JPH07304626A - 保湿性の改良された化粧料 - Google Patents

保湿性の改良された化粧料

Info

Publication number
JPH07304626A
JPH07304626A JP9953094A JP9953094A JPH07304626A JP H07304626 A JPH07304626 A JP H07304626A JP 9953094 A JP9953094 A JP 9953094A JP 9953094 A JP9953094 A JP 9953094A JP H07304626 A JPH07304626 A JP H07304626A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chitosan
chitin
water
soluble
component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9953094A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuya Nagashima
徹哉 長島
Tsuneo Okuma
恒雄 大熊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kawaken Fine Chemicals Co Ltd
Hokkaido Soda Co Ltd
Original Assignee
Kawaken Fine Chemicals Co Ltd
Hokkaido Soda Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kawaken Fine Chemicals Co Ltd, Hokkaido Soda Co Ltd filed Critical Kawaken Fine Chemicals Co Ltd
Priority to JP9953094A priority Critical patent/JPH07304626A/ja
Publication of JPH07304626A publication Critical patent/JPH07304626A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
  • Cosmetics (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 保湿性の優れた化粧料を提供する。 【構成】 下記の成分（Ａ）および成分（Ｂ）を、重量
比で９．５：０．５〜０．５：９．５の配合割合で含有
することを特徴とする保湿性の改良された化粧料。 （Ａ）一般式（１） 【化１】 （ただし、式中Ｍは水素またはアルカリ金属を表し、ｎ
は１０〜５０００の整数を表す）で示されるＮ−（３−
カルボキシプロパノイル）−６−Ｏ−（カルボキシメチ
ル）キトサン （Ｂ）キチンまたはキトサンに親水基を導入して水溶性
とした水溶性キチン誘導体または水溶性キトサン誘導体
（但し、一般式（１）のキトサン誘導体を除く）

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、キトサンの誘導体であ
るＮ−（３−カルボキシプロパノイル）−６−Ｏ−（カ
ルボキシメチル）キトサン（以下ＣＰＣＭキトサンと略
記）と他の特定の水溶性キチン誘導体または水溶性キト
サン誘導体を必須成分とする保湿力の優れた化粧料に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、化粧料においては、優れた保湿効
果を有するものが望まれており、その効果を有する物質
として、酸性ムコ多糖類であるヒアルロン酸、コンドロ
イチン硫酸、カルボキシメチルキチン等が利用されてき
ている。一方、安価でヒアルロン酸と同等の保湿力を有
する物質としてＣＰＣＭキトサンが提案されている（特
開平２−１０５８０１号）。
【０００３】しかし、これらの物質は、ほどほどの保湿
力は有するものの、乾燥下で使用する化粧水や乳液など
に用いる保湿剤としては、保湿力が充分でなく、高保湿
