JPH0726933B2 - イオン―感受性電気化学的センサー - Google Patents
イオン―感受性電気化学的センサーInfo
- Publication number
- JPH0726933B2 JPH0726933B2 JP61504922A JP50492286A JPH0726933B2 JP H0726933 B2 JPH0726933 B2 JP H0726933B2 JP 61504922 A JP61504922 A JP 61504922A JP 50492286 A JP50492286 A JP 50492286A JP H0726933 B2 JPH0726933 B2 JP H0726933B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sensor according
- group
- ion
- copolymer
- sensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 43
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 31
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 22
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 11
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 11
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 claims description 8
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical compound N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- -1 halide ions Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 3
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical group CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical compound C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 2
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 claims 3
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 14
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 description 4
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 3
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XIJLLXAKBJPLPE-UHFFFAOYSA-M 1-benzyl-3-ethenylimidazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=[N+](C=C)C=CN1CC1=CC=CC=C1 XIJLLXAKBJPLPE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- IPKKHRVROFYTEK-UHFFFAOYSA-N dipentyl phthalate Chemical compound CCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCC IPKKHRVROFYTEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tri(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(C)C)C(C(C)C)=C(C(C)C)C(S(O)(=O)=O)=C21 RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C=C VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical group [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDVDCDLBOLSVGM-UHFFFAOYSA-N [chloro(phenyl)methyl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(Cl)C1=CC=CC=C1 ZDVDCDLBOLSVGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical class OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003118 cationic copolymer Polymers 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- VJHINFRRDQUWOJ-UHFFFAOYSA-N dioctyl sebacate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCC(CC)CCCC VJHINFRRDQUWOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 description 1
- LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N isobutyronitrile Chemical compound CC(C)C#N LRDFRRGEGBBSRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N methyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound COS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 VUQUOGPMUUJORT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 150000004707 phenolate Chemical class 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000005956 quaternization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000012088 reference solution Substances 0.000 description 1
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical class OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical group OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/28—Electrolytic cell components
- G01N27/30—Electrodes, e.g. test electrodes; Half-cells
