JPH07284738A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH07284738A JPH07284738A JP8021794A JP8021794A JPH07284738A JP H07284738 A JPH07284738 A JP H07284738A JP 8021794 A JP8021794 A JP 8021794A JP 8021794 A JP8021794 A JP 8021794A JP H07284738 A JPH07284738 A JP H07284738A
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- cleaned
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Abstract
(57)【要約】
【目的】例えば部品中央のフィルター膜面に影響を与え
ないように、カラーフィルターの周辺部のシール部のみ
を選択的にかつ自動的に洗浄でき、従って効率的かつ歩
留り良く局所的洗浄ができる洗浄装置を提供する。 【構成】被洗浄体の周辺部等局所表面を洗浄する洗浄装
置であって、洗浄液を一定の圧力で供給する内管と、該
内管の洗浄液供給力より大きい回収力で洗浄液を回収す
る外周管とからなる洗浄器と、前記被洗浄体の被洗浄面
と洗浄器とを、接触状態で相対的にＸ−Ｙ方向に移動さ
せる担送機構とからなることを特徴とする。
ないように、カラーフィルターの周辺部のシール部のみ
を選択的にかつ自動的に洗浄でき、従って効率的かつ歩
留り良く局所的洗浄ができる洗浄装置を提供する。 【構成】被洗浄体の周辺部等局所表面を洗浄する洗浄装
置であって、洗浄液を一定の圧力で供給する内管と、該
内管の洗浄液供給力より大きい回収力で洗浄液を回収す
る外周管とからなる洗浄器と、前記被洗浄体の被洗浄面
と洗浄器とを、接触状態で相対的にＸ−Ｙ方向に移動さ
せる担送機構とからなることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレィ用カ
ラーフィルタ基板、フォトマスク、半導体ウェハー等の
電子部品の洗浄装置に関し、特には、これら電子部品の
周辺部等の部分洗浄用の洗浄装置に関する。
ラーフィルタ基板、フォトマスク、半導体ウェハー等の
電子部品の洗浄装置に関し、特には、これら電子部品の
周辺部等の部分洗浄用の洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶ディスプレィ用カラーフィル
タ基板、フォトマスク等の電子部品の洗浄装置は、これ
ら電子部品の全面を洗浄する装置であって、この洗浄装
置を用いて洗浄を行うと、例えば、カラーフィルタ基板
中央のフィルター膜を疵つけることがあり、電子部品を
製造する上で、歩留りに影響を与えていた。また、手作
業でカラーフィルタ基板の周辺部のシール部等を局所的
に洗浄することも可能であるが、極めて能率の悪い作業
であった。
タ基板、フォトマスク等の電子部品の洗浄装置は、これ
ら電子部品の全面を洗浄する装置であって、この洗浄装
置を用いて洗浄を行うと、例えば、カラーフィルタ基板
中央のフィルター膜を疵つけることがあり、電子部品を
製造する上で、歩留りに影響を与えていた。また、手作
業でカラーフィルタ基板の周辺部のシール部等を局所的
に洗浄することも可能であるが、極めて能率の悪い作業
であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、液晶ディス
プレィ用カラーフィルタ基板等の電子部品用の洗浄装置
の上記のような問題点を解決し、例えば部品中央のフィ
ルター膜面に影響を与えないように、カラーフィルター
の周辺部のシール部のみを選択的にかつ自動的に洗浄で
き、従って効果的かつ歩留り良く局所的洗浄のできる洗
浄装置を提供することを課題とする。
プレィ用カラーフィルタ基板等の電子部品用の洗浄装置
の上記のような問題点を解決し、例えば部品中央のフィ
ルター膜面に影響を与えないように、カラーフィルター
の周辺部のシール部のみを選択的にかつ自動的に洗浄で
き、従って効果的かつ歩留り良く局所的洗浄のできる洗
浄装置を提供することを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明に於いて上記目的
を達成するために、被洗浄体の周辺部等局所表面を洗浄
する洗浄装置であって、洗浄液を一定の圧力で供給する
内管と、該内管の洗浄液供給力より大きい回収力で洗浄
液を回収する外周管とからなる洗浄器と、前記被洗浄体
の被洗浄面と洗浄器とを、接触状態で相対的にＸ−Ｙ方
向に移動させる担送機構とからなることを特徴とする洗
浄装置としたものである。
