JPH07309851A - ベンゾオキサジノン誘導体の製造方法 - Google Patents
ベンゾオキサジノン誘導体の製造方法Info
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Landscapes
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ベンゾオキサジノン誘導体の改良製造法の提
供。 【構成】 カルボン酸と2−アミノ安息香酸とから、ハ
ロゲン化炭酸モノアルキルエステル、アシルハライド、
1,1′−カルボニルジイミダゾール、脂肪族スルホニ
ルハロゲン化物又は芳香族スルホニルハロゲン化物、ジ
フェニルリン酸ハライド、又はMe2N+=CHX・X
−(式中Xは、Br、Clを表す)の存在下でアシル化
反応及び閉環反応により、ベンゾオキサジノン誘導体を
製造する方法。
供。 【構成】 カルボン酸と2−アミノ安息香酸とから、ハ
ロゲン化炭酸モノアルキルエステル、アシルハライド、
1,1′−カルボニルジイミダゾール、脂肪族スルホニ
ルハロゲン化物又は芳香族スルホニルハロゲン化物、ジ
フェニルリン酸ハライド、又はMe2N+=CHX・X
−(式中Xは、Br、Clを表す)の存在下でアシル化
反応及び閉環反応により、ベンゾオキサジノン誘導体を
製造する方法。
Description
【0001】
【技術分野】本発明は、ベンゾオキサジノン誘導体の改
良された製造方法に関する。
良された製造方法に関する。
【0002】
【背景技術】従来、ベンゾオキサジノン骨格を有する化
合物の製造方法としては、下記(A)、(B)、(C)
の反応式に示されるように、(1)2−(アシルアミ
ノ)安息香酸を無水酢酸またはチオニルクロライド等と
数時間、加熱還流させることにより閉環させる方法〔反
応式(A)〕〔ジャーナル オブ オルガニック ケミ
ストリ−(J.Org.Chem)42巻,P.12−
18,1977年〕、(2)2−(アシルアミノ)安息
香酸またはそのエステル誘導体を濃硫酸溶液中で閉環反
応させる方法〔反応式(B)〕〔シンセシス(SYNT
HESIS),P.383−386,1988年〕、
(3)アミノ安息香酸誘導体に過剰量のハロゲン化炭酸
モノアルキルエステルを反応させる方法〔反応式
(C)〕〔ジャーナル オブ メヂシナル ケミストリ
ー(J.Med.Chem),33巻,P.464−4
79,1990年〕等が報告されている。しかしなが
ら、(A)法は反応を進めるためには加熱還流が必要で
あること、(B)法は濃硫酸を使用しなければならず、
また、(C)法はハロゲン化炭酸モノアルキルエステル
のアルキル部分が複雑な誘導体の場合には、ハロゲン化
炭酸モノアルキルエステル自体の製造が煩雑となること
及び高価な反応原料が有効に利用されない等の欠点があ
り、また、いずれの方法も高収率を望めず、工業的製法
として適した方法ではない。
合物の製造方法としては、下記(A)、(B)、(C)
の反応式に示されるように、(1)2−(アシルアミ
ノ)安息香酸を無水酢酸またはチオニルクロライド等と
数時間、加熱還流させることにより閉環させる方法〔反
応式(A)〕〔ジャーナル オブ オルガニック ケミ
ストリ−(J.Org.Chem)42巻,P.12−
18,1977年〕、(2)2−(アシルアミノ)安息
香酸またはそのエステル誘導体を濃硫酸溶液中で閉環反
応させる方法〔反応式(B)〕〔シンセシス(SYNT
HESIS),P.383−386,1988年〕、
(3)アミノ安息香酸誘導体に過剰量のハロゲン化炭酸
モノアルキルエステルを反応させる方法〔反応式
(C)〕〔ジャーナル オブ メヂシナル ケミストリ
ー(J.Med.Chem),33巻,P.464−4
79,1990年〕等が報告されている。しかしなが
ら、(A)法は反応を進めるためには加熱還流が必要で
あること、(B)法は濃硫酸を使用しなければならず、
また、(C)法はハロゲン化炭酸モノアルキルエステル
のアルキル部分が複雑な誘導体の場合には、ハロゲン化
炭酸モノアルキルエステル自体の製造が煩雑となること
及び高価な反応原料が有効に利用されない等の欠点があ
り、また、いずれの方法も高収率を望めず、工業的製法
として適した方法ではない。
【0003】
【化6】
【0004】さらに(A)法の改良法としてカルボン酸
誘導体と、例えばN−ヒドロキシスクシンイミドとを
N,N−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)等
の脱水縮合剤の存在下に反応させてN−ヒドロキシスク
シンイミド エステルとした後、2−アミノ安息香酸と
反応させ、生成する2−アシルアミノ安息香酸を単離、
精製した後、この単離、精製した化合物を再びDCCを
用いて脱水縮合反応により環化させ、その反応生成物を
カラムクロマトグラフィーにて単離、精製し、ベンゾオ
キサジノン誘導体とする方法が知られている(特開平5
−148249号公報)。この方法は、上記カルボン酸
の活性エステル誘導体の調製に際し、DCCを用いてい
るため、2−アミノ安息香酸との反応後、生成するジシ
クロヘキシルウレアを除くためカラムクロマトグラフィ
ーにより単離、精製し、次に、この化合物をさらにDC
Cを使用して脱水環化反応させ、カラムクロマトグラフ
ィーに付し、目的化合物を単離、精製するという極めて
煩雑な処理操作を必要とすることならびに使用するDC
Cが作業者の安全衛生上望ましくない物質であることか
ら、工業的製法として適さないものである。
誘導体と、例えばN−ヒドロキシスクシンイミドとを
N,N−ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)等
の脱水縮合剤の存在下に反応させてN−ヒドロキシスク
シンイミド エステルとした後、2−アミノ安息香酸と
反応させ、生成する2−アシルアミノ安息香酸を単離、
精製した後、この単離、精製した化合物を再びDCCを
用いて脱水縮合反応により環化させ、その反応生成物を
カラムクロマトグラフィーにて単離、精製し、ベンゾオ
キサジノン誘導体とする方法が知られている(特開平5
−148249号公報)。この方法は、上記カルボン酸
の活性エステル誘導体の調製に際し、DCCを用いてい
るため、2−アミノ安息香酸との反応後、生成するジシ
クロヘキシルウレアを除くためカラムクロマトグラフィ
ーにより単離、精製し、次に、この化合物をさらにDC
Cを使用して脱水環化反応させ、カラムクロマトグラフ
ィーに付し、目的化合物を単離、精製するという極めて
煩雑な処理操作を必要とすることならびに使用するDC
Cが作業者の安全衛生上望ましくない物質であることか
ら、工業的製法として適さないものである。
【0005】
【発明の開示】本発明者らは、ベンゾオキサジノン誘導
体の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、2−アミ
ノ安息香酸を特定の縮合剤の存在下にカルボン酸の反応
性誘導体又はカルボン酸と反応せしめてアシル化して2
−(アシルアミノ)安息香酸誘導体を生成せしめ、これ
を単離・精製することなくさらに上記縮合剤の存在下に
閉環反応に付することにより、極めて効率良く、かつ緩
和な条件下、目的とするベンゾオキサジノン誘導体が得
られることを見い出した。本発明は、かかる知見に基づ
くものである。
体の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、2−アミ
ノ安息香酸を特定の縮合剤の存在下にカルボン酸の反応
性誘導体又はカルボン酸と反応せしめてアシル化して2
−(アシルアミノ)安息香酸誘導体を生成せしめ、これ
を単離・精製することなくさらに上記縮合剤の存在下に
閉環反応に付することにより、極めて効率良く、かつ緩
和な条件下、目的とするベンゾオキサジノン誘導体が得
られることを見い出した。本発明は、かかる知見に基づ
くものである。
【0006】本発明は、下記(1)乃至(7)に示すベ
ンゾオキサジノン誘導体の製造方法を提供するものであ
る。 (1) カルボン酸の反応性誘導体、又はカルボン酸を
ハロゲン化炭酸モノアルキルエステル、アシルハライ
ド、1,1′−カルボニルジイミダゾール、脂肪族スル
ホニルハロゲン化物又は芳香族スルホニルハロゲン化
物、ジフェニルリン酸ハライド又はMe2N+=CHX
・X−(式中Xは、Br、Clを表す)から選ばれる縮
合剤の存在下で2−アミノ安息香酸誘導体と反応させ、
次いで上記縮合剤から選ばれる縮合剤の存在下で閉環反
応をおこなうことを特徴とするベンゾオキサジノン誘導
体を製造する方法。
ンゾオキサジノン誘導体の製造方法を提供するものであ
る。 (1) カルボン酸の反応性誘導体、又はカルボン酸を
ハロゲン化炭酸モノアルキルエステル、アシルハライ
ド、1,1′−カルボニルジイミダゾール、脂肪族スル
ホニルハロゲン化物又は芳香族スルホニルハロゲン化
物、ジフェニルリン酸ハライド又はMe2N+=CHX
・X−(式中Xは、Br、Clを表す)から選ばれる縮
合剤の存在下で2−アミノ安息香酸誘導体と反応させ、
次いで上記縮合剤から選ばれる縮合剤の存在下で閉環反
応をおこなうことを特徴とするベンゾオキサジノン誘導
体を製造する方法。
【0007】(2) カルボン酸の反応性誘導体又はカ
ルボン酸をハロゲン化炭酸モノアルキルエステル、アシ
ルハライド、1,1′−カルボニルジイミダゾール、脂
肪族スルホニルハロゲン化物、芳香族スルホニルハロゲ
ン化物、ジフェニルリン酸ハライド又はMe2N+=C
HX・X−(式中Xは、Br、Clを表す)から選ばれ
る縮合剤の存在下で2−アミノ安息香酸誘導体と反応さ
せることにより、2−(アシルアミノ)安息香酸誘導体
となし、この2−(アシルアミノ)安息香酸誘導体を単
離することなく、ハロゲン化炭酸モノアルキルエステ
ル、アシルハライド、1,1′−カルボニルジイミダゾ
ール、脂肪族スルホニルハロゲン化物、芳香族スルホニ
ルハロゲン化物、ジフェニルリン酸ハライド又はMe2
N+=CHX・X−(式中Xは、Br、Clを表す)か
ら選ばれる縮合剤の存在下で閉環反応をおこなうことを
特徴とするベンゾオキサジノン誘導体の製造方法。
ルボン酸をハロゲン化炭酸モノアルキルエステル、アシ
ルハライド、1,1′−カルボニルジイミダゾール、脂
肪族スルホニルハロゲン化物、芳香族スルホニルハロゲ
ン化物、ジフェニルリン酸ハライド又はMe2N+=C
HX・X−(式中Xは、Br、Clを表す)から選ばれ
る縮合剤の存在下で2−アミノ安息香酸誘導体と反応さ
せることにより、2−(アシルアミノ)安息香酸誘導体
となし、この2−(アシルアミノ)安息香酸誘導体を単
離することなく、ハロゲン化炭酸モノアルキルエステ
ル、アシルハライド、1,1′−カルボニルジイミダゾ
ール、脂肪族スルホニルハロゲン化物、芳香族スルホニ
ルハロゲン化物、ジフェニルリン酸ハライド又はMe2
N+=CHX・X−(式中Xは、Br、Clを表す)か
ら選ばれる縮合剤の存在下で閉環反応をおこなうことを
特徴とするベンゾオキサジノン誘導体の製造方法。
【0008】(3) カルボン酸の反応性誘導体又はカ
ルボン酸と、一般式
ルボン酸と、一般式
【化7】 〔式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又
はアルコキシ基を意味し、R2は水素原子、水酸基、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基、ニトロ基、ニトリル基、
アルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基又は−NR
3R4(ここでR3およびR4は、それぞれ同一又は異
なって水素原子、アルキル基、アシル基又はアミノ保護
基を意味し、R3とR4は隣接する窒素原子と一緒にな
って置換されていてもよいヘテロ環を形成してもよい)
を意味する〕で表される2−アミノ安息香酸誘導体と反
応させ、一般式
はアルコキシ基を意味し、R2は水素原子、水酸基、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基、ニトロ基、ニトリル基、
アルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基又は−NR
3R4(ここでR3およびR4は、それぞれ同一又は異
なって水素原子、アルキル基、アシル基又はアミノ保護
基を意味し、R3とR4は隣接する窒素原子と一緒にな
って置換されていてもよいヘテロ環を形成してもよい)
を意味する〕で表される2−アミノ安息香酸誘導体と反
応させ、一般式
【化8】 (式中、R1およびR2は上記と同じ意味を表し、Rは
