JPH072923A - オレフィンの重合法 - Google Patents
オレフィンの重合法Info
- Publication number
- JPH072923A JPH072923A JP14352693A JP14352693A JPH072923A JP H072923 A JPH072923 A JP H072923A JP 14352693 A JP14352693 A JP 14352693A JP 14352693 A JP14352693 A JP 14352693A JP H072923 A JPH072923 A JP H072923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- hydrocarbon residue
- polymerization
- olefin
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 title claims abstract description 28
- -1 vinylsilane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 44
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 21
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 19
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 19
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 48
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 24
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 22
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 21
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 18
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 claims description 8
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 5
- MZJIRPYRADNXPV-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)silane Chemical class C=C[SiH2]C=C MZJIRPYRADNXPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 23
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 13
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 abstract description 5
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 abstract description 5
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 abstract description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 abstract description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 57
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 20
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 10
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 10
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 9
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 4
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QRHCILLLMDEFSD-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)C=C QRHCILLLMDEFSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 1-undecene Chemical compound CCCCCCCCCC=C DCTOHCCUXLBQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 2
- WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran-1(3H)-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)OCC2=C1 WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethanol Chemical compound OCCC1=CC=CC=C1 WRMNZCZEMHIOCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FHUODBDRWMIBQP-UHFFFAOYSA-N Ethyl p-anisate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 FHUODBDRWMIBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SESFRYSPDFLNCH-UHFFFAOYSA-N benzyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 SESFRYSPDFLNCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UDLNYNSUFIHIKN-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-diethylsilane Chemical compound CC[Si](CC)(C=C)C=C UDLNYNSUFIHIKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 2
- XSIFPSYPOVKYCO-UHFFFAOYSA-N butyl benzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 XSIFPSYPOVKYCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N diheptyl phthalate Chemical compound CCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCC JQCXWCOOWVGKMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- MVLVMROFTAUDAG-UHFFFAOYSA-N ethyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC MVLVMROFTAUDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003701 inert diluent Substances 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N isopentane Chemical compound CCC(C)C QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N o-Hydroxyethylbenzene Natural products CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NUJGJRNETVAIRJ-UHFFFAOYSA-N octanal Chemical compound CCCCCCCC=O NUJGJRNETVAIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLYBTZIQSIBWLI-UHFFFAOYSA-N octyl acetate Chemical compound CCCCCCCCOC(C)=O YLYBTZIQSIBWLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002901 organomagnesium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N trihexylalumane Chemical compound CCCCCC[Al](CCCCCC)CCCCCC ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- XTJLXXCARCJVPJ-TWTPFVCWSA-N (2e,4e)-hepta-2,4-diene Chemical compound CC\C=C\C=C\C XTJLXXCARCJVPJ-TWTPFVCWSA-N 0.000 description 1
- LAGGTOBQMQHXON-GGWOSOGESA-N (2e,6e)-octa-2,6-diene Chemical compound C\C=C\CC\C=C\C LAGGTOBQMQHXON-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N (3s)-n-[(3s,5s,6r)-6-methyl-2-oxo-1-(2,2,2-trifluoroethyl)-5-(2,3,6-trifluorophenyl)piperidin-3-yl]-2-oxospiro[1h-pyrrolo[2,3-b]pyridine-3,6'-5,7-dihydrocyclopenta[b]pyridine]-3'-carboxamide Chemical compound C1([C@H]2[C@H](N(C(=O)[C@@H](NC(=O)C=3C=C4C[C@]5(CC4=NC=3)C3=CC=CN=C3NC5=O)C2)CC(F)(F)F)C)=C(F)C=CC(F)=C1F QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N 0.000 description 1
- JBVMSEMQJGGOFR-FNORWQNLSA-N (4e)-4-methylhexa-1,4-diene Chemical compound C\C=C(/C)CC=C JBVMSEMQJGGOFR-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- FMAMSYPJXSEYSW-VOTSOKGWSA-N (4e)-hepta-1,4-diene Chemical compound CC\C=C\CC=C FMAMSYPJXSEYSW-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N (4e)-hexa-1,4-diene Chemical compound C\C=C\CC=C PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N 0.000 description 1
- ZGXMNEKDFYUNDQ-GQCTYLIASA-N (5e)-hepta-1,5-diene Chemical compound C\C=C\CCC=C ZGXMNEKDFYUNDQ-GQCTYLIASA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical group ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWYPDXLJACEENP-UHFFFAOYSA-N 1,3-cycloheptadiene Chemical compound C1CC=CC=CC1 GWYPDXLJACEENP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(ethenyl)benzene Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C)C=C1 WEERVPDNCOGWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 1-chlorobutane Chemical compound CCCCCl VFWCMGCRMGJXDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8,10-pentamethyl-1,3,5,7,9,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3},10$l^{3}-pentaoxapentasilecane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 PUNGSQUVTIDKNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6,8-tetramethyl-1,3,5,7,2$l^{3},4$l^{3},6$l^{3},8$l^{3}-tetraoxatetrasilocane Chemical compound C[Si]1O[Si](C)O[Si](C)O[Si](C)O1 WZJUBBHODHNQPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXNOYRCWKRFNIM-UHFFFAOYSA-N 2-carbonochloridoylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(Cl)=O RXNOYRCWKRFNIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPHLTQOKDPSIGL-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl benzoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 KPHLTQOKDPSIGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=C(F)C(C#N)=C1 CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 