力の保湿剤の開発が当業者間では望まれていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
従来の化粧料の保湿力を改善し、保湿力の優れた化粧料
を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者等は、
上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、ＣＰＣＭキトサ
ンと他の特定の水溶性キチン誘導体または水溶性キトサ
ン誘導体を、ある比率で併用することにより、保湿力が
相乗的に高まることを見いだし、この知見に基づいて本
発明を完成するに至った。
【０００６】すなわち本発明は、下記の成分（Ａ）およ
び成分（Ｂ）を、重量比で９．５：０．５〜０．５：
９．５の配合割合で含有することを特徴とする保湿性の
改良された化粧料に関するものである。
【０００７】（Ａ）一般式（１）
【０００８】
【化１】
【０００９】（ただし、式中Ｍは水素またはアルカリ金
属を表し、ｎは１０〜５０００の整数を表す）で示され
るＮ−（３−カルボキシプロパノイル）−６−Ｏ−（カ
ルボキシメチル）キトサン （Ｂ）キチンまたはキトサンに親水基を導入して水溶性
とした水溶性キチン誘導体または水溶性キトサン誘導体
（但し、一般式（１）のキトサン誘導体を除く）本発明
化粧料の必須成分の一つである成分（Ａ）のＣＰＣＭキ
トサンは、キトサンを構成するグルコサミン骨格の６位
のヒドロキシ基をカルボキシメチル化し、３位のアミノ
基をカルボキシプロパノイル化して水溶性を付与したも
のである。
【００１０】このＣＰＣＭキトサンの製造方法としては
特開平２−１０５８０１号公報に記載にされているよう
に、６−Ｏ−（カルボキシメチル）キトサンに無水コハ
ク酸を反応させることにより容易に得ることができる。
【００１１】本発明化粧料の他の必須成分である成分
（Ｂ）の水溶性キチン誘導体および水溶性キトサン誘導
体は、キチンまたはキトサンに親水基を導入して水溶性
とした誘導体であり、次のものが挙げられる。
【００１２】ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピ
レンキチンまたはポリオキシエチレン・ポリオキシプロ
ピレンキトサン
【００１３】
【化９】
【００１４】（式中、ｎは１０〜５０００の整数、
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、 Ｒ1：−Ｈ，−ＣＯＣＨ3または−（ＥＯ）i−（ＰＯ）m
Ｈ 但し、ｉ＝０〜５，ｍ＝０〜５，ｉ＋ｍ≠０ Ｒ2：−Ｈ，または−（ＥＯ）j−（ＰＯ）pＨ 但し、ｊ＝０〜５，ｐ＝０〜５，ｊ＋ｐ≠０ Ｒ3：−Ｈ，または−（ＥＯ）k−（ＰＯ）qＨ 但し、ｋ＝０〜５、ｑ＝０〜５，ｋ＋ｑ≠０ を表す。ここで、ＥＯはオキシエチレン基を、ＰＯはオ
キシプロピレン基を表し、また、ＥＯとＰＯとの結合順
序は問わず、たとえば、まず、Ｄ−グルコサミン骨格に
ＰＯが付加し、ついでＥＯが付加していてもよく、ＥＯ
とＰＯとがランダムに付加していてもよい。また、結合
している個々のＤ−グルコサミン骨格でＲ１，Ｒ２，Ｒ
３，ｉ ，ｊ ，ｋ，ｍ，ｐ，ｑはそれぞれ同一でも異
なっていてもよいが、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３が同時に−Ｈで
あることはない）。
【００１５】カルボキシメチルキチンまたはカルボキ
シメチルトキトサン
【００１６】
【化１０】
【００１７】（式中、ｎは１０〜５０００の整数、Ｒ4
は−Ｈまたは−ＣＯＣＨ3、Ｒ5およびＲ6は、−Ｈ，−
ＣＨ2ＣＯＯＨ，−ＣＨ2ＣＯＯＮａ，−ＣＨ2ＣＯＯＫ
または−ＣＨ2ＣＯＯＮＨ4から選ばれる置換基をを表
す。また、結合している個々のＤ−グルコサミン骨格で
Ｒ5，Ｒ6はそれぞれ同一でも異なっていてもよいが、同
時に−Ｈとなることはない）。
【００１８】リン酸化キチンまたはリン酸化キトサン
【００１９】
【化１１】
【００２０】 硫酸化キチンまたは硫酸化キトサン
【００２１】
【化１２】
【００２２】ヒドロキシプロピルキチンまたはヒドロ
キシプロピルキトサン
【００２３】
【化１３】
【００２４】Ｎ−２−ヒドロキシプロピルスルホン酸
キトサン
【００２５】
【化１４】