有機残基を意味する)で表される2−(アシルアミノ)
安息香酸誘導体となし、この化合物を単離することなく
閉環反応に付することを特徴とする一般式
有機残基を意味する)で表される2−(アシルアミノ)
安息香酸誘導体となし、この化合物を単離することなく
閉環反応に付することを特徴とする一般式
【化9】 (式中、R1、R2およびRは上記と同じ意味を表す)
で示されるベンゾオキサジノン誘導体の製造方法。
で示されるベンゾオキサジノン誘導体の製造方法。
【0009】(4) 上記Rが、−NR8R9(ここで
R8およびR9は、それぞれ同一又は異なって水素原
子、アルキル基、アシル基、又はアミノ保護基を意味
し、R8とR9は隣接する窒素原子と一緒になってヘテ
ロ環を形成していてもよく、このヘテロ環は置換基を有
していてもよい)、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原
子、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル
基、ニトリル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキ
ル基、アシル基、アシルオキシ基、置換されていてもよ
いアリール基若しくは置換されていてもよいヘテロアリ
ールから選ばれる1つ以上の置換基でそれぞれ置換され
ていてもよいアルキル基又はアルケニル基;あるいは一
般式
R8およびR9は、それぞれ同一又は異なって水素原
子、アルキル基、アシル基、又はアミノ保護基を意味
し、R8とR9は隣接する窒素原子と一緒になってヘテ
ロ環を形成していてもよく、このヘテロ環は置換基を有
していてもよい)、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原
子、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル
基、ニトリル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキ
ル基、アシル基、アシルオキシ基、置換されていてもよ
いアリール基若しくは置換されていてもよいヘテロアリ
ールから選ばれる1つ以上の置換基でそれぞれ置換され
ていてもよいアルキル基又はアルケニル基;あるいは一
般式
【化10】 〔ここで、R5およびR6はそれぞれ同一又は異なって
水素原子、直鎖若しくは分岐鎖アルキル基又はR5とR
6は一緒になって形成し得るシクロアルキル基あるいは
アルキルチオアルキル基を意味し、Aは、−(CH2)
m−(mは1乃至4の整数)、−*CH2−O−、−*
O−CH2−、−*CONH−CH2−、*=CH−、
−*CH=CH−又は−*NR10−(CH2)n−
(nは1乃至2の整数、R10は水素、低級アルキル又
は低級アシルを意味し、*はR7側の結合部位を示す)
を意味し、R7はR11R12CH−(ここでR11、
R12は同一又は異なって水素原子、置換されていても
よいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリール
を意味する)、R13R14N−(ここでR13、R
14は同一又は異なって水素原子、置換されていてもよ
いアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールを
意味する)、置換されていても良いアダマンチル、置換
されていてもよい9H−キサンテン−9−イル、置換さ
れていてもよい5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテ
ン−5−イル、置換されていてもよい9−フルオレニ
ル、又は置換されていてもよい9−フルオレンを表す〕
である上記(3)記載のベンゾオキサジノン誘導体の製
造方法。
水素原子、直鎖若しくは分岐鎖アルキル基又はR5とR
6は一緒になって形成し得るシクロアルキル基あるいは
アルキルチオアルキル基を意味し、Aは、−(CH2)
m−(mは1乃至4の整数)、−*CH2−O−、−*
O−CH2−、−*CONH−CH2−、*=CH−、
−*CH=CH−又は−*NR10−(CH2)n−
(nは1乃至2の整数、R10は水素、低級アルキル又
は低級アシルを意味し、*はR7側の結合部位を示す)
を意味し、R7はR11R12CH−(ここでR11、
R12は同一又は異なって水素原子、置換されていても
よいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリール
を意味する)、R13R14N−(ここでR13、R
14は同一又は異なって水素原子、置換されていてもよ
いアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールを
意味する)、置換されていても良いアダマンチル、置換
されていてもよい9H−キサンテン−9−イル、置換さ
れていてもよい5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテ
ン−5−イル、置換されていてもよい9−フルオレニ
ル、又は置換されていてもよい9−フルオレンを表す〕
である上記(3)記載のベンゾオキサジノン誘導体の製
造方法。
【0010】(5) 上記Rが、一般式
【化11】 〔ここで、R5およびR6はそれぞれ同一又は異なって
水素原子、直鎖若しくは分岐鎖アルキル基又はR5とR
6は一緒になって形成し得るシクロアルキル基あるいは
アルキルチオアルキル基を意味し、R7はそれぞれ置換
されていてもよいアダマンチル、ジフェニルメチル、ジ
フェニルアミノ、ピリジルベンジル、ジピリジルメチ
ル、9−フルオレニル、又は9−フルオレンを表し、A
は、−(CH2)m−(mは1乃至4の整数)、−*C
H2−O−、−*O−CH2−、−*CONH−CH2
−、*=CH−、−*CH=CH−又は−*NR10−
(CH2)n−(nは1乃至2の整数、R10は水素、
低級アルキル又は低級アシルを表し、*はR7側の結合
部位を示す)〕である上記(3)記載のベンゾオキサジ
ノン誘導体の製造方法。
水素原子、直鎖若しくは分岐鎖アルキル基又はR5とR
6は一緒になって形成し得るシクロアルキル基あるいは
アルキルチオアルキル基を意味し、R7はそれぞれ置換
されていてもよいアダマンチル、ジフェニルメチル、ジ
フェニルアミノ、ピリジルベンジル、ジピリジルメチ
ル、9−フルオレニル、又は9−フルオレンを表し、A
は、−(CH2)m−(mは1乃至4の整数)、−*C
H2−O−、−*O−CH2−、−*CONH−CH2
−、*=CH−、−*CH=CH−又は−*NR10−
(CH2)n−(nは1乃至2の整数、R10は水素、
低級アルキル又は低級アシルを表し、*はR7側の結合
部位を示す)〕である上記(3)記載のベンゾオキサジ
ノン誘導体の製造方法。
【0011】(6) 上記縮合剤が、ハロゲン化炭酸モ
ノアルキルエステル又はジフェニルオキシリン酸クロリ
ドである上記(1)乃至上記(5)のいずれか1記載の
ベンゾキサジノン誘導体の製造方法。 (7) 上記縮合剤が、アシルハライドである上記
(1)乃至上記(5)のいずれか1記載のベンゾキサジ
ノン誘導体の製造方法。
ノアルキルエステル又はジフェニルオキシリン酸クロリ
ドである上記(1)乃至上記(5)のいずれか1記載の
ベンゾキサジノン誘導体の製造方法。 (7) 上記縮合剤が、アシルハライドである上記
(1)乃至上記(5)のいずれか1記載のベンゾキサジ
ノン誘導体の製造方法。
【0012】以下に、本発明を詳細に説明する。上記一
般式中、Rは、本発明の製法におけるアシル化反応およ
び閉環反応において、反応に悪影響を及ぼさない有機の
基である。
般式中、Rは、本発明の製法におけるアシル化反応およ
び閉環反応において、反応に悪影響を及ぼさない有機の
基である。
【0013】Rの具体的な基としては、−NR8R
9(ここでR8およびR9は、それぞれ同一又は異なっ
て水素原子、アルキル基、アシル基又はアミノ保護基を
意味し、R8R9は隣接する窒素原子と一緒になってヘ
テロ環を形成してもよく、このヘテロ環は置換基を有し
ていてもよい)、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原
子、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル
基、ニトリル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキ
ル基、アシル基、アシルオキシ基、置換されていてもよ
いアリール基若しくは置換されていてもよいヘテロアリ
ールから選ばれる1つ以上の置換基でそれぞれが置換さ
れていてもよいアルキル基又はアルケニル基;あるいは
一般式
9(ここでR8およびR9は、それぞれ同一又は異なっ
て水素原子、アルキル基、アシル基又はアミノ保護基を
意味し、R8R9は隣接する窒素原子と一緒になってヘ
テロ環を形成してもよく、このヘテロ環は置換基を有し
ていてもよい)、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原
子、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル
基、ニトリル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキ
ル基、アシル基、アシルオキシ基、置換されていてもよ
いアリール基若しくは置換されていてもよいヘテロアリ
ールから選ばれる1つ以上の置換基でそれぞれが置換さ
れていてもよいアルキル基又はアルケニル基;あるいは
一般式
【化12】 〔ここで、R5およびR6はそれぞれ同一又は異なって
水素原子、直鎖若しくは分岐鎖アルキル基又はR5とR
6は一緒になって形成し得るシクロアルキル基あるいは
アルキルチオアルキル基を意味し、Aは、−(CH2)
m−(mは1乃至4の整数)、−*CH2−O−、−*
O−CH2−、−*CONH−CH2−、*=CH−、
−*CH=CH−又は−*NR10−(CH2)n−
(nは1乃至2の整数、R10は水素、低級アルキル又
は低級アシルを意味し、*はR7側の結合部位を示す)
を意味し、R7は、R11R12CH−(ここで
R11、R12は同一又は異なって水素原子、置換され
ていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロ
アリールを意味する)、R13R14N−(ここでR
13、R14は同一又は異なって水素原子、置換されて
いてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロア
リールを意味する)、置換されていてもよいアダマンチ
ル、置換されていてもよい9H−キサンテン−9−イ
ル、置換されていてもよい5H−ジベンゾ[a,d]シ
クロヘプテン−5−イル、置換されていてもよい9−フ
ルオレニル、又は置換されていてもよい9−フルオレン
を表す〕で示されるN−アシルアミノアルキル基等を挙
げることができる。
水素原子、直鎖若しくは分岐鎖アルキル基又はR5とR
6は一緒になって形成し得るシクロアルキル基あるいは
アルキルチオアルキル基を意味し、Aは、−(CH2)
m−(mは1乃至4の整数)、−*CH2−O−、−*
O−CH2−、−*CONH−CH2−、*=CH−、
−*CH=CH−又は−*NR10−(CH2)n−
(nは1乃至2の整数、R10は水素、低級アルキル又
は低級アシルを意味し、*はR7側の結合部位を示す)
を意味し、R7は、R11R12CH−(ここで
R11、R12は同一又は異なって水素原子、置換され
ていてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロ
アリールを意味する)、R13R14N−(ここでR
13、R14は同一又は異なって水素原子、置換されて
いてもよいアリール又は置換されていてもよいヘテロア
リールを意味する)、置換されていてもよいアダマンチ
ル、置換されていてもよい9H−キサンテン−9−イ
ル、置換されていてもよい5H−ジベンゾ[a,d]シ
クロヘプテン−5−イル、置換されていてもよい9−フ
ルオレニル、又は置換されていてもよい9−フルオレン
を表す〕で示されるN−アシルアミノアルキル基等を挙
げることができる。
【0014】アルキル基は、炭素数1乃至6の直鎖又は
分岐鎖のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−
ブチル、tert−ブチル、ペンチル又はイソペンチル