を達成するために、被洗浄体の周辺部等局所表面を洗浄
する洗浄装置であって、洗浄液を一定の圧力で供給する
内管と、該内管の洗浄液供給力より大きい回収力で洗浄
液を回収する外周管とからなる洗浄器と、前記被洗浄体
の被洗浄面と洗浄器とを、接触状態で相対的にＸ−Ｙ方
向に移動させる担送機構とからなることを特徴とする洗
浄装置としたものである。
【０００５】
【作用】上記のように本発明によれば、洗浄器は、洗浄
液を一定の圧力で供給する内管と、該内管の洗浄液供給
力より大きい回収力で洗浄液を回収する外周管とを有し
ているので、被洗浄面を自動的に、清浄に洗浄すること
ができる。洗浄装置の洗浄器が、被洗浄体の被洗浄面と
接触状態で相対的にＸ−Ｙ方向に移動させる機構を有し
ているので、必要な洗浄面だけを洗浄することができ
る。また、担持体に洗浄器が担持されているので、担持
体で担持された洗浄器を自由に移動させることができ、
あるいは、洗浄器は固定アームにより固定され、被洗浄
体は自由に移動させることができ、被洗浄体の周辺部等
局所表面を洗うことができる。
液を一定の圧力で供給する内管と、該内管の洗浄液供給
力より大きい回収力で洗浄液を回収する外周管とを有し
ているので、被洗浄面を自動的に、清浄に洗浄すること
ができる。洗浄装置の洗浄器が、被洗浄体の被洗浄面と
接触状態で相対的にＸ−Ｙ方向に移動させる機構を有し
ているので、必要な洗浄面だけを洗浄することができ
る。また、担持体に洗浄器が担持されているので、担持
体で担持された洗浄器を自由に移動させることができ、
あるいは、洗浄器は固定アームにより固定され、被洗浄
体は自由に移動させることができ、被洗浄体の周辺部等
局所表面を洗うことができる。
【０００６】
【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する。
被洗浄体の被洗浄面と洗浄器とを、接触状態でＸ−Ｙ方
向に移動させる担送機構には、洗浄器をＸ−Ｙ方向に移
動させる機構と、被洗浄体をＸ−Ｙ方向に移動させる機
構との２つがあるが、各々の機構について説明する。
被洗浄体の被洗浄面と洗浄器とを、接触状態でＸ−Ｙ方
向に移動させる担送機構には、洗浄器をＸ−Ｙ方向に移
動させる機構と、被洗浄体をＸ−Ｙ方向に移動させる機
構との２つがあるが、各々の機構について説明する。
【０００７】〈実施例１〉洗浄器がＸ−Ｙ方向に移動す
る機構を有する洗浄装置の場合。図１および図２に示す
ように、本洗浄装置は、洗浄液を一定の圧力で供給する
洗浄液供給管である内管（１１）と、該内管（１１）の
洗浄液供給力より大きい回収力で洗浄液を回収する洗浄
液回収管である外周管（１２）とからなる洗浄器（１
０）と、被洗浄体（３０）の被洗浄面と洗浄器（１０）
とを、接触状態でＸ−Ｙ方向に移動させる担送機構（２
０）と、洗浄液を供給および回収するためのロータリー
式ポンプ（図示してない）等からなる。
る機構を有する洗浄装置の場合。図１および図２に示す
ように、本洗浄装置は、洗浄液を一定の圧力で供給する
洗浄液供給管である内管（１１）と、該内管（１１）の
洗浄液供給力より大きい回収力で洗浄液を回収する洗浄
液回収管である外周管（１２）とからなる洗浄器（１
０）と、被洗浄体（３０）の被洗浄面と洗浄器（１０）
とを、接触状態でＸ−Ｙ方向に移動させる担送機構（２
０）と、洗浄液を供給および回収するためのロータリー
式ポンプ（図示してない）等からなる。
【０００８】担送機構（２０）は、洗浄器を担持する担
持体（２７）と、この担持体を載せてＸ方向の左右に移
動させるＸ軸レール（２４）および担持体を左右に移動
させるワイヤー（２５）と、Ｘ方向と直交するＹ方向に
移動させる支軸（２３）等からなっている。その詳細な
構造はつぎの通りである。
持体（２７）と、この担持体を載せてＸ方向の左右に移
動させるＸ軸レール（２４）および担持体を左右に移動
させるワイヤー（２５）と、Ｘ方向と直交するＹ方向に
移動させる支軸（２３）等からなっている。その詳細な
構造はつぎの通りである。
【０００９】洗浄器（１０）を担持した担持体（２７）
がＸ軸レール（２４）に載せられている。また、この担
持体（２７）の端にはワイヤー（２５）が取り付けられ
ており、このワイヤーの先端は、Ｘ軸レール（２４）の
両端に設置されている回転輪（２２，２２）の片方を通
って、もう片方の回転輪（２２）に達し、この回転輪
（２２）を通って、ワイヤー（２５）が取り付けられて
いない方の担持体（２７）の端に繋がれている。この回
転輪（２２）が駆動装置（２１）からの動力によって回
転すると、担持体（２７）はワイヤー（２５）を介し
て、Ｘ軸レール（２４）に沿って移動できる構造を有し
ている。Ｘ軸レール（２４）の両端に設置されている回
転輪（２２，２２）近傍から、Ｘ軸レール（２４）と直