2-isopropylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1O CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWPNXBQSRGKSJB-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=CC=C1C#N NWPNXBQSRGKSJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxaluminane Chemical compound C[Al]1CCCCO1 AQZWEFBJYQSQEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 2-propylphenol Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1O LCHYEKKJCUJAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 3-(1h-benzimidazol-2-yl)-7-(diethylamino)chromen-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 GOLORTLGFDVFDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLWQPQKVKCQWGG-UHFFFAOYSA-N 3-propyloxiran-2-one Chemical compound CCCC1OC1=O HLWQPQKVKCQWGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSQLAQKFRFTMNS-UHFFFAOYSA-N 5-methylhexa-1,4-diene Chemical compound CC(C)=CCC=C VSQLAQKFRFTMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYLHFOVZFADXNK-UHFFFAOYSA-N CCCCCC[Mg]CC Chemical compound CCCCCC[Mg]CC HYLHFOVZFADXNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N Cyclohexyl acetate Chemical compound CC(=O)OC1CCCCC1 YYLLIJHXUHJATK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100474383 Escherichia coli (strain K12) rpsO gene Proteins 0.000 description 1
- ZFDIRQKJPRINOQ-HWKANZROSA-N Ethyl crotonate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\C ZFDIRQKJPRINOQ-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- ICMAFTSLXCXHRK-UHFFFAOYSA-N Ethyl pentanoate Chemical compound CCCCC(=O)OCC ICMAFTSLXCXHRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N Isothiocyanatocyclopropane Chemical compound S=C=NC1CC1 JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- MXMOTZIXVICDSD-UHFFFAOYSA-N anisoyl chloride Chemical compound COC1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 MXMOTZIXVICDSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYXKZNLBZKRYSS-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1C(Cl)=O FYXKZNLBZKRYSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3-dicarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(C(Cl)=O)=C1 FDQSRULYDNDXQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDEWPOVQBGFNGE-UHFFFAOYSA-N benzoic acid n-propyl ester Natural products CCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 UDEWPOVQBGFNGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002903 benzyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,2-diene Chemical compound CC=C=C QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N butyric acid octyl ester Natural products CCCCCCCCOC(=O)CCC PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N butyric aldehyde Natural products CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cis-cyclohexene Natural products C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- UVJHQYIOXKWHFD-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,4-diene Chemical compound C1C=CCC=C1 UVJHQYIOXKWHFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-M cyclohexanecarboxylate Chemical compound [O-]C(=O)C1CCCCC1 NZNMSOFKMUBTKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DQZKGSRJOUYVPL-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC1CCCCC1 DQZKGSRJOUYVPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;titanium(2+) Chemical compound [Ti+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 PESYEWKSBIWTAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N deca-1,9-diene Chemical compound C=CCCCCCCC=C NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N diethylalumane Chemical compound CC[AlH]CC HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N dimethyl butane Natural products CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C=C GCSJLQSCSDMKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCPCLEKQVMKXJM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(diethyl)alumane Chemical compound CCO[Al](CC)CC GCPCLEKQVMKXJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWYBVQLPTCMVFO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2,2-dichloroacetate Chemical compound CCOC(=O)C(Cl)Cl IWYBVQLPTCMVFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUZCDRGUTZLAGO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxybenzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1OCC OUZCDRGUTZLAGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000005826 halohydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- OEMWTWLQGRYBGM-UHFFFAOYSA-N hepta-1,2-diene Chemical compound CCCCC=C=C OEMWTWLQGRYBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEAWFZNTIFJMHR-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-diene Chemical compound C=CCCCC=C GEAWFZNTIFJMHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- UKZCGMDMXDLAGZ-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylpropane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].C[C-](C)C UKZCGMDMXDLAGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KJJBSBKRXUVBMX-UHFFFAOYSA-N magnesium;butane Chemical compound [Mg+2].CCC[CH2-].CCC[CH2-] KJJBSBKRXUVBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M magnesium;butane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].CCC[CH2-] QUXHCILOWRXCEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YHNWUQFTJNJVNU-UHFFFAOYSA-N magnesium;butane;ethane Chemical compound [Mg+2].[CH2-]C.CCC[CH2-] YHNWUQFTJNJVNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QABLOFMHHSOFRJ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloroacetate Chemical compound COC(=O)CCl QABLOFMHHSOFRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- DDIZAANNODHTRB-UHFFFAOYSA-N methyl p-anisate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 DDIZAANNODHTRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLXYLDUSSBULGU-UHFFFAOYSA-N methyl pyridine-4-carboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=NC=C1 OLXYLDUSSBULGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N methyl(oxo)alumane Chemical compound C[Al]=O CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzyl-1-phenylmethanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 MXHTZQSKTCCMFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000004002 naphthaldehydes Chemical class 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N o-dicarboxybenzene Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VECVSKFWRQYTAL-UHFFFAOYSA-N octyl benzoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1 VECVSKFWRQYTAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-diene Chemical compound C=CCC=C QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PODAMDNJNMAKAZ-UHFFFAOYSA-N penta-2,3-diene Chemical compound CC=C=CC PODAMDNJNMAKAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- FCJSHPDYVMKCHI-UHFFFAOYSA-N phenyl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC1=CC=CC=C1 FCJSHPDYVMKCHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- 229940067107 phenylethyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 229930015698 phenylpropene Natural products 0.000 description 1
