JPH07278286A - ポリカーボネート重合体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 耐衝撃性などの機械的強度を損なわずに、ブ
ロー特性に優れると共に、低温での成形が可能なポリカ
ーボネート重合体を開発すること。 【構成】 三個以上の官能基を有する化合物から誘導さ
れた分岐構造を有すると共に、ポリカーボネート部が、
一般式（Ｉ） 【化１】 で表されるカーボネート構造単位Ｉ及び一般式(III) 【化２】 〔式中の各記号は明細書に定義した通りである。〕で表
されるカーボネート構造単位IIからなり、カーボネート
構造単位Ｉの割合及び粘度平均分子量が、特定されたポ
リカーボネート重合体及びその製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規なポリカーボネート
重合体及びその製造方法に関する。さらに詳しくは、機
械的強度を損なわずに、ブロー特性に優れると共に、低
温での成形が可能で、光学部品，機械部品，電気・電子
部品，自動車部品などの成形に好適に用いられるポリカ
ーボネート重合体及び該ポリカーボネート重合体を効率
よく製造する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビ
スフェノールＡ）からなるポリカーボネートは、耐衝撃
性などの機械的強度，耐熱性，電気的特性，透明性など
に優れ、エンジニアリングプラスチックとして、例え
ば、光学部品，機械部品，電気・電子部品，自動車部
品、さらには各種容器などの様々な分野に利用されてい
る。しかしながら、従来のビスフェノールＡ系ポリカー
ボネートは、ブロー成形において、ドローダウン特性
（自重による垂れ下がり現象）に劣るという問題があ
る。この対策としては、一般的には、成形温度を下げる
ことによって対処している。成形温度を下げることによ
って、ドローダウン特性の改良は見られるが、一方で、
ポリカーボネートが曇るという問題が発生している。こ
の他、ドローダウン特性の改良については、例えば、特
開平２−１０３２２８号公報，同３−１８２５２４号公
報には、分岐構造を有するポリカーボネートを用いる技
術が開示されている。しかし、これらの分岐構造を有す
るポリカーボネートは、成形温度が高く、多層ブロー成
形を行う際、相手の樹脂が、着色したり、劣化したりす
るといった問題が生じたりすることがあり、低温で成形
できる分岐ポリカーボネートの開発が要望されている。

【０００３】本発明は、このような従来のポリカーボネ
ートが有する欠点を克服し、耐衝撃性などの機械的強度
を損なうことなく、ブロー特性に優れ、低温での成形が
可能で、工業的製造が容易な新規なポリカーボネート重
合体を提供することを目的になされたものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、機械的強
度を損なうことなく、ブロー特性に優れ、低温での成形
が可能な新規なポリカーボネート重合体を開発すべく鋭
意研究を重ねた。その結果、従来のポリカーボネートの
モノマーとして、通常用いられているビスフェノール
類、例えば、ビスフェノールＡと分岐剤及び特定の他の
モノマーを共重合させることによって、ポリマーのＴｇ
（ガラス転移点）を低下させ、低温で成形が可能な分岐
ポリカーボネート重合体を、反応性よく工業的に容易に
製造しうることを見出した。本発明はこのような知見に
基づいてなされたものである。すなわち、本発明は、三
個以上の官能基を有する化合物から誘導された分岐核構
造を有すると共に、一般式（Ｉ）

【０００５】

【化７】

【０００６】〔式中、Ｘ¹ 及びＹ¹ は、それぞれハロゲ
ン原子，炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１５
のアリール基を示し、ｍ及びｎは、それぞれ０〜４の整
数である。Ａは、一般式(II)

【０００７】

【化８】

【０００８】（式中、ｊは０〜６の整数であり、ｋは７
〜２０の整数である。）で表されるアルキリデン基を示
す。〕で表されるカーボネート構造単位Ｉ及び一般式(I
II)

【０００９】

【化９】

【００１０】〔式中、Ｘ² 及びＹ² は、それぞれハロゲ
ン原子，炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１５
のアリール基を示し、ｐ及びｑは、それぞれ０〜４の整
数である。Ｂは、単結合，炭素数１〜１５のアルキリデ
ン基，炭素数１〜１５のアルキレン基，炭素数６〜１５
のアリーレン基，炭素数７〜１５のアリールアルキレン
基，−Ｏ−，−ＣＯ−，−Ｓ−，−ＳＯ−又は−ＳＯ₂
−結合を示す。〕で表されるカーボネート構造単位IIか
らなるポリカーボネート部を有する重合体であり、かつ
カーボネート構造単位Ｉの割合が、全カーボネート構造
単位に対して0.５〜８０モル％であって、その粘度平均
分子量が１0,０００〜５0,０００であることを特徴とす
るポリカーボネート重合体を提供するものである。ま
た、本発明は、一般式(IV)

【００１１】

【化１０】

【００１２】〔式中、Ｘ¹ 及びＹ¹ は、それぞれハロゲ
ン原子，炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１５
のアリール基を示し、ｍ及びｎは、それぞれ０〜４の整
数である。Ａは、一般式(II)

【００１３】

【化１１】

【００１４】（式中、ｊは０〜６の整数であり、ｋは７
〜２０の整数である。）で表されるアルキリデン基を示
す。〕で表される二価フェノール類とホスゲンを反応さ
せてポリカーボネートオリゴマーＩを製造し、次いで、
該ポリカーボネートオリゴマーＩ、分岐剤及び一般式
（Ｖ）

【００１５】

【化１２】

【００１６】〔式中、Ｘ² 及びＹ² は、それぞれハロゲ
ン原子，炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１５
のアリール基を示し、ｐ及びｑは、それぞれ０〜４の整
数である。Ｂは、単結合，炭素数１〜１５のアルキリデ
ン基，炭素数１〜１５のアルキレン基，炭素数６〜１５
のアリーレン基，炭素数７〜１５のアリールアルキレン
基，−Ｏ−，−ＣＯ−，−Ｓ−，−ＳＯ−又は−ＳＯ₂
−結合を示す。〕で表される二価フェノール類を反応さ
せることを特徴とする前記ポリカーボネート重合体の製
造方法を提供するものである。そして、本発明は、上記
一般式（Ｖ）で表される二価フェノール類とホスゲンを
反応させてポリカーボネートオリゴマーIIを製造し、次
いで、該ポリカーボネートオリゴマーII、分岐剤及び上
記一般式(IV)で表される二価フェノール類を反応させる
ことを特徴とする前記ポリカーボネート重合体の製造方
法をも提供するものである。

