JPH0731180U - 洗浄機能を有するディップ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】多数の透過孔を有する容器にワークを収容して
これをディップ液中に浸漬することにより、ワークにデ
ィップ処理を施すに際し、透過孔が目詰りを起すのを防
止することによって容器を清掃するための取替作業を不
要化する。 【構成】ディップ装置を、ディップ槽１０と多数の透過
孔を有する容器１４と、ディップ槽１０に隣接して配置
された洗浄槽２６と、容器１４をディップ槽１０の上方
位置、ディップ処理済みワークの受取体への受渡位置、
洗浄槽２６の上方位置を通る搬送路に沿って水平方向に
搬送する搬送機構３４，３６，４０，４２と、ディップ
槽１０の上方位置、洗浄槽２６の上方位置で容器を下降
させ、次いで上昇させる昇降機構４６，４８と、ディッ
プ処理済みのワークを受取体に移し替える移替機構とを
含むように構成する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

この考案は容器の内部にワークを収容してディップ液中に浸漬するディップ装 置に関し、詳しくは容器の洗浄機能を備えたディップ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術及び考案が解決しようとする課題】

所定のワーク表面に対する液剤の塗布方法として、ワークをディップ槽に貯え たディップ液中に浸漬するディップ処理が広く行われている。

【０００３】 図５はこのディップ処理を含む液剤の塗布、例えば接着剤の塗布及び乾燥工程 の流れを示している。図に示しているようにディップ処理を用いて接着剤を塗布 及び乾燥する場合、従来一般には多数のディップ液の透過孔を有する容器１００ の内部にワークを収容してこれをディップ１０２槽内のディップ液（接着剤の液 ）中に下降，浸漬させ、しかる後これをディップ液より引き上げる。そしてディ ップ処理済のワークをドライヤ容器１０４内部に受け渡し、そこで熱風乾燥させ る。

【０００４】 続いて乾燥後のワークを第二の容器１０６の内部に投入し、次に第二ディップ 槽１０８内の第二ディップ液内の第二ディップ液（第二の接着剤の液。つまりこ の例ではワークに対して第一の接着剤，第二の接着剤を塗布するようにしている ）中に浸漬する。続いて第二のドライヤ容器１１０内部にこれを移し替えて乾燥 処理し、その後これを受箱１１２へと投入する。

【０００５】 以上の処理工程では、ワークを第一の容器１００からドライヤ容器１０４に、 またこれより第二容器１０６、更には第二のドライヤ容器１１０から受箱１１２ へと順次に移し替えて行くだけで所定の処理を完了することができる。

【０００６】 ところでこのようなディップ処理において、容器を繰返しディップ液中に浸漬 し、更に乾燥処理すると次第に容器の多数の透過孔にディップ液、例えば上例の 接着剤が堆積し、終には目詰りを起してしまう問題がある。このためある段階で 容器をディップ装置から外して別のものと取り替えた上、取り外した容器を洗浄 処理することが必要となる。

【０００７】 しかしながらこの場合、別途の洗浄工程が必要であるとともに、容器の取替え のための作業が必要であるし、更には容器の予備が無い場合にはディップ装置を 停止させなければならず、これにより装置の稼動率が低下してしまう問題がある 。

【０００８】

【課題を解決するための手段】

本考案の装置はこのような課題を解決するために案出されたものであり、その 要旨は、（イ）所定のディップ液を内部に貯えたディップ槽と、（ロ）ディップ 処理すべきワークを内部に収容した状態で該ディップ槽中のディップ液に浸漬さ れる、ディップ液の透過孔を多数有する容器と、（ハ）該ディップ槽に隣接して 設置され、内部に洗浄液を貯えた洗浄槽と、（ニ）受取位置で内部にワークを受 け取った前記容器を前記ディップ槽の上方位置，ドライヤ等ディップ処理済ワー クを受け取る受取体への受渡位置，前記洗浄槽の上方位置を通る搬送路に沿って 順次に搬送する搬送機構と、（ホ）前記容器がディップ槽，洗浄槽の上方位置に 位置したところで該容器を前記ディップ液又は洗浄液に浸漬させる位置までこれ を下降させ、次いで上昇させる昇降機構と、（ヘ）前記受渡位置において前記容 器内部のワークを前記受取体に移し替える移替機構とを含むことにある。

【０００９】

【作用及び考案の効果】

本考案の装置においては、受取位置で容器が内部にワークを受け取るとそのま ま（受取位置がディップ槽の上方位置である場合）或いは一旦搬送機構にてディ ップ槽の上方位置まで搬送された上、その位置において容器が昇降機構により下 降運動させられ、ディップ液中に浸漬させられる。

【００１０】 その後容器は上昇運動させられた上、ドライヤ等受取体への受渡位置まで搬送 され、或いはそのままの位置（受渡位置がディップ槽の上方位置である場合）で ディップ処理されたワークが移替機構により容器内部から受取体へと移し替えら れる。