- 150000003021 phthalic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical class O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMRSTLBCBDIKFI-UHFFFAOYSA-N tetradeca-1,13-diene Chemical compound C=CCCCCCCCCCCC=C XMRSTLBCBDIKFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005425 toluyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZFDIRQKJPRINOQ-UHFFFAOYSA-N transbutenic acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)C=CC ZFDIRQKJPRINOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 1
- HEPBQSXQJMTVFI-UHFFFAOYSA-N zinc;butane Chemical compound [Zn+2].CCC[CH2-].CCC[CH2-] HEPBQSXQJMTVFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高活性で、比較的重合体の分子量が小さいと
きでも立体規則性の高いオレフィン重合体を提供するこ
と。 【構成】 下記の成分(A)及び(B)からなる触媒
に、実質的に溶剤の不存在下にオレフィンを接触させて
重合させることを特徴とする、オレフィンの重合法。 成分(A):下記成分(A1 )および(A2 )の接触生
成物 成分(A1 ):Ti、Mg及びハロゲンを、ならびにR
1R2 3-m Si(OR3)mを、必須成分として含有す
る成分 成分(A2 ):(CH2=CH)2SiR4 2-n Xnで
表わされるビニルシラン化合物〔R1=分岐脂肪族又は
脂環式炭化水素残基、R2=R1と同一又は異なる炭化
水素残基、R3=炭化水素残基、R4=水素又はC
1〜20の炭化水素残基、X=ハロゲン、1≦m≦3、
0≦n<2〕 成分(B):有機A1化合物 【効果】 上記の目的が達成される。
きでも立体規則性の高いオレフィン重合体を提供するこ
と。 【構成】 下記の成分(A)及び(B)からなる触媒
に、実質的に溶剤の不存在下にオレフィンを接触させて
重合させることを特徴とする、オレフィンの重合法。 成分(A):下記成分(A1 )および(A2 )の接触生
成物 成分(A1 ):Ti、Mg及びハロゲンを、ならびにR
1R2 3-m Si(OR3)mを、必須成分として含有す
る成分 成分(A2 ):(CH2=CH)2SiR4 2-n Xnで
表わされるビニルシラン化合物〔R1=分岐脂肪族又は
脂環式炭化水素残基、R2=R1と同一又は異なる炭化
水素残基、R3=炭化水素残基、R4=水素又はC
1〜20の炭化水素残基、X=ハロゲン、1≦m≦3、
0≦n<2〕 成分(B):有機A1化合物 【効果】 上記の目的が達成される。
Description
【0001】〔発明の背景〕
【産業上の利用分野】本発明は、オレフィン類の気相重
合法に関するものである。更に詳しくは、本発明は、気
相重合法におけるチーグラー系触媒の固体成分として特
定の固体成分を用いることによって、重合時に電子供与
性化合物(外部ドナー)の存在の有無にかかわらず、高
い重合活性でかつ立体規則性の優れた重合体を得る方法
に関するものである。
合法に関するものである。更に詳しくは、本発明は、気
相重合法におけるチーグラー系触媒の固体成分として特
定の固体成分を用いることによって、重合時に電子供与
性化合物(外部ドナー)の存在の有無にかかわらず、高
い重合活性でかつ立体規則性の優れた重合体を得る方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、オレフィン類の重合には、不活性
溶媒を使用するスラリー重合、溶液重合、モノマー自身
を溶媒として使用する液相バルク重合、溶媒を使用しな
い気相重合等がある。前者の溶媒を使用するスラリー重
合等では、重合体と溶媒の分離、重合体の乾燥、溶媒の
回収、精製などの重合以外の操作が必要である。
溶媒を使用するスラリー重合、溶液重合、モノマー自身
を溶媒として使用する液相バルク重合、溶媒を使用しな
い気相重合等がある。前者の溶媒を使用するスラリー重
合等では、重合体と溶媒の分離、重合体の乾燥、溶媒の
回収、精製などの重合以外の操作が必要である。
【0003】一方、後者の気相重合では、前者の溶媒使
用重合での重合そのもの以外の操作、すなわち溶媒の分
離等の操作は、ほとんど不要であるので重合体の製造コ
ストにおいて極めて有用である。
用重合での重合そのもの以外の操作、すなわち溶媒の分
離等の操作は、ほとんど不要であるので重合体の製造コ
ストにおいて極めて有用である。
【0004】しかしながら、気相重合においては、従
来、重合安定性が不充分であって、安定運転を行いつ
つ、品質レベルの高い重合体を得ることが困難であっ
た。
来、重合安定性が不充分であって、安定運転を行いつ
つ、品質レベルの高い重合体を得ることが困難であっ
た。
【0005】また、気相重合において前述の重合体製造
後の後処理工程を省略するためには、いわゆる「高活性
触媒」が必要である。
後の後処理工程を省略するためには、いわゆる「高活性
触媒」が必要である。
【0006】近年、この高活性触媒として、マグネシウ
ム化合物にチタン化合物を担持する触媒成分が開発され
ている。これらの触媒成分は、従来のチーグラー触媒に
比して確かに高活性であるが、炭素数3以上のオレフィ
ンの重合体を製造する場合には、その立体規則性が低下
することが多く、実用的でないことが多い。
ム化合物にチタン化合物を担持する触媒成分が開発され
ている。これらの触媒成分は、従来のチーグラー触媒に
比して確かに高活性であるが、炭素数3以上のオレフィ
ンの重合体を製造する場合には、その立体規則性が低下
することが多く、実用的でないことが多い。
【0007】そこで、重合体の立体規則性を改良するた
めに種々の方法が検討されているが、その中で、固体触
媒成分および有機アルミニウム化合物のほかに、第三添
加物としてケイ素化合物、アミン、アルコールなどの電
子供与性化合物を使用する方法が有用である(たとえ
ば、特開昭55−127408号、同56−41206
号、同58−83006号各公報など)。
めに種々の方法が検討されているが、その中で、固体触
媒成分および有機アルミニウム化合物のほかに、第三添
加物としてケイ素化合物、アミン、アルコールなどの電
子供与性化合物を使用する方法が有用である(たとえ
ば、特開昭55−127408号、同56−41206
号、同58−83006号各公報など)。
【0008】しかしながら、これら第三添加物を使用す
る触媒系は、溶媒を使用するスラリー重合ではある程度
効果が認められるが、気相重合においては効果が大巾に
減少する。また、効果を出そうとすればその使用量を増
加させる必要がある。ところが電子供与性化合物の使用
量が増加すると、触媒活性の低下、重合体の色相、臭い
のレベルの悪化、あるいは重合安定性の低下、につなが
る。
る触媒系は、溶媒を使用するスラリー重合ではある程度
効果が認められるが、気相重合においては効果が大巾に
減少する。また、効果を出そうとすればその使用量を増
加させる必要がある。ところが電子供与性化合物の使用
量が増加すると、触媒活性の低下、重合体の色相、臭い
のレベルの悪化、あるいは重合安定性の低下、につなが
る。
【0009】そこで、上記課題を解決するために、本発
明者等は第三添加物を使用しないで高活性、高立体規則
性を有する重合体を与える方法を提案している(特開昭
63−41509号公報)。
明者等は第三添加物を使用しないで高活性、高立体規則
性を有する重合体を与える方法を提案している(特開昭
63−41509号公報)。
【0010】また、特開平3−234707号公報で
は、固体成分製造時に、ビニルシラン化合物を添加する
ことにより、性能改良することを提案している。しかし
ながら、上記公報においては、本発明の目的とする実質
的に溶剤の不存在下にオレフィンを重合させる方法にお
いて性能改良が不充分であり、種々検討の結果、本発明
を完成した。
は、固体成分製造時に、ビニルシラン化合物を添加する
ことにより、性能改良することを提案している。しかし
ながら、上記公報においては、本発明の目的とする実質
的に溶剤の不存在下にオレフィンを重合させる方法にお
いて性能改良が不充分であり、種々検討の結果、本発明
を完成した。
【0011】ところで、最近、ポリオレフィン重合体を
成型するときには、経済性の観点から成型サイクルの向
上、成型スピードの向上が要求されている。そのために
は、重合体の分子量が小さいことが必要となるが、その
ように分子量が小さいときでも(例えばMFRで50以
上)、成形体が十分な剛性を持つものであるためには、
従来通りの高立体規則性が必要とされる。
成型するときには、経済性の観点から成型サイクルの向
上、成型スピードの向上が要求されている。そのために
は、重合体の分子量が小さいことが必要となるが、その
ように分子量が小さいときでも(例えばMFRで50以
上)、成形体が十分な剛性を持つものであるためには、
従来通りの高立体規則性が必要とされる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】したがって、気相重合
においては、第三添加物として電子供与性化合物を使用
しなくても、炭素数で3以上のオレフィンの立体規則性
の高い重合体が得られる触媒系の開発が望まれているの
が現状である。
においては、第三添加物として電子供与性化合物を使用
しなくても、炭素数で3以上のオレフィンの立体規則性
の高い重合体が得られる触媒系の開発が望まれているの
が現状である。
【0013】
〔発明の概要〕 <要旨>本発明者らは、上記問題点に解決を与えるため
に、各種触媒成分について検討を行って本発明を完成し
た。
に、各種触媒成分について検討を行って本発明を完成し
た。
【0014】即ち、本発明によるオレフィンの重合法
は、下記の成分(A)および(B)からなる触媒に、実
質的に溶媒の不存在下にオレフィンを接触させて重合さ
せること、を特徴とするものである。 成分(A):下記の成分(A1 )および(A2 )の接触
生成物 成分(A1 ):チタン、マグネシウムおよびハロゲンを
必須成分として含有し、かつ下記の一般式で表わされる
ケイ素化合物を実質的にその形で含有してなるオレフィ
ンの立体規則性重合用固体触媒成分 一般式 R1R2 3-m Si(OR3)m (ここで、R1は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2はR1と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3は炭化水素残基を、mは1≦m≦3の
数を、それぞれ示す) 成分(A2 ):下記の一般式で表わされるジビニルシラ
ン化合物 一般式 (CH2=CH)2SiR4 2-n Xn (ここで、R4は水素または炭素数1〜20の炭化水素
残基を、Xはハロゲンを、nは0≦n<2の数を、それ
ぞれ示す) 成分(B):有機アルミニウム化合物 また、本発明によるチーグラー型触媒用固体触媒成分の
製造法は、下記の成分(A1 )および(A2 )を接触さ
せ、得られた接触生成物を炭化水素溶媒またはハロゲン
化炭化水素溶媒で洗浄すること、を特徴とするものであ
る。 成分(A1 ):チタン、マグネシウムおよびハロゲンを
必須成分として含有し、かつ下記の一般式で表わされる
ケイ素化合物を実質的にその形で含有してなるオレフィ
ンの立体規則性重合用固体触媒成分 一般式 R1R2 3-m Si(OR3)m (ここで、R1は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2はR1と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3は炭化水素残基を、mは1≦m≦3の
数を、それぞれ示す) 成分(A2 ):下記の一般式で表わされるジビニルシラ
ン化合物 一般式 (CH2=CH)2SiR4 2-n Xn (ここで、R4は水素または炭素数1〜20の炭化水素
残基を、Xはハロゲンを、nは0≦n<2の数を、それ
ぞれ示す) <効果>本発明によると、高活性で、しかも比較的重合
体の分子量の小さいときでも立体規則性の高い重合体を
得ることができる。
は、下記の成分(A)および(B)からなる触媒に、実
質的に溶媒の不存在下にオレフィンを接触させて重合さ
せること、を特徴とするものである。 成分(A):下記の成分(A1 )および(A2 )の接触
生成物 成分(A1 ):チタン、マグネシウムおよびハロゲンを
必須成分として含有し、かつ下記の一般式で表わされる
ケイ素化合物を実質的にその形で含有してなるオレフィ
ンの立体規則性重合用固体触媒成分 一般式 R1R2 3-m Si(OR3)m (ここで、R1は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2はR1と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3は炭化水素残基を、mは1≦m≦3の
数を、それぞれ示す) 成分(A2 ):下記の一般式で表わされるジビニルシラ
ン化合物 一般式 (CH2=CH)2SiR4 2-n Xn (ここで、R4は水素または炭素数1〜20の炭化水素
残基を、Xはハロゲンを、nは0≦n<2の数を、それ
ぞれ示す) 成分(B):有機アルミニウム化合物 また、本発明によるチーグラー型触媒用固体触媒成分の
製造法は、下記の成分(A1 )および(A2 )を接触さ
せ、得られた接触生成物を炭化水素溶媒またはハロゲン
化炭化水素溶媒で洗浄すること、を特徴とするものであ
る。 成分(A1 ):チタン、マグネシウムおよびハロゲンを
必須成分として含有し、かつ下記の一般式で表わされる
ケイ素化合物を実質的にその形で含有してなるオレフィ
ンの立体規則性重合用固体触媒成分 一般式 R1R2 3-m Si(OR3)m (ここで、R1は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2はR1と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3は炭化水素残基を、mは1≦m≦3の
数を、それぞれ示す) 成分(A2 ):下記の一般式で表わされるジビニルシラ
ン化合物 一般式 (CH2=CH)2SiR4 2-n Xn (ここで、R4は水素または炭素数1〜20の炭化水素
残基を、Xはハロゲンを、nは0≦n<2の数を、それ
ぞれ示す) <効果>本発明によると、高活性で、しかも比較的重合
体の分子量の小さいときでも立体規則性の高い重合体を
得ることができる。
【0015】このような効果が発現する理由は現在のと
ころ不明であるが、特定のビニルシランを接触させた固