【００１７】さらに、本発明は、上記一般式(IV)で表さ
れる二価フェノール類、分岐剤及びホスゲンを反応させ
て分岐ポリカーボネートオリゴマーＩを製造し、次い
で、該分岐ポリカーボネートオリゴマーＩと上記一般式
（Ｖ）で表される二価フェノール類を反応させることを
特徴とする前記ポリカーボネート重合体の製造方法をも
提供するものである。また、本発明は、上記一般式
（Ｖ）で表される二価フェノール類、分岐剤及びホスゲ
ンを反応させて分岐ポリカーボネートオリゴマーIIを製
造し、次いで、該分岐ポリカーボネートオリゴマーIIと
上記一般式(IV)で表される二価フェノール類を反応させ
ることを特徴とする前記ポリカーボネート重合体の製造
方法をも提供するものである。

【００１８】本発明のポリカーボネート重合体は、三個
以上の官能基を有する化合物から誘導される分岐核構造
を有すると共に、ポリカーボネート部が、前記一般式
（Ｉ）で表されるカーボネート構造単位Ｉ及び前記一般
式(III）で表されるカーボネート構造単位IIからなるポ
リカーボネート重合体（以下、ＰＣ共重合体と略すこと
がある。）である。本発明のＰＣ重合体において、前記
一般式（Ｉ）で表されるカーボネート構造単位Ｉの割合
は、構造単位ＩとIIの合計に対して0.５〜８０モル％、
好ましくは１〜５０モル％、より好ましくは1.５〜３０
モル％である。そして、その粘度平均分子量が１0,００
０〜５0,０００、好ましくは１2,０００〜４0,０００、
より好ましくは１5,０００〜３5,０００であることを特
徴とし、機械的強度などを損なわずに、ブロー特性に優
れ、低温での成形を可能にしたものである。ここで、Ｐ
Ｃ共重合体に対して、カーボネート構造単位Ｉの割合が
0.５モル％未満ては、ガラス転移点の低下が小さく，低
温成形の点から好ましくない。また、８０モル％を超え
ると、機械的強度が低下する場合があり好ましくない。
そして、粘度平均分子量が１0,０００未満では、機械的
強度が低下するおそれがある。また、５0,０００を超え
ると、流動性が低下し、低温での成形が困難になるおそ
れがある。上記の好適な範囲では、機械的強度を損なわ
ずに、ブロー特性に優れ、充分な効果が得られる。

【００１９】そして、本発明のＰＣ重合体は、三個以上
の官能基を有する化合物から誘導される分岐核構造を有
する。ここで、上記分岐核構造の生成に供される三個以
上の官能基を有する化合物、即ち、分岐剤としては、水
酸基，カルボキシル基，アミノ基，イミノ基，ホルミル
基，酸ハライド基，ハロホーメート基などの官能基を一
化合物中に、三個以上有するもので、各種のものがあ
る。例えば、一般式（VI)

【００２０】

【化１３】

【００２１】〔式中、Ｒは水素原子又は炭素数１〜５の
アルキル基であり、Ｒ¹ 〜Ｒ⁶ は、それぞれ水素原子，
ハロゲン原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。〕
で表される１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニ
ル）アルカン類の化合物がある。ここで、Ｒは水素原子
又は炭素数１〜５のアルキル基、例えば、メチル基，エ
チル基，ｎ−プロピル基，ｎ−ブチル基，ｎ−ペンチル
基などである。また、Ｒ¹ 〜Ｒ⁶ は、水素原子，ハロゲ
ン原子（例えば、塩素，臭素，フッ素，沃素など）又は
炭素数１〜５のアルキル基（例えば、メチル基，エチル
基，ｎ−プロピル基，ｎ−ブチル基，ｎ−ペンチル基な
ど）であり、それらは同一であってもよいし、異なって
いてもよい。そのうち、Ｒとしては、メチル基が好まし
く、また、Ｒ¹ 〜Ｒ⁶ としては、それぞれ水素原子が好
ましい。

【００２２】前記一般式(VI)で表される化合物として
は、具体的には、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシ
フェニル）−メタン；１，１，１−トリス（４−ヒドロ
キシフェニル）−エタン；１，１，１−トリス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−プロパン；１，１，１−トリス
（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン；
１，１，１−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）−エタン；１，１，１−トリス（３−メチル−４
−ヒドロキシフェニル）−メタン；１，１，１−トリス
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−エタン；
１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）−メタン；１，１，１−トリス（３，５−
ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−エタン；１，
１，１−トリス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−メタン；１，１，１−トリス（３−クロロ−４−
ヒドロキシフェニル）−エタン；１，１，１−トリス
（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）−メタ
ン；１，１，１−トリス（３，５−ジクロロ−４−ヒド
ロキシフェニル）−エタン；１，１，１−トリス（３−
ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−メタン；１，１，
１−トリス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−
エタン；１，１，１−トリス（３，５−ジブロモ−４−
ヒドロキシフェニル）−メタン；１，１，１−トリス
（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−エタ
ンなどが挙げられる。

【００２３】また、分岐剤としては、例えば、フロログ
ルシン，メリト酸，トリメリト酸，トリメリト酸クロリ
ド，無水トリメリト酸，没食子酸，没食子酸ｎ−プロピ
ル，プロトカテク酸，ピロメリト酸，ピロメリト酸第二
無水物，α−レゾルシン酸，β−レゾルシン酸，レゾル
シンアルデヒド，トリメチルクロライド，トリメチルト
リクロリド，４−クロロホルミルフタル酸無水物，ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸；４，６−ジメチル−２，
４，６−トリ（４’−ヒドロキシフェニル）−ヘプテン
−２；４，６−ジメチル−２，４，６−トリ（４’−ヒ
ドロキシフェニル）−ヘプタン−２；１，３，５−トリ
（４’−ヒドロキシフェニル）−ベンゼン；２，２−ビ
ス−〔４，４−ビス（４’−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキシル〕−プロパン；２，６−ビス−（２’−ヒド
ロキシ−５’−メチルベンジル）−４−メチルフェノー
ル；２，６−ビス−（２’−ヒドロキシ−５’−イソプ
ロピルベンジル）−４−イソプロピルフェノール；ビス
−〔２−ヒドロキシ−３−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルベンジル）−５−メチルフェニル〕メタン；テト
ラ−（４−ヒドロキシフェニル）メタン；トリ−（４−
ヒドロキシフェニル）フェニルメタン；トリス（４’−
ヒドロキシアリール）−アミル−ｓ−トリアジン；α，
α’，α”−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，
３，５−トリイソプロピルベンゼン；１−〔α−メチル
−α−（４’−ヒドロキシフェニル）エチル−４−
〔α’，α’−ビス（４”−ヒドロキシフェニル）エチ
ル〕ベンゼン；１−〔α−メチル−α−（４’−ヒドロ
キシフェニル）エチル〕−３−〔α’，α’−ビス
（４”−ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼン等が挙
げられる。これらの分岐剤の中では、１，１，１−トリ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−アルカン類の化合物
で、Ｒがメチル基，Ｒ¹ 〜Ｒ⁶ が、それぞれ水素原子で
ある１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−
エタンが好ましく、また、α，α’，α”−トリス（４
−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピ
ルベンゼン；１−〔α−メチル−α−（４’−ヒドロキ
シフェニル）エチル−４−〔α’，α’−ビス（４”−
ヒドロキシフェニル）エチル〕ベンゼン；フロログルシ
ン；メリト酸が好ましく用いられる。本発明のＰＣ重合
体の製造にあたって、分岐剤は、カーボネート構造単位
Ｉ、カーボネート構造単位II及び分岐剤の合計量に対し
て、0.０２〜2.０モル％、好ましくは0.０８〜1.５モル
％、より好ましくは0.１〜1.０モル％の割合で用いられ
る。分岐剤の量が0.０５モル％未満では、ブロー特性の
向上効果が小さい場合がある。また、2.０モル％を超え
ると、ポリマーがゲル化するおそれかあり好ましくな
い。

