JPH07267933A - イミダゾール系化合物の製造方法 - Google Patents
イミダゾール系化合物の製造方法Info
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Abstract
ゾール化合物を製造する方法において、製造工程を簡素
化した量産に適する2−ジアルコキシメチルイミダゾー
ル化合物の製法を確立し、2−ホルミルイミダゾール化
合物を工業的に生産しうる方法を提供する。 【構成】 グリオキザールモノアセタール化合物、アン
モニア及びグリオキザール化合物を反応する方法、ある
いはグリオキザールモノアセタール化合物、アンモニ
ア、酢酸銅及びベンゾイルカルビノールアセテートを反
応させ、生成される銅錯体に硫化水素を反応させて2−
ジアルコキシメチルイミダゾール化合物を製造する。ま
たグリオキザールモノアセタール化合物、アンモニア及
びグリオキザール化合物の反応生成物に鉱酸を反応させ
て2−ホルミルイミダゾール化合物を製造する。
Description
用な2位にジアルコキシメチル基あるいはホルミル基を
有するイミダゾール系化合物の製造方法に関する。
法として、1−ベンジルイミダゾール化合物とブチルリ
チウムを反応させ、さらにジメチルホルムアミドを反応
させたのち、酸触媒の存在下でエタノールと反応させて
1−ベンジル−2−ジエトキシメチルイミダゾール化合
物とし、前記反応生成物に液体アンモニア及び金属ナト
リウムを反応させて、2−ジエトキシメチルイミダゾー
ル化合物を合成し、これに希塩酸を反応させて目的物を
製造する方法が知られている。(例えば、アクタ・ケミ
カ・スカンジナビカ、1966年、20巻、2649〜2657頁)
シメチルイミダゾール化合物を合成する過程において、
高価な原料を使用しなければならず、反応工程が多くし
かも極低温の処理を伴うので、工業的な製法として実用
に供し難いものであった。
製造する方法としては、例えば前記のアクタ・ケミカ・
スカンジナビカ、1966年、20巻、2649〜2657頁、特開平
1-131163号公報などに記載されているように、ブチルリ
チウムとイミダゾール化合物を反応させ、これにジメチ
ルホルムアルデヒドを反応させる方法、2−メチルイミ
ダゾール化合物をセレン酸化物を用いて酸化させる方
法、あるいは1−ベンジルイミダゾール化合物をホルマ
リンと反応させたのち、ベンジル基の脱保護によって得
られる2−ヒドロキシメチルイミダゾール化合物を、二
酸化マンガンを用いて酸化する方法などが知られてい
る。
応試薬を用いかつ反応工程が多く、極低温の処理を伴う
ため、工業的に実施しうる製法が希求されていた。
述の2−ジアルコキシメチルイミダゾール化合物を経由
して2−ホルミルイミダゾール化合物を製造するに当
り、2−ジアルコキシメチルイミダゾール化合物の製造
工程を簡素化し、工業的に2−ホルミルイミダゾール化
合物を合成する方法を提供することにある。
な問題を解決するため数多くの試験を繰り返した結果、
グリオキザールモノアセタール化合物とアンモニア及び
グリオキザール化合物を反応させるか、あるいはグリオ
キザールモノアセタール化合物、アンモニア、酢酸銅及
びベンゾイルカルビノールアセテートを反応させること
によって、反応工程を簡素化し安価に2−ジアルコキシ
メチルイミダゾール化合物を製造する方法を見い出し、
さらにはグリオキザールモノアセタール化合物、アンモ
ニア及びグリオキザール化合物を反応させ、その反応生
成物を単離精製することなく鉱酸と反応させれば、容易
に2−ホルミルイミダゾール化合物が合成できることを
知見して、これらの量産に適する製法を確立するに至っ
た。
ール化合物を製造する一つの方法は、 一般式 HCO
CH(OR)2 (式中、Rはアルキル基を表す)で
示されるグリオキザールモノアセタール化合物とアンモ
ニア及び 一般式 R4 COCR5 O (式中、R4 とR5 は水素原子またはアルキル基を表
す)で示されるグリオキザール化合物を反応させること
により、化4で示されるイミダゾール系化合物を製造す
る方法である。
合物とアンモニア及びグリオキザール化合物を反応させ
る方法は、グリオキザールモノアセタール化合物1モル
に対してグリオキザール化合物を0.8〜1.5モル、
好ましくは1.0〜1.2モル、またアンモニアを1.