【００２６】成分（Ａ）のＣＰＣＭキトサンと成分
（Ｂ）の水溶性キチン誘導体または水溶性キトサン誘導
体の配合比は、重量で９．５：０．５〜０．５：９．５
であり、好ましくは９．０：１．０〜１．０：９．０で
ある。成分（Ａ）の配合比が９．５を超える場合や、
０．５未満の場合や、成分（Ｂ）の配合比が０．５未満
の場合や９．５を超える場合は、相乗効果が現れず、保
湿効果が充分ではない。
【００２７】本発明の化粧料中への成分（Ａ）のＣＰＣ
Ｍキトサンと成分（Ｂ）の水溶性キチン誘導体または水
溶性キトサン誘導体の配合量は、両成分の総和が化粧量
当り０．００１〜５重量％、好ましくは、０．００５〜
３重量％である。０．００１重量％未満では保湿効果が
不十分で、５重量％を超えて配合するとベタツキ感があ
り好ましくない。
【００２８】本発明の化粧料には、必要に応じて以下の
ような化粧料に常用される各種の界面活性剤や補助剤を
用いることができる。
【００２９】アニオン界面活性剤としては、アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、ラ
ウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸トリエタノールア
ミン、ラウリル硫酸アンモニウム等のラウリル硫酸塩、
ＰＯＥ（３）ラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ＰＯＥ
（３）ラウリルエーテル硫酸トリエタノールアミン等の
ＰＯＥラウリルエーテル硫酸塩、高級アルコールリン酸
エステル類、ココイルメチルタウリンナトリウム、ラウ
ロイルメチルタウリンナトリウム等のアシルメチルタウ
リン塩、スルホコハク酸ラウリル二ナトリウム、ＰＯＥ
（１〜４）スルホコハク酸ラウリル二ナトリウム、スル
ホコハク酸ＰＯＥ（５）ラウロイルエタノールアミド二
ナトリウム、オレイン酸アミドスルホコハク酸二ナトリ
ウム等のスルホコハク酸型界面活性剤、アルキルエーテ
ルカルボン酸塩、アシル化イセチオネート、脂肪酸アミ
ドエーテルサルフェート、モノアルキルリン酸エステル
塩、ポリオキシエチレン脂肪酸エタノールアミドリン酸
エステル塩、ヤシ油脂肪酸ナトリウム、ラウリン酸ナト
リウム、ミリスチン酸ナトリウム、牛脂脂肪酸ナトリウ
ム、ヤシ油脂肪酸トリエタノールアミン、ラウリン酸ト
リエタノールアミン、ミリスチン酸トリエタノールアミ
ン、牛脂脂肪酸トリエタノールアミン、ヤシ油脂肪酸カ
リウム、ラウリン酸カリウム、ミリスチン酸カリウム、
牛脂脂肪酸カリウム等の高級脂肪酸塩、ココイルサルコ
シンナトリウム、ラウロイルサルコシンナトリウム、ミ
リストイルサルコシンナトリウム、ラウロイルサルコシ
ンカリウム、ラウロイルサルコシントリエタノールアミ
ン等のアシルサルコシン塩、ココイルメチル−β−アラ
ニンナトリウム、ラウロイルメチル−β−アラニンナト
リウム、ミリストイルメチル−β−アラニンナトリウ
ム、パルミトイルメチル−β−アラニンナトリウム、ス
テアロイルメチル−β−アラニンナトリウム、ラウロイ
ルメチル−β−アラニンカリウム、ラウロイルメチル−
β−アラニントリエタノールアミン等のアシルメチル−
β−アラニン塩、ラウロイル−β−アラニントリエタノ
ールアミン等のアシル−β−アラニン塩、Ｎ−２−ヒド
ロキシエチル−Ｎ−２−ラウリン酸アミドエチルグリシ
ン、Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ−２−ヤシ油脂肪酸
アミドエチルグリシン、Ｎ−２−ヒドロキシエチル−Ｎ
−２−ラウリン酸アミドエチル−β−アラニン、Ｎ−２
−ヒドロキシエチル−Ｎ−２−ヤシ油脂肪酸アミドエチ
ル−β−アラニン、Ｎ−（カルボキシメチル）−Ｎ−
｛２−［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ラウリン酸アミ
ド］エチル｝グリシン、Ｎ−（カルボキシメチル）−Ｎ
−｛２−［N−(2−ヒドロキシエチル)ヤシ油脂肪酸アミ
ド］エチル｝グリシン等のアミドアミノ酸塩、ヤシ油脂
肪酸アシル加水分解シルクペプタイド、ラウロイル加水
分解シルクペプタイド、パーム核油脂肪酸アシル加水分
解シルクペプタイド、ヤシ油脂肪酸アシル加水分解コラ
