JPH07286272A - 真空ウェブ・コーテング方法及び装置 - Google Patents

真空ウェブ・コーテング方法及び装置

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JPH07286272A
JPH07286272A JP6274804A JP27480494A JPH07286272A JP H07286272 A JPH07286272 A JP H07286272A JP 6274804 A JP6274804 A JP 6274804A JP 27480494 A JP27480494 A JP 27480494A JP H07286272 A JPH07286272 A JP H07286272A
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web
coating
nozzle
vapor
substrate
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JP6274804A
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Ian Kenneth Baxter
アイアン・ケンネス・バツクスター
Charles Arthur Bishop
チヤールス・アーサー・ビシヨツプ
David Charles Mcgee
デービツド・チヤールス・マツギー
Keith Watkins
ケイス・ワトキンス
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Imperial Chemical Industries Ltd
General Vacuum Equipment Ltd
Original Assignee
Imperial Chemical Industries Ltd
General Vacuum Equipment Ltd
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 コーテングの実施を厳密に制御してコーテン
グの均一性、材料回収効率、及び基板の熱負荷の制御性
を改善し、紙またはプラスチツク膜上に金属などの材料
で厚いコーテングを施す。 【構成】 蒸発手段１５は、互いに間隔を置いて配設さ
れた複数の出口ノズル２９を有し、蒸気は、ノズル２９
を通して真空チャンバー１２内の冷却された回転可能ド
ラム２０の面上に配設された蒸着帯域３０まで運ばれ、
ウェブ基板２１は、ウェブ搬送システム１０，１３，２
４，２５によってドラム２０を越えて前へ送られ、ノズ
ル２９は、好ましくは、基板２１が前進する方向に順次
配設された帯域３０の部分へ蒸気を送るために基板２１
の通路に対して横向きに配設された複数の直線のスロツ
トを有し、ノズル出口はドラム２０の湾曲面周囲に該湾
曲面から間隔を置いて弧面上に配置される、真空ウェブ
・コーテング装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空ウェブ・コーテン
グ装置および真空中で真空蒸着法によりウェブ基板上に
ある物質をコーテングするウェブ・コーテング方法に関
するものである。
【０００２】
【従来技術】真空蒸着法では、コーテング材料を加熱し
たるつぼ内で蒸発させ、その蒸気をコーテングを施すウ
ェブの表面上に凝縮させる。ウェブは、通常、大きい連
続するウェブであり、これを巻上げ装置を用いて真空蒸
着帯域内を連続的に移動させる。蒸着帯域には、通常、
低温の回転するドラムの形状をした金属面が配設され、
ウェブはその上を移動する。汚染物質の侵入を避けるた
めに、コーテングは、通常、１０-2−１０-4Torr程度の
高度の真空の真空チャンバー内で行なわれる。このた
め、この方法は真空ウェブ・コーテング法とよばれる。
るつぼは、通常、ウェブの通路を横切る形で配設される
スリット状に切られた細長い出口ノズルを有する蒸発レ
トルト内に収容されており、蒸発した材料は、該ノズル
を通ってウェブの表面へ運ばれ、そこで凝縮して薄膜の
コーテングとなる。適当な搬送システムを用いれば、ウ
ェブの片面または両面を一以上のコーテング材料でコー
テングすることができる。コーテング材料の蒸発速度と
ウェブ基板をノズルから出てくる蒸気に露出させる時間
を制御することによって、膜の厚さと均一性を正確に維
持することができる。この露出時間は、通常、ノズルに
対するウェブの移動速度を制御することで制御される。
蒸着によって得られるウェブ・コーテングは「ウェブの
処理・変換技術（Web Processing and Converting Tech
nology - Van Nostrand Reinhold Company - １９８
４）」の第１１章、エルンスト・Ｋ・ハルトヴィク（Er
nst K. Hartwig）「高度の真空ロール・コーテング（Hi
gh - vacuum roll coating）」に記載されている。この