交するＹ軸方向に向かって、支軸（２３，２３）が設け
られており、一方の支軸（２３）の近傍には送りネジ
（２６）が形成されている。この送りネジ（２６）を前
後に回転させることにより、担持体（２７）はＹ軸方向
にも移動させることが可能な構造を有している。そし
て、洗浄器（１０）は被洗浄体（３０）の全面を覆うこ
とができる構造を有している。なお、洗浄器（１０）の
先端には、フェルト、布地、毛等からなるラビング体
（１３）を付設してもよい。ラビング体の役割は洗浄範
囲の精度向上と洗浄液の回収効率向上とキャビテーショ
ンの効果の向上である。
がＸ軸レール（２４）に載せられている。また、この担
持体（２７）の端にはワイヤー（２５）が取り付けられ
ており、このワイヤーの先端は、Ｘ軸レール（２４）の
両端に設置されている回転輪（２２，２２）の片方を通
って、もう片方の回転輪（２２）に達し、この回転輪
（２２）を通って、ワイヤー（２５）が取り付けられて
いない方の担持体（２７）の端に繋がれている。この回
転輪（２２）が駆動装置（２１）からの動力によって回
転すると、担持体（２７）はワイヤー（２５）を介し
て、Ｘ軸レール（２４）に沿って移動できる構造を有し
ている。Ｘ軸レール（２４）の両端に設置されている回
転輪（２２，２２）近傍から、Ｘ軸レール（２４）と直
交するＹ軸方向に向かって、支軸（２３，２３）が設け
られており、一方の支軸（２３）の近傍には送りネジ
（２６）が形成されている。この送りネジ（２６）を前
後に回転させることにより、担持体（２７）はＹ軸方向
にも移動させることが可能な構造を有している。そし
て、洗浄器（１０）は被洗浄体（３０）の全面を覆うこ
とができる構造を有している。なお、洗浄器（１０）の
先端には、フェルト、布地、毛等からなるラビング体
（１３）を付設してもよい。ラビング体の役割は洗浄範
囲の精度向上と洗浄液の回収効率向上とキャビテーショ
ンの効果の向上である。
【００１０】被洗浄体の洗浄にあたっては、使用する洗
浄液の種類は、水、アルカリ性水溶液、中性洗剤等水系
のものが良く、内管（洗浄液供給管）（１１）と外周管
（洗浄液回収管）（１２）の口径等の望ましい寸法は図
２に示すように、内管の内径をａ，外周管の内径をｂ，
洗浄器の先端は内管の方が少し凹んだ構造を形成してい
るが、この内管と外周管の段差をｃ，とすると、各々の
望ましい寸法範囲は洗浄する幅に応じて 2 ｍｍ≦ａ≦ 6 ｍｍ ａ×1.5 ｍｍ≦ｂ≦ａ×3.0 ｍｍ ａ×0.3 ｍｍ≦ｃ≦ａ×1.5 ｍｍ が良く、内管（洗浄液供給管）（１１）からの供給液圧
を０．７ｋｇ／ｃｍ2 以上にし、外周管（洗浄液回収
管）（１２）からの吸引回収液圧を供給液圧の１．２倍
以上にして、洗浄液を回収すると、被洗浄体の被洗浄面
に気泡が作られ、キャビテーション現象が発生し、この
現象を利用して被洗浄体の洗浄が行われる。洗浄装置は
自動的にON-OFF制御が可能な機構を採用しているので、
必要部分だけ選択的に洗浄することができる。すなわ
ち、周辺部等の局所表面を洗浄することができる。
浄液の種類は、水、アルカリ性水溶液、中性洗剤等水系
のものが良く、内管（洗浄液供給管）（１１）と外周管
（洗浄液回収管）（１２）の口径等の望ましい寸法は図
２に示すように、内管の内径をａ，外周管の内径をｂ，
洗浄器の先端は内管の方が少し凹んだ構造を形成してい
るが、この内管と外周管の段差をｃ，とすると、各々の
望ましい寸法範囲は洗浄する幅に応じて 2 ｍｍ≦ａ≦ 6 ｍｍ ａ×1.5 ｍｍ≦ｂ≦ａ×3.0 ｍｍ ａ×0.3 ｍｍ≦ｃ≦ａ×1.5 ｍｍ が良く、内管（洗浄液供給管）（１１）からの供給液圧
を０．７ｋｇ／ｃｍ2 以上にし、外周管（洗浄液回収
管）（１２）からの吸引回収液圧を供給液圧の１．２倍
以上にして、洗浄液を回収すると、被洗浄体の被洗浄面
に気泡が作られ、キャビテーション現象が発生し、この
現象を利用して被洗浄体の洗浄が行われる。洗浄装置は
自動的にON-OFF制御が可能な機構を採用しているので、
必要部分だけ選択的に洗浄することができる。すなわ
ち、周辺部等の局所表面を洗浄することができる。
【００１１】〈実施例２〉被洗浄体がＸ−Ｙ方向に移動
する機構を有する洗浄装置の場合。図３に示すように、
本洗浄装置は、洗浄液を一定の圧力で供給する洗浄液供
給管である内管（５１）と、該内管（５１）の洗浄液供
給力より大きい回収力で洗浄液を回収する洗浄液回収管
である外周管（５２）とからなる洗浄器（５０）と、被
洗浄体（７０）の被洗浄面と洗浄器（５０）とを、接触
状態でＸ−Ｙ方向に移動させる担送機構（６０）と、洗
浄液を供給および回収するためのロータリー式ポンプ
（図示してない）等からなる。
する機構を有する洗浄装置の場合。図３に示すように、
本洗浄装置は、洗浄液を一定の圧力で供給する洗浄液供
給管である内管（５１）と、該内管（５１）の洗浄液供