5〜3.5モル、好ましくは2.0〜2.5モルになる
ように混合し、40〜90℃の温度で1〜10時間、好
ましくは50〜75℃の温度範囲で2〜5時間加熱して
反応させる。これを反応式で示すと化5のとおりであ
る。
ールモノアセタール化合物の代表的なものとしては、グ
リオキザールジメチルモノアセタール、グリオキザール
ジエチルモノアセタール、グリオキザールジプロピルモ
ノアセタール、グリオキザールジブチルモノアセター
ル、グリオキザールジペンチルモノアセタール及びグリ
オキザールジヘキシルモノアセタールなどであり、アン
モニアとしてはアンモニア水、酢酸アンモニウムあるい
は炭酸アンモニウムなどであり、またグリオキザール化
合物の代表的なものとしては、グリオキザール、メチル
グリオキザール及びジアセチルなどが挙げられる。
チルイミダゾール化合物を製造する他の方法は、グリオ
キザールモノアセタール化合物、アンモニア、酢酸銅及
びベンゾイルカルビノールアセテートを反応させ、生成
する銅錯体に硫化水素を反応させることにより、化6で
示すイミダゾール系化合物を合成する。
ンモニア、酢酸銅及びベンゾイルカルビノールアセテー
トを反応させる方法は、グリオキザールモノアセタール
化合物1モルに対してベンゾイルカルビノールアセテー
トを0.8〜1.5モル、好ましくは1.0〜1.3モ
ル、アンモニアを1.5〜5.0モル、好ましくは2.
0〜3.0モル、また酢酸銅を0.8〜2.0モル、好
ましくは1.0〜1.3モルになるように混合し、40
〜90℃の温度で1〜10時間、好ましくは50〜75
℃の温度範囲で2〜5時間加熱して反応させたのち、得
られた銅錯体に硫化水素を反応させてこれを分解するこ
とにより、2−ジアルコキシメチルイミダゾール化合物
が得られる。これを反応式によって示すと化7に示すと
おりである。
キザールモノアセタール化合物及びアンモニアは、前記
の方法で用いられるものと同じであり、硫化水素として
は、硫化水素ガスのほか、水硫化ナトリウムあるいは硫
化ナトリウムなどの硫化水素発生試剤が挙げられる。
て溶媒を併用することが可能であり、溶媒としてはメタ
ノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール
類、ジエチルケトン、モノグライム、ジグライム、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコール等
のエーテル類、ジメチルスルホキシドあるいは水などを
単独あるいは混合して使用することができる。
ノアセタール化合物、アンモニア及びグリオキザール化
合物を反応させ、生成した2−ジアルコキシメチルイミ
ダゾール化合物を単離精製せず、その反応混合物に鉱酸
を加えて反応させることにより、化8で示される2−ホ
ルミルイミダゾール系化合物が得られる。
表的なものとしては、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、シュウ
酸などがあり、出発原料であるグリオキザールモノアセ
タール化合物1モルに対して、これらの鉱酸を1.1〜
10.0モル、好ましくは3.0〜6.0モル加えたの
ち、室温〜100℃の温度で2〜5時間攪拌すれば良
い。
めには、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、重炭酸ナトリ
ウム、重炭酸カリウムあるいはこれら化合物の水溶液な
どが用いられる。この2−ホルミルイミダゾール系化合
物を合成する一連の反応は、化9に示す式のとおりであ
る。
説明する。 〔実施例1〕温度計、冷却器、攪拌機及び滴下ロートを
備えた四つ口フラスコに58%グリオキザールジメチル
モノアセタール水溶液32.4g(0.181モル) 、水60
ml及び25%アンモニア水30.0g(0.441モル) を
仕込み、攪拌下に65℃の温度で40%グリオキザール
水溶液27.4g(0.189モル) を約1時間かけて滴下し
た。滴下終了後、70℃の温度でさらに約3時間攪拌し
ながら反応させた。反応終了後、得られた反応混合物を
減圧下で濃縮し、析出した結晶をろ取し、この結晶を水
で再結晶し乾燥したところ、融点 120.0〜120.5 ℃の2
−ジメトキシメチルイミダゾール16.9gが得られ、
その収率は66%であった。
コに58%グリオキザールジメチルモノアセタール水溶
液32.4g(0.181モル) 水60ml及び25%アンモ
ニア水26.0ml(0.38 モル) を仕込み、攪拌下に6
8℃の温度で40.9%グリオキザール水溶液33.3
g(0.189モル) を約1時間かけて滴下した。滴下終了
後、70℃の温度で約3時間攪拌しながら反応させた。
反応終了後、得られた反応混合物を減圧下に蒸留して、
沸点が 120〜127 ℃(9mm/Hg の2−ジメトキシメチル−
4−メチルイミダゾール17.28gが得られ、その収
率は62%であった。
コに58%グリオキザールジメチルモノアセタール水溶
液16.2g(0.09 モル) 水30ml及び25%アンモ
ニア水13.0ml(0.19 モル) を仕込み、攪拌下に6
8℃の温度でジアセチル7.8g(0.09 モル) を約1時
間かけて滴下した。滴下終了後、70℃の温度で約3時
間攪拌しながら反応させた。反応終了後、得られた反応
混合物を減圧下で蒸留して、沸点が 124〜130 ℃(9mm/H
g の2−ジメトキシメチル−4,5−ジメチルイミダゾ
ール10.36gが得られ、その収率は68%であった。
備えた三つ口フラスコに、ベンゾイルカルビノールアセ
テート53g(0.3モル) 、58%グリオキザールモノメ
チルアセテート水溶液54g(0.3モル) 、25%アンモ
ニア水500ml、及び酢酸銅80g(0.4モル) を仕込
み、65℃の温度で約2時間攪拌下に反応させた。反応
終了後、析出した沈澱物をろ取し、この沈澱物に水50
0ml及び水硫化ナトリウム100gを加えて3時間攪
拌し、次いで5N塩酸500mlを加えてさらに室温で
1時間攪拌をした。析出した硫化銅を濾別し、5N水酸
化ナトリウム水溶液を用いて中和したのち、析出する結
晶を濾別し、乾燥して2−ジメトキシメチル−4−フエ
ニルイミダゾール42g(収率64%)を得た。本品の融
点は 152〜154 ℃であった。
コに58%グリオキザールジメチルモノアセタール水溶
