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、Ｃ3
〜Ｃ8シクロアルケニル、フェニル、トルリル、キシレ
ニル、ビフェニル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アル
ケニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルキニルオキシ、Ｃ2〜Ｃ12
アルコキシアルキル、Ｃ2〜Ｃ12アルコキシアルキルオ
キシ、Ｃ2〜Ｃ12アルキルカルボニル、Ｃ2〜Ｃ12アルキ
ルカルボニルアミノ、Ｃ2〜Ｃ12アルコキシアミノ、Ｃ2
〜Ｃ12アルコキシアミノカルボニル、Ｃ2〜Ｃ12アルキ
ルアミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ2〜Ｃ12アルキル
チオカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6−アルキルスルフィニル、Ｃ
1〜Ｃ6アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、
Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキ
ル、Ｃ1〜Ｃ6ヒドロキシアルキル、−Ｃ（Ｏ）Ｏ（Ｃ1
〜Ｃ6アルキル）、−（ＣＨ2）n−Ｏ−（Ｃ1〜Ｃ6アル
キル）、ベンジルオキシ、フェノキシ、フェニルチオ、
（−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ）、−ＣＨＯ、アミノ、アミジ
ノ、ブロモ、カルバミル、カルボキシル、−（ＣＨ2）n
−ＣＯＯＨ、クロロ、シアノ、シアノグアニジニル、フ
ルオロ、グアニジノ、ヒドラジド、ヒドラジノ、ヒドラ
ジド、ヒドロキシ、ヒドロキシアミノ、ヨード、ニト
ロ、ホスホノ、−ＳＯ3Ｈ、チオアセタール、チオカル
ボニル、トリフルオロメチルおよびＣ1〜Ｃ6−カルボニ
ル。ここに、ｎは１から８までである。
【００１０】用語「アミン」は１級、２級および３級ア
ミンを含む。用語「ヒドロカルビル」は炭素と水素のみ
を含む有機基を意味する。用語「酸性基」は適当な結合
原子を介してインドール骨格に結合した時に水素結合す
る能力のあるプロトン供与体として作用する有機基を意
味する。酸性基の例は次の通りである：−５−テトラゾ
リル、：
【化２３】 ここに、ｎは１から８までであり、Ｒ89は金属またはＣ
1〜Ｃ10アルキルであり、Ｒ９９は水素またはＣ1〜Ｃ10
アルキルである。
【００１１】本発明の化合物であって、ヒトｓＰＬＡ2
が仲介する脂肪酸の放出を阻害する用途を持つものは一
般式（Ａ）を持つ「１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド」から選ばれる：
【化２４】 ここに、Ｚは下式で表される２価の有機残基である：
【化２５】 およびインドリル骨格の非置換位置は独立に水素または
非妨害置換基によって占められている。式（Ａ）のイン
ドール窒素は、好ましくは−（ＣＨ2）1〜8−（炭素環
残基）または−（ＣＨ2）1〜8−（ヘテロ環残基）で置
換されている。
【００１２】本発明の化合物の好適な一群はインドール
窒素にアリール、アルキル、ハロアルキル、アルケニル
またはアルキニル基を持つと共に２位（インドール窒素
の隣）に比較的短い（炭素原子約３個までの大きさのま
たはそれと均等な）基を持つものである。このような１
Ｈ−インドール−３−アセトアミドは式（Ｉ）およびそ
の医薬的に許容し得る塩で示される：
【化２６】 式中、Ｘは酸素または硫黄である。Ｒ1は群（ｉ）、
（ｉｉ）および（ｉｉｉ）から選ばれ、ここに、（ｉ）
はＣ6〜Ｃ20アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アルケニル、Ｃ6〜Ｃ
20アルキニル、Ｃ6〜Ｃ20ハロアルキル、Ｃ4〜Ｃ12シク
ロアルキルである。または（ｉｉ）は下記群から選ばれ
る：フェニル、ナフチル、インデニルおよびビフェニ
ル。ここに、この群の各員は置換されていないか、また
は下記置換基で置換されている：ハロ、−ＣＮ、−ＣＨ
Ｏ、−ＯＨ、ニトロ、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチ
オ、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシル、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、カル
ボキシル、アミノまたはヒドロキシアミノ。または（ｉ
ｉｉ）は−（ＣＨ2）n−（Ｒ80）または−（ＮＨ）−
（Ｒ81）である。ここに、ｎは１から８であり、Ｒ80は
（ｉ）に示した基であり、Ｒ81は（ｉ）または（ｉｉ）
に示した基から選ばれる。Ｒ2は水素、ハロ、Ｃ1〜Ｃ3
アルキル、エテニル、シクロプロピル、Ｃ1〜Ｃ2アルキ
ルチオ、Ｃ1〜Ｃ2アルコキシ、−ＣＨＯまたは−ＣＮで
ある。各Ｒ3は独立に水素、ハロまたはメチルである。
【００１３】Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7は各々が独立に水
素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルケニル、Ｃ1〜
Ｃ10アルキニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、アリール、
アラルキルまたはＲ4、Ｒ5、Ｒ6およびＲ7の組の中の隣
り合ったどの２個の炭化水素基もそれが結合する環炭素
原子と一緒に５員または６員の置換または非置換の炭素
環を形成するか、またはＣ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1〜
Ｃ10アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ10−ハロアルコキシ、Ｃ4〜Ｃ
8シクロアルコキシ、フェノキシ、ハロ、ヒドロキシ、
カルボキシル、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチ
オ、アリールチオ、チオアセタール、−Ｃ（Ｏ）Ｏ（Ｃ
1〜Ｃ10アルキル）、ヒドラジド、ヒドラジノ、ヒドラ
ジド、−ＮＨ2、−ＮＯ2、−ＮＲ82Ｒ83および−Ｃ
（Ｏ）ＮＲ82Ｒ83である。ここに、Ｒ82およびＲ83は独
立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ヒドロキシア
ルキルであるか、またはＮと一緒になって、Ｒ82および
Ｒ83が５員から８員のヘテロ環を形成するか、または次
式を持つ基である：
【化２７】 ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10
アルキル、ヒドロキシであるか、またはＲ84およびＲ85
が一緒になって＝Ｏである。ｐは１から５である。Ｚは
結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）−、−ＮＨ
−または−Ｓ−である。Ｑは−ＣＯＮ（Ｒ82Ｒ83）、−
５−テトラゾリル、−ＳＯ3Ｈまたは下記の基である：
【化２８】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ９９は水素ま
たはＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。
【００１４】本発明のインドールの好適な別の一群はイ
ンドール窒素にアルキル、アリールまたはベンジル基を
持つか、またはその誘導体である。このような１Ｈ−イ
ンドール−３−アセトアミドは式（ＩＩ）で示される
か、またはその医薬的に許容し得る塩である：
【化２９】 式中、Ｘは酸素または硫黄である。Ｒ11は群（ｉ）、
（ｉｉ）、（ｉｉｉ）および（ｉｖ）から選ばれ、ここ
に、（ｉ）はＣ6〜Ｃ20アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アルケニ
ル、Ｃ6〜Ｃ20アルキニル、Ｃ6〜Ｃ20ハロアルキル、Ｃ
4〜Ｃ12シクロアルキルである。または（ｉｉ）はアリ
ールまたは下記で置換されたアリールである：ハロ、ニ
トロ、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＯＨ、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10
アルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ10アルコキ
シル、カルボキシル、アミノまたはヒドロキシアミノ。
または（ｉｉｉ）は−（ＣＨ2）n−（Ｒ80）または−
（ＮＨ）−（Ｒ81）である。ここに、ｎは１から８であ
り、Ｒ80は（ｉ）に示した基であり、Ｒ81は（ｉ）また
は（ｉｉ）に示した基から選ばれる。（ｉｖ）は下式の
基である：
【化３０】 ここに、Ｒ87は水素またはＣ1〜Ｃ10−アルキルであ
り、Ｒ88は下記の基から選ばれる：フェニル、ナフチ
ル、インデニルおよびビフェニルであって、いずれも非
置換であるか、またはハロ、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−Ｏ
Ｈ、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ10アルコ
キシル、フェニル、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜
Ｃ10ハロアルキル、カルボキシル、アミノ、ヒドロキシ
アミノで置換されているか、または置換または非置換の
５員から８員のヘテロ環。Ｒ12はハロ、Ｃ1〜Ｃ2アルキ
ルチオまたはＣ1〜Ｃ2アルコキシである。各Ｒ13は独立
に水素、ハロまたはメチルである。
【００１５】Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16およびＲ17は各々独立に
水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルケニル、Ｃ1
〜Ｃ10アルキニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、アリー
ル、アラルキルまたはＲ14、Ｒ15、Ｒ16およびＲ17の組
の中の隣り合ったどの２個の炭化水素基もそれが結合し
ている環炭素原子と結合して５員または６員の置換また
は非置換炭素環を形成するか、またはＣ1〜Ｃ10ハロア
ルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ10−ハロアルコ
キシ、Ｃ4〜Ｃ8シクロアルコキシ、フェノキシ、ハロ、
ヒドロキシ、カルボキシル、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1〜Ｃ
10アルキルチオ、アリールチオ、チオアセタール、−Ｃ
（Ｏ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）、ヒドラジド、ヒドラ
ジノ、ヒドラジド、−ＮＨ2、−ＮＯ2、−ＮＲ82Ｒ83お
よび−Ｃ（Ｏ）ＮＲ82Ｒ83であり、ここに、Ｒ82および
Ｒ83は独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ヒド
ロキシアルキルであるか、またはＮと一緒になってＲ82
およびＲ83が５員から８員ヘテロ環を形成するか、また
は次式を持つ基である：
【化３１】 ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独立に下記から選ばれる
か：水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、ヒドロキシ、またはＲ
84およびＲ85が一緒になって＝Ｏである。ｐは１から５
である。Ｚは結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ10アルキ
ル）−、−ＮＨ−または−Ｓ−である。Ｑは−ＣＯＮ
（Ｒ82Ｒ83）、−５−テトラゾリル、−ＳＯ3Ｈまたは
次式の基である：
【化３２】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ99は水素また
はＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。
【００１６】本発明の別の好適な一群のインドールは２
個の主要置換基：すなわち、（１）４位または５位の一
方または双方の酸性基（すなわち、式ＩＩＩに記載した
Ｒ24およびＲ25）および（２）インドール窒素上のベン
ジルまたは置換ベンジルを持つものである。このような
１Ｈ−インドール−３−アセトアミドは式（ＩＩＩ）お
よびその医薬的に許容し得る塩で示される。
【化３３】 式中、Ｘは酸素または硫黄である。Ｒ21は−（ＣＨ2）n
−（Ｒ80）または−（ＮＨ）−（Ｒ81）である。ここ
に、ｎは１から８であり、Ｒ80はアリールまたは下記で
置換されたアリールであるか：Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1
〜Ｃ10アルケニル、Ｃ1〜Ｃ10アルキニル、Ｃ1〜Ｃ10ハ
ロアルキル、Ｃ4〜Ｃ12シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10ヒド
ロキシアルキル、カルボキシル、ハロ、−ＣＮ、−ＣＨ
Ｏ、−ＯＨ、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ
10アルコキシル、カルボキシル、アミノおよびヒドロキ
シアミノ、または置換または非置換５員から８員ヘテロ
環である。Ｒ22は水素、ハロ、Ｃ1〜Ｃ3アルキル、エテ
ニル、シクロプロピル、Ｃ1〜Ｃ2アルキルチオ、Ｃ1〜
Ｃ2アルコキシ、−ＣＨＯ、−ＣＮである。
【００１７】各Ｒ23は独立に水素、ハロまたはメチルで
ある。Ｒ24およびＲ25は各々独立に（ａ）および（ｂ）
から選ばれる。ここに、（ａ）は水素、ハロ、アルキル
またはアルコキシであり、（ｂ）は下式で示される基で
ある：
【化３４】 ただし、Ｒ24およびＲ25の少なくとも一方は（ｂ）から
選ばれるものとする。ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独
立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、ヒドロキシから選ばれ
るか、またはＲ84およびＲ85を一緒にして＝Ｏである。
ｐは１から５である。Ｚは結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜
Ｃ10アルキル）−、−ＮＨ−または−Ｓ−である。Ｑは
−ＣＯＮ（Ｒ82Ｒ83）、−５−テトラゾリル、−ＳＯ3
Ｈまたは次式の基である：
【化３５】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ99は水素また
はＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。
【００１８】Ｒ26およびＲ27は各々独立に水素、Ｃ1〜
Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルケニル、Ｃ1〜Ｃ10アルキ
ニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、アリール、アラルキル
であるか、またはＲ26およびＲ27両基内の隣りあってい
る炭化水素基はそれが結合している環炭素原子と一緒に
５員または６員の置換または非置換の炭素環を形成する
か、またはＣ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルコキ
シ、Ｃ1〜Ｃ10−ハロアルコキシ、Ｃ4〜Ｃ8シクロアル
コキシ、フェノキシ、ハロ、ヒドロキシ、カルボキシ
ル、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ、アリー
ルチオ、チオアセタール、−Ｃ（Ｏ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ10ア
ルキル）、ヒドラジド、ヒドラジノ、ヒドラジド、−Ｎ
Ｈ2、−ＮＯ2、−ＮＲ82Ｒ83および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ82Ｒ
83であり、ここに、Ｒ82およびＲ83は独立に水素、Ｃ1
〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ヒドロキシアルキルである
か、またはＮと一緒になってＲ82およびＲ83が５員から
８員ヘテロ環を形成するか、または次式で示される基で
ある：
【化３６】 ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10
アルキル、ヒドロキシから選ばれるか、またはＲ84およ
びＲ85が一緒になって＝Ｏである。ｐは１から５であ
る。Ｚは結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）
−、−ＮＨ−または−Ｓ−である。Ｑは−ＣＯＮ（Ｒ82
Ｒ83）、−５−テトラゾリル、−ＳＯ3Ｈまたは次式の
基である：
【化３７】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ99は水素また
はＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。
【００１９】本発明のインドールの他の好適な一群は２
個の主要置換基を持つものである：すなわち、（１）４
位または５位の一方または双方の酸性基（すなわち、式
ＩＶに記載したＲ34およびＲ35）および（２）インドー
ル環の２位（式ＩＶのＲ32）のハロゲン、硫黄または酸
素を含む小さい置換基。このような１Ｈ−インドール−
３−アセトアミドは式（ＩＶ）およびその医薬的に許容
し得る塩で示される：
【化３８】 式中、Ｘは酸素または硫黄である。Ｒ31は群（ｉ）、
（ｉｉ）および（ｉｉｉ）から選ばれ、ここに、（ｉ）
はＣ6〜Ｃ20アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アルケニル、Ｃ6〜Ｃ
20アルキニル、Ｃ6〜Ｃ20ハロアルキル、Ｃ4〜Ｃ12シク
ロアルキルである。または（ｉｉ）はアリールまたは下
記で置換されたアリールである：ハロ、−ＣＮ、−ＣＨ
Ｏ、−ＯＨ、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ
10アルコキシル、カルボキシル、アミノまたはヒドロキ
シアミノ。または
【００２０】（ｉｉｉ）は次式の基である：
【化３９】 ここに、Ｒ84は水素またはＣ1〜Ｃ10−アルキルであ
る。Ｒ87は下記の基から選ばれる：フェニル、ナフチ
ル、インデニルおよびビフェニルであって、いずれも非
置換であるか、またはハロ、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−Ｏ
Ｈ、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ10アルコ
キシ、カルボキシル、アミノ、ヒドロキシアミノで置換
されているか、または置換または非置換の５員から８員
のヘテロ環から選ばれる。Ｒ32はハロ、Ｃ1〜Ｃ2アルキ
ルチオまたはＣ1〜Ｃ2アルコキシである。各Ｒ33は独立
に水素、ハロまたはメチルである。Ｒ34およびＲ35は各
々独立に（ａ）および（ｂ）から選ばれる。ここに、
（ａ）は水素、ハロ、アルキルまたはアルコキシであ
り、（ｂ）は次式で示される基である：
【化４０】 ただし、Ｒ34およびＲ35の少なくとも一方は（ｂ）から
選ばれるものとする。ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独
立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、ヒドロキシから選ばれ
るか、またはＲ84およびＲ85を一緒にして＝Ｏである。
【００２１】ｐは１から５である。Ｚは結合、−Ｏ−、
−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）−、−ＮＨ−または−Ｓ−
である。Ｑは−ＣＯＮ（Ｒ82Ｒ83）、−５−テトラゾリ
ル、−ＳＯ3Ｈまたは次式の基である：
【化４１】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ９９は水素ま
たはＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。
【００２２】Ｒ26およびＲ27は各々独立に水素、Ｃ1〜
Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルケニル、Ｃ1〜Ｃ10アルキ
ニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、アリール、アラルキル
であるか、またはＲ26およびＲ27両基内の隣りあってい
る炭化水素基はそれが結合している環炭素原子と一緒に
５員または６員の置換または非置換の炭素環を形成する
か、またはＣ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルコキ
シ、Ｃ1〜Ｃ10−ハロアルコキシ、Ｃ4〜Ｃ8シクロアル
コキシ、フェノキシ、ハロ、ヒドロキシ、カルボキシ
ル、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ、アリー
ルチオ、チオアセタール、−Ｃ（Ｏ）Ｏ（Ｃ1〜Ｃ10ア
ルキル）、ヒドラジド、ヒドラジノ、ヒドラジド、−Ｎ
Ｈ2、−ＮＯ2、−ＮＲ82Ｒ83および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ82Ｒ
83であり、ここに、Ｒ82およびＲ83は独立に水素、Ｃ1
〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ヒドロキシアルキル、また
はＮと一緒になってＲ82およびＲ83が５員から８員のヘ
テロ環を形成するか、または次式で示される基である：
【化４２】 ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10
アルキル、ヒドロキシから選ばれるか、またはＲ84およ
びＲ85が一緒になって＝Ｏである。
【００２３】ｐは１から５である。Ｚは結合、−Ｏ−、
−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）−、−ＮＨ−または−Ｓ−
である。Ｑは−ＣＯＮ（Ｒ82Ｒ83）、−５−テトラゾリ
ル、−ＳＯ3Ｈまたは次式の基である：
【化４３】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ99は水素また
はＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。
【００２４】本発明のインドール化合物の最も好適な一
群は式ＶのＸが酸素、インドール環の窒素がベンジルま
たはビフェニルメチル基で置換され、そしてインドール
環の２位（すなわち、式ＶのＲ52）がハロ、メチルチオ
またはＣ1〜Ｃ3アルキルで置換されているものである。
このような１Ｈ−インドール−３−アセトアミドは式
（Ｖ）およびその医薬的に許容し得る塩で示される：
【化４４】 式中、Ｘは酸素である。Ｒ51は次式の基である：
【化４５】 ここに、Ｒ84は水素またはＣ1〜Ｃ10−アルキルであ
り、Ｒ87は−（ＣＨ2）m−（フェニル）または−（ＣＨ
2）m−（ビフェニル）、ここに、ｍは０から２であり、
フェニルまたはビフェニル残基は非置換であるか、また
はハロ、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＯＨ、ニトロ、フェニ
ル、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ10アルキ
ル、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシル、カルボキシル、アミノ、
ヒドロキシアミノで置換されているか、または置換また
は非置換の５員から８員のヘテロ環である。Ｒ52はハ
ロ、メチルチオ、シクロプロピルまたはＣ1〜Ｃ3アルキ
ルである。各Ｒ53は水素またはハロである。Ｒ54および
Ｒ55は各々独立に（ａ）および（ｂ）から選ばれ、ここ
に、（ａ）は水素であり、（ｂ）は次式で示される基で
ある：
【化４６】 ただし、Ｒ54およびＲ55の少なくとも一方は（ｂ）から
選ばれるものとする。また、Ｒ84およびＲ85は各々独立
に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、ヒドロキシから選ばれる
か、またはＲ84およびＲ85が一緒になって＝Ｏである。
ｐは１から５である。Ｚは結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜
Ｃ10アルキル）−、−ＮＨ−または−Ｓ−である。Ｑは
−５−テトラゾリル、−ＳＯ3Ｈまたは次式の基であ
る：
【化４７】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ99は水素また
はＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。Ｒ56およびＲ57は
各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10−アルキル、アリール、ア
ラルキル、Ｃ1〜Ｃ10−ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルコ
キシ、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルコキシ、フェノキシ、ハロ、
ヒドロキシ、カルボキシルまたは次式で示される基であ
る：
【化４８】 ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10
アルキル、ヒドロキシから選ばれるか、またはＲ84およ
びＲ85が一緒になって＝Ｏである。ｐは１から５であ
る。Ｚは結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）
−、−ＮＨ−または−Ｓ−である。Ｑは−５−テトラゾ
リル、−ＳＯ3Ｈまたは次式で示される基である：
【化４９】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ99は水素また
はＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。
【００２５】本発明で有用性を示す新規化合物の例には
下記がある：次式で示される化合物、４−［［３−（２
−アミノ−２−オキソエチル）−２−クロロ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキ
シ］ブタン酸：
【化５０】 次式で示される化合物、２−［［３−（２−アミノ−２
−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］酢酸：
【化５１】 次式で示される化合物、［３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸：
【化５２】 次式で示される化合物、４−［［３−（２−アミノ−２
−オキソエチル）−２−ブロモ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン
酸：
【化５３】
【００２６】次式で示される化合物、４−［［３−（２
−アミノ−２−オキソエチル）−２−（メチルチオ）−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イ
ル］オキシ］ブタン酸：
【化５４】 次式で示される化合物、５−（４−アミノ−４−オキソ
ブトキシ）−２−（メチルチオ）−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド：
【化５５】 次式で示される化合物、［４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン
酸：
【化５６】 次式で示される化合物、２−エチル−５−（４−ヒドラ
ジノ−４−オキソブトキシ）−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド：
【化５７】 次式で示される化合物、［３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸：
【化５８】
【００２７】次式で示される化合物、［３−［［３−
（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−エチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オ
キシ］プロピル］ホスホン酸モノメチルエステル：
【化５９】 次式で示される化合物、［３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）メ
チル］−２−エチル−１Ｈ−インドール−５−イル］オ
キシ］プロピル］ホスホン酸：
【化６０】 次式で示される化合物、［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）メチル］
−２−メチル−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］
メチル］酢酸ナトリウム塩：
【化６１】 次式で示される化合物、［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−（［１，１’−ビフェニル］−２−
イルメチル）−２−メチル−１Ｈ−インドール−４−イ
ル］オキシ］酢酸ナトリウム塩：
【化６２】
【００２８】次式で示される化合物、［［３−（２−ア
ミノ−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニ
ルメチル）−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］酢
酸：
【化６３】 次式で示される化合物、２−［［３−（２−アミノ−２
−オキソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−２−エチル−１Ｈ−インドール−４−イル］オキ
シ］酢酸：
【化６４】 次式で示される化合物、２−シクロプロピル−５−ヒド
ロキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミド：
【化６５】 次式で示される化合物、［３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−シクロプロピル−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］
プロピル］ホスホン酸：
【化６６】 次式で示される化合物、［３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン
酸：
【化６７】
【００２９】次式で示される化合物、４−［［３−（２
−アミノ−２−オキソエチル）−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン
酸：
【化６８】 次式で示される化合物、３−［４−［［３−（２−アミ
ノ−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニル
メチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロ
パン］スルホン酸：
【化６９】 次式で示される化合物、３−［［３−（２−アミノ−２
−オキソエチル）−２−ブロモ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸モノメチルエステル：
【化７０】 次式で示される化合物、２−ブロモ−６−クロロ−５−
メトキシ−１−（フェニルメチル）−Ｈ−インドール−
３−アセトアミド：
【化７１】 次式で示される化合物、２−ブロモ−６−クロロ−５−
ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）−Ｈ−インドール
−３−アセトアミド：
【化７２】
【００３０】次式で示される化合物、４−［［３−（２
−アミノ−２−オキソエチル）−２−ブロモ−６−クロ
ロ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−
イル］オキシ］ブタン酸：
【化７３】 次式で示される化合物、３−［４−［［３−（２−アミ
ノ−２−オキソエチル）−６−クロロ−１−（フェニル
メチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロ
ピル］ホスホン酸：
【化７４】 次式で示される化合物、４−アリル−２−エチル−５−
ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドー
ル−アセトアミド：
【化７５】 次式で示される化合物、２−［［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］メチル］
安息香酸：
【化７６】 および以上に列挙した化合物各々の医薬的に許容し得る
塩。
【００３１】前記式Ａ、Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶ、Ｖ、
ＶＩで示される１Ｈ−インドール−３−アセトアミド化
合物および列挙した具体的化合物の塩は本発明の別の側
面の一つである。本発明の化合物が酸性または塩基性官
能基を持つ場合には原化合物よりも水溶性が大きく、生
理学的に適する種々の塩を形成しうる。医薬的に許容し
うる代表的な塩はリチウム、ナトリウム、カリウム、カ
ルシウム、マグネシウム、アルミニウムなどのようなア
ルカリおよびアルカリ土類塩を含むが、これに限定され
るものではない。塩は遊離酸から溶液中の酸を塩基で処
理するか、または酸をイオン交換樹脂と接触させて容易
に製造できる。
【００３２】医薬的に許容し得る塩の定義の内には本発
明の化合物の相対的に無毒な、無機および有機塩基付加
塩、例えば、本発明の化合物と塩を形成するに十分な塩
基性のある窒素塩基から誘導される（たとえば、グルコ
サミン、モルホリン、コリンまたはジエチルアミンから
誘導される）アンモニウム、４級アンモニウムおよびア
ミンカチオン（例えば、Ｓ．Ｍ．Ｂｅｒｇｅなど、「医
薬的塩類（Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｓａｌｔ
ｓ）」、Ｊ．Ｐｈａｒ．Ｓｃｉ．、６６：１〜１９（１
９７７）参照）が含まれる。さらに、本発明化合物の塩
基性基は適当な有機または無機酸と反応して下記のよう
な塩を形成しうる：酢酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、安
息香酸塩、重炭酸塩、重硫酸塩、重酒石酸塩、ホウ酸
塩、臭化物、カムシル酸塩、炭酸塩、塩化物、クラブラ
ン酸塩、クエン酸塩、塩化水素酸塩、エデタ酸塩、エデ
ィシル酸塩、エストール酸塩、エシル酸塩、フッ化物、
フマル酸塩、グルセプト酸塩、グルコン酸塩、グルタミ
ン酸塩、グリコリルアルサニル酸塩、ヘキシルレゾルシ
ン酸塩、臭化物、塩化物、ヒドロキシナフトエ酸塩、ヨ
ウ化物、イソチオン酸塩、乳酸塩、ラクトビオン酸塩、
ラウリン酸塩、リンゴ酸塩、マルセイン酸塩、マンデル
酸塩、メシル酸塩、メチル臭化物、メチル硝酸塩、メチ
ル硫酸塩、ムコ酸塩、ナプシル酸塩、硝酸塩、オレイン
酸塩、シュウ酸塩、パルミチン酸塩、パントテン酸塩、
燐酸塩、ポリガラクトウロン酸塩、サリチル酸塩、ステ
アリン酸塩、サブアセテート、コハク酸塩、タンニン酸
塩、酒石酸塩、トジル酸塩、トリフルオロ酢酸塩、トリ
フルオロメタンスルホン酸塩およびバレリル酸塩。
【００３３】本発明化合物のあるものはキラル中心１個
またはそれ以上を持ちうるので光学活性体で存在しう
る。同様に、化合物がアルケニルまたはアルケニレン基
を含む時は化合物にシス−およびトランス−異性体の可
能性が存在する。Ｒ−およびＳ−異性体およびラセミ化
合物を含むその混合物ならびにシス−およびトランス−
異性体混合物も本発明に含める。付加的な不斉炭素原子
もアルキル基のような置換基に存在できる。このような
異性体のすべてならびにその混合物は本発明に含めるも
のとする。もし、特定の立体異性体を望むなら、既に光
学分割した不斉中心を含む出発物質に立体特異的反応を
用いることにより、または、立体異性体混合物に導く方
法とそれに続く公知方法による光学分割により当分野で
周知の方法で製造できる。
【００３４】プロドラッグは本発明化合物の誘導体であ
って、化学的または代謝的に分解される基を持ち、加溶
媒分解によるか、または生理学的条件の下に、生体内で
医薬的に活性な本発明化合物になるものである。本発明
化合物の誘導体は酸および塩基誘導体の両型で活性を持
つが、酸誘導体はしばしば溶解度、組織親和性または哺
乳類器官内で遅延放出の有利さを示す（Ｂｕｎｄｇａｒ
ｄ，Ｈ．、「プロドラッグの設計（Ｄｅｓｉｇｎ ｏｆ
Ｐｒｏｄｕｇｓ）」、７〜９頁、２１〜２４頁、Ｅｌ
ｓｅｖｉｅｒ、Ａｍｓｔｅｒｄａｍ、１９８５年）。プ
ロドラッグは当業者に周知の酸誘導体、例えば、酸性の
原化合物と適当なアルコールとの反応で製造されるエス
テルまたは原酸化合物と適当なアミンとの反応で製造さ
れるアミドのようなものを含む。本発明化合物に存在す
る酸性基から誘導される単純な脂肪族または芳香族エス
テルは好適なプロドラッグである。場合により、（アシ
ルオキシ）アルキルエステルまたは（（アルコキシカル
ボニル）オキシ）アルキルエステルのような重複エステ
ル型プロドラッグを製造することが望ましい場合もあ
る。
【００３５】合成法 構造（Ｉ）で示される１Ｈ−インドール−３−アセトア
ミドの合成は公知方法で達成できる。本発明化合物の合
成に有用な操作は下記反応式に略述する：最初の反応式
では、１Ｈ−インドール−３−酢酸エステルＩＩはハロ
ゲン化アルキルまたはハロゲン化アリールアルキルで
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）のような溶媒
中で塩基の存在下に容易にアルキル化されて（方法ａ）
中間反応式１．
【化７７】 体、１−アルキル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エステ
ルＩＩＩを与えることができる。カリウムｔ−ブトキシ
ドおよび水素化ナトリウムのような塩基は有用である。
インドールＩＩを塩基と反応させて先づＩＩの塩を形成
し、次にアルキル化剤を加えることは有利である。この
１−アルキル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エステルＩ
ＩＩとヒドラジンまたはヒドラジン水和物とのエタノー
ル中の処理（方法ｂ）は所期の１−アルキル−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸ヒドラジドＩＶを与える。ＩＶを形
成するこの縮合は溶媒の還流温度で１から２４時間実施
しうる。酢酸ヒドラジドＩＶをエタノール中ラネーニッ
ケルとの加熱（方法ｃ）により水素化してアセトアミド
Ｉを得る。中間体酢酸エステルＩＩＩを先づ加水分解し
て酢酸誘導体Ｖ（方法ｄ）とし、これをクロロギ酸アル
キル、続いて無水アンモニアで処理（方法ｅ）してもア
ミドＩを得る。
【００３６】中間体１Ｈ−インドール−３−酢酸エステ
ルＩＩは反応式２に図示する数種の合成経路から得られ
る。１Ｈ−インドール−３−酢酸ＶＩはメタノールのよ
うな反応式２．
【化７８】 アルコール中で硫酸のような強酸の存在下に容易にエス
テル化（方法ｆ）されてＩＩを与える。置換フェニルヒ
ドラジンＶＩＩはレブリン酸誘導体ＶＩＩＩと周知のフ
ィッシャー−インドール合成（方法ｇ）により（Ｂ．Ｃ
ａｒｌｉｎおよびＥ．Ｅ．Ｆｉｓｈｅｒ、Ｊ．Ａｍ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．、１９４８、７０：３４２１参照）直
接インドールＩＩを与える。溶媒として還流温度でのエ
タノールおよび酸触媒としての塩化水素が一般に用いら
れる。３位が非置換であるインドールＩＸはまずＩＸの
亜鉛塩を形成し、この塩を２−ブロモアルカン酸アルキ
ルで処理（Ｙｏｓｈｉｈｉｋｏ Ｉｔｏ、Ｈｉｄｅａｋ
ｉ Ｓａｔｏ、Ｍａｓａｈｉｒｏ Ｍｕｒａｋａｍｉ、
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９９１、５６：４８６４〜
４８６７参照）して（方法ｈ）でアルキル化してＩＩを
与える。ＩＸの亜鉛塩はインドールＩＸをまず溶媒とし
てテトラヒドロフランを用いてｎ−ブチルリチウムと、
次にエーテル中で塩化亜鉛と反応して製造できる。この
反応のための溶媒は、普通、亜鉛塩形成後にエーテルと
ＴＨＦ溶媒を減圧下に除き、トルエンを加えてトルエン
に置き換える。
【００３７】ＩＸの別の置換誘導体のためには、反応式
３の反応（Ｒｏｂｉｎ Ｄ．Ｃｌａｒｋ、Ｊｏｓｅｐｈ
Ｍ．Ｍｕｃｈｏｗｓｋｉ、Ｌａｗｒｅｎｃｅ Ｅ．Ｆ
ｉｓｈｅｒ、Ｌｅｅ Ａ．Ｆｌｉｐｐｉｎ、Ｄａｖｉｄ
Ｂ．Ｒｅｐｋｅ，Ｍｉｃｈｅｌ Ｓｏｕｃｈｅｔ、Ｓ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ、１９９１、８７１〜８７８）を用い
る。反応式３．
【化７９】 オルト−メチルアニリンＸをジ炭酸ジ−ｔ−ブチルとＴ
ＨＦ中、還流温度で処理（方法ｉ）してＮ−ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニルアニリンＸＩを得る。ＴＨＦ中でｓ
ｅｃ−ブチルリチウム２当量で処理してＸＩのジアニオ
ンを形成し、これをＮ−メトキシ−Ｎ−メチルアルカン
酸アミド１当量と反応（方法ｊ）してアリールケトンＸ
ＩＩを得る。このケトンをトリフルオロ酢酸と処理（方
法ｋ）して環化と窒素脱保護をしてインドールＩＸを得
る。５位がニトロ置換されたＩＸ型のインドールは（Ｗ
ａｙｌａｎｄ Ｅ．Ｎｏｌａｎｄ、Ｌｏｗｅｌｌ Ｒ．
ＳｍｉｔｈおよびＤｏｎａｌｄ Ｃ．Ｊｏｈｎｓｏｎ、
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、１９６３、２８：２２６２〜
２２６６参照）予め硫酸に溶解した適当なインドールに
硝酸ナトリウムを加える（方法ｌ）と得られる。
【００３８】反応式４．
【化８０】 Ｉの誘導体であってＲ1置換基が５−ヒドロキシまたは
メトキシ以外のアルコキシであるものを得るためには、
反応式５に記載の方法を用いる。５−メトキシインドー
ル−３−酢酸をＢＢｒ3で処理（方法ｍ）して容易に脱
メチル化（Ｔｓｕｎｇ−Ｙｉｎｇ Ｓｈｅｎ及びＣｈａ
ｒｌｅｓ Ａ．Ｗｉｎｔｅｒ、Ａｄｖ．Ｄｒｕｇ Ｒｅ
ｓ．、１９７７、１２：１７６参照）して、５−ヒドロ
キシイン反応式５．
【化８１】 ドールＶを得、これを前記方法で処理してＲ1がヒドロ
キシであるＩとする。１Ｈ−インドール−３−アセトア
ミドであって、Ｒ1が４−または５−または６−メトキ
シであるものは方法ｍにより直接に脱メチル化してＩ
（Ｒ１＝ヒドロキシ）とする。これらの化合物は次にア
ルキル化すれば構造ＸＩＩＩの化合物が得られる。アク
リル酸アルキルを用いる時は、ｘが２であるＸＩＩＩの
誘導体が得られる。ブロモアセテートおよび４−ブロモ
ブチレートは各々ｘが１および３である構造ＸＩＩＩの
エステルを与える。ハロゲン化ベンジルの使用でフェニ
ルメチル誘導体を得る。Ｒ7がエステル基を含む化合物
はすべて対応カルボン酸ＸＩＶに変換できる。
【００３９】２−クロロ−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミドは反応式６に略記した反応で最良に製造され
る。ＸＶの１−ジメチルアミノ置換基を用いてｓｅｃ−
ブチルリチウムでリチウム化を２位に指向する。これを
ベンゼンスルホン酸塩化物で処理するとＸＶＩを与え、
これをＨＣｌ水での処理でジメチルアミノ基を失って２
−クロロ−５−メトキシ−１Ｈ−インドールを与える。
このインドールの前記方法を用いる反応は２−クロロエ
ステルＩＩＩを与える。このエステルは試薬（ＣＨ3）2
ＡｌＮＨ2を（方法ｑ）用いて２−クロロアミドＩに変
換しうる。これらはＯ−脱メチル化し、フェノール性中
間体を反応式５に記載のように再アルキル化すればＲ3
がクロロである構造ＸＩＩＩの化合物を与える。反応式
６．
【化８２】 Ｒ3がブロモである中間体１Ｈ−インドール−３−酢酸
エステルＩＩＩはＲ3が水素であるエステルＩＩＩをＮ
−ブロモサクシンイミドと反応させて（方法ｓ）製造す
る。同様にして塩化メタンスルフェニルはＲ3＝ＣＨ3Ｓ
である３−メチルチオインドールＩＩＩを与える。
【化８３】
【００４０】Ｒ1がフェニルである構造Ｉの化合物はＲ1
がＢｒである中間体のフェニル化（Ｎ．Ｍｉｙａｕｒ
ａ、Ｔ．Ｙａｍａｇ、Ａ．Ｓｕｚｕｋ：Ｓｙｎｔｈ．Ｃ
ｏｍｍｕｎ．１９８１、１１：５１３〜５１９参照）に
（方法ｔ）よって造られる。このフェニル化は適当なブ
ロモ置換中間体のいずれについても実施できる。Ｒ1が
反応式７．
【化８４】 アミノカルボニルである１Ｈ−インドール−３−アセト
アミドＩは適当なジエステルＸＶＩＩを経て造られ、こ
れを前記方法で目的のジアミドＩに変換できる。
【化８５】 Ｒ1置換基が窒素を含むアミドＩならびにＸＸＩおよび
ＸＸＩＩのようにアミノ基の置換基がエステルまたはカ
ルボン酸を含む化合物は反応式８に略述した操作により
製造しうる。２−メチル−５−ニトロ−１Ｈ−インドー
ルを先ずベンジル化してＮ−置換誘導体ＸＶＩＩＩを得
る。このインドールの塩化オキサリルによる処理と後続
するアンモニアガスの添加（方法ｕ）はオグザルアミド
ＸＩＸを与える。この化合物を段階的に還元する。グリ
コール酸アミドＸＸはＸＶＩＩＩをＮａＢＨ4で処理
（方法ｖ）して得られる。この中間体のトリフルオロ酢
酸中、トリエチルシランによる還元（方法ｗ）はアセト
アミドＩ（Ｒ1＝Ｏ2Ｎ）を与える。ニトロ官能基は接触
還元（方法ｘ）されて５−アミノアミド（Ｉ、Ｒ1＝Ｎ
Ｈ2）を与えうる。このアミノ中間体をアクリル酸メチ
ルで処理するとエステルアミドＸＸＩを得る（この反応
ではＮ，Ｎ−ジ置換誘導体も得られる）。このエステル
は水酸化ナトリウムで加水分解するとカルボン酸アミド
ＸＸＩＩを与えうる。同じエステル中間体ＸＸＩをヒド
ラジンと反応させればヒドラジノカルボニル誘導体ＸＸ
ＩＩＩを与える。６−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−イ
ンドールは反応式８の最初の４工程に略記した一連の反
応により６−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミドに変換される。反応式８．
【化８６】
【００４１】
【実施例】以下に本発明の実施例を記載するが、これは
例示目的のみのために提供するものである。請求項の範
囲内の多数の態様は当業者には明白であるから、これら
は本発明の範囲を如何なる意味でも限定することを意図
するものではない。なお、実施例中ではｍＭはミリモル
を示すものとする。
【００４２】実施例１ ２，６−ジメチル−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミドの
製造。 Ａ．Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−２，５−ジメ
チルアニリン。 ２，５−ジメチルアニリン（２４．２
ｇ、０．２モル）およびジ炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル５
０．０ｇ（０．２２９モル）のテトラヒドロフラン２０
０ｍＬ溶液を徐々に加熱して還流し、還流を２時間維持
した。冷後、反応混合物を減圧濃縮し、残渣をＥｔＯＡ
ｃに溶かした。ＥｔＯＡｃ溶液を１Ｎ−クエン酸で洗
い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をヘキサ
ンから結晶化してＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−
２，５−ジメチルアニリン２４．０ｇ（収率：５４％）
を得た。ｍｐ．１０３〜１０４℃。 元素分析：Ｃ13Ｈ19ＮＯ2として計算値：Ｃ，７０．５
６；Ｈ，８．６５；Ｎ，６．３２。実験値：Ｃ，７０．
２８；Ｈ，８．５１；Ｎ，６．６０。
【００４３】Ｂ．２，６−ジメチル−１Ｈ−インドー
ル。 １．３Ｍ−ｓｅｃ−ブチルリチウム／シクロヘキ
サン（８１．０ｍＬ、０．１０５モル）溶液をＮ−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル−４−エトキシ−２−メチル
アニリン１１．０５ｇ（０．０５モル）のＴＨＦ１５０
ｍＬ溶液にドライアイス−エタノール浴で温度を−４０
℃以下に保ちながら徐々に加えた。０．２５時間後、Ｎ
−メトキシ−Ｎ−メチルアセトアミド７．２１ｇ（０．
０７モル）の等容ＴＨＦ溶液を滴加した。反応混合物を
１時間撹拌し、冷浴を去り、さらに１時間撹拌した。こ
れを次にエーテル５００ｍＬと１Ｎ−ＨＣｌ５００ｍＬ
の混合物に注入した。有機層を分離し、水洗し、Ｎａ2
ＳＯ4で乾燥した。溶媒除去後、粗製の１−（２−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−４−メチルフェニ
ル）−２−プロパノン１２．５ｇが残った。この物質お
よびトリフルオロ酢酸１５ｇをＣＨ2Ｃｌ2２５０ｍＬ中
で室温で１６時間撹拌した。混合物を水で２回および飽
和炭酸ナトリウム溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。
溶媒除去後、生成物をシリカ上クロマトグラフィーし、
トルエンで溶出して２，６−ジメチル−１Ｈ−インドー
ル３．２ｇ（収率：４４％）を得た。ｍｐ．７４〜７６
℃。 元素分析：Ｃ10Ｈ11Ｎとして計算値：Ｃ，８２．７２；
Ｈ，７．６４；Ｎ，９．６５。実験値：Ｃ，８２．４
７；Ｈ，７．３４；Ｎ，９．９２。
【００４４】Ｃ．２，６−ジメチル−１Ｈ−インドール
−３−酢酸メチルエステル。 ２，６−ジメチル−１Ｈ
−インドール２．９ｇ（０．０２モル）のＴＨＦ４０ｍ
Ｌ冷溶液に１．６Ｍ−ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液
１２．５ｍＬ（０．０２モル）を氷−エタノール浴で温
度を１０℃以下に保ちながら加えた。０．２５時間後、
１Ｍ−塩化亜鉛のエーテル溶液２０．０ｍＬ（０．０２
７７モル）を加えた。冷浴を除き、混合物を２時間撹拌
し、次に減圧濃縮してワックス状物を得、これをトルエ
ン４０ｍＬに溶かした。この溶液に２−ブロモ酢酸メチ
ル１．８９ｍＬ（０．０２モル）を加え、混合物を２４
時間撹拌し、１Ｎ−ＨＣｌ１００ｍＬおよびＥｔＯＡｃ
１００ｍＬ中に注入した。有機層を水で２回洗い、Ｎａ
2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカ上クロマ
トグラフィーし、１０％ＥｔＯＡｃ／トルエンで溶出し
て２，６−ジメチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチ
ルエステル３．１７ｇ（収率：７３％）を油として得
た。 元素分析：Ｃ13Ｈ15ＮＯ2として計算値：Ｃ，７１．８
７；Ｈ，６．９６；Ｎ，６．４５。実験値：Ｃ，７１．
６１；Ｈ，６．９５；Ｎ，６．３０。
【００４５】Ｄ．２，６−ジメチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチルエステル。
カリウムｔ−ブトキシド（０．９７５ｇ、０．００８
７モル）を２，６−ジメチル−１Ｈ−インドール−３−
酢酸メチルエステル１．８９ｇ（０．００８７モル）に
ＤＭＦ２５ｍＬ中で加え、混合物を０．２５時間撹拌
し、塩化ベンジル１．０ｍＬを加え、混合物を７２時間
撹拌した。水で希釈後、混合物をＥｔＯＡｃで抽出し
た。ＥｔＯＡｃ溶液を水で４回洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥
