JPH072687A - 抗齲蝕剤及び抗菌活性物質 - Google Patents
抗齲蝕剤及び抗菌活性物質Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】口腔内のストレプトコッカス属の増殖を有効に
抑制することができる。 【構成】マメ科に属するソフォラ・エクシグア抽出物を
有効成分とする。ソフォラ・エクシグア抽出物から単離
された下記構造の5,7,2′,4′−テトラヒドロキ
シ−8−ラバンドリルフラバノンを有効成分とする。
抑制することができる。 【構成】マメ科に属するソフォラ・エクシグア抽出物を
有効成分とする。ソフォラ・エクシグア抽出物から単離
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シ−8−ラバンドリルフラバノンを有効成分とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、齲蝕予防及び治療に
用いることができる植物抽出物の抗齲蝕剤及び抗菌活性
物質に関する。
用いることができる植物抽出物の抗齲蝕剤及び抗菌活性
物質に関する。
【0002】
【従来の技術】齲蝕(虫歯)は、歯周病と共に歯科医学
における2大疾患である。齲蝕発症の主因は歯垢中の種
々の細菌によるものであり、また歯周疾患の発症は歯垢
の発達に基づく。これら口腔内齲蝕原性細菌及び歯垢形
成細菌に対する抗菌剤を用いた齲蝕の予防や歯垢形成の
抑制は、疾患そのものの歯科的治療と並んできわめて重
要である。
における2大疾患である。齲蝕発症の主因は歯垢中の種
々の細菌によるものであり、また歯周疾患の発症は歯垢
の発達に基づく。これら口腔内齲蝕原性細菌及び歯垢形
成細菌に対する抗菌剤を用いた齲蝕の予防や歯垢形成の
抑制は、疾患そのものの歯科的治療と並んできわめて重
要である。
【0003】齲蝕の原性細菌及び歯垢形成細菌として重
要な役割を演じているのは、口腔連鎖球菌であるストレ
プトコッカス属の各種の細菌であるが、従来、この抗菌
剤として、クロルヘキシジン、塩化ベンザルコニウム等
の殺菌剤や、テトラサイクリン、ペニシンリン等の抗生
物質が効果的であることが知られている。また特公昭6
3−10133号はケルセチン、ケンフェロール等が、
特開昭60−169413号は紫根に含まれているシコ
ニンが、特開昭62−210952号はクリシンが齲蝕
の予防及び治療に効果的であることを開示している。
要な役割を演じているのは、口腔連鎖球菌であるストレ
プトコッカス属の各種の細菌であるが、従来、この抗菌
剤として、クロルヘキシジン、塩化ベンザルコニウム等
の殺菌剤や、テトラサイクリン、ペニシンリン等の抗生
物質が効果的であることが知られている。また特公昭6
3−10133号はケルセチン、ケンフェロール等が、
特開昭60−169413号は紫根に含まれているシコ
ニンが、特開昭62−210952号はクリシンが齲蝕
の予防及び治療に効果的であることを開示している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしクロルヘキシジ
ンや塩化ベンザルコニウム等の殺菌剤及びテトラサイク
リン、ペニシンリン等の抗生物質は、抗菌作用は優れて
いるが、副作用の危険が指摘されていることから、でき
れば植物抽出物又は植物から抽出された物質を使用する
ことが好ましい。
ンや塩化ベンザルコニウム等の殺菌剤及びテトラサイク
リン、ペニシンリン等の抗生物質は、抗菌作用は優れて
いるが、副作用の危険が指摘されていることから、でき
れば植物抽出物又は植物から抽出された物質を使用する
ことが好ましい。
【0005】ただケルセチン、ケンフェロール等は、歯
面におけるグルコースポリマーの歯垢形成の抑制とグル
コースポリマーの合成阻害を主眼としており、ストレプ
トコッカス・ミュータンス(Streptococcus mutans) の
増殖を直接抑止する抗菌活性が乏しいため、良好な抗菌
作用は発揮し難い。また紫根に含まれているシコニン
や、クリシンも、ストレプトコッカス属の各種細菌に対
しては必ずしも良好な抗菌作用を発揮するものでもな
い。
面におけるグルコースポリマーの歯垢形成の抑制とグル
コースポリマーの合成阻害を主眼としており、ストレプ
トコッカス・ミュータンス(Streptococcus mutans) の
増殖を直接抑止する抗菌活性が乏しいため、良好な抗菌
作用は発揮し難い。また紫根に含まれているシコニン
や、クリシンも、ストレプトコッカス属の各種細菌に対
しては必ずしも良好な抗菌作用を発揮するものでもな
い。
【0006】この発明の目的は、口腔内のストレプトコ
ッカス属の増殖を有効に抑制することができる植物抽出
物の抗齲蝕剤及び抗菌活性物質を提供する点にある。
ッカス属の増殖を有効に抑制することができる植物抽出
物の抗齲蝕剤及び抗菌活性物質を提供する点にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】ところで、口腔は細菌の
貯留部位で、歯垢1g中にはおよそ200菌種、1千億
個以上もの細菌が生息している。その細菌叢の中では特
