JPH07292321A - コーティング用組成物 - Google Patents
コーティング用組成物Info
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- JPH07292321A JPH07292321A JP9185694A JP9185694A JPH07292321A JP H07292321 A JPH07292321 A JP H07292321A JP 9185694 A JP9185694 A JP 9185694A JP 9185694 A JP9185694 A JP 9185694A JP H07292321 A JPH07292321 A JP H07292321A
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Abstract
界、価格にも優れたコーティングを提供すること。 【構成】 主として一般式(I): 【化1】 (但し、R1 ,R2 ,R3 はそれぞれ独立に水素原子、
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭
素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、ア
ルコキシ基を表わす。ただし、R1 ,R2 ,R3 のうち
少なくとも1つは水素原子である。)で表わされる単位
からなる主骨格を有する数平均分子量が100〜5万の
ポリシラザンとアクリル系樹脂を溶解した溶液であるコ
ーティング用組成物。
Description
共に、可撓性、膜厚限界、低価格にも優れた被覆膜を形
成できるコーティング用組成物に係る。
には、有機系塗料では不十分であり、セラミックス系コ
ーティングが用いられる。従来、セラミックス系コーテ
ィングの形成方法としては、PVD(スパッタ法等)、
CVD、ゾル−ゲル法、ポリチタノカルボシラン系塗
料、ポリ(ジシル)シラザン系塗料、ポリシラザン系塗
料、ポリメタロシラザン系塗料などが知られている。
リル系樹脂を用い必要に応じて各種フィラーを添加した
各種有機系塗料が知られている。さらに、ポリカルボシ
ラン樹脂、ポリシラザン樹脂、ポリボロシロキサン樹脂
などのケイ素化合物からなるセラミックス前駆体樹脂
と、フッ素樹脂と、無機フィラー等を配合した耐熱性塗
料も提案されている(特開平4−168175号及び同
5−156176号公報)。
ィングでは耐熱性、硬度、密着性などには優れるもの
の、柔軟性、膜厚限界、価格などが不十分である。一
方、アクリル系樹脂系塗料は、柔軟性、膜厚限界、価格
などには優れており、無機フィラーの添加あるいは硬化
剤により硬度はある程度向上するが、限界があり、耐熱
性、密着性などは不十分である。
を配合した前記耐熱性塗料は、いずれも有機基を含むケ
イ素化合物を用いているので、耐熱性、硬度、密着性に
対する効果がまだ十分でない。特に、焼付け時の有機基
の脱離によってピンホールや収縮に伴なうクラックが発
生するため、十分に緻密な膜が得られず、基材との密着
性も不足する。さらに、前記耐熱性塗料では無機フィラ
ーあるいはガラス繊維などを添加することが必須であ
り、これらにより硬度を向上させることができるもの
の、密着性に対しては全く寄与しないため、添加すれば
するほど密着性と可撓性が低下する。
性、硬度、密着性と共に可撓性、透明性、膜厚限界、価
格に優れた無機/有機ハイブリッド構造を有した被覆膜
を与えるコーティング組成物を提供することを目的とす
る。
成するために、(1)主として一般式(I):
に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、アリール基、またはこれらの基以外でケイ素に直
結する基が炭素である基、アルキルシリル基、アルキル
アミノ基、アルコキシ基を表わす。ただし、R1 ,R
2 ,R3 のうち少なくとも1つは水素原子である。)で
表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量が
100〜5万のポリシラザンとアクリル系樹脂とを溶解
した溶液であることを特徴とするコーティング用組成物
を提供する。また、(2)このコーティング用組成物
(1)において、アクリル系樹脂がメタクリル酸メチル
の成分を含有しているものであるものも提供する。
もSi−H結合あるいはN−H結合を有するポリシラザ
ンである必要があり、特に一般式(I)でR1 ,R2 ,