- G01N27/333—Ion-selective electrodes or membranes
- G01N27/3335—Ion-selective electrodes or membranes the membrane containing at least one organic component
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、イオン−感受性電気化学的センサー及びこれ
を用いるイオン濃度の測定方法に関する。詳述すれば、
本発明は、イオン−感受性ポリマー膜をその上に被覆し
て有するソリッドステート電極体を含む電気化学的セン
サーに関する。
を用いるイオン濃度の測定方法に関する。詳述すれば、
本発明は、イオン−感受性ポリマー膜をその上に被覆し
て有するソリッドステート電極体を含む電気化学的セン
サーに関する。
自立性イオン−感受性ポリマー膜を含む電気化学的セン
サーは文献に良く知られている。使用時には、このよう
な膜は、試験する溶液を内部参照溶液から分離する。こ
のようなセンサーは、自立性の膜を有し、この膜は、ソ
リッドステート電極体上で被覆されていなくてよい。例
えば、英国特許第2,076,545号明細書は、膜が20℃未満
のガラス転移温度(Tg)を有し、かつイオン交換部位を
有するコポリマーを含むセンサーを記載している。この
ようなコポリマーは、極めて製造し難く、しばしば機能
しないセンサーを生じる。
サーは文献に良く知られている。使用時には、このよう
な膜は、試験する溶液を内部参照溶液から分離する。こ
のようなセンサーは、自立性の膜を有し、この膜は、ソ
リッドステート電極体上で被覆されていなくてよい。例
えば、英国特許第2,076,545号明細書は、膜が20℃未満
のガラス転移温度(Tg)を有し、かつイオン交換部位を
有するコポリマーを含むセンサーを記載している。この
ようなコポリマーは、極めて製造し難く、しばしば機能
しないセンサーを生じる。
表面に被覆されたイオン−感受性ポリマー膜を有するソ
リッドステート電極体を含む電気化学的センサーは、周
知である。例えば、米国特許第4,020,830号明細書は、
変換器が露呈されている物質の化学的性質を選択的に検
出し、測定することのできる化学物質感受性電解効果ト
ランジスタ変換器を記載している。この変換器は、ドー
ピング極性を有する半導体基材物質、基材物質の表面に
間隔を置いて配置され、基材物質のそれとは反対のドー
ピング極性を有する一対の拡散領域、これらの拡散領域
及びそれらの間に介在する基材物質の表面に重なる電気
的絶縁物質並びに絶縁物質に重なる化学物質感受性系を
含む。化学物質感受性系は、イオン−感受性ポリマー
膜、例えばイオン交換物質を分散して有するポリ塩化ビ
ニルマトリクスを含む膜であってよい。
リッドステート電極体を含む電気化学的センサーは、周
知である。例えば、米国特許第4,020,830号明細書は、
変換器が露呈されている物質の化学的性質を選択的に検
出し、測定することのできる化学物質感受性電解効果ト
ランジスタ変換器を記載している。この変換器は、ドー
ピング極性を有する半導体基材物質、基材物質の表面に
間隔を置いて配置され、基材物質のそれとは反対のドー
ピング極性を有する一対の拡散領域、これらの拡散領域
及びそれらの間に介在する基材物質の表面に重なる電気
的絶縁物質並びに絶縁物質に重なる化学物質感受性系を
含む。化学物質感受性系は、イオン−感受性ポリマー
膜、例えばイオン交換物質を分散して有するポリ塩化ビ
ニルマトリクスを含む膜であってよい。
膜が固体伝導導電体、例えば金属線の表面に被覆されて
いる被覆線電極型の電気化学的センサーにこのようなイ
オン−感受性ポリマー膜を使用することも知られてい
る。このようなセンサーにおける膜は、イオン交換物質
と膜が露出されている溶液との間で選択的イオン交換を
起こさせる。膜と溶液との間で電気化学的に発生する電
位差を使用して、溶液中の特定イオンの濃度を測定する
ことができる。
いる被覆線電極型の電気化学的センサーにこのようなイ
オン−感受性ポリマー膜を使用することも知られてい
る。このようなセンサーにおける膜は、イオン交換物質
と膜が露出されている溶液との間で選択的イオン交換を
起こさせる。膜と溶液との間で電気化学的に発生する電
位差を使用して、溶液中の特定イオンの濃度を測定する
ことができる。
本発明は、択一的イオン−感受性ポリマー膜を有する電
気化学的センサーを提供するものである。ポリマー膜は
容易に製造されて、適切に機能するセンサーを生じる。
ポリマーは、好ましい取り扱い特性を有し、容易に精製
され、これにより良好な信頼性及び再現性を有するセン
サーの製造が容易となる。また、イオン−交換物質は、
使用時に膜から漏出しない。
気化学的センサーを提供するものである。ポリマー膜は
容易に製造されて、適切に機能するセンサーを生じる。
ポリマーは、好ましい取り扱い特性を有し、容易に精製
され、これにより良好な信頼性及び再現性を有するセン
サーの製造が容易となる。また、イオン−交換物質は、
使用時に膜から漏出しない。
本発明によれば、イオン−感受性ポリマー膜をその上に
被覆して有する電極体を含むイオン−感受性電気化学的
センサーが提供され、その際膜はイオン交換部位を有す
る水に不溶性のコポリマーを含む。このコポリマーは約
80℃より高いガラス転移温度(Tg)を有する。膜は、更
に可塑剤を含むのが好ましい。
被覆して有する電極体を含むイオン−感受性電気化学的
センサーが提供され、その際膜はイオン交換部位を有す
る水に不溶性のコポリマーを含む。このコポリマーは約
80℃より高いガラス転移温度(Tg)を有する。膜は、更
に可塑剤を含むのが好ましい。
第1図は、使用時の本発明のイオン−感受性電界効果ト
ランジスタ(ISFET)の系統図である。
ランジスタ(ISFET)の系統図である。
第2図は、界面活性剤の種々の濃度での、本発明による
ISFETの応答を示すグラフである。
ISFETの応答を示すグラフである。
第3図は、塩化物の種々の濃度での、本発明による被覆
線電極の応答を示すグラフである。
線電極の応答を示すグラフである。
第4図は、塩化物の種々の濃度での、本発明による被覆
線電極の応答を示すグラフである。
線電極の応答を示すグラフである。
本発明のコポリマーは、イオン交換部位を有するコモノ
マー単位を含み、この単位を以下、イオン性単位とい
う。イオン交換部位を有するコモノマー単位は、好まし
くは、コポリマーの約0.5〜90モル%、更に好ましくは
約5〜25モル%を占める。コポリマーのイオン性単位
は、例えば沃化メチル、塩化エチル、p−トルエンスル
ホン酸メチル、塩化ベンジル又は塩化ベンズヒドリルで
四級化された三級窒素のような或る種の陽イオン基を含
んでいてよい。三級窒素基を含むコモノマーは、ビニル
基で置換された窒素含有ヘテロ環式化合物、例えばピリ
ジン、イミダゾール、キノリン、イソキニリン、ピリミ
ジン、フェナントロリン、ベンゾチアゾール、プリン、
ピラジン、アクリジン又はピコリンなどの四級化剤と反
応させることによって対応する第四級塩に変えることが
できる。
マー単位を含み、この単位を以下、イオン性単位とい
う。イオン交換部位を有するコモノマー単位は、好まし
くは、コポリマーの約0.5〜90モル%、更に好ましくは
約5〜25モル%を占める。コポリマーのイオン性単位
は、例えば沃化メチル、塩化エチル、p−トルエンスル
ホン酸メチル、塩化ベンジル又は塩化ベンズヒドリルで
四級化された三級窒素のような或る種の陽イオン基を含
んでいてよい。三級窒素基を含むコモノマーは、ビニル
基で置換された窒素含有ヘテロ環式化合物、例えばピリ
ジン、イミダゾール、キノリン、イソキニリン、ピリミ
ジン、フェナントロリン、ベンゾチアゾール、プリン、
ピラジン、アクリジン又はピコリンなどの四級化剤と反
応させることによって対応する第四級塩に変えることが
できる。
また、コポリマーのイオン性単位は、陰イオン基、例え
