JPH07278202A - キサンタンガムの脱液方法 - Google Patents
キサンタンガムの脱液方法Info
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- JPH07278202A JPH07278202A JP7454394A JP7454394A JPH07278202A JP H07278202 A JPH07278202 A JP H07278202A JP 7454394 A JP7454394 A JP 7454394A JP 7454394 A JP7454394 A JP 7454394A JP H07278202 A JPH07278202 A JP H07278202A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08B—POLYSACCHARIDES; DERIVATIVES THEREOF
- C08B37/00—Preparation of polysaccharides not provided for in groups C08B1/00 - C08B35/00; Derivatives thereof
- C08B37/0006—Homoglycans, i.e. polysaccharides having a main chain consisting of one single sugar, e.g. colominic acid
- C08B37/0024—Homoglycans, i.e. polysaccharides having a main chain consisting of one single sugar, e.g. colominic acid beta-D-Glucans; (beta-1,3)-D-Glucans, e.g. paramylon, coriolan, sclerotan, pachyman, callose, scleroglucan, schizophyllan, laminaran, lentinan or curdlan; (beta-1,6)-D-Glucans, e.g. pustulan; (beta-1,4)-D-Glucans; (beta-1,3)(beta-1,4)-D-Glucans, e.g. lichenan; Derivatives thereof
- C08B37/0033—Xanthan, i.e. D-glucose, D-mannose and D-glucuronic acid units, saubstituted with acetate and pyruvate, with a main chain of (beta-1,4)-D-glucose units; Derivatives thereof
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 析出されたキサンタンガムの分離、回収に際
し、脱液率を上げることで、乾燥工程のエネルギー負荷
を下げ、低動力で連続的に脱液する方法を提供する。 【構成】 キサンタンガムを含む水溶液とキサンタンガ
ムを溶解しない親水性有機溶剤を混合し、キサンタンガ
ムを析出させた後、キサンタンガム固形分を分離し、回
収する方法において、回転につれて間隔が縮小する円盤
状の一対のスクリーンを有するＶ型デイスクプレスに、
析出したキサンタンガムを含む分散液を供給し、上記円
盤状の一対のスクリーンによって該キサンタンガム分散
液を圧搾し、液成分をスクリーンを通過して回収すると
ともに、圧搾によって脱液されたキサンタンガム成分を
上記スクリーンとともに回転し排出し回収することを特
徴とするキサンタンガムの脱液方法。
し、脱液率を上げることで、乾燥工程のエネルギー負荷
を下げ、低動力で連続的に脱液する方法を提供する。 【構成】 キサンタンガムを含む水溶液とキサンタンガ
ムを溶解しない親水性有機溶剤を混合し、キサンタンガ
ムを析出させた後、キサンタンガム固形分を分離し、回
収する方法において、回転につれて間隔が縮小する円盤
状の一対のスクリーンを有するＶ型デイスクプレスに、
析出したキサンタンガムを含む分散液を供給し、上記円
盤状の一対のスクリーンによって該キサンタンガム分散
液を圧搾し、液成分をスクリーンを通過して回収すると
ともに、圧搾によって脱液されたキサンタンガム成分を
上記スクリーンとともに回転し排出し回収することを特
徴とするキサンタンガムの脱液方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、キサンタンガムを含む
水溶液とキサンタンガムを溶解しない親水性有機溶剤を
混合し、キサンタンガムを析出させた後、キサンタンガ
ム固形分を分離し、回収する方法、特には、Ｖ型デイス
クプレスを用いたキサンタンガムの脱液方法に関するも
のである。
水溶液とキサンタンガムを溶解しない親水性有機溶剤を
混合し、キサンタンガムを析出させた後、キサンタンガ
ム固形分を分離し、回収する方法、特には、Ｖ型デイス
クプレスを用いたキサンタンガムの脱液方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】キサンタンガムは、良く知られた発酵方
法によって得られる。すなわち、キサンタンガムは、キ