基等を挙げることができる。好ましくは、炭素数1乃至
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である。上記アルキル
基の置換基としては、水酸基、ニトロ基、カルボキシル
基又はアミノ基等を挙げることができる。
分岐鎖のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−
ブチル、tert−ブチル、ペンチル又はイソペンチル
基等を挙げることができる。好ましくは、炭素数1乃至
4の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である。上記アルキル
基の置換基としては、水酸基、ニトロ基、カルボキシル
基又はアミノ基等を挙げることができる。
【0015】アルコキシ基としては、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブト
キシ、sec−ブトキシ又はペンチルオキシ基等を挙げ
ることができる。ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素
又は沃素である。
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブト
キシ、sec−ブトキシ又はペンチルオキシ基等を挙げ
ることができる。ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素
又は沃素である。
【0016】アルコキシカルボニル基としては、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、sec−ブトキシカ
ルボニル又はtert−ブトキシカルボニル基等を挙げ
ることができる。
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、sec−ブトキシカ
ルボニル又はtert−ブトキシカルボニル基等を挙げ
ることができる。
【0017】アルキルチオアルキル基としては、直鎖又
は分岐鎖のアルキル基を有するチオアルキル基であり、
例えば(メチルチオ)メチル、2−(メチルチオ)エチ
ル、(エチルチオ)メチル、2−(エチルチオ)エチ
ル、1−(エチルチオ)エチル又は(イソプロピルチ
オ)メチル基等を挙げることができる。
は分岐鎖のアルキル基を有するチオアルキル基であり、
例えば(メチルチオ)メチル、2−(メチルチオ)エチ
ル、(エチルチオ)メチル、2−(エチルチオ)エチ
ル、1−(エチルチオ)エチル又は(イソプロピルチ
オ)メチル基等を挙げることができる。
【0018】アルキルチオ基としては、メチルチオ、エ
チルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチ
オ、tert−ブチルチオ、ペンチルチオ又はイソペン
チルチオ基等を挙げることができる。
チルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチ
オ、tert−ブチルチオ、ペンチルチオ又はイソペン
チルチオ基等を挙げることができる。
【0019】アシルオキシ基としては、例えばアセトキ
シ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキ
シ、イソプロピルカルボニルオキシ、ブチルカルボニル
オキシ、イソブチルカルボニルオキシ又はsec−ブチ
ルカルボニルオキシ基、あるいはベンゾイルオキシ基等
を挙げることができる。
シ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキ
シ、イソプロピルカルボニルオキシ、ブチルカルボニル
オキシ、イソブチルカルボニルオキシ又はsec−ブチ
ルカルボニルオキシ基、あるいはベンゾイルオキシ基等
を挙げることができる。
【0020】アシル基としては、例えばホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル又はイソバレリル基、あるいはベンゾイル基等を挙げ
ることができる。
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル又はイソバレリル基、あるいはベンゾイル基等を挙げ
ることができる。
【0021】R3R4N−基としては、例えばアミノ
基、ジメチルアミノ基、又はイソプロピルアミノ基であ
り、またR3とR4が隣接する窒素原子と一緒になって
形成するヘテロ環の例としてはピペリジノ基を挙げるこ
とができる。
基、ジメチルアミノ基、又はイソプロピルアミノ基であ
り、またR3とR4が隣接する窒素原子と一緒になって
形成するヘテロ環の例としてはピペリジノ基を挙げるこ
とができる。
【0022】R8R9N−基としては、例えばアミノ
基、ジメチルアミノ基、又はイソプロピルアミノ基であ
り、またR8とR9が隣接する窒素原子と一緒になって
形成するヘテロ環の例としてはピペリジノ基等を挙げる
ことができる。
基、ジメチルアミノ基、又はイソプロピルアミノ基であ
り、またR8とR9が隣接する窒素原子と一緒になって
形成するヘテロ環の例としてはピペリジノ基等を挙げる
ことができる。
【0023】Rにおけるアルキル基の置換基として、又
はR11、R12における置換基として、置換されてい
てもよいアリールとは、例えばアルキル基、アルコキシ
基又はハロゲン原子で置換されたアリール基等を挙げる
ことができ、より具体的には、メチル基、メトキシ基、
塩素原子又はニトロ基で置換されていてもよいベンジル
基等を挙げることができる。
はR11、R12における置換基として、置換されてい
てもよいアリールとは、例えばアルキル基、アルコキシ
基又はハロゲン原子で置換されたアリール基等を挙げる
ことができ、より具体的には、メチル基、メトキシ基、
塩素原子又はニトロ基で置換されていてもよいベンジル
基等を挙げることができる。
【0024】Rにおけるアルキル基の置換基として、又
はR11、R12について置換されていてもよいヘテロ
アリールとは、例えばアルキル基、ハロゲン原子、又は
アルコキシ基で置換されたヘテロアリール基を挙げるこ
とができ、より具体的には、2−、3−又は4−ピリジ
ル基等を挙げることができる。
はR11、R12について置換されていてもよいヘテロ
アリールとは、例えばアルキル基、ハロゲン原子、又は
アルコキシ基で置換されたヘテロアリール基を挙げるこ
とができ、より具体的には、2−、3−又は4−ピリジ
ル基等を挙げることができる。
【0025】R13、R14について置換基としての置
換されていてもよいアリールとは、例えばアルキル基、
アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されたアリール基
等を挙げることができ、より具体的には、メチル基、メ
トキシ基、塩素原子又はニトロ基で置換されていてもよ
いフェニル基等を挙げることができる。
換されていてもよいアリールとは、例えばアルキル基、
アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されたアリール基
等を挙げることができ、より具体的には、メチル基、メ
トキシ基、塩素原子又はニトロ基で置換されていてもよ
いフェニル基等を挙げることができる。
【0026】R13、R14について置換されていても
よいヘテロアリールとは例えばアルキル基、ハロゲン原
子、又はアルコキシ基で置換されたヘテロアリール基を
挙げることができ、より具体的には、2−、3−又は4
−ピリジル基等を挙げることができる。
よいヘテロアリールとは例えばアルキル基、ハロゲン原
子、又はアルコキシ基で置換されたヘテロアリール基を
挙げることができ、より具体的には、2−、3−又は4
−ピリジル基等を挙げることができる。
【0027】シクロアルキル基としては、シクロプロピ
ル、シクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキシル
基等を挙げることができる。アルケニル基としては、例
えばアリル、1−プロペニル、ブテニル、3−メチル−
2−ブテニル、又はヘキセニル基等を挙げることができ
る。
ル、シクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキシル
基等を挙げることができる。アルケニル基としては、例
えばアリル、1−プロペニル、ブテニル、3−メチル−
2−ブテニル、又はヘキセニル基等を挙げることができ
る。
【0028】R基の具体例として、特に置換基R7−A
−CONH−C(−R5)(−R6)−があげられるが
その具体例としては、例えば下記のごとき置換基を挙げ
ることができる。 (1) 1−〔(9−フルオレニルメトキシカルボニ
ル)アミノ〕エチル、 (2) 1−〔(9−フルオレニルメトキシカルボニ
ル)アミノ〕−2−メチルプロピル、 (3) 1−〔(9−フルオレニルメトキシカルボニ
ル)アミノ〕−1−メチルエチル、 (4) 1−{[〔N−アセチル−N−(9−フルオレ
ニル)〕カルボニル]アミノ}メチル、 (5) 1−〔(フルオレン−Δ9.α−アセチル)ア
ミノ〕エチル (6) 1−〔(フルオレン−Δ9.α−アセチル)ア
ミノ〕−2−メチルプロピル (7) 1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)ア
ミノ〕−1−メチルエチル (8) 1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)ア
ミノ〕−1−メチルプロピル (9) 1−〔(9−フルオレニルメトキシカルボニ
ル)アミノ〕−1−シクロヘキシルメチル (10) 1−〔(9−フルオレニルメトキシカルボニ
ル)アミノ〕−1−メチルブチル (11) 1−{〔(2−(9−フルオレニル)アクリ
ロイル〕アミノ}−2−メチルプロピル (12) 1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)
アミノ〕−1−シクロプロピル (13) 1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)
アミノ〕−2−メチルプロピル (14) 1−〔(1−アダマンチルメトキシカルボニ
ル)アミノ〕−1−メチルエチル
−CONH−C(−R5)(−R6)−があげられるが
その具体例としては、例えば下記のごとき置換基を挙げ
ることができる。 (1) 1−〔(9−フルオレニルメトキシカルボニ
ル)アミノ〕エチル、 (2) 1−〔(9−フルオレニルメトキシカルボニ
ル)アミノ〕−2−メチルプロピル、 (3) 1−〔(9−フルオレニルメトキシカルボニ
ル)アミノ〕−1−メチルエチル、 (4) 1−{[〔N−アセチル−N−(9−フルオレ
ニル)〕カルボニル]アミノ}メチル、 (5) 1−〔(フルオレン−Δ9.α−アセチル)ア
ミノ〕エチル (6) 1−〔(フルオレン−Δ9.α−アセチル)ア
ミノ〕−2−メチルプロピル (7) 1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)ア
ミノ〕−1−メチルエチル (8) 1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)ア
ミノ〕−1−メチルプロピル (9) 1−〔(9−フルオレニルメトキシカルボニ
ル)アミノ〕−1−シクロヘキシルメチル (10) 1−〔(9−フルオレニルメトキシカルボニ
ル)アミノ〕−1−メチルブチル (11) 1−{〔(2−(9−フルオレニル)アクリ
ロイル〕アミノ}−2−メチルプロピル (12) 1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)
アミノ〕−1−シクロプロピル (13) 1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)
アミノ〕−2−メチルプロピル (14) 1−〔(1−アダマンチルメトキシカルボニ
ル)アミノ〕−1−メチルエチル
【0029】(15) 1−{[9− (2,7−ビス
(ジメチルアミノ)フルオレニル〕]アミノ}エチル (18) 1−〔(9−フルオレニルオキシメチルカル
ボニル)アミノ〕−1−(メチルチオ)メチル (19) 1−{〔(2,2−ジフェニルエトキシ)カ
ルボニル〕アミノ}−2−メチルプロピル (20) 1−{〔(ジフェニルメトキシ)アセチル〕
アミノ}−2−メチルプロピル (21) 2−メチル−1−{[〔(+)−α−(2−
ピリジル)ベンジルオキシ〕アセチル]アミノ}プロピ