体成分を使用する点によるものであると考えている。 〔発明の具体的説明〕 <<オレフィン重合用触媒>>本発明で使用されるオレ
フィン重合用触媒は、特定の成分(A)および成分
(B)からなるものである。ここで「からなる」という
ことは、成分が挙示のもの(すなわち、(A)および
(B))のみであるということを意味するものではな
く、合目的的な第三成分の共存を排除しない。 <成分(A)>本発明の触媒の成分(A)は、特定の固
体成分(成分(A1 ))および特定のジビニルシラン化
合物成分(成分(A2 ))の接触生成物である。このよ
うな本発明の成分(A)は、上記必須二成分以外の合目
的的な他の成分共存を排除しない。 成分(A1 ) 本発明で使用する成分(A1 )は、チタン、マグネシウ
ムおよびハロゲンを必須成分として含有し、かつ特定構
造を有するケイ素化合物を実質的にその形で含有してな
るオレフィンの立体規則性重合用固体触媒成分である。
ころ不明であるが、特定のビニルシランを接触させた固
体成分を使用する点によるものであると考えている。 〔発明の具体的説明〕 <<オレフィン重合用触媒>>本発明で使用されるオレ
フィン重合用触媒は、特定の成分(A)および成分
(B)からなるものである。ここで「からなる」という
ことは、成分が挙示のもの(すなわち、(A)および
(B))のみであるということを意味するものではな
く、合目的的な第三成分の共存を排除しない。 <成分(A)>本発明の触媒の成分(A)は、特定の固
体成分(成分(A1 ))および特定のジビニルシラン化
合物成分(成分(A2 ))の接触生成物である。このよ
うな本発明の成分(A)は、上記必須二成分以外の合目
的的な他の成分共存を排除しない。 成分(A1 ) 本発明で使用する成分(A1 )は、チタン、マグネシウ
ムおよびハロゲンを必須成分として含有し、かつ特定構
造を有するケイ素化合物を実質的にその形で含有してな
るオレフィンの立体規則性重合用固体触媒成分である。
【0016】ここで「必須成分として含有し」というこ
とは、挙示の三成分の外に合目的的な他元素を含んでい
てもよいこと、これらの元素はそれぞれが合目的的な任
意の化合物として存在してもよいこと、ならびにこれら
元素は相互に結合したものとして存在してもよいこと、
を示すものである。チタン、マグネシウムおよびハロゲ
ンを含む固体成分そのものは公知のものである。例え
ば、特開昭53−45688号、同54−3894号、
同54−31092号、同54−39483号、同54
−94591号、同54−118484号、同54−1
31589号、同55−75411号、同55−905
10号、同55−90511号、同55−127405
号、同55−147507号、同55−155003
号、同56−18609号、同56−70005号、同
56−72001号、同56−86905号、同56−
90807号、同56−155206号、同57−38
03号、同57−34103号、同57−92007
号、同57−121003号、同58−5309号、同
58−5310号、同58−5311号、同58−87
06号、同58−27732号、同58−32604
号、同58−32605号、同58−67703号、同
58−117206号、同58−127708号、同5
8−183708号、同58−183709号、同59
−149905号、同59−149906号各公報等に
記載のものが使用される。
とは、挙示の三成分の外に合目的的な他元素を含んでい
てもよいこと、これらの元素はそれぞれが合目的的な任
意の化合物として存在してもよいこと、ならびにこれら
元素は相互に結合したものとして存在してもよいこと、
を示すものである。チタン、マグネシウムおよびハロゲ
ンを含む固体成分そのものは公知のものである。例え
ば、特開昭53−45688号、同54−3894号、
同54−31092号、同54−39483号、同54
−94591号、同54−118484号、同54−1
31589号、同55−75411号、同55−905
10号、同55−90511号、同55−127405
号、同55−147507号、同55−155003
号、同56−18609号、同56−70005号、同
56−72001号、同56−86905号、同56−
90807号、同56−155206号、同57−38
03号、同57−34103号、同57−92007
号、同57−121003号、同58−5309号、同
58−5310号、同58−5311号、同58−87
06号、同58−27732号、同58−32604
号、同58−32605号、同58−67703号、同
58−117206号、同58−127708号、同5
8−183708号、同58−183709号、同59
−149905号、同59−149906号各公報等に
記載のものが使用される。
【0017】本発明において使用されるマグネシウム源
となるマグネシウム化合物としては、マグネシウムジハ
ライド、ジアルコキシマグネシウム、アルコキシマグネ
シウムハライド、マグネシウムオキシハライド、ジアル
キルマグネシウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシ
ウム、マグネシウムのカルボン酸塩等があげられる。こ
れらの中でもマグネシウムジハライドが好ましい。
となるマグネシウム化合物としては、マグネシウムジハ
ライド、ジアルコキシマグネシウム、アルコキシマグネ
シウムハライド、マグネシウムオキシハライド、ジアル
キルマグネシウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシ
ウム、マグネシウムのカルボン酸塩等があげられる。こ
れらの中でもマグネシウムジハライドが好ましい。
【0018】また、チタン源となるチタン化合物は、一
般式Ti(OR5)4-p Xp(ここで、R5は炭化水素
残基、好ましくは炭素数1〜10程度のもの、であり、
Xはハロゲンを示し、pは0≦p≦4の数を示す)で表
わされる化合物があげられる。具体例としては、TiC
l4、TiBr4、Ti(OC2H5)Cl3、Ti
(OC2H5)2Cl2、Ti(OC2H5)3Cl、
Ti(O−iC3H7)Cl3、Ti(O−nC
4H9)Cl3、Ti(O−nC4H9)2Cl2、T
i(OC2H5)Br3、Ti(OC2H5)(OC4
H9)2Cl、Ti(O−nC4H9)3Cl、Ti
(O−C6H5)Cl3、Ti(O−iC4H9)2C
l2、Ti(OC5H11)Cl3、Ti(OC6H
13)Cl3、Ti(OC2H5)4、Ti(O−nC
3H7)4、Ti(O−nC4H9)4、Ti(O−i
C4H9)4、Ti(O−nC6H13)4、Ti(O
−nC8H17)4、Ti〔OCH2CH(C2H5)
C4H9〕4などが挙げられる。
般式Ti(OR5)4-p Xp(ここで、R5は炭化水素
残基、好ましくは炭素数1〜10程度のもの、であり、
Xはハロゲンを示し、pは0≦p≦4の数を示す)で表
わされる化合物があげられる。具体例としては、TiC
l4、TiBr4、Ti(OC2H5)Cl3、Ti
(OC2H5)2Cl2、Ti(OC2H5)3Cl、
Ti(O−iC3H7)Cl3、Ti(O−nC
4H9)Cl3、Ti(O−nC4H9)2Cl2、T
i(OC2H5)Br3、Ti(OC2H5)(OC4
H9)2Cl、Ti(O−nC4H9)3Cl、Ti
(O−C6H5)Cl3、Ti(O−iC4H9)2C
l2、Ti(OC5H11)Cl3、Ti(OC6H
13)Cl3、Ti(OC2H5)4、Ti(O−nC
3H7)4、Ti(O−nC4H9)4、Ti(O−i
C4H9)4、Ti(O−nC6H13)4、Ti(O
−nC8H17)4、Ti〔OCH2CH(C2H5)
C4H9〕4などが挙げられる。
【0019】また、TiX′4(ここで、X′はハロゲ
ンを示す)に後述する電子供与体を反応させた分子化合
物をチタン源として用いることもできる。そのような分
子化合物の具体例としては、TiCl4・CH3COC
2H5、TiCl4・CH3CO2C2H5、TiCl
4・C6H5NO2、TiCl4・CH3COCl、T
iCl4・C6H5COCl、TiCl4・C6H5C
O2C2H5、TiCl4・ClCOC2H5、TiC
l4・C4H4O等が挙げられる。
ンを示す)に後述する電子供与体を反応させた分子化合
物をチタン源として用いることもできる。そのような分
子化合物の具体例としては、TiCl4・CH3COC
2H5、TiCl4・CH3CO2C2H5、TiCl
4・C6H5NO2、TiCl4・CH3COCl、T
iCl4・C6H5COCl、TiCl4・C6H5C
O2C2H5、TiCl4・ClCOC2H5、TiC
l4・C4H4O等が挙げられる。
【0020】また、TiCl3(TiCl4をH2で還
元したもの、Al金属で還元したもの、あるいは有機金
属化合物で還元したもの等を含む)、TiBr3、Ti
(OC2H5)Cl2、TiCl2、ジシクロペンタジ
エニルチタニウムジクロライド等のチタン化合物の使用
も可能である。
元したもの、Al金属で還元したもの、あるいは有機金
属化合物で還元したもの等を含む)、TiBr3、Ti
(OC2H5)Cl2、TiCl2、ジシクロペンタジ
エニルチタニウムジクロライド等のチタン化合物の使用
も可能である。
【0021】これらのチタン化合物の中でもTiC
l4、Ti(OC4H9)4、Ti(OC2H5)Cl
3等が好ましい。
l4、Ti(OC4H9)4、Ti(OC2H5)Cl
3等が好ましい。
【0022】ハロゲンは、上述のマグネシウムおよび
(または)チタンのハロゲン化合物から供給されるのが
普通であるが、他のハロゲン源、たとえばアルミニウム
のハロゲン化物やケイ素のハロゲン化物、リンのハロゲ
ン化物といった公知のハロゲン化剤から供給することも
できる。
(または)チタンのハロゲン化合物から供給されるのが
普通であるが、他のハロゲン源、たとえばアルミニウム
のハロゲン化物やケイ素のハロゲン化物、リンのハロゲ
ン化物といった公知のハロゲン化剤から供給することも
できる。
【0023】触媒成分中に含まれるハロゲンは、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素またはこれらの混合物であって
もよく、特に塩素が好ましい。
素、塩素、臭素、ヨウ素またはこれらの混合物であって
もよく、特に塩素が好ましい。
【0024】さらに、この固体成分を製造する場合に、
電子供与体を内部ドナーとして使用して製造することも
できる。
電子供与体を内部ドナーとして使用して製造することも
できる。
【0025】この固体成分の製造に利用できる電子供与
体(内部ドナー)としては、アルコール類、フェノール
類、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸類、有機酸ま
たは無機酸類のエステル類、エーテル類、酸アミド類、
酸無水物類のような含酸素電子供与体、アンモニア、ア
ミン、ニトリル、イソシアネートのような含窒素電子供
与体などを例示することができる。
体(内部ドナー)としては、アルコール類、フェノール
類、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸類、有機酸ま
たは無機酸類のエステル類、エーテル類、酸アミド類、
酸無水物類のような含酸素電子供与体、アンモニア、ア
ミン、ニトリル、イソシアネートのような含窒素電子供
与体などを例示することができる。
【0026】より具体的には、(イ)メタノール、エタ
ノール、プロパノール、ペンタノール、ヘキサノール、
オクタノール、ドデカノール、オクタデシルアルコー
ル、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコール、
イソプロピルベンジルアルコールなどの炭素数1ないし
18のアルコール類、(ロ)フェノール、クレゾール、
キシレノール、エチルフェノール、プロピルフェノー
ル、イソプロピルフェノール、ノニルフェノール、ナフ
トールなどのアルキル基を有してよい炭素数6ないし2
5のフェノール類、(ハ)アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾ
フェノンなどの炭素数3ないし15のケトン類、(ニ)
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、オクチルア
ルデヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、ナフト
アルデヒドなどの炭素数2ないし15のアルデヒド類、
(ホ)ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ビニ
ル、酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシ
ル、酢酸セロソルブ、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、吉草酸エチル、ステアリン酸エチル、クロル酢酸メ
チル、ジクロル酢酸エチル、メタクリル酸メチル、クロ
トン酸エチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息
香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息
香酸ブチル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキシ
ル、安息香酸フェニル、安息香酸ベンジル、安息香酸セ
ロソルブ、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、トル
イル酸アミル、エチル安息香酸エチル、アニス酸メチ
ル、アニス酸エチル、エトキシ安息香酸エチル、フタル
酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、
γ‐ブチロラクトン、α‐バレロラクトン、クマリン、
フタリド、炭酸エチレンなどの炭素数2ないし20の有
機酸エステル類、(ヘ)ケイ酸エチル、ケイ酸ブチル、
フェニルトリエトキシシランなどのケイ酸エステルのよ
うな無機酸エステル類、但し、前記一般式R1R2 3-m
Si(OR3)mで表わされるケイ素化合物は除く、
(ト)アセチルクロリド、ベンゾイルクロリド、トルイ
ル酸クロリド、アニス酸クロリド、塩化フタロイル、イ
ソ塩化フタロイルなどの炭素数2ないし15の酸ハライ
ド類、(チ)メチルエーテル、エチルエーテル、イソプ
ロピルエーテル、ブチルエーテル、アミルエーテル、テ
トラヒドロフラン、アニソール、ジフェニルエーテルな
どの炭素数2ないし20のエーテル類、(リ)酢酸アミ
ド、安息香酸アミド、トルイル酸アミドなどの酸アミド
類、(ヌ)メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ピペリジン、トリベンジルアミ
ン、アニリン、ピリジン、ピコリン、テトラメチルエチ
レンジアミンなどのアミン類、(ル)アセトニトリル、
ベンゾニトリル、トルニトリルなどのニトリル類、など
を挙げることができる。これらの電子供与体は、二種以
上用いることができる。これらの中で好ましいのは有機
酸エステルおよび酸ハライドであり、特に好ましいのは
フタル酸エステル、酢酸セロソルブエステルおよびフタ
ル酸ハライドである。
ノール、プロパノール、ペンタノール、ヘキサノール、
オクタノール、ドデカノール、オクタデシルアルコー
ル、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコール、