ば酸性基、好ましくはカルボシリック酸基又はスルホン
酸基を含んでいてよい。例えば、アクリル酸、ビニルフ
ェノール若しくはビニルフェニルスルホン酸、又はその
塩若しくはフェノレートをコモノマーとして使用するこ
とができる。
ば酸性基、好ましくはカルボシリック酸基又はスルホン
酸基を含んでいてよい。例えば、アクリル酸、ビニルフ
ェノール若しくはビニルフェニルスルホン酸、又はその
塩若しくはフェノレートをコモノマーとして使用するこ
とができる。
本発明の好ましいコポリマーは、式: 〔式中R1はH、アルキル基又はアリール基であり、R2及
びR4はそれぞれH、メチル基又はエチル基であり、R3は
アルキレン基であり、Xは四級窒素原子又は三級硫黄若
しくは酸素原子を含む基である〕のイオン性単位を含
む。
びR4はそれぞれH、メチル基又はエチル基であり、R3は
アルキレン基であり、Xは四級窒素原子又は三級硫黄若
しくは酸素原子を含む基である〕のイオン性単位を含
む。
好ましいX基は、四級化された−OCH2CH2N(CH3)2基
又は窒素含有ヘテロ環式基である。
又は窒素含有ヘテロ環式基である。
コポリマーの他のコモノマー単位は、適切な量で使用す
る場合に、好ましくは約80℃より高い、更に好ましくは
約100℃より高いTgをコポリマーに与える非極性コモノ
マーから誘導することができる。コポリマーは、1種以
上のモノマーから誘導されうる無極性コモノマー単位を
約10〜99.5モル%、好ましくは約75〜95モル%含むこと
ができる。コモノマーは、広範な公知の遊離基重合可能
なモノマーから選択することができる。充分に高いTgを
生じるためには、モノマーは、重合されたときに良好な
充填密度を示すことができなければならず、従って、一
般には、比較的簡単な非置換モノマーである。適当なコ
モノマーは、アクリレート(例えばメタクリル酸メチ
ル)、オレフィン、スチレン及びビニルエーテルから選
択することができる。
る場合に、好ましくは約80℃より高い、更に好ましくは
約100℃より高いTgをコポリマーに与える非極性コモノ
マーから誘導することができる。コポリマーは、1種以
上のモノマーから誘導されうる無極性コモノマー単位を
約10〜99.5モル%、好ましくは約75〜95モル%含むこと
ができる。コモノマーは、広範な公知の遊離基重合可能
なモノマーから選択することができる。充分に高いTgを
生じるためには、モノマーは、重合されたときに良好な
充填密度を示すことができなければならず、従って、一
般には、比較的簡単な非置換モノマーである。適当なコ
モノマーは、アクリレート(例えばメタクリル酸メチ
ル)、オレフィン、スチレン及びビニルエーテルから選
択することができる。
架橋性モノマーを使用することもできる。例えば、ジビ
ニルベンゼン、クロロメチルスチレン又はビス−アクリ
レートを使用することができる。架橋は、イミダゾール
又は同様の環を含むコポリマーをビス−エポキシ化合物
と反応させることによって達成することもできる。
ニルベンゼン、クロロメチルスチレン又はビス−アクリ
レートを使用することができる。架橋は、イミダゾール
又は同様の環を含むコポリマーをビス−エポキシ化合物
と反応させることによって達成することもできる。
前記の変種を単独で又は組み合わせて使用してコポリマ
ーに所望の物理的性質を与えうることを理解すべきであ
る。
ーに所望の物理的性質を与えうることを理解すべきであ
る。
コポリマーは、コモノマーの共重合と必要に応じてその
後のイオン性基の導入を含めて公知の技法により製造す
ることができる。例えば、メタクリル酸メチルをビニル
イミダゾールと共重合させて水に不溶性のコポリマーを
製造することができる。コポリマーを四級化剤、例えば
塩化ベンジルで四級化してコポリマー中に固定されたイ
オン交換部位を作ることができる。このコポリマーの膜
は、塩化物イオンに対して感受性である。文献に公知の
ように、イオン交換反応によって異なる対イオンを導入
することができる。従って、例えば前記コポリマー中の
塩化物イオンを界面活性剤陰イオンへ例えばドデシルサ
ルフェートと交換して、コポリマーの膜を陰イオン界面
活性剤に対して感受性にすることができる。
後のイオン性基の導入を含めて公知の技法により製造す
ることができる。例えば、メタクリル酸メチルをビニル
イミダゾールと共重合させて水に不溶性のコポリマーを
製造することができる。コポリマーを四級化剤、例えば
塩化ベンジルで四級化してコポリマー中に固定されたイ
オン交換部位を作ることができる。このコポリマーの膜
は、塩化物イオンに対して感受性である。文献に公知の
ように、イオン交換反応によって異なる対イオンを導入
することができる。従って、例えば前記コポリマー中の
塩化物イオンを界面活性剤陰イオンへ例えばドデシルサ
ルフェートと交換して、コポリマーの膜を陰イオン界面
活性剤に対して感受性にすることができる。
好ましいコポリマーは、約10:1〜25:1の比のメタクリル
酸メチル及びN−ビニルイミダゾールから誘導された単
位を含む。
酸メチル及びN−ビニルイミダゾールから誘導された単
位を含む。
コポリマーの膜を形成するため、コポリマーに所望の検
出特性及び/又はフィルム形成性を与える量で可塑剤を
使用することができる。可塑剤は、コポリマーに対して
好ましくは約5〜70重量%、更に好ましくは約20〜60重
量%の量で存在する。特定のコポリマーに応じて任意の
常用の公知可塑剤を使用することができる。適当な可塑
剤は、燐酸エステル、例えば燐酸トリクレジル、フタル
酸エステル、例えばフタル酸ジペンチル、アジピン酸エ
ステル及びセバシン酸エステル、例えばビス−(2−エ
チルヘキシル)セバケートを包含する。適当な可塑剤
は、更に“ニュートラル・キャリア・ベイスド・アイエ
スイーズ(Neutral Carrier based ISE's)”、アマン
(Amman)ら著、アイエスイー・レビューズ(ISE Revie
ws)、5巻1983、3〜92頁に開示されている。
出特性及び/又はフィルム形成性を与える量で可塑剤を
使用することができる。可塑剤は、コポリマーに対して
好ましくは約5〜70重量%、更に好ましくは約20〜60重
量%の量で存在する。特定のコポリマーに応じて任意の
常用の公知可塑剤を使用することができる。適当な可塑
剤は、燐酸エステル、例えば燐酸トリクレジル、フタル
酸エステル、例えばフタル酸ジペンチル、アジピン酸エ
ステル及びセバシン酸エステル、例えばビス−(2−エ
チルヘキシル)セバケートを包含する。適当な可塑剤
は、更に“ニュートラル・キャリア・ベイスド・アイエ
スイーズ(Neutral Carrier based ISE's)”、アマン
(Amman)ら著、アイエスイー・レビューズ(ISE Revie
ws)、5巻1983、3〜92頁に開示されている。
本発明の膜は、まず適当な溶剤、例えばテトラヒドロフ
ラン中のコポリマー及び、必要に応じて、可塑剤の溶液
を形成することによって製造することができる。溶液を
公知の技法、例えば浸漬又は噴霧によってセンサーの表
面上に塗布し、溶剤を蒸発させて膜を形成する。膜中に
ピンホールの形成を回避するため、溶剤を徐々に蒸発さ
せるのが好ましい。最適の応答時間を生じるため、膜を
できるだけ薄くするのが好ましい。厚さは、0.5mm未満
であるのが好ましい。イオン−感受性電界効果トランジ
スタ(ISFETS)を製造する場合には、2〜10μm、好ま
しくは3〜7μmの厚さを使用することができる。
ラン中のコポリマー及び、必要に応じて、可塑剤の溶液
を形成することによって製造することができる。溶液を
公知の技法、例えば浸漬又は噴霧によってセンサーの表
面上に塗布し、溶剤を蒸発させて膜を形成する。膜中に
ピンホールの形成を回避するため、溶剤を徐々に蒸発さ
せるのが好ましい。最適の応答時間を生じるため、膜を
できるだけ薄くするのが好ましい。厚さは、0.5mm未満
であるのが好ましい。イオン−感受性電界効果トランジ
スタ(ISFETS)を製造する場合には、2〜10μm、好ま