ル (22) 1−{[〔ジ−(2−ピリジル)メトキシ〕
アセチル]アミノ}−2−メチルプロピル (23) 1−〔(4,4−ジフェニルブチリル)アミ
ノ〕−2−メチルプロピル (24) 1−{[〔ビス(4−フルオロフェニル)メ
トキシ〕アセチル]アミノ}−2−メチルプロピル (25) 〔(4,4−ジフェニル−2−ブテノイル)
アミノ〕メチル (26) 1−〔(3,3−ジフェニルプロピオニル)
アミノ〕−2−メチルプロピル (27) 1−〔(N,N−ジフェニルグリシル)アミ
ノ〕−2−メチルプロピル (28) 1−{〔3−(N,N−ジフェニルアミノ)
プロピオニル〕アミノ}−2−メチルプロピル (29) 1−〔(N,N−ジフェニルグリシル)アミ
ノ〕−2−メチルプロピル (30) 1−メチルエチル (31) 2−メトキシエチル (32) tert−ブトキシカルボニルアミノメチル (33) 3−エトキシ−3−オキソプロピル (34) ビニル 等を挙げることができる。
(ジメチルアミノ)フルオレニル〕]アミノ}エチル (18) 1−〔(9−フルオレニルオキシメチルカル
ボニル)アミノ〕−1−(メチルチオ)メチル (19) 1−{〔(2,2−ジフェニルエトキシ)カ
ルボニル〕アミノ}−2−メチルプロピル (20) 1−{〔(ジフェニルメトキシ)アセチル〕
アミノ}−2−メチルプロピル (21) 2−メチル−1−{[〔(+)−α−(2−
ピリジル)ベンジルオキシ〕アセチル]アミノ}プロピ
ル (22) 1−{[〔ジ−(2−ピリジル)メトキシ〕
アセチル]アミノ}−2−メチルプロピル (23) 1−〔(4,4−ジフェニルブチリル)アミ
ノ〕−2−メチルプロピル (24) 1−{[〔ビス(4−フルオロフェニル)メ
トキシ〕アセチル]アミノ}−2−メチルプロピル (25) 〔(4,4−ジフェニル−2−ブテノイル)
アミノ〕メチル (26) 1−〔(3,3−ジフェニルプロピオニル)
アミノ〕−2−メチルプロピル (27) 1−〔(N,N−ジフェニルグリシル)アミ
ノ〕−2−メチルプロピル (28) 1−{〔3−(N,N−ジフェニルアミノ)
プロピオニル〕アミノ}−2−メチルプロピル (29) 1−〔(N,N−ジフェニルグリシル)アミ
ノ〕−2−メチルプロピル (30) 1−メチルエチル (31) 2−メトキシエチル (32) tert−ブトキシカルボニルアミノメチル (33) 3−エトキシ−3−オキソプロピル (34) ビニル 等を挙げることができる。
【0030】置換されていてもよいヘテロアリールとし
ては、2−、3−又は4−ピリジル等を挙げることがで
きる。
ては、2−、3−又は4−ピリジル等を挙げることがで
きる。
【0031】本発明の製法において、上述の置換基R又
はR2中に存在するカルボキシル基、ヒドロキシル基お
よびアミノ基等の官能基は、通常のペプチド合成におい
て用いられる常法により、保護基で保護された状態で使
用される。保護基としては好適には、反応後、所望によ
り容易に除去し得るものが使用される。
はR2中に存在するカルボキシル基、ヒドロキシル基お
よびアミノ基等の官能基は、通常のペプチド合成におい
て用いられる常法により、保護基で保護された状態で使
用される。保護基としては好適には、反応後、所望によ
り容易に除去し得るものが使用される。
【0032】カルボキシル基の保護基としては、メチル
基、エチル基等のアルキル基;無置換若しくはメチル、
メトキシ、ニトロ基等で置換されたベンジル基等を挙げ
ることができる。水酸基の保護基としては、メチル基、
エチル基等のアルキル基;無置換若しくはメチル、メト
キシ、ニトロ基等で置換されたベンジル基等を挙げるこ
とができる。
基、エチル基等のアルキル基;無置換若しくはメチル、
メトキシ、ニトロ基等で置換されたベンジル基等を挙げ
ることができる。水酸基の保護基としては、メチル基、
エチル基等のアルキル基;無置換若しくはメチル、メト
キシ、ニトロ基等で置換されたベンジル基等を挙げるこ
とができる。
【0033】アミノ基の保護基としては、無置換ベンジ
ルオキシカルボニル基;若しくは芳香環上にメチル基、
メトキシ基、塩素原子、ニトロ基等で置換されたベンジ
ルオキシカルボニル基;トリクロロエトキシカルボニル
基、tert−ブトキシカルボニル基等のアルコキシカ
ルボニル基;ホルミル基、トリフルオロアセチル基、フ
タリル基、トシル基又はベンジル基等を挙げることがで
きる。カルボン酸の反応性誘導体とは、活性エステル、
酸ハライド、酸アジド、酸無水物、混合酸無水物、又は
イミダゾールアミド等を挙げることができる。
ルオキシカルボニル基;若しくは芳香環上にメチル基、
メトキシ基、塩素原子、ニトロ基等で置換されたベンジ
ルオキシカルボニル基;トリクロロエトキシカルボニル
基、tert−ブトキシカルボニル基等のアルコキシカ
ルボニル基;ホルミル基、トリフルオロアセチル基、フ
タリル基、トシル基又はベンジル基等を挙げることがで
きる。カルボン酸の反応性誘導体とは、活性エステル、
酸ハライド、酸アジド、酸無水物、混合酸無水物、又は
イミダゾールアミド等を挙げることができる。
【0034】本発明の製法における特定の縮合剤の具体
例としては、例えばクロロ炭酸エチル、クロロ炭酸1−
メチルプロピル、クロロ炭酸イソブチル、クロロ炭酸ト
リクロロメチル等のハロゲン化炭酸モノアルキルエステ
ル;アセチルクロリド、プロピオニルクロリド又はピバ
ロイルクロリド等のアシルハライド、メタンスルホニル
クロライド、ベンゼンスルホニルクロライド、2,4,
6−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロリド等の
脂肪族又は芳香族スルホニルハロゲン化物;ジフェニル
リン酸クロライド、1,1′−カルボニルイミダゾール
又はMe2N+=CHCl・Cl−で表されるウイルス
マイヤー試薬等を挙げることができる。好ましくはハロ
ゲン化炭酸モノアルキルである。
例としては、例えばクロロ炭酸エチル、クロロ炭酸1−
メチルプロピル、クロロ炭酸イソブチル、クロロ炭酸ト
リクロロメチル等のハロゲン化炭酸モノアルキルエステ
ル;アセチルクロリド、プロピオニルクロリド又はピバ
ロイルクロリド等のアシルハライド、メタンスルホニル
クロライド、ベンゼンスルホニルクロライド、2,4,
6−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロリド等の
脂肪族又は芳香族スルホニルハロゲン化物;ジフェニル
リン酸クロライド、1,1′−カルボニルイミダゾール
又はMe2N+=CHCl・Cl−で表されるウイルス
マイヤー試薬等を挙げることができる。好ましくはハロ
ゲン化炭酸モノアルキルである。
【0035】次に本発明の製造法について、詳細に述べ
る。本発明のベンゾオキサジノン誘導体の製法は下記の
反応式により表すことができる。
る。本発明のベンゾオキサジノン誘導体の製法は下記の
反応式により表すことができる。
【0036】
【化13】 (式中、R1、R2及びRは上記と同義である)
【0037】本発明の製造法を上記の反応式により前段
のN−アシル化反応と後段の閉環反応とに分けて詳細に
説明する。
のN−アシル化反応と後段の閉環反応とに分けて詳細に
説明する。
【0038】本発明の製造方法の前段のN−アシル化反
応は、カルボン酸(式I)をハロゲン化炭酸モノアルキ
ルエステル、アシルハライド、1,1′−カルボニルジ
イミダゾール、脂肪族スルホニルハロゲン化物、若しく
は芳香族スルホニルハロゲン化物、ジフェニルリン酸ハ
ライド又はMe2N+=CHX・X−から選ばれる縮合
剤(II)の存在下で、N,N−ジメチルホルムアミド
(DMF)、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−
ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、メチレンクロ
ライド、クロロホルム、アセトン、アセトニトリル又は
酢酸エチル等の溶媒中、必要ならば、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、ジメチ
ルアミノピリジン、ピリジン又はルチジン等の有機塩基
の共存下に、
応は、カルボン酸(式I)をハロゲン化炭酸モノアルキ
ルエステル、アシルハライド、1,1′−カルボニルジ
イミダゾール、脂肪族スルホニルハロゲン化物、若しく
は芳香族スルホニルハロゲン化物、ジフェニルリン酸ハ
ライド又はMe2N+=CHX・X−から選ばれる縮合
剤(II)の存在下で、N,N−ジメチルホルムアミド
(DMF)、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−
ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン、メチレンクロ
ライド、クロロホルム、アセトン、アセトニトリル又は
酢酸エチル等の溶媒中、必要ならば、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、N−メチルモルホリン、ジメチ
ルアミノピリジン、ピリジン又はルチジン等の有機塩基
の共存下に、
【化14】 (式中、R1、R2は上記と同義である)で表される2
−アミノ安息香酸誘導体と、反応させることにより、一
般式(IV)
−アミノ安息香酸誘導体と、反応させることにより、一
般式(IV)
【化15】 (式中、R1、R2およびRは上記と同義である)で表
される2−アシルアミノ安息香酸を生成させるものであ
る。
される2−アシルアミノ安息香酸を生成させるものであ
る。
【0039】上記縮合剤の使用量は、例えばハロゲン化
炭酸エステルの場合には、カルボン酸(I)のモル数に
対し少なくとも等モル量以上であり、通常等モル量を使
用することが好適である。
炭酸エステルの場合には、カルボン酸(I)のモル数に
対し少なくとも等モル量以上であり、通常等モル量を使
用することが好適である。
【0040】有機塩基の使用量は、カルボン酸(I)の
使用量に対し少なくとも等モル量が好ましく、好適には
等モル量である。
使用量に対し少なくとも等モル量が好ましく、好適には
等モル量である。
【0041】本前段のN−アシル化反応を行うに際して
は、カルボン酸(I)と初め縮合剤(II)を所望によ
り有機塩基と共に低温の下で混合せしめた後に、2−ア
ミノ安息香酸(III)と反応せしめるのが好ましい態
様である。カルボン酸(I)に縮合剤(II)を加える
温度は、使用する化合物の種類、溶媒の種類、有機塩基
の種類等により選択されるが、通常は−20℃乃至室温
の間であり、好適には0℃から室温の間である。
は、カルボン酸(I)と初め縮合剤(II)を所望によ
り有機塩基と共に低温の下で混合せしめた後に、2−ア
ミノ安息香酸(III)と反応せしめるのが好ましい態
様である。カルボン酸(I)に縮合剤(II)を加える
温度は、使用する化合物の種類、溶媒の種類、有機塩基
の種類等により選択されるが、通常は−20℃乃至室温
の間であり、好適には0℃から室温の間である。
【0042】カルボン酸(I)と2−アミノ安息香酸
(III)との反応温度は、使用する化合物の種類、溶
媒の種類、塩基物質の種類等により種々の範囲に選択さ
れるものであり特定されないが、−20℃乃至100℃
の間であり、好適には0℃から50℃の間である。
(III)との反応温度は、使用する化合物の種類、溶
媒の種類、塩基物質の種類等により種々の範囲に選択さ
れるものであり特定されないが、−20℃乃至100℃
の間であり、好適には0℃から50℃の間である。
【0043】反応時間は、使用する化合物の種類、反応
温度、塩基物質の種類、溶媒の種類その他の条件により
異なるが、通常は、数分から約20時間の範囲であり、
一般的には反応生成物が安定であるならば反応温度が高
い方が反応時間が短くなる。
温度、塩基物質の種類、溶媒の種類その他の条件により
異なるが、通常は、数分から約20時間の範囲であり、
一般的には反応生成物が安定であるならば反応温度が高
い方が反応時間が短くなる。
【0044】次に後段の閉環反応について述べる。上記
方法で得られる2−アシルアミノ安息香酸(IV)を単
離・精製することなく、前述の縮合剤(II)の中から
選ばれる物質の存在下、有機溶媒中、塩基の存在下反応
させることにより、一般式(V)
方法で得られる2−アシルアミノ安息香酸(IV)を単
離・精製することなく、前述の縮合剤(II)の中から
選ばれる物質の存在下、有機溶媒中、塩基の存在下反応
させることにより、一般式(V)
【化16】 (式中、R1、R2およびRは上記と同義である)で表
されるベンゾオキサジノン誘導体を得ることができる。