サンタンガムを生産する、例えば、キサントモナス（Xa
nthomonas ）属に属する細菌であるキサントモナス・キ
ャンペストリス（Xanthomonascampestris）（米国特許
第3,659,026 号明細書に記載）によって生産された発酵
液から得ることができる。この方法では、該発酵液とイ
ソプロパノール等の親水性有機溶剤と混合することによ
って、キサンタンガムを析出させ、この析出したキサン
タンガムを分離することによりキサンタンガムを製造し
ている。また、キサンタンガムの水溶液をイソプロパノ
ール等の親水性有機溶剤と混合することにより、発酵液
からと同様に、キサンタンガムを析出させ、分離するこ
とができる。従来、析出したキサンタンガムを分散液か
ら分離する方法として、押出式遠心分離機により脱液す
る方法、あるいは加圧もしくは減圧ろ過方式が使用され
ている。
法によって得られる。すなわち、キサンタンガムは、キ
サンタンガムを生産する、例えば、キサントモナス（Xa
nthomonas ）属に属する細菌であるキサントモナス・キ
ャンペストリス（Xanthomonascampestris）（米国特許
第3,659,026 号明細書に記載）によって生産された発酵
液から得ることができる。この方法では、該発酵液とイ
ソプロパノール等の親水性有機溶剤と混合することによ
って、キサンタンガムを析出させ、この析出したキサン
タンガムを分離することによりキサンタンガムを製造し
ている。また、キサンタンガムの水溶液をイソプロパノ
ール等の親水性有機溶剤と混合することにより、発酵液
からと同様に、キサンタンガムを析出させ、分離するこ
とができる。従来、析出したキサンタンガムを分散液か
ら分離する方法として、押出式遠心分離機により脱液す
る方法、あるいは加圧もしくは減圧ろ過方式が使用され
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記方法によ
る場合、析出したキサンタンガムがフィルタースクリー
ン上で板状に圧密化されるため連続処理する場合の脱液
効果が上がらず、脱液後のキサンタンガムの含水率は、
６０〜７０％程度に留まっていた。そのため、その後の
乾燥工程ではより大きなエネルギー負荷となっていた。
さらに、遠心分離機では、スクリーンバスケットを有機
溶剤存在下で高速で回転させる必要があるため、多大な
動力と安全対策を必要とする等好ましい方法ではなかっ
た。
る場合、析出したキサンタンガムがフィルタースクリー
ン上で板状に圧密化されるため連続処理する場合の脱液
効果が上がらず、脱液後のキサンタンガムの含水率は、
６０〜７０％程度に留まっていた。そのため、その後の
乾燥工程ではより大きなエネルギー負荷となっていた。
さらに、遠心分離機では、スクリーンバスケットを有機
溶剤存在下で高速で回転させる必要があるため、多大な
動力と安全対策を必要とする等好ましい方法ではなかっ
た。
【０００４】したがって、本発明の目的は、析出された
キサンタンガムの分離、回収に際し、脱液率を上げるこ
とで、乾燥工程のエネルギー負荷を下げ、低動力で連続
的に脱液する方法を提供することにある。
キサンタンガムの分離、回収に際し、脱液率を上げるこ
とで、乾燥工程のエネルギー負荷を下げ、低動力で連続
的に脱液する方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、請
求項１の発明の要旨は、キサンタンガムを含む水溶液と
キサンタンガムを溶解しない親水性有機溶剤を混合し、
キサンタンガムを析出させた後、キサンタンガム固形分
を分離し、回収する方法において、回転につれて間隔が
縮小する円盤状の一対のスクリーンを有するＶ型デイス
クプレスに、析出したキサンタンガムを含む分散液を供
給し、上記円盤状の一対のスクリーンによって該キサン
タンガム分散液を圧搾し、液成分をスクリーンを通過し
て回収するとともに、圧搾によって脱液されたキサンタ
ンガム成分を上記スクリーンとともに回転し排出し回収
することを特徴とするキサンタンガムの脱液方法にあ
る。
求項１の発明の要旨は、キサンタンガムを含む水溶液と
キサンタンガムを溶解しない親水性有機溶剤を混合し、
キサンタンガムを析出させた後、キサンタンガム固形分
を分離し、回収する方法において、回転につれて間隔が
縮小する円盤状の一対のスクリーンを有するＶ型デイス
クプレスに、析出したキサンタンガムを含む分散液を供
給し、上記円盤状の一対のスクリーンによって該キサン
タンガム分散液を圧搾し、液成分をスクリーンを通過し
て回収するとともに、圧搾によって脱液されたキサンタ
ンガム成分を上記スクリーンとともに回転し排出し回収
することを特徴とするキサンタンガムの脱液方法にあ
る。
【０００６】上記キサンタンガムを含む水溶液として
は、キサンタンガム発酵液やそれを濾過や薬液等により
処理した後の液も包含し、キサンタンガム濃度、ｐＨ、
温度、他の添加剤の濃度等の水溶液組成に制限されるも
のではない。
は、キサンタンガム発酵液やそれを濾過や薬液等により
処理した後の液も包含し、キサンタンガム濃度、ｐＨ、
温度、他の添加剤の濃度等の水溶液組成に制限されるも
のではない。
【０００７】また、キサンタンガムの析出に使用される
キサンタンガムを溶解しない親水性有機溶剤としては、
一般的にイソプロパノールが使用されるが、この他に例
えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジオ
キサン、アセトン、テトラヒドロフラン等を挙げること
ができる。
キサンタンガムを溶解しない親水性有機溶剤としては、
一般的にイソプロパノールが使用されるが、この他に例
えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジオ
キサン、アセトン、テトラヒドロフラン等を挙げること
ができる。
【０００８】キサンタンガムの上記析出方法としては、
特に制限はないが、キサンタンガム水溶液とキサンタン
ガムを溶解しない親水性有機溶剤とを連続的に供給し混
合し、析出すると同時に解砕し、細かい析出物とする方
法（ヨーロッパ公開特許０５１４８９０Ａ３）によれ
ば、析出工程と本発明の分離、脱液工程を連続化するこ
とが容易である。
特に制限はないが、キサンタンガム水溶液とキサンタン
ガムを溶解しない親水性有機溶剤とを連続的に供給し混
合し、析出すると同時に解砕し、細かい析出物とする方
法（ヨーロッパ公開特許０５１４８９０Ａ３）によれ
ば、析出工程と本発明の分離、脱液工程を連続化するこ
とが容易である。
【０００９】Ｖ型デイスクプレスのスクリーンの目開き
は、１ｍｍ2 以下が好ましく、円形孔やスリット孔のス
クリーンが使用される。目開きがこれより大では、圧搾
時にキサンタンガムがスクリーンを通過するロス分が大
きくなることがあり好ましくない。
は、１ｍｍ2 以下が好ましく、円形孔やスリット孔のス
クリーンが使用される。目開きがこれより大では、圧搾
時にキサンタンガムがスクリーンを通過するロス分が大
きくなることがあり好ましくない。
【００１０】Ｖ型デスクプレスへの析出したキサンタン
ガムの分散液の供給速度は、分散液の最大供給速度は、
スクリーンを通過する液成分の通過速度が供給速度とつ
り合う状態で設定される。供給速度が過大ではケーキが
膨液されきれずにケーキ排出口から液成分を過大に含ん
だまま排出される場合があり好ましくない。
ガムの分散液の供給速度は、分散液の最大供給速度は、
スクリーンを通過する液成分の通過速度が供給速度とつ
り合う状態で設定される。供給速度が過大ではケーキが
膨液されきれずにケーキ排出口から液成分を過大に含ん
だまま排出される場合があり好ましくない。
【００１１】
【作用】請求項１のキサンタンガムの脱液方法によれ
ば、キサンタンガムは、その水溶液とキサンタンガムを
溶解しない親水性有機溶剤と混合されることにより析出
され、得られる分散液は、直接あるいは移送ポンプやロ
ータリーバルブ等の定量供給機を介して連続圧搾式のＶ
型デイスクプレスに連続的に供給される。供給されたキ
サンタンガム分散液は、回転につれて間隔が縮小する円
盤状の一対のスクリーンによって圧搾され、液成分はス
クリーンを通過し回収される。圧搾によって脱液された
キサンタンガム成分はスクリーンとともに回転し排出さ
れ回収される。
ば、キサンタンガムは、その水溶液とキサンタンガムを
溶解しない親水性有機溶剤と混合されることにより析出
され、得られる分散液は、直接あるいは移送ポンプやロ
ータリーバルブ等の定量供給機を介して連続圧搾式のＶ
型デイスクプレスに連続的に供給される。供給されたキ
サンタンガム分散液は、回転につれて間隔が縮小する円
盤状の一対のスクリーンによって圧搾され、液成分はス
クリーンを通過し回収される。圧搾によって脱液された
キサンタンガム成分はスクリーンとともに回転し排出さ
れ回収される。
【００１２】Ｖ型デイスクプレスは、比重差を利用した
遠心分離機と異なり、圧搾方式によるものであるため、
脱液度は分散液供給速度、圧搾圧力およびスクリーン回
転数で調整でき、キサンタンガムの含液率として４０〜
５０重量％にまで低下できる。そのため、親水性有機溶
剤による洗浄精製効果が高められるとともに、その後の
乾燥工程のエネルギー負荷を低減することが可能とな
る。
遠心分離機と異なり、圧搾方式によるものであるため、
脱液度は分散液供給速度、圧搾圧力およびスクリーン回
転数で調整でき、キサンタンガムの含液率として４０〜
５０重量％にまで低下できる。そのため、親水性有機溶
剤による洗浄精製効果が高められるとともに、その後の
乾燥工程のエネルギー負荷を低減することが可能とな
る。
【００１３】また、Ｖ型デイスクプレスのスクリーン回
転数は、通常１〜１２ｒｐｍ（スクリーン直径 ０．５
〜１．５ｍ）程度の低速回転で圧搾できる。遠心分離機
方式の５００〜２０００ｒｐｍに比較して極めて低い動
力で運転でき、有機溶剤存在下で高速で回転させる必要
がないため安全対策上も有利である。
転数は、通常１〜１２ｒｐｍ（スクリーン直径 ０．５
〜１．５ｍ）程度の低速回転で圧搾できる。遠心分離機
方式の５００〜２０００ｒｐｍに比較して極めて低い動
力で運転でき、有機溶剤存在下で高速で回転させる必要
がないため安全対策上も有利である。
【００１４】
【実施例】以下に、添付図面に示した実施例を参照しな
がら、本発明にかかるキサンタンガムの脱液方法を説明
する。
がら、本発明にかかるキサンタンガムの脱液方法を説明
する。
【００１５】図１，図２は、本発明にかかるキサンタン
ガムの脱液方法に使用するＶ型デイスクプレスの実施例
を示し、図において、１はＶ型デイスクプレス本体、２
ａ，２ｂはスクリーン、３ａ，３ｂはスピンドル、４
ａ，４ｂは支持腕、５は油圧シリンダ（またはバネ式シ
リンダ）である。