【００２４】本発明のＰＣ重合体は、前記の分岐剤の中
で、例えば、好ましく用いられる一般式（VI）で表され
る１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−ア
ルカン類の化合物の場合、これから誘導された分岐核構
造を有し、例えば、分岐核を一つ有するものとしては、
下記の式で表わされるものが挙げられる。

【００２５】

【化１４】

【００２６】〔式中、Ｒ，Ｒ¹ 〜Ｒ⁶ は、前記と同じで
あり、ｍ，ｎ及びｏは、整数で、ＰＣは、カーボネート
構造単位Ｉ及びカーボネート構造単位IIからなるポリカ
ーボネート部を示す。〕 本発明のＰＣ重合体において、カーボネート構造単位Ｉ
を形成するには、原料の二価フェノール類としては、一
般式(IV)

【００２７】

【化１５】

【００２８】〔式中、Ｘ¹ ，Ｙ¹ ，ｍ，ｎ及びＡは、前
記と同じである。〕で表されるビスフェノール（ｉ）、
また、カーボネート構造単位IIを形成するには、一般式
（Ｖ）

【００２９】

【化１６】

【００３０】〔式中、Ｘ² ，Ｙ² ，ｐ，ｑ及びＢは、前
記と同じである。〕で表されるビスフェノール (ii）が
用いられる。ここで、前記一般式(IV)で表されるビスフ
ェノール（ｉ）は、対応するフェノール類と一般式（VI
I)

【００３１】

【化１７】

【００３２】〔式中、ｊ及びｋは、前記と同じであ
る。〕で表されるケトン類とを縮合させることにより製
造することができる。上記フェノール類としては、例え
ば、フェノール；クレゾール；２，６−ジメチルフェノ
ール；２，６−ジクロロフェノール；２，６−ジブロモ
フェノール；ｏ−フェニルフェノール；２，６−ジフェ
ニルフェノールなどが挙げられる。これらは一種用いて
もよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。

【００３３】また、前記一般式（VII)で表されるケトン
類としては、例えば、２−ドデカノン，２−トリデカノ
ン，２−テトラデカノン，３−テトラデカノン，２−ペ
ンタデカノン，２−ヘキサデカノン，３−ヘキサデカノ
ン，２−ヘプタデカノン，２−オクタデカノン，３−オ
クタデカノン，２−ウンデカノン，３−ウンデカノンな
どが挙げられる。これらのケトン類は対応するオレフィ
ンを酸化することにより容易に得られる。

【００３４】前記フェノール類とケトン類との縮合反応
には、触媒として、塩化水素ガス，濃塩酸，硫酸などが
用いられるが、これらの中で塩化水素ガスが特に好まし
い。この際、助触媒として、メルカプト酢酸，３−メル
カプトプロピオン酸，ドデシルチオール，塩化カルシウ
ム，ホウ酸，硫化水素などを用いるのが有利である。こ
れらの助触媒の中ではメルカプト酢酸，３−メルカプト
プロピオン酸，ドデシルチオールが好適である。該フェ
ノール類とケトン類の使用割合については、フェノール
類／ケトン類モル比が通常２／１〜１０／１、好ましく
は３／１〜６／１になるように両成分が用いられる。ま
た、反応温度は通常１０〜１００℃、好ましくは２０〜
６０℃の範囲で選ばれ、反応時間は通常0.５〜２００時
間、好ましくは１〜１００時間程度である。反応終了液
から、目的のビスフェノール（ｉ）を精製回収する方法
については、特に制限はないが、例えば、次に示す操作
を施すことにより、精製ビスフェノール（ｉ）を回収す
ることができる。すなわち、反応終了液を５０〜９０℃
の温水で１〜１０回程度、好ましくは６０〜９０℃の温
水で２〜５回程度洗浄したのち、冷却して固形物を析出
させ、次いで、温ヘキサンで洗浄後、１０〜２５ｍｍＨ
ｇ，２１０℃以下、好ましくは１５〜２０ｍｍＨｇ，２
００℃以下の条件で減圧蒸留して、未反応フェノール類
を留去させることにより、目的のビスフェノール（ｉ）
が得られる。また、未反応フェノール類を除く方法とし
ては、水蒸気蒸留を行うことも有効である。必要なら
ば、適当な溶剤を用いて再結晶してさらに精製してもよ
い。

【００３５】前記一般式（IV）で表されるビスフェノー
ル（ｉ）としては、具体的には、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）デカン；２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ドデカン；２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）テトラデカン；２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ヘキサデカン；２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）オクタデカン；２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）エイコサン；２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）ドコサン；３，３−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）ドデカン；３，３−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ヘキサデカン；３，３−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）オクタデカンなど、及びこれらの芳香
族ハロゲン置換化合物が挙げられる。これらのビスフェ
ノール（ｉ）は、それぞれ単独で用いても、２種以上を
組み合わせて用いてもよい。