されるベンゾオキサジノン誘導体を得ることができる。
【0045】上記閉環反応において使用し得る縮合剤、
塩基および溶媒は、前段のアシル化反応に使用したもの
と同一又は異なったものを適宜使用することができる。
好適には前段に用いた縮合剤、塩基物質および溶媒が使
用される。
塩基および溶媒は、前段のアシル化反応に使用したもの
と同一又は異なったものを適宜使用することができる。
好適には前段に用いた縮合剤、塩基物質および溶媒が使
用される。
【0046】上記の反応の反応温度の範囲は、用いる化
合物の種類、溶媒の種類、塩基物質の種類等の条件によ
り適宜選択されるものであり特定はされないが、通常
は、−20℃乃至50℃の間である。
合物の種類、溶媒の種類、塩基物質の種類等の条件によ
り適宜選択されるものであり特定はされないが、通常
は、−20℃乃至50℃の間である。
【0047】反応の時間は、用いる化合物の種類、反応
温度、塩基物質の種類、溶媒の種類その他の条件により
異なるが、通常は、数分から約72時間の範囲であり、
一般的には反応生成物が安定であるならば反応温度が高
い方が反応時間を短くすることができる。
温度、塩基物質の種類、溶媒の種類その他の条件により
異なるが、通常は、数分から約72時間の範囲であり、
一般的には反応生成物が安定であるならば反応温度が高
い方が反応時間を短くすることができる。
【0048】閉環反応に用いる縮合剤の量は、2−アシ
ルアミノ安息香酸(IV)に対し等モル量が好ましい。
反応系中の化合物(IV)の生成量はHPLC等の常法
により定量することができる。
ルアミノ安息香酸(IV)に対し等モル量が好ましい。
反応系中の化合物(IV)の生成量はHPLC等の常法
により定量することができる。
【0049】閉環反応において用いる塩基の量は、閉環
反応に用いる縮合剤の量に対し少なくとも等モル量であ
り、より好適には等モル量である。
反応に用いる縮合剤の量に対し少なくとも等モル量であ
り、より好適には等モル量である。
【0050】上記反応生成物は、公知の適宜な手段、例
えば溶媒抽出、再結晶法等により分離精製することがで
きる。
えば溶媒抽出、再結晶法等により分離精製することがで
きる。
【0051】抽出溶媒としては不活性溶媒が用いられ、
好適にはクロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、酢酸エチル又はこれらの混合物等である。
好適にはクロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタ
ン、酢酸エチル又はこれらの混合物等である。
【0052】再結晶に用いる溶媒としては、イソプロピ
ルエーテル等のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメ
タン等のハロゲン化アルキル、酢酸メチル、酢酸エチル
等のエステル類、n−ヘキサン等のアルカン類又はこれ
らの混合物等を挙げることができる。
ルエーテル等のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメ
タン等のハロゲン化アルキル、酢酸メチル、酢酸エチル
等のエステル類、n−ヘキサン等のアルカン類又はこれ
らの混合物等を挙げることができる。
【0053】本発明の製造法において使用する化合物
(I)および化合物(III)は、分子骨格中に不斉炭
素原子が存在していてもよく、立体異性体である鏡像異
性体、ジアステレオマー体も存在しうるので、本発明の
範囲には、これら異性体およびそれらの混合物も含まれ
る。
(I)および化合物(III)は、分子骨格中に不斉炭
素原子が存在していてもよく、立体異性体である鏡像異
性体、ジアステレオマー体も存在しうるので、本発明の
範囲には、これら異性体およびそれらの混合物も含まれ
る。
【0054】本発明の方法により製造し得る化合物の好
適な例を、以下の表に例示する。なお、表中、Meはメ
チル基、Etはエチル基、t−Buはtert−ブチル
基、4−F−フェニルは4−フルオロフェニル基を表
し、またベンゾオキサジノン骨格中のR1の置換部位は
5位でありR2の置換部位は7位である。
適な例を、以下の表に例示する。なお、表中、Meはメ
チル基、Etはエチル基、t−Buはtert−ブチル
基、4−F−フェニルは4−フルオロフェニル基を表
し、またベンゾオキサジノン骨格中のR1の置換部位は
5位でありR2の置換部位は7位である。
【0055】
【化17】
【0056】
【表1】
【0057】
【表2】
【0058】
【表3】
【0059】
【化18】
【0060】
【表4】
【0061】本発明方法を以下の実施例により詳細に説
明する。なお、実施例の記載中、FAB−MSは高速原
子衝撃質量分析スペクトルを、EI−MSは電子衝撃イ
オン化質量分析スペクトルを示す。
明する。なお、実施例の記載中、FAB−MSは高速原
子衝撃質量分析スペクトルを、EI−MSは電子衝撃イ
オン化質量分析スペクトルを示す。
【0062】参考例1 N−(9−フルオレン−Δ9.α−アセチル)−L−バ
リン a)メチル 9−フルオレン−Δ9.α−アセテート 9−フルオレノン(20g)とメチル(トリフェニルホ
スホラニデン)アセテート(63.1g)のトルエン懸
濁液(400ml)を139時間加熱還流した。反応液
を濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製し、黄色結晶のメチル 9−フルオレン−
Δ9.α−アセテート(24g)を得た。
リン a)メチル 9−フルオレン−Δ9.α−アセテート 9−フルオレノン(20g)とメチル(トリフェニルホ
スホラニデン)アセテート(63.1g)のトルエン懸
濁液(400ml)を139時間加熱還流した。反応液
を濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにより精製し、黄色結晶のメチル 9−フルオレン−
Δ9.α−アセテート(24g)を得た。
【0063】b)9−フルオレン−Δ9.α−酢酸 メチル 9−フルオレノン−Δ9.α−アセテート(1
1.8g)のメタノール懸濁溶液(600ml)に、氷
冷下で、1N水酸化ナトリウム(130ml)を滴下
し、室温で3日撹拌した。反応液を濃縮した後、水を加
えエーテルで洗浄した。氷冷下において、濃塩酸(約3
5%)を用いることにより水層の液性をpH1とした。
析出した沈殿物を濾過し、水を用いて中性になるまで洗
った。この沈殿物を酢酸エチルより再結晶し、9−フル
オレン−Δ9.α−酢酸(10.2g)を得た。
1.8g)のメタノール懸濁溶液(600ml)に、氷
冷下で、1N水酸化ナトリウム(130ml)を滴下
し、室温で3日撹拌した。反応液を濃縮した後、水を加
えエーテルで洗浄した。氷冷下において、濃塩酸(約3
5%)を用いることにより水層の液性をpH1とした。
析出した沈殿物を濾過し、水を用いて中性になるまで洗
った。この沈殿物を酢酸エチルより再結晶し、9−フル
オレン−Δ9.α−酢酸(10.2g)を得た。
【0064】c)N−(9−フルオレン−Δ9.α−ア
セチル)−L−バリン メチルエステル 9−フルオレン−Δ9.α−酢酸とL−バリン メチル
エステル塩酸塩の塩化メチレン溶液に、氷冷下で、トリ
エチルアミン及び1−ヒドロキシトリアゾールを順次加
え、水溶性カルボジイミド塩酸塩を加えた。0℃で0.
5時間撹拌した後、室温で20時間撹拌した。反応液を
5%塩酸、飽和重そう水、飽和食塩水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにてより精製し、
N−(9−フルオレン−Δ9.α−アセチル)−L−バ
リン メチルエステルを得た。
セチル)−L−バリン メチルエステル 9−フルオレン−Δ9.α−酢酸とL−バリン メチル
エステル塩酸塩の塩化メチレン溶液に、氷冷下で、トリ
エチルアミン及び1−ヒドロキシトリアゾールを順次加
え、水溶性カルボジイミド塩酸塩を加えた。0℃で0.
5時間撹拌した後、室温で20時間撹拌した。反応液を
5%塩酸、飽和重そう水、飽和食塩水で順次洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにてより精製し、
N−(9−フルオレン−Δ9.α−アセチル)−L−バ
リン メチルエステルを得た。
【0065】d)N−(9−フルオレン−Δ9.α−ア
セチル)−L−バリン N−(9−フルオレン−Δ9.α−アセチル)−L−バ
リン メチルエステルのエタノール溶液に、氷冷下で、
1N水酸化ナトリウムを滴下した。反応液を濃縮し、残
渣を水に溶かし、エーテルで抽出した。水層の液性を、
塩酸を用いてpH3乃至4とし、析出した物質を濾取し
た。この析出物質を氷冷水で洗浄した。本物質を酢酸メ
チル−メタノール混液を用いて再結晶し、N−(9−フ
ルオレン−Δ9.α−アセチル)−L−バリンを得た。
セチル)−L−バリン N−(9−フルオレン−Δ9.α−アセチル)−L−バ
リン メチルエステルのエタノール溶液に、氷冷下で、
1N水酸化ナトリウムを滴下した。反応液を濃縮し、残
渣を水に溶かし、エーテルで抽出した。水層の液性を、
塩酸を用いてpH3乃至4とし、析出した物質を濾取し
た。この析出物質を氷冷水で洗浄した。本物質を酢酸メ
チル−メタノール混液を用いて再結晶し、N−(9−フ
ルオレン−Δ9.α−アセチル)−L−バリンを得た。
【0066】
実施例1 2−{1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミ
ノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 2−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミノ〕−
2−メチルプロピオン酸(50.0g)をDMF(25
0ml)に溶解した。この溶液にトリエチルアミン(2
3.6ml)を3〜7℃の間で3分かけて滴下した。反
応溶液の温度が3℃に戻ったところで、クロロ炭酸エチ
ル(16.1ml)を3〜8℃の間で5分かけて滴下
し、3℃で20分撹拌した。この反応液に、2−アミノ
−6−メチル安息香酸(23.3g)およびトリエチル
アミン(21.5ml)のDMF(80ml)溶液を、
1〜5℃の間で10分かけて滴下した。この反応液を5
0℃で12時間撹拌した後、3℃に氷冷した。氷冷後、
トリエチルアミン(23.6ml)を3℃で1分かけて
滴下した後、クロロ炭酸エチル(16.1ml)を3〜
10℃で10分かけて滴下した。この反応液を3℃で6
時間撹拌した後、飽和塩化ナトリウム水溶液(500m
l)と水(500ml)との混合液中に注ぎこんだ。次
に、酢酸エチル(1リットル)と塩化メチレン(800
ml)との混合溶媒で抽出した後、さらに水層を酢酸エ
チル(1リットル)で抽出した。有機層を合わせ、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過後、濾液を減圧濃縮し
た。残渣を酢酸エチル(800ml)で再結晶した。析
出結晶を濾取し、50℃で15時間減圧乾燥することに
より、2−{1−〔(9−フルオレニルオキシアセチ
ル)アミノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H
−3,1−ベンゾオキサジン−4−オンを白色の針状結
晶として47.4gを得た。 mp:162.1〜162.8℃ FAB−MS(m/z):441(MH+)1 HNMR(CDCl3,δ値):1.78(6H,
s),2.80(3H,s)、3.75(2H,s)、
5.77(1H,s)、7.3−7.45(6H,
m)、7.6−7.7(5H,m)、7.90(1H,
brs)
ノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 2−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミノ〕−
2−メチルプロピオン酸(50.0g)をDMF(25
0ml)に溶解した。この溶液にトリエチルアミン(2
3.6ml)を3〜7℃の間で3分かけて滴下した。反
応溶液の温度が3℃に戻ったところで、クロロ炭酸エチ
ル(16.1ml)を3〜8℃の間で5分かけて滴下
し、3℃で20分撹拌した。この反応液に、2−アミノ
−6−メチル安息香酸(23.3g)およびトリエチル
アミン(21.5ml)のDMF(80ml)溶液を、
1〜5℃の間で10分かけて滴下した。この反応液を5
0℃で12時間撹拌した後、3℃に氷冷した。氷冷後、