方法を用いれば、1.0ミクロン程度の薄い紙またはプラ
スチックの基板に、金属、合金、その他の材料を用い
て、通常0.1ミクロン以下の厚さの薄膜のコーテングを
正確に行なうことができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本発明
の発明者等は、現在ある種の膜材料で必要とされる５−
25ミクロン程度のより厚いコーテングでは、この方法
は、コーテングの均一性、材料回収効率、および基板の
熱負荷の制御などの点で不適当であることを明らかにし
た。特に、高温の厚いコーテングによる加熱およびその
結果生じる薄い基板の損傷がとくに深刻な問題となる。
本発明の目的は、特に比較的厚いコーテングの場合で
も、均一性、材料回収効率、及び基板の熱負荷の制御の
点で改善された真空ウェブ・コーテング装置及び方法を
提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明による真空ウェブ
・コーテング装置は、湾曲面に少なくとも一つの蒸着帯
域を有する少なくとも一つの回転冷却ドラムを収容した
真空チャンバー、コーテングを施すウェブ基板を前記蒸
着帯域を通る通路に添って前記湾曲面上へ送るウェブ搬
送システム、及び前記ウェブ上に蒸着させるコーテング
材料を蒸発させるための蒸発手段から成り、前記蒸発手
段は、互いに間隔を置いて配設された複数の出口ノズル
を有し、該出口ノズルは、蒸気が前記蒸発手段からウェ
ブの通路に添って伸びる前記蒸着帯域の所定部分まで運
ばれ、さらに該所定部分で前進するウェブの面上に凝縮
する構成とし、また、前記ノズルの出口端部は、ドラム
の湾曲面周囲に該湾曲面から間隔を置いて弧面上に配置
される。
【０００５】蒸発手段は、好ましくは少なくとも一つの
密閉されたレトルトを有し、各レトルトは、少なくとも
一つの蒸気出口ノズルを有しまた該出口ノズルを除いて
密閉される。各レトルトは、好ましくは中に少なくとも
一つのるつぼを収容し、該材料は、該るつぼの中で蒸発
温度まで加熱される。るつぼを加熱する加熱手段は、レ
トルトの外部または内部に配設することができる。蒸発
手段が一つのレトルトのみを有する場合には、加熱手段
は、好ましくはレトルト内に収納される。しかし、蒸発
手段が二以上のレトルトを有する場合には、二以上のレ
トルト内のコーテング材料を蒸発させるために共通の加
熱手段が用いられ、該加熱手段は、好ましくはレトルト
外に配設される。好適な加熱手段の一例としては電気的
に加熱された輻射熱源を挙げることができる。好ましく
は少なくとも一つのレトルトは密閉蓋を有し、該密閉蓋
内に少なくとも一つの出口ノズルが配設され、該蓋は、
取外し可能で、必要に応じて蒸発用るつぼの再充填を行
ないまたるつぼあるいは加熱手段の交換を行なうことが
できる構成とする。迅速加熱及び冷却を容易にするため
に、レトルト及びるつぼの中には熱容量が小さいものを
含め、そのレトルトは、好ましくは例えばセラミック材
料、ステンレススチール、あるいはタングステン、モリ
ブデン、タンタル等の耐火性金属からなる輻射シールド
内に収容される構成とする。
【０００６】ノズルは、任意の長さのものでよくまた配
列を変化させて蒸着帯域ののぞむ位置に蒸気を噴出させ
る構成とする。同様に、ノズル出口の形状、面積、間
隔、及び方向も変化させてのぞむ構成とすることができ
る。例えば、出口の形状は、円形、直方形、あるいは星
形とし、蒸着帯域全域に一線またはジグザグに配置して
よい。とくに好適なノズルの形状としては、好ましくは
コーテングを施すウェブの全幅にわたって伸びる連続し
たスロットとするものを挙げることができる。好適なス
ロットの構成としては、ウェブ基板の通路に対して横方
向に複数の直線状スロットを配設し、ウェブ基板が前進
する方向に順次並べられた蒸着帯域の部分に蒸気を供給
するものを挙げることができる。ノズルを順次配列する
間隔は、必要に応じて変化させることができる。蒸気温
度が高い場合には、通常、間隔を大きく開ける必要があ
る。ノズルの配列は、一つのレトルトに一群のノズルの
みを配設するものには限定されない。のぞむ場合には、
蒸気が一以上のレトルトからノズルで運ばれてくる構成
としてもよく、また単一の冷却ドラムの周囲にノズルを
配設する構成としてよい。
【０００７】単一の位置ではなくウェブの移動方向蒸着
帯域に添って順次配設する複数のノズルからコーテング
材料を蒸着させる方法をとる場合には、それによって多
くの効果が得られる。ウェブの任意の位置でのコーテン
グは、ノズルの形状を変えて厚さに応じた速度で徐々に
施し、それによってコーテングの構造及び均一性の管理
をよりよく行なうことができる。冷却面で除去すべき熱
負荷は、比較的大きい面積にわたって広がり、したがっ
て冷却をより効率的に行なうことができ、またウェブの
損傷あるいはひずみの危険も少なく、そのため比較的厚
いコーテングを行なうことができ、高い蒸気温度や損傷
を受けやすい微妙な基板の使用、あるいはより高い基板
の移動速度などが可能となる。このことに関連して、冷
却面との接触を弱める損傷あるいはひずみは過熱したが