にストレプトコッカス(Streptococcus )属が大きな割
合を占め、歯垢の形成とそれに続く齲蝕や歯周病の発症
に重要な役割を演じている。
貯留部位で、歯垢1g中にはおよそ200菌種、1千億
個以上もの細菌が生息している。その細菌叢の中では特
にストレプトコッカス(Streptococcus )属が大きな割
合を占め、歯垢の形成とそれに続く齲蝕や歯周病の発症
に重要な役割を演じている。
【0008】口腔内ストレプトコッカス(Streptococcu
s )属には、通常、嫌気性のストレプトコッカス・ミュ
ータンス(Streptococcus mutans) をはじめとして、ス
トレプトコッカス・ラトゥス(Streptococcus rattu
s)、ストレプトコッカス・クリセトゥス(Streptococc
us cricetus)、ストレプトコッカス・オラリス(Strep
tococcus oralis)、ストレプトコッカス・サングゥイ
ス(Streptococcus sanguis)、ストレプトコッカス・ミ
ティス(Streptococcus mitis )、ストレプトコッカス
・ゴルドニィ(Streptococcus gordonii)、ストレプト
コッカス・ピオゲネス(Streptococcus pyogenes)及び
ストレプトコッカス・サリバリウス(Streptococcus sa
livarius)があり、ほとんどが歯面上の歯垢内に生息
し、齲蝕と深い関連性をもっている。
s )属には、通常、嫌気性のストレプトコッカス・ミュ
ータンス(Streptococcus mutans) をはじめとして、ス
トレプトコッカス・ラトゥス(Streptococcus rattu
s)、ストレプトコッカス・クリセトゥス(Streptococc
us cricetus)、ストレプトコッカス・オラリス(Strep
tococcus oralis)、ストレプトコッカス・サングゥイ
ス(Streptococcus sanguis)、ストレプトコッカス・ミ
ティス(Streptococcus mitis )、ストレプトコッカス
・ゴルドニィ(Streptococcus gordonii)、ストレプト
コッカス・ピオゲネス(Streptococcus pyogenes)及び
ストレプトコッカス・サリバリウス(Streptococcus sa
livarius)があり、ほとんどが歯面上の歯垢内に生息
し、齲蝕と深い関連性をもっている。
【0009】これらミュータンス連鎖球菌グループの病
原性は、食餌中の糖分から粘着性のグルコースポリマー
を産生して歯牙表面に強固に付着する能力、食餌性及び
内因性の糖分を代謝して乳酸をはじめとする種々の有機
酸を産生する能力、産生した有機酸による酸性条件下で
も増殖できる能力に帰することができる。特にストレプ
トコッカス・サングウィス(Streptococcus sanguis
)、ストレプトコッカス・オラリス(Streptococcus o
ralis)及びストレプトコッカス・ゴルドニィ(Strepto
coccus gordonii)はグルコースポリマーを産生し、初
期歯垢形成に関与している。更にストレプトコッカス・
サリバリウス(Streptococcus salivarius)及びストレ
プトコッカス・ミティス(Streptococcus mitis )は、
舌や頬粘膜に優勢に分布して、ミュータンス連鎖球菌の
細菌叢形成、ひいては歯垢形成、齲蝕発症に関与してい
る。すなわちこれらの菌種は、いずれも他菌種の口腔内
細菌と活発に結合するため、歯牙や粘膜に直接付着する
能力を本来持たない菌種をも歯垢内に組み込む。
原性は、食餌中の糖分から粘着性のグルコースポリマー
を産生して歯牙表面に強固に付着する能力、食餌性及び
内因性の糖分を代謝して乳酸をはじめとする種々の有機
酸を産生する能力、産生した有機酸による酸性条件下で
も増殖できる能力に帰することができる。特にストレプ
トコッカス・サングウィス(Streptococcus sanguis
)、ストレプトコッカス・オラリス(Streptococcus o
ralis)及びストレプトコッカス・ゴルドニィ(Strepto
coccus gordonii)はグルコースポリマーを産生し、初
期歯垢形成に関与している。更にストレプトコッカス・
サリバリウス(Streptococcus salivarius)及びストレ
プトコッカス・ミティス(Streptococcus mitis )は、
舌や頬粘膜に優勢に分布して、ミュータンス連鎖球菌の
細菌叢形成、ひいては歯垢形成、齲蝕発症に関与してい
る。すなわちこれらの菌種は、いずれも他菌種の口腔内
細菌と活発に結合するため、歯牙や粘膜に直接付着する
能力を本来持たない菌種をも歯垢内に組み込む。
【0010】このように、口腔内ストレプトコッカス
(Streptococcus )属の特性は、齲蝕原性或は歯垢形成
能にある。一方、無歯顎患者ではこのストレプトコッカ
ス属は減少するか或は検出されなくなるが、義歯(入
歯)装着によって再び増加する。義歯に付着するストレ
プトコッカス属は、義歯性口内炎の原因微生物、カンデ