トリエチルアミン(23.6ml)を3℃で1分かけて
滴下した後、クロロ炭酸エチル(16.1ml)を3〜
10℃で10分かけて滴下した。この反応液を3℃で6
時間撹拌した後、飽和塩化ナトリウム水溶液(500m
l)と水(500ml)との混合液中に注ぎこんだ。次
に、酢酸エチル(1リットル)と塩化メチレン(800
ml)との混合溶媒で抽出した後、さらに水層を酢酸エ
チル(1リットル)で抽出した。有機層を合わせ、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過後、濾液を減圧濃縮し
た。残渣を酢酸エチル(800ml)で再結晶した。析
出結晶を濾取し、50℃で15時間減圧乾燥することに
より、2−{1−〔(9−フルオレニルオキシアセチ
ル)アミノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H
−3,1−ベンゾオキサジン−4−オンを白色の針状結
晶として47.4gを得た。 mp:162.1〜162.8℃ FAB−MS(m/z):441(MH+)1 HNMR(CDCl3,δ値):1.78(6H,
s),2.80(3H,s)、3.75(2H,s)、
5.77(1H,s)、7.3−7.45(6H,
m)、7.6−7.7(5H,m)、7.90(1H,
brs)
【0067】実施例2 2−{1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミ
ノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 実施例1の方法において、2−〔(9−フルオレニルオ
キシアセチル)アミノ〕−2−メチルプロピオン酸(5
0.0g)を)DMF(250ml)に溶解した。この
溶液にトリエチルアミン(23.6ml)を3〜7℃の
間で3分かけて滴下した。反応溶液の温度が3℃に戻っ
たところで、クロロ炭酸エチル(16.1ml)を3〜
8℃の間で5分かけて滴下し、3℃で20分撹拌した。
この反応液に、2−アミノ−6−メチル安息香酸(2
3.3g)およびトリエチルアミン(21.5ml)の
DMF(80ml)溶液を、1〜5℃の間で10分かけ
て滴下した。この反応液を2℃で72時間撹拌した。以
下実施例1と同様に処理することにより実施例1記載の
化合物40gを得た。
ノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 実施例1の方法において、2−〔(9−フルオレニルオ
キシアセチル)アミノ〕−2−メチルプロピオン酸(5
0.0g)を)DMF(250ml)に溶解した。この
溶液にトリエチルアミン(23.6ml)を3〜7℃の
間で3分かけて滴下した。反応溶液の温度が3℃に戻っ
たところで、クロロ炭酸エチル(16.1ml)を3〜
8℃の間で5分かけて滴下し、3℃で20分撹拌した。
この反応液に、2−アミノ−6−メチル安息香酸(2
3.3g)およびトリエチルアミン(21.5ml)の
DMF(80ml)溶液を、1〜5℃の間で10分かけ
て滴下した。この反応液を2℃で72時間撹拌した。以
下実施例1と同様に処理することにより実施例1記載の
化合物40gを得た。
【0068】実施例3 2−(2−メトキシエチル)−5−メチル−4H−3,
1−ベンゾオキサジン−4−オン 3−メトキシプロピオン酸(1.00g)のDMF溶液
(20ml)に氷冷下、トリエチルアミン(1.48m
l)及びクロロ炭酸エチル(1.00ml)を滴下し1
0分間撹拌した。氷冷下、2−アミノ−6−メチル安息
香酸(1.45g)とトリエチルアミン(1.34m
l)のDMF混合溶液(5ml)を滴下し、4.5時間
撹拌後、室温でさらに17時間撹拌した。反応液を氷冷
後トリエチルアミン(1.48ml)及びクロロ炭酸エ
チル(1.00ml)を順次滴下した。1.5時間撹拌
後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をn
−ヘキサンより結晶化し、2−(2−メトキシエチル)
−5−メチル−4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−
オンを白色結晶として1.24g得た。 mp:81.6〜82.7℃ FAB−MS(m/z):220(MH+),188,
1601 HNMR(CDCl3,δ値):2.79(3H,
s),2.93(2H,t,J=6.6Hz)、3.3
9(3H,s)、3.85(2H,t,J=6.6H
z)、7.27(1H,d,J=8.1Hz)、7.4
0(1H,d,J=8.1Hz)、7.62(1H,
t,J=8.1Hz)
1−ベンゾオキサジン−4−オン 3−メトキシプロピオン酸(1.00g)のDMF溶液
(20ml)に氷冷下、トリエチルアミン(1.48m
l)及びクロロ炭酸エチル(1.00ml)を滴下し1
0分間撹拌した。氷冷下、2−アミノ−6−メチル安息
香酸(1.45g)とトリエチルアミン(1.34m
l)のDMF混合溶液(5ml)を滴下し、4.5時間
撹拌後、室温でさらに17時間撹拌した。反応液を氷冷
後トリエチルアミン(1.48ml)及びクロロ炭酸エ
チル(1.00ml)を順次滴下した。1.5時間撹拌
後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水で順次洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮した。残渣をn
−ヘキサンより結晶化し、2−(2−メトキシエチル)
−5−メチル−4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−
オンを白色結晶として1.24g得た。 mp:81.6〜82.7℃ FAB−MS(m/z):220(MH+),188,
1601 HNMR(CDCl3,δ値):2.79(3H,
s),2.93(2H,t,J=6.6Hz)、3.3
9(3H,s)、3.85(2H,t,J=6.6H
z)、7.27(1H,d,J=8.1Hz)、7.4
0(1H,d,J=8.1Hz)、7.62(1H,
t,J=8.1Hz)
【0069】実施例4 2−{〔N−(tert−ブトキシカルボニル)アミ
ノ〕メチル}−5−メチル−4H−3,1−ベンゾオキ
サジン−4−オン N−(tert−ブトキシカルボニル)グリシン(1.
00g)のDMF溶液(10ml)に氷冷下、トリエチ
ルアミン(0.87ml)とクロロ炭酸エチル(0.5
9ml)を滴下し、15分間撹拌した。2−アミノ−6
−メチル安息香酸(0.86g)とトリエチルアミン
(0.79ml)のDMF溶液(8ml)を滴下した
後、氷冷下で30分間、次いで室温で17時間撹拌し
た。この反応液を氷冷後、トリエチルアミン(0.79
ml)とクロロ炭酸エチル(0.54ml)を滴下し、
1時間撹拌した。反応液を水中に注ぎ酢酸エチル抽出し
た。有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水で
順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し
た。残渣を酢酸エチル−n−ヘキサン混液を用いて結晶
化し、2−{〔N−(tert−ブトキシカルボニル)
アミノ〕メチル}−5−メチル−4H−3,1−ベンゾ
オキサジン−4−オンを白色結晶(770mg)として
得た。 mp:126.9〜128.0℃ FAB−MS(m/z):291(MH+)、235、
191、1601 HNMR(CDCl3、δ値):1.49(9H,
s)、2.79(3H,s)、4.27(2H,d,J
=5.0Hz)、5.33(1H,brs)、7.30
(1H,d,J=7.8Hz)、7.42(1H,d,
J=7.8Hz)、7.64(1H,t,J=7.8H
z)
ノ〕メチル}−5−メチル−4H−3,1−ベンゾオキ
サジン−4−オン N−(tert−ブトキシカルボニル)グリシン(1.
00g)のDMF溶液(10ml)に氷冷下、トリエチ
ルアミン(0.87ml)とクロロ炭酸エチル(0.5
9ml)を滴下し、15分間撹拌した。2−アミノ−6
−メチル安息香酸(0.86g)とトリエチルアミン
(0.79ml)のDMF溶液(8ml)を滴下した
後、氷冷下で30分間、次いで室温で17時間撹拌し
た。この反応液を氷冷後、トリエチルアミン(0.79
ml)とクロロ炭酸エチル(0.54ml)を滴下し、
1時間撹拌した。反応液を水中に注ぎ酢酸エチル抽出し
た。有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム、飽和食塩水で
順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮し
た。残渣を酢酸エチル−n−ヘキサン混液を用いて結晶
化し、2−{〔N−(tert−ブトキシカルボニル)
アミノ〕メチル}−5−メチル−4H−3,1−ベンゾ
オキサジン−4−オンを白色結晶(770mg)として
得た。 mp:126.9〜128.0℃ FAB−MS(m/z):291(MH+)、235、
191、1601 HNMR(CDCl3、δ値):1.49(9H,
s)、2.79(3H,s)、4.27(2H,d,J
=5.0Hz)、5.33(1H,brs)、7.30
(1H,d,J=7.8Hz)、7.42(1H,d,
J=7.8Hz)、7.64(1H,t,J=7.8H
z)
【0070】実施例5 2−{(S)−1−〔(フルオレン−Δ9.α−アセチ
ル)アミノ〕−2−メチルプロピル}−5−メチル−4
H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン 実施例4と同様の方法により、N−(フルオレン−Δ
9.α−アセチル)−L−バリンと2−アミノ−6メチ
ル安息香酸とを反応させ、以下実施例4と同様に処理す
ることにより、2−{(S)−1−〔(フルオレン−Δ
9.α−アセチル)アミノ〕−2−メチルプロピル}−
5−メチル−4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オ
ンの淡黄色結晶を得た。 mp:196.0〜197.0℃ FAB−MS(m/z):437(MH+)、2051 HNMR(CDCl3,δ値):1.05(3H,
d,J=6.9Hz)、1.11(3H,d,J=6.
9Hz)、2.44(1H,m)、2.79(3H,
s)、5.09(1H,dd,J=8.8,5.5H
z)、6.69(1H,d,J=8.8Hz)、6.8
5(1H,s)、7.18〜7.42(6H,m)、
7.61〜7.70(4H,m)、8.71(1H,
d,J=7.7Hz)
ル)アミノ〕−2−メチルプロピル}−5−メチル−4
H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン 実施例4と同様の方法により、N−(フルオレン−Δ
9.α−アセチル)−L−バリンと2−アミノ−6メチ
ル安息香酸とを反応させ、以下実施例4と同様に処理す
ることにより、2−{(S)−1−〔(フルオレン−Δ
9.α−アセチル)アミノ〕−2−メチルプロピル}−
5−メチル−4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オ
ンの淡黄色結晶を得た。 mp:196.0〜197.0℃ FAB−MS(m/z):437(MH+)、2051 HNMR(CDCl3,δ値):1.05(3H,
d,J=6.9Hz)、1.11(3H,d,J=6.
9Hz)、2.44(1H,m)、2.79(3H,
s)、5.09(1H,dd,J=8.8,5.5H
z)、6.69(1H,d,J=8.8Hz)、6.8
5(1H,s)、7.18〜7.42(6H,m)、
7.61〜7.70(4H,m)、8.71(1H,
d,J=7.7Hz)
【0071】実施例6 5−メチル−2−ビニル−4H−3,1−ベンゾオキサ
ジノン−4−オン 実施例4に記載の方法と同様にして、3−クロロプロピ
オン酸と2−アミノ−6−メチル安息香酸とを反応さ
せ、以下実施例4と同様に処理することにより、5−メ
チル−2−ビニル−4H−3,1−ベンゾオキサジノン
−4−オンを白色結晶として得た。なお、この反応にお
いては、脱HClされて2位はビニル基となる。 mp:92.7〜93.1℃ FAB−MS(m/z):188(MH+)1 HNMR(CDCl3,δ値):2.80(3H,
s),5.91(1H,dd,J=10.2,1.5H
z)、6.40(1H,dd,J=17.4,10.2
Hz)、6.56(1H,dd,J=17.4,1.5
Hz)、7.28(1H,d,J=7.8Hz)、7.