ってコーテングの損傷を引き起こすため、ウェブ基板の
過熱は避けなければならない。ノズルの端部をドラムの
周囲に弧状に配設することによって、蒸気回収効率が向
上し、蒸着帯域をドラムのより大きい部分に広げること
ができ、したがって順次配設するノズルの数を増やすこ
とが可能となる。蒸気回収効率の向上によって、各生産
サイクル後に清掃して装置から除去する必要のある廃棄
物の量を減らすことができる。蒸着帯域の拡大によっ
て、ウェブの移動速度及び／または蒸着速度を高めるこ
とができ、したがってより厚いコーテングあるいはより
高い単位時間当たりウェブ処理量を達成することができ
る。ノズルの形状は、適当に変えることができる。例え
ば、ノズル幅あるいはノズルの間隔を変えて、蒸着帯域
の全長にわたってウェブにコーテングを施す速度を変え
ることなども可能である。上流側の最初のノズルのコー
テング速度を低くし、その後のより大きい面積を受け持
つノズルのコーテング速度を高くすることなども可能で
ある。このようにしすれば、損傷を受けやすい微妙な基
板でも、凝縮した蒸気による初期の高い熱負荷によって
損傷を受けることなくコーテングを施すことができ、ま
た、基板が蒸着帯域を通って前進するのに応じてコーテ
ングした材料の熱容量を徐々に増やすという効果が得ら
れる。ノズルをすべてほぼ等しい量の蒸気を運ぶ形状と
する場合には、薄い基板を用いて表面が弧状を示すよう
にし、ノズルが湾曲したドラム面に合わせてその上に収
斂した状態で終わる構成とすれば、蒸気回収効率及び蒸
着速度は下流方向に向かって増大する効果が得られる。
【０００８】以上説明した如く、本発明の装置は、ウェ
ブに損傷をあたえることなく蒸着帯域の任意の位置で材
料の蒸着が最大となるようにウェブの厚さ及びウェブの
速度を任意に選んで組み合わせて使用することが可能で
ある。ウェブ搬送システムは、通常、送出しロールと巻
取りロールを有するウェブ巻上げシステムからなるが、
該ロールは、真空チャンバーの外部に配設しても内部に
配設してもよい。必要な場合には、オプションとして案
内ロールあるいは押えロールを追加して配設してもよ
い。ウェブ搬送システムは、ウェブの片側あるいは両側
をコーテングするなどの必要に応じて一以上の蒸着帯域
を通る一または複数の通路に配設される。
【０００９】本発明は、さらに、ウェブ基板が回転冷却
ドラムの湾曲面を越えて所定の速度で前進して該ドラム
の面上で蒸着帯域を通り、コーテング材料が蒸発手段に
よって蒸発し、該蒸気は、互いに間隔を置いて配設され
て該ドラムの湾曲面の周囲の該湾曲面から間隔を置いた
弧面上で終端する複数の出口ノズルを通して運ばれて該
ウェブの通路に添ってい伸びるウェブ基板の複数の区域
に衝突し、さらに該区域で凝縮してウェブ基板上にコー
テングを形成する真空ウェブ・コーテング法を提供す
る。ここでは、コーテングは、前進するウェブ基板の任
意の位置へ徐々に施される。コーテング材料は、少なく
とも一つのレトルト内で蒸発させ、該蒸気は、ノズル出
口から出る噴流としてウェブ基板へ送ることができる。
ノズルには、必要なウェブの区域に蒸気を蒸着させる形
状及び位置があたえられる。この方法では、ウェブ材料
に例えば銅あるいは亜鉛などほとんどあらゆる金属また
は合金の膜をコーテングすることが可能である。酸化物
あるいは窒化物など多くの金属化合物を反応コーテング
によって蒸着させることも可能である。この場合、これ
ら化合物は、蒸発源と蒸着帯域の間に例えば酸素または
窒素などのガスを制御された状態で導入して工程の途中
で形成する。したがって、例えば反応ガスは正確に計量
してノズル内またはノズル間に入れてコーテングする蒸
気と反応させ、蒸気と反応ガスがウェブ基板に衝突する
区域での両者の相対的割合をきわめて正確に制御し、し
たがってコーテングの組成をきわめて正確に制御するこ
とが可能である。のぞむ場合には、蒸気が基板に衝突す
る各区域で異なるガスをそれぞれ独立した可変流量で導
入して、コーテング内の化合物及び各化合物の相対量を
組成の厚さ方向に変化させて制御することも可能であ
る。 ウェブ基板は、プラスチック・フィルムまたは紙
など適当な各種材料からなるものとすることができる。
また、コーテングは、基板の表面の性質とは異なり、例
えば、装飾性、反射性、貯蔵性、磁性、障壁性、電気的
特性が得られるもの、あるいは除去可能なまたは反応性
コーテングとすることができる。本発明は、薄い基板に
通常のコーテングより厚いコーテングを施す場合にとく
に好適である。例えば、10−50ミクロン程度の厚さのポ
リマー基板に２−25ミクロン程度の厚い金属のコーテン
グを容易に施すことができる。
【００１０】
【実施例】以下、添付の図面を参照しながら各種実施態
様を例として本発明をさらに詳細に説明する。す部分断
面図である。図１に示す装置において、送出しロール10
及び巻取りロール13は、真空チャンバー12の区画11内に
収納され、蒸発器15は、チャンバー12の区画16内に配置
される。区画11及び16は、チャンバー12の内壁から冷却