した。溶媒を減圧除去し、残渣をシリカ上クロマトグラ
フィーし、トルエンで溶出して２，６−ジメチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチ
ルエステル１．７６ｇ（収率：６６％）を油として得
た。 元素分析：Ｃ20Ｈ21ＮＯ2として計算値：Ｃ，７８．１
５；Ｈ，６．８９；Ｎ，４．５６。実験値：Ｃ，７８．
１８；Ｈ，７．１０；Ｎ，４．５３。
【００４６】Ｅ．２，６−ジメチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸。 ２，６−ジメ
チル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３
−酢酸メチルエステル１．７ｇ（０．００５５モル）お
よび５Ｎ−ＮａＯＨ２ｍＬのＭｅＯＨ５０ｍＬ溶液を還
流を維持しながら３時間加熱し、水で希釈し、５Ｎ−Ｈ
Ｃｌ溶液で酸性とした。混合物をＥｔＯＡｃで抽出し、
ＥｔＯＡｃ溶液をＮａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。
残渣をトルエンから結晶化して２，６−ジメチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸０．
８５ｇ（収率：５８％）を得た。ｍｐ．１７９〜１８０
℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ19ＮＯ2として計算値：Ｃ，７７．７
９；Ｈ，６．５３；Ｎ，４．７７。実験値：Ｃ，７８．
０１；Ｈ，６．６０；Ｎ，４．８０。
【００４７】Ｆ．２，６−ジメチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 ２，
６−ジメチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インド
ール−３−酢酸０．４８ｇ（１．６４ｍＭ）のテトラヒ
ドロフラン（ＴＨＦ）２５ｍＬ溶液を氷水浴で冷却し、
トリエチルアミン０．４５ｍＬ、続いてクロロギ酸メチ
ル０．１３ｍＬ（１．７ｍＭ）を加えた。０．５時間
後、反応混合物にＮＨ3ガスを０．５時間吹込み、冷浴
を除き、混合物を２時間撹拌した。これを次に水に注入
し、ＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を炭酸ナトリ
ウム溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。
残渣をＭｅＯＨ／水から結晶化して２，６−ジメチル−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミド０．１９ｇ（収率：３９％）を得た。ｍｐ．１
６０〜１６３℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ20Ｎ2Ｏとして計算値：Ｃ，７８．０
５；Ｈ，６．８９；Ｎ，９．５８。実験値：Ｃ，７８．
３１；Ｈ，６．９７；Ｎ，９．３１。
【００４８】実施例２ ５−ヒドロキシ−２−メチル−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミドの製造。 Ａ．５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３
−酢酸メチルエステル。 ５−メトキシ−２−メチル−
１Ｈ−インドール−３−酢酸１２．２ｇ（０．０５５７
モル）のＭｅＯＨ１５０ｍＬおよび硫酸１ｍＬの溶液を
還流を維持しながら１５時間加熱した。冷後、混合物を
炭酸水素ナトリウム溶液で希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出し
た。ＥｔＯＡｃ溶液を飽和ＮａＣｌで洗い、Ｎａ2ＳＯ4
で乾燥した。溶媒を減圧除去して粗製５−メトキシ−２
−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチルエステル
１３ｇを得た。
【００４９】Ｂ．５−メトキシ−２−メチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸。 Ａ段
からの粗製５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドー
ル−３−酢酸メチルエステル（５６ｍＭ）をＤＭＦ２５
０ｍＬおよびＴＨＦ約１０ｍＬに溶かし、６０％ＮａＨ
／鉱油２．５ｇ（６２ｍＭ）を加えた。０．５時間後、
臭化ベンジル８ｍＬ（６７ｍＭ）を加え、混合物を０．
７５時間撹拌し、水で希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出した。
生成物をシリカ上でクロマトグラフ（２０％エーテル／
ヘキサン→５０％エーテル／ヘキサン）して５−メトキ
シ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イン
ドール−３−酢酸メチルおよびエチルエステルの混合物
１０．１ｇを得た。この混合物をＥｔＯＨ２００ｍＬお
よび５Ｎ−ＮａＯＨ２０ｍＬに溶解し、還流を維持しな
がら２０．７５時間加熱した。冷後、混合物を５Ｎ−Ｈ
Ｃｌで酸性とし、ＥｔＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ溶
液をＮａＣｌで洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮し
て粗製の５−メトキシ−２−メチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸７．９ｇ（収率：
４６％）を得た。
【００５０】Ｃ．５−ヒドロキシ−２−メチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチ
ルエステル。 ＢＢｒ3３ｍＬ（３０ｍＭ）を５−メト
キシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸３．１ｇ（１０ｍＭ）にＣＨ２Ｃｌ
2２５０ｍＬ中で加え、混合物を１７時間撹拌した。１
Ｎ−ＨＣｌとともに撹拌後、ＥｔＯＨを少量加え、有機
層を分離し、飽和ＮａＣｌ溶液で洗い、乾燥し、減圧濃
縮して粗製の５−ヒドロキシ−２−メチル−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸２．９５ｇ
（収率：１００％）を得た。この物質１．７ｇのメタノ
ール溶液をＡ段に記載したように硫酸で処理し、シリカ
ゲルクロマトグラフィー（３０％エーテル／ヘキサン→
６０％エーテル／ヘキサン）後に５−ヒドロキシ−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−酢酸メチルエステル１．５ｇを得た。
【００５１】Ｄ．５−ヒドロキシ−２−メチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトア
ミド。 ５−ヒドロキシ−２−メチル−１−（フェニル
メチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチルエステル
７５０ｍｇ（２．４ｍＭ）とヒドラジン２ｍＬとのエタ
ノール７５ｍＬ溶液を還流を維持しながら７２時間加熱
した。冷後、ラネイニッケル２ｇを注意深く加え、混合
物を還流下に４時間加熱した。冷後、デカンテーション
して溶媒を取除き、固体をＥｔＯＡｃでデカンテーショ
ンにより洗った。溶媒を合し、セライトで濾過し、減圧
濃縮した。残渣をＥｔＯＨから結晶化して５−ヒドロキ
シ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イン
ドール−３−アセトアミド５７０ｍｇ（収率：８０％）
を得た。ｍｐ．１８５〜１８７℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ18Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７３．４
５；Ｈ，６．１６；Ｎ，９．５２。実験値：Ｃ，７３．
２３；Ｈ，６．３２；Ｎ，９．６９。
【００５２】実施例３ ５−メトキシ−１−（フェニル
メチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミドの製
造。 Ａ．５−メトキシ−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチル
エステル。 実施例１、Ｃ段に記載のように、５−メト
キシ−１Ｈ−インドール２９．４４ｇ（０．２モル）を
１．６Ｍ−ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液１２５ｍＬ
（０．２モル）、１Ｍ−ＺｎＣｌ2エーテル溶液２００
ｍＬ（０．２モル）および２−ブロモ酢酸エチル２２．
２ｍＬ（０．２モル）で処理し、シリカ上クロマトグラ
フィー（５％ＥｔＯＡｃ／トルエンで溶出）後、５−メ
トキシ−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル２
０ｇ（収率：４３％）を油として得た。 元素分析：Ｃ１３Ｈ15ＮＯ3として計算値：Ｃ，６６．
９４；Ｈ，６．４８；Ｎ，６．０１。実験値：Ｃ，６
６．７２；Ｈ，６．５３；Ｎ，５．９１。
【００５３】Ｂ．５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル。
実施例１、Ｄ段に記載の操作を用いて５−メトキシ−１
Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル３．１５ｇ
（０．０１３５モル）をカリウムｔ−ブトキシド１．５
１ｇ（０．０１３５モル）および塩化ベンジル１．５５
ｍＬ（０．０１３５モル）と反応させ、シリカ上クロマ
トグラフィー（トルエン→５％ＥｔＯＡｃ／トルエンで
傾斜溶出）後、５−メトキシ−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル３．６ｇ
（収率：８３％）を油として得た。 元素分析：Ｃ20Ｈ21ＮＯ3として計算値：Ｃ，７４．２
８；Ｈ，６．５５；Ｎ，４．３３。実験値：Ｃ，７５．
５３；Ｈ，６．６７；Ｎ，４．０８。
【００５４】Ｃ．５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド。 ５−
メトキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−３−酢酸エチルエステル１．４ｇ（４．３３ｍＭ）お
よびヒドラジン１０ｍＬのＥｔＯＨ７５ｍＬ溶液を還流
を維持しながら１６時間加熱した。反応混合物は冷却後
に沈殿を形成し、これを濾取して５−メトキシ−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒド
ラジド１．３３ｇ（収率：９３％）を得た。ｍｐ．１４
３〜１４４℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ19Ｎ3Ｏ2として計算値：Ｃ，６９．８
８；Ｈ，６．１９；Ｎ，１３．５８。実験値：Ｃ，６
９．９１；Ｈ，６．１９；Ｎ，１３．３７。
【００５５】Ｄ．５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 ラネイ
ニッケル１ｇを５−メトキシ−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド７９０ｍｇ
（２．４ｍＭ）にＥｔＯＨ１２０ｍＬ中で加え、混合物
を還流下に２時間加熱した。触媒を濾去後、濾液を減圧
濃縮し、残渣をエーテルとかきまぜて５−メトキシ−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセト
アミド６７５ｍｇ（収率：８９％）を得た。ｍｐ．１５
６〜１５８℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ18Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７３．４
５；Ｈ，６．１６；Ｎ，９．５２。実験値：Ｃ，７０．
１８；Ｈ，５．９６；Ｎ，８．９３。
【００５６】実施例４ １−シクロヘキシルメチル−５
−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミドの製造。 Ａ．５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３
−酢酸エチルエステル。 乾燥塩化水素を氷水浴で冷却
しながら４−メトキシフェニルにルヒドラジン塩酸塩２
７．９５ｇ（０．１６モル）およびレブリン酸１９．７
２ｇ（０．１７モル）のエタノール５００ｍＬ溶液に
０．５時間吹込んだ。浴を去り、反応物を徐々に還流ま
で加熱し、還流を２０時間維持した。冷後、混合物を水
に注入し、ＥｔＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ溶液を炭
酸水素ナトリウム溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。
溶媒を減圧除去後、残渣をシリカ上クロマトグラフし、
５％ＥｔＯＡｃ／トルエンで溶出して５−メトキシ−２
−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル
１４．２ｇ（収率：３６％）を得た。ｍｐ．３８〜４０
℃。 元素分析：Ｃ14Ｈ17ＮＯ3として計算値：Ｃ，６７．９
９；Ｈ，６．９３；Ｎ，５．６６。実験値：Ｃ，６８．
２４；Ｈ，６．８８；Ｎ，５．７５。
【００５７】Ｂ．１−シクロヘキシルメチル−５−メト
キシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチル
エステル。 実施例１、Ｄ段に記載した操作を用いて、
５−メトキシ−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエス
テル４．７ｇ（０．１９モル）をカリウムｔ−ブトキシ
ド２．１３ｇ（０．０１９モル）および臭化シクロヘキ
シルメチル２．６５ｍＬ（０．０１９モル）と反応さ
せ、シリカクロマトグラフィー（トルエン→５％ＥｔＯ
Ａｃ／トルエンで傾斜溶出）後、１−シクロヘキシルメ
チル−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−
３−酢酸エチルエステル３．１６ｇ（収率：４８％）を
油として得た。 元素分析：Ｃ21Ｈ29ＮＯ3として計算値：Ｃ，７３．４
４；Ｈ，８．５１；Ｎ，４．０８。実験値：Ｃ，７３．
６８；Ｈ，８．６４；Ｎ，４．１４。
【００５８】Ｃ．１−シクロヘキシルメチル−５−メト
キシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸。 実
施例１、Ｅ段に記載した方法を用い、１−シクロヘキシ
ルメチル−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドー
ル−３−酢酸エチルエステル３．１ｇ（９．０ｍＭ）お
よび５Ｎ−ＮａＯＨ５ｍＬをＥｔＯＨ５０ｍＬ中で反応
させ、後処理により、１−シクロヘキシルメチル−５−
メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸
２．１ｇ（収率：７４％）を得た。トルエンから結晶化
後、ｍｐ．１７３〜１７５℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ25ＮＯ3として計算値：Ｃ，７２．３
５；Ｈ，７．９９；Ｎ，４．４４。実験値：Ｃ，７２．
６４；Ｈ，８．００；Ｎ，４．５２。
【００５９】Ｄ．１−シクロヘキシルメチル−５−メト
キシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド。 １−シクロヘキシルメチル−５−メトキシ−２−
メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸０．６３ｇ（２．
０ｍＭ）およびトリエチルアミン０．５６ｍＬ（４ｍ
Ｍ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２５ｍＬ溶液をク
ロロギ酸メチル０．１６２ｍＬ（２．１ｍＭ）および次
にＮＨ3ガスと実施例１、Ｆ段のように反応させて１−
シクロヘキシルメチル−５−メトキシ−２−メチル−１
Ｈ−インドール−３−アセトアミド０．３ｇ（収率：４
８％）を得た。ｍｐ．１２５〜１２６℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ26Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７２．５
８；Ｈ，８．３３；Ｎ，８．９１。実験値：Ｃ，７２．
５７；Ｈ，８．３５；Ｎ，８．８１。
【００６０】実施例５ ５−メトキシ−２−メチル−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセト
アミドの製造。 Ａ．５−メトキシ−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル。
実施例１、Ｄ段に記載の操作を用いて５−メトキシ−２
−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル
（実施例４、Ａ段）４．０７ｇ（０．０１６５モル）を
カリウムｔ−ブトキシド１．８５ｇ（０．０１６５モ
ル）および塩化ベンジル１．９６ｍＬ（０．０１６５モ
ル）と反応させ、シリカクロマトグラフィー（トルエン
→１０％ＥｔＯＡｃ／トルエンで傾斜溶出）後、５−メ
トキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−３−酢酸エチルエステル３．７８ｇ（収
率：６８％）を得た。ｍｐ．６３〜６４℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ23ＮＯ3として計算値：Ｃ，７４．７
５；Ｈ，６．８７；Ｎ，４．１５。実験値：Ｃ，７４．
７６；Ｈ，６．８９；Ｎ，４．２８。
【００６１】Ｂ．５−メトキシ−２−メチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジ
ド。 ５−メトキシ−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル１．
０ｇ（２．９６ｍＭ）とヒドラジン５ｍＬとをＭｅＯＨ
５０ｍＬ溶液中で実施例３、Ｃ段に記載のように反応さ
せ、エーテルでかきまぜて、５−メトキシ−２−メチル
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢
酸ヒドラジド９２０ｍｇ（収率：９６％）を得た。ｍ
ｐ．１６１〜１６２℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ21Ｎ3Ｏ2として計算値：Ｃ，７０．５
３；Ｈ，６．５４；Ｎ，１２．９９。実験値：Ｃ，７
０．４１；Ｈ，６．５８；Ｎ，１２．９３。
【００６２】Ｃ．５−メトキシ−２−メチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド。 実施例３、Ｄ段のような方法を用い、５−メトキ
シ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イン
ドール−３−酢酸ヒドラジド９４５ｍｇ（２．９ｍＭ）
をＥｔＯＨ５０ｍＬ中、ラネイニッケル１．５ｇを用い
て反応させた。この反応混合物の後処理は粗生成物を与
え、これをＥｔＯＡｃを用いてシリカを通して濾過し、
ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨから結晶化して５−メトキシ−２
−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド２２５ｍｇ（収率：２５％）を得
た。ｍｐ．１２８〜１３０℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ20Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７４．０
０；Ｈ，６．５４；Ｎ，９．０８。実験値：Ｃ，７４．
００；Ｈ，６．５１；Ｎ，９．０５。
【００６３】実施例６ １−（２，６−ジクロロフェニ
ルメチル）−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インド
ール−３−アセトアミドの製造。 Ａ． １−（２，６−ジクロロフェニルメチル）−５−
メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エ
チルエステル。 ６０％ＮａＨ／鉱油８０ｍｇ（２ｍ
Ｍ）の懸濁液をヘキサンで洗い、ＤＭＦ８ｍＬ中に入れ
た。氷浴冷却下に５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸エチルエステル４９４ｍｇ（２ｍ
Ｍ）を加え、１時間撹拌し、次にα，２，６−トリクロ
ロトルエン３９１ｍｇ（２ｍＭ）を加え、撹拌を１．５
時間維持した。混合物を水で希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出
し、ＥｔＯＡｃ溶液を水／ＮａＣｌで洗い、ＭｇＳＯ4
で乾燥した。溶液を減圧濃縮し、生成物をシリカ上クロ
マトグラフし、２５％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出して
１−（２，６−ジクロロフェニルメチル）−５−メトキ
シ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエ
ステル５５６ｍｇ（収率：６８％）を得、これは放置す
ると固化した。ｍｐ．１３１〜１３３℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ21Ｃｌ2ＮＯ3として計算値：Ｃ，６
２．０８；Ｈ，５．２１；Ｎ，３．４５。実験値：Ｃ，
６１．７９；Ｈ，５．２３；Ｎ，３．５１。
【００６４】Ｂ． １−（２，６−ジクロロフェニルメ
チル）−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール
−３−酢酸ヒドラジド。 ヒドラジン１．３ｍＬを１−
（２，６−ジクロロフェニルメチル）−５−メトキシ−
２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステ
ル５３３ｍｇ（１．３ｍＭ）にＥｔＯＨ１０ｍＬ中で加
え、混合物を還流を維持しながら６時間加熱した。冷
後、混合物を水で希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯ
Ａｃ溶液を塩化ナトリウム溶液で洗い、ＭｇＳＯ4で乾
燥した。溶媒を減圧除去し、残渣をＭｅＯＨから結晶化
して１−（２，６−ジクロロフェニルメチル）−５−メ
トキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒド
ラジド２５０ｍｇ（収率：６１％）を得た。ｍｐ．１９
４〜１９６℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ19Ｃｌ2Ｎ3Ｏ2として計算値：Ｃ，５
８．１７；Ｈ，４．８８；Ｎ，１０．７１。実験値：
Ｃ，５８．６５；Ｈ，４．９８；Ｎ，１０．６８。
【００６５】Ｃ． １−（２，６−ジクロロフェニルメ
チル）−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド。 ラネイニッケルを１−（２，６
−ジクロロフェニルメチル）−５−メトキシ−２−メチ
ル−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド１６８ｍｇ
（０．４３ｍＭ）にＥｔＯＨ１０ｍＬ中で加え、混合物
を還流温度で３．５時間加熱した。冷後、溶媒を固体か
らデカンテーションし、固体を数回ＥｔＯＡｃで洗い、
溶媒を合し、減圧濃縮した。残渣をシリカを通して濾過
し、ＥｔＯＡｃで溶出し、次にＭｅＯＨから結晶化して
１−（２，６−ジクロロフェニルメチル）−５−メトキ
シ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド
２４ｍｇ（収率：１５％）を得た。ｍｐ．２０３〜２０
５℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ18Ｃｌ2Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，６
０．４９；Ｈ，４．８１；Ｎ，７．４２。実験値：Ｃ，
６０．７５；Ｈ，４．８９；Ｎ，７．６５。
【００６６】実施例７ １−［（４−ベンジルオキシフ
ェニル）メチル］−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−
インドール−３−アセトアミドの製造。 Ａ． １−［（４−ベンジルオキシフェニル）メチル］
−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−
酢酸。 実施例６、Ａ段に記載の方法を用いて、５−メ
トキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチ
ルエステル２．０ｇ（８．１２ｍＭ）と６０％ＮａＨ／
鉱油０．３２５ｇ（８．１２ｍＭ）と４−ベンジルオキ
シ−１−クロロメチルベンゼン１．８８ｇ（８．１２ｍ
Ｍ）とを反応させ、後処理して粗製の１−［（４−ベン
ジルオキシフェニル）メチル］−５−メトキシ−２−メ
チル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル８０
０ｍｇを得た。この粗製エステルをＭｅＯＨ５０ｍＬと
１Ｎ−ＮａＯＨ１５ｍＬ中で還流温度で３時間加熱し、
１６時間放置した。水で希釈後、混合物を１Ｎ−ＨＣｌ
で酸性とし、ＥｔＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ溶液を
Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、濃縮した。残渣をＭｅＯＨから結
晶化して１−［（４−ベンジルオキシフェニル）メチ
ル］−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−
３−酢酸２８０ｍｇ（収率：３２％）を得た。ｍｐ．１
７５〜１７９℃。 元素分析：Ｃ26Ｈ25ＮＯ4として計算値：Ｃ，７５．１
６；Ｈ，６．０６；Ｎ，３．３７。実験値：Ｃ，７５．
０５；Ｈ，６．０７；Ｎ，３．４７。
【００６７】Ｂ． １−［（４−ベンジルオキシフェニ
ル）メチル］−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−イン
ドール−３−アセトアミド。 実施例１、Ｆ段の方法を
用い、１−［（４−ベンジルオキシフェニル）メチル］
−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−
酢酸１７０ｍｇ（０．４１ｍＭ）、クロロギ酸エチル
０．１ｍＬ、トリエチルアミン１ｍＬおよび過剰のＮＨ
3を反応させて１−［（４−ベンジルオキシフェニル）
メチル］−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドー
ル−３−アセトアミド６０ｍｇ（収率：３５％）を得
た。ＭｅＯＨから結晶化後、ｍｐ．１５５〜１５７℃。 元素分析：Ｃ26Ｈ26Ｎ2Ｏ3として計算値：Ｃ，７５．３
４；Ｈ，６．３２；Ｎ，６．７６。実験値：Ｃ，７５．
０９；Ｈ，６．３５；Ｎ，６．６４。
【００６８】実施例８ ５−メトキシ−２−メチル−１
−［（２−ピルジル）メチル］−１Ｈ−インドール−３
−アセトアミドの製造。 Ａ．５−メトキシ−２−メチル−１−［（２−ピルジ
ル）メチル］−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエス
テル。 実施例６、Ａ段に記載の操作を用い、５−メト
キシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチル
エステル４９４ｍｇ（２ｍＭ）と６０％ＮａＨ／鉱油１
６０ｍｇ（４ｍＭ）と塩化２−ピコリル塩酸塩３２８ｍ
ｇ（２ｍＭ）とを反応させ、シリカ上クロマトグラフィ
ー（５０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出）後に５−メト
キシ−２−メチル−１−［（２−ピルジル）メチル］−
１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル５１０ｍｇ
（収率：７５％）を油として得た。 元素分析：Ｃ20Ｈ22Ｎ2Ｏ3として計算値：Ｃ，７０．９
９；Ｈ，６．５５；Ｎ，８．２８。実験値：Ｃ，７１．
２８；Ｈ，６．８４；Ｎ，８．４４。
【００６９】Ｂ．５−メトキシ−２−メチル−１−
［（２−ピルジル）メチル］−１Ｈ−インドール−３−
酢酸ヒドラジド。 実施例６、Ｂ段に記載の方法を用い
て、５−メトキシ−２−メチル−１−［（２−ピルジ
ル）メチル］−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエス
テル４８０ｍｇ（１．４ｍＭ）をヒドラジン１．４ｍＬ
と反応させ、ＭｅＯＨから結晶化後、５−メトキシ−２
−メチル−１−［（２−ピルジル）メチル］−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸ヒドラジド３０４ｍｇ（収率：６７
％）を得た。ｍｐ．１４７〜１４８℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ20Ｎ4Ｏ2として計算値：Ｃ，６６．６
５；Ｈ，６．２２；Ｎ，１７．２７。実験値：Ｃ，６
６．４０；Ｈ，６．２１；Ｎ，１７．３４。
【００７０】Ｃ．５−メトキシ−２−メチル−１−
［（２−ピルジル）メチル］−１Ｈ−インドール−３−
アセトアミド。 実施例６、Ｃ段の操作を用い、５−メ
トキシ−２−メチル−１−［（２−ピルジル）メチル］
−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド２００ｍｇ
（０．６２ｍＭ）およびラネイニッケル約１ｇをＥｔＯ
Ｈ１０ｍＬ中で反応させ、シリカ上２回クロマトグラフ
し、ＥｔＯＡｃと次は５％ＭｅＯＨ／ＥｔＯＡｃで溶出
して５−メトキシ−２−メチル−１−［（２−ピルジ
ル）メチル］−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド５
４ｍｇ（収率：２８％）を半固体物質として得た。 元素分析：Ｃ18Ｈ19Ｎ3Ｏ2として計算値：Ｃ，６９．８
８；Ｈ，６．１９；Ｎ，１３．５８。実験値：Ｃ，７
０．０４；Ｈ，６．３２；Ｎ，１３．８５。
【００７１】実施例９ ２−エチル−５−メトキシ−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセト
アミドの製造。 Ａ．Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−メトキシ
−２−メチルアニリン。 実施例１、Ａ段の操作によ
り、４−メトキシ−２−メチルアニリン１３．７ｇ
（０．１モル）をジ炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル２５ｇ
（０．１１４５モル）と反応させてＮ−ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル−４−メトキシ−２−メチルアニリン１
７．２５ｇ（収率：７３％）を得た。ヘキサンから結晶
化後、ｍｐ．８０〜８２℃。 元素分析：Ｃ13Ｈ19ＮＯ3として計算値：Ｃ，６５．８
０；Ｈ，８．０７；Ｎ，５．９０。実験値：Ｃ，６５．
８６；Ｈ，８．１５；Ｎ，５．６１。
【００７２】Ｂ．１−［２−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニルアミノ）−５−メトキシフェニル］−２−ブ
タノン。 １．３Ｍ−ｓｅｃ−ブチルリチウム／シクロ
ヘキサン８１ｍＬ（０．１０５モル）をＮ−ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニル−４−メトキシ−２−メチルアニリ
ン１１．８５ｇ（０．０５モル）のＴＨＦ８０ｍＬ溶液
にドライアイス−エタノール浴で温度を−４０℃以下に
保ちながら徐々に加えた。浴を去り、温度を−２０℃ま
で戻し、次に浴につけた。温度が−６０℃に下がった
後、Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルプロパンアミド６．１ｇ
（０．０５２モル）のＴＨＦ等量溶液を滴加した。反応
混合物を１時間撹拌し、冷浴を去り、さらに１時間撹拌
した。次にエーテル２００ｍＬと１Ｎ−ＨＣｌ２００ｍ
Ｌの混合物に注入した。有機層を分離し、水洗し、Ｎａ
2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮して１−［２−（Ｎ−ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−５−メトキシフェニ
ル］−２−ブタノン１０．９ｇ（収率：７４％）を得
た。シリカ上クロマトグラフィーで５％ＥｔＯＡｃ／ト
ルエンで溶出後、ｍｐ．８０〜８１℃。 元素分析：Ｃ16Ｈ23ＮＯ4として計算値：Ｃ，６５．５
１；Ｈ，７．９０；Ｎ，４．７７。実験値：Ｃ，６５．
６９；Ｈ，７．８９；Ｎ，４．９０。
【００７３】Ｃ．２−エチル−５−メトキシ−１Ｈ−イ
ンドール。 １−［２−（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニルアミノ）−５−メトキシフェニル］−２−ブタノ
ン７．３３ｇ（０．０２５モル）をＣＨ2Ｃｌ2１２０ｍ
Ｌおよびトリフルオロ酢酸２０ｍＬ中で２０時間撹拌
し、水、ＮａＨＣＯ3溶液で洗い、生成物をシリカ上ク
ロマトグラフ（２０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出）し
て２−エチル−５−メトキシ−１Ｈ−インドール２．５
４ｇ（収率：５８％）を白色固体として得た。ｍｐ．４
９〜５０℃。 元素分析：Ｃ11Ｈ13ＮＯとして計算値：Ｃ，７５．４
０；Ｈ，７．４８；Ｎ，７．９９。実験値：Ｃ，７５．
６４；Ｈ，７．６１；Ｎ，８．０４。
【００７４】Ｄ．２−エチル−５−メトキシ−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸メチルエステル。 実施例１、Ｃ段
のように、２−エチル−５−メトキシ−１Ｈ−インドー
ル３．５ｇ（０．０２モル）を１．６Ｍ−ｎ−ブチルリ
チウムのヘキサン溶液１２．５ｍＬ（０．０２モル）、
１Ｍ−ＺｎＣｌ2のエーテル溶液２０ｍＬ（０．０２モ
ル）および２−ブロモ酢酸メチル１．８９ｍＬ（０．０
２モル）で処理して、シリカ上クロマトグラフィー（ト
ルエン→１０％ＥｔＯＡｃ／トルエン）後に２−エチル
−５−メトキシ−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチルエ
ステル３．３２ｇ（収率：５９％）を油として得た。 元素分析：Ｃ14Ｈ17ＮＯ3として計算値：Ｃ，６７．９
９；Ｈ，６．９３；Ｎ，５．６６。実験値：Ｃ，６７．
７３；Ｈ，６．９４；Ｎ，５．３９。
【００７５】Ｅ．２−エチル−５−メトキシ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチルエ
ステル。 ２−エチル−５−メトキシ−１Ｈ−インドー
ル−３−酢酸メチルエステル２．４７ｇ（０．０１モ
ル）のＤＭＦ２５ｍＬ溶液をカリウムｔ−ブトキシド
１．１２ｇ（０．０１モル）で処理し、０．５時間撹拌
し、塩化ベンジル１．１５ｍＬ（０．０１モル）を加え
た。７２時間後、反応混合物を水で希釈し、ＥｔＯＡｃ
で抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を４回水洗し、Ｎａ2ＳＯ4で
乾燥した。減圧濃縮後、生成物をシリカ上クロマトグラ
フし、トルエン→１０％ＥｔＯＡｃ／トルエン傾斜濃度
で溶出して精製した後、２−エチル−５−メトキシ−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸メ
チルエステル１．５ｇ（収率：４４％）を油として得
た。 元素分析：Ｃ21Ｈ23ＮＯ3として計算値：Ｃ，７４．７
５；Ｈ，６．８７；Ｎ，４．１５。実験値：Ｃ，７５．
００；Ｈ，６．９９；Ｎ，４．２８。
【００７６】Ｆ．２−エチル−５−メトキシ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジ
ド。 実施例３、Ｃ段に記載の方法を用いて、２−エチ
ル−５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸メチルエステル７４８ｍｇ（２．２
ｍＭ）をヒドラジン２．２ｍＬと反応させ、２−エチル
−５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イン
ドール−３−酢酸ヒドラジド５５２ｍｇ（収率：７４
％）を得、これは冷後、反応混合物から晶出（ｍｐ．１
３８〜１４０℃）した。 元素分析：Ｃ20Ｈ23Ｎ3Ｏ2として計算値：Ｃ，７１．１
９；Ｈ，６．８７；Ｎ，１２．４５。実験値：Ｃ，７
１．１３；Ｈ，６．８６；Ｎ，１２．３３。
【００７７】Ｇ．２−エチル−５−メトキシ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド。 ２−エチル−５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド２２５ｍ
ｇ（０．６７ｍＭ）のエタノール溶液を実施例６、Ｃ段
に記載のようにラネイニッケル約１．５ｇと反応させ、
粗生成物をシリカ上クロマトグラフィーで５０％ＥｔＯ
Ａｃ／ヘキサン、ＥｔＯＡｃ、次に５％ＭｅＯＨ／Ｅｔ
ＯＡｃで溶出し、ＭｅＯＨから結晶化後、２−エチル−
５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インド
ール−３−アセトアミド４６ｍｇ（収率：２１％）を得
た。ｍｐ．１６１〜１６６℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ22Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７４．５
１；Ｈ，６．８８；Ｎ，８．６９。実験値：Ｃ，７４．
７７；Ｈ，６．９４；Ｎ，８．８１。
【００７８】実施例１０ ５−メトキシ−１−（フェニ
ルメチル）−２−プロピル−１Ｈ−インドール−３−ア
セトアミドの製造。 Ａ．１−［２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ）−５−メトキシフェニル］−２−ペンタノン。 実
施例９、Ｂ段に記載の方法を用い、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル−４−メトキシ−２−メチルアニリン
（実施例９、Ａ段）１５．１７ｇ（０．０６４モル）を
１．３Ｍ−ｓｅｃ−ブチルリチウム／シクロヘキサン
（１００ｍＬ、０．１３モル）およびＮ−メトキシ−Ｎ
−メチルブタンアミド８．４ｇ（０．０６４モル）で処
理し、１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−５
−メトキシフェニル）−２−ペンタノン１４．３１ｇ
（収率：７３％）を得た。シリカ上クロマトグラフィー
で５％ＥｔＯＡｃ／トルエンで溶出後、ｍｐ．７７〜７
８℃。元素分析：Ｃ17Ｈ25ＮＯ4として計算値：Ｃ，６
６．４３；Ｈ，８．２０；Ｎ，４．５６。実験値：Ｃ，
６６．４２；Ｈ，８．０９；Ｎ，４．７１。
【００７９】Ｂ．５−メトキシ−２−プロピル−１Ｈ−
インドール。 １−［２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ）−５−メトキシフェニル］−２−ペンタノ
ン（１４．２７ｇ、０．０４６５モル）を実施例９、Ｃ
段に記載のようにトリフルオロ酢酸２０ｍＬで処理し、
生成物をヘキサンから結晶化して５−メトキシ−２−プ
ロピル−１Ｈ−インドール５．５ｇ（収率：５８％）を
白色固体として得た。ｍｐ．４９〜５０℃。 元素分析：Ｃ12Ｈ15ＮＯとして計算値：Ｃ，７６．１
６；Ｈ，７．９９；Ｎ，７．４０。実験値：Ｃ，７６．
３６；Ｈ，８．０７；Ｎ，７．５２。
【００８０】Ｃ．５−メトキシ−２−プロピル−１Ｈ−
インドール−３−酢酸メチルエステル。 実施例１、Ｃ
段のように、５−メトキシ−２−プロピル−１Ｈ−イン
ドール５．１２５ｇ（０．０２７１モル）を１．６Ｍ−
ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液１６．９ｍＬ（０．
０２７１モル）、１Ｍ−ＺｎＣｌ2のエーテル溶液２
７．１ｍＬ（０．０２７１モル）および２−ブロモ酢酸
メチル２．７ｍＬ（０．０２７１モル）で処理し、シリ
カ上クロマトグラフィー（２０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ン）後、５−メトキシ−２−プロピル−１Ｈ−インドー
ル−３−酢酸メチルエステル４．６５ｇ（収率：６６
％）を油として得た。 元素分析：Ｃ15Ｈ19ＮＯ3として計算値：Ｃ，６８．９
４；Ｈ，７．３３；Ｎ，５．３６。実験値：Ｃ，６８．
６９；Ｈ，７．３６；Ｎ，５．６３。
【００８１】Ｄ．５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−２−プロピル−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチ
ルエステル。 実施例１、Ｄ段に記載の操作を用い、５
−メトキシ−２−プロピル−１Ｈ−インドール−３−酢
酸メチルエステル５２２ｍｇ（２ｍＭ）と６０％ＮａＨ
／鉱油８０ｍｇ（２ｍＭ）と臭化ベンジル０．２４ｍＬ
（２ｍＭ）とを反応させ、シリカクロマトグラフィー
（２５％ＥｔＯＡｃ／ヘキサン）後、５−メトキシ−１
−（フェニルメチル）−２−プロピル−１Ｈ−インドー
ル−３−酢酸メチルエステル５０１ｍｇ（収率：７１
％）を油として得た。
【００８２】Ｅ．５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−２−プロピル−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒド
ラジド。 実施例３、Ｃ段に記載の方法を用い、５−メ
トキシ−１−（フェニルメチル）−２−プロピル−１Ｈ
−インドール−３−酢酸メチルエステル４８０ｍｇ
（１．３７ｍＭ）をヒドラジン１．４ｍＬと反応させ、
ＭｅＯＨから結晶化後、５−メトキシ−１−（フェニル
メチル）−２−プロピル−１Ｈ−インドール−３−酢酸
ヒドラジド５６ｍｇ（収率：７４％）を得た。ｍｐ．１
４０〜１４１℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ25Ｎ3Ｏ2として計算値：Ｃ，７１．７
７；Ｈ，７．１７；Ｎ，１１．９６。実験値：Ｃ，７
１．９８；Ｈ，７．１２；Ｎ，１１．９８。
【００８３】Ｆ．５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−２−プロピル−１Ｈ−インドール−３−アセトア
ミド。 ５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−２−
プロピル−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド１６
０ｍｇ（０．４６ｍＭ）のエタノール溶液を実施例６、
Ｃ段に記載のようにラネーニッケル約１．０ｇと反応さ
せ、粗生成物をシリカ上クロマトグラフし、ＥｔＯＡｃ
で溶出し、ＭｅＯＨから結晶化後、５−メトキシ−１−
（フェニルメチル）−２−プロピル−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド５５ｍｇ（収率：３６％）を得た。
ｍｐ．１５４〜１５６℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ24Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７４．９
７；Ｈ，７．１９；Ｎ，８．３３。実験値：Ｃ，７５．
０５；Ｈ，７．２１；Ｎ，８．２９。
【００８４】実施例１１ ２−クロロ−５−メトキシ−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミドの製造。 Ａ．１−ジメチルアミノメチル−５−メトキシ−１Ｈ−
インドール。 ３７％ホルムアルデヒド水（１１ｇ、
０．１７６モル）を５−メトキシ−１Ｈ−インドール１
０ｇ（０．０６８モル）および４０％ジメチルアミン水
１７ｍＬ（０．１７６モル）にテトラヒドロフラン１０
０ｍＬ中で滴加し、混合物を還流を維持しながら３時間
加熱した。冷後、水を加え、混合物をＥｔＯＡｃで抽出
した。ＥｔＯＡｃ溶液を２回水洗し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥
し、減圧濃縮した。残渣をシリカ上クロマトグラフし、
ＣＨ2Ｃｌ2→２％ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2傾斜で溶出して
１−ジメチルアミノメチル−５−メトキシ−１Ｈ−イン
ドール６．２６ｇ（収率：４５％）を油として得た。 元素分析：Ｃ12Ｈ16Ｎ2Ｏとして計算値：Ｃ，７０．５
６；Ｈ，７．８９；Ｎ，１３．７１。実験値：Ｃ，７
０．７９；Ｈ，７．９２；Ｎ，１３．６４。
【００８５】Ｂ．２−クロロ−５−メトキシ−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸メチルエステル。 ドライアイス−
エタノール浴で冷却しつつ、１．３Ｍ−ｓｅｃ−ブチル
リチウム／シクロヘキサン２０ｍＬ（０．０２６モル）
を１−ジメチルアミノメチル−５−メトキシ−１Ｈ−イ
ンドール５．１ｇ（０．０２５モル）にＴＨＦ１００ｍ
Ｌ中で温度を−５０℃以下に保ちながら加えた。冷浴を
去り、温度を０℃とし、再び浴に漬けた。−６０℃で塩
化ベンゼンスルホニル３．３２ｍＬ（０．０２６モル）
のＴＨＦ１０ｍＬ溶液を加え、０．３時間撹拌し、浴を
去り、温度を１時間の間に２０℃とした。この混合物に
１Ｎ−ＨＣｌ１００ｍＬおよびＥｔＯＡｃ５０ｍＬを加
え、混合物を２０時間撹拌した。５Ｎ−ＮａＯＨで塩基
性とした後、ＥｔＯＡｃ層を分離し、水洗し、Ｎａ2Ｓ
Ｏ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカ上クロマト
グラフし、トルエンで溶出して粗２−クロロ−５−メト
キシ−１Ｈ−インドール１．３７ｇ（収率：２９％）を
得た。この物質（７．５５ｍＭ）にＴＨＦ３０ｍＬ中で
１．６Ｍ−ｎ−ブチルリチウム／ヘキサン４．７ｍＬ
（７．５５ｍＭ）を温度をエタノール氷浴で１０℃以下
に保ちながら加えた。０．２５時間後、１Ｍ−ＺｎＣｌ
2／エーテル７．５５ｍＬ（７．５５ｍＭ）を加え、２
時間撹拌し、減圧濃縮し、トルエン４０ｍＬと続いて２
−ブロモ酢酸メチル０．７２ｍＬ（７．５５ｍＭ）を加
えた。混合物を１６時間撹拌し、７６℃に４時間加温
し、冷却し、１Ｎ−ＨＣｌ５０ｍＬとＥｔＯＡｃ４０ｍ
Ｌを加えた。０．５時間後、有機層を分離し、Ｎａ2Ｓ
Ｏ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカ上クロマト
グラフし、傾斜溶媒（トルエン→２０％ＥｔＯＡｃ／ト
ルエン）で溶出して２−クロロ−５−メトキシ−１Ｈ−
インドール−３−酢酸メチルエステル０．７９ｇ（収
率：４１％）を油として得た。 元素分析：Ｃ12Ｈ12ＣｌＮＯ3として計算値：Ｃ，５
６．８２；Ｈ，４．７７；Ｎ，５．５２。実験値：Ｃ，
５６．４７；Ｈ，５．１９；Ｎ，４．９９。
【００８６】Ｃ．２−クロロ−５−メトキシ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド。 実施例２、Ｂ段の方法を用いて２−クロロ−５−
メトキシ−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチルエステル
６６０ｍｇ（２．６ｍＭ）、６０％ＮａＨ／鉱油１４０
ｍｇ（３．５ｍＭ）および臭化ベンジル０．５ｍＬを反
応させて物質を得、これをシリカ上クロマトグラフ（５
％エーテル／ヘキサン→１５％エーテル／ヘキサンで溶
出）した。この粗製中間体２−クロロ−５−メトキシ−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸
メチルエステルは７１０ｍｇ（収率：７９％）あった。
この物質１ｍＭ（３４４ｍｇ）をベンゼン２０ｍＬに溶
かし、０．６７Ｍ−（ＣＨ3）2ＡｌＮＨ2／ベンゼン５
ｍＬを加え、混合物を還流を維持しながら２時間加熱
し、アルミニウム試薬５ｍＬを追加し、加熱を１．５時
間続けた。氷浴で冷却後、混合物を１Ｎ−ＨＣｌで分解
し、ＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を飽和ＮａＣ
ｌで洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣の
シリカクロマトグラフィー（ＣＨ2Ｃｌ2→２％ＭｅＯＨ
／ＣＨ2Ｃｌ2で溶出）は出発物質（エステル）５０ｍｇ
および２−クロロ−５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド１６５ｍｇ
（収率：５０％）を与えた。ｍｐ．１６６〜１６８℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ17ＣｌＮ2Ｏ2として計算値：Ｃ，６
６．０７；Ｈ，５．３８；Ｃｌ，１０．７６；Ｎ，８．
４８。実験値：Ｃ，６５．７５；Ｈ，５．２１；Ｃｌ，
１０．７８；Ｎ，８．５２。
【００８７】実施例１２ ５−メトキシ−２−（メチル
チオ）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミドの製造。 氷浴冷却下、ジメチルジサルフィド１．０ｍＬの塩化メ
チレン２５ｍＬ溶液に塩化スルフリル（０．８ｍＬ、１
０ｍＭ）を加え、冷浴を去り、混合物を室温に戻した。
この溶液（塩化メタンスルフェニル含有）３ｍＬを５−
メトキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド（実施例３）３２０ｍｇ（１．１ｍ
Ｍ）に塩化メチレン１００ｍＬ中で加え、０．３３時間
撹拌し、飽和ＮａＨＣＯ3溶液を加え、よく撹拌し、塩
化メチレン溶液を分離し、飽和ＮａＣｌで洗い、Ｎａ2
ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカ上クロマ
トグラフし、４０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサン→１００％Ｅ
ｔＯＡｃで溶出して５−メトキシ−２−（メチルチオ）
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−ア
セトアミド１１５ｍｇ（収率：３１％）を得た。ｍｐ．
１９５〜１９７℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ20Ｎ2Ｏ2Ｓとして計算値：Ｃ，６７．
０３；Ｈ，５．９２；Ｎ，８．２２；Ｓ，９．４２。実
験値：Ｃ，６６．５７；Ｈ，５．９３；Ｎ，７．９２；
Ｓ，９．８８。
【００８８】実施例１３ ５−ベンジルオキシ−２−メ
チル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３
−アセトアミドの製造。 ５−ヒドロキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（４００ｍｇ、
１．４ｍＭ）をＤＭＳＯ５０ｍＬに溶かし、６０％Ｎａ
Ｈ／鉱油４０ｍｇ（１．０ｍＭ）を加え、約０．５時間