給力より大きい回収力で洗浄液を回収する洗浄液回収管
である外周管（５２）とからなる洗浄器（５０）と、被
洗浄体（７０）の被洗浄面と洗浄器（５０）とを、接触
状態でＸ−Ｙ方向に移動させる担送機構（６０）と、洗
浄液を供給および回収するためのロータリー式ポンプ
（図示してない）等からなる。
【００１２】担送機構（６０）は、被洗浄体（７０）を
Ｘ方向に移動させるＸステージ（６２）と、Ｘステージ
の上に設けられた、Ｘ方向と直交するＹ方向に移動可能
な、Ｘステージよりも一回り小さいＹステージ（６３）
等からなっている。その詳細な構造はつぎの通りであ
る。
Ｘ方向に移動させるＸステージ（６２）と、Ｘステージ
の上に設けられた、Ｘ方向と直交するＹ方向に移動可能
な、Ｘステージよりも一回り小さいＹステージ（６３）
等からなっている。その詳細な構造はつぎの通りであ
る。
【００１３】平盤なＸステージ（６２）には、このＸス
テージ（６２）をＸ方向に移動させるための駆動装置
（６１）と、この駆動装置（６１）の動きをＸステージ
に伝える駆動軸（６６）と、ＸステージをＸ方向に導く
２本のＸ軸レール（６４）等が具備され、このＸステー
ジ（６２）の上に、Ｘ方向と直交するＹ方向に移動可能
な、Ｘステージよりも一回り小さい大きさの平盤をした
Ｙステージ（６３）が、このＹステージ（６３）をＹ方
向に移動させる駆動装置（６７）と、この駆動装置の動
力をＹステージ（６３）に伝える駆動軸（６８）と、Ｙ
ステージをＹ方向に導く２本のＹ軸レール（６５）等が
具備されて、設置され、このＹステージ（６３）の上は
被洗浄体（７０）が固定できるように工夫されている。
テージ（６２）をＸ方向に移動させるための駆動装置
（６１）と、この駆動装置（６１）の動きをＸステージ
に伝える駆動軸（６６）と、ＸステージをＸ方向に導く
２本のＸ軸レール（６４）等が具備され、このＸステー
ジ（６２）の上に、Ｘ方向と直交するＹ方向に移動可能
な、Ｘステージよりも一回り小さい大きさの平盤をした
Ｙステージ（６３）が、このＹステージ（６３）をＹ方
向に移動させる駆動装置（６７）と、この駆動装置の動
力をＹステージ（６３）に伝える駆動軸（６８）と、Ｙ
ステージをＹ方向に導く２本のＹ軸レール（６５）等が
具備されて、設置され、このＹステージ（６３）の上は
被洗浄体（７０）が固定できるように工夫されている。
【００１４】被洗浄体（７０）の洗浄は、つぎの通り行
う。すなわち、ＸステージとＹステージとを自在に移動
させることによって、固定アーム（５３）で一定部分に
固定された洗浄器（５０）で、被洗浄体（７０）の全
面、あるいは一部をラビングして行う。洗浄の際の諸条
件は、前記、洗浄器がＸーＹ方向に移動する機構を有す
る洗浄装置の場合と同様である。
う。すなわち、ＸステージとＹステージとを自在に移動
させることによって、固定アーム（５３）で一定部分に
固定された洗浄器（５０）で、被洗浄体（７０）の全
面、あるいは一部をラビングして行う。洗浄の際の諸条
件は、前記、洗浄器がＸーＹ方向に移動する機構を有す
る洗浄装置の場合と同様である。
【００１５】
【発明の効果】上記のように本発明によれば、被洗浄体
の局所表面を選択的に、かつ、自動的に洗浄することが
できるため、効率的で歩留りの良い洗浄が可能となり、
ひいては洗浄装置の小型化、ランニングコストの低減が
図れるという効果がある。
の局所表面を選択的に、かつ、自動的に洗浄することが
できるため、効率的で歩留りの良い洗浄が可能となり、
ひいては洗浄装置の小型化、ランニングコストの低減が
図れるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す、横から見た説明図で
ある。
ある。
【図２】本発明の同実施例を示す、洗浄器の先端部分の
拡大した説明図である。
拡大した説明図である。
【図３】本発明の別の実施例を示す、斜視説明図であ
る。
る。
１０‥‥洗浄器 １１‥‥内管（洗浄液供給管） １２‥‥外周管（洗浄液回収管） １３‥‥ラビング体 ２０‥‥担送機構 ２１‥‥駆動装置 ２２‥‥回転輪 ２３‥‥支軸 ２４‥‥Ｘ軸レール ２５‥‥ワイヤー ２６‥‥送りネジ ２７‥‥担持体 ３０‥‥被洗浄体 ５０‥‥洗浄器 ５１‥‥内管（洗浄液供給管） ５２‥‥外周管（洗浄液回収管） ５３‥‥固定アーム ６０‥‥担送機構 ６１‥‥駆動装置 ６２‥‥Ｘステージ ６３‥‥Ｙステージ ６４‥‥Ｘ軸レール ６５‥‥Ｙ軸レール ６６‥‥駆動軸 ６７‥‥駆動装置 ６８‥‥駆動軸 ７０‥‥被洗浄体 ａ‥‥内管内径 ｂ‥‥外周管内径 ｃ‥‥内管と外周管の段差
Claims (1)
- 【請求項１】被洗浄体の周辺部等局所表面を洗浄する洗
浄装置であって、 洗浄液を一定の圧力で供給する内管と、該内管の洗浄液
供給力より大きい回収力で洗浄液を回収する外周管とか