ーゲンペプタイド、ラウロイル加水分解コラーゲンペプ
タイド、パーム核油脂肪酸アシル加水分解コラーゲンペ
プタイド、ヤシ油脂肪酸アシル加水分解カゼインペプタ
イド、ラウロイル加水分解カゼインペプタイド、パーム
核油脂肪酸アシル加水分解カゼインペプタイド、ヤシ油
脂肪酸アシル加水分解ケラチンペプタイド、ラウロイル
加水分解ケラチンペプタイド、パーム核油脂肪酸アシル
加水分解ケラチンペプタイド等の蛋白加水分解物のアシ
ル化物、Ｎ−ココイル−Ｌ−グルタミン酸ナトリウム、
Ｎ−ラウロイル−Ｌ−グルタミン酸ナトリウム、Ｎ−コ
コイル−Ｌ−グルタミン酸トリエタノールアミン等のア
シルグルタミン酸塩があるがこれらに限定されるもので
はない。
【００３０】また、両性界面活性剤としては、２−ヤシ
油アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエ
チルイミダゾリニウムベタイン、２−パーム核油アルキ
ル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミ
ダゾリニウムベタイン等のアルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、２−ヤシ油アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−
ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、２−パー
ム核油アルキル−Ｎ−カルボキシメエチル−Ｎ−ヒドロ
キシエチルイミダゾリニウムベタイン等のアルキル−Ｎ
−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリ
ニウムベタイン、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルベタイ
ン、ラウリン酸アミドプロピルベタイン、パーム核油脂
肪酸アミドプロピルベタイン等のアミドプロピルベタイ
ン、ラウリルベタイン等のアルキルベタイン、ラウリン
酸アミドヒドロキシスルホベタイン、ラウリン酸アミド
スルホベタイン等のスルホベタイン、塩酸アルキルジア
ミノエチルグリシンがある。
【００３１】カチオン界面活性剤としては、塩化ラウリ
ルトリメチルアンモニウム、塩化ジステアリルジメチル
シアンモニウム等がある。
【００３２】非イオン界面活性剤としては、脂肪酸ジエ
タノールアミド、脂肪酸モノエタノールアミド、ＰＯＥ
脂肪酸モノエタノールアミド、アミンオキサイド、ＰＯ
Ｅ高級アルコールエーテル、ＰＯＥアルキルフェニルエ
ーテル等がある。
【００３３】また、補助剤としては、グリセリン、プロ
ピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、ソル
ビトール等の多価アルコール類、セチルアルコール、ミ
リスチン酸等の高級アルコール、高級脂肪酸類、ヒアル
ロン酸、カルボキシメチルキチン、エラスチン、コンド
ロイチン硫酸、デルマタン酸、フィブロネクチン、セラ
ミド類、コラーゲン等の水溶性高分子物質、アロエエキ
ス、ムチン、胎盤抽出エキス等の細胞賦括剤、オウゴン
エキス、茶エキス、乳精エキス等の過酸化脂質生成抑制
剤、アラントイン、グリチルリチン酸塩等の消炎剤、エ
デト酸塩、クエン酸、リンゴ酸、グルコン酸等のキレー
ト剤、安息香酸塩、サリチル酸塩、ソルビン酸塩、デヒ
ドロ酢酸塩、パラオキシ安息香酸塩、２，４，４’−ト
リクロロ−２’−ヒドロキシジフェニルエーテル、３，
４，４’−トリクロロカルバニト、塩化ベンザルコニウ
ム、ヒノキチオール、レゾルシン等の防腐剤、殺菌剤、
ジンクピリチオン、ピロクトンオラミン等の抗フケ剤、
ジブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソ
ール、没食子酸プロピル、アスコルビン酸等の酸化防止
剤、オキシベンゾン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メ
トキシベンゾイルメタン、２−エチルヘキシルパラジメ
チルアミノベンゾエート等の紫外線吸収剤、アミノ変性
シリコン、ポリエーテル変性シリコン等のシリコン化合
物、コウジ酸、アルブチン、ビタミンＣのような色白剤