撹拌し、臭化ベンジル０．２ｍＬを加え、撹拌を２．５
時間継続した。混合物を水で希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出
し、ＥｔＯＡｃ溶液を水と飽和ＮａＣｌ溶液で洗い、Ｎ
ａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカ上クロ
マトグラフ（ＣＨ2Ｃｌ2→２％ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2傾
斜で溶出）し、ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨから結晶化して５
−ベンジルオキシ−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド４４０ｍｇ
（収率：８２％）を得た。ｍｐ．１１８〜１２０℃。 元素分析：Ｃ25Ｈ24Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７８．１
０；Ｈ，６．２９；Ｎ，７．２９。実験値：Ｃ，７７．
５６；Ｈ，６．３３；Ｎ，７．１６。
【００８９】実施例１４ １−デシル−５−メトキシ−
２−メチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミドの製
造。 Ａ．１−デシル−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸エチルエステル。 実施例１、Ｄ段
に記載の方法を用い、５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ
−インドール−３−酢酸エチルエステル２．４７ｇ（１
０．０ｍＭ）をカリウムｔ−ブトキシド１．１２ｇ（１
０．０ｍＭ）および臭化デシル２．０７ｍＬ（１０．０
ｍＭ）と反応させ、シリカ上クロマトグラフィー（５％
ＥｔＯＡｃ／トルエンで溶出）後に１−デシル−５−メ
トキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチ
ルエステル２．１６ｇ（収率：５６％）を得た。 元素分析：Ｃ24Ｈ37ＮＯ3として計算値：Ｃ，７４．３
８；Ｈ，９．６２；Ｎ，３．６１。実験値：Ｃ，７４．
５３；Ｈ，９．３８；Ｎ，３．５７。
【００９０】Ｂ．１−デシル−５−メトキシ−２−メチ
ル−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド。 １−デ
シル−エトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−
酢酸エチルエステル２．１ｇ（５．４ｍＭ）およびヒド
ラジン５ｍＬのＥｔＯＨ４０ｍＬ溶液を還流を維持しな
がら５時間加熱し、１６時間放置し、沈殿を濾取し、Ｍ
ｅＯＨから結晶化して１−デシル−５−メトキシ−２−
メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド０．６
５ｇ（収率：３２％）を得た。ｍｐ．１２９〜１３１
℃。 元素分析：Ｃ22Ｈ35Ｎ3Ｏ2として計算値：Ｃ，７０．７
４；Ｈ，９．４４；Ｎ，１１．２５。実験値：Ｃ，７
０．７９；Ｈ，９．６０；Ｎ，１１．１３。
【００９１】Ｃ．１−デシル−５−メトキシ−２−メチ
ル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 ラネイニ
ッケル約１．５ｇを１−デシル−５−メトキシ−２−メ
チル−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド１．５ｇ
（４．０ｍＭ）にＥｔＯＨ２５０ｍＬ中で加え、混合物
を還流下に３時間加熱した。冷後、混合物を濾過し、濾
液を減圧濃縮した。残渣をＥｔＯＡｃ／ヘキサンから結
晶化し、１−デシル−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ
−インドール−３−アセトアミド０．９８７ｇ（収率：
６９％）を得た。ｍｐ．１１０〜１１１℃。 元素分析：Ｃ22Ｈ34Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７３．７
０；Ｈ，９．５６；Ｎ，７．８１。実験値：Ｃ，７６．
８０；Ｈ，９．３６；Ｎ，７．９５。
【００９２】実施例１５ ５−アミノカルボニル−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミドの製造。 Ａ．５−エトキシカルボニル−２−メチル−１Ｈ−イン
ドール−３−酢酸エチルエステル。 乾燥塩化水素を４
−ヒドラジノ安息香酸２５ｇ（０．１６４３モル）およ
びレブリン酸２０．５ｍＬ（０．２モル）の溶液に０．
５時間吹込み、反応混合物を還流を維持しながら２０時
間加熱した。冷後、混合物を減圧濃縮し、水を加え、混
合物をＥｔＯＡｃ／エーテルで抽出した。Ｎａ2ＳＯ4で
乾燥後、溶液を濃縮し、残渣をシリカ上クロマトグラフ
し、溶媒傾斜（トルエン→２０％ＥｔＯＡｃ／トルエ
ン）で溶出して後の画分から５−エトキシカルボニル−
２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステ
ルと中間体ヒドラゾンの混合物１２ｇを得た。この混合
物を再び乾燥ＨＣｌのＥｔＯＨ２５０ｍＬ溶液で処理
し、還流を維持しながら１６時間加熱した。冷後、混合
物を水に注入し、ＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液
をＮａ2ＣＯ3溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。シリ
カクロマトグラフィー（トルエン→２０％ＥｔＯＡｃ／
トルエン）で５−エトキシカルボニル−２−メチル−１
Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル３．６ｇ（収
率：７．６％）を得た。ｍｐ．７４〜７６℃。 元素分析：Ｃ16Ｈ19ＮＯ4として計算値：Ｃ，６６．４
２；Ｈ，６．６２；Ｎ，４．８４。実験値：Ｃ，６６．
５４；Ｈ，５．００；Ｎ，１０．３９。
【００９３】Ｂ．５−エトキシカルボニル−２−メチル
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢
酸エチルエステル。 実施例２、Ｂ段に記載した操作を
用い、５−エトキシカルボニル−２−メチル−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸エチルエステル２．１８ｇ（７．５
ｍＭ）を６０％ＮａＨ／鉱油３２０ｍｇ（８ｍＭ）およ
び臭化ベンジル１．０ｍＬ（８．４ｍＭ）と反応させ、
シリカクロマトグラフィー（２５％エーテル／ヘキサン
→５０％エーテル／ヘキサン）後、５−エトキシカルボ
ニル−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸エチルエステル１．６ｇ（収率：５
６％）を得た。
【００９４】Ｃ．５−カルボキシ−２−メチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチ
ルエステル。 ５−エトキシカルボニル−２−メチル−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸
エチルエステル１．６ｇ（４．２ｍＭ）および１Ｎ−Ｎ
ａＯＨ４．２ｍＬのＥｔＯＨ７５ｍＬ溶液を２．２５時
間撹拌し、１Ｎ−ＮａＯＨ１０ｍＬを加え、さらに１
８．５時間撹拌した。反応混合物を１Ｎ−ＨＣｌで酸性
にし、ＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を飽和Ｎａ
Ｃｌ溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。
残渣をＥｔＯＨ１５０ｍＬ中で４．５時間加熱し、室温
に９６時間放置した。減圧濃縮後、残渣をシリカクロマ
トグラフ（２５％エーテル／ヘキサン→５０％エーテル
／ヘキサン）して、５−カルボキシ−２−メチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチ
ルエステル１１０ｍｇ（収率：７．５％）を得た。
【００９５】Ｄ．５−ヒドラジノカルボニル−２−メチ
ル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−
酢酸ヒドラジド。 実施例３、Ｃ段に記載の方法を用
い、５−カルボキシ−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル１１
０ｍｇ（０．３１ｍＭ）をヒドラジン３ｍＬと反応（合
計還流時間：７８時間）させ、反応混合物の冷却で５−
ヒドラジノカルボニル−２−メチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド４０ｍ
ｇ（収率：３８％）を得た。ｍｐ．＞２５５℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ21Ｎ5Ｏ2として計算値：Ｃ，６４．９
４；Ｈ，６．０２；Ｎ，１９．９３。実験値：Ｃ，６
５．１５；Ｈ，６．１４；Ｎ，１９．８２。
【００９６】Ｅ．５−アミノカルボニル−２−メチル−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミド。 実施例３、Ｄ段に記載の方法を用い、５−
ヒドラジノカルボニル−２−メチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド４０ｍ
ｇ（０．１１ｍＭ）をラネイニッケル約１ｇを用いてＥ
ｔＯＨ５０ｍＬ中で水素化してシリカクロマトグラフィ
ー（傾斜、ＣＨ2Ｃｌ2→８％ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2）後
に５−アミノカルボニル−２−メチル−１−（フェニル
メチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド１７ｍ
ｇ（収率：５０％）を得た。 元素分析：Ｃ19Ｈ19Ｎ3Ｏ2として計算値：Ｃ，７１．０
１；Ｈ，５．９６；Ｎ，１３．０７。実験値：Ｃ，６
７．２１；Ｈ，５．７６；Ｎ，１２．６６。
【００９７】実施例１６ ２−メチル−５−ニトロ−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセト
アミドの製造。 Ａ．２−メチル−５−ニトロ−１Ｈ−インドール。 硝
酸ナトリウム１７．０ｇ（０．２モル）の硫酸１５０ｍ
Ｌ溶液をエタノール−水浴で温度を−１０から０℃に保
った２−メチル−１Ｈ−インドール２６．９ｇ（０．２
０５モル）の硫酸１５０ｍＬ溶液に滴加した。０．２５
時間後、混合物を氷に注ぎ、ＥｔＯＡｃで抽出し、Ｅｔ
ＯＡｃ溶液を水とＮａ2ＣＯ3で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥
した。減圧濃縮後、残渣をＥｔＯＨから結晶化して２−
メチル−５−ニトロ−１Ｈ−インドール２０．８６ｇ
（収率：５９％）を得た。ｍｐ．１６３〜１６５℃。 元素分析：Ｃ9Ｈ8Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，６１．３
６；Ｈ，４．５８；Ｎ，１５．９０。実験値：Ｃ，６
１．３６；Ｈ，４．６１；Ｎ，１６．１７。
【００９８】Ｂ．２−メチル−５−ニトロ−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール。ヘキサンを用いて６
０％ＮａＨ／鉱油８０ｍｇ（２．０ｍＭ）を洗い、ＤＭ
Ｆ６ｍＬ、続いて２−メチル−５−ニトロ−１Ｈ−イン
ドール３５２ｍｇ（２．０ｍＭ）を加えた。０．３３時
間後、臭化ベンジル０．２４ｍＬ（２．０ｍＭ）を加
え、０．５時間撹拌し、水で希釈した。混合物をＥｔＯ
Ａｃで抽出し、ＥｔＯＡｃを飽和ＮａＣｌ溶液で洗い、
ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮すると結晶が形成した。
これをＭｅＯＨで洗って２−メチル−５−ニトロ−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール４００ｍｇ（収
率：７５％）を得た。ｍｐ．１５０〜１５２℃。 元素分析：Ｃ16Ｈ14Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７２．１
７；Ｈ，５．３０；Ｎ，１０．５２。実験値：Ｃ，７
２．３７；Ｈ，５．２４；Ｎ，１０．５３。
【００９９】Ｃ．２−メチル−５−ニトロ−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−グリオキシル酸
アミド。 ２−メチル−５−ニトロ−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール３８０ｍｇ（１．４ｍＭ）の
塩化メチレン１０ｍＬ冷溶液に塩化オキサリル０．１２
ｍＬを加え、冷浴を去り、反応混合物を３．０時間撹拌
した。減圧濃縮乾固後、物質を塩化メチレン１０ｍＬに
再溶解し、無水アンモニアを約５分間吹込んだ。減圧濃
縮後、残渣をＥｔＯＡｃに取り、水、ＮａＣｌ溶液で洗
い、ＭｇＳＯ4で乾燥、濃縮した。残渣をＭｅＯＨから
結晶化して２−メチル−５−ニトロ−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−グリオキシル酸アミド
３１５ｍｇ（収率：６７％）を得た。ｍｐ．２０４〜２
０６℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ15Ｎ3Ｏ4として計算値：Ｃ，６４．０
９；Ｈ，４．４８；Ｎ，１２．４６。実験値：Ｃ，６
４．３２；Ｈ，４．３８；Ｎ，１２．４４。
【０１００】Ｄ．２−メチル−５−ニトロ−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−グリコール酸ア
ミド。 ２−メチル−５−ニトロ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−グリオキシル酸アミド
１．０４ｇ（３．１ｍＭ）のＥｔＯＨ３０ｍＬ中の混合
物にＮａＢＨ4１４８ｍｇ（３．９ｍＭ）を加え、混合
物を１．０時間撹拌し、減圧濃縮した。残渣を水および
ＥｔＯＡｃと撹拌し、不溶物を濾取して２−メチル−５
−ニトロ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−３−グリコール酸アミド１．０５ｇ（収率：１００
％）を得た。ｍｐ．１２０〜１２４℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ17Ｎ3Ｏ4として計算値：Ｃ，６３．７
１；Ｈ，５．０５；Ｎ，１２．３８。実験値：Ｃ，６
４．８８；Ｈ，５．３８；Ｎ，１２．１７。
【０１０１】Ｅ．２−メチル−５−ニトロ−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド。
２−メチル−５−ニトロ−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−３−グリコール酸アミド０．９２７
ｇ（２．７ｍＭ）のトリフルオロ酢酸１５ｍＬ溶液をト
リエチルシラン１．０ｍＬ（６．０ｍＭ）で処理し、混
合物を１．０時間撹拌した。減圧濃縮後、残渣をシリカ
上クロマトグラフ（ＥｔＯＡｃで溶出）し、ＭｅＯＨ／
ＣＨ2Ｃｌ2から結晶化して２−メチル−５−ニトロ−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセト
アミド４５５ｍｇ（収率：５２％）を得た。ｍｐ．１８
９〜１９２℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ17Ｎ3Ｏ3として計算値：Ｃ，６６．８
６；Ｈ，５．３０；Ｎ，１２．９９。実験値：Ｃ，６
６．９９；Ｈ，５．２６；Ｎ，１２．９５。
【０１０２】実施例１７ ５−アミノ−２−メチル−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセト
アミドの製造。 ２−メチル−５−ニトロ−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−３−アセトアミド２０５ｍｇ（０．６
３４ｍＭ）のＴＨＦ／ＥｔＯＨ（２：１）３０ｍＬ溶液
を６０ｐｓｉ（４２１８ｇ／ｃｍ2）水素でＰｄ／炭
０．１ｇを触媒に用いて４時間水素化した。触媒を濾過
し、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカ上クロマトグラ
フし、ＥｔＯＡｃ、続いて５％ＭｅＯＨ／ＥｔＯＡｃで
溶出して５−アミノ−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド５２ｍｇ
（収率：２８％）を得た。ｍｐ．１７５〜１７８℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ19Ｎ3Ｏとして計算値：Ｃ，７３．６
９；Ｈ，６．５３；Ｎ，１４．３２。実験値：Ｃ，７
３．９０；Ｈ，６．５７；Ｎ，１４．２５。
【０１０３】実施例１８ ２−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］酢酸エチ
ルエステルの製造。 Ａ．５−（カルベトキシメトキシ）−２−メチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸。
５−ヒドロキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−酢酸（実施例２、Ｃ段）５９
０ｍｇ（２．０ｍＭ）のＴＨＦ３０ｍＬおよびＤＭＳＯ
１０ｍＬ溶液を６０％ＮａＨ／鉱油１８０ｍｇ（４．５
ｍＭ）で処理し、１０分後、２−ブロモ酢酸エチル０．
２５ｍＬ（２．２５ｍＭ）を加えた。混合物を０．５時
間撹拌し、１Ｎ−ＨＣｌで酸性にし、ＥｔＯＡｃで抽出
した。ＥｔＯＡｃ溶液を水と飽和ＮａＣｌ溶液で洗い、
Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。シリカクロマトグ
ラフィー（傾斜ＣＨ2Ｃｌ2→３％ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2
で溶出）後、５−（カルベトキシメトキシ）−２−メチ
ル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−
酢酸５９０ｍｇ（収率：７７％）を得た。
【０１０４】Ｂ．２−［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］酢酸エチルエステ
ル。−５℃に冷却しながら、クロロギ酸メチル０．１６
ｍＬ（２．１ｍＭ）を５−（カルベトキシメトキシ）−
２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドー
ル−３−酢酸６３０ｍｇ（１．６ｍＭ）およびトリエチ
ルアミン０．３ｍＬ（２．２ｍＭ）にＣＨ2Ｃｌ2３０ｍ
Ｌ中で加え、１０分間撹拌した。無水アンモニアを反応
混合物に０．５時間吹込み、混合物を水、飽和ＮａＣｌ
溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣
をシリカ上クロマトグラフし、傾斜溶出（ＣＨ2Ｃｌ2→
３％ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2）し、エーテルから結晶化
後、２−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−
２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドー
ル−５−イル］オキシ］酢酸エチルエステル２７０ｍｇ
（収率：４４％）を得た。ｍｐ．１６０〜１６１℃。 元素分析：Ｃ22Ｈ24Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６９．４
６；Ｈ，６．３６；Ｎ，７．３６。実験値：Ｃ，６９．
６９；Ｈ，６．３８；Ｎ，７．１８。
【０１０５】実施例１９ ２−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］酢酸の製
造。 ２−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
５−イル］オキシ］酢酸エチルエステル１９０ｍｇ
（０．５ｍＭ）および５Ｎ−ＮａＯＨ２ｍＬのＥｔＯＨ
３０ｍＬおよびＴＨＦ１０ｍＬの溶液を約１５時間撹拌
し、混合物を５Ｎ−ＨＣｌで酸性にしてＥｔＯＡｃで抽
出した。ＥｔＯＡｃ溶液を飽和ＮａＣｌ溶液で洗い、Ｎ
ａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をエーテルで洗
い、２−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−
２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドー
ル−５−イル］オキシ］酢酸１５５ｍｇ（収率：９０
％）を得た。ｍｐ．１９６〜１９８℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ20Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６８．１
７；Ｈ，５．７２；Ｎ，７．９５。実験値：Ｃ，６８．
３５；Ｈ，５．７３；Ｎ，７．７３。
【０１０６】実施例２０ ３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロパン
酸メチルエステルの製造。 ５−ヒドロキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（５５０ｍｇ、
１．８ｍＭ）、Ｋ2ＣＯ3５５０ｍｇ（４ｍＭ）およびア
クリル酸メチル０．２ｍＬをアセトン４０ｍＬ中で還流
を維持しながら１００時間加熱した（アクリル酸メチル
を時々追加した）。冷後、混合物を水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を飽和ＮａＣｌ溶液で洗
い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカ上ク
ロマトグラフ（ＣＨ2Ｃｌ2→１％ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2
で溶出）し、ＣＨ2Ｃｌ2／エーテルから結晶化して３−
［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−メチ
ル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−
イル］オキシ］プロパン酸メチルエステル３７５ｍｇ
（収率：５５％）を得た。ｍｐ．１１３〜１１５℃。 元素分析：Ｃ22Ｈ24Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６９．４
６；Ｈ，６．３６；Ｎ，７．３６。実験値：Ｃ，６９．
５２；Ｈ，６．３８；Ｎ，７．３３。
【０１０７】実施例２１ ３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロパン
酸の製造。 Ａ．３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−
２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドー
ル−５−イル］オキシ］プロパン酸ベンジルエステル。
実施例２１に記載の操作を用い、５−ヒドロキシ−２
−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド２７０ｍｇ（０．９２ｍＭ）、炭酸
カリウム０．５ｇおよびアクリル酸ベンジル１ｍＬをＭ
ＥＫ３０ｍＬ中で反応させて３−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロパ
ン酸ベンジルエステル（シリカクロマトグラフィー、Ｃ
Ｈ2Ｃｌ2→７％ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2溶出）１３０ｍｇ
を得た。
【０１０８】Ｂ．３−［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロパン酸。 ３
−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−メ
チル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５
−イル］オキシ］プロパン酸ベンジルエステル１３０ｍ
ｇ（０．２９ｍＭ）および１０％Ｐｄ／Ｃ０．２ｇの混
合物を４０ｐｓｉ（２８１２ｇ／ｃｍ2）の水素で４．
５時間水素化した。混合物を濾過し、生成物が結晶化す
るまで濃縮した。これをエーテルで洗い、３−［［３−
（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−メチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オ
キシ］プロパン酸８０ｍｇ（収率：７５％）を得た。ｍ
ｐ．２０１〜２０３℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ22Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６８．８
４；Ｈ，６．０５；Ｎ，７．６５。実験値：Ｃ，６５．
８８；Ｈ，６．３２；Ｎ，６．６８。
【０１０９】実施例２２ ４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸
の製造。 ５−ヒドロキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（実施例２、Ｄ
段）４３０ｍｇ（１．５ｍＭ）のＤＭＳＯ５０ｍＬ溶液
を６０％ＮａＨ／鉱油６０ｍｇ（１．５ｍＭ）、続いて
臭化ベンジル０．２６ｍＬ（１．８ｍＭ）で処理した。
混合物を１．５時間室温で、８５℃で１．５時間および
室温で１６時間撹拌した。これを水で希釈し、ＥｔＯＡ
ｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を水、飽和ＮａＣｌ溶液で
洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリ
カ上クロマトグラフ（ＣＨ2Ｃｌ2→３％ＭｅＯＨ／ＣＨ
2Ｃｌ2）し、４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステ
ル３１５ｍｇ（収率：５１％）を得た。この物質を５Ｎ
−ＮａＯＨ１ｍＬとＥｔＯＨ１５ｍＬ中で２０時間撹拌
した。混合物を５Ｎ−ＨＣｌで酸性にし、ＥｔＯＡｃで
抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を飽和ＮａＣｌ溶液で洗い、Ｎ
ａ2ＳＯ4で乾燥した。ＥｔＯＡｃ溶液を濃縮すると沈殿
が形成し、これを集めて４−［［３−（２−アミノ−２
−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸
２４５ｍｇ（収率：３８％）を得た。ｍｐ．２１８〜２
２１℃。 元素分析：Ｃ22Ｈ24Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６９．４
６；Ｈ，６．３６；Ｎ，７．３６。実験値：Ｃ，６８．
３５；Ｈ，６．３６；Ｎ，７．００。
【０１１０】実施例２３ ５−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ペンタン
酸の製造。 実施例２３に記載したように、５−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３
−アセトアミド（実施例２）１２５ｍｇ（０．４３ｍ
Ｍ）、６０％ＮａＨ／鉱油３０ｍｇおよび５−ブロモペ
ンタン酸メチルエステル０．１ｍＬをＤＭＳＯ１５ｍＬ
中で反応させ、シリカゲル上クロマトグラフィー（ＣＨ
2Ｃｌ2→２％ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2で溶出）後に、５−
［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−メチ
ル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−
イル］オキシ］ペンタン酸メチルエステル８０ｍｇを得
た。この物質をＴＨＦ５ｍＬおよびＥｔＯＨ１５ｍＬ中
で２Ｎ−ＮａＯＨ２ｍＬで処理し、混合物を１８時間撹
拌した。５Ｎ−ＨＣｌで酸性にした後、混合物をＥｔＯ
Ａｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を飽和ＮａＣｌ溶液で洗
い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をＭｅＯ
Ｈ／ＣＨ2Ｃｌ2に溶解し、濃縮し、エーテルで希釈して
５−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
５−イル］オキシ］ペンタン酸８０ｍｇ（収率：１００
％）を得た。ｍｐ．１６８〜１６９℃。 元素分析：Ｃ23Ｈ26Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７０．０
３；Ｈ，６．６４；Ｎ，７．１０。実験値：Ｃ，４３．
５３；Ｈ，４．２０；Ｎ，４．３１。
【０１１１】実施例２４ ４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−クロロ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸
の製造。 ２−クロロ−５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（実施例１１）１
４０ｍｇ（０．４３ｍＭ）の塩化メチレン２０ｍＬ溶液
を１Ｍ−ＢＢｒ3／ＣＨ2Ｃｌ2２ｍＬで処理し、１．５
時間撹拌し、ＨＣｌ水と撹拌し、ＣＨ2Ｃｌ2溶媒を分離
し、水および飽和ＮａＣｌ溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾
燥した。減圧濃縮して粗製の２−クロロ−５−ヒドロキ
シ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−
アセトアミド１４０ｍｇを得た。この物質をＤＭＳＯ１
５ｍＬに溶解し、６０％ＮａＨ／鉱油２０ｍｇを加え、
５分後に、４−ブロモ酪酸エチルエステル０．１ｍＬを
加えた。反応混合物を油浴上７０℃に７０分間加熱し
た。冷後、混合物を水で希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出し、
ＥｔＯＡｃ溶液を水と飽和ＮａＣｌ溶液で洗い、Ｎａ2
ＳＯ4で乾燥した。濃縮後、残渣を得、これをシリカゲ
ル上クロマトグラフ（ＣＨ2Ｃｌ2→３％ＭｅＯＨ／ＣＨ
2Ｃｌ2で溶出）し、４−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−２−クロロ−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸エチル
エステル１０５ｍｇを得た。このエステル（１０５ｍ
ｇ）をＥｔＯＨ１５ｍＬに溶解し、５Ｎ−ＮａＯＨ１ｍ
Ｌを加え、溶液を１８時間撹拌した。混合物を５Ｎ−Ｈ
Ｃｌで酸性にし、ＥｔＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ溶
液を飽和ＮａＣｌ溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減
圧濃縮した。残渣をＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2に溶解し、溶
液を濃縮して４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−２−クロロ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸７５ｍｇ（収
率：８０％）を得た。ｍｐ．１９８〜２００℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ21ＣｌＮ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６
２．９２；Ｈ，５．２８；Ｎ，６．９９。実験値：Ｃ，
５８．９４；Ｈ，４．９７；Ｎ，６．４１。
【０１１２】実施例２５ ３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］アミノ］プロパン
酸メチルエステルの製造。 ５−アミノ−２−メチル−１−（フエニルメチル）−１
Ｈ−インドール−３−アセトアミド（実施例１８）１４
７ｍｇ（０．５ｍＭ）およびアクリル酸メチル２ｍＬの
ＭｅＯＨ５ｍＬ溶液を６５時間撹拌し、次に減圧濃縮し
た。残渣をシリカ上クロマトグラフし、（ＥｔＯＡｃ→
５％ＭｅＯＨ／ＥｔＯＡｃ）傾斜で溶出して主生成物お
よび副生成物を後の画分に得た。主生成物は３−［［３
−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−メチル−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］
アミノ］プロパン酸メチルエステル１０５ｍｇ（収率：
５５％）であった。 元素分析：Ｃ22Ｈ25Ｎ3Ｏ3として計算値：Ｃ，６９．６
４；Ｈ，６．６４；Ｎ，１１．０７。実験値：Ｃ，６
９．８７；Ｈ，６．３９；Ｎ，１１．１０。
【０１１３】実施例２６ ３，３’−［［３−（２−ア
ミノ−２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニ
ルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］イミノ］ビ
ス［プロパン酸］ジメチルエステルの製造。 実施例２５で得た反応生成物のクロマトグラフィーから
の後画分は副生成物３，３’−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］イミノ］ビス［プ
ロパン酸］ジメチルエステルを含み、これは乾燥後、５
２ｍｇを示した。
【０１１４】実施例２７ ３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］アミノ］プロパン
酸の製造。 １Ｎ−ＮａＯＨ１ｍＬを３−［［３−（２−アミノ−２
−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］アミノ］プロパン
酸メチルエステル（実施例２６）１１０ｍｇ（０．３ｍ
Ｍ）のＭｅＯＨ５ｍＬ溶液に加え、１．０時間撹拌し、
次に１Ｎ−ＮａＯＨ１ｍＬを加え、混合物を０．５時間
撹拌した。水と続いて１Ｎ−ＨＣｌ２ｍＬを加え、混合
物をＥｔＯＡｃで抽出した。これをＭｇＳＯ4で乾燥
し、減圧濃縮して３−［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−５−イル］アミノ］プロパン酸２１ｍ
ｇ（収率：２０％）を得た。
【０１１５】実施例２８ ３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］アミノ］プロパン
酸ヒドラジドの製造。 ヒドラジンを３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−５−イル］アミノ］プロパン酸メチルエス
テル１５１ｍｇ（０．４ｍＭ）にＭｅＯＨ５ｍＬ中で加
え、混合物を還流下に１．０時間加熱し、室温で１６時
間撹拌した。水で希釈後、混合物をＥｔＯＡｃで抽出
し、ＥｔＯＡｃ溶液を飽和ＮａＣｌ溶液で洗い、ＭｇＳ
Ｏ4で乾燥し、減圧濃縮した。
【０１１６】実施例２９ ６−メトキシ−２−メチル−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミドの製造。 Ａ．１−［２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ）−４−メトキシフェニル］−２−プロパノン。 ５
−メトキシ−２−メチルアニリン１２ｇ（８７ｍＭ）を
実施例１、Ａ段の方法により、ジ炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チル１９ｇ（８７ｍＭ）で処理し、反応混合物を濃縮
後、含有していたＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−
５−メトキシ−２−メチルアニリン１６．４ｇ（収率：
８０％）を得た。この物質（６９ｍＭ）を１．３Ｍ−ｓ
ｅｃ−ブチルリチウムのシクロヘキサン溶液１０６ｍ
Ｌ、次にＮ−メトキシ−Ｎ−メチルアセトアミド７．１
ｇ（６９ｍＭ）（実施例９、Ｂ段の通り）と反応させ、
シリカ上クロマトグラフし、３３％ＥｔＯＡｃ／ヘキサ
ンで溶出後、１−［２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ）−４−メトキシフェニル］−２−プロパノン
１３．８ｇ（収率：７２％）を得た。 元素分析：Ｃ15Ｈ21Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６４．５
０；Ｈ，７．５８；Ｎ，５．０１。実験値：Ｃ，６３．
８０；Ｈ，７．３２；Ｎ，５．４８。
【０１１７】Ｂ．６−メトキシ−２−メチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−グリオキシル
酸アミド。 実施例９、Ｃ段の方法を用い、１−［２−
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−４−メトキ
シフェニル］−２−プロパノン１３．７ｇ（４９ｍＭ）
をトリフルオロ酢酸２０ｍＬと反応させ、生成物をシリ
カ上クロマトグラフし、２０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで
溶出した。粗製の６−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−イ
ンドール４．８ｇ（収率：６１％）を得た。実施例６、
Ａ段の方法により、この物質（３０ｍＭ）を６０％Ｎａ
Ｈ／鉱油１．２ｇ（３０ｍＭ）および臭化ベンジル３．
６ｍＬとＤＭＦ中で処理し、シリカ上クロマトグラフィ
ー（２５％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出）後、６−メト
キシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イ
ンドール４．７７ｇ（収率：６３％）を得た。実施例１
６、Ｃ段の方法により、６−メトキシ−２−メチル−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール１．９７ｇ
（８ｍＭ）を塩化オキサリル０．７３ｍＬ（８．４ｍ
Ｍ）、次にアンモニアと反応させ、ＥｔＯＡｃから６−
メトキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ
−インドール−３−グリオキシル酸アミド０．８７５ｇ
（収率：３４％）を得た。ｍｐ．２３０〜２３４℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ18Ｎ2Ｏ3として計算値：Ｃ，７０．７
９；Ｈ，５．６３；Ｎ，８．６９。実験値：Ｃ，７０．
１１；Ｈ，５．７１；Ｎ，８．７０。
【０１１８】Ｃ．６−メトキシ−２−メチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−グリコール酸
アミド。 ＥｔＯＨを溶媒に用い、６−メトキシ−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−グリオキシル酸アミド（実施例１６）４．１５ｇ
（１２．９ｍＭ）を実施例１７、Ａ段で用いた方法によ
りＮａＢＨ4０．６０５ｇ（１６ｍＭ）と反応させ、粗
生成物をＥｔＯＡｃと水で洗い、６−メトキシ−２−メ
チル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３
−グリコール酸アミド２．６１３４ｇ（収率：６３％）
を得た。ｍｐ．１９６〜１９８℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ20Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７０．３
５；Ｈ，６．２２；Ｎ，８．６４。実験値：Ｃ，７０．
４９；Ｈ，６．２３；Ｎ，８．８５。
【０１１９】Ｄ．６−メトキシ−２−メチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド。 実施例１７、Ｂ段の方法を用い、６−メトキシ−
２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドー
ル−３−グリコール酸アミド７２０ｍｇ（２．２ｍ
Ｍ）、トリエチルシラン０．４ｍＬ（２．５ｍＭ）およ
びトリフルオロ酢酸１０ｍＬを反応させ、生成物をシリ
カ上クロマトグラフ（３３％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶
出）し、塩化メチレン／ＭｅＯＨから結晶化して６−メ
トキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−３−アセトアミド１６４ｍｇ（収率：２４
％）を得た。ｍｐ．１３６〜１３９℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ20Ｎ2Ｏ3として計算値：Ｃ，７４．０
０；Ｈ，６．５４；Ｎ，９．０８。実験値：Ｃ，７３．
７２；Ｈ，６．５７；Ｎ，９．００。
【０１２０】実施例３０ ６−ヒドロキシ−２−メチル
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−ア
セトアミドの製造。 ６−メトキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−３−アセトアミド１．５３ｇ（５ｍ
Ｍ）の溶液に１Ｍ−ＢＢｒ3の塩化メチレン溶液２０ｍ
Ｌ（２０ｍＭ）を加え、混合物を３時間撹拌した。水を
加え、混合物をＥｔＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ溶液
をＮａＣｌ溶液で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮
した。残渣をシリカ上クロマトグラフし、生成物を５％
ＭｅＯＨ／塩化メチレンで溶出して６−ヒドロキシ−２
−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド６５８ｍｇ（収率：４５％）を得
た。ｍｐ．１７４〜１７９℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ18Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７３．４
５；Ｈ，６．１６；Ｎ，９．５２。実験値：Ｃ，７３．
４３；Ｈ，６．０８；Ｎ，９．９２。
【０１２１】実施例３１ ４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−６−イル］オキシ］ブタン酸
エチルエステルの製造。 ６−ヒドロキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド２９４ｍｇ（１
ｍＭ）の溶液を６０％ＮａＨ／鉱油４０ｍｇ（１ｍＭ）
で処理し、１時間後、４−ブロモ酪酸エチル０．１５ｍ
Ｌ（１ｍＭ）を加えた。混合物を２時間撹拌し、水で希
釈し、ＥｔＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ溶液をＮａＣ
ｌ溶液で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残
渣をシリカ上クロマトグラフし、ＥｔＯＡｃで溶出して
（ＣＨ2Ｃｌ2／ＭｅＯＨ／ヘキサンから結晶化後）４−
［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−メチ
ル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−６−
イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル２２８ｍｇ（収
率：７６％）を得た。ｍｐ．１２６〜１３３℃。 元素分析：Ｃ24Ｈ28Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７０．５
７；Ｈ，６．９１；Ｎ，６．８６。実験値：Ｃ，７０．
４７；Ｈ，６．９７；Ｎ，６．８０。
【０１２２】実施例３２ ４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−６−イル］オキシ］ブタン酸
の製造。 ４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
６−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル１００ｍｇ
（０．２４５ｍＭ）および１Ｎ−ＮａＯＨ２ｍＬのＥｔ
ＯＨ５ｍＬ溶液を１．５時間撹拌し、水で希釈し、Ｅｔ
ＯＡｃで抽出した。水層を１Ｎ−ＨＣｌでｐＨ６まで酸
性にし、ＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯＡｃをＭｇＳＯ4
で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2
から結晶化して４−［［３−（２−アミノ−２−オキソ
エチル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ
−インドール−６−イル］オキシ］ブタン酸４４ｍｇ
（収率：４７％）を得た。ｍｐ．１８０〜１８４℃。 元素分析：Ｃ22Ｈ24Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６９．４
６；Ｈ，６．３６；Ｎ，７．３６。実験値：Ｃ，６９．
６８；Ｈ，６．３８；Ｎ，６．３７。
【０１２３】実施例３３ ５−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−６−イル］オキシ］ペンタン
酸エチルエステルの製造。 実施例３３の操作を用い、６−ヒドロキシ−２−メチル
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドールー３−ア
セトアミド１４７ｍｇ（０．５ｍＭ）を６０％ＮａＨ／
鉱油２０ｍｇ（０．５ｍＭ）および５−ブロモバレリア
ン酸エチル０．０８ｍＬ（０．０５ｍＭ）と反応させ
た。シリカ上クロマトグラフィー（まず５０％ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン、次にＥｔＯＡｃで溶出）とＭｅＯＨ／Ｃ
Ｈ2Ｃｌ2からの結晶化後、５−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−６−イル］オキシ］ペンタン
酸エチルエステル１５０ｍｇ（収率：７１％）を得た。
ｍｐ．１２３〜１３５℃。 元素分析：Ｃ25Ｈ30Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７１．０
７；Ｈ，７．１６；Ｎ，６．６３。実験値：Ｃ，７１．
２０；Ｈ，７．１５；Ｎ，６．７３。
【０１２４】実施例３４ ５−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−６−イル］オキシ］ペンタン
酸の製造。 実施例３４のように、５−［［３−（２−アミノ−２−
オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−６−イル］オキシ］ペンタン酸エ
チルエステル１００ｍｇ（０．２４ｍＭ）を１Ｎ−Ｎａ
ＯＨ２ｍＬで加水分解し、ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2から結
晶化後、５−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチ
ル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イ
ンドール−６−イル］オキシ］ペンタン酸５３ｍｇ（収
率：５６％）を得た。ｍｐ．１０３〜１０７℃。 元素分析：Ｃ23Ｈ26Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７０．０
３；Ｈ，６．６４；Ｎ，７．１０。実験値：Ｃ，６９．
７８；Ｈ，６．８１；Ｎ，７．３４。
【０１２５】実施例３５ ４−メトキシ−２−メチル−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミドの製造。 Ａ．Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−３−メトキシ
−２−メチルアニリン。 実施例１、Ａ段の方法によ
り、３−メトキシ−２−メチルアニリン２５．８ｇ（１
８８ｍＭ）をジ炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル４１ｇ（１８
８ｍＭ）で処理してシリカクロマトグラフィー（２５％
ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出）により、Ｎ−ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニル−３−メトキシ−２−メチルアニリ
ン１６．４ｇ（収率：８０％）を得た。 元素分析：Ｃ13Ｈ19ＮＯ3として計算値：Ｃ，６５．８
０；Ｈ，８．０７；Ｎ，５．９０。実験値：Ｃ，６４．
３１；Ｈ，７．７６；Ｎ，６．５８。
【０１２６】Ｂ．４−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−イ
ンドール。 Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−３−
メトキシ−２−メチルアニリン（４３ｇ、０．１８モ
ル）を１．３Ｍ−ｓｅｃ−ブチルリチウムのシクロヘキ
サン溶液２８０ｍＬ（０．３６モル）、次にＮ−メトキ
シ−Ｎ−メチルアセトアミド１８．５ｇ（０．１８モ
ル）と実施例９、Ｂ段に記載のように反応させて、１−
［２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−６−
メトキシフェニル］−２−プロパノンと出発アニリドと
の混合物３９．５ｇを得た。この混合物を塩化メチレン
１００ｍＬとトリフルオロ酢酸４０ｍＬとに溶解し、合
計２６時間撹拌した。混合物を水で洗い、ＭｇＳＯ4で
乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカ上クロマトグラフ
し、２０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出し、ＣＨ2Ｃｌ2
／ヘキサンからの結晶化で４−メトキシ−２−メチル−
１Ｈ−インドール１３．９ｇを得た。ｍｐ．８０〜８６
℃。 元素分析：Ｃ10Ｈ11ＮＯとして計算値：Ｃ，７４．５
１；Ｈ，６．８８；Ｎ，８．６９。実験値：Ｃ，７４．
４１；Ｈ，７．０８；Ｎ，８．４７。
【０１２７】Ｃ．４−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸エチルエステル。 実施例１、Ｃ段
の操作を用い、４−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−イン