らなる洗浄器と、 前記被洗浄体の被洗浄面と洗浄器とを、接触状態で相対
的にＸ−Ｙ方向に移動させる担送機構とからなることを
特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8021794A JPH07284738A (ja) | 1994-04-19 | 1994-04-19 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8021794A JPH07284738A (ja) | 1994-04-19 | 1994-04-19 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07284738A true JPH07284738A (ja) | 1995-10-31 |
Family
ID=13712218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8021794A Pending JPH07284738A (ja) | 1994-04-19 | 1994-04-19 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07284738A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10163153A (ja) * | 1996-11-29 | 1998-06-19 | Tadahiro Omi | 洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、ウエット処理装置及びウエット処理方法 |
| JPH10177978A (ja) * | 1996-12-18 | 1998-06-30 | Tadahiro Omi | 洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、省液型の液体供給ノズル装置及びウエット処理装置 |
| WO2001050505A3 (en) * | 2000-01-03 | 2002-01-31 | Semitool Inc | A microelectronic workpiece processing tool including a processing reactor having a paddle assembly for agitation of a processing fluid proximate to the workpiece |
| US7313462B2 (en) | 2003-06-06 | 2007-12-25 | Semitool, Inc. | Integrated tool with automated calibration system and interchangeable wet processing components for processing microfeature workpieces |
| US7390383B2 (en) | 2003-07-01 | 2008-06-24 | Semitool, Inc. | Paddles and enclosures for enhancing mass transfer during processing of microfeature workpieces |
| US7393439B2 (en) | 2003-06-06 | 2008-07-01 | Semitool, Inc. | Integrated microfeature workpiece processing tools with registration systems for paddle reactors |
| JP2012212032A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-01 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄装置 |
-
1994
- 1994-04-19 JP JP8021794A patent/JPH07284738A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10163153A (ja) * | 1996-11-29 | 1998-06-19 | Tadahiro Omi | 洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、ウエット処理装置及びウエット処理方法 |