イソプロピルベンジルアルコールなどの炭素数1ないし
18のアルコール類、(ロ)フェノール、クレゾール、
キシレノール、エチルフェノール、プロピルフェノー
ル、イソプロピルフェノール、ノニルフェノール、ナフ
トールなどのアルキル基を有してよい炭素数6ないし2
5のフェノール類、(ハ)アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾ
フェノンなどの炭素数3ないし15のケトン類、(ニ)
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、オクチルア
ルデヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、ナフト
アルデヒドなどの炭素数2ないし15のアルデヒド類、
(ホ)ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ビニ
ル、酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシ
ル、酢酸セロソルブ、プロピオン酸エチル、酪酸メチ
ル、吉草酸エチル、ステアリン酸エチル、クロル酢酸メ
チル、ジクロル酢酸エチル、メタクリル酸メチル、クロ
トン酸エチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息
香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息
香酸ブチル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキシ
ル、安息香酸フェニル、安息香酸ベンジル、安息香酸セ
ロソルブ、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、トル
イル酸アミル、エチル安息香酸エチル、アニス酸メチ
ル、アニス酸エチル、エトキシ安息香酸エチル、フタル
酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、
γ‐ブチロラクトン、α‐バレロラクトン、クマリン、
フタリド、炭酸エチレンなどの炭素数2ないし20の有
機酸エステル類、(ヘ)ケイ酸エチル、ケイ酸ブチル、
フェニルトリエトキシシランなどのケイ酸エステルのよ
うな無機酸エステル類、但し、前記一般式R1R2 3-m
Si(OR3)mで表わされるケイ素化合物は除く、
(ト)アセチルクロリド、ベンゾイルクロリド、トルイ
ル酸クロリド、アニス酸クロリド、塩化フタロイル、イ
ソ塩化フタロイルなどの炭素数2ないし15の酸ハライ
ド類、(チ)メチルエーテル、エチルエーテル、イソプ
ロピルエーテル、ブチルエーテル、アミルエーテル、テ
トラヒドロフラン、アニソール、ジフェニルエーテルな
どの炭素数2ないし20のエーテル類、(リ)酢酸アミ
ド、安息香酸アミド、トルイル酸アミドなどの酸アミド
類、(ヌ)メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ピペリジン、トリベンジルアミ
ン、アニリン、ピリジン、ピコリン、テトラメチルエチ
レンジアミンなどのアミン類、(ル)アセトニトリル、
ベンゾニトリル、トルニトリルなどのニトリル類、など
を挙げることができる。これらの電子供与体は、二種以
上用いることができる。これらの中で好ましいのは有機
酸エステルおよび酸ハライドであり、特に好ましいのは
フタル酸エステル、酢酸セロソルブエステルおよびフタ
ル酸ハライドである。
【0027】そして、本発明による成分(A)は、特定
の一般式で表わされるケイ素化合物をも実質的にその形
で含有してなるものである。ここで、「実質的にその形
で含有してなる」ということは、成分(A)をガスクロ
マトグラフィで分析すればそこに含まれているケイ素化
合物が実質的に当該一般式で示される構造のものである
ことが確認できるということを意味する。
の一般式で表わされるケイ素化合物をも実質的にその形
で含有してなるものである。ここで、「実質的にその形
で含有してなる」ということは、成分(A)をガスクロ
マトグラフィで分析すればそこに含まれているケイ素化
合物が実質的に当該一般式で示される構造のものである
ことが確認できるということを意味する。
【0028】さて、本発明で成分(A)を製造するため
に使用するケイ素化合物は、 一般式 R1R2 3-m Si(OR3)m (ここで、R1は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2はR1と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3は炭化水素残基を、mは1≦m≦3の
数を、それぞれ示す)で表わされるものである。このケ
イ素化合物は、本式の化合物の複数種の混合物であって
もよい。
に使用するケイ素化合物は、 一般式 R1R2 3-m Si(OR3)m (ここで、R1は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2はR1と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3は炭化水素残基を、mは1≦m≦3の
数を、それぞれ示す)で表わされるものである。このケ
イ素化合物は、本式の化合物の複数種の混合物であって
もよい。
【0029】ここで、R1が分岐脂肪族炭化水素残基で
ある場合は、ケイ素原子に隣接する炭素原子から分岐し
ているものが好ましい。その場合の分岐基は、アルキル
基、シクロアルキル基またはアリール基(たとえば、フ
ェニル基またはメチル置換フェニル基)であることが好
ましい。さらに好ましいR1は、ケイ素原子に隣接する
炭素原子、すなわちα‐位炭素原子、が2級または3級
の炭素原子であるものである。とりわけ、ケイ素原子に
結合している炭素原子が3級のものが好ましい。R1が
分岐脂肪族炭化水素残基である場合の炭素数は通常3〜
20、好ましくは4〜10、である。また、R1が脂環
式炭化水素残基である場合の炭素数は通常5〜20、好
ましくは5〜10である。
ある場合は、ケイ素原子に隣接する炭素原子から分岐し
ているものが好ましい。その場合の分岐基は、アルキル
基、シクロアルキル基またはアリール基(たとえば、フ
ェニル基またはメチル置換フェニル基)であることが好
ましい。さらに好ましいR1は、ケイ素原子に隣接する
炭素原子、すなわちα‐位炭素原子、が2級または3級
の炭素原子であるものである。とりわけ、ケイ素原子に
結合している炭素原子が3級のものが好ましい。R1が
分岐脂肪族炭化水素残基である場合の炭素数は通常3〜
20、好ましくは4〜10、である。また、R1が脂環
式炭化水素残基である場合の炭素数は通常5〜20、好
ましくは5〜10である。
【0030】R2は、R1と同一もしくは異なる炭素数
1〜20、好ましくは1〜10、の分岐または直鎖状の
飽和脂肪族炭化水素残基であることがふつうである。R
3は脂肪族炭化水素残基、好ましくは炭素数1〜10の
脂肪族炭化水素残基、であることがふつうである。
1〜20、好ましくは1〜10、の分岐または直鎖状の
飽和脂肪族炭化水素残基であることがふつうである。R
3は脂肪族炭化水素残基、好ましくは炭素数1〜10の
脂肪族炭化水素残基、であることがふつうである。
【0031】本発明で使用できるケイ素化合物の具体例
は、下記の通りである。(CH3)3CSi(CH3)
(OCH3)2、(CH3)3CSi(CH(CH3)
2)(OCH3)2、(CH3)3CSi(CH3)
(OC2H5)2、(CH3)3CSi(C2H5)
(OCH3)2、(CH3)3CSi(n−C3H7)
(OCH3)2、(CH3)3CSi(nC6H13)
(OCH3)2、(C2H5)3CSi(CH3)(O
CH3)2、(CH3)(C2H5)CHSi(C
H3)(OCH3)2、((CH3)2CHCH2)2
Si(OCH3)2、(C2H5)(CH3)2CSi
(CH3)(OCH3)2、(C2H5)(CH3)2
CSi(CH3)(OC2H5)2、(CH3)3CS
i(OCH3)3、(CH3)3CSi(OC2H5)
3、(C2H5)3CSi(OC2H5)3、(C
H3)(C2H5)CHSi(OCH3)3、(C
H3)2CH(CH3)2CSi(CH3)(OC
H3)2、((CH3)3C)2Si(OCH3)2、
(C2H5)(CH3)2CSi(OCH3)3、(C
2H5)(CH3)2CSi(OC2H5)3、(CH
3)3CSi(O−tC4H9)(OCH3)2、(i
C3H7)2Si(OCH3)2、(iC3H7)2S
i(OC2H5)2、(iC4H9)2Si(OC
H3)2、(C5H9)2Si(OCH3)2、(C5
H9)2Si(OC2H5)2、(C5H9)(C
H3)Si(OCH3)2、(C5H9)(iC
4H9)Si(OCH3)2、(C6H11)Si(CH
3)(OCH3)2、(C6H11)2Si(OCH3)
2、(C6H11)(iC4H9)Si(OCH3)2、
(iC4H9)(secC4H9)Si(OC
H3)2、(iC4H9)(iC3H7)Si(OC5
H11)2、HC(CH3)2C(CH3)2Si(CH
3)(OCH3)2、HC(CH3)2C(CH3)2
Si(CH3)(OC2H5)2、HC(CH3)2C
(CH3)2Si(OCH3)3、HC(CH3)2C
(CH3)2Si(OC2H5)3、
は、下記の通りである。(CH3)3CSi(CH3)
(OCH3)2、(CH3)3CSi(CH(CH3)
2)(OCH3)2、(CH3)3CSi(CH3)
(OC2H5)2、(CH3)3CSi(C2H5)
(OCH3)2、(CH3)3CSi(n−C3H7)
(OCH3)2、(CH3)3CSi(nC6H13)
(OCH3)2、(C2H5)3CSi(CH3)(O
CH3)2、(CH3)(C2H5)CHSi(C
H3)(OCH3)2、((CH3)2CHCH2)2
Si(OCH3)2、(C2H5)(CH3)2CSi
(CH3)(OCH3)2、(C2H5)(CH3)2
CSi(CH3)(OC2H5)2、(CH3)3CS
i(OCH3)3、(CH3)3CSi(OC2H5)
3、(C2H5)3CSi(OC2H5)3、(C
H3)(C2H5)CHSi(OCH3)3、(C
H3)2CH(CH3)2CSi(CH3)(OC
H3)2、((CH3)3C)2Si(OCH3)2、
(C2H5)(CH3)2CSi(OCH3)3、(C
2H5)(CH3)2CSi(OC2H5)3、(CH
3)3CSi(O−tC4H9)(OCH3)2、(i
C3H7)2Si(OCH3)2、(iC3H7)2S
i(OC2H5)2、(iC4H9)2Si(OC
H3)2、(C5H9)2Si(OCH3)2、(C5
H9)2Si(OC2H5)2、(C5H9)(C
H3)Si(OCH3)2、(C5H9)(iC
4H9)Si(OCH3)2、(C6H11)Si(CH
3)(OCH3)2、(C6H11)2Si(OCH3)
2、(C6H11)(iC4H9)Si(OCH3)2、
(iC4H9)(secC4H9)Si(OC
H3)2、(iC4H9)(iC3H7)Si(OC5
H11)2、HC(CH3)2C(CH3)2Si(CH
3)(OCH3)2、HC(CH3)2C(CH3)2
Si(CH3)(OC2H5)2、HC(CH3)2C
(CH3)2Si(OCH3)3、HC(CH3)2C
(CH3)2Si(OC2H5)3、
【0032】
【化1】 さらに、本発明の成分(A1 )の製造においては、任意
成分として第I〜III族金属の有機金属化合物を使用す
ることも可能である。
成分として第I〜III族金属の有機金属化合物を使用す
ることも可能である。
【0033】本発明で使用する周期律表第I〜III 族金
属の有機金属化合物は、少なくとも一つの有機基−金属
結合を持つ。その場合の有機基としては、炭素数1〜1
0程度、好ましくは1〜6程度、のヒドロカルビル基が
代表的である。
属の有機金属化合物は、少なくとも一つの有機基−金属
結合を持つ。その場合の有機基としては、炭素数1〜1
0程度、好ましくは1〜6程度、のヒドロカルビル基が
代表的である。
【0034】原子価の少なくとも1つが有機基で充足さ
れている有機金属化合物の金属の残りの原子価(もしそ
れがあれば)は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロカル
ビルオキシ基(ヒドロカルビル基は、炭素数1〜10程
度、好ましくは1〜6程度)、あるいは酸素原子を介し
た当該金属(具体的には、メチルアルモキサンの場合の
れている有機金属化合物の金属の残りの原子価(もしそ
れがあれば)は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロカル
ビルオキシ基(ヒドロカルビル基は、炭素数1〜10程
度、好ましくは1〜6程度)、あるいは酸素原子を介し
た当該金属(具体的には、メチルアルモキサンの場合の
【0035】
【化2】 その他で充足される。
【0036】このような有機金属化合物の具体例を挙げ
れば、(イ)メチルリチウム、n‐ブチルリチウム、第
三ブチルリチウム等の有機リチウム化合物、(ロ)ブチ
ルエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ヘキシ
ルエチルマグネシウム、ブチルマグネシウムクロリド、
第三ブチルマグネシウムブロミド等の有機マグネシウム
化合物、(ハ)ジエチル亜鉛、ジブチル亜鉛等の有機亜
鉛化合物、(ニ)トリメチルアルミニウム、トリエチル
アルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリn‐
ヘキシルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリ
ド、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニ
ウムエトキシド、エチルアルミニウムセスキクロリド、
エチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミノキサン
等の有機アルミニウム化合物がある。このうちでは、特
に有機アルミニウム化合物が好ましい。 成分(A2 ) 本発明で使用する成分(A2 )は、下記の一般式で表わ
されるジビニルシラン化合物である。
れば、(イ)メチルリチウム、n‐ブチルリチウム、第
三ブチルリチウム等の有機リチウム化合物、(ロ)ブチ
ルエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ヘキシ
ルエチルマグネシウム、ブチルマグネシウムクロリド、
第三ブチルマグネシウムブロミド等の有機マグネシウム
化合物、(ハ)ジエチル亜鉛、ジブチル亜鉛等の有機亜
鉛化合物、(ニ)トリメチルアルミニウム、トリエチル
アルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリn‐
ヘキシルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリ
ド、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニ
ウムエトキシド、エチルアルミニウムセスキクロリド、
エチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミノキサン
等の有機アルミニウム化合物がある。このうちでは、特
に有機アルミニウム化合物が好ましい。 成分(A2 ) 本発明で使用する成分(A2 )は、下記の一般式で表わ