R3の全てあるいは殆んどが水素原子である無機ポリシ
ラザン(ペルヒドロポリシラザン)〔例えば、特公昭6
3−16325号、特開平1−138108号、同1−
138107号、同4−63833号、特願平3−32
0167号参照〕あるいはそれに近いポリシラザン(例
えば、特開平3−31326号のランダム共重合シラザ
ン、特開昭62−195024号のポリシロキサザン、
特開平2−77427号のポリメタロシラザンなど)が
好適であるが、ポリシラザン単独のほか、ポリシラザン
と他のポリマーとの共重合体やポリシラザンと他の化合
物との混合物でも、ポリシラザン、特に無機ポリシラザ
ンの特長を失なわない限り利用できる。
るいは架橋構造を有するもの、あるいは分子内にこれら
複数の構造を同時に有するものがあり、これら単独でも
あるいは混合物でも利用できる。用いるポリシラザンの
代表例としては下記のようなものがあるが、これらに限
定されるものではない。
素原子を有するものは、ペルヒドロポリシラザンであ
り、その製造法は例えば特公昭63−16325号公
報、D.SeyferthらCommunicatio
n of Am.Cer.Soc.,C−13,Jan
uary 1983.に報告されている。これらの方法
で得られるものは、種々の構造を有するポリマーの混合
物であるが、基本的には分子内に鎖状部分と環状部分を
含み、
ロポリシラザンの構造の一例を示すと下記の如くであ
る。
R3 にメチル基を有するポリシラザンの製造方法は、
D.SeyferthらPolym.Prepr.,A
m.Chem.Soc.,Div.Polym.Che
m.,25,10(1984)に報告されている。この
方法により得られるポリシラザンは、繰り返し単位が−
(SiH2 NCH3 )−の鎖状ポリマーと環状ポリマー
であり、いずれも架橋構造をもたない。
R2 に有機基を有するポリオルガノ(ヒドロ)シラザン
の製造方法は、D.SeyferthらPolym.P
repr.,Am.Chem.Soc.,Div.Po
lym.Chem.,25,10(1984)、特開昭
61−89230号公報に報告されている。これらの方
法により得られるポリシラザンには、−(R2 SiHN
H)−を繰り返し単位として、主として重合度が3〜5
の環状構造を有するものや(R3 SiHNH) X 〔(R
2 SiH)1.5 N〕1-X (0.4<x<1)の化学式で
示せる分子内に鎖状構造と環状構造を同時に有するもの
がある。
R3 に有機基を有するポリシラザン、またR1 及びR2
に有機基、R3 に水素原子を有するものは−(R1 R2
SiNR3 )−を繰り返し単位として、主に重合度が3
〜5の環状構造を有している。用いるポリシラザンは、
上記の如く一般式(I)で表わされる単位からなる主骨
格を有するが、一般式(I)で表わされる単位は、上記
にも明らかな如く環状化することがあり、その場合には
その環状部分が末端基となり、このような環状化がされ
ない場合には、主骨格の末端はR1 ,R2 ,R3 と同様
の基又は水素であることができる。
は、D.SeyferthらCommunicatio
n of Am.Cer.Soc.,C−132,Ju
ly1984.が報告されている様な分子内に架橋構造
を有するものもある。一例を示すと下記の如くである。
告されている様なR1 SiX3 (X:ハロゲン)のアン
モニア分解によって得られる架橋構造を有するポリシラ
ザン(R1 Si(NH)X )、あるいはR1 SiX3 及
びR2 2 SiX2 の共アンモニア分解によって得られる
下記の構造を有するポリシラザンも出発材料として用い
ることができる。
子であるMは架橋をなしていてもよい)の如く金属原子
を含むポリメタロシラザンも出発材料として用いること
ができる。
告されているような繰り返し単位が〔(SiH2 )
n (NH)m 〕及び〔(SiH2 )r O〕(これらの式
中、n,m,rはそれぞれ1,2または3である)で表
わされるポリシロキサザン、特開平2−84437号に
報告されているようなポリシラザンにボロン化合物を反
応させて製造する耐熱性に優れたポリボロシラザン、特
開昭63−81122号、同63−191832号、特
開平2−77427号に報告されているようなポリシラ
ザンとメタルアルコキシドとを反応させて製造するポリ
メタロシラザン、特開平1−138108号、同1−1
38107号、同1−203429号、同1−2034
30号、同4−63833号、同3−320167号に
報告されているような分子量を増加させたり(上記公報