【００３６】一方、前記一般式（Ｖ）で表されるビスフ
ェノール(ii)としては、特に、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン〔通称：ビスフェノールＡ〕
が好適である。ビスフェノールＡ以外のビスフェノール
としては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メ
タン；ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタ
ン；ビス（４−ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン；
ビス（４−ヒドロキシフェニル）−（４−イソプロピル
フェニル）メタン；ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒド
ロキシフェニル）メタン；ビス（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）メタン；１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）エタン；１−ナフチル−１，１−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；１−フェニル−
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；１，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン；２−メチ
ル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン；２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン；１−エチル−１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン；２，２−ビス（３，５
−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；２，
２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン；２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン；２，２−ビス（３−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン；２，２−ビス（３
−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン；１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン；２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン；１，４−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）ブタン；２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）ペンタン；４−メチル−２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン；１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン；１，
１−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）ヘキサン；４，４−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）ヘプタン；２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ノナン；１，１０−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）デカン；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
シクロデカンなどのジヒドロキシアリールアルカン類、
ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン；ビス（３，
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン；ビ
ス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）スルホンな
どのジヒドロキシアリールスルホン類、ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）エーテル；ビス（３，５−ジメチル−
４−ヒドロキシフェニル）エーテルなどのジヒドロキシ
アリールエーテル類、４，４’−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン；３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’
−ジヒドロキシベンゾフェノンなどのジヒドロキシアリ
ールケトン類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフ
ィド；ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ス
ルフィド；ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）スルフィドなどのジヒドロキシアリールスルフ
ィド類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド
などのジヒドロキシアリールスルホキシド類、４，４’
−ジヒロキシジフェニルなどのジヒドロキシジフェニル
類などが挙げられる。また、該一般式（Ｖ）で表される
ビスフェノール(ii)以外としては、例えば、ヒドロキノ
ン，レゾルシノール，メチルヒドロキノンなどのジヒド
ロキシベンゼン類、１，５−ジヒドロキシナフタレン；
２，６−ジヒドロキシナフタレンなどのジヒドロキシナ
フタレン類なども用いることができる。これらのビスフ
ェノール（ii）は、それぞれ単独で用いても、２種以上
を組み合わせて用いてもよい。

【００３７】本発明のポリカーボネート重合体は、通常
のポリカーボネートの製造において慣用されている方
法、例えば、ホスゲン又はホスゲン誘導体（以下、ホス
ゲンと略すことがある。）を使用する界面重縮合法及び
エステル交換法（溶融法）などを用いて製造することが
できるが、これらの中では、界面重縮合法が好ましい。
ホスゲンを用いる界面重縮合法としては、種々の方式を
採ることができるが、オリゴマー法が好ましい。この好
ましいオリゴマー法による場合、例えば、ビスフェノ
ール（ｉ）とホスゲンとから、予めポリカーボネートオ
リゴマー（以下、ＰＣオリゴマーＩと略すことがあ
る。）を合成し、次いで、このＰＣオリゴマーＩの不活
性有機溶剤溶液と、ビスフェノール(ii)及び分岐剤とを
所定の割合で含有するアルカリ水溶液とを反応させる方
法、ビスフェノール(ii)とホスゲンとから、ポリカー
ボネートオリゴマー（以下、ＰＣオリゴマーIIと略すこ
とがある。）を合成し、次いで、このＰＣオリゴマーII
の不活性有機溶剤溶液と、ビスフェノール（ｉ）及び分
岐剤とを所定の割合で含有するアルカリ水溶液とを反応
させる方法、ビスフェノール（ｉ）、分岐剤及びホス
ゲンとから、予め分岐状ポリカーボネートオリゴマー
（以下、分岐ＰＣオリゴマーＩと略すことがある。）を
合成し、次いで、この分岐ＰＣオリゴマーＩの不活性有
機溶剤溶液と、ビスフェノール(ii)とを所定の割合で含
有するアルカリ水溶液とを反応させる方法、ビスフェ
ノール(ii)、分岐剤及びホスゲンとから、予め分岐状ポ
リカーボネートオリゴマー（以下、分岐ＰＣオリゴマー
IIと略すことがある。）を合成し、次いで、この分岐Ｐ
ＣオリゴマーIIの不活性有機溶剤溶液と、ビスフェノー
ル（ｉ）とを所定の割合で含有するアルカリ水溶液とを
反応させる方法、その他種々の方式があり、状況に応じ
て適宜選択して製造することができる。上記の好ましい
オリゴマー法については、その代表例を図１〜図４に示
す。ここで、上記ホスゲン又はホスゲン誘導体として
は、ホスゲンをはじめトリホスゲン，ブロモホスゲン，
ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）カーボネー
ト，ビス（２，４−ジクロロフェニル）カーボネート，
ビス（２−シアノフェニル）カーボネート，クロロギ酸
トリクロロメチルなどが挙げられる。

【００３８】次に、オリゴマー法により本発明のＰＣ重
合体を製造する方法ついて、その一例を説明する。先
ず、アルカリ金属水酸化物の水溶液に該ビスフェノール
（ii）を溶解させ、ビスフェノール（ii）のアルカリ水
溶液を調製する。次いで、このアルカリ水溶液と不活性
有機溶剤との混合液にホスゲンを導入して、ビスフェノ
ール（ii）のＰＣオリゴマーIIを合成する。この際、該
アルカリ水溶液のアルカリ濃度は１〜１５重量％の範囲
が好ましく、また有機相と水相との容積比は５：１〜
１：７、好ましくは２：１〜１：４の範囲にあるのが望
ましい。反応温度は水浴冷却し、通常０〜５０℃、好ま
しくは５〜４０℃の範囲で選ばれ、反応時間は１５分な
いし４時間、好ましくは３０分ないし２時間程度であ
る。このようにして得られたＰＣオリゴマーIIの重合度
は、通常２０以下、好ましくは２〜１０程度である。

【００３９】次いで、このようにして得られたＰＣオリ
ゴマーIIを含む有機相に、所望により不活性有機溶剤を
加え、これとビスフェノール（ｉ）及び分岐剤とを所定
の割合で含むアルカリ水溶液とを接触させて、通常０〜
５０℃、好ましくは５〜４０℃の範囲の温度において、
１０分ないし６時間程度界面重縮合させる。この際、該
アルカリ水溶液のアルカリ濃度は１〜１５重量％が好ま
しく、また有機相と水相との容積比は７：１〜１：２、
好ましくは４：１〜１：１の範囲にあるのが望ましい。
そして、ビスフェノール（ｉ）と該オリゴマーIIとの割
合は、ビスフェノール／ＰＣオリゴマーのクロロホーメ
ート基モル比が、通常0.０５〜0.５５、好ましくは0.１
〜0.５になるように選ばれる。また、アルカリ金属水酸
化物とオリゴマーとの割合は、アルカリ金属水酸化物／
オリゴマーのクロロホーメート基モル比が、通常1.０〜
2.０、好ましくは1.２〜1.７になるように選ばれる。さ
らに、この反応において、所望に応じ末端停止剤や触媒
を用いることができる。末端停止剤の使用量は、末端停
止剤／オリゴマーのクロロホーメート基モル比が、通常
0.０２〜0.２０、好ましくは0.０４〜0.１７になるよう
に選ばれる。一方、触媒の使用量は、触媒／オリゴマー
のクロロホーメート基モル比が、通常1.０×１０^-3〜１
0.０×１０^-3、好ましくは1.０×１０^-3〜5.０×１０^-3
になるように選ばれる。なお、上記のオリゴマーIIとビ
スフェノール（ｉ）との反応においては、ポリカーボネ
ートの製造に通常用いられている二価フェノール（すな
わちビスフェノール（ii））を共存させることによりビ
スフェノール（ｉ）とビスフェノール（ii）の量比を調
整することができる。