42(1H,d,J=7.8Hz)、7.63(1H,
t,J=7.8Hz)
ジノン−4−オン 実施例4に記載の方法と同様にして、3−クロロプロピ
オン酸と2−アミノ−6−メチル安息香酸とを反応さ
せ、以下実施例4と同様に処理することにより、5−メ
チル−2−ビニル−4H−3,1−ベンゾオキサジノン
−4−オンを白色結晶として得た。なお、この反応にお
いては、脱HClされて2位はビニル基となる。 mp:92.7〜93.1℃ FAB−MS(m/z):188(MH+)1 HNMR(CDCl3,δ値):2.80(3H,
s),5.91(1H,dd,J=10.2,1.5H
z)、6.40(1H,dd,J=17.4,10.2
Hz)、6.56(1H,dd,J=17.4,1.5
Hz)、7.28(1H,d,J=7.8Hz)、7.
42(1H,d,J=7.8Hz)、7.63(1H,
t,J=7.8Hz)
【0072】以下実施例7〜11において異なる活性化
剤を用いた場合を示す。この結果については実施例1と
の比較において表5に示す。 実施例7 2−{1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミ
ノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 2−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミノ〕−
2−メチルプロピオン酸(1.0g)をDMF(10m
l)に溶解し、この溶液にトリエチルアミン(0.37
g)を加え、−10℃に冷却した。反応溶液に、ピバロ
イルクロリド(0.39g)を−10℃で滴下し、氷冷
下1時間反応させた。この反応液に、2−アミノ−6−
メチル安息香酸(0.4g)およびトリエチルアミン
(0.37g)のDMF(2ml)溶液を、氷冷下で滴
下し、室温で1時間、40℃で15時間反応させた。こ
の反応液にトリエチルアミン(1.56g)を滴下後、
氷冷下、ピバロイルクロリド(1.5g)を加えた。以
下実施例1と同様に処理することによって実施例1の製
法で得られた化合物(0.87g)を得た。
剤を用いた場合を示す。この結果については実施例1と
の比較において表5に示す。 実施例7 2−{1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミ
ノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 2−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミノ〕−
2−メチルプロピオン酸(1.0g)をDMF(10m
l)に溶解し、この溶液にトリエチルアミン(0.37
g)を加え、−10℃に冷却した。反応溶液に、ピバロ
イルクロリド(0.39g)を−10℃で滴下し、氷冷
下1時間反応させた。この反応液に、2−アミノ−6−
メチル安息香酸(0.4g)およびトリエチルアミン
(0.37g)のDMF(2ml)溶液を、氷冷下で滴
下し、室温で1時間、40℃で15時間反応させた。こ
の反応液にトリエチルアミン(1.56g)を滴下後、
氷冷下、ピバロイルクロリド(1.5g)を加えた。以
下実施例1と同様に処理することによって実施例1の製
法で得られた化合物(0.87g)を得た。
【0073】実施例8 2−{1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミ
ノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 2−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミノ〕−
2−メチルプロピオン酸(1.0g)をDMF(10m
l)に溶解した。この溶液にトリエチルアミン(0.4
7g)を−10℃で滴下した。次にクロロ炭酸エチル
(0.37g)を−10℃で滴下し、室温で1時間撹拌
した。上記の反応液に、2−アミノ−6−メチル安息香
酸(0.4g)およびトリエチルアミン(0.37g)
のDMF(2ml)溶液を、室温で加え、40℃で、1
5時間反応させた。反応液にトリエチルアミン(1.3
7g)を加え、氷冷した。氷冷下、メシル酸クロライド
(1.53g)を滴下した。以下実施例1と同様に処理
することにより実施例1の製法で得られた化合物(81
1mg)を得た。
ノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 2−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミノ〕−
2−メチルプロピオン酸(1.0g)をDMF(10m
l)に溶解した。この溶液にトリエチルアミン(0.4
7g)を−10℃で滴下した。次にクロロ炭酸エチル
(0.37g)を−10℃で滴下し、室温で1時間撹拌
した。上記の反応液に、2−アミノ−6−メチル安息香
酸(0.4g)およびトリエチルアミン(0.37g)
のDMF(2ml)溶液を、室温で加え、40℃で、1
5時間反応させた。反応液にトリエチルアミン(1.3
7g)を加え、氷冷した。氷冷下、メシル酸クロライド
(1.53g)を滴下した。以下実施例1と同様に処理
することにより実施例1の製法で得られた化合物(81
1mg)を得た。
【0074】実施例9及び10 2−{1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミ
ノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 2−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミノ〕−
2−メチルプロピオン酸(1.0g)をDMF(10m
l)に溶解した。この溶液にトリエチルアミン(0.4
7g)を−10℃で滴下した。次にクロロ炭酸エチル
(0.37g)を−10℃で滴下し、室温で1時間撹拌
した。上記の反応液に、2−アミノ−6−メチル安息香
酸(0.4g)およびトリエチルアミン(0.37g)
のDMF(2ml)溶液を、室温で加え、40℃で、1
5時間反応させた。この反応液に、実施例8におけるメ
シル酸クロライドを下記表中の活性化剤(実施例9、実
施例10)に代えた以外は実施例8と同様に処理するこ
とにより、実施例1の製法で得られた化合物を得た。
ノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 2−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミノ〕−
2−メチルプロピオン酸(1.0g)をDMF(10m
l)に溶解した。この溶液にトリエチルアミン(0.4
7g)を−10℃で滴下した。次にクロロ炭酸エチル
(0.37g)を−10℃で滴下し、室温で1時間撹拌
した。上記の反応液に、2−アミノ−6−メチル安息香
酸(0.4g)およびトリエチルアミン(0.37g)
のDMF(2ml)溶液を、室温で加え、40℃で、1
5時間反応させた。この反応液に、実施例8におけるメ
シル酸クロライドを下記表中の活性化剤(実施例9、実
施例10)に代えた以外は実施例8と同様に処理するこ
とにより、実施例1の製法で得られた化合物を得た。
【0075】実施例11 2−{1−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミ
ノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 2−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミノ〕−
2−メチルプロピオン酸(1.0g)をDMF(10m
l)に溶解し、0℃に冷却し、1,1′−カルボニルジ
イミダゾール0.5gを加えた。上記の反応液に、2−
アミノ−6−メチル安息香酸(0.46g)およびトリ
エチルアミン(0.37g)のDMF(1ml)溶液を
加え、0℃で、44時間反応させた。この反応液に、実
施例8におけるメシル酸クロライドをクロロ炭酸エチル
エステルに代えた以外は実施例8と同様に処理すること
により、実施例1の製法で得られた化合物0.79gを
得た。
ノ〕−1−メチルエチル}−5−メチル−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 2−〔(9−フルオレニルオキシアセチル)アミノ〕−
2−メチルプロピオン酸(1.0g)をDMF(10m
l)に溶解し、0℃に冷却し、1,1′−カルボニルジ
イミダゾール0.5gを加えた。上記の反応液に、2−
アミノ−6−メチル安息香酸(0.46g)およびトリ
エチルアミン(0.37g)のDMF(1ml)溶液を
加え、0℃で、44時間反応させた。この反応液に、実
施例8におけるメシル酸クロライドをクロロ炭酸エチル
エステルに代えた以外は実施例8と同様に処理すること
により、実施例1の製法で得られた化合物0.79gを
得た。
【0076】なお、表5中のEtOCOClはクロロ炭
酸エチルエステル、(Me)3CCO Clはピバロイ
ルクロリド、MSClはメシル酸クロライド、(Ph
O)2−P(=O)Clはジフェニルオキシリン酸クロ
リド、Me2N+=CHCl・Cl−はウイルスマイヤ
ー試薬を意味する。
酸エチルエステル、(Me)3CCO Clはピバロイ
ルクロリド、MSClはメシル酸クロライド、(Ph
O)2−P(=O)Clはジフェニルオキシリン酸クロ
リド、Me2N+=CHCl・Cl−はウイルスマイヤ
ー試薬を意味する。
【0077】
【表5】
【0078】実施例12 5−メチル−2−(1−メチルエチル)−4H−3,1
−ベンゾオキサジン−4−オン 2−アミノ−6−メチル安息香酸(1.00g)のTH
F溶液(15ml)に、氷冷下、トリエチルアミン
(1.84ml)を加え、次いでイソブチリルクロリド
(1.39ml)を滴下した。45分間撹拌後、氷冷
下、トリエチルアミン(1.01ml)及びクロロ炭酸
エチル(0.69ml)を滴下し1時間撹拌した。反応
液を実施例4と同様に処理し、5−メチル−2−(1−
メチルエチル)−4H−3,1−ベンゾオキサジン−4
−オンを白色結晶(1.25g)として得た。 mp:76.0〜76.8℃ FAB−MS(m/z):204(MH+)1 HNMR(CDCl3,δ値):1.36(6H,
d,J=6.9Hz)、2.79(3H,s)、2.9
0(1H,septet,J=6.9Hz)、7.26
(1H,d,J=7.8Hz)、7.40(1H,d,
J=7.8Hg)、7.61(1H,t,J=7.8H
z)
−ベンゾオキサジン−4−オン 2−アミノ−6−メチル安息香酸(1.00g)のTH
F溶液(15ml)に、氷冷下、トリエチルアミン
(1.84ml)を加え、次いでイソブチリルクロリド
(1.39ml)を滴下した。45分間撹拌後、氷冷
下、トリエチルアミン(1.01ml)及びクロロ炭酸
エチル(0.69ml)を滴下し1時間撹拌した。反応
液を実施例4と同様に処理し、5−メチル−2−(1−
メチルエチル)−4H−3,1−ベンゾオキサジン−4
−オンを白色結晶(1.25g)として得た。 mp:76.0〜76.8℃ FAB−MS(m/z):204(MH+)1 HNMR(CDCl3,δ値):1.36(6H,
d,J=6.9Hz)、2.79(3H,s)、2.9
0(1H,septet,J=6.9Hz)、7.26
(1H,d,J=7.8Hz)、7.40(1H,d,
J=7.8Hg)、7.61(1H,t,J=7.8H
z)
【0079】実施例13 2−(3−エトキシ−3−オキソプロピル)−5−メチ
ル−4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン 2−アミノ−6−メチル安息香酸(1.00g)のTH
F溶液(20ml)に、氷冷下、トリエチルアミン
(1.94ml)及びエチルサクシニルクロリド(1.
04ml)を順次滴下し1時間撹拌した。氷冷下、トリ
エチルアミン(1.01ml)及びクロロ炭酸エチル
(0.69ml)を順次滴下後、2.5時間撹拌した。
反応液を実施例4と同様に処理し、残渣をn−ヘキサン
より結晶化し、2−(3−エトキシ−3−オキソプロピ
ル)−5−メチル−4H−3,1−ベンゾオキサジン−
4−オンを淡黄色結晶(1.10g)として得た。 mp:51.0〜52.3℃ FAB−MS(m/z):262(MH+)、216,
188,1601 HNMR(CDCl3,δ値):1.26(3H,
t,J=7.0Hz)、2.78(3H,s)、2.8
2(2H,t,J=7.0Hz)、3.00(2H,
t,J=7.0Hz)、4.18(2H,q,J=7.
0Hz)、7.27(1H,d,J=8.0Hz)、
7.36(1H,d,J=8.0Hz)、7.61(1
H,t,J=8.0Hz)
ル−4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン 2−アミノ−6−メチル安息香酸(1.00g)のTH
F溶液(20ml)に、氷冷下、トリエチルアミン
(1.94ml)及びエチルサクシニルクロリド(1.
04ml)を順次滴下し1時間撹拌した。氷冷下、トリ
エチルアミン(1.01ml)及びクロロ炭酸エチル
(0.69ml)を順次滴下後、2.5時間撹拌した。
反応液を実施例4と同様に処理し、残渣をn−ヘキサン
より結晶化し、2−(3−エトキシ−3−オキソプロピ
ル)−5−メチル−4H−3,1−ベンゾオキサジン−
4−オンを淡黄色結晶(1.10g)として得た。 mp:51.0〜52.3℃ FAB−MS(m/z):262(MH+)、216,
188,1601 HNMR(CDCl3,δ値):1.26(3H,
t,J=7.0Hz)、2.78(3H,s)、2.8
2(2H,t,J=7.0Hz)、3.00(2H,
t,J=7.0Hz)、4.18(2H,q,J=7.