しくは3〜7μmの厚さを使用することができる。
膜中のイオン性基の濃度は0.1〜0.00001Mであってよい
が、膜が感受性であるイオンの濃度は同等以上である。
が、膜が感受性であるイオンの濃度は同等以上である。
本発明の電極体は、種々の異なる形態を有することがで
きる。電極は、例えばソリッドステート電極、例えば導
電体又は半導体、又は被覆線電極であってよい。本発明
の好ましい実施態様においては、センサーは、イオン−
感受性電界効果トランジスタ又は被覆線電極である。こ
のような電極は、コビントン(A.K.Covington)、イオ
ン・セレクティブ・エレクトロード・メソドロジィズ
(Ion Selective Electrode Methodologies)、(CRC P
ress)に記載されている。
きる。電極は、例えばソリッドステート電極、例えば導
電体又は半導体、又は被覆線電極であってよい。本発明
の好ましい実施態様においては、センサーは、イオン−
感受性電界効果トランジスタ又は被覆線電極である。こ
のような電極は、コビントン(A.K.Covington)、イオ
ン・セレクティブ・エレクトロード・メソドロジィズ
(Ion Selective Electrode Methodologies)、(CRC P
ress)に記載されている。
本発明の電気化学的センサーは、溶液中のイオン性種の
濃度を測定するのに有用である。例えば、これらを使用
して塩化物又は臭化物のようなハロゲン化物イオンの濃
度を測定することができる。これらは、溶液中のイオン
性界面活性剤の濃度を測定するのに特に有用である。こ
のような界面活性剤は、陰イオン性のもの、例えばアル
キル硫酸又はアラルキルスルホネート、例えばアルキル
基が8〜10個の炭素原子を含むn−アルキル硫酸及びア
ルキルナフタリンスルホネート、例えばトリ−イソプロ
ピルナフタリンスルホネートであってよい。この目的
で、膜のため陽イオン性コポリマーを使用する。また、
界面活性剤は陽イオン性のもの、例えばセチルトリメチ
ルアンモニウムブロミドであってよく、このコポリマー
は陰イオン性基を有する。
濃度を測定するのに有用である。例えば、これらを使用
して塩化物又は臭化物のようなハロゲン化物イオンの濃
度を測定することができる。これらは、溶液中のイオン
性界面活性剤の濃度を測定するのに特に有用である。こ
のような界面活性剤は、陰イオン性のもの、例えばアル
キル硫酸又はアラルキルスルホネート、例えばアルキル
基が8〜10個の炭素原子を含むn−アルキル硫酸及びア
ルキルナフタリンスルホネート、例えばトリ−イソプロ
ピルナフタリンスルホネートであってよい。この目的
で、膜のため陽イオン性コポリマーを使用する。また、
界面活性剤は陽イオン性のもの、例えばセチルトリメチ
ルアンモニウムブロミドであってよく、このコポリマー
は陰イオン性基を有する。
本発明のセンサーの可能な特殊な用途は、水性試料、例
えば産業用途又は家庭的用途からの廃水中の遊離界面活
性剤を直接電位差測定によって測定することを包含す
る。全界面活性剤を電位差定によって測定することがで
きる。
えば産業用途又は家庭的用途からの廃水中の遊離界面活
性剤を直接電位差測定によって測定することを包含す
る。全界面活性剤を電位差定によって測定することがで
きる。
本発明は、更に、本発明の電気化学的センサーを使用し
て水溶液中のイオン性種の濃度を測定する方法を提供す
る。この方法においては、センサーを試験すべき溶液と
接触させ、イオン濃度を電極の電位の関数として測定す
る。
て水溶液中のイオン性種の濃度を測定する方法を提供す
る。この方法においては、センサーを試験すべき溶液と
接触させ、イオン濃度を電極の電位の関数として測定す
る。
本発明を更に添付図面に基づいて説明する。第1図は、
p−型ドーピング極性を有する珪素から成る半導体基材
10を含むISFET装置を断面図で示す。n−型ドーピング
極性を有する2個の分離した拡散領域11及び12は、半導
体基材中にその上表面で存在する。拡散領域12はソース
と言われ、拡散領域11はドレインと言われる。拡散領域
はそれぞれ深さ約1又は2μmであり、約400μmの長
さを有し、約20μm離れている。この装置を使用する場
合、導電通路21は2個の拡散領域の間に存在する。通路
は僅かにドーピングされたn−型であり、空乏層式装置
(depletion mode device)を提供する。
p−型ドーピング極性を有する珪素から成る半導体基材
10を含むISFET装置を断面図で示す。n−型ドーピング
極性を有する2個の分離した拡散領域11及び12は、半導
体基材中にその上表面で存在する。拡散領域12はソース
と言われ、拡散領域11はドレインと言われる。拡散領域
はそれぞれ深さ約1又は2μmであり、約400μmの長
さを有し、約20μm離れている。この装置を使用する場
合、導電通路21は2個の拡散領域の間に存在する。通路
は僅かにドーピングされたn−型であり、空乏層式装置
(depletion mode device)を提供する。
2個の拡散領域の間の半導体基材10の表面は、ゲートと
して知られている。二酸化珪素の電気絶縁層13は、基材
10の表面を覆い、自体は窒化珪素の層14で被覆されてい
る。2個の拡散領域の間の絶縁材料は、ゲート絶縁体と
して知られている。
して知られている。二酸化珪素の電気絶縁層13は、基材
10の表面を覆い、自体は窒化珪素の層14で被覆されてい
る。2個の拡散領域の間の絶縁材料は、ゲート絶縁体と
して知られている。
アルミニウム層15及び16はそれぞれソース拡散領域11及
びドレイン拡散領域12上に付着していて、それらとの電
気的接点を提供する。
びドレイン拡散領域12上に付着していて、それらとの電
気的接点を提供する。
イオン−感受性ポリマー膜17は、装置のゲート領域上の
絶縁層13及び14上に付着している。エポキシ樹脂及びポ
リイミド混合物を含む層18は、ソース及びドレインへの
電気的接点を覆って、分析すべき溶液からこれらを遮蔽
する。
絶縁層13及び14上に付着している。エポキシ樹脂及びポ
リイミド混合物を含む層18は、ソース及びドレインへの
電気的接点を覆って、分析すべき溶液からこれらを遮蔽
する。
第1図は使用中のISFETを示す。イオン−感受性膜17
は、膜17が感受性であるイオンを含む、分析すべき溶液
19と接触している。電源に結合された参照電極20が溶液
中に設置されている。拡散領域11と12の間の導電通路21
に電流を流すのに充分な電位差を設定するため、ソース
拡散領域11とドレイン拡散領域12との間にも電源が設置
されている。
は、膜17が感受性であるイオンを含む、分析すべき溶液
19と接触している。電源に結合された参照電極20が溶液
中に設置されている。拡散領域11と12の間の導電通路21
に電流を流すのに充分な電位差を設定するため、ソース
拡散領域11とドレイン拡散領域12との間にも電源が設置
されている。
溶液19中のイオンは、イオン−感受性膜17と相互作用し
て溶液19と膜17との間に電位差を生じ、これにより導電
通路21に電界を作る。電界の強さは、溶液19中のイオン
の濃度に左右され、導電通路21を通って流れる電流、す
なわち、ドレイン電流の程度を制御する。
て溶液19と膜17との間に電位差を生じ、これにより導電
通路21に電界を作る。電界の強さは、溶液19中のイオン
の濃度に左右され、導電通路21を通って流れる電流、す
なわち、ドレイン電流の程度を制御する。
第1図に示した系統を使用して種々の濃度のイオンに対
するISFETの応答を測定するため、可変抵抗器22、例え
ば120kオームに一定の電圧、例えば12ボルトを印加する
ことによってドレイン電流を設定し、溶液中のイオンの
濃度が変動する間、演算増幅器23によって該電流を一定
に保持する。反転で動作する演算増幅器21を使用して、
電気化学的に誘導された電位の変化が相殺されるよう
に、参照電極20及び溶液19を介して装置のゲートへ電位