【００４０】前記ＰＣ重合体の製造において用いられる
アルカリ金属の水酸化物としては、例えば、水酸化ナト
リウム，水酸化カリウム，水酸化リチウム，水酸化セシ
ウムなどが挙げられる。これらの中では、水酸化ナトリ
ウムと水酸化カリウムが好適である。また、不活性有機
溶剤としては、各種のものがある。例えば、ジクロロメ
タン（塩化メチレン）；クロロホルム；１，１−ジクロ
ロエタン；１，２−ジクロロエタン；１，１，１−トリ
クロロエタン；１，１，２−トリクロロエタン；１，
１，１，２−テトラクロロエタン；１，１，２，２−テ
トラクロロエタン；ペンタクロロエタン，クロロベンゼ
ンなどの塩素化炭化水素や、アセトフェノンなどが挙げ
られる。これらの有機溶剤はそれぞれ単独で用いてもよ
いし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの
中では、特に塩化メチレンが好適である。

【００４１】そして、末端停止剤としては、各種のもの
を用いることができる。具体的には一価フェノールとし
て、例えば、フェノール，ｐ−クレゾール，ｐ−ｔ−ブ
チルフェノール，ｐ−クミルフェノール，トリブロモフ
ェノール，ノニルフェノール，ｐ−ｔ−オクチルフェノ
ール，ｐ−ｔ−アミルフェノールなどが挙げられる。触
媒も、各種のものを用いることができる。具体的には、
四級アンモニウム塩，四級ホスホニウム塩あるいは三級
アミンなどで、例えば、四級アンモニウム塩としては、
トリメチルベンジルアンモニウムクロライド，トリエチ
ルベンジルアンモニウムクロライド，トリブチルベンジ
ルアンモニウムクロライド，トリオクチルメチルアンモ
ニウムクロライド，テトラブチルアンモニウムクロライ
ド，テトラブチルアンモニウムブロマイドなどが挙げら
れる。また、四級ホスホニウム塩としては、例えば、テ
トラブチルホスホニウムクロライド，テトラブチルホス
ホニウムブロマイドなどが、そして、三級アミンとして
は、例えば、トリエチルアミン，トリメチルアミン，ト
リブチルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミ
ン，ピリジン，ジメチルアニリンなどが挙げられる。

【００４２】このようにして生成したポリマーは、通常
の方法に従って回収操作を行うことにより、本発明のＰ
Ｃ重合体を得ることができる。そして、前記の反応にお
いて、それぞれの反応段階において、ビスフェノール
（ｉ）に代えてビスフェノール(ii)を、また、ビスフェ
ノール(ii)に代えてビスフェノール（ｉ）を用いること
によって、同様にＰＣ重合体を得ることができる。本発
明のＰＣ重合体は、前記分岐剤より誘導された分岐構造
を有すると共に、ポリカーボネート部が、前記一般式
（Ｉ）で表されるカーボネート構造単位Ｉ及び前記一般
式(III）で表されるカーボネート構造単位IIからなる新
規なポリカーボネート重合体である。本発明のＰＣ重合
体において、前記一般式（Ｉ）で表されるカーボネート
構造単位Ｉの割合は、全カーボネート構造単位に対して
0.５〜８０モル％、好ましくは１〜５０モル％、より好
ましくは1.５〜３０モル％である。そして、その粘度平
均分子量が１0,０００〜５0,０００、好ましくは１2,０
００〜４0,０００、より好ましくは１5,０００〜３5,０
００であることを特徴とするもので、機械的強度を損な
わずに、ブロー特性に優れたものである。

【００４３】本発明のＰＣ重合体を用いて成形品を得る
には、本発明の目的を阻害しない範囲で必要に応じて、
各種の添加剤を配合し、混練し、所望の樹脂組成物を調
製して成形に供する。ここで、該配合，混練には通常用
いられている方法、例えば、リボンブレンダー，ヘンシ
ェルミキサー，バンバリーミキサー，ドラムタンブラ
ー，単軸スクリュー押出機，二軸スクリュー押出機，コ
ニーダ，多軸スクリュー押出機等を用いる方法により行
うことができる。混練に際しての加熱温度は、通常２５
０〜３００℃の範囲で選ばれる。かくして得られるＰＣ
重合体の樹脂組成物は、既知の種々の成形方法、例え
ば、射出成形，中空成形，押出成形，圧縮成形，カレン
ダー成形，回転成形等を適用して光学部品，機械部品，
電気・電子部品，自動車部品、さらには各種容器などの
成形品を製造することができる。なお、各種の添加剤と
しては、ヒンダードフェノール系，亜リン酸エステル
系，リン酸エステル系等の酸化防止剤、ベンゾトリアゾ
ール系やベンゾフェノン系等の紫外線吸収剤、ヒンダー
ドアミン系などの光安定剤、脂肪族カルボン酸エステル
系やパラフィン系等の外部滑剤、着色剤、難燃剤、難燃
助剤、帯電防止剤、離型剤等が挙げられる。

【００４４】

【実施例】更に、本発明を製造例，実施例及び比較例に
より、詳しく説明する。本発明において、ケトンは、α
−オレフィンとして、リニアレン〔出光石油化学（株）
製〕を用い、Wacker法で酸化し、合成した。なお、Wack
er法については、Synthesis ｐ３６９，１９８４（Jiro
Tsuji著）を参照した。 製造例１ （２−ドデカノンの合成）１リットルのフラスコに、Pd
Cl₂ ５３ｇ，CuCl２9.７ｇ，水３０cc及びN,N'−ジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ）２１０ｃｃを入れ、酸素気流
下、室温で攪拌した。１時間後、室温で激しく攪拌しな
がら１−ドデセン（リニアレン１２）５0.５ｇの水１０
ｃｃ−ＤＭＦ７０ｃｃ溶液を滴下した。滴下後２時間で
攪拌を止め、２４時間放置した。反応生成物を３Ｎ−Ｈ
Ｃl １リットルに注ぎ、エーテル抽出した。抽出液を飽
和炭酸ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄し、無水の硫
酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留して２−ドデカノ
ンを得た。原料のα−オレフィンを変えて、同様にケト
ンを合成した。第１表にα−オレフィンと生成したケト
ンを示す。

