JPH07272205A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、ベースへの磁気ヘッドチップの貼
り付け精度を向上させることができる磁気ヘッドを得る
ことを目的とする。 【構成】 本発明は、ベースに磁気ヘッドチップ７を接
着固定したＶＴＲ用磁気ヘッドである。この磁気ヘッド
の磁気ヘッドチップ７は、その後端部１ｃの幅がその前
端部１ｂの幅よりも大きいものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばＶＴＲ用磁気ヘ
ッドに使用して好適な磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】磁気ヘ
ッドに於いて、ヘッドチップ幅と、出力、インピーダン
スの関係は、一般的に、ヘッドチップ幅が広い程出力、
インピーダンス共大きくなる傾向にある。又、磁気ヘッ
ドのコイル巻数と出力、インピーダンスの関係は、巻数
が多い程、出力、インピーダンスは大きくなる傾向にあ
る。

【０００３】ＶＴＲ等の磁気記録装置に於いて、周波数
共振点等の兼合いから個々のデバイスのインピーダンス
や、インダクタンスが設定されている。磁気ヘッドは、
設定されたインピーダンス、インダクタンスのヘッドで
かつ、高出力なヘッドが要求される。

【０００４】現在、磁気ヘッドチップ幅は、せまくなる
傾向になっている。これはコイル巻線数を増やし、高出
力を得る事を目的としたヘッドのインピーダンス増加を
防ぐ為である。

【０００５】しかし、チップ幅をせまくする事で、ベー
スへのチップ貼り付け精度が悪化し、これにより、アジ
マスロスが増大する。

【０００６】図７は、従来の磁気ヘッドの例を示したも
のである。ＶＴＲ用磁気ヘッドに用いられる、ヘッドチ
ップは一般的に幅＝１．５〜３ｍｍ、長さ２０ｍｍ前後
であり、そのうち、接着面はヘッドチップ後端より１．
０〜１．５ｍｍ程の所まである。面積にすると１．５〜
４．５ｍｍ² 程度である。これはごく小さいものであ
り、接着、固定に対して非常に不安定である。

【０００７】本発明はこのような課題に鑑みてなされた
ものであり、ベースへの磁気ヘッドチップの貼り付け精
度を向上させることができる磁気ヘッドを得ることを目
的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドは、
例えば図１に示すように、ベースに磁気ヘッドチップ７
を接着固定するＶＴＲ用磁気ヘッドにおいて、この磁気
ヘッドチップ７は、その後端部１ｃの幅がその前端部１
ｂの幅よりも大きいものである。

【０００９】上述のように、本発明は、従来の高出力を
得られる、幅のせまいヘッドのチップ貼り付け精度を上
げ、アジマスロスを低減させるものである。

【００１０】

【作用】本発明の磁気ヘッドによれば、ベースに磁気ヘ
ッドチップ７を接着固定するＶＴＲ用磁気ヘッドにおい
て、この磁気ヘッドチップ７の後端部１ｃの幅をその前
端部１ｂの幅よりも大きくすることにより、ベースへの
磁気ヘッドチップの貼り付け精度を向上させることがで
きる。

【００１１】

【実施例】以下、本発明を適用した磁気ヘッドの製造方
法の一実施例を図１〜６を参照しながら、説明する。磁
気ヘッドを作製するには先ず、図３に示すように、例え
ばフェライトブロック１の一主面１ａ、すなわち、フェ
ライトブロック１同士の突き合せ時の接合面に、例えば
回転砥石等による、機械的手段にて巻線溝２を形成す
る。この結果磁気ギャップのデプス零の位置が決定され
る。

【００１２】次にその巻線溝２と隣接した位置に巻線溝
と平行な方向にガラス溝３を切削形成する。この結果上
記巻線溝２と、ガラス溝３間の平坦な面１ｂがバックギ
ャップ形成面に相当する。

【００１３】次に巻線溝２と直交する方向に、回転砥石
等による機械的手段にて、トラック幅規制溝４を全幅に
亘って複数形成する。この結果上記トラック幅規制溝４
間の平坦な面１ａが磁気ギャップ形成面に相当する。

【００１４】上記フェライトブロック１の材料として
は、例えば酸化物磁性材料のＭｎ−Ｚｎ系フェライトや
Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト等が使用可能である。

【００１５】上記トラック幅規制溝４は本実施例では断
面略半円形状となっているが、その磁気ヘッドの必要特
性に応じて例えば断面略Ｖ字状の溝に形成してもよい。

【００１６】次に上記磁気ギャップ形成面１ａに鏡面加
工を施す。そして、前記磁気ギャップ形成面１ａ上に蒸
着、スパッタリング等の薄膜形成技術により所定の膜厚
のギャップ膜５を被着形成する。