及び香料、色素等を用いることができる。
【００３４】本発明の化粧料の状態は任意であり、溶剤
系、可溶化系、乳化系、粉末分散系、水−油二層系等ど
のような状態でも構わない。また、皮膚への保湿性が期
待できるものであれば化粧料の用途も任意であるが、代
表的なものとして、化粧水、乳液、クリーム、パック、
ヘアートニック、クレンジングクリーム、美容液、ファ
ンデーション、石鹸、洗顔剤、クレンジングフォーム、
シャンプー、リンス、ボディシャンプー等が挙げられ
る。
【００３５】
【実施例】次に、成分（Ａ）のＣＰＣＭキトサンと成分
（Ｂ）の水溶性キチン誘導体または水溶性キトサン誘導
体の組合せによる効果を実施例、比較例を挙げて詳細に
説明する。
【００３６】なお、検討処方、効果の測定は以下の方法
によった。
【００３７】 ＜化粧水の処方＞ ・エタノール １０．０ｗｔ％ ・グリセリン ３．０ ・ＣＰＣＭキトサン（成分（Ａ）） 表１記載の量 ・水溶性キチン誘導体、水溶性キトサン誘導体（成分（Ｂ）） 表１記載の量 ・Ｐ０Ｅ（５０） オレイルエーテル ０．５ ・メチルパラベン ０．２ ・精製水 残。
【００３８】＜保湿性の評価＞調製した試料を、専門パ
ネラー１０名により実際に使用し、官能試験を行った。
評価結果は、次の表示で表した。 ◎・・・・１０名中８名以上が良好と回答した。 ○・・・・１０名中６名以上が良好と回答した。 △・・・・１０名中４名以上が良好と回答した。 ×・・・・１０名中４名未満が良好と回答した。
【００３９】なお、ＣＰＣＭキトサン、水溶性キチン誘
導体、水溶性キトサン誘導体は、以下のものを用いた。 成分（Ａ） ・ＣＰＣＭキトサン： ｎ＝２，５００ 成分（Ｂ） ・エチレングリコールキチン： ｎ＝３，０００ エチレンオキサイド平均付加モル数＝０．８ ・ヒドロキシプロピルキトサン ｎ＝３，０００ 置換率＝０．８ ・硫酸化キチン ｎ＝２，５００ 置換率＝１．０
【００４０】
【表１】
【００４１】表１の結果より、比較例１のＣＰＣＭキト
サンおよび水溶性キチン誘導体、水溶性キトサン誘導体
を配合しない化粧水や、比較例２〜５のＣＰＣＭキトサ
ンおよび水溶性キチン誘導体、水溶性キトサン誘導体を
単独で配合した化粧水や、比較例６〜１１のＣＰＣＭキ
チンと水溶性キチン誘導体の配合割合が本発明の範囲外
となる化粧水と比較して、実施例１〜８の本発明の化粧
水は保湿性に優れていることがわかる。
【００４２】実施例９ 下記に示すヘアーブラッシング剤組成物を調製し、その
性能を評価したところ、このヘアーブラッシング剤組成
物は、優れたしっとり感を示した。 （組成） ・ココイルアルギニンエチルエステル・ＰＣＡ塩 ０．５wt％ ・ＣＰＣＭキトサン（成分（Ａ）） ０．３ ・リン酸化キチン（成分（Ｂ）） ０．２ ・エタノール ５．０ ・メチルパラベン ０．１ ・香料 ０．１ ・精製水 残部。
【００４３】実施例１０ 下記に示すヘアートリートメント組成物を調製し、その
性能を評価したところ、このヘアートリートメント組成
物は、優れたしっとり感を示した。 （組成） ・塩化セトステアリルトリメチルアンモニウム ３．０wt％ ・ＣＰＣＭキトサン（成分（Ａ）） ０．１ ・ジヒドロキシプロピルキチン（成分（Ｂ）） ０．０５ ・セトステアリルアルコール ２．５ ・流動パラフィン １．５ ・ＰＯＥ（５）ステアリルエーテル １．０ ・グリセリン ５．０ ・防腐剤 ０．１ ・精製水 残部。
【００４４】実施例１１ 下記に示す乳液を調製し、その性能を評価したところ、
この乳液は、優れたしっとり感を示した。 （組成） ・流動パラフィン １０．０wt％ ・スクワラン ２．０ ・ワセリン ２．０ ・ソルビタンセスキオレイン酸エステル ０．９ ・ポリオキシエチレンオレイルエーテル １．２ ・グリセリン ３．０ ・エタノール ３．０ ・カルボキシビニルポリマー ０．２ ・水酸化カリウム ０．１ ・ＣＰＣＭキトサン（成分（Ａ）） ０．０５ ・カルボキシメチルキトサン（成分（Ｂ）） ０．０３ ・ＰＣＡソーダ １．０ ・ヘチマ抽出液 １．０ ・防腐剤 ０．５ ・精製水 残部。
【００４５】実施例１２ 下記に示すヘアーリンス組成物を調製し、その性能を評
価したところ、このヘアーリンス組成は、優れたしっと