の前4者)、耐加水分解性を向上させた(後2者)、無
機シラザン高重合体や改質ポリシラザン、特開平2−1
75726号、同5−86200号、同5−33129
3号、同3−31326号に報告されているようなポリ
シラザンに有機成分を導入した厚膜化に有利な共重合シ
ラザン、特開平5−238827号、特開平4−272
020号、同5−93275号、同5−214268
号、同5−30750号、同5−338524号に報告
されているようなポリシラザンにセラミック化を促進す
るための触媒的化合物を付加または添加したプラスチッ
クスやアルミニウムなどの金属への施工が可能で、より
低温でセラミックス化する低温硬化タイプポリシラザン
なども同様に使用できる。
するとき、ポリシラザンは通常溶剤に溶解しておく。溶
剤としては、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族
炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン化メタン、ハロゲン
化エタン、ハロゲン化ベンゼン等のハロゲン化炭化水
素、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類が
使用できる。好ましい溶媒は、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ブロモホルム、塩化エチレン、塩化
エチリデン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン等
のハロゲン化炭化水素、エチルエーテル、イソプロピル
エーテル、エチルブチルエーテル、ブチルエーテル、
1,2−ジオキシエタン、ジオキサン、ジメチルジオキ
サン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、セロ
ソルブアセテート、カルビトールアセテート等のエーテ
ル類、ペンタンヘキサン、イソヘキサン、メチルペンタ
ン、ヘプタン、イソヘプタン、オクタン、イソオクタ
ン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、
キシレン、エチルベンゼン等の炭化水素等である。
脂が使用できるが、例えばアクリル酸エステル(アルコ
ール残基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t
−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル
基、フェニル基、ベンジル基、フェニルエチル基等を例
示できる);メタクリル酸エステル(アルコール残基は
上記と同じ);2−ヒドロキシエチルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート等の如きヒドロキシ含有モノマー;アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、
N−メチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルア
ミド、N−メチロールメタクリルアミド、N,N−ジメ
チロールアクリルアミド、N−メトキシメチルアクリル
アミド、N−メトキシメチルメタクリルアミド、N−フ
ェニルアクリルアミド等の如きアミド基含有モノマー;
N,N−ジエチルアミノエチルアクリレート、N,N−
ジエチルアミノエチルメタクリレート等の如きアミノ基
含有モノマー;グリシジルアクリレート、グリシジルメ
タクリレート、アリルグリシジルエーテル等の如きエポ
キシ基含有モノマー;スチレンスルホン酸、ビニルスル
ホン酸、及びそれらの塩(例えばナトリウム塩、カリウ
ム塩、アンモニウム塩等)等の如きスルホン酸基又はそ
の塩を含有するモノマー;クロトン酸、イタコン酸、ア
クリル酸、マレイン酸、フマール酸、及びそれらの塩
(例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩
等)等の如きカルボキシル基又はその塩を含有するモノ
マー;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の無水物を含
有するモノマー;その他ビニルイソシアネート、アリル
イソシアネート、スチレン、ビニルメチルエーテル、ビ
ニルエチルエーテル、ビニルトリスアルコキシシラン、
アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸
モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、アルキルイタコン酸モノエステル、塩化ビニリデ
ン、酢酸ビニル、塩化ビニル等の単量体の組合せからつ
くられたものであるが、アクリル酸誘導体、メタクリル
酸誘導体の如き(メタ)アクリル単量体の成分が50モ
ル%以上含まれているものが好ましく、特にメタクリル
酸メチルの成分を含有しているものが好ましい。また、
フッ素を含むアクリル系樹脂、例えば、ポリメタクリル
酸パーフルオロ−t−ブチル、ポリパーフルオロイソプ
ロピルメタクリレート、ポリメタクリル酸ヘキサフルオ
ロ−2−プロピル、ポリメタクリル酸トリフルオロエチ
ル、(メタ)アクリル酸のフッ素化エステル重合体など
は摺動性、撥水性に優れる利点がある。本発明は、ポリ
シラザンとアクリル系樹脂とが相溶すること、しかも適
当なアクリル系樹脂を選べばポリシラザンを変質するこ
となく安定なコーティング溶液が得られること、またそ
れによって両者の透明性がそのまま生かされ、両者の短
所を相補ったコーティングを得ることが可能になること
を見い出して、為されたものである。アクリル系樹脂を
溶解できる溶剤としては、酢酸エチル、酢酸n−ブチル
などのエステル類、セロソルブ、セロソルブアセテート
などのグリコールエーテル類、トルエン、キシレンなど
の炎化水素類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケ
トン類など挙げることができる。
ティング用溶液を作成する場合、一般的にはポリシラザ
ンの溶液とアクリル系樹脂の溶液とを混合すればよい。
ポリシラザンとアクリル系樹脂の配合量は、コーティン
グの用途に応じて広く選択でき、例えば、可撓性を重視
する場合には、全固形分〔ポリシラザンとアクリル系樹
脂の合計量〕を100重量%として、ポリシラザンを3
〜30重量%の範囲内とし、また硬度や耐熱性を重視す
る場合には30〜97重量%の範囲内がよい。〔アクリ
ル系樹脂の量は上記固形分量のうちポリシラザンの量を
除いた量である。〕 ポリシラザンとアクリル系樹脂を溶解する溶剤として
は、ポリシラザンとアクリル系樹脂の両方を安定的に溶
解するものが好ましく、例えば、キシレン、トルエン、
ブチルカルビトールアセテート、酢酸n−ブチルなどが
好ましい。溶剤を使用する場合、前記アクリル系樹脂添
加ポリシラザンの溶解度や溶剤の蒸発速度を調節するた
めに、2種類以上の溶剤を混合してもよい。溶剤の使用
量(割合)は採用するコーティング方法により作業性が
よくなるように、また必要とする膜厚により選択され、
またポリシラザンの平均分子量、分子量分布、その構造
によって異なるが、一般的にはコーティング用組成物中
溶剤は99〜5重量%程度、固形分濃度が1〜95重量
%の範囲で混合することができる。好ましくは固形分濃
度5〜60重度%である。また、本発明においては、必
須ではないが、必要に応じて適当な充填剤を加えてもよ
い。充填剤の例としてはシリカ、アルミナ、ジルコニ
ア、マイカを始めとする酸化物系無機物あるいは炭化珪
素、窒化珪素等の非酸化物系無機物の微粉等が挙げられ
る。また用途によってはアルミニウム、亜鉛、銅等の金
属粉末の添加も可能である。さらに充填剤の例を詳しく
述べれば、ケイ砂、石英、ノバキュライト、ケイ藻土な
どのシリカ系:合成無定形シリカ:カオリナイト、雲
母、滑石、ウオラストナイト、アスベスト、ケイ酸カル
シウム、ケイ酸アルミニウム等のケイ酸塩:ガラス粉
末、ガラス球、中空ガラス球、ガラスフレーク、泡ガラ
ス球等のガラス体:窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化アル
ミニウム、炭化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ
素、ホウ化チタン、窒化チタン、炭化チタン等の非酸化
物系無機物:炭酸カルシウム:酸化亜鉛、アルミナ、マ
グネシア、酸化チタン、酸化ベリリウム等の金属酸化
物:硫酸バリウム、二硫化モリブデン、二硫化タングス
テン、弗化炭素その他無機物:アルミニウム、ブロン
ズ、鉛、ステンレススチール、亜鉛等の金属粉末:カー
ボンブラック、コークス、黒鉛、熱分解炭素、中空カー
ボン球等のカーボン体等があげられる。
む。)、粒状、鱗片状等種々の形状のものを単独又は2
種以上混合して用いることができる。又、これら充填剤
の粒子の大きさは1回に塗布可能な膜厚よりも小さいこ