液32.4g(0.181モル) 、水60ml及び25%アン
モニア水30.0g(0.441モル) を仕込み、攪拌下に6
5℃の温度で40%グリオキザール水溶液27.4g
(0.189モル) を約1時間かけて滴下した。滴下終了後、
70℃の温度で約3時間攪拌下に反応させ、次いで濃硫
酸10mlを加え、攪拌下に約3時間加熱還流した。そ
の後反応混合物を冷却し、これに炭酸カリウム水溶液を
加えて中和し、減圧下で濃縮し析出する結晶を濾別し、
水を用いて再結晶したところ、2−ホルミルイミダゾー
ル11.9g(収率69%)が得られた。本品の融点は2
09℃であった。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式 HCOCH(OR)2 (式中、Rはアルキル基を表す)で示されるグリオキザ
ールモノアセタール化合物とアンモニア及び 一般式 R4 COCR5 O (式中、R4 とR5 は水素原子またはアルキル基を表
す)で示されるグリオキザール化合物を反応させること
を特徴とする化1で示されるイミダゾール系化合物の製
造方法。 【化1】 - 【請求項2】 一般式 HCOCH(OR)2 (式中、Rはアルキル基を表す)で示されるグリオキザ
ールモノアセタール化合物、アンモニア、酢酸銅及びベ
ンゾイルカルビノールアセテートを反応させ、生成する
銅錯体に硫化水素を反応させることを特徴とする化2で
示されるイミダゾール系化合物の製造方法。 【化2】 - 【請求項3】 一般式 HCOCH(OR)2 (式中、Rはアルキル基を表す)で示されるグリオキザ
ールモノアセタール化合物とアンモニア及び 一般式 R4 COCR5 O (式中、R4 とR5 は水素原子またはアルキル基を表
す)で示されるグリオキザール化合物を反応させ、その
反応生成物を単離精製することなく鉱酸と反応させるこ
とを特徴とする化3で示されるイミダゾール系化合物の
製造方法。 【化3】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6083892A JP2843499B2 (ja) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | イミダゾール系化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6083892A JP2843499B2 (ja) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | イミダゾール系化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07267933A true JPH07267933A (ja) | 1995-10-17 |
| JP2843499B2 JP2843499B2 (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=13815300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6083892A Expired - Lifetime JP2843499B2 (ja) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | イミダゾール系化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2843499B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002308852A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-23 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | ホルミルイミダゾール類の製造方法 |
| JP2010070479A (ja) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Shikoku Chem Corp | 4−アリール−2−(1−ナフチルメチル)イミダゾール化合物 |
| JP2010070535A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Shikoku Chem Corp | 2−ベンジル−4,5−ジフェニルイミダゾール化合物 |
| JP2010077071A (ja) * | 2008-09-26 | 2010-04-08 | Shikoku Chem Corp | 2−アルキル−4−(3,4−ジクロロフェニル)−5−メチルイミダゾール化合物 |
| JP2015209502A (ja) * | 2014-04-25 | 2015-11-24 | 株式会社Adeka | 硬化剤、およびこれを用いた硬化性樹脂組成物 |
-
1994
- 1994-03-29 JP JP6083892A patent/JP2843499B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2010070479A (ja) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Shikoku Chem Corp | 4−アリール−2−(1−ナフチルメチル)イミダゾール化合物 |
| JP2010070535A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-04-02 | Shikoku Chem Corp | 2−ベンジル−4,5−ジフェニルイミダゾール化合物 |
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| JP2015209502A (ja) * | 2014-04-25 | 2015-11-24 | 株式会社Adeka | 硬化剤、およびこれを用いた硬化性樹脂組成物 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2843499B2 (ja) | 1999-01-06 |
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