り感を示した。 （組成） ・塩化ステアリルトリメチルアンモニウム １．５wt％ ・塩化ジステアリルジメチルアンモニウム １．５ ・セタノール ３．５ ・ホホバ油 ２．０ ・親油型モノステアリン酸グリセリル １．０ ・ポリエチレングリコール（８ＥＯ） ０．３ ・１．３−ブチレングリコール ５．０ ・ＣＰＣＭキトサン（成分（Ａ）） １．０ ・Ｎ−２−ヒドロキシプロピルスルホン酸キトサン １．０ （成分（Ｂ）） ・ヒアルロン酸 ０．２ ・アミノ変性シリコーンポリマー ０．５ ・防腐剤 ０．３ ・精製水 残部。
【００４６】実施例１３ 下記に示すヘアーシャンプー組成物を調製し、その性能
を評価したところ、このヘアーシャンプー組成物は、優
れたしっとり感を示した。 （組成） ・ポリオキシエチレン（３）ラウリルエーテル硫酸 ナトリウム（２５％） １０．０wt％ ・ラウロイルメチル−β−アラニンナトリウム（３０％） １５．０ ・ラウリン酸アミドプロピルベタイン（３０％） １５．０ ・Ｎ−ココイル−Ｌ−グルタミン酸モノトリエタノール アミン塩（３０％） １０．０ ・ラウリン酸ジエタノールアミド ３．０ ・ＣＰＣＭキトサン（成分（Ａ）） １．５ ・ヒドロキシプロピルキトサン（成分（Ｂ）） ０．２ ・カルボキシメチルキチン（成分（Ｂ）） ０．３ ・エデト酸ナトリウム ０．２ ・防腐剤 ０．３ ・精製水 残部。
【００４７】実施例１４ 下記に示す化粧水組成物を調製し、その性能を評価した
ところ、この化粧水は、優れたしっとり感を示した。 ・エタノール １０．０wt％ ・グリセリン ５．０ ・ＣＰＣＭキトサン（成分（Ａ）） ０．０００５ ・エチレングリコールキチン（成分（Ｂ）） ０．０００５ ・メチルパラベン ０．１ ・エデト酸ナトリウム ０．１ ・精製水 残部。
【００４８】実施例１５ 下記に示すヘアーエッセンス組成物を調製し、その性能
を評価したところ、このヘアーエッセンスは、優れたし
っとり感を示した。 ・エタノール ２０．０wt％ ・ＣＰＣＭキトサン（成分（Ａ）） ０．００９ ・ヒドロキシプロピルキトサン（成分（Ｂ）） ０．００１ ・メチルパラベン ０．１ ・エデト酸ナトリウム ０．１ ・ 精製水 残部
【００４９】
【発明の効果】ＣＰＣＭキトサンと特定の水溶性キチン
誘導体または水溶性キトサン誘導体を併用して保湿剤と
して用いることにより保湿性の優れた化粧料が得られ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｂ 37/08 Ａ 7433−4Ｃ

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記の成分（Ａ）および成分（Ｂ）を、
    重量比で９．５：０．５〜０．５：９．５の配合割合で
    含有することを特徴とする保湿性の改良された化粧料。 （Ａ）一般式（１） 【化１】 （ただし、式中Ｍは水素またはアルカリ金属を表し、ｎ
    は１０〜５０００の整数を表す）で示されるＮ−（３−
    カルボキシプロパノイル）−６−Ｏ−（カルボキシメチ
    ル）キトサン （Ｂ）キチンまたはキトサンに親水基を導入して水溶性
    とした水溶性キチン誘導体または水溶性キトサン誘導体
    （但し、一般式（１）のキトサン誘導体を除く）
  2. 【請求項２】 成分（Ｂ）の水溶性キチン誘導体または
    水溶性キトサン誘導体が、 ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンキチンま
    たはポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンキトサ
    ン、 カルボキシメチルキチンまたはカルボキシメチルキト
    サン、 リン酸化キチンまたはリン酸化キトサン、 硫酸化キチンまたは硫酸化キトサン、 ヒドロキシプロピルキチンまたはヒドロキシプロピル
    キトサン、および Ｎ−２−ヒドロキシプロピルスルホン酸キトサン からなる群より選ばれる少なくとも１種以上である請求
    項１記載の化粧料。
  3. 【請求項３】 ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピ
    レンキチンまたはポリオキシエチレン・ポリオキシプロ