【００１７】上記ギャップ膜の材料としては、フェライ
トブロック１の接着時にガラス６と反応しないこと、該
フェライトブロック１と、同等の耐摩耗性を有するこ
と、非磁性材であることの条件を満たすものが使用さ
れ、具体的には、ＳｉＯ₂ ，Ｔａ ₂ Ｏ₃ ，ＺｒＯ₂ ，Ｃ
ｒ，Ｂｅ−Ｃｕ合金等が好適である。上記ギャップ膜５
の膜付け方法としては、例えば真空蒸着法、スパッタリ
ング法、イオンプレーティング法、クライスター・イオ
ンビーム法等に代表される、真空薄膜形成技術が挙げら
れる。

【００１８】次に前述工程を繰り返して図１に示すフェ
ライトブロック１と同じ物を作製し、これらフェライト
ブロック１，１同士を図４に示す様に突合せる。すなわ
ち磁気ギャップ形成面１ａ，１ａ同士を対向させて、ト
ラック幅を合わせる。

【００１９】そして、前記巻線溝２とガラス溝３内にガ
ラス棒を挿入した後、これらフェライトブロック１，１
対を炉内に載置して加熱する。すると上記ガラス棒は溶
融し、トラック幅規制溝４内を満たす。この結果フェラ
イトブロック１，１対は接合一対化される。

【００２０】次にフェライトブロック１，１の幅を所定
の幅に、フェライトブロック１，１の高さ１／２〜２／
３の位置まで回転砥石等により切削形成する（図３）。

【００２１】次に必要に応じてフェライトブロック１，
１の前面に対して円筒研磨を施す。そして図６中のＡ−
Ａ線、Ａ′−Ａ′線等及びＢ−Ｂ線で示す切断位置に切
り出し図１及び図２に示す如き磁気ヘッドを完成する。

【００２２】この磁気ヘッドにおいて、フェライトブロ
ック１の接合面にギャップ膜５が形成され、このギャッ
プ膜５の膜厚にて磁気ギャップｇのギャップ長ｌが規制
された構造となっている。さらに上記磁気ギャップｇは
トラック幅規制溝４，４にてそのトラック幅Ｔｗが規制
され、当該トラック幅規制溝４，４内に磁気記録媒体と
の当たり特性を確保するとともに、両磁気コア半体１，
１を接合するためのガラス６が充填された構造をなして
いる。

【００２３】次に磁気ヘッドチップ後端部の寸法につい
て説明する。後端部の幅は大きければ大きい程、ベース
への貼り付け精度が良好になりアジマスロス防止に対し
て有効になるが、貼付スペースを考えるとヘッド前端部
の２倍〜３倍が好ましい。従来のＶＴＲ用ヘッドの寸法
でゆうならば、ヘッドチップ幅がおよそ１．５〜２ｍｍ
程に対して３ｍｍ〜６ｍｍである。電気的特性への影響
については、ヘッド後端部幅によるものはほとんどな
い。

【００２４】また、高さ方向の寸法については幅方向と
同様に大きければ大きい程ベースへの貼付け精度が良好
になるが巻線部にかかると、インピーダンスが増加して
しまうことがあるのでヘッド高さの１／３〜１／２（ヘ
ッド高さ２ｍｍ前後に対し０．６〜１ｍｍ）が好まし
い。

【００２５】以上のことから、本例によれば高出力を目
的とする幅の狭い磁気ヘッドに於いて、ベースへのヘッ
ドチップ貼り付け精度を向上させ、これによりアジマス
ロスの低減になり、さらに高い出力が得られる。

【００２６】なお、本発明は上述の実施例に限らず本発
明の要旨を逸脱することなくその他種々の構成を採り得
ることはもちろんである。

【００２７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高出力を目的とする幅の狭い磁気ヘッドにおいても、ベ
ースへの磁気ヘッドチップの貼り付け精度を向上させる
ことができる。また、これによりアジマスロスを低減さ
せることができる。さらにまた、高い出力を得ることが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明磁気ヘッドの一実施例を示す構成図であ
る。

【図２】本発明磁気ヘッドの一実施例を示す要部拡大図
である。

【図３】本発明磁気ヘッドに用いるフェライトブロック
を示す斜視図である。

【図４】接合一対化したフェライトブロックを示す斜視
図である。

【図５】階段状に切削形成したフェライトブロックを示
す斜視図である。

【図６】フェライトブロックの切断箇所を示す斜視図で
ある。

【図７】従来の磁気ヘッドの例を示す構成図である。

【符号の説明】

１ フェライトブロック １ａ 磁気ギャップ形成面 １ｂ 前端部 １ｃ 後端部 ２ 巻線溝 ３ ガラス溝 ４ トラック幅規制溝 ５ ギャップ膜 ７ 磁気ヘッドチップ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ベースに磁気ヘッドチップを接着固定す
   るＶＴＲ用磁気ヘッドにおいて、 上記磁気ヘッドチップは、その後端部幅がその前端部幅
   よりも大きいことを特徴とする磁気ヘッド。