ドール１３．９ｇ（８６ｍＭ）、１．６Ｍ−ｎ−ブチル
リチウム／ヘキサン５４ｍＬ（８６ｍＭ）および１Ｍ−
ＺｎＣｌ2／エーテル８６ｍＬ（８６ｍＭ）を反応さ
せ、シリカクロマトグラフィー（２０％ＥｔＯＡｃ／ヘ
キサン）後、４−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インド
ール−３−酢酸エチルエステル１１．２ｇ（収率：５３
％）を得た。ｍｐ．１１７〜１２１℃。 元素分析：Ｃ14Ｈ17ＮＯ3として計算値：Ｃ，６８．０
０；Ｈ，６．９３；Ｎ，５．６６。実験値：Ｃ，６８．
２９；Ｈ，６．９８；Ｎ，５．７３。
【０１２８】Ｄ．４−メトキシ−２−メチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエ
ステル。 実施例１６、Ｂ段の方法を用いて４−メトキ
シ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエ
ステル７．４ｇ（３０ｍＭ）、６０％ＮａＨ／鉱油１．
２ｇ（３０ｍＭ）および臭化ベンジル３．６ｍＬ（３０
ｍＭ）を反応させて、シリカクロマトグラフィーおよび
ＭｅＯＨ／ヘキサンからの結晶化後、４−メトキシ−２
−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−３−酢酸エチルエステル６．１６ｇ（収率：６１％）
を得た。ｍｐ．７５〜８０℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ23ＮＯ3として計算値：Ｃ，７４．７
５；Ｈ，６．８７；Ｎ，４．１５。実験値：Ｃ，７４．
９３；Ｈ，６．６６；Ｎ，４．０２。
【０１２９】Ｅ．４−メトキシ−２−メチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジ
ド。 ４−メトキシ−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル２．
８ｇ（８．３ｍＭ）とヒドラジン１０ｍＬとのＥｔＯＨ
４０ｍＬ溶液を還流を維持しながら１６時間加熱し、水
で希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ溶液をＮ
ａＣｌ溶液で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮し
た。残渣をＭｅＯＨから結晶化して４−メトキシ−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−酢酸ヒドラジド２．０ｇ（収率：７５％）を得た。
ｍｐ．１４５〜１４７℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ21Ｎ3Ｏ2として計算値：Ｃ，７０．５
６；Ｈ，６．５５；Ｎ，１２．９９。実験値：Ｃ，７
０．８２；Ｈ，６．６７；Ｎ，１３．１６。
【０１３０】Ｆ．４−メトキシ−２−メチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド。 ４−メトキシ−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド２．０ｇ
（６．２ｍＭ）とラネイニッケル約１ｇとの混合物を還
流温度で１時間加熱し、冷却し、塩化メチレンを加え、
濾過した。濾液を減圧濃縮し、残渣をシリカ上クロマト
グラフし、５％ＭｅＯＨ／ＥｔＯＡｃで溶出して４−メ
トキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−３−アセトアミド１．５ｇ（収率：７９
％）を得た。ｍｐ．１４５〜１４６℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ20Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７４．０
８；Ｈ，６．５４；Ｎ，９．０８。実験値：Ｃ，７５．
０９；Ｈ，６．４８；Ｎ，９．２０。
【０１３１】実施例３６ ４−ヒドロキシ−２−メチル
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−ア
セトアミドの製造。 ４−メトキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−３−アセトアミド１．４５ｇ（４．
７ｍＭ）および１Ｍ−ＢＢｒ3１４．１ｍＬ（１４．１
ｍＭ）の塩化メチレン溶液を実施例２、Ｃ段に記載のよ
うに反応させてシリカ上クロマトグラフィー（ＥｔＯＡ
ｃ／ヘキサン、次にＥｔＯＡｃで溶出）後に４−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イ
ンドール−３−アセトアミド９０８ｍｇ（収率：６６
％）を得た。ｍｐ．２００〜２０８℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ18Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７３．４
５；Ｈ，６．１６；Ｎ，９．５２。実験値：Ｃ，７３．
７０；Ｈ，６．４２；Ｎ，９．５２。
【０１３２】実施例３７ ４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］ブタン酸
エチルエステルの製造。 ４−ヒドロキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド２９４ｍｇ（１
ｍＭ）の溶液を６０％ＮａＨ／鉱油４０ｍｇ（１ｍＭ）
で処理し、１時間後、４−ブロモ酪酸エチル０．１５ｍ
Ｌ（１ｍＭ）を加えた。混合物を２時間撹拌し、水で希
釈し、ＥｔＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ溶液をＮａＣ
ｌ溶液で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残
渣をＭｅＯＨ／ヘキサンから結晶化して４−［［３−
（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−メチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−４−イル］オ
キシ］ブタン酸エチルエステル合計２３５ｍｇ（収率：
５８％）を得た。ｍｐ．１１５〜１１６℃。 元素分析：Ｃ24Ｈ28Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７０．５
７；Ｈ，６．９１；Ｎ，６．８６。実験値：Ｃ，７０．
６８；Ｈ，６．９７；Ｎ，７．０２。
【０１３３】実施例３８ ４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］ブタン酸
の製造。 ４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
４−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル１００ｍｇ
（０．２４５ｍＭ）および１Ｎ−ＮａＯＨ２ｍＬのＥｔ
ＯＨ５ｍＬ溶液を３．０時間撹拌し、水で希釈し、Ｅｔ
ＯＡｃで抽出した。水層を１Ｎ−ＨＣｌでｐＨ６まで酸
性にし、ＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯＡｃをＭｇＳＯ4
で乾燥し、減圧濃縮すると沈殿が形成し、これを分離
し、ＭｅＯＨで洗って、４−［［３−（２−アミノ−２
−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］ブタン酸
４０ｍｇ（収率：４２％）を得た。ｍｐ．１９２〜１９
３℃。 元素分析：Ｃ22Ｈ24Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６９．４
６；Ｈ，６．３６；Ｎ，７．３６。実験値：Ｃ，６８．
１７；Ｈ，６．０５；Ｎ，６．９９。
【０１３４】実施例３９ ２−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］酢酸メチ
ルエステルの製造。 実施例３７の操作を用い、４−ヒドロキシ−２−メチル
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−ア
セトアミド２９４ｍｇ（１ｍＭ）を６０％ＮａＨ／鉱油
４０ｍｇ（１ｍＭ）および２−ブロモ酢酸メチル０．１
０ｍＬ（１ｍＭ）で処理し、シリカクロマトグラフィー
（５０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサン、次にＥｔＯＡｃ、続い
て２％ＭｅＯＨ／ＥｔＯＡｃで溶出）後に２−［［３−
（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−メチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−４−イル］オ
キシ］酢酸メチルエステル２７８ｍｇ（収率：７６％）
を得た。ｍｐ．２０６〜２０８℃。 元素分析：Ｃ24Ｈ22Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６８．８
４；Ｈ，６．０５；Ｎ，６．６５。実験値：Ｃ，７６
９．０６；Ｈ，５．８７；Ｎ，７．４０。
【０１３５】実施例４０ ２−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］酢酸の製
造。 ２−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
４−イル］オキシ］酢酸メチルエステル１００ｍｇ
（０．２４５ｍＭ）と１Ｎ−ＮａＯＨ２ｍＬとのＥｔＯ
Ｈ５ｍＬ溶液を２．０時間撹拌し、水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出した。水層を１Ｎ−ＨＣｌでｐＨ６まで酸性
にし、ＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯＡｃをＭｇＳＯ4で
乾燥し、減圧濃縮した。残渣をＭｅＯＨから結晶化して
２−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
４−イル］オキシ］酢酸５４ｍｇ（収率：５７％）を得
た。ｍｐ．２２５〜２２７℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ20Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６８．１
７；Ｈ，５．７２；Ｎ，７．９５。実験値：Ｃ，６８．
３５；Ｈ，５．７９；Ｎ，７．９４。
【０１３６】実施例４１ ［３−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸の製造。 Ａ．［３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）
−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インド
ール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸ジメチ
ルエステル。 実施例３９に記載の操作を用い、５−ヒ
ドロキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ
−インドール−３−アセトアミド１４７ｍｇ（０．５ｍ
Ｍ）を６０％ＮａＨ／鉱油２０ｍｇ（０．５ｍＭ）、次
に３−ブロモプロピルホスホン酸ジメチルエステル８０
ｍｇ（０．０ｍＭ）と反応させた。最終生成物はＭｅＯ
Ｈ／ヘキサンから結晶化して［３−［［３−（２−アミ
ノ−２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニル
メチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロ
ピル］ホスホン酸ジメチルエステル１２６ｍｇ（収率：
５７％）を得た。ｍｐ．１３６〜１３８℃。 元素分析：Ｃ23Ｈ29Ｎ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，６２．
１５；Ｈ，６．５８；Ｎ，６．３０。実験値：Ｃ，６
１．０９；Ｈ，６．７１；Ｎ，５．９４。
【０１３７】Ｂ．［３−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホス
ホン酸。 ［３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸
ジメチルエステル１００ｍｇ（０．２３ｍＭ）およびブ
ロモトリメチルシラン０．２４ｍＬ（１．８ｍＭ）の塩
化メチレン２ｍＬ溶液を１８時間撹拌した。反応混合物
を減圧濃縮し、ＭｅＯＨ５ｍＬを加え、０．５時間撹拌
し、濃縮した。残渣をＥｔＯＡｃ／ＭｅＣＮ／ＨＯＡｃ
／Ｈ2Ｏから結晶化して［３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸４０ｍｇ（収率：４２％）を得た。ｍ
ｐ．２０１〜２０３℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ25Ｎ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，６０．
５７；Ｈ，６．０５；Ｎ，６．７３。実験値：Ｃ，６
０．５３；Ｈ，６．０８；Ｎ，６．７４。
【０１３８】実施例４２ ２−ブロモ−５−メトキシ−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミドの製造。 Ａ．２−ブロモ−５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸ベンジルエステル。
Ｎ−ブロモサクシンイミド（４５０ｍｇ、２．５ｍ
Ｍ）を５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−３−酢酸ベンジルエステル９１０ｍｇ
（２．５ｍＭ）に四塩化炭素７５ｍＬ中で加え、混合物
を０．５時間撹拌した。Ｎａ2Ｓ2Ｏ3溶液と水と飽和Ｎ
ａＣｌ溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した後、ＣＣｌ4
を減圧除去した。残渣をシリカ上クロマトグラフ（塩化
メチレンで溶出）し、エーテル／ヘキサンから結晶化し
て２−ブロモ−５−メトキシ−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−酢酸ベンジルエステル７６５
ｍｇ（収率：６７％）を得た。ｍｐ．８９〜９０℃。 元素分析：Ｃ25Ｈ22ＢｒＮＯ3として計算値：Ｃ，６
４．６６；Ｈ，４．７８；Ｎ，３．０２。実験値：Ｃ，
６４．４３；Ｈ，４．７５；Ｎ，２．９６。
【０１３９】Ｂ．２−ブロモ−５−メトキシ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド。 ２−ブロモ−５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸ベンジルエステル１
２０ｍｇ（０．２６ｍＭ）と０．６７Ｍ−（ＣＨ3）2Ａ
ｌＮＨ2／ベンゼン２ｍＬとのベンゼン２０ｍＬ溶液を
時々アルミニウム試薬を追加しながら２３．５時間加熱
した。混合物を氷に注ぎ、１Ｎ−ＨＣｌで分解し、Ｅｔ
ＯＡｃで抽出した。抽出物を飽和ＮａＣｌ溶液で洗い、
Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカ上ク
ロマトグラフし、ＣＨ2Ｃｌ2→２％ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃ
ｌ2で傾斜溶出して２−ブロモ−５−メトキシ−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトア
ミド１００ｍｇ（収率：１００％）を得た。ｍｐ．１７
２〜１７４℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ17ＢｒＮ2Ｏ2として計算値：Ｃ，５
７．９２；Ｈ，４．５９；Ｎ，７．４２；Ｂｒ，２１．
４１。実験値：Ｃ，５７．７１；Ｈ，４．５６；Ｎ，
７．５０；Ｂｒ，２１．６７。
【０１４０】実施例４３ ４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−ブロモ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸
の製造。 ２−ブロモ−５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（この製品は２，
４−ジブロモ−５−メトキシ−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミドを含んでいた）
６００ｍｇ（１．６ｍＭ）と１Ｍ−ＢＢｒ3／ＣＨ2Ｃｌ
2１０ｍＬとのＣＨ2Ｃｌ2１００ｍＬ溶液を２．５時間
撹拌し、１Ｎ−塩酸１００ｍＬを加え、よく撹拌し、Ｃ
Ｈ2Ｃｌ2層を分離した。洗浄とＮａ2ＳＯ4乾燥後、溶媒
を減圧除去した。残渣をシリカ上クロマトグラフ（１％
ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2→４％ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2）で
傾斜溶出し、前画分から２，４−ジブロモ−５−ヒドロ
キシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３
−アセトアミド（１１５ｍｇ）を、また後画分から２−
ブロモ−５−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−３−アセトアミド（１１５ｍｇ）を得
た。後画分からの物質（１００ｍｇ、０．２８ｍＭ）を
ＤＭＳＯ２０ｍＬに溶解し、６０％ＮａＨ／鉱油２０ｍ
ｇを加え、１０分後、４−ブロモ酪酸エチル０．１ｍＬ
を加えた。８５℃で１．２５時間加熱後、混合物を水で
希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を水、飽
和ＮａＣｌ溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮
した。残渣をシリカ上クロマトグラフ（１％ＭｅＯＨ／
ＣＨ2Ｃｌ2→３％ＭｅＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2で溶出）して４
−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−ブ
ロモ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５
−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル８０ｍｇを油
として得た。この物質をＥｔＯＨ２０ｍＬに溶解し、混
合物を１９時間撹拌した。１Ｎ−ＨＣｌで酸性にした
後、混合物をＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を飽
和ＮａＣｌ溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮
した。残渣をＥｔＯＨ／エーテルから結晶化して４−
［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−ブロ
モ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−
イル］オキシ］ブタン酸８０ｍｇを得た。 元素分析：Ｃ21Ｈ21ＢｒＮ2Ｏ4として計算値：Ｃ，５
６．６４；Ｈ，４．７５；Ｎ，６．２９。実験値：Ｃ，
４２．７１；Ｈ，３．７６；Ｎ，４．５０。
【０１４１】実施例４４ ５−ヒドロキシ−２−（メチ
ルチオ）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミドの製造。 ５−メトキシ−２−（メチルチオ）−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（実施例
１２）６００ｍｇ（１．６ｍＭ）の溶液を実施例２、Ｃ
段に記載のように１Ｍ−ＢＢｒ3／ＣＨ2Ｃｌ2１０ｍＬ
と反応させて粗製品として５−ヒドロキシ−２−（メチ
ルチオ）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド４４０ｍｇ（収率：６４％）を得
た。 元素分析：Ｃ18Ｈ18Ｎ2Ｏ4Ｓとして計算値：Ｃ，６６．
２３；Ｈ，５．５６；Ｎ，８．５８；Ｓ，９．８２。実
験値：Ｃ，６６．４５；Ｈ，５．５５；Ｎ，８．２９；
Ｓ，９．７２。
【０１４２】実施例４５ ４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−（メチルチオ）−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］
ブタン酸エチルエステルの製造。 ５−ヒドロキシ−２−（メチルチオ）−１−（フェニル
メチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（実施
例４６）４６５ｍｇ（１．４ｍＭ）、６０％ＮａＨ／鉱
油６０ｍｇ（１．５ｍＭ）および４−ブロモ酪酸エチル
０．２５ｍＬ（１．７ｍＭ）の溶液を実施例４５のよう
に反応させた。粗生成物をＥｔＯＨ／エーテルで洗浄
後、４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−
２−（メチルチオ）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステ
ル５１０ｍｇ（収率：８３％）を得た。ｍｐ．１０９〜
１１１℃。 元素分析：Ｃ24Ｈ28Ｎ2Ｏ4Ｓとして計算値：Ｃ，６５．
４３；Ｈ，６．４１；Ｎ，６．３６；Ｓ，７．２８。実
験値：Ｃ，６５．２４；Ｈ，６．４４；Ｎ，６．２１；
Ｓ，７．３０。
【０１４３】実施例４６ ４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−（メチルチオ）−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］
ブタン酸の製造。 実施例４５に記載のように、４−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−（メチルチオ）−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキ
シ］ブタン酸エチルエステル（実施例４７）２４５ｍｇ
（０．５６ｍＭ）を５Ｎ−ＮａＯＨ１ｍＬでＴＨＦ５ｍ
ＬおよびＥｔＯＨ１５ｍＬ中で加水分解した。粗生成物
をＥｔＯＨ／エーテルで洗って４−［［３−（２−アミ
ノ−２−オキソエチル）−２−（メチルチオ）−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オ
キシ］ブタン酸１９５ｍｇ（収率：８５％）を得た。ｍ
ｐ．１８７〜１８８℃。 元素分析：Ｃ22Ｈ24Ｎ2Ｏ4Ｓとして計算値：Ｃ，６４．
０５；Ｈ，５．８６；Ｎ，６．７９；Ｓ，７．７７。実
験値：Ｃ，６３．８１；Ｈ，５．８９；Ｎ，６．８０；
Ｓ，７．６６。
【０１４４】実施例４７ ５−（４−アミノ−４−オキ
ソブトキシ）−２−（メチルチオ）−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミドの製造。 ０．６Ｍ−（ＣＨ3）2ＡｌＮＨ2／ベンゼン１０ｍＬを
４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−
メチルチオ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドー
ル−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル（実施
例４６）２００ｍｇ（０．４５ｍＭ）にベンゼン２５ｍ
Ｌ中で加え、混合物を５０℃で１．７５時間加熱した。
冷後、混合物を氷と１Ｎ−ＨＣｌで分解した。混合物を
ＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を飽和ＮａＣｌ溶
液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣を
ＥｔＯＨ／ＣＨ2Ｃｌ2から結晶化して５−（４−アミノ
−４−オキソブトキシ）−２−（メチルチオ）−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトア
ミド１５５ｍｇ（収率：８４％）を得た。ｍｐ．１８５
℃。 元素分析：Ｃ22Ｈ25Ｎ3Ｏ3Ｓとして計算値：Ｃ，６４．
２１；Ｈ，６．１２；Ｎ，１０．２１；Ｓ，７．７９。
実験値：Ｃ，６４．４２；Ｈ，６．５４；Ｎ，８．９
７；Ｓ，７．１１。
【０１４５】実施例４８ ５−メトキシ−２−メチル−
１−テトラデシル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ドの製造。 Ａ．５−メトキシ−２−メチル−１−テトラデシル−１
Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル。 実施例
６、Ａ段に記載の方法を用い、５−メトキシ−２−メチ
ル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル２．０
ｇ（８．１２ｍＭ）を６０％ＮａＨ／鉱油０．３２５ｇ
および臭化テトラデシル１．８４ｇ（８．１ｍＭ）と反
応させてシリカクロマトグラフィー（１５％ＥｔＯＡｃ
／ヘキサンで溶出）後に５−メトキシ−２−メチル−１
−テトラデシル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエ
ステル１．６６ｇ（収率：４６％）を得た。 元素分析：Ｃ28Ｈ45ＮＯ3として計算値：Ｃ，７５．８
０；Ｈ，１０．２２；Ｎ，３．１６。実験値：Ｃ，７
５．９３；Ｈ，１０．３２；Ｎ，３．２８。
【０１４６】Ｂ．５−メトキシ−２−メチル−１−テト
ラデシル−１Ｈ−インドール−３−酢酸。 ５−メトキ
シ−２−メチル−１−テトラデシル−１Ｈ−インドール
−３−酢酸エチルエステル１．６０ｇ（３．６ｍＭ）と
１Ｎ−ＮａＯＨ１０ｍＬとのＭｅＯＨ２５ｍＬ溶液を１
６時間撹拌し、１Ｎ−ＨＣｌで酸性にし、沈殿を濾取し
て５−メトキシ−２−メチル−１−テトラデシル−１Ｈ
−インドール−３−酢酸１．３６ｇ（収率：９０％）を
得た。ｍｐ．１０５〜１０７℃。 元素分析：Ｃ26Ｈ41ＮＯ3として計算値：Ｃ，７５．４
０；Ｈ，９．９４；Ｎ，３．３７。実験値：Ｃ，７５．
９６；Ｈ，１０．３７；Ｎ，３．５７。
【０１４７】Ｃ．５−メトキシ−２−メチル−１−テト
ラデシル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 塩
化オキサリル１ｍＬを５−メトキシ−２−メチル−１−
テトラデシル−１Ｈ−インドール−３−酢酸１．３６ｇ
（３．２ｍＭ）に塩化メチレン５０ｍＬおよびＤＭＦ１
滴中で加え、１時間撹拌後、反応混合物を減圧濃縮し
た。残渣をＴＨＦ５０ｍＬに溶解し、無水アンモニアを
０．５時間吹込んだ。ＥｔＯＡｃで希釈後、混合物を水
洗し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、濃縮した。残渣をシリカ上
クロマトグラフし、２％ＭｅＯＨ／塩化メチレンで溶出
して５−メトキシ−２−メチル−１−テトラデシル−１
Ｈ−インドール−３−アセトアミド０．４２ｇ（収率：
３２％）を得た。ｍｐ．１１７〜１１８℃。 元素分析：Ｃ26Ｈ42Ｎ2Ｏ3として計算値：Ｃ，７５．３
２；Ｈ，１０．２１；Ｎ，６．７６。実験値：Ｃ，７
４．４１；Ｈ，９．６７；Ｎ，７．６７。
【０１４８】実施例４９ ４−［［２−アミノ−２−オ
キソエチル）−２−メチル−１−テトラデシル−１Ｈ−
インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸の製造。 Ａ．５−ヒドロキシ−２−メチル−１−テトラデシル−
１Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 ５−メトキシ
−２−メチル−１−テトラデシル−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミド（実施例１４、Ｃ段）３００ｍｇ
（０．７５ｍＭ）の塩化メチレン３０ｍＬ溶液を１Ｎ−
ＢＢｒ3／ＣＨ2Ｃｌ2２ｍＬで処理し、混合物を３時間
撹拌した。混合物を水とＥｔＯＡｃ１００ｍＬに注入
し、有機層を分離し、Ｎａ2ＣＯ3溶液で洗浄し、Ｎａ2
ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮して粗製の５−ヒドロキシ−
２−メチル−１−テトラデシル−１Ｈ−インドール−３
−アセトアミド約３００ｍｇを得た。 元素分析：Ｃ25Ｈ40Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７４．９
６；Ｈ，１０．０６；Ｎ，６．９９。実験値：Ｃ，７
４．５１；Ｈ，９．５５；Ｎ，８．３１。
【０１４９】Ｂ．４−［［（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−２−メチル−１−テトラデシル−１Ｈ−インド
ール−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル。
５−ヒドロキシ−２−メチル−１−テトラデシル−１Ｈ
−インドール−３−アセトアミド（３００ｍｇ、０．７
５ｍＭ）をＤＭＦ１０ｍＬに溶解し、６０％ＮａＨ／鉱
油４０ｍｇ（１．０ｍＭ）を加え、混合物を０．５時間
撹拌する。その後、４−ブロモ酪酸エチル０．１４３ｍ
Ｌ（１．０ｍＭ）を加え、混合物を２０時間撹拌し、水
で希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出した。ＥｔＯＡｃ溶液を４
回水洗し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣を
ＥｔＯＨ／水から結晶化して４−［［２−アミノ−２−
オキソエチル）−２−メチル−１−テトラデシル−１Ｈ
−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエス
テル０．１２ｍｇ（収率：３１％）を得た。ｍｐ．７７
〜７８℃。 元素分析：Ｃ31Ｈ50Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７２．３
４；Ｈ，９．７９；Ｎ，５．４４。実験値：Ｃ，７２．
１３；Ｈ，９．６３；Ｎ，５．１７。
【０１５０】Ｃ．４−［［２−アミノ−２−オキソエチ
ル）−２−メチル−１−テトラデシル−１Ｈ−インドー
ル−５−イル］オキシ］ブタン酸。 ４−［［２−アミ
ノ−２−オキソエチル）−２−メチル−１−テトラデシ
ル−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸エ
チルエステル１２０ｍｇ（０．２３３ｍＭ）と５Ｎ−Ｎ
ａＯＨ１ｍＬとのＭｅＯＨ２０ｍＬ溶液を還流維持下に
１時間加熱し、冷却し、水１００ｍＬに加え、５Ｎ−Ｈ
Ｃｌで酸性にした。混合物をＥｔＯＡｃで抽出し、Ｅｔ
ＯＡｃ溶液をＮａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣
をＭｅＯＨから結晶化して４−［［２−アミノ−２−オ
キソエチル）−２−メチル−１−テトラデシル−１Ｈ−
インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸５０ｍｇ（収
率：４４％）を得た。ｍｐ．１５９〜１６１℃。 元素分析：Ｃ29Ｈ46Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７１．５
７；Ｈ，９．５３；Ｎ，５．７６。実験値：Ｃ，７１．
４４；Ｈ，９．３９；Ｎ，５．７０。
【０１５１】実施例５０ ４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−１−ヘキシル−２−メチル−１Ｈ
−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸の製造。 Ａ．１−ヘキシル−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−
インドール−３−酢酸エチルエステル。 ５−メトキシ
−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエス
テルをＤＭＦ２５ｍＬに溶解し、６０％ＮａＨ／鉱油
０．３ｇ（７．５ｍＭ）を加えた。０．２５時間後、ヨ
ウ化ヘキシル１．１ｍＬ（７．５ｍＭ）を加え、混合物
を１６時間撹拌した。混合物を水で希釈し、酢酸エチル
で抽出し、酢酸エチル溶液を水洗した。Ｎａ2ＳＯ4で乾
燥した後、溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲル上クロ
マトグラフ（５％ＥｔＯＡｃ／トルエンで溶出）して１
−ヘキシル−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インド
ール−３−酢酸エチルエステル１．０１ｇ（収率：６１
％）を得た。 元素分析：Ｃ20Ｈ29ＮＯ3として計算値：Ｃ，７４．７
５；Ｈ，５．９６；Ｎ，４．３６。実験値：Ｃ，７０．
３１；Ｈ，８．６８；Ｎ，３．９３。
【０１５２】Ｂ．１−ヘキシル−５−メトキシ−２−メ
チル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 ２Ｍ−
（ＣＨ3）2ＡｌＮＨ2／トルエン（１５ｍＬ、０．０３
モル）を氷水浴で温度を５〜７℃に保持した塩化アンモ
ニウム１．６１ｇ（０．０３モル）に徐々に加えた。浴
を去り、混合物を０．５時間撹拌し、１−ヘキシル−５
−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸
エチルエステル１．０１ｇ（３．０５ｍＭ）を加えた。
１６時間撹拌後、水１０ｍＬを注意深く加え、混合物を
１Ｎ−ＨＣｌと多量のＥｔＯＡｃに加えた。有機層を分
離し、水、炭酸水素ナトリウム溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4
で乾燥した。溶媒を減圧除去後、残渣をＭｅＯＨ／水か
ら結晶化して１−ヘキシル−５−メトキシ−２−メチル
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド０．３７ｇ（収
率：４０％）を得た。ｍｐ．１２０〜１２１℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ26Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７１．４
９；Ｈ，８．６７；Ｎ，９．２６。実験値：Ｃ，７１．
６４；Ｈ，８．５４；Ｎ，９．２１。
【０１５３】Ｃ．１−ヘキシル−５−ヒドロキシ−２−
メチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 １Ｍ
−ＢＢｒ3／塩化メチレン１ｍＬと１−ヘキシル−５−
メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−アセト
アミド０．２４ｇ（０．７９ｍＭ）との混合物を塩化メ
チレン２０ｍＬ中で１６時間撹拌し、酢酸エチルで希釈
し、２回水洗した。溶液をＮａ２ＳＯ4で乾燥し、溶媒
を減圧除去して粗製の１−ヘキシル−５−ヒドロキシ−
２−メチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド０．
２３ｇを得た。
【０１５４】Ｄ．［４−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−ヘキシル−２−メチル−１Ｈ−イン
ドール−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル。
１−ヘキシル−５−ヒドロキシ−２−メチル−１Ｈ−
インドール−３−アセトアミド（２３０ｍｇ、０．８ｍ
Ｍ）をＤＭＦ１０ｍＬに溶解し、６０％ＮａＨ／鉱油２
６ｍｇ（０．８ｍＭ）を加えた。混合物を１時間撹拌
し、４−ブロモ酪酸エチル０．１１５ｍＬ（０．８ｍ
Ｍ）を加え、撹拌を９６時間続けた。混合物を水で希釈
し、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層を水洗し、Ｎａ
2ＳＯ4で乾燥した。溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカ上
クロマトグラフ（３％ＭｅＯＨ／塩化メチレンで溶出）
して［４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）
−１−ヘキシル−２−メチル−１Ｈ−インドール−５−
イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル１７０ｍｇ（収
率：５３％）を得た。ｍｐ．６９〜７１℃。 元素分析：Ｃ23Ｈ34Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６８．６
３；Ｈ，８．５１；Ｎ，６．９６。実験値：Ｃ，６８．
９０；Ｈ，８．５９；Ｎ，６．８０。
【０１５５】Ｅ．［４−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−ヘキシル−２−メチル−１Ｈ−イン
ドール−５−イル］オキシ］ブタン酸。 ［４−［［３
−（２−アミノ−２−オキソエチル）−１−ヘキシル−
２−メチル−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブ
タン酸エチルエステル１７０ｍｇ（０．４２ｍＭ）と５
Ｎ−ＮａＯＨ１ｍＬとの混合物をＭｅＯＨ２０ｍＬ中で
還流を維持しながら２．５時間加熱し、冷却し、水に注
入し、５Ｎ−ＨＣｌで強酸性にした。混合物を酢酸エチ
ルで抽出し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮し、残渣を
ＭｅＯＨから結晶化した。［４−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−１−ヘキシル−２−メチル−１
Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸３７ｍｇ
（収率：２４％）を得た。ｍｐ．１６９〜１７０℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ30Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６７．３
５；Ｈ，８．０７；Ｎ，７．４８。実験値：Ｃ，６７．
５９；Ｈ，８．０６；Ｎ，７．４２。
【０１５６】実施例５１ ５−メトキシ−２−メチル−
１−オクチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミドの
製造。 Ａ．５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３
−酢酸エチルエステル。 実施例５０、Ａ段に記載の操
作を用い、５−メトキシ−２−メチル−１−オクチル−
１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル２．４７ｇ
（０．０１モル）を６０％ＮａＨ／鉱油０．４８ｇ
（０．０１２モル）、次にヨードオクタン２．１７ｇ
（０．０１２モル）と反応させた。生成物をシリカゲル
クロマトグラフし、５％ＥｔＯＡｃ／トルエンで溶出し
て５−メトキシ−２−メチル−１−オクチル−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸エチルエステル１．８５ｇ（収率：
５１％）を油として得た。 元素分析：Ｃ22Ｈ33ＮＯ3として計算値：Ｃ，７３．５
０；Ｈ，９．２５；Ｎ，３．９０。実験値：Ｃ，７３．
４７；Ｈ，９．３３；Ｎ，３．８３。
【０１５７】Ｂ．５−メトキシ−２−メチル−１−オク
チル−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド。 ５−
メトキシ−２−メチル−１−オクチル−１Ｈ−インドー
ル−３−酢酸エチルエステル１．８ｇ（５ｍＭ）とヒド
ラジン３ｍＬの混合物をエタノール１２５ｍＬ中で還流
を維持しながら１６時間加熱した。混合物を水に注入
し、酢酸エチルで抽出し、水洗し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し
た。溶媒を減圧除去後、残渣をＥｔＯＨ／水から結晶化
して５−メトキシ−２−メチル−１−オクチル−１Ｈ−
インドール−３−酢酸ヒドラジド１．２９ｇ（収率：７
５％）を得た。ｍｐ．１３５〜１３６℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ31Ｎ3Ｏ2として計算値：Ｃ，６９．５
３；Ｈ，９．０４；Ｎ，１２．１６。実験値：Ｃ，６
９．６９；Ｈ，９．０７；Ｎ，１１．８９。
【０１５８】Ｃ．５−メトキシ−２−メチル−１−オク
チル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 ５−メ
トキシ−２−メチル−１−オクチル−１Ｈ−インドール
−３−酢酸ヒドラジド１．２７ｇ（３．６８ｍＭ）およ
びラネイニッケル１ｇの混合物をエタノール６０ｍＬ中
で還流を維持しながら３時間加熱し、冷却し、沈殿した
触媒から溶媒を流し分け、濾過助剤で処理し、濾過し
た。濾液を濃縮して５−メトキシ−２−メチル−１−オ
クチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド１．０３
ｇ（収率：８５％）を得た。ｍｐ．９６〜９８℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ30Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７２．６
９；Ｈ，９．１５；Ｎ，８．４８。実験値：Ｃ，７２．
４８；Ｈ，９．２６；Ｎ，８．３３。
【０１５９】実施例５２ ［４−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−メチル−１−オクチル−Ｈ
−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸の製造。 Ａ．５−ヒドロキシ−２−メチル−１−オクチル−１Ｈ
−インドール−３−アセトアミド。 ５−メトキシ−２
−メチル−１−オクチル−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミド１．０３ｇ（３．１ｍＭ）および１Ｍ−ＢＢｒ
3／塩化メチレン５ｍＬの塩化メチレン５０ｍＬ溶液を
２４時間撹拌し、水に注入し、酢酸エチル１５０ｍＬを
加えた。有機層を分離し、ＮａＨＣＯ3溶液で洗い、Ｎ
ａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフし、５％ＭｅＯＨ／塩化メチレンで溶出し
て５−ヒドロキシ−２−メチル−１−オクチル−１Ｈ−
インドール−３−アセトアミド３１６ｍｇ（収率：３２
％）を得た。
【０１６０】Ｂ．［４−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−２−メチル−１−オクチル−１Ｈ−イン
ドール−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル。
５−ヒドロキシ−２−メチル−１−オクチル−１Ｈ−
インドール−３−アセトアミド（３１６ｍｇ、１．０ｍ
Ｍ）を６０％ＮａＨ／鉱油２４０ｍｇ（１．０ｍＭ）、
次に４−ブロモ酪酸エチル０．１４３ｍＬ（１ｍＭ）と
実施例５０、Ｄ段に記載のように反応させた。生成物を
シリカゲルクロマトグラフ（３％ＭｅＯＨ／塩化メチレ
ンで溶出）して［４−［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−２−メチル−オクチル−１Ｈ−インドール
−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル２３０ｍ
ｇ（収率：５３％）を得た。ｍｐ．８０〜８５℃。 元素分析：Ｃ25Ｈ38Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６９．７
４；Ｈ，８．９０；Ｎ，６．５１。実験値：Ｃ，６７．
５６；Ｈ，９．０１；Ｎ，５．９５。
【０１６１】Ｃ．［４−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−２−メチル−オクチル−１Ｈ−インドー
ル−５−イル］オキシ］ブタン酸。 実施例１、Ｅ段の
方法を用い、［４−［［３−（２−アミノ−２−オキソ
エチル）−２−メチル−オクチル−１Ｈ−インドール−
５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル２３０ｍｇ
（０．５３ｍＭ）を５Ｎ−ＮａＯＨ２ｍＬで加水分解
し、ＭｅＯＨから結晶化後、［４−［［３−（２−アミ
ノ−２−オキソエチル）−２−メチル−オクチル−１Ｈ
−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸９７ｍｇ
（収率：４５％）を得た。ｍｐ．１６４〜１６５℃。 元素分析：Ｃ23Ｈ34Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６８．６
３；Ｈ，８．５１；Ｎ，６．９６。実験値：Ｃ，６６．
４０；Ｈ，８．３０；Ｎ，６．８２。
【０１６２】実施例５３ ［４−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−１−デシル−２−メチル−１Ｈ
−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸の製造。 Ａ．１−デシル−５−ヒドロキシ−２−メチル−１Ｈ−
インドール−３−アセトアミド。 １Ｍ−ＢＢｒ3／塩
化メチレン５ｍＬおよび１−デシル−５−メトキシ−２
−メチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド０．９
８ｇ（２．７３ｍＭ）の混合物を実施例５０、Ｃ段記載
のように塩化メチレン４０ｍＬ中で反応させ、粗製の１
−デシル−５−ヒドロキシ−２−メチル−１Ｈ−インド
ール−３−アセトアミド０．８１ｇ（収率：６０％）を
得た。
【０１６３】Ｂ．［４−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−デシル−２−メチル−１Ｈ−インド
ール−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル。
１−デシル−５−ヒドロキシ−２−メチル−１Ｈ−イン
ドール−３−アセトアミド（８１０ｍｇ、３．３５ｍ
Ｍ）を６０％ＮａＨ／鉱油９６ｍｇ（２．４ｍＭ）、次
に４−ブロモ酪酸エチル０．３２ｍＬ（２．４ｍＭ）と
実施例５０、Ｄ段に記載のように反応させて生成物を
得、これをシリカゲルクロマトグラフ（３％ＭｅＯＨ／
塩化メチレンで溶出）して［４−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−１−デシル−２−メチル−１Ｈ
−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエス
テル５９０ｍｇ（収率：５５％）を得た。ｍｐ．９３〜
９５℃。 元素分析：Ｃ27Ｈ42Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７０．７
１；Ｈ，９．２３；Ｎ，６．１１。実験値：Ｃ，７０．
５７；Ｈ，９．０３；Ｎ，６．１７。
【０１６４】Ｃ．［４−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−デシル−２−メチル−１Ｈ−インド
ール−５−イル］オキシ］ブタン酸。 ［４−［［３−
（２−アミノ−２−オキソエチル）−１−デシル−２−
メチル−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン
酸エチルエステル５９０ｍｇ（１．３ｍＭ）と５Ｎ−Ｎ
ａＯＨ１．５ｍＬとの混合物をＭｅＯＨ２０ｍＬ中で還
流を維持しながら２．５時間加熱し、冷却し、水中に注
入し、５Ｎ−ＨＣｌで強酸性にした。沈殿を濾取し、Ｍ
ｅＯＨから再結晶した。［４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−１−デシル−２−メチル−１Ｈ−
インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸４３０ｍｇ
（収率：７７％）を得た。ｍｐ．１６３〜１６５℃。 元素分析：Ｃ25Ｈ38Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６９．７
４；Ｈ，８．９０；Ｎ，６．５１。実験値：Ｃ，７０．
６３；Ｈ，８．８３；Ｎ，６．９８。
【０１６５】実施例５４ ［４−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−１−シクロヘキシル−２−メチ
ル−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸の
製造。 Ａ．１−シクロヘキシル−５−ヒドロキシ−２−メチル
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 １Ｍ−ＢＢ
ｒ3／塩化メチレン２ｍＬと１−シクロヘキシル−５−
メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−アセト
アミド３３０ｍｇ（１．０５ｍＭ）との混合物を塩化メ
チレン２５ｍＬ中で実施例５０、Ｃ段に記載のように反
応させて粗製の１−シクロヘキシル−５−ヒドロキシ−
２−メチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド３０
０ｍｇを得た。 元素分析：Ｃ18Ｈ24Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７１．９
７；Ｈ，８．０５；Ｎ，９．３３。実験値：Ｃ，６９．
１４；Ｈ，７．６０；Ｎ，８．６９。
【０１６６】Ｂ．［４−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−シクロヘキシル−２−メチル−１Ｈ−イ
ンドール−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステ
ル。１−シクロヘキシル−５−ヒドロキシ−２−メチル
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（３００ｍｇ、
１．０ｍＭ）と６０％ＮａＨ／鉱油４０ｍｇ（１．０ｍ
Ｍ）、次に４−ブロモ酪酸エチル０．１４３ｍＬ（１．
０ｍＭ）とを実施例５０、Ｄ段に記載のように反応させ
て生成物を得、これをシリカゲルクロマトグラフ（２％
ＭｅＯＨ／塩化メチレンで溶出）して［４−［［３−
（２−アミノ−２−オキソエチル）−１−シクロヘキシ
ル−２−メチル−１Ｈ−インドール−５−イル］オキ
シ］ブタン酸エチルエステル１９０ｍｇ（収率：４６
％）を得た。ｍｐ．９２〜９４℃。 元素分析：Ｃ24Ｈ34Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６９．５
４；Ｈ，８．２７；Ｎ，６．７６。実験値：Ｃ，６９．
７２；Ｈ，８．３３；Ｎ，６．７０。
【０１６７】Ｃ．［４−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−シクロヘキシル−２−メチル−１Ｈ
−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸。 ［４−