ガムの脱液方法に使用するＶ型デイスクプレスの実施例
を示し、図において、１はＶ型デイスクプレス本体、２
ａ，２ｂはスクリーン、３ａ，３ｂはスピンドル、４
ａ，４ｂは支持腕、５は油圧シリンダ（またはバネ式シ
リンダ）である。
【００１６】上記一対のスクリーン２ａ，２ｂは、図か
ら了解されるように円盤（円錐面）状に構成されてお
り、回転支持部１１ａ，１１ｂに固定されている。スク
リーン２ａ，２ｂの間隔は、原料入口側Ａで最も広く、
１８０度回転した反対側Ｂで最も狭くなる。スクリーン
２ａ，２ｂは、図３に示すように、正面から見て６枚に
分割されており、それぞれ小孔２１を多数均一に穿孔し
たパンチングメタルプレート２０より成り、小孔の大き
さ（スクリーンの目開）と小孔２１の数によって開口率
が決定される。パンチングメタルプレート２０は、圧搾
時の加圧に耐えるために、裏面を適宜補強プレート２２
で強化されている（図４）。補強プレート２２は、均一
に穿孔した大孔２３を備えている。
ら了解されるように円盤（円錐面）状に構成されてお
り、回転支持部１１ａ，１１ｂに固定されている。スク
リーン２ａ，２ｂの間隔は、原料入口側Ａで最も広く、
１８０度回転した反対側Ｂで最も狭くなる。スクリーン
２ａ，２ｂは、図３に示すように、正面から見て６枚に
分割されており、それぞれ小孔２１を多数均一に穿孔し
たパンチングメタルプレート２０より成り、小孔の大き
さ（スクリーンの目開）と小孔２１の数によって開口率
が決定される。パンチングメタルプレート２０は、圧搾
時の加圧に耐えるために、裏面を適宜補強プレート２２
で強化されている（図４）。補強プレート２２は、均一
に穿孔した大孔２３を備えている。
【００１７】この実施例において、スクリーンの個々の
小孔の大きさ（スクリーンの目開き）は、１ｍｍ2 以下
が好ましく、円形孔やスリット孔のスクリーンが使用さ
れる。目開きがこれより大では、圧搾時にスクリーンを
通過するキサンタンガムのロス分が大きくなることがあ
り好ましくない。
小孔の大きさ（スクリーンの目開き）は、１ｍｍ2 以下
が好ましく、円形孔やスリット孔のスクリーンが使用さ
れる。目開きがこれより大では、圧搾時にスクリーンを
通過するキサンタンガムのロス分が大きくなることがあ
り好ましくない。
【００１８】図２に示すように、上記スピンドル３ａ，
３ｂは、左右一対に構成されており、支持腕４ａ，４ｂ
に固定支持され、本体１の中央においてセンターピン６
によって互いに揺動自在に連結されている。なお、セン
ターピン６の両端は本体１に固定されている。一方、支
持腕４ａ，４ｂは、Ｌ字型に構成されており、上記した
ように一端においてスピンドル３ａ，３ｂを固定支持す
るとともに、他端は油圧シリンダ５またはバネ式シリン
ダを介して互いに連結されている。この油圧シリンダ５
の近傍において、支持腕４ａ，４ｂは、リンク７ａ，７
ｂを介して本体１に対して変位可能に結合されている。
８はリンク７ａと支持腕４ａとの回転中心であり、９は
リンク７ａ，７ｂの回転中心である。リンク７ｂと支持
腕４ｂとの回転中心も機構上勿論設定されているが、図
２では隠れている。回転中心９は、溝１０内で上下に摺
動自在となっている（すなわちスライダを構成する）。
３ｂは、左右一対に構成されており、支持腕４ａ，４ｂ
に固定支持され、本体１の中央においてセンターピン６
によって互いに揺動自在に連結されている。なお、セン
ターピン６の両端は本体１に固定されている。一方、支
持腕４ａ，４ｂは、Ｌ字型に構成されており、上記した
ように一端においてスピンドル３ａ，３ｂを固定支持す
るとともに、他端は油圧シリンダ５またはバネ式シリン
ダを介して互いに連結されている。この油圧シリンダ５
の近傍において、支持腕４ａ，４ｂは、リンク７ａ，７
ｂを介して本体１に対して変位可能に結合されている。
８はリンク７ａと支持腕４ａとの回転中心であり、９は
リンク７ａ，７ｂの回転中心である。リンク７ｂと支持
腕４ｂとの回転中心も機構上勿論設定されているが、図
２では隠れている。回転中心９は、溝１０内で上下に摺
動自在となっている（すなわちスライダを構成する）。
【００１９】上記本体１，センターピン６，スピンドル
３ａと一体の支持腕４ａ，回転中心８，リンク７ａ，回
転中心９および溝１０で一種の回りスライダクランク機
構を構成する。同様に、本体１，センターピン６，スピ
ンドル３ｂと一体の支持腕４ｂ，回転中心８，リンク７
ｂ，回転中心９および溝１０で一種の回りスライダクラ
ンク機構を構成する。この結果、油圧シリンダ５または
バネ式シリンダの左右動によってリンク７ａ，７ｂの開
き角度を調節することによって、これらの要素と連動す
るスピンドル３ａ，３ｂの角度を調節し、スクリーン２
ａ，２ｂの開きを調節し、圧搾力を制御することができ
る。なお、本実施例では、スクリーンの開きを調節する
ための機構を上記の回りスライダクランク機構とした
が、例えば、スライダの部分をリンクで置き換え、四節
回転連鎖機構とする等、要するにスピンドルの角度を調
節できる機構ならば本発明で採用することができる。
３ａと一体の支持腕４ａ，回転中心８，リンク７ａ，回
転中心９および溝１０で一種の回りスライダクランク機
構を構成する。同様に、本体１，センターピン６，スピ
ンドル３ｂと一体の支持腕４ｂ，回転中心８，リンク７
ｂ，回転中心９および溝１０で一種の回りスライダクラ
ンク機構を構成する。この結果、油圧シリンダ５または