ドラム20に隣接する部分まで伸びるバッフルプレート18
及び19によって分離される。コーテングを施すウェブ基
板21は、送出しロール10から冷却ドラム20の湾曲面を越
えて巻取りロール13まで連続的に前へ送られる。ロール
10とドラム20の間及びロール13とドラム20の間には、押
さえロール22及び23ならびに案内ロール24及び25が配設
される。バッフルプレート18及び19とドラム20の間には
わずかな隙間があって、ウェブ基板は自由に通過できる
が、蒸着工程中は区画11と16の圧力が異なり、それによ
って蒸気がウェブ搬送システムへ達するのを防げる程度
に十分狭く構成される。区画11及び16は、それぞれ口26
及び28を介して排気することができる。蒸発器15には、
基板21に対して横向きのスロットの形状をなしドラム20
上の蒸着帯域30の周囲に基板が前進する方向に順次配列
された五つの出口ノズル29が配設されている。ノズル
は、ドラム20の湾曲面にほぼ平行な弧面で終端してい
る。使用時には、ドラム20は、循環する冷却用流体で冷
却され、送出しロール10及び巻取りロール13と同期して
回転する。基板21は、ドラム20の面を越えて送られ、ド
ラム20上で蒸着帯域30に達する前に冷却され、該蒸着帯
域では蒸発器からの蒸気が基板表面に蒸着して均一なコ
ーテングとして表面に付着する。
【００１１】図２に示す構成は、二つの冷却ドラム20及
び31と二つの蒸発器15及び32を有し、さらに二つの案内
ロール33及び34が追加された例であって、基板の対向す
る面にそれぞれの蒸発器でコーテングが施される。
【００１２】図３及び図４は、蒸発器15を詳細に示す図
である。図４には、また、蒸着帯域30でのノズル29とウ
ェブ基板21の相対位置が示されている。蒸発器15は、る
つぼ35を含み、該るつぼ内には基板21上に蒸着させる材
料が収容されて蒸発する。るつぼはレトルト37内に収容
され、該レトルトはさらに多層の輻射シールド38内に収
容される。該輻射シールド38は、レトルト37の側部及び
底部にわたって流体で冷却されるシールド42で裏打ちさ
れる。レトルト37は、蓋39を有し、該蓋は、シール40に
よってレトルトの本体に密閉され、クランプ41によって
所定位置に固定される。蓋39にはシールド38を通って伸
びる直線のスロットの形状をし互いに間隔をおいて配置
されたノズルが配設される。該ノズルは、図４の断面図
に示す如くほぼ冷却ドラム20の湾曲面に見合う曲率の弧
面上で終端している。ノズル29は、ウェブ基板21の全幅
を横切る形で伸びており、ほぼウェブ21の移動方向に添
って順次配列される。レトルト37内にはさらに加熱素子
43が収納され、該素子にはレトルト37の底部を通って伸
びまた該底部と密閉状態を形成する電源接続リード線44
が配設される。レトルトの外部にはマニホルド45が配設
され、該マニホルドは、不活性ガス源（図示せず）に接
続され、レトルト37の側部を通って伸びまた該側部と密
閉状態を形成する一以上のノズル46を有する。使用時に
は、チャンバー12内は排気して真空状態にされる。ウェ
ブ基板21は連続的に前へ送られるる。ノズル29の端部か
らは蒸気が排出されて蒸着帯域30で移動する基板上に衝
突し、さらに基板上で凝縮する。蒸気は、各ノズル29か
ら基板上の所定の横方向直線位置に蒸着し、それによっ
て凝縮した材料の膜が徐々に形成され、コーテングの構
造及び均一性の制御が良好に行なわれる。コーテングを
施した製品を一定量だけ巻取りロール13から取り出す場
合には、ノズル46から不活性ガスを中に入れ、レトルト
37内の材料の蒸気圧より不活性ガスの圧力が高くして材
料の蒸発を止める。区画11内の圧力が大気圧に達してか
らコーテングを施した製品を取り出す。次に、区画11と
レトルト37の中を再び真空にしてコーテング作業を再始
動する。使用する不活性ガスは、コーテング材料と反応
してコーテングの性質を損なうことのないものでなけれ
ばならない。適当な不活性ガスとしては、アルゴン、ヘ
リウム、窒素、またはそれらの混合物を挙げることがで
きる。るつぼ35または加熱素子43へのアクセスが必要な
場合にも、レトルト37及びその内容物を冷却するのに十
分な不活性ガスをノズル46から導入する。乱流状態の不
活性ガスを導入して冷却手段（図示せず）でその不活性
ガスを再循環させれば冷却効率を高めることができる。
レトルト37、るつぼ35、加熱素子43、及びシールド38を
熱容量の小さい材料でつくれば、冷却時間を短縮して作
業の停止時間を最小に抑えることができる。この理由か
ら、好ましくは、シールドは耐火性金属製また加熱素子
はステンレススチール製とする。
【００１３】図５の蒸発器15は、図４に示すものと同様
に弧状に配列されて冷却ドラム20の片側に配設されたノ
ズルを有する。したがって、ノズル29から排出される蒸
気は、ほぼ水平方向に進んで蒸着帯域30内でウェブ基板
21に衝突する。一以上の蒸発器15をドラム20の周囲に向
けて配設すれば、蒸着帯域を効果的に拡大することがで
きる。
【００１４】図６に示す構成の異なる装置にあっては、