【００１１】 ここにおいて空となった容器は搬送機構により洗浄槽の上方位置まで移動させ られ、その位置において再び昇降機構により下降運動させられて、洗浄液中に浸 漬される。その後容器は上昇運動させられた後、再び当初の受取位置へと搬送さ れ、そこで次のワークを受け取る。

【００１２】 このように本考案の装置においては、一回のディップ処理毎に容器が洗浄液中 に浸漬されて洗浄処理される。 従ってディップ処理を何回繰り返しても容器の透過孔が目詰りを起すといった 恐れがない。

【００１３】 従って従来のようにある段階で容器を取り替えて洗浄処理するといった作業及 び工程が不要となり、また容器の予備がないことによってディップ装置の稼動を 停止させる必要は生じず、装置の連続稼動が可能となって、稼動率が向上する効 果が得られる。

【００１４】

【実施例】

次に本考案の実施例を図面に基づいて詳しく説明する。 図４は本例のディップ装置及びドライヤ装置の各要素の平面配置構成を示した もので、図中１０，１２は第一ディップ液（第一接着剤の液）及び第二ディップ 液（第二接着剤の液）をディップ処理するためのディップ槽である。

【００１５】 １４，１６はワークを内部に収容してディップ槽１０，１２に浸漬させる容器 であって、多数の透過孔を備えている。 １８，２０はドラム状のドライヤ容器であって、これら要素は横一列に配置さ れている。

【００１６】 ２２，２４は上記ドライヤ装置における熱風の吹出管で、水平方向（図中上下 方向）にスライド移動可能とされている。

【００１７】 これら吹出管２２，２４は、通常は図４に示す後退位置に待機しており、乾燥 処理を行うときに図中上方にスライド移動して熱風をドライヤ容器１８，２０内 部に吹き出す。

【００１８】 ２６，２８はそれぞれ洗浄槽であって、これらは対応するディップ槽１０，１ ２に隣接して配置されている。

【００１９】 本例の場合、ディップ処理すべきワークは箱３０の内部に収容されて図中下方 へと搬送され、そして所定位置（受取位置）で待機中の容器１４へと受け渡され る。

【００２０】 内部にワークを受け取った容器１４は、搬送機構にてディップ槽１０の上方位 置まで水平方向に搬送され、その後昇降機構にて下降運動させられる。これによ り容器１４内部に収容されたワークが第一ディップ液中に浸漬される。その後容 器１４は上昇運動させられ、引き続いて水平右方向に搬送されて、ドライヤ装置 におけるドラム状のドライヤ容器１８の内部に移し替えられる。

【００２１】 ここにおいて空となった容器１４は洗浄槽２６の上方位置まで水平方向に搬送 され、そして洗浄槽２６の上方位置で停止されて、引き続き昇降機構により下降 運動させられる。これにより容器１４が洗浄液中に浸漬され、その後再び上昇さ せられる。ここにおいて容器の洗浄動作が終了し、引き続いて容器１４は水平搬 送され、当初の受取位置へと運ばれる。

【００２２】 一方ドライヤ容器１８へと移し替えられたワークは、吹出管２２からの熱風の 吹出しによって乾燥処理され、引き続いて第二のディップ液をディップ処理する ための容器１６へと移される。 これに続く第二のディップ液のディップ処理のための動作は基本的には上記し た動作の繰返しであるので、更に詳しい説明は省略する。

【００２３】 図１において３２はディップ槽１０，１２、ドライヤ容器１８，２０の配列方 向と平行方向に配設された横フレームで、３４はこの横フレーム３２によってス ライド移動するスライド本体である。

【００２４】 横フレーム３２にはロッドレスシリンダ３６が固設されており、このシリンダ ３６によって、スライド本体３４が横フレーム３２に沿って設けられたガイドレ ール３８と、これを上下から挾持するローラ３９とによる支持及び案内の下に水 平方向（図４中左右方向）にスライド駆動されるようになっている。

【００２５】 スライド本体３４には補助スライド体４０が設けられている。この補助スライ ド体４０には、スライド本体３４の上端に固設されたロッドレスシリンダ４２が 連結されており、このシリンダ４２により補助スライド体４０がスライド本体３ ４に設けられたガイドレール４４による案内の下にスライド本体３４の移動方向 と直角方向（図４中上下方向）に水平移動せられるようになっている。

【００２６】 この補助スライド体４０には、更に昇降プレート４６が昇降可能に取り付けら れ、この昇降プレート４６に対して補助スライド体４０に固設された昇降シリン ダ４８が連結されている。昇降プレート４６はこの昇降シリンダ４８によって駆 動され、レール保持体５０（図３参照）に保持されたガイドレール５２による移 動案内の下に昇降運動させられる。