されるジビニルシラン化合物である。
【0037】 一般式 (CH2=CH)2SiR4 2-n Xn (ここで、R4は水素または炭素数1〜20の炭化水素
残基を、Xはハロゲンを、nは0≦n<2の数を、それ
ぞれ示す) 成分(A2 )として好ましい化合物は、R4が水素また
は炭素数1〜20、特に1〜10の炭化水素残基、であ
るものであって、そしてXがClのものである。さら
に、nは0≦n≦1が好ましく、特にn=0が好まし
い。なお、R4ならびにXが複数存在するとは、それら
は同一であっても異なっていてもよいことはいうまでも
ない。成分(A2 )として好ましい化合物の具体例とし
ては、(CH2=CH)2SiH2、(CH2=CH)
2Si(CH3)2、(CH2=CH)2Si(C2H
5)2、(CH2=CH)2Si(C4H9)2、(C
H2=CH)2Si(C6H5)2、(CH2=CH)
2Si(CH3)(C2H5)、(CH2=CH)2S
i(CH3)Cl、(CH2=CH)2Si(CH3)
(C6H4CH3)、(CH2=CH)2Si(C
H3)(C6H5)および(CH2=CH)2Si
(H)(CH3)、等がある。
残基を、Xはハロゲンを、nは0≦n<2の数を、それ
ぞれ示す) 成分(A2 )として好ましい化合物は、R4が水素また
は炭素数1〜20、特に1〜10の炭化水素残基、であ
るものであって、そしてXがClのものである。さら
に、nは0≦n≦1が好ましく、特にn=0が好まし
い。なお、R4ならびにXが複数存在するとは、それら
は同一であっても異なっていてもよいことはいうまでも
ない。成分(A2 )として好ましい化合物の具体例とし
ては、(CH2=CH)2SiH2、(CH2=CH)
2Si(CH3)2、(CH2=CH)2Si(C2H
5)2、(CH2=CH)2Si(C4H9)2、(C
H2=CH)2Si(C6H5)2、(CH2=CH)
2Si(CH3)(C2H5)、(CH2=CH)2S
i(CH3)Cl、(CH2=CH)2Si(CH3)
(C6H4CH3)、(CH2=CH)2Si(C
H3)(C6H5)および(CH2=CH)2Si
(H)(CH3)、等がある。
【0038】これらの中でも、(CH2=CH)2Si
(CH3)2、(CH2=CH)2Si(C
2H5)2、(CH2=CH)2Si(CH3)(C2
H5)が特に好ましい。
(CH3)2、(CH2=CH)2Si(C
2H5)2、(CH2=CH)2Si(CH3)(C2
H5)が特に好ましい。
【0039】成分(A)の製造 上述の成分(A)を構成する各成分の接触条件は、本発
明の効果が認められるかぎり任意のものでありうるが、
一般的には、次の条件が好ましい。接触温度は、−50
〜200℃程度、好ましくは0〜100℃、である。接
触方法としては、回転ボールミル、振動ミル、ジェット
ミル、媒体撹拌粉砕機などによる機械的な方法、不活性
希釈剤の存在下に撹拌により接触させる方法などがあ
る。このとき使用する不活性希釈剤としては、脂肪族ま
たは芳香族の炭化水素およびハロ炭化水素、ポリシロキ
サン等があげられる。
明の効果が認められるかぎり任意のものでありうるが、
一般的には、次の条件が好ましい。接触温度は、−50
〜200℃程度、好ましくは0〜100℃、である。接
触方法としては、回転ボールミル、振動ミル、ジェット
ミル、媒体撹拌粉砕機などによる機械的な方法、不活性
希釈剤の存在下に撹拌により接触させる方法などがあ
る。このとき使用する不活性希釈剤としては、脂肪族ま
たは芳香族の炭化水素およびハロ炭化水素、ポリシロキ
サン等があげられる。
【0040】成分(A)を構成する各成分使用量の量比
は本発明の効果が認められるかぎり任意のものであるう
るが、一般的には、次の範囲内が好ましい。
は本発明の効果が認められるかぎり任意のものであるう
るが、一般的には、次の範囲内が好ましい。
【0041】チタン化合物の使用量は、使用するマグネ
シウム化合物の使用量に対してモル比で1×10-4〜1
000の範囲内がよく、好ましくは0.01〜10の範
囲内である。ハロゲン源としてそのための化合物を使用
する場合は、その使用量はチタン化合物および(また
は)マグネシウム化合物がハロゲンを含む、含まないに
かかわらず、使用するマグネシウムの使用量に対してモ
ル比で1×10-2〜1000の範囲内がよく、好ましく
は0.1〜100の範囲内である。
シウム化合物の使用量に対してモル比で1×10-4〜1
000の範囲内がよく、好ましくは0.01〜10の範
囲内である。ハロゲン源としてそのための化合物を使用
する場合は、その使用量はチタン化合物および(また
は)マグネシウム化合物がハロゲンを含む、含まないに
かかわらず、使用するマグネシウムの使用量に対してモ
ル比で1×10-2〜1000の範囲内がよく、好ましく
は0.1〜100の範囲内である。
【0042】成分(A1 )を製造する際のケイ素化合物
の使用量は、成分(A)を構成するチタン成分に対する
ケイ素の原子比(ケイ素/チタン)で0.01〜100
0、好ましくは0.1〜100、の範囲内である。
の使用量は、成分(A)を構成するチタン成分に対する
ケイ素の原子比(ケイ素/チタン)で0.01〜100
0、好ましくは0.1〜100、の範囲内である。
【0043】アルミニウムおよびホウ素化合物を使用す
るときのその使用量は、上記のマグネシウム化合物の使
用量に対してモル比で1×10-3〜100の範囲内がよ
く、好ましくは0.01〜1の範囲内である。
るときのその使用量は、上記のマグネシウム化合物の使
用量に対してモル比で1×10-3〜100の範囲内がよ
く、好ましくは0.01〜1の範囲内である。
【0044】電子供与性化合物を使用するときのその使
用量は、上記のマグネシウム化合物の使用量に対してモ
ル比で1×10-3〜10の範囲内がよく、好ましくは
0.01〜5の範囲内である。
用量は、上記のマグネシウム化合物の使用量に対してモ
ル比で1×10-3〜10の範囲内がよく、好ましくは
0.01〜5の範囲内である。
【0045】成分(A2 )のジビニルシラン化合物の使
用量は、成分(A)を構成するチタン成分に対するモル
比で0.001〜1000の範囲内でよく、さらに好ま
しくは0.01〜100の範囲内である。
用量は、成分(A)を構成するチタン成分に対するモル
比で0.001〜1000の範囲内でよく、さらに好ま
しくは0.01〜100の範囲内である。
【0046】成分(A)は、成分(A1 )と成分
(A2 )の接触により、必要により電子供与体等の他成
分を用いて、たとえば以下のような製造法により製造さ
れる。 (イ) ハロゲン化マグネシウムと必要に応じて電子供
与体とチタン含有化合物とケイ素化合物とを接触させ、
さらにジビニルシラン化合物を接触させる方法。 (ロ) アルミナまたはマグネシアをハロゲン化リン化
合物で処理し、それにハロゲン化マグネシウム、電子供
与体、ケイ素化合物、およびチタンハロゲン含有化合物
を接触させた成分にジビニルシラン化合物を接触させる
方法。 (ハ) ハロゲン化マグネシウムとチタンテトラアルコ
キシドおよび特定のポリマーケイ素化合物を接触させて
得られる固体成分に、チタンハロゲン化合物および(ま
たは)ケイ素のハロゲン化合物を接触させた反応生成物
を不活性有機溶媒で洗浄後、ケイ素化合物とジビニルシ
ラン化合物を接触させるか又は、ケイ素化合物を接触さ
せた成分に更にジビニルシラン化合物を接触させる方
法。 このポリマーケイ素化合物としては、下式で示されるも
のが適当である。
(A2 )の接触により、必要により電子供与体等の他成
分を用いて、たとえば以下のような製造法により製造さ
れる。 (イ) ハロゲン化マグネシウムと必要に応じて電子供
与体とチタン含有化合物とケイ素化合物とを接触させ、
さらにジビニルシラン化合物を接触させる方法。 (ロ) アルミナまたはマグネシアをハロゲン化リン化
合物で処理し、それにハロゲン化マグネシウム、電子供
与体、ケイ素化合物、およびチタンハロゲン含有化合物
を接触させた成分にジビニルシラン化合物を接触させる
方法。 (ハ) ハロゲン化マグネシウムとチタンテトラアルコ
キシドおよび特定のポリマーケイ素化合物を接触させて
得られる固体成分に、チタンハロゲン化合物および(ま
たは)ケイ素のハロゲン化合物を接触させた反応生成物
を不活性有機溶媒で洗浄後、ケイ素化合物とジビニルシ
ラン化合物を接触させるか又は、ケイ素化合物を接触さ
せた成分に更にジビニルシラン化合物を接触させる方
法。 このポリマーケイ素化合物としては、下式で示されるも
のが適当である。
【0047】
【化3】 (ここで、R6は炭素数1〜10程度の炭化水素残基、
qはこのポリマーケイ素化合物の粘度が1〜100セン
チストークス程度となるような重合度を示す)具体的に
は、メチルハイドロジェンポリシロキサン、エチルハイ
ドロジェンポリシロキサン、フェニルハイドロジェンポ
リシロキサン、シクロヘキシルハイドロジェンポリシロ
キサン、1,3,5,7‐テトラメチルシクロテトラシ
ロキサン、1,3,5,7,9‐ペンタメチルシクロペ
ンタシロキサン等が好ましい。
qはこのポリマーケイ素化合物の粘度が1〜100セン
チストークス程度となるような重合度を示す)具体的に
は、メチルハイドロジェンポリシロキサン、エチルハイ
ドロジェンポリシロキサン、フェニルハイドロジェンポ
リシロキサン、シクロヘキシルハイドロジェンポリシロ
キサン、1,3,5,7‐テトラメチルシクロテトラシ
ロキサン、1,3,5,7,9‐ペンタメチルシクロペ
ンタシロキサン等が好ましい。
【0048】(ニ) マグネシウム化合物をチタンテト
ラアルコキシドおよび電子供与体で溶解させて、ハロゲ
ン化剤またはチタンハロゲン化合物で析出させた固体成
分に、ケイ素化合物およびチタン化合物を接触させた成
分を不活性有機溶媒で洗浄後ジビニルベンゼンを接触さ
せる方法。 (ホ) グリニャール試薬等の有機マグネシウム化合物
をハロゲン化剤、還元剤等と作用させた後、これに必要
に応じて電子供与体を接触させ、次いでケイ素化合物、
さらにチタン化合物を接触させた成分にジビニルシラン
化合物を接触させ得る方法。 (ヘ) アルコキシマグネシウム化合物にハロゲン化剤
および(または)チタン化合物およびケイ素化合物を電
子供与体の存在もしくは不存在下に接触させた成分にジ
ビニルシラン化合物を接触させる方法。
ラアルコキシドおよび電子供与体で溶解させて、ハロゲ
ン化剤またはチタンハロゲン化合物で析出させた固体成
分に、ケイ素化合物およびチタン化合物を接触させた成
分を不活性有機溶媒で洗浄後ジビニルベンゼンを接触さ
せる方法。 (ホ) グリニャール試薬等の有機マグネシウム化合物
をハロゲン化剤、還元剤等と作用させた後、これに必要
に応じて電子供与体を接触させ、次いでケイ素化合物、
さらにチタン化合物を接触させた成分にジビニルシラン
化合物を接触させ得る方法。 (ヘ) アルコキシマグネシウム化合物にハロゲン化剤
および(または)チタン化合物およびケイ素化合物を電
子供与体の存在もしくは不存在下に接触させた成分にジ
ビニルシラン化合物を接触させる方法。
【0049】これらの製造法の中でも(イ)、(ハ)お
よび(ニ)が好ましい。成分(A)は、その製造の中間
および(または)最後に不活性有機溶媒、たとえば脂肪
族または芳香族炭化水素溶媒(例えば、ヘキサン、ヘプ
タン、トルエン、シクロヘキサン等)、あるいはハロゲ
ン化炭化水素溶媒(例えば、塩化n‐ブチル、1,2‐
ジクロロエチレン、四塩化炭素クロルベンゼン等)で洗
浄することができる。
よび(ニ)が好ましい。成分(A)は、その製造の中間
および(または)最後に不活性有機溶媒、たとえば脂肪
族または芳香族炭化水素溶媒(例えば、ヘキサン、ヘプ
タン、トルエン、シクロヘキサン等)、あるいはハロゲ
ン化炭化水素溶媒(例えば、塩化n‐ブチル、1,2‐
ジクロロエチレン、四塩化炭素クロルベンゼン等)で洗
浄することができる。
【0050】本発明で使用する成分(A)は、ビニル基
含有化合物、例えばα‐オレフィン、スチレン類、ジエ
ン化合物等、を接触させて重合させることからなる予備
重合工程を経たものとして使用することもできる。予備
重合を行う際に用いられるα‐オレフィンの具体例とし
ては、例えば炭素数2〜20程度のもの、具体的にはエ
チレン、プロピレン、1‐ブテン、1‐ペンテン、1‐
ヘキサン、4‐メチルペンテン‐1、1‐オクテン、1
‐デセン、1‐ウンデセン、1‐エイコセン等があり、
スチレン類の具体例としては、スチレン、α‐メチルス
チレン、アリルベンゼン、クロルスチレンがあり、ま
た、ジエン化合物の具体例としては、1,2‐ブタジエ
ン、イソプレン、1,4‐ヘキサジエン、1,5‐ヘキ
サジエン、1,3‐ペンタジエン、1,4‐ペンタジエ
ン、2,3‐ペンタジエン、2,6‐オクタジエン、c
is‐2,trans4‐ヘキサジエン、trans
2,trans4‐ヘキサジエン、1,2‐ヘプタジエ
ン、1,4‐ヘプタジエン、1,5‐ヘプタジエン、
1,6‐ヘプタジエン、2,4‐ヘプタジエン、ジシク
ロペンタジエン、1,3‐シクロヘキサジエン、1,4
‐シクロヘキサジエン、シクロペンタジエン、1,3‐
シクロヘプタジエン、1,3‐ブタジエン、4‐メチル
‐1,4‐ヘキサジエン、5‐メチル‐1,4‐ヘキサ
ジエン、1,9‐デカジエン、1,13‐テトラデカジ
エン、パラ‐ジビニルベンゼン、メタ‐ジビニルベンゼ
ン、オルソジビニルベンゼンおよびジシクロペンタジエ
ン等がある。これらの中で好ましいものは、スチレン
類、ジビニルベンゼン類および1,5‐ヘキサジエン等
である。
含有化合物、例えばα‐オレフィン、スチレン類、ジエ
ン化合物等、を接触させて重合させることからなる予備
重合工程を経たものとして使用することもできる。予備
重合を行う際に用いられるα‐オレフィンの具体例とし
ては、例えば炭素数2〜20程度のもの、具体的にはエ
チレン、プロピレン、1‐ブテン、1‐ペンテン、1‐
ヘキサン、4‐メチルペンテン‐1、1‐オクテン、1
‐デセン、1‐ウンデセン、1‐エイコセン等があり、
スチレン類の具体例としては、スチレン、α‐メチルス
チレン、アリルベンゼン、クロルスチレンがあり、ま
た、ジエン化合物の具体例としては、1,2‐ブタジエ
ン、イソプレン、1,4‐ヘキサジエン、1,5‐ヘキ
サジエン、1,3‐ペンタジエン、1,4‐ペンタジエ
ン、2,3‐ペンタジエン、2,6‐オクタジエン、c
is‐2,trans4‐ヘキサジエン、trans
2,trans4‐ヘキサジエン、1,2‐ヘプタジエ
ン、1,4‐ヘプタジエン、1,5‐ヘプタジエン、
1,6‐ヘプタジエン、2,4‐ヘプタジエン、ジシク
ロペンタジエン、1,3‐シクロヘキサジエン、1,4
‐シクロヘキサジエン、シクロペンタジエン、1,3‐
シクロヘプタジエン、1,3‐ブタジエン、4‐メチル
‐1,4‐ヘキサジエン、5‐メチル‐1,4‐ヘキサ
ジエン、1,9‐デカジエン、1,13‐テトラデカジ
エン、パラ‐ジビニルベンゼン、メタ‐ジビニルベンゼ
ン、オルソジビニルベンゼンおよびジシクロペンタジエ
ン等がある。これらの中で好ましいものは、スチレン
類、ジビニルベンゼン類および1,5‐ヘキサジエン等
である。
【0051】チタン成分と上記のビニル基含有化合物の
反応条件は、本発明の効果が認められるかぎり任意のも
のでありうるが、一般的には次の範囲内が好ましい。
反応条件は、本発明の効果が認められるかぎり任意のも
のでありうるが、一般的には次の範囲内が好ましい。
【0052】ビニル化合物の予備重合量は、チタン固体
成分1グラムあたり、0.01〜100グラム、好まし
くは0.1〜50グラム、さらに好ましくは0.5〜1
0グラム、の範囲内である。予備重合時の反応温度は−
50℃〜150℃、好ましくは0℃〜100℃、であ