ィダ アルビカンズ(Candida albicans)の付着を促進
する。またストレプトコッカス属の一部の菌種は、心内
膜炎や川崎病などの発症との関連性も指摘されている。
(Streptococcus )属の特性は、齲蝕原性或は歯垢形成
能にある。一方、無歯顎患者ではこのストレプトコッカ
ス属は減少するか或は検出されなくなるが、義歯(入
歯)装着によって再び増加する。義歯に付着するストレ
プトコッカス属は、義歯性口内炎の原因微生物、カンデ
ィダ アルビカンズ(Candida albicans)の付着を促進
する。またストレプトコッカス属の一部の菌種は、心内
膜炎や川崎病などの発症との関連性も指摘されている。
【0011】従って、口腔内のストレプトコッカス属の
主要細菌の増殖を抑制することは、歯垢形成と齲蝕の発
生を低減させるばかりでなく、歯垢発達に起因する歯周
疾患及び口内炎の発症予防、さらには全身性の感染証の
予防にも役立つ。
主要細菌の増殖を抑制することは、歯垢形成と齲蝕の発
生を低減させるばかりでなく、歯垢発達に起因する歯周
疾患及び口内炎の発症予防、さらには全身性の感染証の
予防にも役立つ。
【0012】そこで上記目的を達成するため鋭意検討し
た結果、ソフォラ・エクシグア抽出物を主成分とする抗
齲蝕剤が、口腔内のストレプトコッカス属の主要細菌の
増殖を有効に抑止する効果をもつことを見出した。
た結果、ソフォラ・エクシグア抽出物を主成分とする抗
齲蝕剤が、口腔内のストレプトコッカス属の主要細菌の
増殖を有効に抑止する効果をもつことを見出した。
【0013】またさらに検討した結果、ソフォラ・エク
シグア抽出物の中でも特に下記構造式の5,7,2′,
6′−テトラヒドロキシ−8−ラバンドリルフラバノン
(「エクシグアフラバノンA」と呼ぶ。)を有効成分と
する物質が抗菌活性を良好に発揮することを見出した。
シグア抽出物の中でも特に下記構造式の5,7,2′,
6′−テトラヒドロキシ−8−ラバンドリルフラバノン
(「エクシグアフラバノンA」と呼ぶ。)を有効成分と
する物質が抗菌活性を良好に発揮することを見出した。
【0014】
【化3】
【0015】また下記構造式の5,7,2′,4′−テ
トラヒドロキシ−8−ラバンドリルフラバノン(「ソフ
ォラフラバノンG」と呼ぶ。)を有効成分とする物質も
抗菌活性を良好に発揮することを見出した。
トラヒドロキシ−8−ラバンドリルフラバノン(「ソフ
ォラフラバノンG」と呼ぶ。)を有効成分とする物質も
抗菌活性を良好に発揮することを見出した。
【0016】
【化4】
【0017】これらはいずれも各種の菌体に対する発育
阻止作用を顕著に発揮している。
阻止作用を顕著に発揮している。
【0018】ところでソフォラ・エクシグア(Sophra e
xigua )は、マメ科植物に属し、主に東南アジアに自生
する小低木であり、同属の植物は中国で古くから広豆根
と称され、消炎抗腫瘍活性がある生薬として用いられて
いる。ソフォラ・エクシグアは、その木、葉、花などを
使用することもできるが、齲蝕原性菌等の増殖を有効に
阻止する抗菌物質が多量に含まれている根部を用いるこ
とが特に好ましい。
xigua )は、マメ科植物に属し、主に東南アジアに自生
する小低木であり、同属の植物は中国で古くから広豆根
と称され、消炎抗腫瘍活性がある生薬として用いられて
いる。ソフォラ・エクシグアは、その木、葉、花などを
使用することもできるが、齲蝕原性菌等の増殖を有効に
阻止する抗菌物質が多量に含まれている根部を用いるこ
とが特に好ましい。
【0019】ソフォラ・エクシグア抽出物は、水、メチ
ルアルコール、エチルアルコール、アセトン、酢酸エチ
ルエステル、ベンゼン、エチルエーテル、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、n−ヘキサン等の溶媒を単独又は任
意の順序で組み合わせ、又は反復して得られる。
ルアルコール、エチルアルコール、アセトン、酢酸エチ
ルエステル、ベンゼン、エチルエーテル、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、n−ヘキサン等の溶媒を単独又は任
意の順序で組み合わせ、又は反復して得られる。
【0020】
【実施例】ソフォラ・エクシグアの根部120gを粉砕
した後、クロロホルム0.5リットルで抽出し、その一
部をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(50mmφ×
500mm)に付し、クロロホルム−メタノール混液(1
0:1)で展開してフラクションFr1〜4の抽出エキ
スを得た。
した後、クロロホルム0.5リットルで抽出し、その一
部をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(50mmφ×
500mm)に付し、クロロホルム−メタノール混液(1
0:1)で展開してフラクションFr1〜4の抽出エキ
スを得た。
【0021】得られたフラクションFr1〜4の抽出エ
キスについて、齲蝕に関与している主要なストレプトコ
ッカスに対する一定濃度(125μg/ml)における
抗菌活性を測定した。抗菌活性は化学療法学会標準法に