    ピレンキトサンが、一般式（２） 【化２】 （式中、ｎは１０〜５０００の整数、Ｒ1、Ｒ2およびＲ
    3は、 Ｒ1：−Ｈ，−ＣＯＣＨ3または−（ＥＯ）i−（ＰＯ）m
    Ｈ 但し、ｉ＝０〜５，ｍ＝０〜５，ｉ＋ｍ≠０ Ｒ2：−Ｈ，または−（ＥＯ）j−（ＰＯ）pＨ 但し、ｊ＝０〜５，ｐ＝０〜５，ｊ＋ｐ≠０ Ｒ3：−Ｈ，または−（ＥＯ）k−（ＰＯ）qＨ 但し、ｋ＝０〜５、ｑ＝０〜５，ｋ＋ｑ≠０ を表す。ここで、ＥＯはオキシエチレン基を、ＰＯはオ
    キシプロピレン基を表し、また、ＥＯとＰＯとの結合順
    序は問わない。また、結合している個々のＤ−グルコサ
    ミン骨格でＲ1，Ｒ2，Ｒ3，ｉ，ｊ，ｋ，ｍ，ｐ，ｑは
    それぞれ同一でも異なっていてもよいが、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ
    3が同時に−Ｈであることはない。）で示される化合物
    である請求項２記載の化粧料。
  4. 【請求項４】 カルボキシメチルキチンまたはカルボキ
    シメチルキトサンが、一般式（３） 【化３】 （式中、ｎは１０〜５０００の整数、Ｒ4は−Ｈまたは
    −ＣＯＣＨ3、Ｒ5およびＲ6は、−Ｈ，−ＣＨ2ＣＯＯ
    Ｈ，−ＣＨ2ＣＯＯＮａ，−ＣＨ2ＣＯＯＫまたは−ＣＨ
    2ＣＯＯＮＨ4から選ばれる置換基を表す。また、結合し
    ている個々のＤ−グルコサミン骨格でＲ5，Ｒ6はそれぞ
    れ同一でも異なっていてもよいが、同時に−Ｈとなるこ
    とはない。）で示される化合物である請求項２記載の化
    粧料。
  5. 【請求項５】 リン酸化キチンまたはリン酸化キトサン
    が、一般式（４） 【化４】 で示される化合物である請求項２記載の化粧料。
  6. 【請求項６】 硫酸化キチンまたは硫酸化キトサンが、
    一般式（５） 【化５】 で示される化合物である請求項２記載の化粧料。
  7. 【請求項７】 ヒドロキシプロピルキチンまたはヒドロ
    キシプロピルキトサンが、一般式（６） 【化６】 で示される化合物である請求項２記載の化粧料。
  8. 【請求項８】 Ｎ−２−ヒドロキシプロピルスルホン酸
    キトサンが、一般式（７） 【化７】 で示される化合物である請求項２記載の化粧料。
  9. 【請求項９】 成分（Ａ）と成分（Ｂ）の総和が化粧料
    当り、０．００１〜５．０重量％である請求項１記載の
    化粧料。
JP9953094A 1994-05-13 1994-05-13 保湿性の改良された化粧料 Pending JPH07304626A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9953094A JPH07304626A (ja) 1994-05-13 1994-05-13 保湿性の改良された化粧料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9953094A JPH07304626A (ja) 1994-05-13 1994-05-13 保湿性の改良された化粧料

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07304626A true JPH07304626A (ja) 1995-11-21

Family

ID=14249783

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9953094A Pending JPH07304626A (ja) 1994-05-13 1994-05-13 保湿性の改良された化粧料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07304626A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0806435A3 (de) * 1996-05-11 1998-03-25 Wella Aktiengesellschaft O-Hydroxyalkylchitine und deren Verwendung in kosmetischen Mitteln