バネ式シリンダの左右動によってリンク７ａ，７ｂの開
き角度を調節することによって、これらの要素と連動す
るスピンドル３ａ，３ｂの角度を調節し、スクリーン２
ａ，２ｂの開きを調節し、圧搾力を制御することができ
る。なお、本実施例では、スクリーンの開きを調節する
ための機構を上記の回りスライダクランク機構とした
が、例えば、スライダの部分をリンクで置き換え、四節
回転連鎖機構とする等、要するにスピンドルの角度を調
節できる機構ならば本発明で採用することができる。
【００２０】前記した回転支持部１１ａ，１１ｂは、図
２に示すように、ベアリングを介してスピンドル３ａ，
３ｂに回転自在に支承されており、一体のスプロケット
１２ａ，１２ｂに（チェーンを媒介として）伝達される
駆動力によって回転する。なお、回転支持部１１ａ，１
１ｂへの動力伝達機構は、他にもＶベルトによる伝達機
構等各種の機構を採用することが可能である。
２に示すように、ベアリングを介してスピンドル３ａ，
３ｂに回転自在に支承されており、一体のスプロケット
１２ａ，１２ｂに（チェーンを媒介として）伝達される
駆動力によって回転する。なお、回転支持部１１ａ，１
１ｂへの動力伝達機構は、他にもＶベルトによる伝達機
構等各種の機構を採用することが可能である。
【００２１】図１，図２のＶ型デイスクプレスを使用し
てキサンタンガム分散液を圧搾するに先だって次の操作
も行う。まず、適当な培地を用いて、前培養、本培養を
経てキサンタンガム発酵液を得る。次いで、発酵液を殺
菌処理（加熱処理）し、この培養液（キサンタンガムを
含む水溶液）にキサンタンガムを溶解しない親水性有機
溶剤（イソプロパノール等）を混合し、キサンタンガム
を析出した状態の分散液を得る。上記培養液（キサンタ
ンガムを含む水溶液）としては、キサンタンガム発酵液
やそれを濾過や薬液等により処理した後の液も包含し、
キサンタンガム濃度、ｐＨ、温度、他の添加剤の濃度等
の水溶液組成に制限されるものではない。また、キサン
タンガムの析出に使用されるキサンタンガムを溶解しな
い親水性有機溶剤としては、上記の他に例えば、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類、ジオキサン、アセ
トン、テトラヒドロフラン等を挙げることができる。キ
サンタンガムの上記析出方法としては、特に制限はない
が、キサンタンガム水溶液とキサンタンガムを溶解しな
い親水性有機溶剤とを連続的に供給し混合し、析出する
と同時に解砕し、細かい析出物とする方法（ヨーロッパ
公開特許０５１４８９０Ａ３）によれば、析出工程と図
１，図２のＶ型デイスクプレスを用いた分離、脱液工程
を連続化することが容易である。
てキサンタンガム分散液を圧搾するに先だって次の操作
も行う。まず、適当な培地を用いて、前培養、本培養を
経てキサンタンガム発酵液を得る。次いで、発酵液を殺
菌処理（加熱処理）し、この培養液（キサンタンガムを
含む水溶液）にキサンタンガムを溶解しない親水性有機
溶剤（イソプロパノール等）を混合し、キサンタンガム
を析出した状態の分散液を得る。上記培養液（キサンタ
ンガムを含む水溶液）としては、キサンタンガム発酵液
やそれを濾過や薬液等により処理した後の液も包含し、
キサンタンガム濃度、ｐＨ、温度、他の添加剤の濃度等
の水溶液組成に制限されるものではない。また、キサン
タンガムの析出に使用されるキサンタンガムを溶解しな
い親水性有機溶剤としては、上記の他に例えば、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類、ジオキサン、アセ
トン、テトラヒドロフラン等を挙げることができる。キ
サンタンガムの上記析出方法としては、特に制限はない
が、キサンタンガム水溶液とキサンタンガムを溶解しな
い親水性有機溶剤とを連続的に供給し混合し、析出する
と同時に解砕し、細かい析出物とする方法（ヨーロッパ
公開特許０５１４８９０Ａ３）によれば、析出工程と図
１，図２のＶ型デイスクプレスを用いた分離、脱液工程
を連続化することが容易である。
【００２２】以上の操作の後、図１，図２のＶ型デイス
クプレスに、析出したキサンタンガムを含む分散液を供
給する。
クプレスに、析出したキサンタンガムを含む分散液を供
給する。
【００２３】原料入口Ａに供給された原料は、両スクリ
ーン２ａ，２ｂに挟持されたまま、スクリーン２ａ，２
ｂの回転につれて徐々に挟圧され水分はスクリーン２
ａ，２ｂの背面に流出する。１８０度回転した点Ｂで最
大の圧搾を受けた後スクリーン２ａ，２ｂの間隔が次第
に開いて行き、脱水されたケーキがスクレーパ１３に沿
って排出される。これによって、キサンタンガム成分を
回収することができる。なお、Ｖ型デスクプレスへのキ
サンタンガムの分散液の供給速度は、分散液中のキサン
タンガム濃度、キサンタンガムの析出状態等により適宜
選定される。
ーン２ａ，２ｂに挟持されたまま、スクリーン２ａ，２
ｂの回転につれて徐々に挟圧され水分はスクリーン２
ａ，２ｂの背面に流出する。１８０度回転した点Ｂで最
大の圧搾を受けた後スクリーン２ａ，２ｂの間隔が次第
に開いて行き、脱水されたケーキがスクレーパ１３に沿
って排出される。これによって、キサンタンガム成分を
回収することができる。なお、Ｖ型デスクプレスへのキ
サンタンガムの分散液の供給速度は、分散液中のキサン
タンガム濃度、キサンタンガムの析出状態等により適宜