準じて寒天平板法で行った。対照株菌としてはE.coli
(ATCC 25922)を用いた。なお培地は、ストレプトコッ
カスおよびE.coli とも、ミュラーヒントン(muler hin
ton)培地に0.5%酵母抽出物と0.5%グルコースを
添加したものを使用した。培養は、37℃嫌気的(気
相、N2 80%、H2 10%、CO2 10%、Ana-erob
ic glove box、AZ型平沢)に3〜5日間行った。
キスについて、齲蝕に関与している主要なストレプトコ
ッカスに対する一定濃度(125μg/ml)における
抗菌活性を測定した。抗菌活性は化学療法学会標準法に
準じて寒天平板法で行った。対照株菌としてはE.coli
(ATCC 25922)を用いた。なお培地は、ストレプトコッ
カスおよびE.coli とも、ミュラーヒントン(muler hin
ton)培地に0.5%酵母抽出物と0.5%グルコースを
添加したものを使用した。培養は、37℃嫌気的(気
相、N2 80%、H2 10%、CO2 10%、Ana-erob
ic glove box、AZ型平沢)に3〜5日間行った。
【0022】表1はその結果を示している。表中、
(+)は抗菌活性が認められることを表し、(−)は抗
菌活性が認められないことを表している。
(+)は抗菌活性が認められることを表し、(−)は抗
菌活性が認められないことを表している。
【0023】
【表1】
【0024】表1から、フラクションFr4の抽出エキ
スに、主要なストレプトコッカスに対する抗菌活性が認
められたので、さらにその活性の強度を評価するため
に、フラクションFr4の抽出エキスについて、前記と
同様に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(50mm
φ×500mm)に付し、クロロホルム−メタノール混液
(10:1)で展開してフラクションFr4−1〜4−
6の抽出エキスを得た。得られたフラクションFr4−
1〜4−6の抽出エキスについて、今度は、濃度50μ
g/mlで抗菌活性を測定した。試験方法は前記と同様
である。表2にその結果を示す。(+)は抗菌活性が認
められ、(−)は抗菌活性が認められないことを表して
いる。
スに、主要なストレプトコッカスに対する抗菌活性が認
められたので、さらにその活性の強度を評価するため
に、フラクションFr4の抽出エキスについて、前記と
同様に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(50mm
φ×500mm)に付し、クロロホルム−メタノール混液
(10:1)で展開してフラクションFr4−1〜4−
6の抽出エキスを得た。得られたフラクションFr4−
1〜4−6の抽出エキスについて、今度は、濃度50μ
g/mlで抗菌活性を測定した。試験方法は前記と同様
である。表2にその結果を示す。(+)は抗菌活性が認
められ、(−)は抗菌活性が認められないことを表して
いる。
【0025】
【表2】
【0026】表2より、フラクションFr4−1に中程
の、フラクションFr4−2及びFr4−3に強い活性
が認められた。
の、フラクションFr4−2及びFr4−3に強い活性
が認められた。
【0027】そこで、これらのフラクションについてさ
らに低濃度(6.25μg/mlと25.0μg/m
l)で各種ストレプトコッカスについて検討を加えたと
ころ、次表に示す様に、特にフラクションFr4−2に
は、6.25μg/mlにおいても抗菌活性が認められ
た。
らに低濃度(6.25μg/mlと25.0μg/m
l)で各種ストレプトコッカスについて検討を加えたと
ころ、次表に示す様に、特にフラクションFr4−2に
は、6.25μg/mlにおいても抗菌活性が認められ
た。
【0028】
【表3】
【0029】従ってソフォラ・エクシグア根部に含まれ
る抗齲蝕効果物質がフラクションFr4−2に局在して
いることがわかったので、同フラクション中に含まれて
いる化合物の単離とその構造決定を行った。
る抗齲蝕効果物質がフラクションFr4−2に局在して
いることがわかったので、同フラクション中に含まれて
いる化合物の単離とその構造決定を行った。
【0030】上記ソフォラ・エクシグア根部のクロロホ
ルム抽出物40gを、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(50mmφ×500mm)に層積し、n-ヘキサン−ア
セトン(15:1)で展開させ、順次展開溶媒のアセト
ンの含量を増加させながら、展開を続けた。各フラクシ
ョンは、500mlずつ分取し濃縮した。この様にして得
たフラクションについて、薄層クロマトグラフィーで、
先のフラクションFr4−2を基準物質として、含有成
分の類似しているフラクションを集め、再びカラムクロ
マトグラフィー(30mmφ×500mm)にて展開溶媒で
あるn-ヘキサン−アセトンの混液(10:1)を用いて
精製し、化合物1(Fr4−2−1)、化合物2(Fr
4−2−2)及び化合物3(Fr4−2−3)をそれぞ
れ純粋な形で単離した。