JPH10114618A (ja) * 1996-10-07 1998-05-06 Noevir Co Ltd 液状化粧料
JP2011160959A (ja) * 2010-02-09 2011-08-25 Tottori Univ 新規キチン誘導体
CN103880981A (zh) * 2012-12-21 2014-06-25 中国科学院大连化学物理研究所 一种以甲基磺酸为溶剂合成磷酸化甲壳素的方法
CN105968229A (zh) * 2016-06-06 2016-09-28 中国科学院海洋研究所 一种壳聚糖改性衍生物缓蚀剂及其制备方法
KR20220058254A (ko) * 2020-10-30 2022-05-09 코스맥스 주식회사 쯔비터이온성 키토산 유도체를 포함하는 피부 윤기 개선 또는 피부 보습용 화장료 조성물

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0806435A3 (de) * 1996-05-11 1998-03-25 Wella Aktiengesellschaft O-Hydroxyalkylchitine und deren Verwendung in kosmetischen Mitteln
JPH10114618A (ja) * 1996-10-07 1998-05-06 Noevir Co Ltd 液状化粧料
JP2011160959A (ja) * 2010-02-09 2011-08-25 Tottori Univ 新規キチン誘導体
CN103880981A (zh) * 2012-12-21 2014-06-25 中国科学院大连化学物理研究所 一种以甲基磺酸为溶剂合成磷酸化甲壳素的方法
CN105968229A (zh) * 2016-06-06 2016-09-28 中国科学院海洋研究所 一种壳聚糖改性衍生物缓蚀剂及其制备方法
KR20220058254A (ko) * 2020-10-30 2022-05-09 코스맥스 주식회사 쯔비터이온성 키토산 유도체를 포함하는 피부 윤기 개선 또는 피부 보습용 화장료 조성물

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2779555B2 (ja) 毛髪化粧料
JPH0735518B2 (ja) 皮膚感触および潤い付与上の利益を有する温和な清浄ム−ス
CA2248993A1 (en) Cleansing and moisturizing surfactant compositions
CA2404561A1 (en) Skin cleanser containing anti-aging active
EP0671463B1 (en) Detergent composition
JPH0699285B2 (ja) 毛髪化粧料
US5149522A (en) Clear hair and body cleansing composition
US5534248A (en) Toiletry composition for hair care
JP2819184B2 (ja) 低刺激性洗浄剤組成物
JP3270772B2 (ja) 毛髪化粧料
JPH08510464A (ja) 少なくとも１種のアルキルガラクトシドウロネート型アニオン界面活性剤および少なくとも１種のアルキルポリグリコシド型および／またはポリグリセロール型ノニオン界面活性剤を含有する化粧用組成物
JPH0597633A (ja) 洗浄剤組成物
JPH07258019A (ja) 化粧料
JPH06279231A (ja) 化粧料
JP2003300813A (ja) 化粧料
JP3904400B2 (ja) 頭髪洗浄料
JP2979285B2 (ja) 洗浄剤組成物
JP2001226234A (ja) 頭髪洗浄料
JP3207034B2 (ja) 洗浄剤組成物
JPH0624934A (ja) 化粧料
JP3200226B2 (ja) 洗浄剤組成物
JP2003300835A (ja) 毛髪化粧料
KR20210032799A (ko) 화장료 조성물 및 이를 이용한 세정제
JPS63277608A (ja) 皮膚および毛髪用組成物
JP3567566B2 (ja) 液体洗浄剤組成物