【００４５】

【表１】

【００４６】製造例２−１ 〔2,2-ビス（４−ヒドロキシルフェニル）ドデカンの合
成〕２−ドデカノン２００ｇ（1.０９モル），ドデシル
チオール6.０７ｇ（0.０３モル），フェノール４１０ｇ
（4.３６モル）を２リットルの３つ口フラスコに入れ、
攪拌しながらＨＣl ガスを８０ミリリットル／時間の割
合で２時間吹き込んだ。さらに、５時間，２５℃で攪拌
した。サンプルを一部取り、２−ドデカノンがほぼ完全
に消費されたことをガスクロマトグラフで確認したの
ち、水５００ミリリットルを加え、８０℃で３０分、加
温攪拌した。水を除いたのち，さらに水５００ミリリッ
トルを加え、同様の操作を４回繰り返した。冷却しなが
ら攪拌を続けると析出物が得られた。次いで、析出物を
温ヘキサンで洗浄し、冷却したのち、１０〜２０ｍｍＨ
ｇで１８０℃まで加熱し、フェノールを留去した。残渣
を取り出し、2,2-ビス（４−ヒドロキシルフェニル）ド
デカンを得た。

【００４７】製造例２−２ 〔2,2-ビス（４−ヒドロキシルフェニル）テトラデカン
の合成〕製造例２−１において、２−ドデカノンの代わ
りに、２−テトラデカノンを用いた以外は、製造例２−
１と同様に実施した。

【００４８】製造例２−３ 〔2,2-ビス（４−ヒドロキシルフェニル）ヘキサデカン
の合成〕製造例２−１において、２−ドデカノンの代わ
りに、２−ヘキサデカノンを用いた以外は、製造例２−
１と同様に実施した。

【００４９】製造例２−４ 〔2,2-ビス（４−ヒドロキシルフェニル）オクタデカン
の合成〕製造例２−１において、２−ドデカノンの代わ
りに、２−オクタデカノンを用いた以外は、製造例２−
１と同様に実施した。

【００５０】製造例２−５ 〔3,3-ビス（４−ヒドロキシルフェニル）オクタデカン
の合成〕製造例２−１において、２−ドデカノンの代わ
りに、３−オクタデカノン〔Lancaster 製〕を用いた以
外は、製造例２−１と同様に実施した。

【００５１】製造例２−６ 〔2,2-ビス（４−ヒドロキシルフェニル）ノナンの合
成〕製造例２−１において、２−ドデカノンの代わり
に、２−ノナノン〔東京化成工業（株）製〕を用いた以
外は、製造例２−１と同様に実施した。第２表にそれぞ
れ得られたビスフェノールの分析結果を示す。

【００５２】

【表２】

【００５３】なお、質量分析及び元素分析は、次にした
がった。 1)質量分析 ＪＥＯＬ ＪＭＳ−ＡＸ５０５Ｈを用い、直接導入法に
て測定した（イオン化法，高速原子衝撃（ＦＡＢ）
法）。 2)元素分析 ガスクロマトグラフ−原子発光検出器〔ＧＣ−ＡＥＤ，
ヒューレットパッカード社製５９２１Ａ〕を用い、標準
として、ビスフェノールＡを用い、Ｃ，Ｈ，Ｏの相対感
度より元素分析を行った。

【００５４】製造例３−１ 〔ＰＣオリゴマーＡの製造〕４００リットルの５重量％
水酸化ナトリウム水溶液に６０ｋｇのビスフェノールＡ
を溶解し、ビスフェノールＡの水酸化ナトリウム水溶液
を調製した。次いで、室温に保持したこのビスフェノー
ルＡの水酸化ナトリウム水溶液を１３８リットル／時間
の流量で、また塩化メチレンを６９リットル／時間の流
量で、内径１０ｍｍ，管長１０ｍの管型反応器にオリフ
ィス板を通して導入し、これにホスゲンを並流して１0.
７ｋｇ／時間の流量で吹き込み、３時間連続的に反応さ
せた。ここで用いた管型反応器は二重管となっており、
ジャケット部分に冷却水を通して反応液の排出温度を２
５℃に保った。また、排出液のｐＨは１０〜１１を示す
ように調整した。このようにして得られた反応液を静置
することによって、水相を分離除去し、塩化メチレン相
（２２０リットル）を採取した。ここで得られたＰＣオ
リゴマーＡの重合度は２〜４であり、溶液の濃度は３１
７ｇ／リットル、クロロホーメイト基の濃度は0.７Ｎで
あった。

【００５５】製造例３−２ 〔ＰＣオリゴマーＢ（分岐状）の合成〕４００リットル
の５重量％水酸化ナトリウム水溶液に６０ｋｇのビスフ
ェノールＡ及び４００ｇの１，１，１−トリス（４−ヒ
ドロキシフェニル）エタンを溶解し、水酸化ナトリウム
水溶液を調製した。その後は、製造例３−１と同様に実
施した。

【００５６】製造例３−３ 〔ＰＣオリゴマーＣ（分岐状）の合成〕製造例３−２に
おいて、４００ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキ
シフェニル）エタンの代わりに、６３０ｇのα，α’，
α”−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５
−トリイソプロピルベンゼンを用いた以外は、製造例３
−２と同様に実施した。

【００５７】製造例３−４ 〔ＰＣオリゴマーＤ（分岐状）の合成〕製造例３−２に
おいて、４００ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキ
シフェニル）エタンの代わりに、５６０ｇの１−〔α−
（４’−ヒドロキシフェニル）エチル〕−４−〔α’，
α’−ビス（４”−ヒドロキシフェニル）エチル〕ベン
ゼンを用いた以外は、製造例３−２と同様に実施した。

【００５８】製造例３−５ 〔ＰＣオリゴマーＥ（分岐状）の合成〕製造例３−２に
おいて、４００ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキ
シフェニル）エタンの代わりに、１６６ｇのフロログル
シンを用いた以外は、製造例３−２と同様に実施した。

【００５９】製造例３−６ 〔ＰＣオリゴマーＦ（分岐状）の合成〕製造例３−２に
おいて、４００ｇの１，１，１−トリス（４−ヒドロキ
シフェニル）エタンの代わりに、２７６ｇのトリメリト
酸を用いた以外は、製造例３−２と同様に実施した。