る。そして、「本重合」、すなわちオレフィンの重合、
のときの重合温度よりも低い重合温度が好ましい。反応
は、一般的に攪拌下に行なうことが好ましく、そのと
き、n‐ヘキサン、n‐ヘプタン等の不活性溶媒を存在
させることもできる。 <<触媒の使用/重合>>本発明によるオレフィンの重
合法は、実質的に溶媒の不存在下にオレフィンを重合さ
せる方法である。採用される重合方法は、連続重合、回
分式重合、多段重合等いかなる方法でもよい。
成分1グラムあたり、0.01〜100グラム、好まし
くは0.1〜50グラム、さらに好ましくは0.5〜1
0グラム、の範囲内である。予備重合時の反応温度は−
50℃〜150℃、好ましくは0℃〜100℃、であ
る。そして、「本重合」、すなわちオレフィンの重合、
のときの重合温度よりも低い重合温度が好ましい。反応
は、一般的に攪拌下に行なうことが好ましく、そのと
き、n‐ヘキサン、n‐ヘプタン等の不活性溶媒を存在
させることもできる。 <<触媒の使用/重合>>本発明によるオレフィンの重
合法は、実質的に溶媒の不存在下にオレフィンを重合さ
せる方法である。採用される重合方法は、連続重合、回
分式重合、多段重合等いかなる方法でもよい。
【0053】本発明において「実質的に溶媒の不存在下
にオレフィンを重合させる」とは、オレフィン重合の実
質的部分を実質的に溶状溶剤の不存在下、すなわち気相
中で、すなわち反応物質が気相(蒸気状態)に保たれた
状態で、行なうことを意味するものである。したがっ
て、本発明は、この点に関して所謂スラリー重合、溶液
重合ならびに液相バルク重合と区別される。
にオレフィンを重合させる」とは、オレフィン重合の実
質的部分を実質的に溶状溶剤の不存在下、すなわち気相
中で、すなわち反応物質が気相(蒸気状態)に保たれた
状態で、行なうことを意味するものである。したがっ
て、本発明は、この点に関して所謂スラリー重合、溶液
重合ならびに液相バルク重合と区別される。
【0054】重合温度は、室温から120℃程度、好ま
しくは50℃〜100℃程度、である。重合圧力は、常
圧から50kg/cm2 程度である。
しくは50℃〜100℃程度、である。重合圧力は、常
圧から50kg/cm2 程度である。
【0055】なお、本発明では、前記の「実質的に溶媒
の不存在下」という条件が維持されるのであれば、液状
の易揮発性炭化水素、たとえばプロパン、ブタン、イソ
ペンタン等を重合熱を除去するために重合帯域に供給し
そこでこれらを気化させることもできる。
の不存在下」という条件が維持されるのであれば、液状
の易揮発性炭化水素、たとえばプロパン、ブタン、イソ
ペンタン等を重合熱を除去するために重合帯域に供給し
そこでこれらを気化させることもできる。
【0056】本発明の触媒系で重合するオレフィンは、
一般式R−CH=CH2(ここで、Rは水素原子または
炭素数1〜10の炭化水素残基であり、分枝基を有して
もよい)で表わされるものである。具体的には、エチレ
ン、プロピレン、ブテン‐1、ペンテン‐1、ヘキセン
‐1、4‐メチルペンテン‐1などのα‐オレフィン類
がある。好ましいのはエチレンおよびプロピレンであ
り、特に好ましいのはプロピレンである。これらのα‐
オレフィンの単独重合のほかに、共重合、たとえばエチ
レンとその50重量%まで、好ましくは20重量%ま
で、の上記オレフィンとの共重合を行なうことができ、
プロピレンに対して30重量%までの上記オレフィン、
特にエチレン、との共重合を行なうことができる。その
他の共重合性モノマー(たとえば酢酸ビニル、ジオレフ
ィン等)との共重合を行なうこともできる。
一般式R−CH=CH2(ここで、Rは水素原子または
炭素数1〜10の炭化水素残基であり、分枝基を有して
もよい)で表わされるものである。具体的には、エチレ
ン、プロピレン、ブテン‐1、ペンテン‐1、ヘキセン
‐1、4‐メチルペンテン‐1などのα‐オレフィン類
がある。好ましいのはエチレンおよびプロピレンであ
り、特に好ましいのはプロピレンである。これらのα‐
オレフィンの単独重合のほかに、共重合、たとえばエチ
レンとその50重量%まで、好ましくは20重量%ま
で、の上記オレフィンとの共重合を行なうことができ、
プロピレンに対して30重量%までの上記オレフィン、
特にエチレン、との共重合を行なうことができる。その
他の共重合性モノマー(たとえば酢酸ビニル、ジオレフ
ィン等)との共重合を行なうこともできる。
【0057】
実施例−1 〔成分(A)の製造〕充分に窒素置換したフラスコに、
脱水および脱酸素したn‐ヘプタン200ミリリットル
を導入し、次いでMgCl2を0.4モル、Ti(O−
nC4H9)4を0.8モル導入し、95℃で2時間反
応させた。反応終了後、40℃に温度を下げ、次いでメ
チルヒドロポリシロキサン(20センチストークスのも
の)を48ミリリットル導入し、3時間反応させた。生
成した固体成分をn‐ヘプタンで洗浄した。
脱水および脱酸素したn‐ヘプタン200ミリリットル
を導入し、次いでMgCl2を0.4モル、Ti(O−
nC4H9)4を0.8モル導入し、95℃で2時間反
応させた。反応終了後、40℃に温度を下げ、次いでメ
チルヒドロポリシロキサン(20センチストークスのも
の)を48ミリリットル導入し、3時間反応させた。生
成した固体成分をn‐ヘプタンで洗浄した。
【0058】ついで充分に窒素置換したフラスコに、上
記と同様に精製したn‐ヘプタンを50ミリリットル導
入し、上記で合成した固体成分をMg原子換算で0.2
4モル導入した。ついでn‐ヘプタン25ミリリットル
にSiCl4 0.4モルを混合して30℃、30分間
でフラスコへ導入し、70℃で3時間反応させた。反応
終了後、n‐ヘプタンで洗浄した。次いでn‐ヘプタン
25ミリリットルにフタル酸クロライド0.024モル
を混合して、70℃、30分間でフラスコへ導入し、9
0℃で1時間反応させた。
記と同様に精製したn‐ヘプタンを50ミリリットル導
入し、上記で合成した固体成分をMg原子換算で0.2
4モル導入した。ついでn‐ヘプタン25ミリリットル
にSiCl4 0.4モルを混合して30℃、30分間
でフラスコへ導入し、70℃で3時間反応させた。反応
終了後、n‐ヘプタンで洗浄した。次いでn‐ヘプタン
25ミリリットルにフタル酸クロライド0.024モル
を混合して、70℃、30分間でフラスコへ導入し、9
0℃で1時間反応させた。
【0059】反応終了後、n‐ヘプタンで洗浄した。次
いでSiCl4 10ミリリットルを導入して80℃で
6時間反応させた。反応終了後、n‐ヘプタンで充分に
洗浄して成分(A)を製造するための固体成分とした。
このもののチタン含量は、1.24重量%であった。
いでSiCl4 10ミリリットルを導入して80℃で
6時間反応させた。反応終了後、n‐ヘプタンで充分に
洗浄して成分(A)を製造するための固体成分とした。
このもののチタン含量は、1.24重量%であった。
【0060】充分に窒素置換したフラスコに充分に、精
製したn‐ヘプタンを50ミリリットル導入し、次いで
上記で得た固体成分を5グラム導入し、(t−C
4H9)(C2H5)Si(OCH3)2を1.2ミリ
リットル、Al(C2H5)3 1.7グラムおよびジ
ビニルベンゼン15gを30℃で2時間接触させた。接
触終了後、n‐ヘプタンで充分に洗浄して成分(A1 )
とした。次いでこの成分(A1 )に成分(A2 )として
ジビニルジメチルシランを1.0ml導入し、30℃で2
時間接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで充分に洗
浄し、成分(A)とした。一部をとり出して組成分析し
たところ、チタン含量1.16重量%、(t−C
4H9)(C2H5)Si(OCH3)2含量10.8
重量%であった。 〔プロピレンの気相重合〕特開昭57−73011号公
報記載の実施例−1に開示されている気相重合用装置を
使用し、装置内に充分に精製したポリプロピレン粉末を
装入し、続いて、成分(B)としてトリエチルアルミニ
ウム50ミリグラムおよび上記で製造した成分(A)を
50ミリグラムそれそれぞれ導入した。次いで水素ガス
を1500ミリリットル導入し、75℃でプロピレンの
導入を開始し、全圧7kg/cm2 、75℃で3時間重合を
行った。
製したn‐ヘプタンを50ミリリットル導入し、次いで
上記で得た固体成分を5グラム導入し、(t−C
4H9)(C2H5)Si(OCH3)2を1.2ミリ
リットル、Al(C2H5)3 1.7グラムおよびジ
ビニルベンゼン15gを30℃で2時間接触させた。接
触終了後、n‐ヘプタンで充分に洗浄して成分(A1 )
とした。次いでこの成分(A1 )に成分(A2 )として
ジビニルジメチルシランを1.0ml導入し、30℃で2
時間接触させた。接触終了後、n−ヘプタンで充分に洗
浄し、成分(A)とした。一部をとり出して組成分析し
たところ、チタン含量1.16重量%、(t−C
4H9)(C2H5)Si(OCH3)2含量10.8
重量%であった。 〔プロピレンの気相重合〕特開昭57−73011号公
報記載の実施例−1に開示されている気相重合用装置を
使用し、装置内に充分に精製したポリプロピレン粉末を
装入し、続いて、成分(B)としてトリエチルアルミニ
ウム50ミリグラムおよび上記で製造した成分(A)を
50ミリグラムそれそれぞれ導入した。次いで水素ガス
を1500ミリリットル導入し、75℃でプロピレンの
導入を開始し、全圧7kg/cm2 、75℃で3時間重合を
行った。
【0061】その結果、329グラムのポリマーが得ら
れ、MFR=116g/10分、沸騰ヘプタン抽出試験
によりI.I=98.4wt%であり、ポリマー嵩比重
=0.41(g/cc)であることがわかった。 実施例−2 〔成分(A)の製造〕充分に窒素置換した内容積0.4
リットルのボールミルに、内径1.6mmのスチール製ボ
ールを23個導入し、無水MgCl2を20グラム、
(t−C4H9)(nC3H7)Si(OCH3)2を
3.8ミリリットルおよびTiCl4を1.5ミリリッ
トルをそれぞれ導入し、20℃の雰囲気で、48時間粉
砕した。粉砕終了後、粉砕物をミルより取り出し、成分
(A)のための固体成分(A1 )とした。
れ、MFR=116g/10分、沸騰ヘプタン抽出試験
によりI.I=98.4wt%であり、ポリマー嵩比重
=0.41(g/cc)であることがわかった。 実施例−2 〔成分(A)の製造〕充分に窒素置換した内容積0.4
リットルのボールミルに、内径1.6mmのスチール製ボ
ールを23個導入し、無水MgCl2を20グラム、
(t−C4H9)(nC3H7)Si(OCH3)2を
3.8ミリリットルおよびTiCl4を1.5ミリリッ
トルをそれぞれ導入し、20℃の雰囲気で、48時間粉
砕した。粉砕終了後、粉砕物をミルより取り出し、成分
(A)のための固体成分(A1 )とした。
【0062】次いで、充分に精製した窒素で置換した5
00ミリリットルのフラスコに、充分に精製したn‐ヘ
プタンを100ミリリットル、上記の固体成分を5グラ
ムおよびジビニルジエチルシランを0.8ミリリットル
導入し、50℃で2時間接触させた。接触終了後、n‐
ヘプタンで充分に洗浄して成分(A)とした。組成分析
したところ、チタン含量=2.0wt%、(t−C4H
9)(nC3H7)Si(OCH3)2含量=9.7w
t%であった。 〔プロピレンの重合〕実施例−1の重合条件において、
成分(A)の使用量を40ミリグラムとし、成分(B)
としてトリイソブチルアルミニウムを50ミリグラム使
用して、重合温度を70℃とし、水素ガスの導入量を1
500ミリリットルにした以外は、全く同様にプロピレ
ンの重合をした。その結果、216グラムのポリマーが
得られ、MFR=94g/10分、I.I=96.4w
t%、ポリマー嵩比重=0.40(g/cc)であった。 比較例−1 実施例−1の成分(A)の製造において、成分(A2 )
のジビニルジメチルシランを使用しなかった以外は全く
同様に行ない、重合も全く同様に行なった。その結果、
203グラムのポリマーが得られ、MFR=115g/
10分、I.I=95.6wt%、ポリマー嵩比重=
0.41(g/cc)であった。 実施例−3 〔成分(A)の製造〕充分に精製した窒素で置換した5
00ミリリットルのフラスコに、Mg(OC2H5)2
を20グラム、精製したトルエンを100ミリリット
ル、次いでTiCl4 60ミリリットルを導入し、7
0℃に昇温し、酢酸セルソルブを8.6ミリリッル導入
し、100℃に昇温し、3時間反応させた。反応終了
後、n‐ヘプタンで充分に洗浄した。その後、さらにT
iCl4 100ミリリットルを導入し、110℃で3
時間反応させた。反応終了後、n‐ヘプタンで充分に洗
浄して、成分(A)を製造するための固体成分とした。
00ミリリットルのフラスコに、充分に精製したn‐ヘ
プタンを100ミリリットル、上記の固体成分を5グラ
ムおよびジビニルジエチルシランを0.8ミリリットル
導入し、50℃で2時間接触させた。接触終了後、n‐
ヘプタンで充分に洗浄して成分(A)とした。組成分析
したところ、チタン含量=2.0wt%、(t−C4H
9)(nC3H7)Si(OCH3)2含量=9.7w
t%であった。 〔プロピレンの重合〕実施例−1の重合条件において、
成分(A)の使用量を40ミリグラムとし、成分(B)
としてトリイソブチルアルミニウムを50ミリグラム使
用して、重合温度を70℃とし、水素ガスの導入量を1
500ミリリットルにした以外は、全く同様にプロピレ
ンの重合をした。その結果、216グラムのポリマーが
得られ、MFR=94g/10分、I.I=96.4w
t%、ポリマー嵩比重=0.40(g/cc)であった。 比較例−1 実施例−1の成分(A)の製造において、成分(A2 )
のジビニルジメチルシランを使用しなかった以外は全く
同様に行ない、重合も全く同様に行なった。その結果、
203グラムのポリマーが得られ、MFR=115g/
10分、I.I=95.6wt%、ポリマー嵩比重=
0.41(g/cc)であった。 実施例−3 〔成分(A)の製造〕充分に精製した窒素で置換した5
00ミリリットルのフラスコに、Mg(OC2H5)2
を20グラム、精製したトルエンを100ミリリット
ル、次いでTiCl4 60ミリリットルを導入し、7
0℃に昇温し、酢酸セルソルブを8.6ミリリッル導入
し、100℃に昇温し、3時間反応させた。反応終了
後、n‐ヘプタンで充分に洗浄した。その後、さらにT
iCl4 100ミリリットルを導入し、110℃で3
時間反応させた。反応終了後、n‐ヘプタンで充分に洗
浄して、成分(A)を製造するための固体成分とした。
【0063】実施例−1の成分(A)の合成と同様に、
充分に精製したフラスコにn‐ヘプタンを50ミリリッ
トル、次いで上記で得た固体成分を5グラム導入し、次
いでケイ素化合物として(t−C4H9)(C2H5)
Si(OCH3)2を2.2ミリリットル導入し、さら
に成分(A2 )としてジビニルジメチルシランを1.6
ミリリットル導入し、20℃で2時間接触させた。接触
終了後、n‐ヘプタンで充分に洗浄して成分(A)とし
た。チタン含量=2.4wt%、(t−C4H9)(C
2H5)Si(OCH3)2含量=10.4wt%であ
った。 〔プロピレンの重合〕実施例−1の重合条件で、成分
(B)としてトリヘキシルアルミニウム50ミリグラ
ム、水素ガスを1000ミリリットル、重合温度を70
℃、全圧を12kg/cm2 に変更した以外は、全く同様に
重合を行なった。その結果、213.6グラムのポリマ
ーが得られ、MFR=36(g/10分)、I.I=9
7.3wt%、ポリマー嵩比重=0.40(g/cc)で
あった。 実施例−4〜6 〔成分(A)の製造〕実施例−1の成分(A)の製造に