［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−１−デシ
ル−２−メチル−１Ｈ−インドール−５−イル］オキ
シ］ブタン酸エチルエステル１９０ｍｇ（０．４６ｍ
Ｍ）と５Ｎ−ＮａＯＨ２ｍＬとの混合物をＭｅＯＨ２０
ｍＬ中で還流を維持しながら２．５時間加熱し、冷却
し、水に注入し、５Ｎ−ＨＣｌで強酸性にした。沈殿を
濾取し、ＭｅＯＨから再結晶した。［４−［［３−（２
−アミノ−２−オキソエチル）−１−シクロヘキシル−
２−メチル−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブ
タン酸５０ｍｇ（収率：２８％）を得た。ｍｐ．２１２
〜２１４℃。 元素分析：Ｃ22Ｈ30Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６８．３
７；Ｈ，７．８２；Ｎ，７．２５。実験値：Ｃ，６８．
１９；Ｈ，７．５４；Ｎ，７．０２。
【０１６８】実施例５５ ［３−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−１−（［１，１’−ビフェニ
ル］−２−イルメチル）−２−メチル−１Ｈ−インドー
ル−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸の製造。 Ａ．１−（［１，１’−ビフェニル］−２−イルメチ
ル）−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−
３−酢酸エチルエステル。 ５−メトキシ−２−メチル
−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル（９８８
ｍｇ、４ｍＭ）を６０％ＮａＨ／鉱油１６０ｍｇ（４ｍ
Ｍ、予めヘキサンで洗浄）に加え、混合物を０．５時間
撹拌し、２−（ブロモメチル）ビフェニル０．７４ｍＬ
（４ｍＭ）を加えた。２時間後、水を加え、混合物を酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチルを食塩水で洗い、Ｍｇ
ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロ
マトグラフし、２０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出して
１−（［１，１’−ビフェニル］−２−イルメチル）−
５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢
酸エチルエステル１．１８ｇ（収率：７２％）を油とし
て得た。
【０１６９】Ｂ．１−（［１，１’−ビフェニル］−２
−イルメチル）−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−イ
ンドール−３−アセトアミド。 １−（［１，１’−ビ
フェニル］−２−イルメチル）−５−メトキシ−２−メ
チル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル１．
１８ｇ（２．８６ｍＭ）とヒドラジン３ｍＬとの混合物
をエタノール中で還流を維持しながら１６時間加熱し
た。冷後、水を加え、混合物を酢酸エチルで抽出した。
酢酸エチル溶液を食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、
濃縮して１−（［１，１’−ビフェニル］−２−イルメ
チル）−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール
−３−酢酸ヒドラジド１．０２ｇを得た。この物質５７
６ｍｇ（１．４４ｍＭ）とラネイニッケル３００ｍｇと
の混合物をエタノール２０ｍＬ中で還流を維持しながら
３時間加熱した。冷後、溶媒をラネイニッケルからデカ
ンテーションし、塩化メチレンで２回洗浄した。有機溶
媒を合し、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラ
フし、酢酸エチルで溶出して１−（［１，１’−ビフェ
ニル］−２−イルメチル）−５−メトキシ−２−メチル
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド３６９ｍｇ（収
率：６７％）を得た。
【０１７０】Ｃ．１−（［１，１’−ビフェニル］−２
−イルメチル）−５−ヒドロキシ−２−メチル−１Ｈ−
インドール−３−アセトアミド。 １−（［１，１’−
ビフェニル］−２−イルメチル）−５−メトキシ−２−
メチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド３６９ｍ
ｇ（０．９６ｍＭ）および１Ｍ−ＢＢｒ3／塩化メチレ
ン４ｍＬの塩化メチレン２０ｍＬ溶液を６時間撹拌し
た。混合物を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解し、
水と食塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥した。減圧濃縮
後、残渣をシリカゲルクロマトグラフし、ＥｔＯＡｃで
溶出して１−（［１，１’−ビフェニル］−２−イルメ
チル）−５−ヒドロキシ−２−メチル−１Ｈ−インドー
ル−３−アセトアミド２９５ｍｇ（収率：８５％）を得
た。
【０１７１】Ｄ．［３−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−（［１，１’−ビフェニル］−２−
イルメチル）−２−メチル−１Ｈ−インドール−５−イ
ル］オキシ］プロピル］ホスホン酸ジメチルエステル。
１−（［１，１’−ビフェニル］−２−イルメチル）
−５−ヒドロキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３
−アセトアミド（２９５ｍｇ、０．８ｍＭ）をＮａＨ／
鉱油３２ｍｇ（０．８ｍＭ）にＤＭＦ１０ｍＬ中で加
え、１時間撹拌し、（３−ブロモプロピル）ホスホン酸
ジメチルエステル１２１ｍｇ（０．８ｍＭ）を加え、撹
拌を５．５時間続けた。混合物を水で希釈し、酢酸エチ
ルで抽出し、酢酸エチルを食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で
乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフ
し、ＥｔＯＡｃ→１０％ＭｅＯＨ／ＥｔＯＡｃ傾斜で溶
出して［３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチ
ル）−１−（［１，１’−ビフェニル］−２−イルメチ
ル）−２−メチル−１Ｈ−インドール−５−イル］オキ
シ］プロピル］ホスホン酸ジメチルエステル１４０ｍｇ
（収率：３４％）を得た。
【０１７２】Ｅ．［３−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−（［１，１’−ビフェニル］−２−
イルメチル）−２−メチル−１Ｈ−インドール−５−イ
ル］オキシ］プロピル］ホスホン酸。 ［３−［［３−
（２−アミノ−２−オキソエチル）−１−（［１，１’
−ビフェニル］−２−イルメチル）−２−メチル−１Ｈ
−インドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン
酸ジメチルエステル（１３０ｍｇ、０．２５ｍＭ）およ
び臭化トリメチルシリル０．３ｍＬ（３ｍＭ）を塩化メ
チレン２ｍＬ中で１６時間撹拌し、ＭｅＯＨ５ｍＬを加
え、０．７５時間撹拌し、減圧濃縮した。残渣をＥｔＯ
Ａｃ／ＭｅＣＮ／ＨＯＡｃ／水から結晶化して［３−
［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−１−
（［１，１’−ビフェニル］−２−イルメチル）−２−
メチル−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸４１ｍｇ（収率：３３％）を得た。ｍ
ｐ．２００〜２０２℃。 元素分析：Ｃ27Ｈ29Ｎ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，６５．
８４；Ｈ，５．９４；Ｎ，５．６９。実験値：Ｃ，６
５．５６；Ｈ，５．８５；Ｎ，５．７４。
【０１７３】実施例５６ ２−エチル−５−ヒドロキシ
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−ア
セトアミドの製造。 ２−エチル−５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（５．０５ｇ、１
５．７ｍＭ）と１Ｍ−ＢＢｒ3４７ｍＬとを塩化メチレ
ン１００ｍＬ中で実施例５６、Ｃ段に記載のように反応
させて生成物を得、これをシリカゲルクロマトグラフ
し、ＥｔＯＡｃで溶出して２−エチル−５−ヒドロキシ
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−ア
セトアミド３．６４ｇ（収率：７５％）を黄色の泡状物
として得た。 元素分析：Ｃ19Ｈ20Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７４．０
０；Ｈ，６．５４；Ｎ，９．０８。実験値：Ｃ，７３．
５５；Ｈ，６．４０；Ｎ，８．７３。
【０１７４】実施例５７ ［４−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン
酸エチルエステルの製造。 ２−エチル−５−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（３０８ｍｇ、
１ｍＭ）を６０％ＮａＨ／鉱油４０ｍｇ（１ｍＭ）、次
に４−ブロモ酪酸エチル０．１５ｍＬ（１ｍＭ）と実施
例５６、Ｄ段に記載のように反応させて生成物を得、こ
れをシリカゲルクロマトグラフし、５０％ＥｔＯＡｃ／
ヘキサンで溶出して［４−［［３−（２−アミノ−２−
オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸エチ
ルエステル２３１ｍｇ（収率：５５％）を得た。 元素分析：Ｃ25Ｈ30Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７１．０
７；Ｈ，７．１６；Ｎ，６．６３。実験値：Ｃ，７１．
２１；Ｈ，７．２４；Ｎ，６．５３。
【０１７５】実施例５８ ［４−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン
酸の製造。 ［４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２
−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル２００ｍ
ｇ（０．５ｍＭ）と１Ｎ−ＮａＯＨ４ｍＬとの混合物を
ＥｔＯＨ１０ｍＬ中で１．５時間撹拌し、水で希釈し、
ＥｔＯＡｃで抽出した。水層を１Ｎ−ＨＣｌでｐＨ５ま
で酸性にし、ＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を食
塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥した。溶媒を減圧蒸発
し、残渣をエーテル／ＭｅＯＨと撹拌し、不溶物を濾取
して［４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）
−２−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インド
ール−５−イル］オキシ］ブタン酸１２０ｍｇ（収率：
６１％）を得た。ｍｐ．１９６〜１９９℃。 元素分析：Ｃ23Ｈ26Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７０．０
３；Ｈ，６．６４；Ｎ，７．１０。実験値：Ｃ，６９．
９６；Ｈ，６．７８；Ｎ，６．８５。
【０１７６】実施例５９ ２−エチル−５−（４−ヒド
ラジノ−４−オキソブトキシ）−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミドの製造。 ［４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２
−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル２１１ｍ
ｇ（０．０５ｍＭ）およびヒドラジン１ｍＬの混合物を
エタノール５ｍＬ中で還流を維持しながら５時間加熱し
た。混合物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出し、酢酸エ
チルを食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮し
た。残渣をＭｅＯＨと撹拌し、不溶物を濾取して２−エ
チル−５−（４−ヒドラジノ−４−オキソブトキシ）−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミド１７７ｍｇ（収率：８７％）を得た。ｍｐ．１
７６〜１７９℃。 元素分析：Ｃ23Ｈ28Ｎ4Ｏ3として計算値：Ｃ，６７．６
３；Ｈ，６．９１；Ｎ，１３．７２。実験値：Ｃ，６
７．５８；Ｈ，７．０１；Ｎ，１３．９５。
【０１７７】実施例６０ ５−（４−アミノ−４−オキ
ソブトキシ）−２−エチル−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−３−アセトアミドの製造。 ２−エチル−５−（４−ヒドラジノ−４−オキソブトキ
シ）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３
−アセトアミド１５０ｍｇ（０．３７ｍＭ）とラネイニ
ッケル２００ｍｇとの混合物をエタノール１５ｍＬ中で
還流を維持しながら２時間加熱した。冷後、ＥｔＯＨを
流し取り、ラネイニッケルを塩化メチレンで２回洗う。
洗液を集め、濾過し、減圧濃縮し、残渣をシリカ上クロ
マトグラフし、ＥｔＯＡｃ、次に１０％ＭｅＯＨ／Ｅｔ
ＯＡｃで溶出して５−（４−アミノ−４−オキソブトキ
シ）−２−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イ
ンドール−３−アセトアミド６９ｍｇ（収率：４７％）
を得た。ｍｐ．１７６〜１７９℃。 元素分析：Ｃ23Ｈ27Ｎ3Ｏ3として計算値：Ｃ，７０．２
０；Ｈ，６．９２；Ｎ，１０．６８。実験値：Ｃ，６
９．９２；Ｈ，７．１３；Ｎ，１０．６４。
【０１７８】実施例６１ ［３−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸ジメチルエステルの製造。 ５−ヒドロキシ−２−エチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（３０８ｍｇ、
１．０ｍＭ）をＮａＨ／鉱油４０ｍｇ（１．０ｍＭ、ヘ
キサンで洗浄）にＤＭＦ４ｍＬ中で加え、０．５時間撹
拌し、（３−ブロモプロピル）ホスホン酸ジメチルエス
テル１９６ｍｇ（０．８５ｍＭ）を加え、撹拌を６．５
時間続けた。混合物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出
し、酢酸エチルを食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、
濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフし、ＥｔＯ
Ａｃ、５％ＭｅＯＨ／ＥｔＯＡｃ、次に１０％ＭｅＯＨ
／ＥｔＯＡｃで溶出して［３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸ジメチルエステル２６９ｍｇ（収率：５
９％）を得た。 元素分析：Ｃ24Ｈ31Ｎ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，６２．
８９；Ｈ，６．８２；Ｎ，６．１１。実験値：Ｃ，６
２．７２；Ｈ，６．９７；Ｎ，６．２９。
【０１７９】実施例６２ ［３−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸の製造。 ［３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２
−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸ジメチルエ
ステル（１５０ｍｇ、０．３３ｍＭ）と臭化トリメチル
シリル０．３５ｍＬ（２．６ｍＭ）とを塩化メチレン２
ｍＬ中で１６時間撹拌し、ＭｅＯＨ５ｍＬを加え、１．
０時間撹拌し、減圧濃縮した。残渣をＥｔＯＡｃ／Ｍｅ
ＣＮ／ＨＯＡｃ／水から結晶化して［３−［［３−（２
−アミノ−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキ
シ］プロピル］ホスホン酸１３８ｍｇ（収率：９７％）
を得た。ｍｐ．１９４〜１９６℃。 元素分析：Ｃ22Ｈ27Ｎ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，６１．
３９；Ｈ，６．３２；Ｎ，６．５１。実験値：Ｃ，６
１．３５；Ｈ，６．３８；Ｎ，６．３５。
【０１８０】実施例６３ ［３−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸モノメチルエステルの製造。 ［３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２
−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸ジメチルエ
ステル１６２ｍｇ（０．３５ｍＭ）と１Ｎ−ＮａＯＨ５
ｍＬとの混合物をＭｅＯＨ１０ｍＬ中で還流を維持しな
がら５時間加熱し、水で希釈し、酢酸エチルで抽出し
た。水層を１Ｎ−ＨＣｌでｐＨ２〜３まで酸性にし、酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を食塩水で洗い、
ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮して［３−［［３−（２
−アミノ−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキ
シ］プロピル］ホスホン酸モノメチルエステル１２０ｍ
ｇ（収率：７７％）を得た。 元素分析：Ｃ23Ｈ29Ｎ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，６２．
１５；Ｈ，６．５８；Ｎ，６．３０。実験値：Ｃ，６
３．１５；Ｈ，６．４５；Ｎ，４．８１。
【０１８１】実施例６４ ［３−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）
メチル］−２−エチル−１Ｈ−インドール−５−イル］
オキシ］プロピル］ホスホン酸の製造。 Ａ．１−［（３−クロロフェニル）メチル］−２−エチ
ル−５−メトキシ−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチル
エステル。 ２−エチル−５−メトキシ−１Ｈ−インド
ール−３−酢酸エチルエステル（１．８２ｇ、７．４ｍ
Ｍ）をＮａＨ／鉱油２９６ｍｇ（７．４ｍＭ、予めヘキ
サンで洗浄）に加え、混合物を０．５時間撹拌し、塩化
３−クロロベンジル０．９３ｍＬ（７．４ｍＭ）を加え
た。２１時間後、水を加え、混合物を酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチルを食塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ4で乾燥
し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフ
し、２０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出して１−［（３
−クロロフェニル）メチル］−２−エチル−５−メトキ
シ−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル２．１
３ｇ（収率：７５％）を油として得た。 元素分析：Ｃ22Ｈ24ＣｌＮＯ3として計算値：Ｃ，６
８．４８；Ｈ，６．２７；Ｎ，６．６３。実験値：Ｃ，
６８．２５；Ｈ，６．５２；Ｎ，３．４５。
【０１８２】Ｂ．１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−２−エチル−５−メトキシ−１Ｈ−インドール−
３−酢酸ヒドラジド。 １−［（３−クロロフェニル）
メチル］−２−エチル−５−メトキシ−１Ｈ−インドー
ル−３−酢酸エチルエステル１．９３ｇ（５ｍＭ）とヒ
ドラジン５ｍＬとの混合物をエタノール２０ｍＬ中で還
流を維持しながら１９時間加熱した。冷後、水を加え、
混合物を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を食塩
水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮して１−［（３−
クロロフェニル）メチル］−２−エチル−５−メトキシ
−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒドラジド１．１４４ｇ
（収率：６２％）を得た。 元素分析：Ｃ20Ｈ22ＣｌＮ3Ｏ2として計算値：Ｃ，６
４．６０；Ｈ，５．９６；Ｎ，１１．３０。実験値：
Ｃ，６４．３７；Ｈ，６．１３；Ｎ，１１．１８。
【０１８３】Ｃ．１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−２−エチル−５−メトキシ−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミド。 １−［（３−クロロフェニル）メ
チル］−２−エチル−５−メトキシ−１Ｈ−インドール
−３−酢酸ヒドラジド３４０ｍｇ（０．９２ｍＭ）とラ
ネイニッケル２００ｍｇとの混合物をエタノール２０ｍ
Ｌ中で還流を維持しながら２．５時間加熱した。冷後、
溶媒をデカンテーションし、ラネイニッケルを塩化メチ
レンで２回洗った。有機溶媒を集め、濾過し、減圧濃縮
し、残渣をシリカゲルクロマトグラフし、酢酸エチルで
溶出して１−［（３−クロロフェニル）メチル］−２−
エチル−５−メトキシ−１Ｈ−インドール−３−アセト
アミド２４４ｍｇ（収率：７４％）を得た。
【０１８４】Ｄ．１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−２−エチル−５−ヒドロキシ−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド。 １−［（３−クロロフェニル）
メチル］−２−エチル−５−メトキシ−１Ｈ−インドー
ル−３−アセトアミド２２６ｍｇ（０．６３ｍＭ）と１
Ｍ−ＢＢｒ3／塩化メチレン２．５ｍＬとの塩化メチレ
ン１５ｍＬ溶液を６時間撹拌した。混合物を減圧濃縮
し、残渣を酢酸エチルに溶解し、水、食塩水で洗浄し、
ＭｇＳＯ4で乾燥した。減圧濃縮後、残渣をシリカゲル
クロマトグラフし、ＥｔＯＡｃで溶出して１−［（３−
クロロフェニル）メチル］−２−エチル−５−ヒドロキ
シ−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド１７４ｍｇ
（収率：８１％）を得た。
【０１８５】Ｅ．［３−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）メチル］
−２−エチル−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］
プロピル］ホスホン酸ジメチルエステル。 １−［（３
−クロロフェニル）メチル］−２−エチル−５−ヒドロ
キシ−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（１７０ｍ
ｇ、０．５ｍＭ）をＤＭＦ１０ｍＬ中のＮａＨ／鉱油２
０ｍｇ（０．５ｍＭ）に加え、１時間撹拌し、（３−ブ
ロモプロピル）ホスホン酸ジメチルエステル１２１ｍｇ
（０．８ｍＭ）を加え、撹拌を４時間続けた。混合物を
水で希釈、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチルを食塩水で
洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフし、ＥｔＯＡｃ、次に１０％ＭｅＯＨ
／ＥｔＯＡｃで溶出して［３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）メ
チル］−２−エチル−１Ｈ−インドール−５−イル］オ
キシ］プロピル］ホスホン酸ジメチルエステル９９ｍｇ
（収率：４０％）を得た。
【０１８６】Ｆ．［３−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）メチル］
−２−エチル−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］
プロピル］ホスホン酸。 ［３−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）
メチル］−２−エチル−１Ｈ−インドール−５−イル］
オキシ］プロピル］ホスホン酸ジメチルエステル（９９
ｍｇ、０．２ｍＭ）と臭化トリメチルシリル０．２１ｍ
Ｌ（１．６ｍＭ）とを塩化メチレン２ｍＬ中で１６時間
撹拌し、ＭｅＯＨ５ｍＬを加え、０．７５時間撹拌し、
減圧濃縮した。残渣をＥｔＯＡｃ／ＭｅＣＮ／ＨＯＡｃ
／水から結晶化して［３−［［３−（２−アミノ−２−
オキソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−２−エチル−１Ｈ−インドール−５−イル］オキ
シ］プロピル］ホスホン酸６０ｍｇ（収率：６５％）を
得た。ｍｐ．２０３〜２０５℃。 元素分析：Ｃ22Ｈ26ＣｌＮ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，５
６．８４；Ｈ，５．６４；Ｎ，６．０３。実験値：Ｃ，
５６．８０；Ｈ，５．６８；Ｎ，５．９６。
【０１８７】実施例６５ ４−（２−ヒドラジノ−２−
オキソエトキシ）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミドの製造。 ２−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
４−イル］オキシ］酢酸メチルエステル（実施例３９）
４８４ｍｇ（１．３ｍＭ）とヒドラジン２ｍＬとの混合
物をエタノール１０ｍＬ中で還流を維持しながら１６時
間加熱し、エタノール１０ｍＬを加え、さらに４時間加
熱し、冷却した。酢酸エチルと水を加え、不溶物を濾過
した。酢酸エチル溶液を分離し、食塩水で洗い、ＭｇＳ
Ｏ4で乾燥し濃縮した。残渣を前記沈殿と合して４−
（２−ヒドラジノ−２−オキソエトキシ）−２−メチル
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−ア
セトアミド４３５ｍｇ（収率：９１％）を得た。ｍｐ．
２０７〜２１０℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ22Ｎ4Ｏ3として計算値：Ｃ，６５．５
６；Ｈ，６．０５；Ｎ，１５．２９。実験値：Ｃ，６
５．５７；Ｈ，６．１４；Ｎ，１５．４０。
【０１８８】実施例６６ ４−（２−アミノ−２−オキ
ソエトキシ）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−３−アセトアミドの製造。 ４−（２−ヒドラジノ−２−オキソエトキシ）−２−メ
チル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３
−アセトアミド２３０ｍｇ（０．６３ｍＭ）とラネイニ
ッケル３００ｍｇとの混合物をエタノール４０ｍＬ中で
還流を維持しながら４時間加熱した。混合物を冷却し、
ＥｔＯＨを触媒から分離し、触媒は塩化メチレンで２回
洗浄した。溶媒を集め、濾過し、濃縮し、残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフし、１０％ＭｅＯＨ／ＥｔＯＡｃで
溶出すると４−（２−アミノ−２−オキソエトキシ）−
２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドー
ル−３−アセトアミド２５ｍｇ（収率：１１％）を得
た。この物質は１９０〜２０７℃で溶融した。 元素分析：Ｃ20Ｈ21Ｎ3Ｏ3として計算値：Ｃ，６８．３
６；Ｈ，６．０２；Ｎ，１１．９６。実験値：Ｃ，６
８．０８；Ｈ，６．５５；Ｎ，１３．２８。
【０１８９】実施例６７ ［［３−（２−アミノ−２−
オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］メチル］ホス
ホン酸ジエチルエステルの製造。 ４−ヒドロキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（２９４ｍｇ、
１ｍＭ）を６０％ＮａＨ／鉱油（予めヘキサンで洗浄）
４０ｍｇ（１ｍＭ）にＤＭＦ２ｍＬ中で加え、０．３３
時間撹拌し、ヨードメチルホスホン酸ジエチルエステル
１．１ｇ（４ｍＭ）を加え、７２時間撹拌し、ヨードメ
チルホスホン酸ジエチルエステル１．１ｇ（４ｍＭ）を
加え、２４時間撹拌を続けた。混合物を水で希釈し、酢
酸エチルで抽出し、酢酸エチルを食塩水で洗い、ＭｇＳ
Ｏ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマ
トグラフし、酢酸エチル、次に１０％ＭｅＯＨ／ＥｔＯ
Ａｃで溶出して［［３−（２−アミノ−２−オキソエチ
ル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イ
ンドール−４−イル］オキシ］メチル］ホスホン酸ジエ
チルエステル２０６ｍｇ（収率：４６％）を得た。
【０１９０】実施例６８ ［［３−（２−アミノ−２−
オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］メチル］ホス
ホン酸の製造。 ［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−メチ
ル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−４−
イル］オキシ］メチル］ホスホン酸ジエチルエステル
（２０６ｍｇ、０．４６ｍＭ）と臭化トリメチルシリル
０．４９ｍＬ（３．７ｍＭ）とを塩化メチレン２ｍＬ中
で１６時間撹拌し、ＭｅＯＨ５ｍＬを加え、１．０時間
撹拌し、減圧濃縮した。残渣をＥｔＯＡｃ／ＭｅＣＮ／
ＨＯＡｃ／水から結晶化して［［３−（２−アミノ−２
−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］メチル］
ホスホン酸５２ｍｇ（収率：２９％）を得た。ｍｐ．１
９５〜１９８℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ21ＣｌＮ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，５
８．７６；Ｈ，５．４５；Ｎ，７．２１。実験値：Ｃ，
５８．５２；Ｈ，５．３２；Ｎ，７．２６。
【０１９１】実施例６９ １−［（３−クロロフェニ
ル）メチル］−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−イン
ドール−３−アセトアミドの製造。 Ａ．１−［（３−クロロフェニル）メチル］−５−メト
キシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチル
エステル。 実施例６５、Ａ段に記載の操作を用い、５
−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸
エチルエステル（実施例３５、Ｃ段）７４１ｍｇ（３ｍ
Ｍ）を６０％ＮａＨ／鉱油１２０ｍｇ（３ｍＭ）、続い
て塩化３−クロロベンジル０．３８ｍＬ（３ｍＭ）と反
応させて生成物を得、これをシリカゲルクロマトグラフ
ィー（２０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出）により１−
［（３−クロロフェニル）メチル］−５−メトキシ−２
−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル
７９０ｍｇ（収率：７０％）を得た。ｍｐ．１１３〜１
１５℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ22ＣｌＮＯ3として計算値：Ｃ，６
７．８３；Ｈ，５．９６；Ｎ，３．７７。実験値：Ｃ，
７０．３９；Ｈ，６．３１；Ｎ，３．８２。
【０１９２】Ｂ．１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−
３−酢酸ヒドラジド。 １−［（３−クロロフェニル）
メチル］−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドー
ル−３−酢酸エチルエステル７８０ｍｇ（２ｍＭ）とヒ
ドラジン２ｍＬとの混合物をエタノール１０ｍＬ中で還
流を維持しながら１６時間加熱し、酢酸エチル／水に注
入し、酢酸エチルを分離し、食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4
で乾燥した。濃縮後、残渣をＭｅＯＨと撹拌し、不溶物
を濾取して１−［（３−クロロフェニル）メチル］−５
−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸
ヒドラジド６９８ｍｇ（収率：９８％）を得た。ｍｐ．
１６０〜１６２℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ20ＣｌＮ3Ｏ2として計算値：Ｃ，６
３．７７；Ｈ，５．６３；Ｎ，１１．７４。実験値：
Ｃ，６３．９７；Ｈ，５．７０；Ｎ，１１．５６。
【０１９３】Ｃ．１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミド。 １−［（３−クロロフェニル）メ
チル］−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール
−３−酢酸ヒドラジド６７５ｍｇ（１．９ｍＭ）とラネ
イニッケル５００ｍｇとの混合物をエタノール２５ｍＬ
中で還流を維持しながら３．５時間加熱し、室温に冷却
した。エタノールをデカンテーションし、ラネイニッケ
ルを塩化メチレンで２回洗った。溶媒を集め、濾過し、
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフ（ＥｔＯ
Ａｃで溶出）して１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミド５０３ｍｇ（収率：７７％）を得た。
ｍｐ．１７１〜１７３℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ19ＣｌＮ2Ｏ2として計算値：Ｃ，６
６．５７；Ｈ，５．５９；Ｎ，８．１７。実験値：Ｃ，
６６．７９；Ｈ，５．７３；Ｎ，８．１７。
【０１９４】実施例７０ １−［（３−クロロフェニ
ル）メチル］−５−ヒドロキシ−２−メチル−１Ｈ−イ
ンドール−３−アセトアミドの製造。 １−［（３−クロロフェニル）メチル］−５−メトキシ
−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド４
８３ｍｇ（１．４ｍＭ）と１Ｍ−ＢＢｒ3／塩化メチレ
ン５．６ｍＬの塩化メチレン２０ｍＬ溶液を５時間撹拌
し、１Ｍ−ＢＢｒ3／塩化メチレン２ｍＬを追加し、１
６時間撹拌した。混合物を水に注入し、酢酸エチルで抽
出し、酢酸エチル溶液を食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾
燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフ
し、５０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサン→ＥｔＯＡｃ傾斜を用
いて溶出して出発物質１−［（３−クロロフェニル）メ
チル］−５−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド１５５ｍｇおよび１−［（３−クロ
ロフェニル）メチル］−５−ヒドロキシ−２−メチル−
１Ｈ−インドール−３−アセトアミド２２０ｍｇ（収
率：４８％）を得た。ｍｐ．１７３〜１７７℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ17ＣｌＮ2Ｏ2として計算値：Ｃ，６
５．７５；Ｈ，５．２１；Ｎ，８．５２。実験値：Ｃ，
６５．９３；Ｈ，５．３２；Ｎ，８．４６。
【０１９５】実施例７１ ［［３−（２−アミノ−２−
オキソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−２−メチル−１Ｈ−インドール−４−イル］オキ
シ］酢酸エチルエステルの製造。 １−［（３−クロロフェニル）メチル］−４−ヒドロキ
シ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド
（２０６ｍｇ、０．６３ｍＭ）を６０％ＮａＨ／鉱油
（あらかじめヘキサンで洗浄）２５ｍｇ（０．６３ｍ
Ｍ）にＤＭＦ６ｍＬ中で加え、０．５時間撹拌し、２−
ブロモ酢酸メチル０．０６ｍＬ（０．６３ｍＭ）を加
え、２．５時間撹拌した。混合物を水で希釈し、酢酸エ
チルで抽出し、酢酸エチルを食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4
で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をＭｅＯＨと撹拌し、不
溶物を濾取して［［３−（２−アミノ−２−オキソエチ
ル）−１−［（３−クロロフェニル）メチル］−２−メ
チル−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］酢酸エチ
ルエステル１８４ｍｇ（収率：７３％）を得た。ｍｐ．
１８０〜１８３℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ21ＣｌＮ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６
２．９２；Ｈ，５．２８；Ｎ，６．９９。実験値：Ｃ，
６３．０６；Ｈ，５．２９；Ｎ，６．９３。
【０１９６】実施例７２ ［［３−（２−アミノ−２−
オキソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−２−メチル−１Ｈ−インドール−４−イル］オキ
シ］酢酸ナトリウム塩の製造。 ［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−１−
［（３−クロロフェニル）メチル］−２−メチル−１Ｈ
−インドール−４−イル］オキシ］酢酸エチルエステル
１５５ｍｇ（０．３９ｍＭ）と１Ｎ−ＮａＯＨ４ｍＬと
の混合物をエタノール１０ｍＬ中で０．５時間加熱し、
放冷し、沈殿を濾取して［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）メチル］
−２−メチル−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］
酢酸ナトリウム１４０ｍｇ（収率：８８％）を得た。ｍ
ｐ．＞２５０℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ18ＣｌＮ2Ｏ4Ｎａとして計算値：Ｃ，
５８．７６；Ｈ，４．４４；Ｎ，６．８５。実験値：
Ｃ，５９．０１；Ｈ，４．５５；Ｎ，６．７５。
【０１９７】実施例７３ ［［３−（２−アミノ−２−
オキソエチル）−１−（［１，１’−ビフェニル］−２
−イルメチル）−２−メチル−１Ｈ−インドール−４−
イル］オキシ］酢酸ナトリウム塩の製造。 Ａ．１−（［１，１’−ビフェニル］−２−イルメチ
ル）−４−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−
３−酢酸エチルエステル。 ５−メトキシ−２−メチル
−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル（１ｇ、
４ｍＭ）をＮａＨ／鉱油（あらかじめヘキサンで洗浄）
１６０ｍｇ（４ｍＭ）に加え、混合物を１．０時間撹拌
し、２−（ブロモメチル）ビフェニル０．１３ｍＬ（４
ｍＭ）を加えた。３時間後、水を加え、混合物を酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチルを食塩水で洗い、ＭｇＳＯ
4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマト
グラフし、２０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出して１−
（［１，１’−ビフェニル］−２−イルメチル）−４−
メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エ
チルエステル１．１８ｇ（収率：７１％）を油として得
た。
【０１９８】Ｂ．１−（［１，１’−ビフェニル］−２
−イルメチル）−４−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸ヒドラジド。 １−（［１，１’−
ビフェニル］−２−イルメチル）−４−メトキシ−２−
メチル−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル
１．１８ｇ（２．９ｍＭ）とヒドラジン３ｍＬとの混合
物をエタノール２０ｍＬ中で還流を維持しながら１５時
間加熱した。冷後、水を加え、混合物を酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル溶液を食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で
乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフ
（ＥｔＯＡｃ、次に１０％ＭｅＯＨ／ＥｔＯＡｃで溶
出）して１−（［１，１’−ビフェニル］−２−イルメ
チル）−４−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−インドール
−３−酢酸ヒドラジド６４６ｍｇ（収率：５６％）を得
た。ｍｐ．１４８〜１５０℃。 元素分析：Ｃ25Ｈ25Ｎ3Ｏ2として計算値：Ｃ，７５．１
６；Ｈ，６．３１；Ｎ，１０．５２。実験値：Ｃ，７
５．１４；Ｈ，６．４０；Ｎ，１０．６３。
【０１９９】Ｃ．１−（［１，１’−ビフェニル］−２
−イルメチル）−４−メトキシ−２−メチル−１Ｈ−イ
ンドール−３−アセトアミド。 この物質５７６ｍｇ
（１．４４ｍＭ）とラネイニッケル３００ｍｇの混合物
をエタノール２０ｍＬ中で還流を維持しながら３時間加
熱した。冷後、溶媒をデカンテンーションし、ラネイニ
ッケルを塩化メチレンで２回洗った。有機溶媒を集め、
濾過し、減圧濃縮し、残渣をＥｔＯＡｃに再溶解し、水
洗した。ＭｇＳＯ4で乾燥した後、酢酸エチルを減圧除
去したところ、残渣は１−（［１，１’−ビフェニル］
−２−イルメチル）−４−メトキシ−２−メチル−１Ｈ
−インドール−３−アセトアミド４３７ｍｇ（収率：７
１％）であった。ｍｐ．１７３〜１７５℃。 元素分析：Ｃ25Ｈ24Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７８．１
０；Ｈ，６．２９；Ｎ，７．２９。実験値：Ｃ，７８．
９４；Ｈ，６．２７；Ｎ，７．３５。
【０２００】Ｄ．１−（［１，１’−ビフェニル］−２
−イルメチル）−４−ヒドロキシ−２−メチル−１Ｈ−
インドール−３−アセトアミド。 １−（［１，１’−
ビフェニル］−２−イルメチル）−４−メトキシ−２−
メチル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド４３０ｍ
ｇ（１．１ｍＭ）と１Ｍ−ＢＢｒ3／塩化メチレン４．
４ｍＬとの塩化メチレン１０ｍＬ溶液を５．５時間撹拌
した。混合物を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解
し、水、食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥した。減圧濃
縮後、残渣をシリカゲルクロマトグラフし、ＥｔＯＡｃ
で溶出して１−（［１，１’−ビフェニル］−２−イル
メチル）−４−ヒドロキシ−２−メチル−１Ｈ−インド
ール−３−アセトアミド４００ｍｇ（収率：９８％）を
得た。
【０２０１】Ｅ．［［３−（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−１−（［１，１’−ビフェニル］−２−イルメ
チル）−２−メチル−１Ｈ−インドール−４−イル］オ
キシ］酢酸メチルエステル。 １−（［１，１’−ビフ
ェニル］−２−イルメチル）−４−ヒドロキシ−２−メ
チル−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（４００ｍ
ｇ、１．０８ｍＭ）をＮａＨ／鉱油４３ｍｇ（１．０８
ｍＭ）にＤＭＦ５ｍＬ中で加え、１時間撹拌し、２−ブ
ロモ酢酸メチル０．１ｍＬ（１．０８ｍＭ）を加え、撹
拌を１９時間続けた。混合物を水で希釈し、酢酸エチル
で抽出し、酢酸エチルを食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾
燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフし、
５０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出して［［３−（２−
アミノ−２−オキソエチル）−１−（［１，１’−ビフ
ェニル］−２−イルメチル）−２−メチル−１Ｈ−イン
ドール−４−イル］オキシ］酢酸メチルエステル３１９
ｍｇ（収率：６７％）を得た。
【０２０２】Ｆ．［［３−（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−１−（［１，１’−ビフェニル］−２−イルメ
チル）−２−メチル−１Ｈ−インドール−４−イル］オ
キシ］酢酸ナトリウム塩。 ［［３−（２−アミノ−２
−オキソエチル）−１−（［１，１’−ビフェニル］−
２−イルメチル）−２−メチル−１Ｈ−インドール−４
−イル］オキシ］酢酸メチルエステル（３１９ｍｇ、
０．７２ｍＭ）と１Ｎ−ＮａＯＨ５ｍＬとをＭｅＯＨ１
５ｍＬ中で還流を維持しながら０．５時間加熱し、酢酸
エチル／水に加え、不溶物を濾取して［［３−（２−ア
ミノ−２−オキソエチル）−１−（［１，１’−ビフェ
ニル］−２−イルメチル）−２−メチル−１Ｈ−インド
ール−４−イル］オキシ］酢酸ナトリウム塩２４４ｍｇ
（収率：７５％）を得た。ｍｐ．＞２５０℃。 元素分析：Ｃ26Ｈ23Ｎ2Ｏ4Ｎａとして計算値：Ｃ，６
９．３５；Ｈ，５．１５；Ｎ，６．２２。実験値：Ｃ，
６９．１０；Ｈ，５．３６；Ｎ，５．９４。
【０２０３】実施例７４ ［［３−（２−アミノ−２−
オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］酢酸の製造。 Ａ．Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−３−メトキシ
−２−メチルアニリン。 ３−メトキシ−２−メチルア
ニリン４４．４ｇ（３４４ｍＭ）とジ炭酸ジｔｅｒｔ−
ブチル７５ｇ（３４４ｍＭ）のＴＨＦ４００ｍＬ溶液を
還流を維持しながら４時間加熱した。減圧濃縮後、残渣
を酢酸エチルに取り、１Ｎ−クエン酸、水で洗い、Ｍｇ
ＳＯ4で乾燥した。溶媒を減圧除去後、残渣をヘキサン
から結晶化してＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−３
−メトキシ−２−メチルアニリン６４．５ｇ（収率：８
４％）を得た。ｍｐ．５６〜５７℃。 元素分析：Ｃ13Ｈ19ＮＯ3として計算値：Ｃ，６５．８
０；Ｈ，８．０７；Ｎ，５．９０。実験値：Ｃ，６３．
３２；Ｈ，７．８３；Ｎ，５．５６。
【０２０４】Ｂ．２−エチル−４−メトキシ−１Ｈ−イ
ンドール。 １．３Ｍ−ｓｅｃ−ブチルリチウムのシク
ロヘキサン溶液１４０ｍＬ（０．１８モル）をドライア
イス−エタノール浴で温度を−４０℃以下に維持したＮ
−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−３−メトキシ−２−
メチルアニリン（２１．３ｇ、０．０９モル）のＴＨＦ
２５０ｍＬ溶液に徐々に加えた。浴を去り、温度を０℃
に戻し、次に再び浴に入れた。温度が−６０℃に低下
後、Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルプロパンアミド１８．５
ｇ（０．１８モル）のＴＨＦ等容混合物を滴加した。反
応混合物を５分間撹拌し、冷浴を去り、さらに１８時間
撹拌した。これを次にエーテル３００ｍＬと０．５Ｎ−
ＨＣｌとの混合物に注入した。有機層を分離し、水、食
塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮して粗製の
１−［２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−
６−メトキシフェニル］−２−ブタノン２５．５ｇを得
た。この物質を塩化メチレン２５０ｍＬおよびトリフル
オロ酢酸５０ｍＬに溶解し、合計１７時間撹拌した。混
合物を減圧濃縮し、残留した油に酢酸エチルと水を加え
た。酢酸エチルを分離し、食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で
乾燥し、濃縮した。残渣をシリカ上で３回クロマトグラ
フし、２０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出して２−エチ
ル−４−メトキシ−１Ｈ−インドール１３．９ｇを得
た。 元素分析：Ｃ11Ｈ13ＮＯとして計算値：Ｃ，７５．４
０；Ｈ，７．４８；Ｎ，７．９９。実験値：Ｃ，７４．
４１；Ｈ，７．６４；Ｎ，７．９７。
【０２０５】Ｃ．２−エチル−４−メトキシ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール。 ２−エチル−４
−メトキシ−１−Ｈインドール（４．２ｇ、２４ｍＭ）
をＤＭＦ３０ｍＬに溶解し、６０％ＮａＨ／鉱油９６０
ｍｇ（２４ｍＭ）を加えた。１．５時間後、臭化ベンジ
ル２．９ｍＬ（２４ｍＭ）を加えた。４時間後、混合物
を水で希釈し、酢酸エチルで２回抽出した。酢酸エチル
を集め、食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮
した。残渣をシリカゲルクロマトグラフし、２０％Ｅｔ
ＯＡｃ／ヘキサンで溶出して２−エチル−４−メトキシ
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール３．１ｇ
（収率：４９％）を得た。
【０２０６】Ｄ．２−エチル−４−メトキシ−α−オキ
ソ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−
アセトアミド。 塩化オキサリル（０．８７ｍＬ、１０
ｍＭ）を２−エチル−４−メトキシ−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール２．６ｇ（９．８ｍＭ）に塩
化メチレン２５ｍＬ中で加え、混合物を３時間撹拌し、
減圧濃縮した。残渣を塩化メチレン２５ｍＬに再溶解
し、無水アンモニアを０．２５時間吹込み、混合物を濃
縮した。残渣を酢酸エチル／水と撹拌し、不溶物を濾取
した。濾液からの酢酸エチルは食塩水で洗い、ＭｇＳＯ
4で乾燥し、濃縮した。残渣をエーテルで洗い、濾取し
た物質と合わせて２−エチル−４−メトキシ−α−オキ
ソ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−