蒸発器15は六つのレトルト37を中に収容し、各レトルト
は、蒸発させる材料を中に入れたるつぼ35を一つ収納
し、また単一のノズル29を有する。ノズルは、順次配列
されて蒸着帯域30の周囲の円弧上で終端している。るつ
ぼ35は、共通の加熱手段で加熱される。るつぼに入れら
れているのは同一の材料ではない。
【００１５】図７に示す構成の異なる装置にあっては、
蒸発器15は図４及び図５に示すものと同様であるが、幅
が順次徐々に大きくなるノズル29が配列されている点が
異なる。この構成は、ウェブの熱い質量に重いコーテン
グ材料が付加される場合に好適である。コーテングが徐
々に形成されるにしたがって、ウェブは所定の温度上昇
による熱負荷の増大に耐えることができるようになり、
したがってこの場合のようにノズルの幅を徐々に広げて
より多くの材料を蒸着させることが可能となる。
【００１６】図８に示す構成の異なる装置にあっては、
蒸発器15は図７に示すものと同様であるが、ノズル29の
幅は一定でノズルの間隔が徐々に縮小されている。この
ような構成にしても、図７の場合と同様に重いコーテン
グ材料を使用できる効果がある。
【００１７】図９に示す構成の異なる装置にあっては、
ノズルの方向を変えて蒸気がウェブ基板に衝突する方向
が制御される。このような構成によれば、コーテングの
性質が影響を受ける場合もある。また、ノズルの方向を
変えることによって、蒸発しない粒子がるつぼ35内の材
料の表面から蒸着帯域30のウェブ基板まで直接移動して
コーテングの質に悪影響をあたえるのを防ぐことができ
る。
【００１８】図10に示すノズルの構成は、ウェブ基板が
前進する方向に対して横向きの複数の線に添って順次配
設される断面が円形のノズル29を互いに間隔を置いて配
列したものであり、ノズル出口は弧状の面上にある。
【００１９】図11に示すノズルの構成は、ウェブ基板が
前進する方向に向けられたスロットが順次配設され、ノ
ズル出口は弧状の面上にあり、スロットはウェブ基板の
進行方向に対して横向きに順次配列されたものである。
【００２０】本発明を、さらに実施例により説明する。 実施例 アメリカ合衆国ペンシルバニア州マウント・ホーリー・
スプリングスのＭ Ｈディエレクトリックス社製のキャ
パシター・グレード・ペーパーの25ミクロンの厚いウェ
ブを、８×10-2ミリバールの圧力の真空チャンバー内で
回転する半径30cmの冷却ロール上に2.5m／分の割合で送
り出した。図６に示す構成の六つのレトルトから蒸発さ
せた亜鉛の蒸気を、各38ｍｍ幅で冷却ロール（20）の全
幅にわたって伸びる六つの細長いノズル（29）を通して
流した。ノズルの出口は、直径45cmの弧状の面上に15cm
の間隔で配設されていた。レトルトの温度は630℃であ
った。紙の上には厚さ3.0ミクロンの亜鉛のコーテング
が蒸着によって得られ、コーテングの偏差はウェブ全域
で±５重量％であった。コーテングの工程は、蒸発器の
加熱と真空チャンバーの排気の開始22分後から始めるこ
とができた。亜鉛の蒸発は、ノズル出口の周囲に700-90
0ミリバールの圧力でアルゴン・ガスを送り込むことに
よって瞬間的に停止させることができた。アルゴン・ガ
スをレトルトの周囲に循環させることで、40分間で未コ
ーテングの紙の供給とレトルト内の亜鉛の補充を安全に
行なうことのできる温度まで蒸発器を冷却することがで
きた。
【図面の簡単な説明】
【図１】 片面コーテング用に構成された本発明のウェ
ブ・コーテング装置の断面図である。
【図２】 ウェブの両面コーテング用に構成された他の
ウェブ・コーテング装置の断面図である。
【図３】 ウェブの両面コーテング用に構成されたさら
に他のウェブ・コーテング装置の立断面図である。
【図４】 図３のＩＶ−ＩＶ線に添った断面図で、さら
にウェブ冷却ドラムの形状を示す図である。
【図５】 図１の装置のユニットの向きを変えた構成を
示す部分断面図である。
【図６】 図１の装置のノズルの配列を変えた構成を示
す部分断面図である。
【図７】 図１の装置のノズルの配列を変えた構成を示
す部分断面図である。
【図８】 図１の装置のノズルの配列を変えた構成を示
す部分断面図である。
【図９】 図１の装置のノズルの配列を変えた構成を示
す部分断面図である。
【図１０】図１の装置のノズルの配列を変えたさらに他
の構成を示す部分断面図である。
【図１１】図１の装置のノズルの配列を変えたさらに他
の構成を示す部分断面図である。
【符号の説明】