【００６０】実施例１ 〔ＰＣ−Ａの製造〕内容積５０リットルの攪拌機付き容
器に、ＰＣオリゴマーＢ１０リットルに２，２−ビス
（４−ヒドロキシルフェニル）オクタデカン５４７ｇを
溶解させた。そこへ水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯ
Ｈ：１１０ｇ，水１リットル）とトリエチルアミン2.５
ｃｃを加え、６０分間３００ｒｐｍで反応させた。その
後、上記反応系にビスフェノールＡ６１６ｇを水酸化ナ
トリウム水溶液（ＮａＯＨ：３６０ｇ，水５リットル）
に溶解させたもの及びｐ−tert−ブチルフェノール９６
ｇを混合し、塩化メチレン８リットルを加え、６０分間
４５０ｒｐｍで反応させた。反応後、塩化メチレン５リ
ットル及び水５リットルを加え、有機相と水相を分離
し、有機相をアルカリ（0.０１Ｎ−ＮａＯＨ）、酸（0.
１Ｎ−ＨＣl ）、水の順に洗浄分離した。塩化メチレン
を除きフレーク状のポリマーを得た。得られたポリマー
を２４時間１２０℃で真空乾燥し、２９０℃で押出し、
ペレット化した。そして、得られたペレットを２８０℃
で射出成形し、射出成形品を得た。

【００６１】実施例２ 〔ＰＣ−Ｂの製造〕実施例１において、ＰＣオリゴマー
Ｂの代わりに、ＰＣオリゴマーＣを、また、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシルフェニル）オクタデカンの代わり
に、３，３−ビス（４−ヒドロキシルフェニル）オクタ
デカンを用いた以外は、実施例１と同様に実施した。

【００６２】実施例３ 〔ＰＣ−Ｃの製造〕実施例１において、ＰＣオリゴマー
Ｂの代わりに、ＰＣオリゴマーＤを、また、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシルフェニル）オクタデカン５５７ｇ
の代わりに、２，２−ビス（４−ヒドロキシルフェニ
ル）ヘキサデカン５１２ｇを用いた以外は、実施例１と
同様に実施した。

【００６３】実施例４ 〔ＰＣ−Ｄの製造〕実施例１において、ＰＣオリゴマー
Ｂの代わりに、ＰＣオリゴマーＥを、また、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシルフェニル）オクタデカン５５７ｇ
の代わりに、２，２−ビス（４−ヒドロキシルフェニ
ル）テトラデカン４７７ｇを用いた以外は、実施例１と
同様に実施した。

【００６４】実施例５ 〔ＰＣ−Ｅの製造〕実施例１において、ＰＣオリゴマー
Ｂの代わりに、ＰＣオリゴマーＦを、また、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシルフェニル）オクタデカン５５７ｇ
の代わりに、２，２−ビス（４−ヒドロキシルフェニ
ル）ドデカン４４２ｇを用いた以外は、実施例１と同様
に実施した。

【００６５】実施例６ 〔ＰＣ−Ｆの製造〕内容積５０リットルの攪拌機付き容
器に、ＰＣオリゴマーＡ１０リットルに２，２−ビス
（４−ヒドロキシルフェニル）オクタデカン５４７ｇを
溶解させた。そこへ１，１，１−トリス（４−ヒドロキ
シルフェニル）エタンの水酸化ナトリウム水溶液〔１，
１，１−トリス（４−ヒドロキシルフェニル）エタン：
１６ｇ、ＮａＯＨ：１２５ｇ，水１リットル〕とトリエ
チルアミン2.５ｃｃを加え、６０分間３００ｒｐｍで反
応させた。その後、上記反応系にビスフェノールＡ６１
６ｇを水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ：３６０ｇ，
水５リットル）に溶解させたもの及びｐ−クミルフェノ
ール１３５ｇを混合し、塩化メチレン８リットルを加
え、６０分間４５０ｒｐｍで反応させた。反応後、塩化
メチレン５リットル及び水５リットルを加え、有機相と
水相を分離し、有機相をアルカリ（0.０１Ｎ−ＮａＯ
Ｈ）、酸（0.１Ｎ−ＨＣl ）、水の順に洗浄分離した。
塩化メチレンを除きフレーク状のポリマーを得た。得ら
れたポリマーを２４時間１２０℃で真空乾燥し、酸化防
止剤としてトリスキニルフェニルホスファイトを２００
ｐｐｍ加え、２９０℃で押出し、ペレット化した。そし
て、得られたペレットを２８０℃で射出成形し、射出成
形品を得た

【００６６】比較例１ 〔ＰＣ−Ｇの製造〕実施例１において、２，２−ビス
（4-ヒドロキシルフェニル）オクタデカン５５７ｇの代
わりに、２，２−ビス（4-ヒドロキシルフェニル）ノナ
ン３９０ｇを用いた以外は、実施例１と同様に実施し
た。

【００６７】比較例２ 〔ＰＣ−Ｈの製造〕内容積５０リットルの攪拌機付き容
器に、ＰＣオリゴマーＢ１０リットルにビスフェノール
Ａの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ：１１０ｇ，水
１リットル）ヒドロキシルフェニル）オクタデカン５４
７ｇを溶解させた。そこへ水酸化ナトリウム水溶液（ビ
スフェノールＡ：７２０ｇ、ＮａＯＨ：４２０ｇ、水4.
８リットル）及びｐ−tert−ブチルフェノール９６ｇを
混合し、塩化メチレン８リットルを加え、６０分間４５
０ｒｐｍで反応させた。その後、上記反応系に塩化メチ
レン５リットル及び水５リットルを加え、有機相と水相
を分離し、有機相をアルカリ（0.０１Ｎ−ＮａＯＨ）、
酸（0.１Ｎ−ＨＣl ）、水の順に洗浄分離した。塩化メ
チレンを除きフレーク状のポリマーを得た。得られたポ
リマーを２４時間１２０℃で真空乾燥し、２９０℃で押
出し、ペレット化した。

【００６８】比較例３ 〔ＰＣ−Ｉの製造〕実施例１において、ＰＣオリゴマー
Ｂの代わりに、ＰＣオリゴマーＡを用い、ｐ−tert−ブ
チルフェノール９６ｇを５８ｇに変えた以外は、実施例
１と同様に実施した。実施例１〜６及び比較例１〜３で
得られたＰＣ−Ａ〜Ｉの粘度平均分子量（Ｍｖ），コモ
ノマー含有率，ガラス転移点（Ｔｇ），メルトインデッ
クス比（ＭＩＲ）及びスウエル比を測定した。その結果
を第３表に示す。