【００２７】 昇降プレート４６の下部には多数の透過孔５３を有する容器１４が固定されて いる。この容器１４は下端が開放形状とされていてその下端開放部が、軸５４の 周りに回動可能な蓋５６にて開閉されるようになっている。

【００２８】 蓋５６には、軸５４から離れた部位においてアーム５８の一端が連結されてい る。アーム５８の他端は蓋開閉シリンダ６０に連結されており、この蓋開閉シリ ンダ６０によって蓋５６が開閉運動させられる。

【００２９】 図２において、ドライヤ容器１８はローラ６２にて回転案内されるようになっ ており、また上端部外周面には被動ギヤ６４が設けられていて、この被動ギヤ６ ４が回転駆動ギヤ６６に噛み合わされている。

【００３０】 一方下端には開閉蓋６８が設けられており、この開閉蓋６８が蓋開閉シリンダ ７０にて開閉運動させられるようになっている。

【００３１】 この装置においては、受取位置に待機している容器１４に対して処理すべきワ ークが箱３０から受け渡される。ワークを受け取った容器１４は、スライド本体 ３４の水平方向の移動によりディップ槽１０の上方に持ち来される。容器１４が ディップ槽１０の上方に位置したところで昇降プレート４６が下降運動させられ 、容器１４がワークとともにディップ液中に浸漬される。

【００３２】 この後容器１４は昇降プレート４６とともに上昇運動させられ、更にスライド 本体３４の移動によって図２中右方向に水平移動させられる。そしてドライヤ容 器１８へのワークの受渡位置において下端の開閉蓋５６が開かれ、内部のディッ プ処理済ワークがドライヤ容器１８の内部に投入される。

【００３３】 ドライヤ容器１８の内部に投入されたワークは、容器１８の回転と容器１８内 部への熱風の吹出しとによって所定時間乾燥処理される。

【００３４】 一方空となった容器１４は、スライド本体３４及び補助スライド体４０の水平 移動によって洗浄槽２６の上方に持ち来され、次に昇降プレート４６の下降運動 により洗浄液中に浸漬される。その後容器１４は引き上げられて再び当初の受取 位置へと搬送される。 以下同様の動作が１回のディップ処理毎に繰り返されて行く。

【００３５】 以上の説明から明らかなように、本例の装置によれば各回のディップ処理毎に 容器の洗浄が自動的に行われる。従ってディップ処理を繰返し行っても容器の透 過孔５３が目詰りを起すといったことがない。

【００３６】 それ故目詰りした容器を新たな容器と取り替えるといったことを行う必要がな く、容器の予備が無くなって装置の停止をもたらすといった問題も生じない。

【００３７】 以上本考案の実施例を詳述したがこれはあくまで一例示である。 例えば上記した容器の移動経路はあくまで一例を示したに過ぎないもので、他 の経路にて容器を搬送するようになすことも可能である。要するに１回のディッ プ処理毎に容器を洗浄液に浸漬させるようにすれば本考案の目的を達し得る。

【００３８】 また本考案は接着剤以外のディップ液のディップ処理に際して適用することも 可能である等、その主旨を逸脱しない範囲において、種々変更を加えた態様で構 成可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例であるディップ装置の正面図
である。

【図２】同じディップ装置の要部側面図である。

【図３】同じディップ装置の要部詳細平面図である。

【図４】同じディップ装置における各要素の平面配置構
成を示す図である。

【図５】本考案の背景説明のための説明図である。

【符号の説明】

１０，１２ ディップ槽 １４ 容器 １８ ドライヤ容器 ２６，２８ 洗浄槽 ３４ スライド本体 ３６，４２ シリンダ ４０ 補助スライド体 ４６ 昇降プレート ４８ 昇降シリンダ ５３ 透過孔 ５６ 蓋 ５８ アーム ６０ 蓋開閉シリンダ

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】（イ）所定のディップ液を内部に貯えたデ
   ィップ槽と（ロ）ディップ処理すべきワークを内部に収
   容した状態で該ディップ槽中のディップ液に浸漬され
   る、ディップ液の透過孔を多数有する容器と（ハ）該デ
   ィップ槽に隣接して設置され、内部に洗浄液を貯えた洗
   浄槽と（ニ）受取位置で内部にワークを受け取った前記
   容器を前記ディップ槽の上方位置，ドライヤ等ディップ
   処理済ワークを受け取る受取体への受渡位置，前記洗浄
   槽の上方位置を通る搬送路に沿って順次に搬送する搬送
   機構と（ホ）前記容器がディップ槽，洗浄槽の上方位置
   に位置したところで該容器を前記ディップ液又は洗浄液
   に浸漬させる位置までこれを下降させ、次いで上昇させ
   る昇降機構と（ヘ）前記受渡位置において前記容器内部
   のワークを前記受取体に移し替える移替機構とを含むこ
   とを特徴とする洗浄機能を有するディップ装置。