ルム抽出物40gを、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(50mmφ×500mm)に層積し、n-ヘキサン−ア
セトン(15:1)で展開させ、順次展開溶媒のアセト
ンの含量を増加させながら、展開を続けた。各フラクシ
ョンは、500mlずつ分取し濃縮した。この様にして得
たフラクションについて、薄層クロマトグラフィーで、
先のフラクションFr4−2を基準物質として、含有成
分の類似しているフラクションを集め、再びカラムクロ
マトグラフィー(30mmφ×500mm)にて展開溶媒で
あるn-ヘキサン−アセトンの混液(10:1)を用いて
精製し、化合物1(Fr4−2−1)、化合物2(Fr
4−2−2)及び化合物3(Fr4−2−3)をそれぞ
れ純粋な形で単離した。
【0031】単離した化合物1、2及び3について、各
種ストレプトコッカスについて最小発育阻止濃度(MI
C)を求めた。表4にその詳細な結果を示す。なお最小
発育阻止濃度(MIC)は、前記の抗菌活性試験と同条
件で行った。また比較のため抗生物質として、テトラサ
イクリン、ペニシンリンG、エリスリロマイシン、天然
抽出物質及び殺菌剤として、ケルセチン、シコニン、ク
リシン、クロルヘキシジンについても評価した。それぞ
れ表5及び表6に示す。
種ストレプトコッカスについて最小発育阻止濃度(MI
C)を求めた。表4にその詳細な結果を示す。なお最小
発育阻止濃度(MIC)は、前記の抗菌活性試験と同条
件で行った。また比較のため抗生物質として、テトラサ
イクリン、ペニシンリンG、エリスリロマイシン、天然
抽出物質及び殺菌剤として、ケルセチン、シコニン、ク
リシン、クロルヘキシジンについても評価した。それぞ
れ表5及び表6に示す。
【0032】
【表4】
【0033】
【表5】
【0034】
【表6】
【0035】表4、表5および表6より、従来のケルセ
チン、シコニン、クリシンが50或は100μg/ml
以上であるのに対して、本実施例の化合物は、化合物1
が幾分抗菌活性が乏しかったものの、化合物2及び3は
概ね12.5〜3.13μg/mlとなり、殺菌剤であ
るクロルヘキシジンにかなり近い抗菌活性が認められ
た。テトラサイクリン、ペニシンリンG、エリスリロマ
イシンなどの抗生物質と比較すれば、抗菌活性は弱い
が、抗生物質及び殺菌剤のもつ副作用の点を考えると、
本実施例の化合物が優れた抗菌活性を発揮していること
が認められる。
チン、シコニン、クリシンが50或は100μg/ml
以上であるのに対して、本実施例の化合物は、化合物1
が幾分抗菌活性が乏しかったものの、化合物2及び3は
概ね12.5〜3.13μg/mlとなり、殺菌剤であ
るクロルヘキシジンにかなり近い抗菌活性が認められ
た。テトラサイクリン、ペニシンリンG、エリスリロマ
イシンなどの抗生物質と比較すれば、抗菌活性は弱い
が、抗生物質及び殺菌剤のもつ副作用の点を考えると、
本実施例の化合物が優れた抗菌活性を発揮していること
が認められる。
【0036】また前記抽出物であっても、従来のケルセ
チン、シコニン、クリシンと同等又はそれ以上の抗菌活
性を発揮しており、生産性も大きいといえる。
チン、シコニン、クリシンと同等又はそれ以上の抗菌活
性を発揮しており、生産性も大きいといえる。
【0037】化合物2及び3の構造は、以下の通り、各
種機器スペクトルデータの解析により、化合物1につい
ては5,7,2′,6′−テトラヒドロキシ−8−ラバ
ンドリルフラバノン(「エクシグアフラバノンA」)、
化合物2については5,7,2′,4′−テトラヒドロ
キシ−8−ラバンドリルフラバノン(「ソフォラフラバ
ノンG」)と決定した。
種機器スペクトルデータの解析により、化合物1につい
ては5,7,2′,6′−テトラヒドロキシ−8−ラバ
ンドリルフラバノン(「エクシグアフラバノンA」)、
化合物2については5,7,2′,4′−テトラヒドロ
キシ−8−ラバンドリルフラバノン(「ソフォラフラバ
ノンG」)と決定した。
【0038】5,7,2′,6′−テトラヒドロキシ−
8−ラバンドリルフラバノン(エクシグアフラバノン
A) 融点 175〜178℃(クロロホルム−ヘキサン)、
無色針状晶 電子衝撃イオン化質量分析スペクトル(EIMS) m
/z(相対強度):424(70),406(4),301(78),283(84),2
09(12),165(100) 高分解能電子衝撃イオン化質量分析スペクトル(HRM
S):424.1877(C25H2806 からの計算値 424.1886
) 円二色性スペクトル(CD)(Δε、メチルアルコー
ル):289(-14.0),333(+1.5) 紫外線吸収スペクトル(UV)λmax nm( logε):
293(4.5),340(3.9), +NaOCH3 :333;+AlCl3 :315,392;+A
lCl3 -HCl:315,392; +NaOCOCH3 :293,340 プロトン−核磁気共鳴スペクトル( 1H−NMR)(C
DCl3 )δ:1.49(3H,br s.7"- CH3 ),1.56(3h,br s,
6"-CH3 ),1.64(3H,br s,10"- CH3),2.08(2H,m,H-3"),2.