とが望ましい。また充填剤の添加量はアクリル系樹脂と
ポリシラザンの合計1重量部に対し、0.05重量部〜
10重量部の範囲であり、特に好ましい添加量は0.2
重量部〜3重量部の範囲である。又、充填剤の表面をカ
ップリング剤処理、蒸着、メッキ等で表面処理して使用
してもよい。
各種顔料、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、紫外線
吸収剤、pH調整剤、分散剤、表面改質剤、可塑剤、乾燥
促進剤、流れ止め剤を加えてもよい。こうして作成され
た本発明のコーティング用組成物は、基盤上に1回又は
2回以上繰り返して塗布した後、焼き付けて被覆膜を形
成する。
に限定されず、金属、セラミックス、プラスチックス等
のいずれでもよい。コーティングとしての塗布手段とし
ては、通常の塗布方法、つまり浸漬、スピンコート、ロ
ール塗り、バー塗り、刷毛塗り、スプレー塗り、フロー
塗り等が用いられる。又、塗布前に基盤をヤスリがけ、
脱脂、各種ブラスト等で表面処理しておくとコーティン
グ組成物の付着性能は向上する。
燥させた後、加熱・焼成する。この焼成によってポリシ
ラザンは架橋、縮合、あるいは、焼成雰囲気によっては
酸化、加水分解して硬化し、セラミックス相を形成する
が、同時にアクリル系樹脂が熱軟化して、Si−O結合
あるいはSi−N結合を主体とするセラミックス相とア
クリル系相からなる有機質部分とが微細な構造レベルで
(無機フィラーなどを添加する複合材と比べて)複合化
した緻密な膜を得ることができる。
進化し、十分に硬化する温度であることが好ましい。こ
れは通常300℃以上、好ましくは400℃程度である
が、アクリル樹脂の軟化点、あるいは分解温度が低いた
め、100〜300℃で焼成するのが一般的である。し
たがって、完全にポリシラザンをセラミック化させるた
めには、特願平5−93275号などの低温セラミック
化タイプポリシラザンが必要になるが、用途に応じポリ
シラザンを選択すればよい。上記焼成条件はポリシラザ
ンの分子量や構造によって異なる。昇温速度は特に限定
しない。焼成雰囲気は酸素中、空気中あるいは不活性ガ
ス等のいずれであってもよいが、空気中がより好まし
い。空気中での焼成によりポリシラザンの酸化、あるい
は空気中に共存する水蒸気による加水分解が進行する。
とアクリル系樹脂を組合せると、微細な構造レベルでハ
イブリッド化した無機/有機コーティングが得られる。
特に、無機ポリシラザン(ペルヒドロポリシラザン)は
耐熱性、硬度、密着性が特に優れており、伸びを特長と
するアクリル系樹脂との組合せは互いの短所を補うバラ
ンスのとれた複合系であり、既存の複合系コーティング
を上廻る特性を与える。
系樹脂の組合せを用いる場合には、ガラスフィラーなど
を添加するいわゆる複合樹脂と異なり、キシレンに溶解
したペルヒドロポリシラザンとアクリル系樹脂とが均一
に溶解した状態を出発点としているため、極めて均質か
つ微細な構造のレベルで非晶質のSiO2 /Si3 N 4
とアクリル系樹脂が複合化していると予想されること
と、ペルヒドロポリシラザンのセラミック化にともなう
収縮時に、アクリル系樹脂が軟化し追従するため、ピン
ホールのない緻密な膜が得られやすいことによると考え
られる。
クス)と有機質(アクリル系樹脂)のバランスを制御す
ることが容易である。上記の如く、ポリシラザンにもと
づくセラミックスとアクリル系樹脂とが均一かつ微細な
構造レベルで複合化するので、無機質と有機質との割合
が広い割合範囲で選択でき、耐熱性、硬度に重点おいた
ものから可撓性に重点をおいたものまで広範囲で優れた
特性を実現することができる。
低い非晶質セラミックとなるため、金属基板などとのマ
ッチングの問題から単体では膜厚限界が低いが、アクリ
ル系樹脂は熱膨張率が高いため各種基板とのマッチング
が可能であり、従って本発明のコーティング用組成物で
は10〜100μmの厚膜が、容易に施工できる。な
お、ポリシラザンの焼成後の非晶質セラミックスとアク
リル系樹脂の特性を対比してまとめると下記の如くであ
る。
解し、10wt%溶液とした。次に、東燃製ペルヒドロポ
リシラザンPHPS−1の20wt%キシレン溶液と、B
R−71の10wt%キシレン溶液とを、PHPS:BR
71=6:4(wt)となるようにスターラーで混合し、
無色透明のコーティング液とした。本コーティング液を
用い、150×50×0.4mmt の脱脂したSUS30
4及びCu板に流し塗りにより施工し、室温で10分間