を印加する。電気化学的に誘導された電位の変化を相殺
し、従って、ドレイン電流を維持するため印加される電
位は、溶液中のイオンの濃度に応じて変動し、イオン濃
度に対して参照電極の電位をプロットすると、ISFETに
関する検定曲線が得られる。
するISFETの応答を測定するため、可変抵抗器22、例え
ば120kオームに一定の電圧、例えば12ボルトを印加する
ことによってドレイン電流を設定し、溶液中のイオンの
濃度が変動する間、演算増幅器23によって該電流を一定
に保持する。反転で動作する演算増幅器21を使用して、
電気化学的に誘導された電位の変化が相殺されるよう
に、参照電極20及び溶液19を介して装置のゲートへ電位
を印加する。電気化学的に誘導された電位の変化を相殺
し、従って、ドレイン電流を維持するため印加される電
位は、溶液中のイオンの濃度に応じて変動し、イオン濃
度に対して参照電極の電位をプロットすると、ISFETに
関する検定曲線が得られる。
下記の実施例は、本発明の更に良好な理解のため示すも
のである。
のである。
製造例1 ポリ(メタクリル酸メチル−コ−1−ビニルイミダゾー
ル)の製造 冷却器を装着した0.1のフラスコ中で窒素ブランケッ
ト下にメタクリル酸メチル(44g)及び1−ビニルイミ
ダゾール(9.4g)をアゾビスイソブチロニトリル(0.05
5g)の存在で塊状重合させた。フラスコ内容物を2時間
の反応時間の間連続的に撹拌し、その際、油浴中に浸漬
することによって温度を60℃に保持した。コポリマーを
過剰のジエチルエーテル中に沈殿させることによって回
収し、ロ過し、再沈殿させた後、最終的にロ過し、環境
温度で真空乾燥器中で一夜乾燥した。オフホワイトの脆
いポリマーが得られ、これは微細な粉末に容易に粉砕さ
れた。
ル)の製造 冷却器を装着した0.1のフラスコ中で窒素ブランケッ
ト下にメタクリル酸メチル(44g)及び1−ビニルイミ
ダゾール(9.4g)をアゾビスイソブチロニトリル(0.05
5g)の存在で塊状重合させた。フラスコ内容物を2時間
の反応時間の間連続的に撹拌し、その際、油浴中に浸漬
することによって温度を60℃に保持した。コポリマーを
過剰のジエチルエーテル中に沈殿させることによって回
収し、ロ過し、再沈殿させた後、最終的にロ過し、環境
温度で真空乾燥器中で一夜乾燥した。オフホワイトの脆
いポリマーが得られ、これは微細な粉末に容易に粉砕さ
れた。
生成物の元素分析は下記のとおりであった: C57.2:H7.7、N4.1%. これは5.92:1のメタクリル酸メチル:1−ビニルイミダゾ
ールのモル比に相当する。
ールのモル比に相当する。
製造例2 ポリ(メタクリル酸メチル−コ−1−ビニルイミダゾー
ル)の四級化 冷却器及び窒素導入口を装着し、100℃に保持した油浴
中に浸漬した0.5のフラスコにポリ(メタクリル酸メ
チル−コ−1−ビニルイミダゾール)(7.4g)及びジオ
キサン(200g)を仕込み、内容物を撹拌した。ポリマー
が溶解したら、塩化ベンジル(3.7g、約5倍過剰)を添
加した。反応混合物を連続的に撹拌し、窒素をパージし
ながら20時間還流させた。生成物を例1と同様回収し
た。再び、オフホワイトの生成物は容易に微細な粉末に
粉砕された。
ル)の四級化 冷却器及び窒素導入口を装着し、100℃に保持した油浴
中に浸漬した0.5のフラスコにポリ(メタクリル酸メ
チル−コ−1−ビニルイミダゾール)(7.4g)及びジオ
キサン(200g)を仕込み、内容物を撹拌した。ポリマー
が溶解したら、塩化ベンジル(3.7g、約5倍過剰)を添
加した。反応混合物を連続的に撹拌し、窒素をパージし
ながら20時間還流させた。生成物を例1と同様回収し
た。再び、オフホワイトの生成物は容易に微細な粉末に
粉砕された。
生成物の元素分析は下記のとおりであった: C58.0:H8.0、N1.6、Cl2.9%. これは14.82:1のメタクリル酸メチル:1−ビニルイミダ
ゾール(四級化された)のモル比に相当する。四級化コ
ポリマーのTgは113℃であった。
ゾール(四級化された)のモル比に相当する。四級化コ
ポリマーのTgは113℃であった。
製造例3 四級化されたポリ(メタクリル酸メチル−コ−1−ビニ
ルイミダゾール)の塩化物対陰イオンのドデシル硫酸陰
イオンへの交換 製造例2の四級化コポリマー(0.8g)をメタノール中に
溶解させ、生じる溶液をトデシル硫酸ナトリウムの溶液
(0.3モル/;50ml)に滴加した。形成する白色沈澱を
ロ別し、水で洗浄し、乾燥器中で60℃で24時間乾燥し
た。
ルイミダゾール)の塩化物対陰イオンのドデシル硫酸陰
イオンへの交換 製造例2の四級化コポリマー(0.8g)をメタノール中に
溶解させ、生じる溶液をトデシル硫酸ナトリウムの溶液
(0.3モル/;50ml)に滴加した。形成する白色沈澱を
ロ別し、水で洗浄し、乾燥器中で60℃で24時間乾燥し
た。
例1 界面活性剤−感受性の被覆線電極 製造例3のコポリマー(0.46g)及び可塑剤である燐酸
トリクレジル(0.23g)を溶解させるのに必要な最少量
のテトラヒドロフラン中に溶解させて、極めて薄い褐色
の透明溶液を形成した。
トリクレジル(0.23g)を溶解させるのに必要な最少量
のテトラヒドロフラン中に溶解させて、極めて薄い褐色
の透明溶液を形成した。
長い同軸ケーブルの末端から約2.5cmの外側絶縁層を除
去した。こうして露出された内部銅コア(直径0.9mm)
をコポリマー/可塑剤溶液で被覆して厚さ0.5mm未満の
膜を形成した。ケーブルの外側スクリーンを熱収縮性チ
ューブを使用して保護した。
去した。こうして露出された内部銅コア(直径0.9mm)
をコポリマー/可塑剤溶液で被覆して厚さ0.5mm未満の
膜を形成した。ケーブルの外側スクリーンを熱収縮性チ
ューブを使用して保護した。
界面活性剤感受性の被覆線電極の応答特性は、下記のと
おりであった: 直線範囲 0.000022〜0.00416モル/ 勾配 60.5mV/10(decade) 検出限界 0.0000044モル/ 30秒未満の平衡応答時間は、従来の(液体イオン交換)
界面活性剤センサーのそれと同等であった。被覆線電極
に関する検定曲線を第3図に示すが、これは、種々のド
デシル硫酸濃度(モルで)での電極の応答(mVで)をプ
ロットしたものである。二重接合電極を基準として使用
した。測定は室温で実施した。
おりであった: 直線範囲 0.000022〜0.00416モル/ 勾配 60.5mV/10(decade) 検出限界 0.0000044モル/ 30秒未満の平衡応答時間は、従来の(液体イオン交換)
界面活性剤センサーのそれと同等であった。被覆線電極
に関する検定曲線を第3図に示すが、これは、種々のド
デシル硫酸濃度(モルで)での電極の応答(mVで)をプ
ロットしたものである。二重接合電極を基準として使用
した。測定は室温で実施した。
例2 塩化物感受性の被覆線電極 製造例3のコポリマーの代わりに製造例2のコポリマー
を使用した以外は、例1と同様の方法で被覆線電極を製
造した。
を使用した以外は、例1と同様の方法で被覆線電極を製
造した。
製造した電極の塩化物に対する応答を、種々の塩化物濃
度(モルで)での電極の応答(mVで)をプロットした、
添付図面の第4図に示す。塩化物イオン源として塩化カ
リウム溶液を使用した。二重接合電極を基準として使用
した。測定は室温で実施した。
度(モルで)での電極の応答(mVで)をプロットした、
添付図面の第4図に示す。塩化物イオン源として塩化カ
リウム溶液を使用した。二重接合電極を基準として使用
した。測定は室温で実施した。
例3 塩化物感受性の被覆線電極 メタクリル酸メチル及び4−ビニルピリジンの、塩化ベ
ンジルで四級化したコポリマーを使用した以外は、例1
と同様の方法で被覆線電極を製造した。メタクリル酸メ
チル:4−ビニルピリジンのモル比は、9.6:1であり、コ
ポリマーのTgは、117℃であった。
ンジルで四級化したコポリマーを使用した以外は、例1
と同様の方法で被覆線電極を製造した。メタクリル酸メ