55(1H,m,H-2"),2.67(2H,m,H-1"),2.77(1H,dd,J=17.2,2.
9 Hz,H-3"),3.07(1H,dd,J=17.2,13.2 Hz,H-3),4.60(2H,
br s,H-9"),5.02(1H,m,H-4"),5.68(1H,dd,J=13.2,2.9 H
z,H-2),6.01(1H,s,H-6),6.42-6.48(2H,m,H-3',5'),7.40
(1H,d,J=8.1 Hz,H-6'),8.36,8.63,9.51(1H,each s,OH),
12.19(1H,s, C5 -OH) カーボン13−核磁気共鳴スペクトル(13C−NMR)
(アセトン-d6 )δ:718.3(q,C-7"),19.6(q,C-10"),2
6.3(q,C-6"),28.2(t,C-1"),32.4(t,C-3"),43.3(t,C-3),
48.3(d,C-2"),75.8(d,C-2),96.7(d,C-6),103.7(s,C-1
0),103.9(d,C-8,3'),111.6(t,C-9"),118.3(s,C-5'),12
4.9(d,C-4"),129.1(d,C-6'),132.1(s,C-5"),149.6(s,C-
8"),156.6(s,C-2'),159.9(s,C-4'),162.6(s,C-9),163.5
(s,C-5),165.8(s,C-7),198.7(s,C-4)
8−ラバンドリルフラバノン(エクシグアフラバノン
A) 融点 175〜178℃(クロロホルム−ヘキサン)、
無色針状晶 電子衝撃イオン化質量分析スペクトル(EIMS) m
/z(相対強度):424(70),406(4),301(78),283(84),2
09(12),165(100) 高分解能電子衝撃イオン化質量分析スペクトル(HRM
S):424.1877(C25H2806 からの計算値 424.1886
) 円二色性スペクトル(CD)(Δε、メチルアルコー
ル):289(-14.0),333(+1.5) 紫外線吸収スペクトル(UV)λmax nm( logε):
293(4.5),340(3.9), +NaOCH3 :333;+AlCl3 :315,392;+A
lCl3 -HCl:315,392; +NaOCOCH3 :293,340 プロトン−核磁気共鳴スペクトル( 1H−NMR)(C
DCl3 )δ:1.49(3H,br s.7"- CH3 ),1.56(3h,br s,
6"-CH3 ),1.64(3H,br s,10"- CH3),2.08(2H,m,H-3"),2.
55(1H,m,H-2"),2.67(2H,m,H-1"),2.77(1H,dd,J=17.2,2.
9 Hz,H-3"),3.07(1H,dd,J=17.2,13.2 Hz,H-3),4.60(2H,
br s,H-9"),5.02(1H,m,H-4"),5.68(1H,dd,J=13.2,2.9 H
z,H-2),6.01(1H,s,H-6),6.42-6.48(2H,m,H-3',5'),7.40
(1H,d,J=8.1 Hz,H-6'),8.36,8.63,9.51(1H,each s,OH),
12.19(1H,s, C5 -OH) カーボン13−核磁気共鳴スペクトル(13C−NMR)
(アセトン-d6 )δ:718.3(q,C-7"),19.6(q,C-10"),2
6.3(q,C-6"),28.2(t,C-1"),32.4(t,C-3"),43.3(t,C-3),
48.3(d,C-2"),75.8(d,C-2),96.7(d,C-6),103.7(s,C-1
0),103.9(d,C-8,3'),111.6(t,C-9"),118.3(s,C-5'),12
4.9(d,C-4"),129.1(d,C-6'),132.1(s,C-5"),149.6(s,C-
8"),156.6(s,C-2'),159.9(s,C-4'),162.6(s,C-9),163.5
(s,C-5),165.8(s,C-7),198.7(s,C-4)
【0039】5,7,2′,4′−テトラヒドロキシ−
8−ラバンドリルフラバノン(ソフォラフラバノンG) 融点 178.5〜179℃(ヘキサン)、無色針状晶 電子衝撃イオン化質量分析スペクトル(EIMS) m