| JPH10177978A (ja) * | 1996-12-18 | 1998-06-30 | Tadahiro Omi | 洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、省液型の液体供給ノズル装置及びウエット処理装置 |
| US7524406B2 (en) | 2000-01-03 | 2009-04-28 | Semitool, Inc. | Processing apparatus including a reactor for electrochemically etching microelectronic workpiece |
| WO2001050505A3 (en) * | 2000-01-03 | 2002-01-31 | Semitool Inc | A microelectronic workpiece processing tool including a processing reactor having a paddle assembly for agitation of a processing fluid proximate to the workpiece |
| US6547937B1 (en) | 2000-01-03 | 2003-04-15 | Semitool, Inc. | Microelectronic workpiece processing tool including a processing reactor having a paddle assembly for agitation of a processing fluid proximate to the workpiece |
| US6773559B2 (en) | 2000-01-03 | 2004-08-10 | Semitool, Inc. | Processing apparatus including a reactor for electrochemically etching a microelectronic workpiece |
| US7294244B2 (en) | 2000-01-03 | 2007-11-13 | Semitool, Inc. | Microelectronic workpiece processing tool including a processing reactor having a paddle assembly for agitation of a processing fluid proximate to the workpiece |
| US7313462B2 (en) | 2003-06-06 | 2007-12-25 | Semitool, Inc. | Integrated tool with automated calibration system and interchangeable wet processing components for processing microfeature workpieces |
| US7393439B2 (en) | 2003-06-06 | 2008-07-01 | Semitool, Inc. | Integrated microfeature workpiece processing tools with registration systems for paddle reactors |
| US7371306B2 (en) | 2003-06-06 | 2008-05-13 | Semitool, Inc. | Integrated tool with interchangeable wet processing components for processing microfeature workpieces |
| US7390383B2 (en) | 2003-07-01 | 2008-06-24 | Semitool, Inc. | Paddles and enclosures for enhancing mass transfer during processing of microfeature workpieces |
| US7390382B2 (en) | 2003-07-01 | 2008-06-24 | Semitool, Inc. | Reactors having multiple electrodes and/or enclosed reciprocating paddles, and associated methods |
| JP2012212032A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-01 | Toppan Printing Co Ltd | 洗浄装置 |
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