チル:4−ビニルピリジンのモル比は、9.6:1であり、コ
ポリマーのTgは、117℃であった。
塩化物感受性の被覆線電極の応答特性は、下記のとおり
であった: 直線範囲 0.000025〜0.0091モル/ 勾配 39mV/10(decade) 検出限界 0.000005モル/未満 塩化物イオン源として塩化カリウム溶液を使用し、基準
として二重接合参照電極を使用して、測定を室温で実施
した。
であった: 直線範囲 0.000025〜0.0091モル/ 勾配 39mV/10(decade) 検出限界 0.000005モル/未満 塩化物イオン源として塩化カリウム溶液を使用し、基準
として二重接合参照電極を使用して、測定を室温で実施
した。
例4 界面活性剤感受性ISFET 第1図に示した型のISFETを使用したが、この装置にお
いてイオン−感受性ポリマー膜は製造例3のコポリマー
から成り、約5μmの厚さを有していた。
いてイオン−感受性ポリマー膜は製造例3のコポリマー
から成り、約5μmの厚さを有していた。
第1図に関して上記した方法を使用して、ドデシル硫酸
陰イオンに対するISFETの応答を測定した。第2図は、
種々の界面活性剤イオン濃度(モルで)でのISFETの応
答(mVで)をプロットしたものである。測定は25℃で実
施した。
陰イオンに対するISFETの応答を測定した。第2図は、
種々の界面活性剤イオン濃度(モルで)でのISFETの応
答(mVで)をプロットしたものである。測定は25℃で実
施した。
比較例 英国特許(GB−A)第2 076 545号明細書の例1と同じ
操作によりポリ(アクリル酸エチル)−コ−(1−ビニ
ルイミダゾール)(10:1モル)を製造した。次いで、こ
のポリマーを塩化ベンジルで英国特許(A)第2 076 54
5号明細書の例2と同じ方法により第四級化してポリ
(アクリル酸エチル)−コ−(3−ベンジル−1−ビニ
ルイミダゾリウムクロリド)(10:1モル)を得た。ポリ
(アクリル酸エチル)−コ−(3−ベンジル−1−ビニ
ルイミダゾリウムクロリド)をメタノールに溶解さ
せ、'545号特許明細書の例1に記載された操作により被
覆した被覆線電極を得た。このポリマーは、低いTg(20
℃未満)を有するので、可塑剤を添加する必要はなかっ
た。被覆線電極は、1モル濃度塩化ナトリウム溶液で滴
定したところ、平衡に達せず、機能しなかった。
操作によりポリ(アクリル酸エチル)−コ−(1−ビニ
ルイミダゾール)(10:1モル)を製造した。次いで、こ
のポリマーを塩化ベンジルで英国特許(A)第2 076 54
5号明細書の例2と同じ方法により第四級化してポリ
(アクリル酸エチル)−コ−(3−ベンジル−1−ビニ
ルイミダゾリウムクロリド)(10:1モル)を得た。ポリ
(アクリル酸エチル)−コ−(3−ベンジル−1−ビニ
ルイミダゾリウムクロリド)をメタノールに溶解さ
せ、'545号特許明細書の例1に記載された操作により被
覆した被覆線電極を得た。このポリマーは、低いTg(20
℃未満)を有するので、可塑剤を添加する必要はなかっ
た。被覆線電極は、1モル濃度塩化ナトリウム溶液で滴
定したところ、平衡に達せず、機能しなかった。
フロントページの続き (72)発明者 トマソン,デレック アラン イギリス国,ハートフォードシャー ダブ リュディー1 2ビーエイ,ワットフォー ド,ハイ ストリート,ザ パレード,フ ェアクロス ハウス,フラット 9 (56)参考文献 特開 昭59−182357(JP,A) 特開 昭51−139289(JP,A) 特開 昭57−7559(JP,A) 特開 昭57−7550(JP,A) 特開 昭55−70733(JP,A) 特開 昭58−58459(JP,A) 英国特許2076545(GB,A)
Claims (13)
- 【請求項1】イオン−感受性ポリマー膜をその上に被覆
して有する電極体を含み、該膜がイオン交換部位を有す
る水に不溶性のコポリマーを含み、該コポリマーが80℃
より高いガラス転移温度を有するものであるイオン−感
受性電気化学的センサー。 - 【請求項2】コポリマーがイオン交換部位を有するコモ
ノマー単位を0.5〜90モル%含む請求の範囲第1項記載
のセンサー。 - 【請求項3】コポリマーがイオン交換部位を有するコモ
ノマー単位を5〜25モル%含む請求の範囲第1項又は第
2項記載のセンサー。 - 【請求項4】イオン交換部位を有するコモノマー単位が
一般式: 〔式中R1はH、アルキル基又はアリール基であり、R2及
びR4はそれぞれH、メチル基又はエチル基であり、R3は
アルキレン基であり、Xは四級窒素原子又は三級硫黄若
しくは酸素原子を含む基である〕を有する請求の範囲第
1項〜第3項のいずれか1項に記載のイオン−感受性電
気化学的センサー。 - 【請求項5】膜が更に可塑剤を含む請求の範囲第1項〜
第4項のいずれか1項に記載のセンサー。 - 【請求項6】イオン交換部位を有するコモノマー単位が
四級アンモニウム基を含む請求の範囲第1項〜第5項の
いずれか1項に記載のセンサー。 - 【請求項7】四級アンモニウム基の窒素原子がヘテロ環
式基の一部分を形成する請求の範囲第6項記載のセンサ
ー。 - 【請求項8】基Xが四級化された−OCH2CH2N(CH3)2
基である請求の範囲第4項記載のセンサー。 - 【請求項9】四級アンモニウム基の窒素原子がピリジ
ン、イミダゾール、キノリン、イソキノリン、ピリミジ
ン、フェナントロリン、ベンゾチアゾール、プリン、ピ
ラジン、アクリジン又はピコリン環の一部分を形成する
請求の範囲第6項記載のセンサー。 - 【請求項10】イオン交換部位を有するコモノマー単位
がビニルイミダゾール又はビニルピリジンから誘導され
たものである請求の範囲第3項〜第9項のいずれか1項
に記載のセンサー。 - 【請求項11】コポリマーがメタクリル酸メチル、アク
リル酸メチル、スチレン又はメチルビニルエーテルから
誘導されたコモノマー単位を含む請求の範囲第1項〜第
10項のいずれか1項に記載のセンサー。 - 【請求項12】界面活性剤イオンに対して感受性である
請求の範囲第1項〜第11項のいずれか1項に記載のセン
サー。 - 【請求項13】ハロゲン化物イオンに対して感受性であ
る請求の範囲第1項〜第11項のいずれか1項に記載のセ
ンサー。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB858522207A GB8522207D0 (en) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | Ion-sensitive electrochemical sensor |
| GB8522207 | 1985-09-06 | ||
| PCT/US1986/001819 WO1987001454A1 (en) | 1985-09-06 | 1986-09-04 | Ion-sensitive electrochemical sensor and method of determining ion concentrations |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63500742A JPS63500742A (ja) | 1988-03-17 |
| JPH0726933B2 true JPH0726933B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=10584851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61504922A Expired - Lifetime JPH0726933B2 (ja) | 1985-09-06 | 1986-09-04 | イオン―感受性電気化学的センサー |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4773970A (ja) |