10、13、24、25：ウェブ搬送システム 15 ：蒸発手段 20、31 ：回転冷却ドラム 21 ：ウェブ基板 29 ：出口ノズル 30 ：蒸着帯域 36 ：コーテング材料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 590000341 インペリアル・ケミカル・インダストリー ズ・ピーエルシー ＩＭＰＥＲＩＡＬ ＣＨＥＭＩＣＡＬ Ｉ ＮＤＵＳＴＲＩＥＳ ＰＬＣ イギリス国ロンドン市エスダブリュー１ピ ー・３ジェイエフ，ミルバンク，インペリ アル・ケミカル・ハウス（番地なし) (72)発明者 アイアン・ケンネス・バツクスター イギリス国．ランカシヤー・オーエル11・ ５ピイジエイ．ロツチデール．ノーデン. フアーザー・フイールド．15 (72)発明者 チヤールス・アーサー・ビシヨツプ イギリス国．クリーブランド・７エス８・ ０エイ．ミドルスバロー．ニユービイ．ロ ング・ミードウス（番地なし) (72)発明者 デービツド・チヤールス・マツギー アメリカ合衆国．ペンシルバニア・18051. フオーゲルスビル．パツクハウス・ロー ド．2187 (72)発明者 ケイス・ワトキンス イギリス国．ランカシヤー・オーエル11・ ５ピイジエイ．ロツチデール．ノーデン. フアーザー・フイールド．５

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】湾曲面に少なくとも一つの蒸着帯域（30）
    を有する少なくとも一つの回転冷却ドラム（20、31）を
    収容した真空チャンバー、コーテングを施すウェブ基板
    （21）を前記蒸着帯域（30）を通る通路に添って前記湾
    曲面上へ送るウェブ搬送システム（10、13、24、25）、
    及び前記ウェブ（21）上に蒸着させるコーテング材料
    （36）を蒸発させるための蒸発手段から成り、前記蒸発
    手段（15）が互いに間隔を置いて配設された複数の出口
    ノズル（29）を有し、該出口ノズルが、蒸気を前記蒸発
    手段（15）からウェブの通路に添って伸びる前記蒸着帯
    域の所定部分まで運び、さらに該所定部分で前進するウ
    ェブ（21）の面上に凝縮する構成とする真空ウェブ・コ
    ーテング装置において、前記ノズル（29）の出口端部
    を、ドラム（20、31）の湾曲面周囲に該湾曲面から間隔
    を置いて弧面上に配置したことを特徴とする真空ウェブ
    ・コーテング装置。
  2. 【請求項２】蒸発手段（15）が、内部でコーテング材料
    （36）を蒸発させることができる少なくとも一つの密閉
    されたレトルト（37）を有し、各レトルトが、少なくと
    も一つの蒸気出口ノズル（29）を有する請求項１に記載
    の装置。
  3. 【請求項３】ドラム（20、31）の周囲に配設されたノズ
    ル（29）を有する少なくとも二つのレトルトと二つ以上
    のレトルト（37）内のコーテング材料（36）を蒸発させ
    るための共通の加熱手段（43）を有する請求項２に記載
    の装置。
  4. 【請求項４】少なくとも一つのレトルト（37）が、内部
    に少なくとも一つの出口ノズル（29）が配設された密閉
    されて取り外し可能な蓋（39）を有する請求項２または
    ３に記載の装置。
  5. 【請求項５】出口ノズル（29）が、コーテングを施すウ
    ェブ（21）の全幅にわたって伸びる少なくとも一つの連
    続するスロットを有する請求項１から４までのいずれか
    一項に記載の装置。ことを特徴とする装置。
  6. 【請求項６】出口ノズル（29）は、ウェブ基板が前進す
    る方向に順次配設された蒸着帯域（30）の部分へ蒸気を
    送るためにウェブ基板の通路に対して横向きに配設され
    た複数の直線のスロットを有する請求項５に記載の装
    置。
  7. 【請求項７】ノズル（29）の形状が異なり、上流のノズ
    ルが下流のノズルより低い蒸着速度をあたえる構成とさ
    れる請求項１から６までのいずれか一項に記載の装置。
  8. 【請求項８】ノズル（29）の形状が、ほぼ等しいい蒸気
    の流れが得られる構成とされ、ドラム（20、31）の湾曲
    面とノズル（29）の端部が配設された弧状面は、ウェブ
    が前進する方向に収斂するように配置される請求項１か
    ら７までのいずれか一項に記載の装置。
  9. 【請求項９】ノズル（29）が、ほぼ等しいい蒸気の流れ
    が得られる構成とされまたウェブの通路に添ってウェブ
    が前進する方向に徐々に減少する間隔で順次配置される
    請求項１から８までのいずれか一項に記載のことを特徴
    とする装置。
  10. 【請求項１０】ウェブ基板（21）が、回転冷却ドラム
    （20、31）の湾曲面を越えて所定の速度で前進して前記
    ドラム（20、31）の面上で蒸着帯域（30）を通り、コー
    テング材料（36）が、蒸発手段（15）によって蒸発し、
    該蒸気が、互いに間隔を置いて配設された複数の出口ノ
    ズル（29）を通して運ばれて該ウェブの通路に添ってい
    伸びるウェブ基板の複数の区域に衝突し、さらに該区域
    で凝縮してウェブ基板上にコーテングを形成する真空ウ
    ェブ・コーテング法において、該出口ノズルがは、該ド
    ラムの湾曲面の周囲の該湾曲面から間隔を置いた弧面上
    で終端することを特徴とする真空ウェブ・コーテング方
    法。
  11. 【請求項１１】コーテング材料を、少なくとも一つのレ