アセトアミド１．１９ｇ（収率：３６％）を得た。ｍ
ｐ．１９３〜１９９℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ20Ｎ2Ｏ3として計算値：Ｃ，７１．４
１；Ｈ，５．９９；Ｎ，８．３３。実験値：Ｃ，６６．
２２；Ｈ，６．１６；Ｎ，１０．４２。
【０２０７】Ｅ．２−エチル−４−メトキシ−α−ヒド
ロキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミド。 ２−エチル−４−メトキシ−α−
オキソ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミド１ｇ（３ｍＭ）および水素化ホウ素ナ
トリウム１４２ｍｇ（３．７５ｍＭ）とエタノール１０
０ｍＬとの混合物を２０時間撹拌し、減圧蒸発した。残
渣を酢酸エチルと水に取り、酢酸エチルを分離し、食塩
水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥した。溶液を減圧濃縮し、
残渣をエーテルと撹拌した。不溶物を濾取して２−エチ
ル−４−メトキシ−α−ヒドロキシ−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド８９３ｍ
ｇ（収率：８８％）を得た。ｍｐ．１６０〜１６２℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ22Ｎ2Ｏ3として計算値：Ｃ，７０．９
９；Ｈ，６．５５；Ｎ，８．２８。実験値：Ｃ，７０．
７６；Ｈ，６．５５；Ｎ，８．１１。
【０２０８】Ｆ．２−エチル−４−メトキシ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド。 ２−エチル−４−メトキシ−α−ヒドロキシ−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセト
アミド８７５ｍｇ（２．６ｍＭ）とトリエチルシラン
０．５１ｍＬ（３．２３ｍＭ）とのトリフルオロ酢酸１
０ｍＬ溶液を１６時間撹拌し、減圧濃縮した。残渣を酢
酸エチルと水に取り、酢酸エチルを分離し、食塩水で洗
い、ＭｇＳＯ4で乾燥した。残渣をシリカゲルクロマト
グラフし、初めに５０％酢酸エチル／ヘキサン、次に酢
酸エチルで溶出して２−エチル−４−メトキシ−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトア
ミド５２１ｍｇ（収率：６２％）を得た。ｍｐ．１５２
〜１５４℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ22Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７４．５
１；Ｈ，６．８８；Ｎ，８．６９。実験値：Ｃ，７４．
２４；Ｈ，６．９０；Ｎ，８．７２。
【０２０９】Ｇ．２−エチル−４−ヒドロキシ−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトア
ミド。 ２−エチル−４−メトキシ−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（４８３
ｍｇ、１．５ｍＭ）とＢＢｒ3６ｍＬを実施例５６、Ｃ
段記載のように反応し、シリカゲルクロマトグラフィー
（酢酸エチルで溶出）後に２−エチル−４−ヒドロキシ
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−ア
セトアミド１５６ｍｇ（収率：３４％）を得た。 元素分析：Ｃ19Ｈ20Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７４．０
０；Ｈ，６．５４；Ｎ，９．０８。実験値：Ｃ，６９．
２３；Ｈ，６．０９；Ｎ，８．２４。
【０２１０】Ｈ．２−［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］酢酸メチルエステ
ル。２−エチル−４−ヒドロキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（１３５ｍ
ｇ、０．４４ｍＭ）をＮａＨ／鉱油（ヘキサンで洗浄し
たもの）１７．６ｍｇ（０．４４ｍＭ）にＤＭＦ５ｍＬ
中で加え、０．５時間撹拌し、２−ブロモ酢酸メチル
０．０４ｍＬ（０．４４ｍＭ）を加え、撹拌を５時間継
続した。混合物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。
少量の不溶物を濾取した。酢酸エチルを食塩水で洗い、
ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮した。残渣を濾取した物質と
合して２−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）
−２−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インド
ール−４−イル］オキシ］酢酸メチルエステル１１９ｍ
ｇ（収率：７１％）を得た。 元素分析：Ｃ22Ｈ24Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６９．４
６；Ｈ，６．３６；Ｎ，７．３６。実験値：Ｃ，６９．
６５；Ｈ，６．４１；Ｎ，７．３５。
【０２１１】Ｉ．２−［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］酢酸。 ２−
［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−エチ
ル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−４−
イル］オキシ］酢酸メチルエステル１００ｍｇ（０．２
６ｍＭ）と１Ｎ−ＮａＯＨ２ｍＬとの混合物をＭｅＯＨ
６ｍＬ中で原料が溶解するまで加熱し、次に室温で１時
間撹拌した。水と酢酸エチルを加え、水層を分離し、１
Ｎ−ＨＣｌでｐＨ３まで酸性にし、酢酸エチルを加え
た。不溶物を濾取した。酢酸エチル溶液は食塩水で洗
い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣を濾取し
た物質と合して２−［［３−（２−アミノ−２−オキソ
エチル）−２−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ
−インドール−４−イル］オキシ］酢酸９０ｍｇ（収
率：９５％）を得た。ｍｐ．２２０〜２２２℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ21Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６８．８
４；Ｈ，６．０５；Ｎ，７．６５。実験値：Ｃ，６７．
５２；Ｈ，５．６７；Ｎ，８．４６。
【０２１２】実施例７５ ２−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−１−［（３−クロロフェニル）メ
チル］−２−エチル−１Ｈ−インドール−４−イル］オ
キシ］酢酸の製造。 Ａ．１−［（３−クロロフェニル）メチル］−２−エチ
ル−４−メトキシ−１Ｈ−インドール。 ２−エチル−
４−メトキシ−１Ｈ−インドール（７．６５ｇ、４４ｍ
Ｍ）をＤＭＦ５０ｍＬに溶解し、６０％ＮａＨ／鉱油
１．７６ｇ（４４ｍＭ）を加えた。０．７５時間後、塩
化３−クロロベンジル５．６ｍＬ（２４ｍＭ）を加え
た。１８時間後、混合物を水で希釈し、酢酸エチルで２
回抽出した。酢酸エチルを集め、食塩水で洗い、ＭｇＳ
Ｏ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマ
トグラフし、２０％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで溶出して１
−［（３−クロロフェニル）メチル］−２−エチル−４
−メトキシ−１Ｈ−インドール１．６１ｇ（収率：１２
％）を得た。
【０２１３】Ｂ．１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−２−エチル−４−メトキシ−α−オキソ−１Ｈ−
インドール−３−アセトアミド。 塩化オキサリル
（０．５ｍＬ、５．３ｍＭ）と塩化メチレン２０ｍＬ中
の１−［（３−クロロフェニル）メチル］−２−エチル
−４−メトキシ−１Ｈ−インドール１．６ｇ（５．３ｍ
Ｍ）およびアンモニアと実施例７５、Ｃ段に記載のよう
に反応させ、シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチ
ルで溶出）を含む後処理を行って１−［（３−クロロフ
ェニル）メチル］−２−エチル−４−メトキシ−α−オ
キソ−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド１．４７ｇ
（収率：７５％）を得た。ｍｐ．１２４〜１２９℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ19ＣｌＮ2Ｏ3として計算値：Ｃ，６
４．７８；Ｈ，５．１６；Ｎ，７．５５。実験値：Ｃ，
６４．７２；Ｈ，５．１６；Ｎ，７．６６。
【０２１４】Ｃ．１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−２−エチル−４−メトキシ−α−ヒドロキシ−１
Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 実施例７５、Ｅ
段記載の操作を用い、１−［（３−クロロフェニル）メ
チル］−２−エチル−４−メトキシ−α−オキソ−１Ｈ
−インドール−３−アセトアミド７５０ｍｇ（２ｍＭ）
と水素化ホウ素ナトリウム９５ｍｇ（２．５ｍＭ）とを
エタノール５０ｍＬ中で反応させ、塩化メチレンで洗浄
後、１−［（３−クロロフェニル）メチル］−２−エチ
ル−４−メトキシ−α−ヒドロキシ−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド２９０ｍｇ（収率：３９％）を得
た。ｍｐ．１３４〜１３６℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ21ＣｌＮ2Ｏ3として計算値：Ｃ，６
４．４３；Ｈ，５．６８；Ｎ，７．５１。実験値：Ｃ，
６５．６１；Ｈ，５．８１；Ｎ，１１．２４。
【０２１５】Ｄ．１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−２−エチル−４−メトキシ−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミド。 実施例７５、Ｆ段の方法により、
１−［（３−クロロフェニル）メチル］−２−エチル−
４−メトキシ−α−ヒドロキシ−１Ｈ−インドール−３
−アセトアミド２８０ｍｇ（０．７５ｍＭ）をトリエチ
ルシラン０．１２ｍＬ（０．７５ｍＭ）のトリフルオロ
酢酸２ｍＬ溶液で還元し、シリカゲルクロマトグラフィ
ー（酢酸エチルで溶出）して１−［（３−クロロフェニ
ル）メチル］−２−エチル−４−メトキシ−１Ｈ−イン
ドール−３−アセトアミド１２５ｍｇ（収率：４８％）
を得た。
【０２１６】Ｅ．１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−２−エチル−４−ヒドロキシ−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド。 １−［（３−クロロフェニル）
メチル］−２−エチル−４−メトキシ−１Ｈ−インドー
ル−３−アセトアミド１２３ｍｇ（０．３５ｍＭ）とＢ
Ｂｒ3１．４ｍＬとを実施例５６、Ｃ段に記載のように
反応させ、シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル
で溶出）後に１−［（３−クロロフェニル）メチル］−
２−エチル−４−ヒドロキシ−１Ｈ−インドール−３−
アセトアミド１５６ｍｇ（収率：３４％）を得た。
【０２１７】Ｆ．［［３−（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−１−（３−クロロフェニル）メチル］−２−エ
チル−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］酢酸メチ
ルエステル。 （１−［（３−クロロフェニル）メチ
ル］−２−エチル−４−ヒドロキシ−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド（９１ｍｇ、０．３ｍＭ）をＮａＨ
／鉱油（ヘキサンで洗浄）１２ｍｇ（０．３ｍＭ）と、
次に２−ブロモ酢酸メチル０．０３ｍＬ（０．３ｍＭ）
とを実施例７５、Ｈ段に記載のようにＤＭＦ１０ｍＬ中
で反応させ、シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチ
ルで溶出）後に２−［［３−（２−アミノ−２−オキソ
エチル）−２−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ
−インドール−４−イル］オキシ］酢酸メチルエステル
８０ｍｇ（収率：７１％）を得た。
【０２１８】Ｇ．［［３−（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−１−［（３−クロロフェニル）メチル］−２−
エチル−１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］酢酸。
［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−エ
チル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−４
−イル］オキシ］酢酸メチルエステル８０ｍｇ（０．１
９ｍＭ）と１Ｎ−ＮａＯＨ１ｍＬとの混合物をＭｅＯＨ
３ｍＬ中、室温で１．５時間撹拌した。水と酢酸エチル
を加え、水層を分離し、１Ｎ−ＨＣｌでｐＨ３まで酸性
にした。不溶物を濾取し、酢酸エチル溶液を食塩水で洗
い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣を酢酸エ
チルと撹拌し、濾過し、前記濾取した物質と合して
［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−１−
［（３−クロロフェニル）メチル］−２−エチル−１Ｈ
−インドール−４−イル］オキシ］酢酸６１ｍｇ（収
率：８０％）を得た。ｍｐ．２１６〜２１７℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ21ＣｌＮ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６
２．９２；Ｈ，５．２８；Ｎ，６．９９。実験値：Ｃ，
６３．０９；Ｈ，５．４１；Ｎ，６．９９。
【０２１９】実施例７６ ２−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−４−イル］オキシ］酢酸の製造。 Ａ．４−メトキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イ
ンドール。 ４−メトキシ−１Ｈ−インドール（１．５
ｇ、１０ｍＭ）をＤＭＦ２０ｍＬに溶解し、６０％Ｎａ
Ｈ／鉱油４００ｍｇ（１０ｍＭ）を加えた。１時間後、
臭化ベンジル１．２ｍＬ（１０ｍＭ）を加えた。３．５
時間後、混合物を水で薄め、酢酸エチルで２回抽出し
た。酢酸エチルを集め、食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾
燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフ
し、２０％酢酸エチル／ヘキサンで溶出して４−メトキ
シ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール１．７
７ｇ（収率：７５％）を得た。 元素分析：Ｃ１６Ｈ15ＮＯとして計算値：Ｃ，８１．９
８；Ｈ，６．３７；Ｎ，５．９０。実験値：Ｃ，８０．
７１；Ｈ，６．２４；Ｎ，６．０９。
【０２２０】Ｂ．４−メトキシ−α−オキソ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド。 塩化オキサリル（０．６３ｍＬ、７．２ｍＭ）を
４−メトキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インド
ール１．７ｇ（７．２ｍＭ）に塩化メチレン２０ｍＬ中
で加え、混合物を１時間撹拌し、減圧濃縮した。残渣を
塩化メチレン２５ｍＬに再溶解し、無水アンモニアを
０．２５時間吹き込み、混合物を濃縮した。残渣を酢酸
エチルと撹拌し、不溶物を濾取して２−エチル−４−メ
トキシ−α−オキソ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−３−アセトアミド１．４２ｇと塩化アンモ
ニウムとの混合物を得た。
【０２２１】Ｃ．４−メトキシ−α−ヒドロキシ−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトア
ミド。 ４−メトキシ−α−オキソ−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド１．４ｇ
（４．５ｍＭ）と水素化ホウ素ナトリウム２１３ｍｇ
（５．６ｍＭ）とエタノール５０ｍＬとの混合物を２０
時間撹拌し、水素化ホウ素ナトリウム２１３ｍｇ（５．
６ｍＭ）を追加し、さらに２０時間撹拌し、混合物を濾
過し、減圧蒸発した。残渣を酢酸エチルおよび水と撹拌
し、不溶物を濾取して４−メトキシ−α−ヒドロキシ−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミド６００ｍｇ（収率：４３％）を得た。ｍｐ．１
７９〜１８２℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ18Ｎ2Ｏ3として計算値：Ｃ，６９．６
６；Ｈ，５．８５；Ｎ，９．０３。実験値：Ｃ，６９．
５２；Ｈ，５．７６；Ｎ，８．８６。
【０２２２】Ｄ．４−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 ４−メ
トキシ−α−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−３−アセトアミド６００ｍｇ（１．９
ｍＭ）とトリエチルシラン０．３２ｍＬ（２ｍＭ）との
トリフルオロ酢酸５ｍＬ溶液を１６時間撹拌し、減圧濃
縮した。残渣を酢酸エチルと水に取り、酢酸エチルを分
離し、食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥した。残渣をシ
リカゲル上クロマトグラフし、初めに５０％酢酸エチル
／ヘキサン、次に酢酸エチルで溶出し、ＭｅＯＨから結
晶化後に４−メトキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ
−インドール−３−アセトアミド２６２ｍｇ（収率：４
７％）を得た。ｍｐ．１８４〜１８７℃。 元素分析：Ｃ18Ｈ18Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７３．４
５；Ｈ，６．１６；Ｎ，９．５２。実験値：Ｃ，７７．
２０；Ｈ，６．８０；Ｎ，９．１３。
【０２２３】Ｅ．４−ヒドロキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 ４−メ
トキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミド（２３６ｍｇ、０．８ｍＭ）とＢＢｒ
3３．２ｍＬを実施例５６、Ｃ段に記載のように反応さ
せ、シリカゲルクロマトグラフィー（５０％酢酸エチル
／ヘキサンで溶出）後に４−ヒドロキシ−１−（フェニ
ルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド７８
ｍｇ（収率：３５％）を得た。
【０２２４】Ｆ．２−［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］酢酸メチルエステ
ル。２−エチル−４−ヒドロキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（１３５ｍ
ｇ、０．４４ｍＭ）をＮａＨ／鉱油（ヘキサンで洗浄）
１７．６ｍｇ（０．４４ｍＭ）にＤＭＦ５ｍＬ中で加
え、１．５時間撹拌し、２−ブロモ酢酸メチル０．０４
ｍＬ（０．４４ｍＭ）を加え、撹拌を３時間継続した。
混合物を水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ルを食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、濃縮した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフし、２％ＭｅＯＨ／酢酸
エチルで溶出して２−［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドー
ル−４−イル］オキシ］酢酸メチルエステル３４ｍｇ
（収率：３４％）を得た。
【０２２５】Ｇ．２−［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドー
ル−４−イル］オキシ］酢酸。 ２−［［３−（２−ア
ミノ−２−オキソエチル）−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−４−イル］オキシ］酢酸メチルエス
テル１００ｍｇ（０．２６ｍＭ）と１Ｎ−ＮａＯＨ２ｍ
Ｌとの混合物をＭｅＯＨ６ｍＬ中、室温で２時間撹拌し
た。水と酢酸エチルとを加え、水層を分離し、１Ｎ−Ｈ
ＣｌでｐＨ３まで酸性にし、酢酸エチルを加えた。酢酸
エチル溶液を食塩水で洗い、ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧
濃縮した。残渣を塩化メチレンで撹拌し、濾過して２−
［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−４−イル］オキ
シ］酢酸１７ｍｇ（収率：５６％）を得た。ｍｐ．２０
７〜２０８℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ18Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６７．４
５；Ｈ，５．３６；Ｎ，８．２８。実験値：Ｃ，６７．
６４；Ｈ，５．４２；Ｎ，８．０５。
【０２２６】実施例７７ ２−シクロプロピル−５−メ
トキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミドの製造。 Ａ．１−［２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ）−５−メトキシフェニル］−２−ブタノン。 １．
３Ｍ−ｓｅｃ−ブチルリチウム／シクロヘキサン（１０
０ｍＬ、０．１３モル）溶液をＮ−ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル−４−メトキシ−２−メチルアニリン１５．
１７ｇ（０．０６５モル）にＴＨＦ２３０ｍＬ中で温度
をドライアイス−エタノール浴で−４０℃以下に維持し
ながら徐々に加えた。浴を去り、温度を−２０℃に戻
し、次に再び浴に浸けた。温度が−５５℃に下がった
後、Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルシクロプロピルカルボキ
サミド８．４ｇ（０．０６５モル）のＴＨＦ２０ｍＬ溶
液を滴加した。反応混合物を１時間撹拌し、冷浴を去
り、さらに２時間撹拌した。これを水５００ｍＬに注入
した。有機層を分離し、水洗し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、
減圧濃縮した。残渣をヘキサンから結晶化して［２−
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−５−メトキ
シフェニル］−シクロプロピルケトン１５．２２ｇ（収
率：７７％）を得た。ｍｐ．９６〜９７℃。 元素分析：Ｃ17Ｈ23ＮＯ4として計算値：Ｃ，６６．８
６；Ｈ，７．５９；Ｎ，４．５９。実験値：Ｃ，６６．
６７；Ｈ，７．３９；Ｎ，４．４５。
【０２２７】Ｂ．２−シクロプロピル−５−メトキシ−
１Ｈ−インドール。 ［２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニルアミノ）−５−メトキシフェニル］シクロプロピ
ルケトン（１３ｇ、４３ｍＭ）とＣＨ2Ｃｌ2２５０ｍＬ
とトリフルオロ酢酸２５ｍＬとを４時間撹拌し、水、Ｎ
ａＨＣＯ3溶液で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮
した。残渣をシリカ上クロマトグラフ（トルエン→２０
％ＥｔＯＡｃ／ヘキサンで傾斜溶出）して２−シクロプ
ロピル−５−メトキシ−１Ｈ−インドール４．１５ｇ
（収率：４９％）を油として得た。 元素分析：Ｃ12Ｈ13ＮＯとして計算値：Ｃ，７６．９
８；Ｈ，６．９９；Ｎ，７．４８。実験値：Ｃ，７４．
４６；Ｈ，６．７３；Ｎ，７．５５。
【０２２８】Ｃ．２−シクロプロピル−５−メトキシ−
１Ｈ−インドール−３−酢酸メチルエステル。 実施例
１、Ｃ段のように、２−シクロプロピル−５−メトキシ
−１Ｈ−インドール４．４６ｇ（０．０２４モル）を
１．６Ｍ−ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液１５ｍＬ
（０．０２４モル）、１Ｍ−ＺｎＣｌ2のエーテル溶液
２４ｍＬ（０．０２４モル）と２−ブロモ酢酸メチル１
２．２７ｍＬ（０．０２４モル）とで処理してシリカゲ
ルクロマトグラフィー（５％ＥｔＯＡｃ／トルエン→１
５％ＥｔＯＡｃ／トルエン）後に２−シクロプロピル−
５−メトキシ−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチルエス
テル３．８１ｇ（収率：６１％）を油として得た。 元素分析：Ｃ15Ｈ17ＮＯ3として計算値：Ｃ，６９．４
８；Ｈ，６．６１；Ｎ，５．４０。実験値：Ｃ，６５．
５９；Ｈ，６．７１；Ｎ，４．８５。
【０２２９】Ｄ．２−シクロプロピル−５−メトキシ−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸
メチルエステル。 ２−シクロプロピル−５−メトキシ
−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチルエステル３．８ｇ
（１４６ｍＭ）のＤＭＦ５０ｍＬ溶液を６０％ＮａＨ／
鉱油０．５９ｇ（０．１４６モル）で処理し、０．５時
間撹拌し、塩化ベンジル１．６９ｍＬ（１４６ｍＭ）を
加えた。２０時間後、反応混合物を水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃど抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を水で４回洗い、Ｎａ2
ＳＯ4で乾燥した。減圧濃縮後、生成物をシリカ上クロ
マトグラフィーにより精製し、５％ＥｔＯＡｃトルエン
→１５％ＥｔＯＡｃ／トルエンで傾斜溶出して２−シク
ロプロピル−５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−３−酢酸メチルエステル２．０５ｇ
（収率：４０％）を油として得た。 元素分析：Ｃ22Ｈ23ＮＯ3として計算値：Ｃ，７５．６
２；Ｈ，６．６３；Ｎ，４．０１。実験値：Ｃ，７５．
４２；Ｈ，６．６６；Ｎ，４．１１。
【０２３０】Ｅ．２−シクロプロピル−５−メトキシ−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸
ヒドラジド。 実施例３、Ｃ段に記載の方法を用い、２
−シクロプロピル−５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸メチルエステル２．
０ｇ（５．７３ｍＭ）をヒドラジン３ｍＬと反応させ、
エタノールから結晶化後に２−シクロプロピル−５−メ
トキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−酢酸ヒドラジド１．４８ｇ（収率：７４％）を得
た。ｍｐ．１７３〜１７４℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ23Ｎ3Ｏ2として計算値：Ｃ，７２．１
８；Ｈ，６．６３；Ｎ，１２．０２。実験値：Ｃ，７
１．８９；Ｈ，６．６６；Ｎ，１１．９５。
【０２３１】Ｆ．２−シクロプロピル−５−メトキシ−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミド。 ２−シクロプロピル−５−メトキシ−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸ヒド
ラジド１．０ｇ（２．８６ｍＭ）のエタノール溶液をラ
ネイニッケル約３ｇと実施例６、Ｃ段に記載のように反
応させ、粗生成物をエタノール／水から結晶化して２−
シクロプロピル−５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド０．４７ｇ
（収率：４９％）を得た。ｍｐ．１５６〜１５８℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ22Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７５．４
２；Ｈ，６．６３；Ｎ，８．３８。実験値：Ｃ，７５．
６８；Ｈ，６．７９；Ｎ，８．４６。
【０２３２】実施例７８ ２−シクロプロピル−５−ヒ
ドロキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミドの製造。 ２−シクロプロピル−５−メトキシ−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド４００ｍ
ｇ（１．２ｍＭ）と１Ｍ−ＢＢｒ3／塩化メチレン２ｍ
Ｌとの塩化メチレン１３０ｍＬ溶液を氷水浴上で１時間
と室温で３時間撹拌した。混合物を水に注入し、酢酸エ
チル２００ｍＬを加え、有機層を分離し、食塩水で洗
い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。減圧濃縮後、残渣を酢酸エ
チルから結晶化して２−シクロプロピル−５−ヒドロキ
シ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−
アセトアミド３００ｍｇ（収率：７９％）を得た。ｍ
ｐ．１７４〜１７５℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ20Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７４．５
８；Ｈ，４．２９；Ｎ，８．７４。実験値：Ｃ，７５．
１６；Ｈ，４．４５；Ｎ，８．７２。
【０２３３】実施例７９ ［３−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−シクロプロピル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキ
シ］プロピル］ホスホン酸の製造。 Ａ．［３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）
−２−シクロプロピル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ
−インドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン
酸ジメチルエステル。 ２−シクロプロピル−５−ヒド
ロキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミド（２９５ｍｇ、０．９ｍＭ）をＴＨＦ
１０ｍＬとＤＭＦ４０ｍＬに溶解し、６０％ＮａＨ／鉱
油４５ｍｇ（１．１ｍＭ）を加えた。０．１７時間後、
（３−ブロモプロピル）ホスホン酸ジメチルエステル２
５０ｍｇ（１．１ｍＭ）を加え、撹拌を６．５時間継続
した。混合物を水と酢酸エチルで希釈し、有機層を分離
し、水と食塩水で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶液を
減圧蒸発し、残渣をシリカゲルクロマトグラフし、１％
ＭｅＯＨ／塩化メチレン→５％ＭｅＯＨ／塩化メチレン
で傾斜溶出して［３−［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−２−シクロプロピル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸ジメチルエステル２８０ｍｇ（収率：７
１％）を得た。
【０２３４】Ｂ．［３−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−２−シクロプロピル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸。 ［３−［［３−（２−アミノ−２−
オキソエチル）−２−シクロプロピル−１−（フェニル
メチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロ
ピル］ホスホン酸ジメチルエステル２８０ｍｇ（０．６
ｍＭ）と臭化トリメチルシリル１ｍＬ（７．６ｍＭ）と
の塩化メチレン２０ｍＬ溶液を１９時間撹拌し、減圧濃
縮した。残渣をＭｅＯＨ１０ｍＬに再溶解し、２時間撹
拌し、濃縮した。この濃縮物をアセトニトリル／酢酸エ
チル／エーテルから結晶化して［３−［［３−（２−ア
ミノ−２−オキソエチル）−２−シクロプロピル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オ
キシ］プロピル］ホスホン酸２５０ｍｇ（収率：９４
％）を得た。 元素分析：Ｃ23Ｈ27Ｎ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，６２．
４４；Ｈ，６．１５；Ｎ，６．３３。実験値：Ｃ，５
１．１９；Ｈ，５．３７；Ｎ，５．０９。
【０２３５】実施例８０ ［３−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ
−インドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン
酸の製造。 Ａ．５−ベンジルオキシ−１Ｈ−インドール−３−酢酸
エチルエステル。 実施例１、Ｃ段のように、５−メト
キシ−１Ｈ−インドール８０ｇ（０．３５８モル）を
１．６Ｍ−ｎ−ブチルリチウム／ヘキサン２２２ｍＬ
（０．３６モル）、１Ｍ−ＺｎＣｌ2のエーテル溶液３
６０ｍＬ（０．３６モル）および２−ブロモ酢酸エチル
３９．９２ｍＬ（０．３６モル）で処理し、シリカゲル
クロマトグラフィー（トルエン→５％ＥｔＯＡｃ／トル
エン）後に５−ベンジルオキシ−１Ｈ−インドール−３
−酢酸エチルエステル３０ｇ（収率：２７％）を得た。
ｍｐ．５７〜５９℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ19ＮＯ3として計算値：Ｃ，７３．７
７；Ｈ，６．１９；Ｎ，５．４３。実験値：Ｃ，７３．
７５；Ｈ，６．３４；Ｎ，４．５０。
【０２３６】Ｂ．５−ヒドロキシ−１Ｈ−インドール−
３−酢酸エチルエステル。 ５−ベンジルオキシ−１Ｈ
−インドール−３−酢酸エチルエステル（８．１ｇ、２
０．３ｍＭ）をエタノール１５０ｍＬ中でラネイニッケ
ル３ｇを用いて約４０ｐｓｉ（２．７６×１０5Ｐａ）
水素で水素化した。触媒を濾去し、濾液を減圧濃縮し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフし、３０％酢酸エ
チル／ヘキサン→５０％酢酸エチル／ヘキサンで傾斜溶
出して５−ヒドロキシ−１Ｈ−インドール−３−酢酸エ
チルエステル５．７ｇ（収率：９０％）を得た。
【０２３７】Ｃ．［３−［［３−（２−エトキシ−２−
オキソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イン
ドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸ジメ
チルエステル。 ５−ヒドロキシ−１Ｈ−インドール−
３−酢酸エチルエステル（５６０ｍｇ、１．８ｍＭ）を
ＴＨＦ２５ｍＬとＤＭＦ７５ｍＬに溶解し、６０％Ｎａ
Ｈ／鉱油８０ｍｇ（２．０ｍＭ）を加えた。０．１７時
間後、（３−ブロモプロピル）ホスホン酸ジメチルエス
テル４６５ｍｇ（２．０ｍＭ）を加え、撹拌を３．０時
間継続した。混合物を水と酢酸エチルで希釈し、有機層
を分離し、水、食塩水で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。
溶液を減圧蒸発し、残渣をフロリシル上クロマトグラフ
し、１％ＭｅＯＨ／塩化メチレン→３％ＭｅＯＨ／塩化
メチレンで傾斜溶出して［３−［［３−（２−エトキシ
−２−オキソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ
−インドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン
酸ジメチルエステル５９０ｍｇ（収率：７１％）を得
た。
【０２３８】Ｄ．［３−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インド
ール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸ジメチ
ルエステル。 ［３−［［３−（２−エトキシ−２−オ
キソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インド
ール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸ジメチ
ルエステル（５９０ｍｇ、１．３ｍＭ）をトルエン４０
ｍＬに溶解し、０．６７Ｍ−（ＣＨ3）2ＡｌＮＨ2／ベ
ンゼン／トルエン１０ｍＬを加えた。混合物を５０℃に
３．２５時間加熱し、１Ｎ−ＨＣｌを加えた。混合物を
多量の酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗い、Ｎ
ａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルク
ロマトグラフし、１％ＭｅＯＨ／塩化メチレン→４％Ｍ
ｅＯＨ／塩化メチレンで傾斜溶出して［３−［［３−
（２−アミノ−２−オキソエチル）−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸ジメチルエステル４５０ｍｇ（収率：８
０％）を得た。
【０２３９】Ｅ．［３−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インド
ール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸。
［３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］
オキシ］プロピル］ホスホン酸ジメチルエステル４５０
ｍｇ（１．０ｍＭ）と臭化トリメチルシリル１．５ｍＬ
（１１ｍＭ）の塩化メチレン２５ｍＬ溶液を１６時間撹
拌し、減圧濃縮した。残渣をＭｅＯＨ１０ｍＬに溶解
し、２時間撹拌し、濃縮した。この濃縮物を酢酸エチル
／メタノールから結晶化して［３−［［３−（２−アミ
ノ−２−オキソエチル）−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホ
ン酸３２５ｍｇ（収率：８１％）を得た。 元素分析：Ｃ20Ｈ23Ｎ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，５９．
７０；Ｈ，５．７６；Ｎ，６．９６。実験値：Ｃ，５
８．０６；Ｈ，５．６７；Ｎ，６．４１。
【０２４０】実施例８１ ［［３−（２−アミノ−２−
オキソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イン
ドール−５−イル］オキシ］メチル］ホスホン酸ジナト
リウム塩の製造。 Ａ．［［３−（２−エトキシ−２−オキソエチル）−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］
オキシ］メチル］ホスホン酸ジメチルエステル。 ５−
ヒドロキシ−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステ
ル（７３０ｍｇ、２．４ｍＭ）をＴＨＦ２０ｍＬとＤＭ
Ｆ７５ｍＬに溶解し、６０％ＮａＨ／鉱油１１５ｍｇ
（２．８ｍＭ）を加えた。０．１７時間後、（ヨードメ
チル）ホスホン酸ジメチルエステル１．１ｇ（４．０ｍ
Ｍ）を加え、撹拌を５．５時間続けた。混合物を水と酢
酸エチルで希釈し、有機層を分離し、水、食塩水で洗
い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶液を減圧蒸発し、残渣を
シリカゲルクロマトグラフし、エーテルで溶出して［３
−［［３−（２−エトキシ−２−オキソエチル）−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オ
キシ］メチル］ホスホン酸ジメチルエステル１５０ｍｇ
（収率：１４％）を得た。
【０２４１】Ｂ．［［３−（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
５−イル］オキシ］メチル］ホスホン酸ジメチルエステ
ル。［［３−（２−エトキシ−２−オキソエチル）−１
−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］
オキシ］メチル］ホスホン酸ジメチルエステル（１５０
ｍｇ、０．３ｍＭ）をトルエン２５ｍＬに溶解し、０．
６７Ｍ−（ＣＨ3）2ＡｌＮＨ2／ベンゼン／トルエン１
０ｍＬを加えた。混合物を５０℃に１．２５時間加熱
し、水と１Ｎ−ＨＣｌを加えた。混合物を多量の酢酸エ
チルで抽出し、有機層を食塩水で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾
燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフ
し、１％ＭｅＯＨ／塩化メチレン→３％ＭｅＯＨ／塩化
メチレンで傾斜溶出して［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インド
ール−５−イル］オキシ］メチル］ホスホン酸ジメチル
エステル１２０ｍｇ（収率：９３％）を得た。
【０２４２】Ｃ．［［３−（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
５−イル］オキシ］メチル］ホスホン酸。 ［［３−
（２−アミノ−２−オキソエチル）−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］メチ
ル］ホスホン酸ジメチルエステル１２０ｍｇ（０．２８
ｍＭ）と臭化トリメチルシリル０．５ｍＬの塩化メチレ
ン２０ｍＬ溶液を１７時間撹拌し、減圧濃縮した。残渣
をＭｅＯＨ１０ｍＬに溶解し、２時間撹拌し、濃縮し
た。この濃縮物をＣ18逆相カラム上クロマトグラフし、
８０％ＭｅＯＨ／（５％ＨＯＡｃ）で溶出し、またＨＰ
−２０カラム上１０％アセトニトリル／水、次に５０％
アセトニトリル／水で溶出して［３−［［３−（２−ア
ミノ−２−オキソエチル）−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］メチル］ホスホ
ン酸ジナトリウム塩１５ｍｇ（収率：１４％）を得た。
【０２４３】実施例８２ ５−ヒドロキシ−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミドの
製造。 ５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インド
ール−３−アセトアミド（実施例３）３７５ｍｇ（１．
２３ｍＭ）と１Ｍ−ＢＢｒ3／塩化メチレン５ｍＬの塩
化メチレン７５ｍＬ溶液を１．２５時間撹拌し、１Ｎ−
ＨＣｌに注入した。塩化メチレン層を分離、食塩水で洗
い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶媒を減圧除去して５−ヒ
ドロキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド３１０ｍｇ（収率：９０％）を残渣
として得た。ｍｐ．１５８〜１６０℃。 元素分析：Ｃ17Ｈ16Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７０．５
５；Ｈ，５．７０；Ｎ，９．５１。実験値：Ｃ，７２．
８４；Ｈ，５．７５；Ｎ，９．９９。
【０２４４】実施例８３ ４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸の製造。 Ａ．４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−
１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イ
ル］オキシ］ブタン酸エチルエステル。 ５−ヒドロキ
シ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−
アセトアミド２８０ｍｇ（１．０ｍＭ）のＤＭＳＯ３０
ｍＬとＴＨＦ１０ｍＬ溶液を６０％ＮａＨ／鉱油４５ｍ
ｇ（１．１ｍＭ）、次に４−ブロモ酪酸エチル０．１６
ｍＬ（１．１ｍＭ）で処理した。混合物を油浴中で６０
℃に２．２５時間加熱した。これを水で希釈し、ＥｔＯ
Ａｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を水、飽和ＮａＣｌ溶液
で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシ
リカ上クロマトグラフ（ＣＨ2Ｃｌ2→３％ＭｅＯＨ／Ｃ
Ｈ2Ｃｌ2）して４−［［３−（２−アミノ−２−オキソ
エチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエステル２６０ｍ
ｇ（収率：６６％）を得た。
【０２４５】Ｂ．４−［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドー
ル−５−イル］オキシ］ブタン酸。 ４−［［３−（２
−アミノ−２−オキソエチル）−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸
エチルエステル（２６０ｍｇ、０．６６ｍＭ）と２Ｎ−
ＮａＯＨ２ｍＬとをＥｔＯＨ２５ｍＬとＴＨＦ５ｍＬ中
で１８時間撹拌した。混合物を５Ｎ−ＨＣｌで酸性に
し、ＥｔＯＡｃで抽出し、ＥｔＯＡｃ溶液を飽和ＮａＣ
ｌで洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。濃縮後、残渣を塩化
メチレン／エタノールから結晶化して４−［［３−（２
−アミノ−２−オキソエチル）−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸
１１０ｍｇ（収率：４６％）を得た。ｍｐ．１６０〜１
６３℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ22Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，６８．８
４；Ｈ，６．０５；Ｎ，７．６５。実験値：Ｃ，６８．
９８；Ｈ，５．８９；Ｎ，７．８２。
【０２４６】実施例８４ ３−［４−［［３−（２−ア
ミノ−２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニ
ルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プ
ロパン］スルホン酸の製造。 ５−ヒドロキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（実施例２、３
００ｍｇ、１．０ｍＭ）をＴＨＦ５０ｍＬに溶解し、６
０％ＮａＨ／鉱油４０ｍｇ（１．０ｍＭ）を加え、０．
２５時間撹拌し、スルトン１２５ｍｇ（１．０ｍＭ）を
加え、混合物を２４時間撹拌した。混合物を５Ｎ−ＨＣ
ｌで酸性にし、減圧濃縮した。残渣をエタノール／水か
ら結晶化して３−［４−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロパン］スル
ホン酸１４５ｍｇ（収率：３５％）を得た。ｍｐ．２１
８〜２２２℃。 元素分析：Ｃ21Ｈ24Ｎ2Ｏ45Ｓとして計算値：Ｃ，６
０．５６；Ｈ，５．８１；Ｎ，６．７３；Ｓ，７．７
０。実験値：Ｃ，５３．３６；Ｈ，５．６６；Ｎ，５．
４４；Ｓ，３．３０；残分，１５．３２。
【０２４７】実施例８５ ３−［４−［［３−（２−ア
ミノ−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニ
ルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プ
ロパン］スルホン酸の製造。 ５−ヒドロキシ−２−エチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（３１０ｍｇ、
１．０ｍＭ）をＴＨＦ５０ｍＬに溶解し、６０％ＮａＨ
／鉱油５０ｍｇ（１．２ｍＭ）を加え、０．２５時間撹
拌し、スルトン１５０ｍｇ（１．２ｍＭ）を加え、混合
物を２４時間撹拌した。混合物を１Ｎ−ＨＣｌで酸性に
し、減圧濃縮した。残渣をＣ−１８逆相カラム上クロマ
トグラフ（１０％（５％ＨＯＡｃ）／ＭｅＯＨで溶出）
して３−［４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチ
ル）−２−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イ
ンドール−５−イル］オキシ］プロパン］スルホン酸２
６０ｍｇ（収率：６０％）を得た。 元素分析：Ｃ22Ｈ26Ｎ2Ｏ5Ｓとして計算値：Ｃ，６１．
３８；Ｈ，６．０９；Ｎ，６．５１；Ｓ，７．４５。実
験値：Ｃ，５６．００；Ｈ，５．７９；Ｎ，５．５２；
Ｓ，３．８３；残分，１１．６０。
【０２４８】実施例８６ ［３−［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−ブロモ−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロパ
ン］ホスホン酸ジメチルエステルの製造。 Ａ．５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸エチルエステル。 ５−メトキシ−
１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル（１０．１
ｇ、４１ｍＭ）をＴＨＦ５０ｍＬとＤＭＦ２００ｍＬに
溶解し、６０％ＮａＨ／鉱油１．８ｇ（４５ｍＭ）を少
量づつ冷却下に加えた。０．１７時間後、臭化ベンジル
５ｍＬ（４２ｍＭ）を加え、撹拌を１．５時間継続し
た。混合物を水と酢酸エチルで希釈し、有機層を分離
し、水、食塩水で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。溶液を
減圧蒸発し、残渣をシリカゲルクロマトグラフし、２５
％酢酸エチル／ヘキサン→４０％酢酸エチル／ヘキサン
で傾斜溶出して５−メトキシ−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル１０．８
ｇ（収率：８２％）を得た。
【０２４９】Ｂ．２−ブロモ−５−メトキシ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエ
ステル。 ５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル（１０．８