| EP (1) | EP0236440B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0726933B2 (ja) |
| CA (1) | CA1248175A (ja) |
| DE (1) | DE3666980D1 (ja) |
| GB (1) | GB8522207D0 (ja) |
| WO (1) | WO1987001454A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4874499A (en) * | 1988-05-23 | 1989-10-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Electrochemical microsensors and method of making such sensors |
| IT1224606B (it) * | 1988-10-10 | 1990-10-04 | Eniricerche Spa | Sensore chimico monolitico a membrana ione selettiva di tipo chemfet eprocedimento per la sua realizzazione |
| US5199227A (en) * | 1989-12-20 | 1993-04-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Surface finishing tape |
| WO1992016831A1 (en) * | 1991-03-18 | 1992-10-01 | Nova Biomedical Corporation | Magnesium electrode |
| FI96141C (fi) * | 1994-05-27 | 1996-05-10 | Kone Oy | Ioniselektiivinen elektrodi ja menetelmä ioniselektiivisen elektrodin valmistamiseksi |
| US5604264A (en) * | 1995-04-03 | 1997-02-18 | Reilly Industries, Inc. | Polyvinylpyridinium anion-exchangers for recovery of technetium and plutonium anions |
| US7291496B2 (en) | 2003-05-22 | 2007-11-06 | University Of Hawaii | Ultrasensitive biochemical sensor |
| US7692219B1 (en) * | 2004-06-25 | 2010-04-06 | University Of Hawaii | Ultrasensitive biosensors |
| TWI258173B (en) * | 2004-10-08 | 2006-07-11 | Ind Tech Res Inst | Polysilicon thin-film ion sensitive FET device and fabrication method thereof |
| JP5016552B2 (ja) * | 2008-05-13 | 2012-09-05 | 出光興産株式会社 | 潤滑油劣化度評価装置 |
| JP5517125B2 (ja) * | 2010-02-05 | 2014-06-11 | 国立大学法人 東京大学 | 細胞測定装置 |
| WO2012005566A1 (en) * | 2010-07-06 | 2012-01-12 | Mimos Berhad | Apparatus for isfet gate characterization |
| GB201018224D0 (en) * | 2010-10-28 | 2010-12-15 | Dna Electronics | Chemical sensing device |
| US8642371B2 (en) * | 2011-04-06 | 2014-02-04 | Shamsoddin Mohajerzadeh | Method and system for fabricating ion-selective field-effect transistor (ISFET) |
| US9599586B2 (en) * | 2012-08-27 | 2017-03-21 | Infineon Technologies Ag | Ion sensor |
| EP3114086B1 (en) * | 2014-03-06 | 2019-09-11 | The Board of Regents of The University of Texas System | Methods and devices for measuring conductivity of fluids |
| JP6643733B2 (ja) * | 2017-08-30 | 2020-02-12 | 東亜ディーケーケー株式会社 | Cod測定装置、及びプログラム |
| CN113687016B (zh) * | 2021-09-09 | 2023-09-12 | 南通联亚药业股份有限公司 | 一种盐酸环苯扎林中氯离子含量的检测方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51139289A (en) * | 1975-03-12 | 1976-12-01 | Univ Utah | Chemically sensitive fe converter |
| JPS5570733A (en) * | 1978-11-21 | 1980-05-28 | Kuraray Co Ltd | Stable fet sensor |
| GB2076545A (en) | 1980-05-23 | 1981-12-02 | Kodak Ltd | Surfactant-sensitive Membrane Electrode and Method of Determining Surfactant Concentrations |
| JPS577550A (en) * | 1980-06-16 | 1982-01-14 | Shimadzu Corp | Apparatus for measuring ion in solution |
| JPS577559A (en) * | 1980-06-16 | 1982-01-14 | Shimadzu Corp | Measuring apparatus for chlorine ion in living body fluid |
| JPS5858459A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-07 | Shimadzu Corp | 溶液導電率型ガス濃度測定用電極 |
| JPS59182357A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-17 | Shimadzu Corp | イオンセンサ− |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4273636A (en) * | 1977-05-26 | 1981-06-16 | Kiyoo Shimada | Selective chemical sensitive field effect transistor transducers |
| JPS5825221B2 (ja) * | 1977-12-12 | 1983-05-26 | 株式会社クラレ | Fet比較電極 |