    トルト（37）内で蒸発させ、該蒸気が、レトルト出口ノ
    ズルから出る噴流としてウェブ基板へ送られ、該噴流に
    は必要なウェブの区域に蒸気を蒸着させる形状及び位置
    があたえられることを特徴とする請求項10に記載の方
    法。
  12. 【請求項１２】コーテング材料が金属または合金からな
    る請求項10または11に記載の方法。
JP6274804A 1993-11-09 1994-11-09 真空ウェブ・コーテング方法及び装置 Pending JPH07286272A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100958682B1 (ko) * 2001-10-26 2010-05-20 파나소닉 전공 주식회사 진공증착장치, 진공증착방법 및 이들로부터 얻어지는 유기ｅｌ 소자
JP2012092448A (ja) * 2010-10-22 2012-05-17 Samsung Mobile Display Co Ltd 有機層蒸着装置及びこれを用いた有機発光ディスプレイ装置の製造方法
WO2012124428A1 (ja) * 2011-03-14 2012-09-20 キヤノントッキ株式会社 蒸着装置並びに蒸着方法
WO2012127993A1 (ja) * 2011-03-23 2012-09-27 キヤノントッキ株式会社 蒸着装置並びに蒸着方法
JP2014132103A (ja) * 2013-01-07 2014-07-17 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 蒸着用基板保持トレイ、及び蒸着用基板保持トレイを備える真空蒸着装置

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5803976A (en) * 1993-11-09 1998-09-08 Imperial Chemical Industries Plc Vacuum web coating
DE19527604A1 (de) * 1995-07-28 1997-01-30 Leybold Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von metallfreien Streifen bei der Metallbedampfung
DE19537779A1 (de) * 1995-10-11 1997-04-17 Leybold Ag Beschichtungsanlage für Folien
DE19537781A1 (de) * 1995-10-11 1997-04-17 Leybold Ag Beschichtungsanlage für Folien
US6202591B1 (en) 1998-11-12 2001-03-20 Flex Products, Inc. Linear aperture deposition apparatus and coating process
DK1004369T4 (da) 1998-11-26 2009-03-09 Cockerill Rech & Dev Forseglingssluse til et vakuumkammer
DE19906676A1 (de) 1999-02-18 2000-08-24 Leybold Systems Gmbh Bedampfungsvorrichtung
KR100389377B1 (ko) * 2000-07-20 2003-06-25 한국전력공사 고전압 분압 및 전류 공급용 전왜 세라믹스 조성물 및 제조방법
KR100729097B1 (ko) * 2005-12-28 2007-06-14 삼성에스디아이 주식회사 증발원 및 이를 이용한 박막 증착방법
US8865258B2 (en) 2010-06-16 2014-10-21 Panasonic Corporation Method of manufacturing thin film which suppresses unnecessary scattering and deposition of a source material
CN102482763B (zh) * 2010-06-16 2015-04-08 松下电器产业株式会社 薄膜的制造方法
KR20140027452A (ko) * 2011-07-07 2014-03-06 파나소닉 주식회사 진공 증착 장치
CN103898450B (zh) * 2012-12-25 2017-06-13 北京创昱科技有限公司 一种铜铟镓硒共蒸发线性源装置及其使用方法
CN112553579B (zh) * 2019-09-26 2023-05-09 宝山钢铁股份有限公司 一种具有过滤及均匀化喷嘴的真空镀膜装置
EP4162094A4 (en) * 2020-06-04 2024-10-02 Applied Materials, Inc. Vapor deposition apparatus and method for coating a substrate in a vacuum chamber