/z(相対強度):424(11),301(100),283(93),165(7
3),136(4) 高分解能電子衝撃イオン化質量分析スペクトル(HRM
S)m/z:[M]+ 424.1917(C25H2806 からの計
算値 424.1886 ) 円二色性スペクトル(CD)(Δε、メチルアルコー
ル):273(-7.3),303(+3.1) 紫外線吸収スペクトル(UV)λmax nm:292,338;+A
lCl3 :314,392 プロトン−核磁気共鳴スペクトル( 1H−NMR)(ア
セトン−d6 )δ:1.48(3H,br s.7"- CH3 ),1.54(3h,b
r s,6"-CH3 ),1.61(3H,br s,10"- CH3),2.08(2H,m,H-
3"),2.54(1H,dd,J=17,3Hz,H-3eq),2.56-2.60(3H,m,H-
1",2"),3.87(1H,dd,J=17,14 Hz,H-3ax),4.55(2H,br s,H
-9"),4.98(1H,t like,H-4"),6.01(1H,s,H-6),6.02(1H,d
d,J=14,3 Hz,H-2),6.47(2H,d,J=8 Hz,H-3',5'),7.05(1
H,t,J=8 Hz,H-4'),8.50(2H,br s,C2.6 -OH),9.45(1H,br
s C7 -OH),12.27(1H,s, C5 -OH),12.27(1H,s, C5 -O
H) カーボン13−核磁気共鳴スペクトル(13C−NMR)
(アセトン-d6 )δ:18.3(C-6"),19.6(C-10"),26.3(C-
7"),28.3(C-1"),32.5(C-3"),41.2(C-3"),48.4(C-2"),7
4.3(C-2), 96.8(C-6),103.8(C-10),108.4(C-8),108.9(C
-C-3',5'),111.6(C-9"),112.4(C-1'),125.0(C-4"),131.
3(C-4'),132.1(C-5"),148.7(C-8"),158.2(C-2',6'),16
2.8(C-9),163.7(C-5),165.7(C-7),199.2(C-4)
8−ラバンドリルフラバノン(ソフォラフラバノンG) 融点 178.5〜179℃(ヘキサン)、無色針状晶 電子衝撃イオン化質量分析スペクトル(EIMS) m
/z(相対強度):424(11),301(100),283(93),165(7
3),136(4) 高分解能電子衝撃イオン化質量分析スペクトル(HRM
S)m/z:[M]+ 424.1917(C25H2806 からの計
算値 424.1886 ) 円二色性スペクトル(CD)(Δε、メチルアルコー
ル):273(-7.3),303(+3.1) 紫外線吸収スペクトル(UV)λmax nm:292,338;+A
lCl3 :314,392 プロトン−核磁気共鳴スペクトル( 1H−NMR)(ア
セトン−d6 )δ:1.48(3H,br s.7"- CH3 ),1.54(3h,b
r s,6"-CH3 ),1.61(3H,br s,10"- CH3),2.08(2H,m,H-
3"),2.54(1H,dd,J=17,3Hz,H-3eq),2.56-2.60(3H,m,H-
1",2"),3.87(1H,dd,J=17,14 Hz,H-3ax),4.55(2H,br s,H
-9"),4.98(1H,t like,H-4"),6.01(1H,s,H-6),6.02(1H,d
d,J=14,3 Hz,H-2),6.47(2H,d,J=8 Hz,H-3',5'),7.05(1
H,t,J=8 Hz,H-4'),8.50(2H,br s,C2.6 -OH),9.45(1H,br
s C7 -OH),12.27(1H,s, C5 -OH),12.27(1H,s, C5 -O
H) カーボン13−核磁気共鳴スペクトル(13C−NMR)
(アセトン-d6 )δ:18.3(C-6"),19.6(C-10"),26.3(C-
7"),28.3(C-1"),32.5(C-3"),41.2(C-3"),48.4(C-2"),7
4.3(C-2), 96.8(C-6),103.8(C-10),108.4(C-8),108.9(C
-C-3',5'),111.6(C-9"),112.4(C-1'),125.0(C-4"),131.