0Hz)、7.27(1H,d,J=8.0Hz)、
7.36(1H,d,J=8.0Hz)、7.61(1
H,t,J=8.0Hz)
【0080】実施例14 2−{(S)−1−〔(9−フルオレニルメトキシカル
ボニル)アミノ〕−2メチルプロピル}−5−メチル−
4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−L−バ
リンと2−アミノ−6−メチル安息香酸とを、実施例4
記載の方法と同様に反応させ、2−{(S)−1−
〔(9−フルオレニルメトキシカルボニル)アミノ〕−
2メチルプロピル}−5−メチル−4H−3,1−ベン
ゾオキサジン−4−オンを白色粉末として得た。機器分
析の結果は、実施例12で得られたものと同一であっ
た。
ボニル)アミノ〕−2メチルプロピル}−5−メチル−
4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン N−(9−フルオレニルメトキシカルボニル)−L−バ
リンと2−アミノ−6−メチル安息香酸とを、実施例4
記載の方法と同様に反応させ、2−{(S)−1−
〔(9−フルオレニルメトキシカルボニル)アミノ〕−
2メチルプロピル}−5−メチル−4H−3,1−ベン
ゾオキサジン−4−オンを白色粉末として得た。機器分
析の結果は、実施例12で得られたものと同一であっ
た。
【0081】
【発明の効果】以上、詳細な説明から明らかなように、
本発明に係る製造法は、カルボン酸をハロゲン化炭酸モ
ノアルキルエステル、アシルハライド、1,1′−カル
ボニルジイミダゾール、脂肪族スルホニルハロゲン化物
又は芳香族スルホニルハロゲン化物、ジフェニルリン酸
ハライド、又はMe2N+=CHX・X−(式中Xは、
Br、Clを表す)と2−アミノ安息香酸誘導体とを反
応させた後、この反応による反応生成物を単離、精製す
ることなく、閉環反応させることにより、ベンゾオキサ
ジノン誘導体を、簡便かつ収率良く製造することができ
るものである。かかる本発明の方法は、従来法と較べる
と工程数が半減し、しかも反応が高収率で進行し、か
つ、単離、精製等の処理が極めて容易な方法であり、医
薬または医薬等の原料物質として有用なベンゾオキサジ
ノン誘導体の工業的な製造方法として極めて有用なもの
である。
本発明に係る製造法は、カルボン酸をハロゲン化炭酸モ
ノアルキルエステル、アシルハライド、1,1′−カル
ボニルジイミダゾール、脂肪族スルホニルハロゲン化物
又は芳香族スルホニルハロゲン化物、ジフェニルリン酸
ハライド、又はMe2N+=CHX・X−(式中Xは、
Br、Clを表す)と2−アミノ安息香酸誘導体とを反
応させた後、この反応による反応生成物を単離、精製す
ることなく、閉環反応させることにより、ベンゾオキサ
ジノン誘導体を、簡便かつ収率良く製造することができ
るものである。かかる本発明の方法は、従来法と較べる
と工程数が半減し、しかも反応が高収率で進行し、か
つ、単離、精製等の処理が極めて容易な方法であり、医
薬または医薬等の原料物質として有用なベンゾオキサジ
ノン誘導体の工業的な製造方法として極めて有用なもの
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 早川 和秀 大阪府高槻市紫町1番1号 日本たばこ産 業株式会社医薬総合研究所内 (72)発明者 小見山 和也 大阪府高槻市紫町1番1号 日本たばこ産 業株式会社医薬総合研究所内 (72)発明者 小林 孝次 大阪府高槻市紫町1番1号 日本たばこ産 業株式会社医薬総合研究所内
Claims (7)
- 【請求項1】 カルボン酸の反応性誘導体、又はカルボ
ン酸をハロゲン化炭酸モノアルキルエステル、アシルハ
ライド、1,1′−カルボニルジイミダゾーール、脂肪
族スルホニルハロゲン化物又は芳香族スルホニルハロゲ
ン化物、ジフェニルリン酸ハライド又はMe2N+=C
HX・X−(式中Xは、Br、Clを表す)から選ばれ
る縮合剤の存在下で2−アミノ安息香酸誘導体と反応さ
せ、次いで上記縮合剤から選ばれる縮合剤の存在下で閉
環反応をおこなうことを特徴とするベンゾオキサジノン
誘導体を製造する方法。 - 【請求項2】 カルボン酸の反応性誘導体又はカルボン
酸をハロゲン化炭酸モノアルキルエステル、アシルハラ
イド、1,1′−カルボニルジイミダゾール、脂肪族ス
ルホニルハロゲン化物、芳香族スルホニルハロゲン化
物、ジフェニルリン酸ハライド又はMe2N+=CHX
・X−(式中Xは、Br、Clを表す)から選ばれる縮
合剤の存在下で2−アミノ安息香酸誘導体と反応させる
ことにより、2−(アシルアミノ)安息香酸誘導体とな
し、この2−(アシルアミノ)安息香酸誘導体を単離す
ることなく、ハロゲン化炭酸モノアルキルエステル、ア
シルハライド、1,1′−カルボニルジイミダゾール、
脂肪族スルホニルハロゲン化物、芳香族スルホニルハロ
ゲン化物、ジフェニルリン酸ハライド又はMe2N+=
CHX・X−(式中Xは、Br、Clを表す)から選ば
れる縮合剤の存在下で閉環反応をおこなうことを特徴と
するベンゾオキサジノン誘導体の製造方法。 - 【請求項3】 カルボン酸の反応性誘導体又はカルボン
酸と、一般式 【化1】 〔式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基ま
たはアルコキシ基を意味し、R2は水素原子、水酸基、
ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシ
カルボニル基、カルボキシル基、ニトロ基、ニトリル
基、アルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基又は−
NR3R4(ここでR3およびR4は、それぞれ同一又
は異なって水素原子、アルキル基、アシル基又はアミノ
保護基を意味し、R3とR4は隣接する窒素原子と一緒
になって置換されていてもよいヘテロ環を形成してもよ
い)を意味する〕で表される2−アミノ安息香酸誘導体
と反応させ、一般式 【化2】 (式中、R1およびR2は上記と同じ意味を表し、Rは
有機残基を意味する)で表される2−(アシルアミノ)
安息香酸誘導体となし、この化合物を単離することなく
閉環反応に付することを特徴とする一般式 【化3】 (式中、R1、R2およびRは上記と同じ意味を表す)
で示される請求項1又は請求項2記載のベンゾオキサジ
ノン誘導体の製造方法。 - 【請求項4】 上記Rが、−NR8R9(ここでR8お
よびR9は、それぞれ同一又は異なって水素原子、アル
キル基、アシル基又はアミノ保護基を意味し、R8とR
9は隣接する窒素原子と一緒になってヘテロ環を形成し
ていてもよく、このヘテロ環は置換基を有していてもよ
い)、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ
基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、ニトリ
ル基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アシ
ル基、アシルオキシ基、置換されていてもよいアリール
基若しくは置換されていてもよいヘテロアリールから選
ばれる1つ以上の置換基でそれぞれ置換されていてもよ
いアルキル基又はアルケニル基;あるいは一般式 【化4】 〔ここで、R5およびR6はそれぞれ同一又は異なって
水素原子、直鎖若しくは分岐鎖アルキル基又はR5とR
6は一緒になって形成し得るシクロアルキル基あるいは
アルキルチオアルキル基を意味し、Aは、−(CH2)
m−(mは1乃至4の整数)、−*CH2−O−、−*
O−CH2−、−*CONH−CH2−、*=CH−、
−*CH=CH−又は−*NR10−(CH2)n−
(nは1乃至2の整数、R10は水素、低級アルキル又
は低級アシルを意味し、*はR7側の結合部位を示す)
を意味し、R7はR11R12CH−(ここでR11、
R12は同一又は異なって 水素原子、置換されていて
もよいアリール又は置換されていてもよいヘテロアリー
ルを意味する)、R13R14N−(ここでR13、R
14は同一又は異なって水素原子、置換されていてもよ
いアリール又は置換されていてもよいヘテロアリールを
意味する)、置換されていても良いアダマンチル、置換
されていてもよい9H−キサンテン−9−イル、置換さ
れていてもよい5H−ジベンゾ[a,d]シクロヘプテ
ン−5−イル、置換されていてもよい9−フルオレニ
ル、又は置換されていてもよい9−フルオレンを表す〕
である請求項3記載のベンゾオキサジノン誘導体の製造
方法。 - 【請求項5】 上記Rが、一般式 【化5】 〔ここで、R5およびR6はそれぞれ同一又は異なって
水素原子、直鎖若しくは分岐鎖アルキル基又はR5とR
6は一緒になって形成し得るシクロアルキル基あるいは
アルキルチオアルキル基を意味し、R7はそれぞれ置換
されていてもよいアダマンチル、ジフェニルメチル、ジ
フェニルアミノ、ピリジルベンジル、ジピリジルメチ
ル、9−フルオレニル、又は9−フルオレンを表し、A
は、−(CH2)m−(mは1乃至4の整数)、−*C
H2−O−、−*O−CH2−、−*CONH−CH2
−、*=CH−、−*CH=CH−又は−*NR10−
(CH2)n−(nは1乃至2の整数、R10は水素、
低級アルキル又は低級アシルを表し、*はR7側の結合
部位を示す)〕である請求項3記載のベンゾオキサジノ
ン誘導体の製造方法。 - 【請求項6】 上記縮合剤が、ハロゲン化炭酸モノアル
キルエステル又はジフェニルオキシリン酸クロリドであ
る請求項1ないし請求項5のいずれか1項記載のベンゾ
キサジノン誘導体の製造方法。 - 【請求項7】 上記縮合剤が、アシルハライドである請
求項1ないし請求項5のいずれか1項記載のベンゾキサ
ジノン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13622594A JPH07309851A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | ベンゾオキサジノン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13622594A JPH07309851A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | ベンゾオキサジノン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07309851A true JPH07309851A (ja) | 1995-11-28 |
Family
ID=15170223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13622594A Pending JPH07309851A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | ベンゾオキサジノン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07309851A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004502840A (ja) * | 2000-07-11 | 2004-01-29 | ザ、プロクター、エンド、ギャンブル、カンパニー | ベンゾオキサジン−4−オンポリマー共役体の調製方法 |
| JP2006501203A (ja) * | 2002-07-31 | 2006-01-12 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | オルト−アミノ芳香族カルボン酸およびカルボン酸から塩化スルホニルおよびピリジンの存在下で縮合オキサジノンを製造する方法 |
| US7879846B2 (en) | 2006-09-21 | 2011-02-01 | Kyorin Pharmaceutical Co.., Ltd. | Serine hydrolase inhibitors |
-
1994
- 1994-05-16 JP JP13622594A patent/JPH07309851A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004502840A (ja) * | 2000-07-11 | 2004-01-29 | ザ、プロクター、エンド、ギャンブル、カンパニー | ベンゾオキサジン−4−オンポリマー共役体の調製方法 |
| JP2006501203A (ja) * | 2002-07-31 | 2006-01-12 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | オルト−アミノ芳香族カルボン酸およびカルボン酸から塩化スルホニルおよびピリジンの存在下で縮合オキサジノンを製造する方法 |
| US7879846B2 (en) | 2006-09-21 | 2011-02-01 | Kyorin Pharmaceutical Co.., Ltd. | Serine hydrolase inhibitors |
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