乾燥した。次に300℃で1時間焼付し(10℃/分で
昇温)、無色透明な厚さ約2μmのセラミック/アクリ
ル樹脂系塗膜を得た。本塗膜の硬度は>9Hであった
(SUS304基板)。また30×30×1.1mmt の
石英ガラスにスピンコートし(2000rpm ×20sec
)、300℃で1時間焼付けた塗膜(厚さ1μm)の
分光光度を測定したところ、500nmにおける可視光透
過率は、96%であった。次に、折り曲げテストを実施
したところ、SUS304基板、Cu基板ともに5T合
格であった。 実施例2 下記の条件のみ変更し、実施例1と同様の手法でセラミ
ック/アクリル樹脂系無色透明膜を施工した。 PHPS:BR71=5:5(wt) 評価結果は、次のとおりであった。 硬度;9H 可視光透過率(@500nm);95% 折り曲げ性;1T合格 実施例3 PHPS−1の40wt%キシレン溶液とBR−71の1
5wt%キシレン溶液とをPHPS:BR71=6:4
(wt)となるようにコーティング液を調整した後、SU
S304基板に流し塗りによって施工した。300℃で
1時間焼成したところ、膜厚10μm、硬度>9Hのセ
ラミック/アクリル樹脂系無色透明膜が得られた。 実施例4〜9及び比較例 PHPS−1に0.5wt%(ポリシラザン100に対
し)の酢酸Pdを付加させた。低温セラミックタイプポ
リシラザンの20wt%キシレン溶液とBR80の10wt
%キシレン溶液とを、下記割合で混合した。 上記コーティング液を実施例1と同様にSUS304基
板へ施工し、200℃×1h焼付けたところ、いずれの
サンプルも膜厚2〜3μmの無色透明膜が得られた。こ
れらの塗膜の硬度を測定したところ下記の結果を得た。 硬 度 ─────────────────── 実施例4 >9H 実施例5 >9H 実施例6 >9H 実施例7 >9H 実施例8 9H 実施例9 9H 比較例 4H
クリル樹脂を相溶状態としたことにより、ポリシラザン
の特性を低下させることなく、両者の特徴が生かされ
た、透明な塗膜が得られた。その結果、耐熱性、硬度、
密着性、可撓性、膜厚限界、価格に優れた、無機/有機
ハイブリッド膜を容易に得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 主として一般式(I): 【化1】 (但し、R1 ,R2 ,R3 はそれぞれ独立に水素原子、
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭
素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、ア
ルコキシ基を表わす。ただし、R1 ,R2 ,R3 のうち
少なくとも1つは水素原子である。)で表わされる単位
からなる主骨格を有する数平均分子量が100〜5万の
ポリシラザンとアクリル系樹脂とを溶解した溶液である
ことを特徴とするコーティング用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09185694A JP3414488B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 透明な有機/無機ハイブリッド膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09185694A JP3414488B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 透明な有機/無機ハイブリッド膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07292321A true JPH07292321A (ja) | 1995-11-07 |
| JP3414488B2 JP3414488B2 (ja) | 2003-06-09 |
Family
ID=14038209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09185694A Expired - Fee Related JP3414488B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 透明な有機/無機ハイブリッド膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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