3(C-4'),132.1(C-5"),148.7(C-8"),158.2(C-2',6'),16
2.8(C-9),163.7(C-5),165.7(C-7),199.2(C-4)
【0040】この発明は上記実施例に限定されない。特
に5,7,2′,6′−テトラヒドロキシ−8−ラバン
ドリルフラバノン、5,7,2′,4′−テトラヒドロ
キシ−8−ラバンドリルフラバノンは、合成可能な物質
である。
に5,7,2′,6′−テトラヒドロキシ−8−ラバン
ドリルフラバノン、5,7,2′,4′−テトラヒドロ
キシ−8−ラバンドリルフラバノンは、合成可能な物質
である。
【0041】
【発明の効果】以上の通り、この発明は、ソフォラ・エ
クシグア抽出物、5,7,2′,6′−テトラヒドロキ
シ−8−ラバンドリルフラバノン、5,7,2′,4′
−テトラヒドロキシ−8−ラバンドリルフラバノンを有
効成分とする抗齲蝕剤又は抗菌活性物質であるので、従
来の殺菌剤や抗生物質と異なって副作用の危険もなく、
また従来の植物等の天然抽出物質に比して、口腔内のス
トレプトコッカス属の増殖を飛躍的に抑制することがで
きる。
クシグア抽出物、5,7,2′,6′−テトラヒドロキ
シ−8−ラバンドリルフラバノン、5,7,2′,4′
−テトラヒドロキシ−8−ラバンドリルフラバノンを有
効成分とする抗齲蝕剤又は抗菌活性物質であるので、従
来の殺菌剤や抗生物質と異なって副作用の危険もなく、
また従来の植物等の天然抽出物質に比して、口腔内のス
トレプトコッカス属の増殖を飛躍的に抑制することがで
きる。
【0042】従って、齲蝕の発生と歯垢形成を低減させ
るばかりでなく、歯垢発達に起因する歯周疾患及び口内
炎の発症予防、さらには全身性の感染証の予防にも役立
つ。
るばかりでなく、歯垢発達に起因する歯周疾患及び口内
炎の発症予防、さらには全身性の感染証の予防にも役立
つ。
【0043】因って各種の医薬品、医薬部外品、飲食
物、嗜好品などに適用できる。例えばトローチ、歯磨、
マウスウォッシュ、チューイングガム、キャンディー、
飴、シロップ、ゼリーなどに混合しても差支えない。な
おこの発明はかかる用途に限定されるものではない。ま
た本抗齲蝕剤及び抗菌活性物質は、齲蝕原性細菌及び歯
垢形成細菌である各種のストレプトコッカス属に対して
格別優れた抗菌性を発揮するので、この他の歯周菌に優
れた抗菌性を発揮する他の口腔用の植物抽出物や天然物
質との併用も可能である。例えばプロポリス或はエリス
リナ抽出物と併用すれば口腔用組成物としてはきわめて
好ましい。また副作用を押えるか或は抗菌活性を一層向
上するためにために、殺菌剤や抗生物質と部分的に併用
することも可能である。適用量については各種の用途に
応じて上記の実施例から相当する量を使用すれば差支え
ない。
物、嗜好品などに適用できる。例えばトローチ、歯磨、
マウスウォッシュ、チューイングガム、キャンディー、
飴、シロップ、ゼリーなどに混合しても差支えない。な
おこの発明はかかる用途に限定されるものではない。ま
た本抗齲蝕剤及び抗菌活性物質は、齲蝕原性細菌及び歯
垢形成細菌である各種のストレプトコッカス属に対して
格別優れた抗菌性を発揮するので、この他の歯周菌に優
れた抗菌性を発揮する他の口腔用の植物抽出物や天然物
質との併用も可能である。例えばプロポリス或はエリス
リナ抽出物と併用すれば口腔用組成物としてはきわめて
好ましい。また副作用を押えるか或は抗菌活性を一層向
上するためにために、殺菌剤や抗生物質と部分的に併用
することも可能である。適用量については各種の用途に
応じて上記の実施例から相当する量を使用すれば差支え
ない。
Claims (3)
- 【請求項1】ソフォラ・エクシグア抽出物を有効成分と
する抗齲蝕剤。 - 【請求項2】下記構造式の5,7,2′,6′−テトラ
ヒドロキシ−8−ラバンドリルフラバノンを有効成分と
する抗菌活性物質。 【化1】 - 【請求項3】下記構造式の5,7,2′,4′−テトラ
ヒドロキシ−8−ラバンドリルフラバノンを有効成分と
する抗菌活性物質。 【化2】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5090980A JPH072687A (ja) | 1993-04-19 | 1993-04-19 | 抗齲蝕剤及び抗菌活性物質 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5090980A JPH072687A (ja) | 1993-04-19 | 1993-04-19 | 抗齲蝕剤及び抗菌活性物質 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH072687A true JPH072687A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=14013673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5090980A Pending JPH072687A (ja) | 1993-04-19 | 1993-04-19 | 抗齲蝕剤及び抗菌活性物質 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH072687A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59134729A (ja) * | 1983-01-24 | 1984-08-02 | Takasago Corp | う蝕菌生育阻害剤 |
| JPS63267714A (ja) * | 1987-04-24 | 1988-11-04 | Sato Seiyaku Kk | 歯科口腔用薬剤 |
| JPH03109314A (ja) * | 1989-09-21 | 1991-05-09 | Maruzen Kasei Co Ltd | 抗う蝕剤 |
-
1993
- 1993-04-19 JP JP5090980A patent/JPH072687A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59134729A (ja) * | 1983-01-24 | 1984-08-02 | Takasago Corp | う蝕菌生育阻害剤 |
| JPS63267714A (ja) * | 1987-04-24 | 1988-11-04 | Sato Seiyaku Kk | 歯科口腔用薬剤 |
| JPH03109314A (ja) * | 1989-09-21 | 1991-05-09 | Maruzen Kasei Co Ltd | 抗う蝕剤 |
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