US20230011303A1 (en) * 2021-07-09 2023-01-12 Applied Materials, Inc. Close couple diffuser for physical vapor deposition web coating

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB304192A (en) * 1928-01-16 1930-06-10 Siemens Ag Process for producing thin insulating layers on wires
US3081201A (en) * 1957-05-15 1963-03-12 Gen Electric Method of forming an electric capacitor
CH430073A (de) * 1961-09-29 1967-02-15 Philips Nv Verfahren zur Herstellung lichtabsorbierender, farbiger, durchsichtiger Schichten auf Gegenständen
US3748090A (en) * 1971-12-20 1973-07-24 Xerox Corp Evaporation crucible
DE2436431B2 (de) * 1974-07-29 1978-07-27 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verdampfer und Verfahren zum Herstellen von Aufdampfschichten, insbesondere aus Selen
JPS5210869A (en) * 1975-07-15 1977-01-27 Toshinori Takagi Thin film forming method
JPS63297549A (ja) * 1987-05-29 1988-12-05 Komatsu Ltd 真空蒸着装置
JPH02118072A (ja) * 1988-10-28 1990-05-02 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 真空蒸着装置
DE4104415C1 (ja) * 1991-02-14 1992-06-04 4P Verpackungen Ronsberg Gmbh, 8951 Ronsberg, De

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100958682B1 (ko) * 2001-10-26 2010-05-20 파나소닉 전공 주식회사 진공증착장치, 진공증착방법 및 이들로부터 얻어지는 유기ｅｌ 소자
JP2012092448A (ja) * 2010-10-22 2012-05-17 Samsung Mobile Display Co Ltd 有機層蒸着装置及びこれを用いた有機発光ディスプレイ装置の製造方法
WO2012124428A1 (ja) * 2011-03-14 2012-09-20 キヤノントッキ株式会社 蒸着装置並びに蒸着方法
JP2012193391A (ja) * 2011-03-14 2012-10-11 Canon Tokki Corp 蒸着装置並びに蒸着方法
KR20140044313A (ko) * 2011-03-14 2014-04-14 캐논 톡키 가부시키가이샤 증착 장치 및 증착 방법
WO2012127993A1 (ja) * 2011-03-23 2012-09-27 キヤノントッキ株式会社 蒸着装置並びに蒸着方法
JP2014132103A (ja) * 2013-01-07 2014-07-17 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 蒸着用基板保持トレイ、及び蒸着用基板保持トレイを備える真空蒸着装置

Also Published As

Publication number Publication date
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EP0652302B1 (en) 1997-10-08
DE69406084D1 (de) 1997-11-13
CA2135424A1 (en) 1995-05-10
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KR950014355A (ko) 1995-06-16
GB2283760A (en) 1995-05-17
GB9422076D0 (en) 1994-12-21

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