選定される。
【００２４】本実施例のＶ型デイスクプレスは、比重差
を利用した遠心分離機と異なり、圧搾方式によるもので
あるため、脱液度は圧搾圧力とスクリーン回転数とで調
整でき、キサンタンガムの含液率として４０〜５０重量
％にまで低下できる。そのため、親水性有機溶剤による
洗浄精製効果が高められるとともに、その後の乾燥工程
のエネルギー負荷を低減することが可能となる。
を利用した遠心分離機と異なり、圧搾方式によるもので
あるため、脱液度は圧搾圧力とスクリーン回転数とで調
整でき、キサンタンガムの含液率として４０〜５０重量
％にまで低下できる。そのため、親水性有機溶剤による
洗浄精製効果が高められるとともに、その後の乾燥工程
のエネルギー負荷を低減することが可能となる。
【００２５】また、図１，図２のＶ型デイスクプレスの
スクリーン回転数は、通常１〜１２ｒｐｍ（スクリーン
直径 ０．５〜１．５ｍ）程度の低速回転で圧搾でき
る。遠心分離機方式の５００〜２０００ｒｐｍに比較し
て極めて低い動力で運転でき、有機溶剤存在下で高速で
回転させる必要がないため安全対策上も有利である。
スクリーン回転数は、通常１〜１２ｒｐｍ（スクリーン
直径 ０．５〜１．５ｍ）程度の低速回転で圧搾でき
る。遠心分離機方式の５００〜２０００ｒｐｍに比較し
て極めて低い動力で運転でき、有機溶剤存在下で高速で
回転させる必要がないため安全対策上も有利である。
【００２６】試験例１ 以下の本培養培地成分組成Ｉから成る培地液を２０００
Ｌ発酵槽に入れ、２４時間培養後のキサントモナス・キ
ャンペストリス前培養液を植菌し、２日間通気攪拌培養
を行い、キサンタンガム３０ｇ／Ｌを含む発酵液を得
た。
Ｌ発酵槽に入れ、２４時間培養後のキサントモナス・キ
ャンペストリス前培養液を植菌し、２日間通気攪拌培養
を行い、キサンタンガム３０ｇ／Ｌを含む発酵液を得
た。
【００２７】本培養培地成分組成Ｉ グルコース ５８ ｇ／Ｌ ポリペプトン ２ ｇ／Ｌ ＫＨ2 ＰＯ4 ２ ｇ／Ｌ ＭｇＳＯ4 ・７Ｈ2 ０ ０．５ ｇ／Ｌ 水 １３００Ｌ
【００２８】発酵液を７０℃で３０分間加熱し、キサン
タンガム生産菌を殺菌した後、キサンタンガム培養液を
１０００リットル／時、水分含量が１５重量％のイソプ
ロパノールを１５００リットル／時の供給速度で、回転
タービンを内蔵するポンプミルに供給してキサンタンガ
ムが析出した状態で分散した分散液を得た。
タンガム生産菌を殺菌した後、キサンタンガム培養液を
１０００リットル／時、水分含量が１５重量％のイソプ
ロパノールを１５００リットル／時の供給速度で、回転
タービンを内蔵するポンプミルに供給してキサンタンガ
ムが析出した状態で分散した分散液を得た。
【００２９】この分散液を、図１，図２の実施例と同様
の構成を備えたＶ型デイスクプレス（朝日工機製アサヒ
プレスＣ―３５型、スクリーン直径３５０ｍｍ、スクリ
ーンの目開き口径０．５ｍｍφ、スクリーン板厚０．５
ｍｍ、圧搾圧力７５ｋｇ／ｃｍ2 、回転数６ｒｐｍ）に
１５００リットル／時の供給速度で供給して、連続３時
間の脱液を行った。得られたキサンタンガムの一次脱液
品の含液率は５８重量％であった。連続運転でスクリー
ンの目詰まりはなく、脱液度の低下も認められず、脱液
効果は良好であった。
の構成を備えたＶ型デイスクプレス（朝日工機製アサヒ
プレスＣ―３５型、スクリーン直径３５０ｍｍ、スクリ
ーンの目開き口径０．５ｍｍφ、スクリーン板厚０．５
ｍｍ、圧搾圧力７５ｋｇ／ｃｍ2 、回転数６ｒｐｍ）に
１５００リットル／時の供給速度で供給して、連続３時
間の脱液を行った。得られたキサンタンガムの一次脱液
品の含液率は５８重量％であった。連続運転でスクリー
ンの目詰まりはなく、脱液度の低下も認められず、脱液
効果は良好であった。
【００３０】次に、５００Ｌ攪拌槽中で、得られた一次
脱液品７０ｋｇに対し、１．５重量倍量のイソプロパノ
ール（水分含量１５重量％）を加え、攪拌した後、この
分散液を再度、上記と同条件のＶ型デイスクプレスに供
給して脱液した。得られたキサンタンガムの二次脱液品
の含液率は４５重量％であった。連続運転でスクリーン
の目詰まりはなく、脱液度の低下も認められなかった。
脱液品７０ｋｇに対し、１．５重量倍量のイソプロパノ
ール（水分含量１５重量％）を加え、攪拌した後、この
分散液を再度、上記と同条件のＶ型デイスクプレスに供
給して脱液した。得られたキサンタンガムの二次脱液品
の含液率は４５重量％であった。連続運転でスクリーン
の目詰まりはなく、脱液度の低下も認められなかった。
【００３１】試験例２ 試験例１のキサンタンガム培養液の代わりに、キサンタ
ンガム４重量％の水溶液を使用し、実施例１と同様にイ
ソプロパノールと混合することで、析出したキサンタン
ガムの分散液を得た。この分散液を実施例と同様の条件
で脱液したところ、キサンタンガム一次脱液品の含液率
は６０重量％であった。
ンガム４重量％の水溶液を使用し、実施例１と同様にイ
ソプロパノールと混合することで、析出したキサンタン
ガムの分散液を得た。この分散液を実施例と同様の条件
で脱液したところ、キサンタンガム一次脱液品の含液率
は６０重量％であった。
【００３２】
【発明の効果】上記したところから明かなように、本発
明によれば、析出されたキサンタンガムの分離、回収に
際し、脱液率を上げることで、乾燥工程のエネルギー負
荷を下げ、低動力で連続的に脱液する方法が提供され