| IT1110461B (it) * | 1978-03-01 | 1985-12-23 | Oronzio De Nora Impianti | Membrane anioniche costituite da copolimeri di (2) o (4)-vinilpiridina con divinilbenzene o con monomeri vinilici alogenati |
-
1985
- 1985-09-06 GB GB858522207A patent/GB8522207D0/en active Pending
-
1986
- 1986-08-15 CA CA000516045A patent/CA1248175A/en not_active Expired
- 1986-09-02 US US06/902,906 patent/US4773970A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-09-04 EP EP86905617A patent/EP0236440B1/en not_active Expired
- 1986-09-04 JP JP61504922A patent/JPH0726933B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1986-09-04 WO PCT/US1986/001819 patent/WO1987001454A1/en not_active Ceased
- 1986-09-04 DE DE8686905617T patent/DE3666980D1/de not_active Expired
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51139289A (en) * | 1975-03-12 | 1976-12-01 | Univ Utah | Chemically sensitive fe converter |
| JPS5570733A (en) * | 1978-11-21 | 1980-05-28 | Kuraray Co Ltd | Stable fet sensor |
| GB2076545A (en) | 1980-05-23 | 1981-12-02 | Kodak Ltd | Surfactant-sensitive Membrane Electrode and Method of Determining Surfactant Concentrations |
| JPS577550A (en) * | 1980-06-16 | 1982-01-14 | Shimadzu Corp | Apparatus for measuring ion in solution |
| JPS577559A (en) * | 1980-06-16 | 1982-01-14 | Shimadzu Corp | Measuring apparatus for chlorine ion in living body fluid |
| JPS5858459A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-07 | Shimadzu Corp | 溶液導電率型ガス濃度測定用電極 |
| JPS59182357A (ja) * | 1983-03-31 | 1984-10-17 | Shimadzu Corp | イオンセンサ− |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3666980D1 (en) | 1989-12-21 |
| WO1987001454A1 (en) | 1987-03-12 |
| CA1248175A (en) | 1989-01-03 |
| EP0236440B1 (en) | 1989-11-15 |
| US4773970A (en) | 1988-09-27 |
| GB8522207D0 (en) | 1985-10-09 |
| JPS63500742A (ja) | 1988-03-17 |
| EP0236440A1 (en) | 1987-09-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0726933B2 (ja) | イオン―感受性電気化学的センサー | |
| US5804049A (en) | Material for establishing solid state contact for ion selective electrodes | |
| KR900004691B1 (ko) | 이온 선택성 fet 센서 | |
| US6797152B2 (en) | Sensors and sensing methods for detecting analytes based on changes in pKa of a sensing polymer | |
| JPS62277547A (ja) | ガスセンサ− | |
| US5472590A (en) | Ion sensor | |
| EP0245168A2 (en) | Ion sensor | |
| US8394247B2 (en) | Anion concentration measuring device and anion concentration measuring element | |
| Choi et al. | Covalently attached ionophores extend the working range of potentiometric pH sensors with poly (decyl methacrylate) sensing membranes | |
| US5180481A (en) | Phosphate selective composition and electrode | |
| Katsu et al. | Discrimination of methylammonium from organic ammonium ions using ion-selective electrodes based on calix [4] arene-crown-6 conjugates | |
| GB2105043A (en) | Halide ion selective electrode | |
| KR900005620B1 (ko) | 이온선택성 fet센서 | |
| TWI485400B (zh) | 氯離子感測系統 | |
| WO1989009932A1 (fr) | Capteur d'ions | |
| JPH0668481B2 (ja) | イオン選択性fetセンサ | |
| SU411362A1 (ru) | Способ измерения концентрации полимеров в электропроводящих растворах | |
| JPS6275347A (ja) | pHの測定方法 | |
| JPH0795060B2 (ja) | イオン選択性fetセンサ− | |
| JPS63100369A (ja) | イオンセンサ− | |
| Janata | Solid State Potentiometric Sensors | |
| QUAN et al. | Application of Conjugated Polymer Thin Film in a Solid-Contact Ion Selective Electrode | |
| WO2002010731A1 (en) | SENSORS AND SENSING METHODS FOR DETECTING ANALYTES BASED ON CHANGES IN pKa OF A SENSING POLYMER | |
| JPH07167826A (ja) | イオンセンサ | |
| JPH03287060A (ja) | 固体化学センサ |