ｇ、３２ｍＭ）とＮ−ブロモサクシンイミド６．３ｇ
（３５ｍＭ）との混合物を四塩化炭素２５０ｍＬ中で
１．５時間撹拌し、Ｎａ2Ｓ2Ｏ3、水、食塩水で洗い、
Ｎａ2ＳＯ4で乾燥した。減圧濃縮後、残渣をシリカゲル
クロマトグラフし、２５％エーテル／ヘキサン→４０％
エーテル／ヘキサンで傾斜溶出して２−ブロモ−５−メ
トキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−酢酸エチルエステル５．５ｇ（収率：４３％）を得
た。
【０２５０】クロマトグラフィーから第２画分６．４ｇ
を得た。この物質をＮＢＳ６．３ｇと前記のように反応
させ、シリカゲル上再クロマトグラフし、３０％エーテ
ル／ヘキサン→４０％エーテル／ヘキサンで溶出して
２，４−ジブロモ−５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル５．
４ｇを得た。塩化メチレンから結晶化後、この物質は１
３８〜１４０℃で溶融した。 元素分析：Ｃ20Ｈ19Ｂｒ2ＮＯ3として計算値：Ｃ，４
９．９２；Ｈ，３．９８；Ｎ，２．９１；Ｂｒ，３３．
２１。実験値：Ｃ，４９．９５；Ｈ，４．１５；Ｎ，
２．８９；Ｂｒ，３３．５２。
【０２５１】Ｃ．２−ブロモ−５−メトキシ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド。 ２−ブロモ−５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−３−酢酸エチルエステル４ｇ
（１０ｍＭ）と０．６７Ｍ−（ＣＨ3）2ＡｌＮＨ2／ベ
ンゼン／トルエン５０ｍＬとの混合物をトルエン１００
ｍＬ中、５０℃で７．５時間加熱し、冷却し、氷で分解
し、希ＨＣｌを加えた。混合物を酢酸エチルで抽出し、
酢酸エチル溶液を食塩水で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、
減圧濃縮した。２−ブロモ−５−メトキシ−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミドの
残渣は４．０ｇの重さがあった。
【０２５２】Ｄ．２−ブロモ−５−ヒドロキシ−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトア
ミド。 ２−ブロモ−５−メトキシ−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド４ｇ（１
１ｍＭ）とＢＢｒ3／塩化メチレン３５ｍＬとの塩化メ
チレン２００ｍＬ溶液を１時間撹拌し、氷水に注入し、
炭酸水素ナトリウムで塩基性とし、塩化メチレンで抽出
した。この溶液を食塩水で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、
濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフし、酢酸エ
チルで溶出して２−ブロモ−５−ヒドロキシ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド
１．３５ｇ（収率：３３％）を得た。
【０２５３】Ｅ．［３−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−２−ブロモ−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホス
ホン酸ジメチルエステル。 実施例８１、Ａ段に記載の
操作を用い、２−ブロモ−５−ヒドロキシ−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド
１．３５ｇ（３．８ｍＭ）をＮａＨ／鉱油１７０ｍｇ
（４．２ｍＭ）、次に（３−ブロモプロピル）ホスホン
酸ジメチルエステル９７０ｍｇ（４．２ｍＭ）と反応さ
せ、生成物を得、これをシリカゲルクロマトグラフ（１
％ＭｅＯＨ／塩化メチレン→３％ＭｅＯＨ／塩化メチレ
ン傾斜溶出）した。３−［［３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−２−ブロモ−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホス
ホン酸ジメチルエステル５２０ｇ（収率：２７％）を
得、塩化メチレン／エーテルから結晶化後、約１００℃
で溶融した。 元素分析：Ｃ22Ｈ26ＢｒＮ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，５
１．８８；Ｈ，５．１５；Ｎ，５．５０；Ｂｒ，１５．
６９。実験値：Ｃ，４７．８３；Ｈ，４．８３；Ｎ，
４．８５；Ｂｒ，２０．０７。
【０２５４】実施例８７ ３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−ブロモ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸モノメチルエステルの製造。 ３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−
ブロモ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸ジメチルエス
テル２５５ｍｇ（０．５ｍＭ）と２Ｎ−ＮａＯＨ２ｍＬ
との混合物をＭｅＯＨ２０ｍＬ中で還流を維持しながら
２３時間加熱し、水で希釈し、ＥｔＯＡｃで抽出した。
水層を５Ｎ−ＨＣｌで酸性にし、酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチルを食塩水で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、
減圧蒸発して３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−２−ブロモ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸
モノメチルエステル２１０ｍｇ（収率：８４％）を得
た。 元素分析：Ｃ21Ｈ24ＢｒＮ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，５
０．９２；Ｈ，４．５８；Ｎ，５．６６；Ｂｒ，１６．
０９。実験値：Ｃ，５０．０８；Ｈ，４．６８；Ｎ，
４．１８；Ｂｒ，１７．３３。
【０２５５】実施例８８ ３−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−ブロモ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸の製造。 ３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−
ブロモ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸ジメチルエス
テル７５０ｍｇ（１．５ｍＭ）と臭化トリメチルシリル
２ｍＬ（１５ｍＭ）との塩化メチレン７５ｍＬ溶液を１
８．５時間撹拌し、減圧濃縮した。残渣をメタノール７
５ｍＬに溶解し、１．５時間撹拌し、濃縮した。残渣を
酢酸エチル／エタノール／塩化メチレンから結晶化して
３−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−
ブロモ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸２８５ｍｇ
（収率：３９％）を得た。ｍｐ．１８８〜１９０℃。 元素分析：Ｃ20Ｈ22ＢｒＮ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，４
９．９１；Ｈ，４．６１；Ｎ，５．８２；Ｂｒ，１５．
５３。実験値：Ｃ，４７．９９；Ｈ，４．７３；Ｎ，
５．３７；Ｂｒ，１７．８０。 前記結晶化の濾液を減圧濃縮し、残渣をＣ−１８逆相カ
ラム上クロマトグラフし、５％（５％ＨＯＡｃ）／Ｍｅ
ＯＨで溶出した。この画分を０．０５Ｎ−ＮａＯＨにと
かし、中圧ＨＰ−２０カラムに付し、１０％アセトニト
リル／水−＞５０％アセトニトリル／水で溶出して３−
［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−ブロ
モ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−
イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸ジナトリウム塩１
９５ｍｇを得た。 元素分析：Ｃ20Ｈ20ＢｒＮ2Ｏ5ＰＮａ2として計算値：
Ｃ，４６．５１；Ｈ，３．９０；Ｎ，４．８３；Ｂｒ，
１４．００。実験値：Ｃ，４５．７３；Ｈ，３．８４；
Ｎ，５．３３；Ｂｒ，１５．１６。
【０２５６】実施例８９ ２−ブロモ−６−クロロ−５
−メトキシ−１−（フェニルメチル）−Ｈ−インドール
−３−アセトアミドの製造。 Ａ．６−クロロ−５−メトキシ−１Ｈ−インドール−３
−酢酸メチルエステル。 実施例１、Ｃ段の操作を用
い、６−クロロ−５−メトキシ−１Ｈ−インドール５．
２ｇ（２８．６ｍＭ）をｎ−ブチルリチウム１８．１３
ｍＬ（２９ｍＭ）、１Ｎ−ＺｎＣｌ2／エーテル２９ｍ
Ｌ、次に２−ブロモ酢酸メチル２．７５ｍＬと反応させ
て生成物を得、これをシリカゲルクロマトグラフ（５％
ＥｔＯＡｃ／トルエン→１０％ＥｔＯＡｃ／トルエンで
溶出）した。６−クロロ−５−メトキシ−１Ｈ−インド
ール−３−酢酸メチルエステル４．６６ｇ（収率：６４
％）を油として得た。 元素分析：Ｃ12Ｈ12ＣｌＮＯ3として計算値：Ｃ，５
６．８２；Ｈ，４．７７；Ｎ，５．５２。実験値：Ｃ，
５６．６１；Ｈ，４．８１；Ｎ，５．５２。
【０２５７】Ｂ．６−クロロ−５−メトキシ−１−（フ
ェニルメチル）−Ｈ−インドール−３−酢酸メチルエス
テル。 ６−クロロ−５−メトキシ−１Ｈ−インドール
−３−酢酸メチルエステル（２．０ｇ、８ｍＭ）をＤＭ
Ｆ７５ｍＬとＴＨＦ２０ｍＬに溶解し、６０％ＮａＨ／
鉱油３４０ｍｇ（８．５ｍＭ）を加え、０．１７時間撹
拌し、臭化ベンジル１．１ｍＬ（９．２ｍＭ）を加え
た。０．７５時間後、混合物を水に加え、酢酸エチルで
抽出し、酢酸エチル溶液を水、食塩水で洗い、Ｎａ2Ｓ
Ｏ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマ
トグラフし、２０％エーテル／ヘキサン→５０％エーテ
ル／ヘキサンで溶出して６−クロロ−５−メトキシ−１
−（フェニルメチル）−Ｈ−インドール−３−酢酸メチ
ルエステル１．８ｇ（収率：６７％）をエーテル／ヘキ
サンから結晶後に得た。ｍｐ．６４〜６６℃。 元素分析：Ｃ19Ｈ18ＣｌＮＯ3として計算値：Ｃ，６
６．３８；Ｈ，５．０８；Ｎ，４．０７；Ｃｌ，１０．
３１。実験値：Ｃ，６６．３７；Ｈ，５．２５；Ｎ，
４．１３；Ｃｌ，１０．０７。
【０２５８】Ｃ．２−ブロモ−６−クロロ−５−メトキ
シ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−
酢酸メチルエステル。 ６−クロロ−５−メトキシ−１
−（フェニルメチル）−Ｈ−インドール−３−酢酸メチ
ルエステル１．０ｇ（３．０ｍＭ）とＮＢＳ６００ｍｇ
（３．３ｍＭ）との混合物を四塩化炭素１００ｍＬ中で
３０時間撹拌した。混合物をＮａ2Ｓ2Ｏ3溶液、食塩水
で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシ
リカゲルクロマトグラフし、２０％エーテル／ヘキサン
→１００％エーテルで傾斜溶出して２−ブロモ−６−ク
ロロ−５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−Ｈ−イ
ンドール−３−酢酸メチルエステル１．０ｇ（収率：７
９％）を塩化メチレン／エーテルから結晶化後に得、１
３３〜１３４℃で溶融した。 元素分析：Ｃ19Ｈ17ＢｒＣｌＮＯ3として計算値：Ｃ，
５３．９９；Ｈ，４．０５；Ｎ，３．３１；Ｂｒ，１
８．９０；Ｃｌ，８．４０。実験値：Ｃ，５４．７０；
Ｈ，４．１１；Ｎ，３．３８；Ｂｒ，１６．０４；Ｃ
ｌ，９．９７。
【０２５９】Ｄ．２−ブロモ−６−クロロ−５−メトキ
シ−１−（フェニルメチル）−Ｈ−インドール−３−ア
セトアミド。 ２−ブロモ−６−クロロ−５−メトキシ
−１−（フェニルメチル）−Ｈ−インドール−３−酢酸
メチルエステル９５０ｍｇ（２．１８ｍＭ）と０．６７
Ｍ−（ＣＨ3）2ＡｌＮＨ2／ベンゼン／トルエン２０ｍ
Ｌとの混合物をベンゼン７５ｍＬ中、５０℃で１．５時
間加熱し、冷却し、氷で分解し、希ＨＣｌを加えた。混
合物を酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル溶液を食塩水で
洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をエタ
ノール／塩化メチレンから結晶化して２−ブロモ−６−
クロロ−５−メトキシ−１−（フェニルメチル）−Ｈ−
インドール−３−アセトアミド５８０ｍｇ（収率：６５
％）を得た。ｍｐ．２５０℃（分解）。 元素分析：Ｃ18Ｈ16ＢｒＣｌＮ2Ｏ2として計算値：Ｃ，
５３．０３；Ｈ，３．９６；Ｎ，６．８７；Ｂｒ，１
９．６０；Ｃｌ，８．７０。実験値：Ｃ，５３．７２；
Ｈ，４．４２；Ｎ，６．９７；Ｂｒ，１９．２６；Ｃ
ｌ，９．３６。
【０２６０】実施例９０ ２−ブロモ−６−クロロ−５
−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）−Ｈ−インドー
ル−３−アセトアミドの製造。 ２−ブロモ−６−クロロ−５−メトキシ−１−（フェニ
ルメチル）−Ｈ−インドール−３−アセトアミド７３０
ｍｇ（１．８ｍＭ）と１Ｎ−ＢＢｒ3／塩化メチレン１
０ｍＬとの塩化メチレン７５ｍＬ溶液を２．５時間撹拌
し、１Ｎ−ＨＣｌを加えて撹拌した。有機溶液を分離
し、食塩水で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフし、２％ＭｅＯＨ
／塩化メチレン→４％ＭｅＯＨ／塩化メチレンで溶出し
て２−ブロモ−６−クロロ−５−ヒドロキシ−１−（フ
ェニルメチル）−Ｈ−インドール−３−アセトアミド２
８０ｍｇ（収率：４５％）を得た。ｍｐ．１９５℃（分
解）。 元素分析：Ｃ17Ｈ14ＢｒＣｌＮ2Ｏ2として計算値：Ｃ，
５１．８７；Ｈ，３．５９；Ｎ，７．１７；Ｂｒ，２
０．３０；Ｃｌ，９．０１。実験値：Ｃ，５０．９６；
Ｈ，３．６６；Ｎ，６．６９；Ｂｒ，１９．４８；Ｃ
ｌ，９．４９。
【０２６１】実施例９１ ４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−ブロモ−６−クロロ−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オ
キシ］ブタン酸の製造。 Ａ．４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−
２−ブロモ−６−クロロ−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸エチルエ
ステル。 実施例８３、Ａ段の操作を用い、２−ブロモ
−６−クロロ−５−ヒドロキシ−１−（フェニルメチ
ル）−Ｈ−インドール−３−アセトアミド２３５ｍｇ
（０．６ｍＭ）を６０％ＮａＨ／鉱油２５ｍｇ（０．６
ｍＭ）、次に４−ブロモ酪酸エチル０．１ｍＬ（０．７
ｍＭ）で処理して生成物を得、これをシリカゲルクロマ
トグラフした。塩化メチレン→２％ＭｅＯＨ／塩化メチ
レンを用いて傾斜溶出し、４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−ブロモ−６−クロロ−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オ
キシ］ブタン酸エチルエステル２１０ｍｇ（収率：６９
％）を得た。
【０２６２】Ｂ．４−［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−２−ブロモ−６−クロロ−１−（フェニル
メチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタ
ン酸。 ４−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチ
ル）−２−ブロモ−６−クロロ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］ブタン酸
エチルエステル２１０ｍｇ（０．４１ｍＭ）と２Ｎ−Ｎ
ａＯＨ２ｍＬ、ＴＨＦ５ｍＬとエタノール２５ｍＬの混
合物を１０．５時間撹拌し、混合物を５Ｎ−ＨＣｌで酸
性にし、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を食塩
水で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣を
塩化メチレン／エタノールから結晶化して４−［［３−
（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−ブロモ−６−
クロロ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
５−イル］オキシ］ブタン酸６０ｍｇ（収率：３１％）
を得た。ｍｐ．２２０℃（分解）。 元素分析：Ｃ21Ｈ20ＢｒＣｌＮ2Ｏ4として計算値：Ｃ，
５２．５７；Ｈ，４．２０；Ｎ，５．８４；Ｂｒ，１
６．６５；Ｃｌ，７．３９。実験値：Ｃ，５４．０３；
Ｈ，４．４５；Ｎ，５．８０；Ｂｒ，１１．５７；Ｃ
ｌ，８．９６。残分；１．３５。
【０２６３】実施例９２ ３−［４−［［３−（２−ア
ミノ−２−オキソエチル）−６−クロロ−１−（フェニ
ルメチル）−Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロ
ピル］ホスホン酸の製造。 Ａ．６−クロロ−５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−Ｈ−インドール−３−アセトアミド。 実施例８
９、Ｄ段の方法で、６−クロロ−５−メトキシ−１−
（フェニルメチル）−Ｈ−インドール−３−酢酸メチル
エステル（実施例８９、Ｂ段）１．１ｇ（３．２ｍＭ）
と（ＣＨ3）2ＡｌＮＨ2／ベンゼン／トルエン２０ｍＬ
とをベンゼン４０ｍＬ中で反応させて６−クロロ−５−
メトキシ−１−（フェニルメチル）−Ｈ−インドール−
３−アセトアミド９７０ｍｇ（収率：８８％）を得た。
【０２６４】Ｂ．６−クロロ−５−ヒドロキシ−１−
（フェニルメチル）−Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド。 ６−クロロ−５−メトキシ−１−（フェニルメチ
ル）−Ｈ−インドール−３−アセトアミド９７０ｍｇ
（２．８ｍＭ）と１Ｎ−ＢＢｒ3／塩化メチレン１０ｍ
Ｌとの塩化メチレン１００ｍＬ溶液を５時間撹拌し、１
Ｎ−ＨＣｌを加えて撹拌した。有機溶液を分離し、食塩
水で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣を
シリカゲルクロマトグラフし、１％ＭｅＯＨ／塩化メチ
レン→３％ＭｅＯＨ／塩化メチレンで溶出して６−クロ
ロ−５−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）−Ｈ−イ
ンドール−３−アセトアミド４７０ｍｇ（収率：５３
％）を得た。
【０２６５】Ｃ．３−［４−［［３−（２−アミノ−２
−オキソエチル）−６−クロロ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸ジメチルエステル。 実施例８０、Ｃ段
の方法を用い、６−クロロ−５−ヒドロキシ−１−（フ
ェニルメチル）−Ｈ−インドール−３−アセトアミド４
７０ｍｇ（１．５ｍＭ）を６０％ＮａＨ／鉱油７５ｍｇ
（１．８ｍＭ）と（３−ブロモプロピル）ホスホン酸ジ
メチルエステル４１５ｍｇ（１．８ｍＭ）とを反応させ
て生成物を得、これをシリカゲルクロマトグラフした。
１％ＭｅＯＨ／塩化メチレン→４％ＭｅＯＨ／塩化メチ
レンで溶出して、３−［４−［［３−（２−アミノ−２
−オキソエチル）−６−クロロ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸ジメチルエステル４００ｍｇ（収率：５
７％）を得た。
【０２６６】Ｄ．３−［４−［［３−（２−アミノ−２
−オキソエチル）−６−クロロ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸。 ３−［４−［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−６−クロロ−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピ
ル］ホスホン酸ジメチルエステル４００ｍｇ（０．８６
ｍＭ）を臭化トリメチルシリル１ｍＬで塩化メチレン３
０ｍＬ中、実施例８０、Ｅ段のように処理し、アセトニ
トリル／酢酸エチル／エーテルから結晶化後、３−［４
−［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−６−ク
ロロ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５
−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸２３５ｍｇ（収
率：６３％）を得た。 元素分析：Ｃ20Ｈ22ＣｌＮ2Ｏ5Ｐとして計算値：Ｃ，５
４．９９；Ｈ，５．０８；Ｎ，６．４１；Ｃｌ，８．１
２。実験値：Ｃ，４９．８２；Ｈ，５．０３；Ｎ，７．
７１；Ｃｌ，９．８６。
【０２６７】実施例９３ ４−アリル−２−エチル−５
−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インド
ール−アセトアミドの製造。 Ａ．５−アリルオキシ−２−エチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−アセトアミド。 ２−エチ
ル−５−ヒドロキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−アセトアミド（６２０ｍｇ、２．０ｍＭ、
実施例９）をＴＨＦ１０ｍＬとＤＭＦ４０ｍＬに溶解
し、６０％ＮａＨ／鉱油９０ｍｇ（２．２ｍＭ）を加
え、０．１７時間撹拌後、臭化アリル０．２ｍＬ（２．
３ｍＭ）を加えた。２時間後、混合物を水で希釈し、酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を食塩水で洗い、
Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲル
クロマトグラフ（１％ＭｅＯＨ／塩化メチレン→３％Ｍ
ｅＯＨ／塩化メチレンで溶出）して５−アリルオキシ−
２−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドー
ル−アセトアミド７７０ｍｇを得た。
【０２６８】Ｂ．４−アリル−２−エチル−５−ヒドロ
キシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−ア
セトアミド。 ５−アリルオキシ−２−エチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−アセトアミド
（７７０ｍｇ、２．２１ｍＭ）をＮ，Ｎ−ジメチルアニ
リン２０ｍＬ中、油浴上で１９０℃に２０時間加熱し
た。混合物を冷却し、酢酸エチルで希釈し、１Ｎ−ＨＣ
ｌ、食塩水で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフし、１％ＭｅＯＨ
／塩化メチレン→３％ＭｅＯＨ／塩化メチレンで溶出し
て４−アリル−２−エチル−５−ヒドロキシ−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−アセトアミド２９
５ｍｇ（収率：３８％）を得た。 元素分析：Ｃ22Ｈ24Ｎ2Ｏ2として計算値：Ｃ，７５．８
３；Ｈ，６．７４；Ｎ，８．０４。実験値：Ｃ，７５．
７０；Ｈ，７．０５；Ｎ，８．０６。
【０２６９】実施例９４ ［３−［［４−アリル−３−
（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−エチル−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オ
キシ］プロピル］ホスホン酸ジナトリウム塩の製造。 Ａ．［３−［［４−アリル−３−（２−アミノ−２−オ
キソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメチル）−
１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プロピル］ホス
ホン酸ジメチルエステル。 実施例８０、Ｃ段の方法を
用い、４−アリル−２−エチル−５−ヒドロキシ−１−
（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−アセトアミド
２６５ｍｇ（０．８ｍＭ）を６０％ＮａＨ／鉱油４０ｍ
ｇ（１．０ｍＭ）および（３−ブロモプロピル）ホスホ
ン酸ジメチルエステル２３０ｍｇ（１．０ｍＭ）と反応
させて生成物を得、これをシリカゲルクロマトグラフし
た。１％ＭｅＯＨ／塩化メチレン→４％ＭｅＯＨ／塩化
メチレンで溶出して［３−［［４−アリル−３−（２−
アミノ−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェ
ニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］
プロピル］ホスホン酸ジメチルエステル３１０ｍｇ（収
率：７８％）を得た。
【０２７０】Ｂ．［３−［［４−アリル−３−（２−ア
ミノ−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニ
ルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］プ
ロピル］ホスホン酸ジナトリウム塩。 ［［３−アリル
−３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−エチル
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イ
ル］オキシ］プロピル］ホスホン酸ジメチルエステル３
１０ｍｇ（０．６２ｍＭ）と臭化トリメチルシリル１．
０ｍＬ（７．６ｍＭ）との塩化メチレン２０ｍＬ溶液を
１８．５時間撹拌し、減圧濃縮した。残渣をＭｅＯＨ２
０ｍＬに溶解し、２．５時間撹拌し、濃縮した。この残
渣をＣ18逆相カラム上クロマトグラフし、１０％（５％
ＨＯＡｃ）／ＭｅＯＨで溶出した。このカラムからの物
質を１Ｎ−ＮａＯＨに溶解し、ＨＰ２０カラムでクロマ
トグラフした。生成物を１０％アセトニトリル／水、次
に２５％アセトニトリル／水で溶出して［３−［［４−
アリル−３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２−
エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
５−イル］オキシ］プロピル］ホスホン酸ジナトリウム
塩１６５ｍｇ（収率：５２％）を得た。 元素分析：Ｃ25Ｈ29Ｎ2Ｏ5ＰＮａ2・３Ｈ2Ｏとして計算
値：Ｃ，５２．８２；Ｈ，６．２１；Ｎ，４．９３。実
験値：Ｃ，５２．１５；Ｈ，５．５０；Ｎ，４．６５。
【０２７１】実施例９５ ２−メチル−５−フェノキシ
−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−３−ア
セトアミドの製造。 ５−ヒドロキシ−２−メチル−１−（フェニルメチル）
−１Ｈ−インドール−３−アセトアミド（１．２ｇ、
４．１ｍＭ）をピリジン４０ｍＬに溶解し、６０％Ｎａ
Ｈ／鉱油９０ｍｇ（２．２ｍＭ）を加え、０．１７時間
撹拌し、３１５ｍｇのＣｕＯを加え、０．１７時間撹拌
し、ヨードベンゼン０．５（４．１ｍＭ）を加えた。混
合物を還流を維持しながら２４時間加熱し、冷却し、酢
酸エチルと１Ｎ−ＨＣｌで希釈した。混合物をセライト
床を通して濾過し、有機物質を分離し、食塩水で洗い、
Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲル
クロマトグラフし、１％ＭｅＯＨ／塩化メチレン→３％
ＭｅＯＨ／塩化メチレンで溶出して２−メチル−５−フ
ェノキシ−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−３−アセトアミド４０ｍｇ（収率：３％）を得た。
【０２７２】実施例９６ ２−［［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］メチ
ル］安息香酸メチルエステルの製造。 実施例８３、Ａ段の操作を用い、５−ヒドロキシ−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール−
３−アセトアミド３００ｍｇ（１．０ｍＭ）を６０％Ｎ
ａＨ／鉱油４５ｍｇ（１．１ｍＭ）、次に２−（ブロモ
メチル）安息香酸メチル２５０ｍｇ（１．１モル）で処
理して生成物を得、これをシリカゲルクロマトグラフし
た。塩化メチレン→２％ＭｅＯＨ／塩化メチレンを用い
て傾斜溶出して２−［［［３−（２−アミノ−２−オキ
ソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチル）−１
Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］メチル］安息香酸
メチルエステル２７０ｍｇ（収率：６９％）を得た。ｍ
ｐ．１７８〜１８０℃。 元素分析：Ｃ27Ｈ26Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７３．２
８；Ｈ，５．９２；Ｎ，６．３３。実験値：Ｃ，７２．
２９；Ｈ，５．９３；Ｎ，６．０３。
【０２７３】実施例９７ ２−［［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］メチ
ル］安息香酸の製造。 ２−［［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２
−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−５−イル］オキシ］メチル］安息香酸メチルエステル
１９５ｍｇ（０．４４ｍＭ）および２Ｎ−ＮａＯＨ２ｍ
Ｌの混合物をＴＨＦ１０ｍＬとエタノール３５ｍＬ中で
１７．５時間撹拌し、混合物を５Ｎ−ＨＣｌで酸性に
し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を食塩水で
洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣を塩化
メチレンから結晶化して２−［［［３−（２−アミノ−
２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニルメチ
ル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］メチル］
安息香酸１１０ｍｇ（収率：５９％）を得た。ｍｐ．１
７３〜１７６℃。 元素分析：Ｃ26Ｈ24Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７２．８
８；Ｈ，５．６５；Ｎ，６．５４。実験値：Ｃ，７１．
９０；Ｈ，５．６３；Ｎ，６．１３。
【０２７４】実施例９８ ２−［［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］メチ
ル］安息香酸メチルエステルの製造。 実施例８３、Ａ段の操作を用い、５−ヒドロキシ−２−
エチル−１−（フェニルメチル）−Ｈ−インドール−３
−アセトアミド６２０ｍｇ（２．０ｍＭ）を６０％Ｎａ
Ｈ／鉱油９０ｍｇ（２．２ｍＭ）、次に２−（ブロモメ
チル）安息香酸メチル５０５ｍｇ（２．２モル）で処理
して生成物を得、これをシリカゲルクロマトグラフし
た。１％ＭｅＯＨ／塩化メチレン→２％ＭｅＯＨ／塩化
メチレンを用いて傾斜溶出して２−［［［３−（２−ア
ミノ−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニ
ルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］メ
チル］安息香酸メチルエステル１６０ｍｇ（収率：１８
％）を得た。ｍｐ．１３２〜１３４℃。 元素分析：Ｃ28Ｈ28Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７３．６
６；Ｈ，６．１８；Ｎ，６．１４。実験値：Ｃ，７４．
３６；Ｈ，６．２０；Ｎ，５．８２。
【０２７５】実施例９９ ２−［［［３−（２−アミノ
−２−オキソエチル）−２−エチル−１−（フェニルメ
チル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］メチ
ル］安息香酸の製造。 ２−［［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２
−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−５−イル］オキシ］メチル］安息香酸メチルエステル
４９５ｍｇ（１．０８ｍＭ）および５Ｎ−ＮａＯＨ２ｍ
Ｌの混合物をエタノール２５ｍＬ中で１７時間撹拌し、
混合物を５Ｎ−ＨＣｌで酸性にし、酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル溶液を食塩水で洗い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥
し、減圧濃縮した。残渣を塩化メチレン／エーテルから
結晶化して２−［［［３−（２−アミノ−２−オキソエ
チル）−２−エチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−
インドール−５−イル］オキシ］メチル］安息香酸４４
０ｍｇ（収率：９２％）を得た。ｍｐ．約１００℃。
【０２７６】実施例１００ ３−［［［３−（２−アミ
ノ−２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニル
メチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］メチ
ル］安息香酸メチルエステルの製造。 実施例８３、Ａ段の操作を用い、５−ヒドロキシ−２−
メチル−１−（フェニルメチル）−Ｈ−インドール−３
−アセトアミド９１０ｍｇ（３．０ｍＭ）を６０％Ｎａ
Ｈ／鉱油１３５ｍｇ（３．３ｍＭ）、次に３−（ブロモ
メチル）安息香酸メチル７６０ｍ（３．３ｍＭ）で処理
して生成物を得、これをシリカゲルクロマトグラフし
た。１％ＭｅＯＨ／塩化メチレン→３％ＭｅＯＨ／塩化
メチレンを用いて生成物を傾斜溶出し、これを塩化メチ
レン／エタノールから再結晶した。３−［［［３−（２
−アミノ−２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキ
シ］メチル］安息香酸メチルエステル８８５ｍｇ（収
率：６９％）を得た。ｍｐ．１４７〜１４９℃。 元素分析：Ｃ27Ｈ26Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７３．２
８；Ｈ，５．９２；Ｎ，６．３３。実験値：Ｃ，７３．
０３；Ｈ，５．８６；Ｎ，６．２２。
【０２７７】実施例１０１ ３−［［［３−（２−アミ
ノ−２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フェニル
メチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキシ］メチ
ル］安息香酸の製造。 ３−［［［３−（２−アミノ−２−オキソエチル）−２
−メチル−１−（フェニルメチル）−１Ｈ−インドール
−５−イル］オキシ］メチル］安息香酸メチルエステル
４７０ｍｇ（１．０６ｍＭ）および２Ｎ−ＮａＯＨ２ｍ
Ｌの混合物をＴＨＦ１０ｍＬとエタノール４０ｍＬ中で
７．５時間撹拌し、混合物を５Ｎ−ＨＣｌで酸性にし、
酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を食塩水で洗
い、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥し、減圧濃縮した。残渣を塩化メ
チレン／エタノールから結晶化して３−［［［３−（２
−アミノ−２−オキソエチル）−２−メチル−１−（フ
ェニルメチル）−１Ｈ−インドール−５−イル］オキ
シ］メチル］安息香酸３３０ｍｇ（収率：７２％）を得
た。ｍｐ．１７６〜１７９℃。 元素分析：Ｃ26Ｈ24Ｎ2Ｏ4として計算値：Ｃ，７２．８
８；Ｈ，５．６５；Ｎ，６．５４。実験値：Ｃ，７０．
０１；Ｈ，５．５５；Ｎ，６．１１。
【０２７８】１Ｈ−インドール−３−アセトアミドの治
療的使用 ここに記載する１Ｈ−インドール−３−アセトアミドは
その治療上に有利な作用を示すことが判明しているが、
これは基本的にはヒトｓＰＬＡ2への直接的阻害であっ
て、アラキドン酸に対する拮抗剤でも、また５−リポキ
シゲネース、シクロオキシゲネースなどのようなアラキ
ドン酸カスケード内のアラキドン酸の下流の活性種に対
する拮抗剤でもない。ｓＰＬＡ2を介する脂肪酸の放出
を阻害する本発明の方法はｓＰＬＡ2と治療的に有効な
量の本発明の１Ｈ−インドール−３−アセトアミドおよ
びその医薬的に許容し得る塩とを接触させることからな
る。
【０２７９】本発明の好適な方法はｓＰＬＡ2と治療的
に有効な量の１Ｈ−インドール−３−アセトアミドおよ
びその医薬的に許容し得る塩とを接触させることからな
り、そのアセトアミドが４および／または５位が−オキ
シアルキル酸、−オキシアルキルエステル、−オキシア
ルキルアミン、−オキシベンジル（ここに、ベンジル残
基のフェニル基は酸基、エステル基、アミン基または適
当な塩で置換されている）で置換され；また１位がベン
ジルまたはビフェニル基およびその医薬的に許容し得る
塩で置換されている。本発明の他の好適な方法はｓＰＬ
Ａ2と治療的に有効な量の１Ｈ−インドール−３−アセ
トアミドとを接触させることからなり、そのアセトアミ
ドは４およびまたは５位が酸性基で置換され、また２位
が酸素、窒素または硫黄基を含む基で置換されているも
のおよびその医薬的に許容し得る塩である。
【０２８０】本発明の好適な新規化合物は最も好適には
ｓＰＬＡ2を介する脂肪酸の放出を阻害する方法を実施
するために用いられる。この方法はｓＰＬＡ2と治療的
に有効な量の式（ＶＩ）：
【化８７】 で示される１Ｈ−インドール−３−アセトアミドおよび
その医薬的に許容し得る塩とを接触させることからな
る。式中、Ｘは酸素または硫黄である。Ｒ61は群
（ｉ）、（ｉｉ）および（ｉｉｉ）から選ばれ、ここ
に、（ｉ）はＣ6〜Ｃ20アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アルケニ
ル、Ｃ6〜Ｃ20アルキニル、Ｃ6〜Ｃ20ハロアルキル、Ｃ
4〜Ｃ12シクロアルキル、または（ｉｉ）はアリールま
たは下記から選ばれる置換基で置換されたアリール：ハ
ロ、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＯＨ、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10ア
ルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシルチオ、カルボキシ
ル、アミノまたはヒドロキシアミノ；または（ｉｉｉ）
は次式で示される基である：
【化８８】 ここに、Ｒ84は水素またはＣ1〜Ｃ10−アルキルであ
り、Ｒ85はフェニル、ナフチル、インデニルおよびビフ
ェニルから選ばれ、これらは非置換または下記から選ば
れる基で置換されており：ハロ、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−
ＯＨ、ニトロ、フェニル、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキル
チオ、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシル、アミノ、ヒドロキシア
ミノ、または置換または非置換５員から８員ヘテロ環か
ら選ばれる；
【０２８１】Ｒ62は水素、ハロ、Ｃ1〜Ｃ3アルキル、エ
テニル、シクロプロピル、Ｃ1〜Ｃ2アルキルチオ、Ｃ1
〜Ｃ2アルコキシ、−ＣＨＯ、−ＣＮである。各Ｒ63は
独立に水素またはハロである。Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66および
Ｒ67は各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10
アルケニル、Ｃ1〜Ｃ10アルキニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロア
ルキル、アリール、アラルキルであるか、またはＲ64、
Ｒ65、Ｒ66およびＲ67の組の中のいずれの隣り合った２
個の炭化水素基も結合して環炭素原子と一緒に５員また
は６員置換または非置換の炭素環を形成しうるし、また
はＣ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ、Ｃ1
〜Ｃ10−ハロアルコキシ、Ｃ4〜Ｃ8シクロアルコキシ、
フェノキシ、ハロ、ヒドロキシ、カルボキシル、-SH、-CN、-S(C1〜Ｃ10アル
キル）、アリールチオ、チオアセタール、−Ｃ（Ｏ）Ｏ
（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）、ヒドラジド、ヒドラジノ、ヒ
ドラジド、−ＮＨ2、−ＮＯ2、−ＮＲ82Ｒ83および−Ｃ
（Ｏ）ＮＲ82Ｒ83である。ここに、Ｒ82およびＲ83は独
立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ヒドロキシア
ルキルまたはＮと一緒になってＲ82およびＲ83が５員か
ら８員ヘテロ環を形成するか、または次式を持つ基であ
る：
【化８９】 ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10
アルキル、ヒドロキシであるか、またはＲ84およびＲ85
が一緒になって＝Ｏである。ｐは１から５である。Ｚは
結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）−、−ＮＨ
−または−Ｓ−である。Ｑは−ＣＯＮ（Ｒ82Ｒ83）、−
５−テトラゾリル、−ＳＯ3Ｈまたは次式の基である：
【化９０】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ99は水素また
はＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。
【０２８２】本発明の他の面はヒトに治療的に有効な量
の１Ｈ−インドール−３−アセトアミドおよびその医薬
的に許容し得る塩を投与することからなるヒトの菌血症
ショックを処置する方法である。菌血症ショックの好適
な処置法はヒトに下記を投与するものである：（１）４
位および／または５位が置換され、１位がベンジルまた
はビフェニル基（またはその医薬的に許容し得る塩）で
置換された１Ｈ−インドール−３−アセトアミド、また
は（２）４位および／または５位が置換され、２位がハ
ロゲン、酸素、窒素または硫黄基で置換されている１Ｈ
−インドール−３−アセトアミド、または（３）４位お
よび／または５位が置換され２位が炭素原子１個から３
個を持つアルキルで置換されている１Ｈ−インドール−
３−アセトアミド。１Ｈ−インドール−３−アセトアミ
ド骨格の４位が置換されている時、好適な基は下記から
選ばれる：
【化９１】 ここに、酸性基Ｒ98は下記から選ばれる：
【化９２】 またはこれらの酸性基の塩またはエステル誘導体。１Ｈ
−インドール−３−アセトアミド骨格の５位が置換され
ている時、好適な基は下記から選ばれる：
【化９３】 ここに、酸性基Ｒ98は下記から選ばれる：
【化９４】 またはこれらの酸性基の塩またはエステル誘導体。
【０２８３】医薬製剤 前記の通り、本発明の化合物はｓＰＬＡ2を介するアラ
キドン酸のような脂肪酸の放出を阻害するために有用で
ある。用語「阻害する」はｓＰＬＡ2を介する脂肪酸の
放出を本発明の化合物によって防止するか治療的に有意
に低下させることを意味する。本発明によって、治療的
または予防的効果を得るために投与される本発明の化合
物の具体的な用量は勿論、例えば、投与される化合物、
投与経路、処置すべき症状を含むその症例を巡る具体的
状況により決定されるべきである。典型的な日用量は本
発明の活性化合物約０．０１ｍｇ／ｋｇから約５０ｍｇ
／ｋｇ体重までの非毒性用量水準を含むであろう。化合
物は経口、エアロゾル、大腸、経皮、皮下、静脈内、筋
肉内および鼻内を含む種々の経路で投与できる。本発明
の医薬的製剤は本発明の１Ｈ−インドール−３−アセト
アミドの治療的な有効量と医薬的に許容し得る担体また
は希釈剤と結合（たとえば、混合）することによって製
造される。本発明の化合物は好ましくは投与前に製剤化
される。この製剤において、活性成分は製剤重量の０．
１％から９９．９％を占める。ここに「医薬的に許容し
得る」は担体、希釈剤または添加剤が製剤中の他の成分
と適合し、被投与者に危険を伴わない必要があることを
意味する。
【０２８４】本発明の医薬的製剤は周知で容易に入手で
きる成分を用いて公知方法で製造される。本発明の組成
物を製造するには、活性成分を通常担体と混合するか、
担体で希釈するか、またはカプセル、分包包装、紙また
は他の容器の型の担体に封入する。担体が希釈剤の役目
をする時には、それは基剤の役をする固体、半固体また
は液体物質であり、または錠剤、丸剤、粉末剤、ロゼン
ジ剤、エリキシル剤、懸濁剤、乳剤、液剤、シラップ
剤、エアロゾル剤（固体としてまたは液体の媒体中
で）、または軟膏、例えば１０％重までの活性化合物を
含む軟膏でありうる。経口投与用の錠剤は炭酸カルシウ
ム、炭酸ナトリウム、ラクトース、燐酸カルシウムのよ
うな適当な添加剤をメイズ、澱粉またはアルギン酸のよ
うな崩壊剤および／または例えばゼラチンまたはアラビ
アゴムのような結合剤、およびステアリン酸マグネシウ
ム、ステアリン酸またはタルクのような滑沢剤を含みう
る。
【０２８５】下記の製剤例は単なる例示であって本発明
の範囲を限定する意図はない。用語「活性成分」は本発
明の１Ｈ−インドール−３−アセトアミド化合物または
その医薬的に許容し得る塩を意味する。製剤例１ 下記の成分を用いて錠剤を製造する。 成分を混合し打錠して６６５ｍｇ重とする。製剤例２ 下記の成分を含むエアロゾル液剤を製造する 活性成分をエタノールと混合し、混合物をプロペラント
の一部に加え、−３０℃に冷却し、充填機に移す。必要
量をステンレス鋼製の容器に入れ、残りのプロペラント
で希釈する。容器にバルブを装着する。
【０２８６】検定実験 検定例１ 以下の染色体検定操作を用いて組換えヒト分泌ホスホリ
パーゼＡ2の阻害剤を確認し、検定した。ここに記載す
る検定は９６穴マイクロタイター板を用いる大量スクリ
ーニング用に適合させたものである。この検定法の一般
的な記載はＬａｕｒｅ Ｊ．Ｒｅｙｎｏｌｄｓ、Ｌｏｒ
ｉ Ｌ．Ｈｕｇｈｅｓ、ＥｄｗａｒｄＡ．Ｄｅｎｎｉｓ
による報告「短鎖ホスファチジルコリン−混合ミセルで
のヒト滑液ホスホリパーゼＡ2の分析：マイクロタイタ
ー計測器に適するスペクトル光学的検定法の発展（Ａｎ
ａｌｙｓｉｓ ｏｆ Ｈｕｍａｎ Ｓｙｎｏｖｉａｌｌ
ｕｉｄ Ｐｈｏｓｐｈｏｌｉｐａｓｅ Ａ2 ｏｎ Ｓ
ｈｏｒｔ ＣｈａｉｎＰｈｏｓｐｈａｔｉｄｙｌｃｈｏ
ｌｉｎｅ−Ｍｉｘｅｄ Ｍｉｃｅｌｌｅｓ：Ｄｅｖｅｌ
ｏｐｍｅｎｔ ｏｆ ａ Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍ
ｅｔｒｉｃＡｓｓａｙ Ｓｕｉｔａｂｌｅ ｆｏｒ ａ
ＭｉｃｒｏｔｉｔｅｒｐｌａｔｅＲｅａｄｅｒ）」、
Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、２
０４：１９０〜１９７、１９９２に見出される。 試薬： 反応緩衝液 − ＣａＣｌ2・２Ｈ2Ｏ １．４７ ｇ／Ｌ ＫＣｌ ７．４５５ｇ／Ｌ 牛血清アルブミン（脂肪酸不含）１ ｇ／Ｌ （シグマＡ−７０３０、シグマ化学社、セントルイス、
ＭＯ、米国） トリスＨＣｌ ３．９４ ｇ／Ｌ ｐＨ７．５（ＮａＯＨで調整） 酵素緩衝液 − ０．０５ＮａＯＡｃ・３Ｈ2Ｏ ｐＨ４．５。 ０．２ＮａＣｌ。 ｐＨを酢酸で４．５に調整。 ＤＴＮＢ − ５，５”−ジチオビス−２−ニトロ安息
香酸。 ラセミ体ジヘプタノイルチオ − ＰＣ。 ラセミ体１，２−ビス（ヘプタノイルチオ）−１，２−
ジデオキシ−ｓｎ−グリセロ−３−ホスホリルコリン。 トリトンＸ−１００TM反応緩衝液に６．２４９ｍｇ／ｍ
Ｌ反応緩衝液で製造。１０μＭと等価。
【０２８７】反応混合物 − 秤量したラセミ体ジヘプタノイルチオＰＣをクロロホル
ム中に１００ｍｇ／ｍＬの濃度で加え、乾燥し、１０ｍ
ＭトリトンＸ−１００TM−非イオン製界面活性剤水溶液
に溶解する。溶液に反応緩衝液、次にＤＴＮＢを加えて
反応混合物を得る。こうして製造した反応混合物は１ｍ
Ｍ−ジヘプタノイル・チオ−ＰＣ基質、０．２９ｍｍ−
トリトンＸ−１００TM界面活性剤および０．１２ｍＭ−
ＤＴＮＢをｐＨ７．５に緩衝された水溶液に含む。
【０２８８】検定操作： １．反応混合物０．２ｍＬを全穴に入れる。 ２．被検化合物（または液体対照）１０μＬを適当な穴
に入れ、２０秒混合する ３．ｓＰＬＡ2５０ナノグラム（１０μＬ）を適当な穴
に入れる。 ４．板を４０℃で３０分間インキュベートする。 ５．各穴の吸光度を４０５ナノメートルで自動板測定機
で測定する。 全化合物を３回測定した。典型的には、化合物を最終濃
度５μｇ／ｍＬで検定した。４０５ナノメートルで測定
した時に無阻害対照の反応と比較して４０％またはそれ
以上の阻害を示した時に化合物に活性があると考えた。
４０５ナノメートルでの発色がないものは阻害の証拠と
した。最初に活性を見出された化合物はその活性を確認
するために再検定を行い、もし十分に活性ならば、ＩＣ
50値を決定した。典型的には、ＩＣ50値は被検化合物を
系統的に２倍希釈して反応での最終濃度が４５μｇ／ｍ
Ｌから０．３５μｇ／ｍＬになるようにした。さらに強
力な阻害剤は明白に大きい希釈を要した。全ての場合、
％阻害を無阻害対照の反応に対して阻害剤を含む酵素反
応を４０５ナノメートルでの測定により算出した。各検
体を３回測定し、結果の値を平均してプロットし、ＩＣ
50値を算出した。ＩＣ50は濃度の対数対阻害値を１０〜
９０％阻害の範囲でプロットして決定した。各ＩＣ50値
は３回算出した。
【０２８９】
【表１】 * = ヒト分泌ｓＰＬＡ2阻害ＩＣ50±平均偏差 （３〜５検定）。単位：μＭ。
【表２】 * = ヒト分泌ｓＰＬＡ2阻害ＩＣ50±平均偏差 （３〜５検定）。単位：μＭ。
【表３】 * = ヒト分泌ｓＰＬＡ2阻害ＩＣ50±平均偏差 （３〜５検定）。単位：μＭ。
【０２９０】検定実験例２ 方法：雄ハートレイ株モルモット（５００〜７００ｇ）
を頚部脱臼により屠殺し、心臓と肺を無傷のまま取り出
し、通気（９５％Ｏ2、５％ＣＯ2）クレブス緩衝液中に
入れた。肺下葉の外側端に平行に切った無傷の実質部
（８×４×２５ｍｍ）から背面胸膜ストリップ（４×１
×２５ｍｍ）を切開した。一つの肺葉から得て単一の組
織標本を代表する隣接する２本の胸膜ストリップを一方
の端で結合し、独立に金属支持棹に装着した。棹の一つ
をＧｒａｓｓ力変換器（ＦＴＯ３Ｃ型、米国、マサチュ
ーセッツ州のＱｕｉｎｃｙ、Ｇｒａｓｓ Ｍｅｄｉｃａ
ｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｃｏ．社製品）に装着し
た。イソメトリックな張力の変化をモニターと感熱記録
器（ペンシルバニア州、ＭａｌｖｅｒｎのＭｏｄｕｌａ
ｒＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製品）に表示させた。全組
織はジャケットを付けて３７℃に維持した組織浴１０ｍ