おいて、成分(A2 )のジビニルシラン化合物を表1に
変更した以外は、全く同様に製造を行なった。 〔プロピレンの重合〕実施例−1と全く同様の条件で重
合操作を行なった。その結果を表1に示す。 比較例−2 実施例−1の成分(A)の製造において、成分(A2 )
のジビニルジエチルシランのかわりにビニルトリメチル
シランを使用した以外は、全く同様に行ない、重合も全
く同様に行なった。231グラムのポリマーが得られ、
MFR=113g/10分、I.I=96.0wt%、ポ
リマー嵩比重=0.43(g/cc)であった。
充分に精製したフラスコにn‐ヘプタンを50ミリリッ
トル、次いで上記で得た固体成分を5グラム導入し、次
いでケイ素化合物として(t−C4H9)(C2H5)
Si(OCH3)2を2.2ミリリットル導入し、さら
に成分(A2 )としてジビニルジメチルシランを1.6
ミリリットル導入し、20℃で2時間接触させた。接触
終了後、n‐ヘプタンで充分に洗浄して成分(A)とし
た。チタン含量=2.4wt%、(t−C4H9)(C
2H5)Si(OCH3)2含量=10.4wt%であ
った。 〔プロピレンの重合〕実施例−1の重合条件で、成分
(B)としてトリヘキシルアルミニウム50ミリグラ
ム、水素ガスを1000ミリリットル、重合温度を70
℃、全圧を12kg/cm2 に変更した以外は、全く同様に
重合を行なった。その結果、213.6グラムのポリマ
ーが得られ、MFR=36(g/10分)、I.I=9
7.3wt%、ポリマー嵩比重=0.40(g/cc)で
あった。 実施例−4〜6 〔成分(A)の製造〕実施例−1の成分(A)の製造に
おいて、成分(A2 )のジビニルシラン化合物を表1に
変更した以外は、全く同様に製造を行なった。 〔プロピレンの重合〕実施例−1と全く同様の条件で重
合操作を行なった。その結果を表1に示す。 比較例−2 実施例−1の成分(A)の製造において、成分(A2 )
のジビニルジエチルシランのかわりにビニルトリメチル
シランを使用した以外は、全く同様に行ない、重合も全
く同様に行なった。231グラムのポリマーが得られ、
MFR=113g/10分、I.I=96.0wt%、ポ
リマー嵩比重=0.43(g/cc)であった。
【0064】
【表1】
【0065】
【発明の効果】本発明によれば、高活性で、しかも比較
的重合体の分子量が小さいときでも立体規則性の高い重
合体を得ることができることは、「発明の概要」の項に
おいて前記したところである。
的重合体の分子量が小さいときでも立体規則性の高い重
合体を得ることができることは、「発明の概要」の項に
おいて前記したところである。
【図1】チーグラー触媒に関する本発明の技術内容の理
解を助けるためのものである。
解を助けるためのものである。
Claims (2)
- 【請求項1】下記の成分(A)および(B)からなる触
媒に、実質的に溶剤の不存在下にオレフィンを接触させ
て重合させることを特徴とする、オレフィンの重合法。 成分(A):下記の成分(A1 )および(A2 )の接触
生成物 成分(A1 ):チタン、マグネシウムおよびハロゲンを
必須成分として含有し、かつ下記の一般式で表わされる
ケイ素化合物を実質的にその形で含有してなるオレフィ
ンの立体規則性重合用固体触媒成分 一般式 R1R2 3-m Si(OR3)m (ここで、R1は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2はR1と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3は炭化水素残基を、mは1≦m≦3の
数を、それぞれ示す) 成分(A2 ):下記の一般式で表わされるジビニルシラ
ン化合物 一般式 (CH2=CH)2SiR4 2-n Xn (ここで、R4は水素または炭素数1〜20の炭化水素
残基を、Xはハロゲンを、nは0≦n<2の数を、それ
ぞれ示す) 成分(B):有機アルミニウム化合物 - 【請求項2】下記の成分(A1 )および(A2 )を接触
させ、得られた接触生成物を炭化水素溶媒またはハロゲ
ン化炭化水素溶媒で洗浄することを特徴とする、チーグ
ラー型触媒用固体触媒成分の製造法。 成分(A1 ):チタン、マグネシウムおよびハロゲンを
必須成分として含有し、かつ下記の一般式で表わされる
ケイ素化合物を実質的にその形で含有してなるオレフィ
ンの立体規則性重合用固体触媒成分 一般式 R1R2 3-m Si(OR3)m (ここで、R1は分岐脂肪族炭化水素残基または脂環式
炭化水素残基を、R2はR1と同一もしくは異なる炭化
水素残基を、R3は炭化水素残基を、mは1≦m≦3の
数を、それぞれ示す) 成分(A2 ):下記の一般式で表わされるジビニルシラ
ン化合物 一般式 (CH2=CH)2SiR4 2-n Xn (ここで、R4は水素または炭素数1〜20の炭化水素
残基を、Xはハロゲンを、nは0≦n<2の数を、それ
ぞれ示す)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14352693A JPH072923A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | オレフィンの重合法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14352693A JPH072923A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | オレフィンの重合法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH072923A true JPH072923A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=15340795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14352693A Pending JPH072923A (ja) | 1993-06-15 | 1993-06-15 | オレフィンの重合法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH072923A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001098375A1 (en) * | 2000-06-17 | 2001-12-27 | Samsung General Chemicals Co., Ltd. | A catalyst for olefin polymerization and method of olefin polymerization using the same |
| KR100431637B1 (ko) * | 2000-12-22 | 2004-05-17 | 삼성아토피나주식회사 | 올레핀 중합방법 및 고용융장력의 수지조성물 |
| KR100620358B1 (ko) * | 2001-09-20 | 2006-09-05 | 삼성토탈 주식회사 | 강성, 내충격성, 내열성이 우수한 올레핀의 중합방법 |
| WO2007026903A1 (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-08 | Toho Catalyst Co., Ltd. | オレフィン類重合用固体触媒成分および触媒並びにこれを用いたオレフィン類重合体の製造方法 |
| JP2008163151A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用触媒、及びα−オレフィン重合体の製造方法 |
| JP2008308558A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用固体触媒成分及びその製造方法、α−オレフィン重合用触媒、α−オレフィン重合体の製造方法 |
| JP2014084388A (ja) * | 2012-10-23 | 2014-05-12 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用触媒成分、α−オレフィン重合用触媒成分の製造方法、α−オレフィン重合用触媒及びα−オレフィン重合体の製造方法 |
| WO2017104817A1 (ja) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 日本ポリプロ株式会社 | α-オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、及びそれを用いたα-オレフィン重合体の製造方法 |
-
1993
- 1993-06-15 JP JP14352693A patent/JPH072923A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001098375A1 (en) * | 2000-06-17 | 2001-12-27 | Samsung General Chemicals Co., Ltd. | A catalyst for olefin polymerization and method of olefin polymerization using the same |
| KR100431637B1 (ko) * | 2000-12-22 | 2004-05-17 | 삼성아토피나주식회사 | 올레핀 중합방법 및 고용융장력의 수지조성물 |
| KR100620358B1 (ko) * | 2001-09-20 | 2006-09-05 | 삼성토탈 주식회사 | 강성, 내충격성, 내열성이 우수한 올레핀의 중합방법 |
| WO2007026903A1 (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-08 | Toho Catalyst Co., Ltd. | オレフィン類重合用固体触媒成分および触媒並びにこれを用いたオレフィン類重合体の製造方法 |
| JPWO2007026903A1 (ja) * | 2005-08-31 | 2009-03-12 | 東邦チタニウム株式会社 | オレフィン類重合用固体触媒成分および触媒並びにこれを用いたオレフィン類重合体の製造方法 |
| JP2008163151A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用触媒、及びα−オレフィン重合体の製造方法 |
| JP2008308558A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用固体触媒成分及びその製造方法、α−オレフィン重合用触媒、α−オレフィン重合体の製造方法 |
| JP2014084388A (ja) * | 2012-10-23 | 2014-05-12 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用触媒成分、α−オレフィン重合用触媒成分の製造方法、α−オレフィン重合用触媒及びα−オレフィン重合体の製造方法 |
| WO2017104817A1 (ja) | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 日本ポリプロ株式会社 | α-オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、及びそれを用いたα-オレフィン重合体の製造方法 |
| US10526427B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-01-07 | Japan Polypropylene Corporation | Method for producing solid catalyst component for α-olefin polymerization and method for producing α-olefin polymer using the same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0735410B2 (ja) | オレフィンの立体規則性重合用触媒 | |
| JP4195724B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒及びそれを用いるα−オレフィン重合体の製造方法 | |
| JPH072923A (ja) | オレフィンの重合法 | |
| JP3357191B2 (ja) | オレフィン重合体の製造法 | |
| JP2823662B2 (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JPH08157519A (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JPH06172432A (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JP2007204613A (ja) | α−オレフィン重合用触媒およびα−オレフィン重合体の製造法 | |
| JP3095800B2 (ja) | オレフィン重合体の製造 | |
| JP3115345B2 (ja) | オレフィン重合体の製造法 | |
| JP3370188B2 (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JPH08100019A (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JP2002265518A (ja) | α−オレフィン重合用触媒及びそれを用いたα−オレフィンの重合方法 | |
| JPH08157520A (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JP2765975B2 (ja) | プロピレンブロック共重合体の製造法 | |
| JP4157652B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒および重合方法 | |
| JP2656573B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒成分 | |
| JP4287971B2 (ja) | プロピレン重合用触媒およびプロピレン系重合体の製造方法 | |
| JP4427102B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒及びそれを用いるα−オレフィン重合体の製造方法 | |
| JP4384790B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒およびα−オレフィンの重合方法 | |
| JP3279628B2 (ja) | オレフィン重合用触媒 | |
| JP4388675B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒およびα−オレフィンの重合方法 | |
| JP2830286B2 (ja) | プロピレンブロック共重合体の製造法 | |
| JPH0593013A (ja) | オレフイン重合用触媒 | |
| JP4484326B2 (ja) | α−オレフィン重合用触媒およびα−オレフィンの重合方法 |