る。
明によれば、析出されたキサンタンガムの分離、回収に
際し、脱液率を上げることで、乾燥工程のエネルギー負
荷を下げ、低動力で連続的に脱液する方法が提供され
る。
【図１】本発明に使用するＶ型デイスクプレスの要部を
説明する断面図である。
説明する断面図である。
【図２】図１のＸ―Ｘ線による断面図である。
【図３】スクリーン２ａ，２ｂを説明する正面図であ
る。
る。
【図４】図３のIII −III 線による断面図である。
１ Ｖ型デイスクプレス本体 ２ａ，２ｂ スクリーン ３ａ，３ｂ スピンドル ４ａ，４ｂ 支持腕 ５ 油圧シリンダ ６ センターピン ７ａ，７ｂ センターピン １０ 溝 １１ａ，１１ｂ 回転支持部 １２ａ，１２ｂ スプロケット
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年６月１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】Ｖ型デイスクプレスへの析出したキサンタ
ンガムの分散液の供給速度は、分散液中のキサンタンガ
ム濃度、キサンタンガムの析出状態等により適宜選定さ
れる。分散液の最大供給速度は、スクリーンを通過する
液成分の通過速度が供給速度とつり合う状態で設定され
る。供給速度が過大ではケーキが膨液されきれずにケー
キ排出口から液成分を過大に含んだまま排出される場合
があり好ましくない。
ンガムの分散液の供給速度は、分散液中のキサンタンガ
ム濃度、キサンタンガムの析出状態等により適宜選定さ
れる。分散液の最大供給速度は、スクリーンを通過する
液成分の通過速度が供給速度とつり合う状態で設定され
る。供給速度が過大ではケーキが膨液されきれずにケー
キ排出口から液成分を過大に含んだまま排出される場合
があり好ましくない。
Claims (1)
- 【請求項１】 キサンタンガムを含む水溶液とキサンタ
ンガムを溶解しない親水性有機溶剤を混合し、キサンタ
ンガムを析出させた後、キサンタンガム固形分を分離
し、回収する方法において、回転につれて間隔が縮小す
る円盤状の一対のスクリーンを有するＶ型デイスクプレ
スに、析出したキサンタンガムを含む分散液を供給し、
上記円盤状の一対のスクリーンによって該キサンタンガ
ム分散液を圧搾し、液成分をスクリーンを通過して回収
するとともに、圧搾によって脱液されたキサンタンガム
成分を上記スクリーンとともに回転し排出し回収するこ
とを特徴とするキサンタンガムの脱液方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6074543A JP2916078B2 (ja) | 1994-04-13 | 1994-04-13 | キサンタンガムの脱液方法 |
| GB9507150A GB2289052B (en) | 1994-04-13 | 1995-04-06 | Removal of liquid from xanthan gum |
| FR9504321A FR2718744B1 (fr) | 1994-04-13 | 1995-04-11 | Procédé d'élimination de liquides de la gomme xanthanne, dispositif pour la mise en Óoeuvre dudit procédé. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6074543A JP2916078B2 (ja) | 1994-04-13 | 1994-04-13 | キサンタンガムの脱液方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07278202A true JPH07278202A (ja) | 1995-10-24 |
| JP2916078B2 JP2916078B2 (ja) | 1999-07-05 |
Family
ID=13550288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6074543A Expired - Fee Related JP2916078B2 (ja) | 1994-04-13 | 1994-04-13 | キサンタンガムの脱液方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2916078B2 (ja) |
| FR (1) | FR2718744B1 (ja) |
| GB (1) | GB2289052B (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7166229B2 (en) * | 2001-07-05 | 2007-01-23 | Les Industries Fournier Inc. | Method and apparatus for extracting liquid present in a humid mass |
| EP2181696A2 (de) | 2008-10-30 | 2010-05-05 | Henkel AG & Co. KGaA | Anti Pickel Hautbehandlungsmittel |
| EP2182027A1 (de) | 2008-10-30 | 2010-05-05 | Henkel AG & Co. KGaA | neues Verdickungssystem |