Ｌ内に置いた。下記組成（ｍＭ）の修正クレブス溶液を
含む組織浴を継続的に通気した：ＮａＣｌ，１１８．
２、ＫＣｌ，４．６、ＣａＣｌ2・２Ｈ2Ｏ，２．５、Ｍ
ｇＳＯ4・７Ｈ2Ｏ，１．２、ＮａＨＣＯ3，２４．８、
ＫＨ2ＰＯ4，１．０およびデキストロース１０．０。反
対側の肺葉からの胸膜ストリップを対実験に用いた。張
力／反応曲線から得られた予備データは休止張力８００
ｍｇが最適であることを示した。浴液を経時的に置換え
ながら組織を４５分間平衡させた。
【０２９１】累積濃度−反応曲線：初めに組織の活動性
を検査して一定の反応を得るために組織をＫＣｌ（４０
ｍＭ）で３回刺激した。ＫＣｌに対する最大反応を記録
後に、組織を洗浄して次の刺激の前にベースラインに戻
した。累積濃度−反応曲線は前の濃度を組織と接触させ
ている間に（前記参考文献１）組織浴内のアゴニスト濃
度（ｓＰＬＡ2）を半−ｌｏｇ10増分により増加させる
ことによって、胸膜ストリップから得られた。アゴニス
ト濃度は先行する濃度により誘導された収縮がプラトー
に達した後に増加させた。一本の濃度−反応曲線を各組
織から得た。異なる動物から得た組織の間の変動を減少
するために収縮反応を最終ＫＣｌ刺激で得た最大反応に
対する百分率で表現した。ｓＰＬＡ2に対する収縮効果
についての種々の薬品の効果を研究する時にはｓＰＬＡ
2濃度−反応曲線開始前３０分前に組織に化合物とその
媒体を加えた。
【０２９２】統計学的解析 多数の実験データを集め、最大ＫＣｌ反応に対する百分
率として示した（平均±標準誤差）。濃度反応曲線で右
向きのシフトを示す薬品を評価するために、Ｗａｕｄが
（参考文献２）（１９７６）１６３頁、等式２６に記載
したものと類似の統計学的非線形モデル法を用いて曲線
を解析した。このモデルはパラメータ４個を含む：各曲
線で同一と仮定される組織最大反応、対照曲線に対する
ＥＤ50、曲線の勾配およびｐＡ2すなわち対等な反応に
達するためにアゴニスト増加を２倍要する拮抗剤濃度で
ある。Ｗａｕｄが（参考文献２）（１９７６）１６４
頁、等式２７に記載したものと類似の統計学的非線形モ
デル法を用いて曲線を解析し、スチルド勾配を１とし
た。１に等しいスチルド勾配は、モデルが競合的拮抗剤
であるとの仮定を満足する。それ故、見掛け上、ｐＡ2
は阻害剤の解離恒数であるＫBと解釈される。
【０２９３】薬品によって誘導される最大反応の抑制を
評価するために、ｓＰＬＡ2反応（１０μｇ／ｍＬ）を
薬品の不在および存在下に測定し、抑制百分率を各組織
対について算出した。阻害活性の代表的な例を下表４に
示した。 参考文献１．−ｖａｎ，Ｊ．Ｍ．：累積用量−反応曲線
ＩＩ．摘出組織での用量−反応曲線作成のための手法お
よび薬剤パラメータの評価（Ｃｕｍｕｌａｔｉｖｅ ｄ
ｏｓｅ−ｒｅｓｐｏｎｓｅ ｃｕｒｖｅｓ．ＩＩ．Ｔｅ
ｃｈｎｉｑｕｅｆｏｒ ｔｈｅ ｍａｋｉｎｇ ｏｆ
ｄｏｓｅ−ｒｅｓｐｏｎｓｅ ｃｕｒｖｅｓ ｉｎ ｉ
ｓｏｌａｔｅｄ ｏｒｇａｎｓ ａｎｄ ｔｈｅ ｅｖ
ａｌｕａｔｉｏｎ ｏｆ ｄｒｕｇ ｐａｒａｍｅｔｅ
ｒｓ）、Ａｒｃｈ．Ｉｎｔ．Ｐｈａｒｍａｃｏｄｙｎ．
Ｔｈｅｒ．、１４３：２９９〜３３０、１９６３。 参考文献２．−Ｎａｒａｈａｓｈｉ、Ｂｉａｎｃｈｉ
編、「一般および細胞薬理学の進歩（Ａｄｖａｎｃｅｓ
ｉｎ Ｇｅｎｅｒａｌ ａｎｄ Ｃｅｌｌｕｌａｒ
Ｐｈａｒｍａｃｏｌｏｇｙ）」中のＷａｕｄ，Ｄ．：用
量−反応関係の解析（Ａｎａｌｙｓｉｓ ｏｆ ｄｏｓ
ｅ−ｒｅｓｐｏｎｓｅ ｒｅｌａｔｉｏｎｓｈｉｐ
ｓ）、１：１４５〜１７８、１９７６。 表４．
【表４】 注： ３＝化合物濃度３０μＭでのｓＰＬＡ2濃度の抑制％。 ４＝化合物濃度１０μＭでのｓＰＬＡ2濃度の抑制％。 以上に本発明を具体的態様によって説明したが、これら
の具体的実例は前記の特許請求の範囲に記載する本発明
の範囲を限定すべきものとして意図されているものでは
ない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/40 ＡＤＥ 9454−4Ｃ ＡＤＺ 9454−4Ｃ ＡＥＤ 9454−4Ｃ 31/675 ＡＣＦ 9454−4Ｃ Ｃ０７Ｄ 209/14 9284−4Ｃ 209/18 9284−4Ｃ 209/22 9284−4Ｃ 209/24 9284−4Ｃ 209/34 9284−4Ｃ 209/42 9284−4Ｃ 403/12 ２０９ 417/12 ２０９ Ｃ０７Ｆ 9/572 9155−4Ｈ Ａ 9155−4Ｈ (72)発明者 ロバート・ディレイン・ディラード アメリカ合衆国46077インディアナ州ジオ ンズビル、ウエスト・ナインティセカン ド・ストリート7243番 (72)発明者 スーザン・エリザベス・ドラヘイム アメリカ合衆国46220インディアナ州イン ディアナポリス、バーリントン・アベニュ ー6125番 (72)発明者 ロバート・ベル・ハーマン アメリカ合衆国46250インディアナ州イン ディアナポリス、ノース・アービントン・ アベニュー7315番 (72)発明者 リチャード・ウォルター・シェビッツ アメリカ合衆国46220インディアナ州イン ディアナポリス、ハーフムーン・レイン 6053番

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式（Ｉ）で示される１Ｈ−インドール−
    ３−アセトアミドおよびその医薬的に許容し得る塩： 【化１】 式中、Ｘは酸素または硫黄である。Ｒ1は群（ｉ）、
    （ｉｉ）および（ｉｉｉ）から選ばれ、ここに、 （ｉ）はＣ6〜Ｃ20アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アルケニル、Ｃ
    6〜Ｃ20アルキニル、Ｃ6〜Ｃ20ハロアルキル、Ｃ4〜Ｃ
    12シクロアルキルであり、（ｉｉ）はアリールまたは以
    下の置換基：ハロ、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＯＨ、ニト
    ロ、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ10アルコ
    キシル、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、カルボキシル、アミノま
    たはヒドロキシアミノで置換されたアリールであり、
    （ｉｉｉ）は−（ＣＨ2）n−（Ｒ80）または−（ＮＨ）
    −（Ｒ81）である。ここに、ｎは１から８であり、Ｒ80
    は（ｉ）に示した基であり、Ｒ81は（ｉ）または（ｉ
    ｉ）に示した基から選ばれる。Ｒ2は水素、ハロ、Ｃ1〜
    Ｃ3アルキル、エテニル、Ｃ1〜Ｃ2アルキルチオ、Ｃ1〜
    Ｃ2アルコキシ、−ＣＨＯまたは−ＣＮである。各Ｒ3は
    独立に水素、ハロまたはメチルである。Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6
    およびＲ7は各々が独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ
    1〜Ｃ10アルケニル、C1〜Ｃ10アルキニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロア
    ルキル、アリール、アラルキルを表すか、またはＲ4、
    Ｒ5、Ｒ6およびＲ7の組の中の隣り合った２個が炭化水
    素基を表し、かつそれが結合する環炭素原子と一緒に５
    員または６員の置換または非置換の炭素環を形成してい
    てもよく、またはＣ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10ア
    ルコキシ、Ｃ1 〜Ｃ10−ハロアルコキシ、Ｃ4〜Ｃ8シク
    ロアルコキシ、フェノキシ、ハロ、ヒドロキシ、カルボ
    キシル、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチオ、ア
    リールチ オ、チオアセタール、−ＣＯ−Ｏ（Ｃ1〜Ｃ10
    アルキル）、ヒドラジド、ヒドラジノ、ヒドラジド、−
    ＮＨ2、−ＮＯ2、−ＮＲ82Ｒ83または−ＣＯ−ＮＲ82Ｒ
    83であり、ここに、Ｒ82およびＲ83は独立に水素、Ｃ1
    〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ヒドロキシアルキルである
    か、またはＮと一緒になって、Ｒ82およびＲ83が５員か
    ら８員のヘテロ環を形成するか、または次式を持つ基で
    ある： 【化２】 ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10
    アルキル、ヒドロキシから選ばれるか、またはＲ84およ
    びＲ85が一緒になって＝Ｏである。ｐは１から５であ
    る。Ｚは結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）
    −、−ＮＨ−または−Ｓ−である。Ｑは−ＣＯＮ（Ｒ82
    Ｒ83）、−５−テトラゾリル、−ＳＯ3Ｈまたは下記の
    基である： 【化３】 ここに、Ｒ86は水素、金属またはＣ1〜Ｃ10アルキルか
    ら独立に選ばれる。
  2. 【請求項２】 式（ＩＩ）で示される１Ｈ−インドール
    −３−アセトアミドおよびその医薬的に許容し得る塩お
    よびプロドラッグ誘導体： 【化４】 式中、Ｘは酸素または硫黄である。Ｒ11は群（ｉ）、
    （ｉｉ）、（ｉｉｉ）および（ｉｖ）から選ばれ、ここ
    に、 （ｉ）はＣ6〜Ｃ20アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アルケニル、Ｃ
    6〜Ｃ20アルキニル、Ｃ6〜Ｃ20ハロアルキル、Ｃ4〜Ｃ
    12シクロアルキルであり、（ｉｉ）はアリールまたは以
    下の置換基：ハロ、ニトロ、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−Ｏ
    Ｈ、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチ
    オ、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシル、カルボキシル、アミノま
    たはヒドロキシアミノで置換されたアリールであり、
    （ｉｉｉ）は−（ＣＨ2）n−（Ｒ80）または−（ＮＨ）
    −（Ｒ81）である。ここに、ｎは１から８であり、Ｒ80
    は（ｉ）に示した基であり、Ｒ81は（ｉ）または（ｉ
    ｉ）に示した基から選ばれる。（ｉｖ）は下式の基であ
    る： 【化５】 ここに、Ｒ87は水素またはＣ1〜Ｃ10−アルキルであ
    り、Ｒ88は以下の基：フェニル、ナフチル、インデニル
    およびビフェニルから選ばれるが、これらは、いずれも
    非置換であるか、または以下の基で置換されていてもよ
    い：ハロ、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＯＨ、−ＳＨ、Ｃ1〜
    Ｃ10アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシル、フェニ
    ル、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキ
    ル、カルボキシル、アミノ、ヒドロキシアミノ、または
    置換または非置換の５員から８員のヘテロ環。Ｒ12はハ
    ロ、Ｃ1〜Ｃ2アルキルチオまたはＣ1〜Ｃ2アルコキシで
    ある。各Ｒ13は独立に水素、ハロまたはメチルである。
    Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16およびＲ17は各々独立に水素、Ｃ1〜
    Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルケニル、Ｃ1〜Ｃ10アルキ
    ニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、アリール、アラルキル
    を表すか、またはＲ14、Ｒ15、Ｒ16およびＲ17の組の中
    の隣り合った２個が炭化水素基を表し、かつそれが結合
    する環炭素原子と一緒に５員または６員の置換または非
    置換炭素環を形成していてもよく、またはＣ1〜Ｃ10ハ
    ロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ10−ハロア
    ルコキシ、Ｃ4〜Ｃ8シクロアルコキシ、フェノキシ、ハ
    ロ 、ヒドロキシ、カルボキシル、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1
    〜Ｃ10アルキルチオ、アリ ールチオ、チオアセター
    ル、−ＣＯ−Ｏ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）、ヒドラジド、
    ヒドラジノ、ヒドラジド、−ＮＨ2、−ＮＯ2、−ＮＲ82
    Ｒ83または−ＣＯ−ＮＲ82Ｒ83であり、ここに、Ｒ82お
    よびＲ83は独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10
    ヒドロキシアルキルであるか、またはＮと一緒になって
    Ｒ82およびＲ83が５員から８員ヘテロ環を形成するか、
    または次式を持つ基である： 【化６】 ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独立に下記から選ばれる
    か：水素、Ｃ1〜Ｃ１０アルキル、ヒドロキシ、または
    Ｒ８４およびＲ85が一緒になって＝Ｏである。ｐは１か
    ら５である。Ｚは結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ10アル
    キル）−、−ＮＨ−または−Ｓ−である。Ｑは−ＣＯＮ
    （Ｒ82Ｒ83）、−５−テトラゾリル、−ＳＯ3Ｈまたは
    次式の基である： 【化７】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
    Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ９９は水素ま
    たはＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。
  3. 【請求項３】 式（ＩＩＩ）で示される１Ｈ−インドー
    ル−３−アセトアミドおよびその医薬的に許容し得る塩
    およびプロドラッグ誘導体： 【化８】 式中、Ｘは酸素または硫黄である。Ｒ21は−（ＣＨ2）n
    −（Ｒ80）または−（ＮＨ）−（Ｒ81）である。ここ
    に、ｎは１から８であり、Ｒ80はアリールまたは以下の
    基で置換されたアリールであるか：Ｃ1〜Ｃ10アルキ
    ル、Ｃ1〜Ｃ10アルケニル、Ｃ1〜Ｃ10アルキニル、Ｃ1
    〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ4〜Ｃ12シクロアルキル、Ｃ1〜
    Ｃ10ヒドロキシアルキル、カルボキシル、ハロ、−Ｃ
    Ｎ、−ＣＨＯ、−ＯＨ、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキルチ
    オ 、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシル、カルボキシル、アミノま
    たはヒドロキシアミノ、ま たは置換または非置換５員
    から８員ヘテロ環である。Ｒ22は水素、ハロ、Ｃ1〜Ｃ3
    アルキル、エテニル、シクロプロピル、Ｃ1〜Ｃ2アルキ
    ルチオ、Ｃ1〜Ｃ2アルコキシ、−ＣＨＯ、−ＣＮであ
    る。各Ｒ23は独立に水素、ハロまたはメチルである。Ｒ
    24およびＲ25は各々独立に（ａ）および（ｂ）から選ば
    れる。ここに、 （ａ）は水素、ハロ、アルキルまたはアルコキシであ
    り、 （ｂ）は下式で示される基である： 【化９】 ただし、Ｒ24およびＲ25の少なくとも一方は（ｂ）から
    選ばれるものとする。ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独
    立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、ヒドロキシから選ばれ
    るか、またはＲ84およびＲ85を一緒にして＝Ｏである。
    ｐは１から５である。Ｚは結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜
    Ｃ10アルキル）−、−ＮＨ−または−Ｓ−である。Ｑは
    −ＣＯＮ（Ｒ82Ｒ83）、−５−テトラゾリル、−ＳＯ3
    Ｈまたは次式の基である： 【化１０】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
    Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ99は水素また
    はＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。Ｒ26およびＲ27は
    各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルケ
    ニル、Ｃ1〜Ｃ10アルキニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキ
    ル、アリール、アラルキルであるか、またはＲ26および
    Ｒ27両基内の隣りあっている炭化水素基はそれが結合し
    ている環炭素原子と一緒に５員または６員の置換または
    非置換の炭素環を形成しているか、またはＣ1〜Ｃ10ハ
    ロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ10−ハロ
    アルコキシ、Ｃ4〜Ｃ8シクロアルコキシ、フェノキシ、
    ハロ、ヒドロキシ、カルボキシル、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ
    1〜Ｃ10アルキルチオ、アリールチオ、チオアセ ター
    ル、−ＣＯ−Ｏ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）、ヒドラジド、
    ヒドラジノ、ヒドラ ジド、−ＮＨ2、−ＮＯ2、−ＮＲ
    82Ｒ83および−ＣＯ−ＮＲ82Ｒ83であり、ここに、Ｒ82
    およびＲ83は独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ
    10ヒドロキシアルキルであるか、またはＮと一緒になっ
    てＲ82およびＲ83が５員から８員ヘテロ環を形成する
    か、または次式で示される基である： 【化１１】 ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10
    アルキル、ヒドロキシから選ばれるか、またはＲ84およ
    びＲ85が一緒になって＝Ｏである。ｐは１から５であ
    る。Ｚは結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）
    −、−ＮＨ−または−Ｓ−である。Ｑは−ＣＯＮ（Ｒ82
    Ｒ83）、−５−テトラゾリル、−ＳＯ3Ｈまたは次式の
    基である： 【化１２】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
    Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ99は水素また
    はＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。
  4. 【請求項４】 式（ＶＩ）で示される１Ｈ−インドール
    −３−アセトアミドおよびその医薬的に許容し得る塩お
    よびプロドラッグ誘導体： 【化１３】 式中、Ｘは酸素または硫黄である。Ｒ31は群（ｉ）、
    （ｉｉ）および（ｉｉｉ）から選ばれ、ここに、 （ｉ）はＣ6〜Ｃ20アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アルケニル、Ｃ
    6〜Ｃ20アルキニル、Ｃ6〜Ｃ20ハロアルキル、Ｃ4〜Ｃ
    12シクロアルキルであり、（ｉｉ）はアリールまたは以
    下の基：ハロ、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＯＨ、−ＳＨ、Ｃ
    1〜Ｃ10アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシル、カルボ
    キシル、アミノまたはヒドロキシアミノで置換されたア
    リールであり、（ｉｉｉ）は次式の基である： 【化１４】 ここに、Ｒ84は水素またはＣ1〜Ｃ10−アルキルであ
    る。Ｒ87は以下の基：フェニル、ナフチル、インデニル
    およびビフェニルから選ばれ、これらはいずれも非置換
    であるか、または以下の基で置換されている：ハロ、−
    ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＯＨ、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキル
    チオ、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ、カルボキシル、アミノ、
    ヒドロキシアミノ、または置換または非置換の５員から
    ８員のヘテロ環。Ｒ32はハロ、Ｃ1〜Ｃ2アルキルチオま
    たはＣ1〜Ｃ2アルコキシである。各Ｒ33は独立に水素、
    ハロまたはメチルである。Ｒ34およびＲ35は各々独立に
    （ａ）および（ｂ）から選ばれる。ここに、 （ａ）は水素、ハロ、アルキルまたはアルコキシであ
    り、 （ｂ）は次式で示される基である： 【化１５】 ただし、Ｒ34およびＲ35の少なくとも一方は（ｂ）から
    選ばれるものとする。ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独
    立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、ヒドロキシから選ばれ
    るか、またはＲ84およびＲ85を一緒にして＝Ｏである。
    ｐは１から５である。Ｚは結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜
    Ｃ10アルキル）−、−ＮＨ−または−Ｓ−である。Ｑは
    −ＣＯＮ（Ｒ82Ｒ83）、−５−テトラゾリル、−ＳＯ3
    Ｈまたは次式の基である： 【化１６】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
    Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ99は水素また
    はＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。Ｒ26およびＲ27は
    各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルケ
    ニル、Ｃ1〜Ｃ10アルキニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキ
    ル、アリール、アラルキルであるか、またはＲ26および
    Ｒ27両基内の隣りあっている炭化水素基はそれが結合し
    ている環炭素原子と一緒に５員または６員の置換または
    非置換の炭素環を形成するか、またはＣ1〜Ｃ10ハロア
    ルキル、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ10−ハロアルコ
    キシ、Ｃ4〜Ｃ8シクロアルコキシ、フェノキシ、ハロ、
    ヒドロキシ、カルボキシル、−ＳＨ、−ＣＮ、Ｃ1〜Ｃ
    10アルキルチオ、アリールチオ、チオアセタール、−Ｃ
    Ｏ−Ｏ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）、ヒドラジド、ヒドラジ
    ノ、ヒドラジド、−ＮＨ2、−ＮＯ2、−ＮＲ82Ｒ83およ
    び−ＣＯ−ＮＲ82Ｒ83であり、ここに、Ｒ82およびＲ83
    は独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ヒドロキ
    シアルキル、またはＮと一緒になってＲ82およびＲ83が
    ５員から８員のヘテロ環を形成するか、または次式で示
    される基である： 【化１７】 ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10
    アルキル、ヒドロキシから選ばれるか、またはＲ84およ
    びＲ85が一緒になって＝Ｏである。ｐは１から５であ
    る。Ｚは結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）
    −、−ＮＨ−または−Ｓ−である。Ｑは−ＣＯＮ（Ｒ82
    Ｒ83）、−５−テトラゾリル、−ＳＯ3Ｈまたは次式の
    基である： 【化１８】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
    Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ99は水素また
    はＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。
  5. 【請求項５】 ｓＰＬＡ2に接触てｓＰＬＡ2を介する脂
    肪酸放出を阻害するために用いる式（ＶＩ）： 【化１９】 で示される化合物またはその医薬的に許容し得る塩また
    はプロドラッグ誘導体：式中、Ｘは酸素または硫黄であ
    る。Ｒ61は群（ｉ）、（ｉｉ）および（ｉｉｉ）から選
    ばれる。ここに、 （ｉ）はＣ6〜Ｃ20アルキル、Ｃ6〜Ｃ20アルケニル、Ｃ
    6〜Ｃ20アルキニル、Ｃ6〜Ｃ20ハロアルキル、Ｃ4〜Ｃ
    12シクロアルキルであり、（ｉｉ）はアリールまたは以
    下の基：ハロ、−ＣＮ、−ＣＨＯ、−ＯＨ、−ＳＨ、Ｃ
    1〜Ｃ10アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシルチオ、カ
    ルボキシル、アミノまたはヒドロキシアミノで置換され
    たアリールであり、（ｉｉｉ）は次式の基である： 【化２０】 ここに、Ｒ84は水素またはＣ1〜Ｃ10−アルキルであ
    る。Ｒ85は以下の基：フェニル、ナフチル、インデニル
    およびビフェニルから選ばれ、これらはいずれも非置換
    であるか、または以下の基：ハロ、−ＣＮ、−ＣＨＯ、
    −ＯＨ、ニトロ、フェニル、−ＳＨ、Ｃ1〜Ｃ10アルキ
    ルチオ、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ、アミノ、ヒドロキシア
    ミノ、または置換または非置換の５員から８員のヘテロ
    環で置換されているか、またはＲ84およびＲ85が一緒に
    なって＝Ｏである。Ｒ62は水素、ハロ、Ｃ1〜Ｃ3アルキ
    ル、エテニル、シクロプロピル、Ｃ1〜Ｃ2−アルキルチ
    オ、Ｃ1〜Ｃ2−アルコキシ、−ＣＨＯ、−ＣＮである。
    各Ｒ63は独立に水素またはハロである。Ｒ64、Ｒ65、Ｒ
    66およびＲ67は各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、
    Ｃ2〜Ｃ10アルケニル、Ｃ2〜Ｃ10アルキニル、Ｃ3〜Ｃ8
    シクロアルキル、アリール、アラルキルであるかまたは
    Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66およびＲ67の組の中の隣り合った２個
    が炭化水素基を表し、かつ、それらが結合する環炭素原
    子と一緒になって５員または６員の置換または非置換の
    炭素環を形成するか、またはＣ1〜Ｃ10ハロアルキル、
    Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ10−ハロアルコキシ、Ｃ
    4〜Ｃ8シクロアルコキシ、フェノキシ、ハ ロ、ヒドロ
    キシ、カルボキシル、−ＳＨ、−ＣＮ、−Ｓ（Ｃ1〜Ｃ
    10アルキル） 、アリールチオ、チオアセタール、−Ｃ
    Ｏ−Ｏ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）、ヒドラ ジド、ヒドラジ
    ノ、ヒドラジド、−ＮＨ2、−ＮＯ2、−ＮＲ82Ｒ83また
    は−ＣＯ−ＮＲ82Ｒ83を表し、ここに、Ｒ82およびＲ83
    は独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ1〜Ｃ10ヒドロキ
    シアルキルまたはＮと一緒になってＲ82およびＲ83が５
    員から８員ヘテロ環を形成するか、または次式で表され
    る基である： 【化２１】 ここに、Ｒ84およびＲ85は各々独立に水素、Ｃ1〜Ｃ10
    アルキル、ヒドロキシから選ばれるか、またはＲ84およ
    びＲ85が一緒になって＝Ｏである。ｐは１から５であ
    る。Ｚは結合、−Ｏ−、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ10アルキル）
    −、−ＮＨ−または−Ｓ−である。Ｑは−ＣＯ−ＮＲ
    ８２Ｒ83、−５−テトラゾリル、−ＳＯ3Ｈまたは次式
    の基である： 【化２２】 ここに、ｎは１から８であり、Ｒ86は水素、金属または
    Ｃ1〜Ｃ10アルキルから独立に選ばれ、Ｒ99は水素また
    はＣ1〜Ｃ10アルキルから選ばれる。
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YU (1) YU20194A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998037069A1 (en) * 1997-02-20 1998-08-27 Shionogi & Co., Ltd. Indole dicarboxylic acid derivatives
JPH11322713A (ja) * 1998-04-17 1999-11-24 Eli Lilly & Co 置換三環式化合物
JPH11322745A (ja) * 1998-04-17 1999-11-24 Eli Lilly & Co 置換三環式化合物およびそれを含有する組成物
EP2044958A2 (en) 2001-03-19 2009-04-08 Shionogi & Co., Ltd. Pharmaceutical composition for treating arteriosclerosis
JP2009514959A (ja) * 2005-11-04 2009-04-09 アミラ ファーマシューティカルス，インコーポレーテッド ５−リポキシゲナーゼ活性化タンパク質（ｆｌａｐ）阻害剤

Families Citing this family (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IL109311A0 (en) * 1993-04-16 1994-07-31 Lilly Co Eli 1H-indole-3-acetamide sPla2 inhibitors
IL109309A (en) * 1993-04-16 2000-06-29 Lilly Co Eli 1-H-indole-3-acetic acid hydrazide SPLA2 inhibitors and pharmaceutical compositions containing them
US6252084B1 (en) 1994-03-15 2001-06-26 Eli Lilly And Company 1H-indole-3-acetamide sPLA2 inhibitors
EP1950200B1 (en) * 1994-04-01 2012-01-11 Eli Lilly And Company [[3-(2-amino-1,2-dioxoethyl)-2-ethyl-1-(phenylmethyl)-11H-indol-4-yl]oxy]acetic acid methyl ester as sPLA2 inhibitor
US6214876B1 (en) 1994-07-21 2001-04-10 Eli Lilly And Company Indene-1-acetamide sPLA2 inhibitors
US5641800A (en) * 1994-07-21 1997-06-24 Eli Lilly And Company 1H-indole-1-functional sPLA2 inhibitors
JP2000516958A (ja) * 1996-08-26 2000-12-19 ジェネティックス・インスチチュート・インコーポレーテッド ホスホリパーゼ酵素の阻害剤
US6630496B1 (en) 1996-08-26 2003-10-07 Genetics Institute Llc Inhibitors of phospholipase enzymes
US6569539B2 (en) 1996-10-30 2003-05-27 Tetra Level Holdings & Finance S.A. Gas barrier packaging laminate method for production thereof and packaging containers
US6713645B1 (en) * 1996-10-30 2004-03-30 Eli Lilly And Company Substituted tricyclics
KR20000049210A (ko) * 1996-10-30 2000-07-25 피터 지. 스트링거 치환된 트리시클릭류
US5919774A (en) * 1996-12-10 1999-07-06 Eli Lilly And Company Pyrroles as sPLA2 inhibitors
US6828344B1 (en) 1998-02-25 2004-12-07 Genetics Institute, Llc Inhibitors of phospholipase enzymes
EE200000522A (et) * 1998-02-25 2002-02-15 Genetics Institute, Inc. Fosfolipaas A2 ensüümi inhibiitor, seda sisaldav farmatseutiline kompositsioon ning meetod fosfolipaasensüümi toime pärssimiseks
GEP20032920B (en) * 1998-02-25 2003-03-25 Genetics Inst Inhibitors of Phospholipase Enzymes
US6916841B2 (en) 1998-02-25 2005-07-12 Genetics Institute, Llc Inhibitors of phospholipase enzymes
ID27280A (id) * 1998-02-25 2001-03-22 Genetics Inst Inhibitor-inhibitor dari enzim-enzim fosfolipase
US6500853B1 (en) 1998-02-28 2002-12-31 Genetics Institute, Llc Inhibitors of phospholipase enzymes
BR9909345A (pt) 1998-03-31 2000-12-12 Shionogi & Co Pirrolo [1,2-a] pirazina inibidor de spla2
KR20010034881A (ko) 1998-05-21 2001-04-25 시오노 요시히코 ｓＰＬＡ2 억제 효과를 갖는 피롤로[1,2-ｂ]피리다진 유도체
JP2002522386A (ja) * 1998-08-03 2002-07-23 イーライ・リリー・アンド・カンパニー インドールｓＰＬＡ２インヒビター
CA2338855A1 (en) 1998-08-03 2000-02-17 Eli Lilly And Company Indole spla2 inhibitors
WO2000010568A1 (en) 1998-08-24 2000-03-02 Draheim Susan E Methods and compositions for treating periodontal disease with an inhibitor of secretory phospholipase a¿2?
DE69931963D1 (de) * 1998-10-14 2006-07-27 Shionogi & Co Spla2-inhibitoren zur behandlung von ischämischen reperfusionsschäden
EP1140943B1 (en) * 1998-12-22 2003-08-13 Eli Lilly And Company Substituted pyrroloindoles
DE60032774D1 (de) * 1999-07-19 2007-02-15 Lilly Co Eli Spla2 inhibitoren
JP4636521B2 (ja) 1999-07-19 2011-02-23 塩野義製薬株式会社 ｓＰＬＡ２阻害作用を有する三環系化合物
US6706752B1 (en) 1999-07-19 2004-03-16 Eli Lilly And Company sPLA2 inhibitors
AU6023200A (en) 1999-08-02 2001-02-19 Shionogi & Co., Ltd. Tricyclic compounds having spla2-inhibitory activities
US6787545B1 (en) 1999-08-23 2004-09-07 Shiongi & Co., Ltd. Pyrrolotriazine derivatives having spla2-inhibitory activities
US6831095B1 (en) 1999-09-20 2004-12-14 Eli Lilly And Company Hydroxyfunctional amide 1h-indole derivatives active as sPLA2 inhibitors
WO2001021587A2 (en) * 1999-09-20 2001-03-29 Eli Lilly And Company Hydroxyfunctional amide 1h-indole derivatives active as spla2 inhibitors
AU7559600A (en) * 1999-10-15 2001-04-23 Shionogi & Co., Ltd. V type and/or x type spla2 inhibitors
WO2001036420A1 (en) 1999-11-15 2001-05-25 Shionogi & Co., Ltd. Tricyclic azaindolizine derivatives having an spla2- inhibiting effect
DE19962300A1 (de) * 1999-12-23 2001-06-28 Asta Medica Ag Substituierte N-Benzyl-Indol-3-yl-glyoxylsäure-Derivate mit Antitumorwirkung
WO2002000646A1 (en) * 2000-06-27 2002-01-03 Smithkline Beecham Corporation Fatty acid synthase inhibitors
AU2001267823A1 (en) * 2000-06-29 2002-01-08 Shionogi And Co., Ltd. Compounds exhibiting x-type spla2 inhibiting effect
WO2002000256A1 (fr) 2000-06-29 2002-01-03 Shionogi & Co., Ltd. Remedes contre la cirrhose
US20050203166A1 (en) * 2000-06-30 2005-09-15 Cancer Research Technology Limited Indole-3-acetic acid derivatives
GB0016162D0 (en) * 2000-06-30 2000-08-23 Cancer Res Campaign Tech Indole-3-acetic acid derivatives
CN1450893A (zh) * 2000-07-14 2003-10-22 伊莱利利公司 治疗脓毒症的方法
AU2001282410A1 (en) * 2000-08-24 2002-03-22 Dublin City University N-benzylindole-3-acetic acid derivatives for use in the treatment of drug resistan cancer
CA2431506A1 (en) 2000-12-18 2002-07-25 Eli Lilly And Company Benz(g) indoles and their use as spla2 inhibitors
CA2430808A1 (en) * 2000-12-18 2002-06-27 Eli Lilly And Company Cycloalkylfused [g]-indole compounds as spla2-inhibitors in the treatment of inflammatory diseases
US6635771B2 (en) 2001-12-03 2003-10-21 Wyeth N-benzhydryl indole compounds
US7713964B2 (en) 2001-12-03 2010-05-11 Wyeth Llc Methods for treating asthmatic conditions
US7101875B2 (en) 2001-12-03 2006-09-05 Wyeth Methods for treating arthritic disorders
US7605156B2 (en) 2001-12-03 2009-10-20 Wyeth Methods for the use of inhibitors of cytosolic phospholipase A2
US6984735B2 (en) 2001-12-03 2006-01-10 Wyeth Process for making an aldehyde
US6797708B2 (en) 2001-12-03 2004-09-28 Wyeth Inhibitors of cytosolic phospholipase A2
US7129264B2 (en) * 2003-04-16 2006-10-31 Bristol-Myers Squibb Company Biarylmethyl indolines and indoles as antithromboembolic agents
US20070161698A1 (en) * 2003-05-30 2007-07-12 Microbia, Inc. Modulators of CRTH2 Activity
JP2007527397A (ja) * 2003-07-01 2007-09-27 マイクロバイア インコーポレイテッド Ｃｏｘ−２及びｆａａｈ阻害剤
US20070293542A1 (en) * 2003-10-16 2007-12-20 Cali Brian M Selective Cox-2 Inhibitors
US7417063B2 (en) * 2004-04-13 2008-08-26 Bristol-Myers Squibb Company Bicyclic heterocycles useful as serine protease inhibitors
US20050234244A1 (en) * 2004-04-20 2005-10-20 Wilmin Bartolini Synthesis of COX-2 and FAAH inhibitors
US20050234030A1 (en) * 2004-04-20 2005-10-20 Wilmin Bartolini Modulators of CRTH2, COX-2 and FAAH
TW200718687A (en) 2005-05-27 2007-05-16 Wyeth Corp Inhibitors of cytosolic phospholipase A2
US20070203209A1 (en) * 2005-08-18 2007-08-30 Wilmin Bartolini Useful indole compounds
EP1960356A2 (en) 2005-11-03 2008-08-27 Ilypsa, Inc. Multivalent indole compounds and use thereof as phospholipase-a2 inhibitors
EP1948602A2 (en) * 2005-11-03 2008-07-30 Ilypsa, Inc. Indole compounds having c4-amide substituents and use thereof as phospholipase-a2 inhibitors
US8048880B2 (en) * 2007-05-03 2011-11-01 Anthera Pharmaceuticals, Inc. Treatment of cardiovascular disease and dyslipidemia using secretory phospholipase A2 (SPLA2) inhibitors and SPLA2 inhibitor combination therapies
CN107233337A (zh) 2009-04-29 2017-10-10 阿马里纳药物爱尔兰有限公司 含有epa和心血管剂的药物组合物以及使用其的方法
CN105384619B (zh) * 2014-08-22 2020-05-29 四川海思科制药有限公司 一种异丙基苯酚衍生物及其制备方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2825734A (en) * 1955-04-11 1958-03-04 Upjohn Co Reduction of carbonylic radicals in indolyl-3 compounds
US2890223A (en) * 1956-03-22 1959-06-09 Research Corp 1-benzyl, 2-methyl, 5-methoxy tryptamine
US3242162A (en) * 1961-03-13 1966-03-22 Merck & Co Inc Indolyl aliphatic acids
US3242193A (en) * 1961-03-13 1966-03-22 Merck & Co Inc Indolyl aliphatic acids
US3242163A (en) * 1961-03-13 1966-03-22 Merck & Co Inc Indolyl aliphatic acids
US3196162A (en) * 1961-03-13 1965-07-20 Merck & Co Inc Indolyl aliphatic acids
US3271416A (en) * 1961-10-24 1966-09-06 Merck & Co Inc Indolyl aliphatic acids
US3259622A (en) * 1962-09-07 1966-07-05 Merck & Co Inc 1-benzyl-3-indolyl-alpha-haloalkyl and alkylidenyl acetic acids
US4428962A (en) * 1981-10-30 1984-01-31 Schering Corporation Indoles in treatment of peptic ulcers
WO1988005432A1 (fr) * 1987-01-23 1988-07-28 Yoshitomi Pharmaceutical Industries, Ltd. Compose de 5-hydroxyindole-3-carboxamide et son usage en medecine
US5145845A (en) * 1991-05-14 1992-09-08 Warner-Lambert Co. Substituted 2-carboxylindoles having pharmaceutical activity
IL109311A0 (en) * 1993-04-16 1994-07-31 Lilly Co Eli 1H-indole-3-acetamide sPla2 inhibitors

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998037069A1 (en) * 1997-02-20 1998-08-27 Shionogi & Co., Ltd. Indole dicarboxylic acid derivatives
JPH11322713A (ja) * 1998-04-17 1999-11-24 Eli Lilly & Co 置換三環式化合物
JPH11322745A (ja) * 1998-04-17 1999-11-24 Eli Lilly & Co 置換三環式化合物およびそれを含有する組成物
JP2000026416A (ja) * 1998-04-17 2000-01-25 Eli Lilly & Co 置換された三環式化合物
EP2044958A2 (en) 2001-03-19 2009-04-08 Shionogi & Co., Ltd. Pharmaceutical composition for treating arteriosclerosis
JP2009514959A (ja) * 2005-11-04 2009-04-09 アミラ ファーマシューティカルス，インコーポレーテッド ５−リポキシゲナーゼ活性化タンパク質（ｆｌａｐ）阻害剤

Also Published As

Publication number Publication date
CZ289750B6 (cs) 2002-03-13
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EP0620215B1 (en) 1999-08-18
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DE69420068D1 (de) 1999-09-23
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UA44218C2 (uk) 2002-02-15
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FI941767L (fi) 1994-10-17
AU5949294A (en) 1994-10-20
CN1098715A (zh) 1995-02-15
NZ260298A (en) 1996-05-28
ATE183503T1 (de) 1999-09-15

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