【００６９】

【表３】

【００７０】

【表４】

【００７１】なお、粘度平均分子量，コモノマー含有
率，ガラス転移点（Ｔｇ），メルトインデックス比（Ｍ
ＩＲ）及びスウエル比の測定は、次に従った。 1)粘度平均分子量（Ｍｖ） ウベローデ型粘度管にて、２０℃における塩化メチレン
溶液の粘度を測定し、これより極限粘度〔η〕を求めた
後、次式にて算出した。 〔η〕＝1.２３×１０^-5Ｍｖ^0.83 2)コモノマー含有率（モル％）¹ Ｈ−ＮＭＲで7.０〜7.３ppm に見られるビスフェノー
ルＡ残基の芳香族Ｈと1.３３ppm に見られるｐ−tert−
ブチルフェノール残基のtert−ブチル基のＨ及び0.８２
ppm に見られるコモノマー残基の長鎖アルキルのメチル
基のＨの強度比から求めた。 3)ガラス転移点（Ｔｇ：℃） ＤＳＣ（Differential scanning calorimeter)により測
定した。（Ｔｇが低いほど、低温成形が可能である。） 4)メルトインデックス比（ＭＩＲ） ＭＩ_11kg／ＭＩ_325g 、２８０℃で測定した。 5)スウエル比 メルトインデックスの測定において、溶融樹脂に対し
て、１１ｋｇの荷重を加えた場合に、押し出されたスト
ランドの断面積をオリフィスの断面積で除した値であ
る。

【００７２】

【発明の効果】以上、本発明によれば、耐衝撃性などの
機械的強度を損なわずに、ブロー特性に優れ、低温で成
形することができるポリカーボネート重合体が、効率よ
く容易に得られる。そして、該ポリカーボネート重合体
は、光学部品，機械部品，電機・電子部品，自動車部品
などの成形に好適に用いられる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 オリゴマー法によるポリカーボネート重合体
の製造方法の一例を示す図である。

【図２】 オリゴマー法によるポリカーボネート重合体
の製造方法の他の一例を示す図である。

【図３】 分岐オリゴマー法によるポリカーボネート重
合体の製造方法の一例を示す図である。

【図４】 分岐オリゴマー法によるポリカーボネート重
合体の製造方法の他の一例を示す図である。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 三個以上の官能基を有する化合物から誘
   導された分岐核構造を有すると共に、一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｘ¹ 及びＹ¹ は、それぞれハロゲン原子，炭素
   数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１５のアリール基
   を示し、ｍ及びｎは、それぞれ０〜４の整数である。Ａ
   は、一般式(II) 【化２】 （式中、ｊは０〜６の整数であり、ｋは７〜２０の整数
   である。）で表されるアルキリデン基を示す。〕で表さ
   れるカーボネート構造単位Ｉ及び一般式(III) 【化３】 〔式中、Ｘ² 及びＹ² は、それぞれハロゲン原子，炭素
   数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１５のアリール基
   を示し、ｐ及びｑは、それぞれ０〜４の整数である。Ｂ
   は、単結合，炭素数１〜１５のアルキリデン基，炭素数
   １〜１５のアルキレン基，炭素数６〜１５のアリーレン
   基，炭素数７〜１５のアリールアルキレン基，−Ｏ−，
   −ＣＯ−，−Ｓ−，−ＳＯ−又は−ＳＯ₂ −結合を示
   す。〕で表されるカーボネート構造単位IIからなるポリ
   カーボネート部を有する重合体であり、かつカーボネー
   ト構造単位Ｉの割合が、全カーボネート構造単位に対し
   て0.５〜８０モル％であって、その粘度平均分子量が１
   0,０００〜５0,０００であることを特徴とするポリカー
   ボネート重合体。
2. 【請求項２】 三個以上の官能基を有する化合物が、
   １，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
   ン、α，α’，α”−トリス（４−ヒドロキシフェニ
   ル）−１，３，５−トリイソプロピルベンゼン、１−
   〔α−メチル−α−（４’−ヒドロキシフェニル）エチ
   ル〕−４−〔α’，α”−トリス（４−ヒドロキシフェ
   ニル〕ベンゼン、フロログルシン及びトリメリト酸から
   選ばれた少なくとも一種である請求項１記載のポリカー
   ボネート重合体。
3. 【請求項３】 一般式(IV) 【化４】 〔式中、Ｘ¹ 及びＹ¹ は、それぞれハロゲン原子，炭素
   数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１５のアリール基
   を示し、ｍ及びｎは、それぞれ０〜４の整数である。Ａ
   は、一般式(II) 【化５】 （式中、ｊは０〜６の整数であり、ｋは７〜２０の整数
   である。）で表されるアルキリデン基を示す。〕で表さ
   れる二価フェノール類とホスゲンを反応させてポリカー
   ボネートオリゴマーＩを製造し、次いで、該ポリカーボ
   ネートオリゴマーＩ、分岐剤及び一般式（Ｖ） 【化６】 〔式中、Ｘ² 及びＹ² は、それぞれハロゲン原子，炭素
   数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１５のアリール基
   を示し、ｐ及びｑは、それぞれ０〜４の整数である。Ｂ
   は、単結合，炭素数１〜１５のアルキリデン基，炭素数
   １〜１５のアルキレン基，炭素数６〜１５のアリーレン
   基，炭素数７〜１５のアリールアルキレン基，−Ｏ−，
   −ＣＯ−，−Ｓ−，−ＳＯ−又は−ＳＯ₂ −結合を示
   す。〕で表される二価フェノール類を反応させることを
   特徴とする請求項１記載のポリカーボネート重合体の製
   造方法。
4. 【請求項４】 上記一般式（Ｖ）で表される二価フェノ
   ール類とホスゲンを反応させてポリカーボネートオリゴ
   マーIIを製造し、次いで、該ポリカーボネートオリゴマ
   ーII、分岐剤及び上記一般式(IV)で表される二価フェノ
   ール類を反応させることを特徴とする請求項１記載のポ
   リカーボネート重合体の製造方法。
5. 【請求項５】 上記一般式(IV)で表される二価フェノー
   ル類、分岐剤及びホスゲンを反応させて分岐ポリカーボ
   ネートオリゴマーＩを製造し、次いで、該分岐ポリカー
   ボネートオリゴマーＩと上記一般式（Ｖ）で表される二
   価フェノール類を反応させることを特徴とする請求項１
   記載のポリカーボネート重合体の製造方法。
6. 【請求項６】 上記一般式（Ｖ）で表される二価フェノ
   ール類、分岐剤及びホスゲンを反応させて分岐ポリカー
   ボネートオリゴマーIIを製造し、次いで、該分岐ポリカ
   ーボネートオリゴマーIIと上記一般式(IV)で表される二
   価フェノール類を反応させることを特徴とする請求項１
   記載のポリカーボネート重合体の製造方法。