| EP2591767A2 (de) | 2011-08-23 | 2013-05-15 | Henkel AG & Co. KGaA | Hautstraffende kosmetische Zusammensetzungen mit angenehmer Produkthaptik |
| JP2015057471A (ja) * | 2013-08-12 | 2015-03-26 | 信越化学工業株式会社 | 含水低置換度ヒドロキシプロピルセルロースの脱水方法及び該方法を用いる低置換度ヒドロキシプロピルセルロースの製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6881838B2 (en) * | 2002-05-21 | 2005-04-19 | A.E. Staley Manufacturing Company | Polysaccharide gum and process for its manufacture |
| JP2007326011A (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Tomoe Engineering Co Ltd | 回転加圧脱水機 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60227692A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | ザンサンガムの濃縮回収方法 |
| JPH05345801A (ja) * | 1992-06-16 | 1993-12-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | セルロースエーテルの脱水方法 |
-
1994
- 1994-04-13 JP JP6074543A patent/JP2916078B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-04-06 GB GB9507150A patent/GB2289052B/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-04-11 FR FR9504321A patent/FR2718744B1/fr not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7166229B2 (en) * | 2001-07-05 | 2007-01-23 | Les Industries Fournier Inc. | Method and apparatus for extracting liquid present in a humid mass |
| EP2181696A2 (de) | 2008-10-30 | 2010-05-05 | Henkel AG & Co. KGaA | Anti Pickel Hautbehandlungsmittel |
| EP2182027A1 (de) | 2008-10-30 | 2010-05-05 | Henkel AG & Co. KGaA | neues Verdickungssystem |
| DE102008053883A1 (de) | 2008-10-30 | 2010-05-06 | Henkel Ag & Co. Kgaa | neues Verdickungssystem |
| DE102008053884A1 (de) | 2008-10-30 | 2010-05-06 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Anti Pickel Hautbehandlungsmittel |
| EP2591767A2 (de) | 2011-08-23 | 2013-05-15 | Henkel AG & Co. KGaA | Hautstraffende kosmetische Zusammensetzungen mit angenehmer Produkthaptik |
| JP2015057471A (ja) * | 2013-08-12 | 2015-03-26 | 信越化学工業株式会社 | 含水低置換度ヒドロキシプロピルセルロースの脱水方法及び該方法を用いる低置換度ヒドロキシプロピルセルロースの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2916078B2 (ja) | 1999-07-05 |
| GB2289052B (en) | 1998-03-18 |
| FR2718744B1 (fr) | 1996-06-07 |
| GB9507150D0 (en) | 1995-05-31 |
| GB2289052A (en) | 1995-11-08 |
| FR2718744A1 (fr) | 1995-10-20 |
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Legal Events
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