JPH07319152A - ガラス系脆性基体印刷凹版の作製方法 - Google Patents
ガラス系脆性基体印刷凹版の作製方法Info
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- JPH07319152A JPH07319152A JP6109235A JP10923594A JPH07319152A JP H07319152 A JPH07319152 A JP H07319152A JP 6109235 A JP6109235 A JP 6109235A JP 10923594 A JP10923594 A JP 10923594A JP H07319152 A JPH07319152 A JP H07319152A
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- JP
- Japan
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- pattern
- glass
- thin film
- metal thin
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 量産性に富み、工業生産性が高く、コストが
低く、かつ優れた品質の微細なパターンを形成できるガ
ラス系脆性基体印刷凹版の作製方法を提供する。 【構成】 ほう珪酸ガラスを基体１とし、この基体１上
に金属薄膜２を形成する。金属薄膜２上にフォトレジス
トからなる所望の樹脂パターン３を形成する。湿式エッ
チングにより金属薄膜２からなる金属パターン２ａを形
成する。樹脂パターン３と金属パターン２ａをエッチン
グマスク４として浸漬エッチングにより、基体１にパタ
ーンを形成する。樹脂パターン３および金属パターン２
ａを全面除去して、ガラス印刷凹版６を得る。金属パタ
ーン２ａと樹脂パターン２ａとからなるエッチングマス
ク４を用いているため、金属薄膜２に微少なピンホール
７があっても樹脂パターン２ａにより塞がれ、良好なエ
ッチングマスクとして機能し、作製したガラス印刷凹版
６の微細加工品質は優れたものとなる。
低く、かつ優れた品質の微細なパターンを形成できるガ
ラス系脆性基体印刷凹版の作製方法を提供する。 【構成】 ほう珪酸ガラスを基体１とし、この基体１上
に金属薄膜２を形成する。金属薄膜２上にフォトレジス
トからなる所望の樹脂パターン３を形成する。湿式エッ
チングにより金属薄膜２からなる金属パターン２ａを形
成する。樹脂パターン３と金属パターン２ａをエッチン
グマスク４として浸漬エッチングにより、基体１にパタ
ーンを形成する。樹脂パターン３および金属パターン２
ａを全面除去して、ガラス印刷凹版６を得る。金属パタ
ーン２ａと樹脂パターン２ａとからなるエッチングマス
ク４を用いているため、金属薄膜２に微少なピンホール
７があっても樹脂パターン２ａにより塞がれ、良好なエ
ッチングマスクとして機能し、作製したガラス印刷凹版
６の微細加工品質は優れたものとなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、オフセット印刷等に
用いられるガラス系脆性基体印刷凹版の作製方法に関す
るものである。
用いられるガラス系脆性基体印刷凹版の作製方法に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、オフセット印刷等に用いられる凹
版の基体材料には金属が用いられてきたが、近年、作製
のしやすさ、安価な点から、ガラスや石英のようなガラ
ス系脆性基体を使用する場合も生じてきた。これら、ガ
ラスや石英のようなガラス系脆性基体の表面加工とし
て、パターニングを行う場合、乾式法としてサンドブラ
スト法、エキシマレーザー法などが使われ、また湿式法
としてエッチング液浸漬法等が実用化されていた。
版の基体材料には金属が用いられてきたが、近年、作製
のしやすさ、安価な点から、ガラスや石英のようなガラ
ス系脆性基体を使用する場合も生じてきた。これら、ガ
ラスや石英のようなガラス系脆性基体の表面加工とし
て、パターニングを行う場合、乾式法としてサンドブラ
スト法、エキシマレーザー法などが使われ、また湿式法
としてエッチング液浸漬法等が実用化されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】オフセット印刷等に用
いられる凹版の加工法として上記した各法のうち、サン
ドブラスト法は、微細な固形粒子を加圧状態で吹き付け
てパターンを形成するもので、噴射ノズルの位置により
パターンを形成できるので、フォトマスク等を用いる必
要がない。そのため、フォトマスクに関わる費用、フォ
ト工程が不要であるので低コストであるが、同じパター
ンのパターンエッチング基体を複数個作製する場合、個
数分の所要時間を必要とするので量産性に乏しい。また
微細なパターンが形成できない、という欠点がある。
いられる凹版の加工法として上記した各法のうち、サン
ドブラスト法は、微細な固形粒子を加圧状態で吹き付け
てパターンを形成するもので、噴射ノズルの位置により
パターンを形成できるので、フォトマスク等を用いる必
要がない。そのため、フォトマスクに関わる費用、フォ
ト工程が不要であるので低コストであるが、同じパター
ンのパターンエッチング基体を複数個作製する場合、個
数分の所要時間を必要とするので量産性に乏しい。また
微細なパターンが形成できない、という欠点がある。
【０００４】エキシマレーザー法は、レーザービーム照
射による発熱で基体を溶解、蒸発させてパターンを形成
するもので、レーザービームの位置制御によりパターン
を形成できるので、フォトマスク等を用いる必要がな
く、フォトマスクに関わる費用、フォト工程に関する費
用が不要であり低コストである。しかも、ビームの微細
な調整が可能であり、ＸＹ方向の制御によっては、非常
に微細な加工ができる。しかし、同じパターンのパター
ンエッチング基体を複数個作製する場合、個数分の所要
時間が必要であるので量産性に乏しい。また、局部的に
高温の部分ができ、熱歪みが生じるから、加工に伴い割
れ、欠け、チッピングなどの表面欠陥が生じやすく、微
細加工品質は優れたものではない。
射による発熱で基体を溶解、蒸発させてパターンを形成
するもので、レーザービームの位置制御によりパターン
を形成できるので、フォトマスク等を用いる必要がな
く、フォトマスクに関わる費用、フォト工程に関する費
用が不要であり低コストである。しかも、ビームの微細
な調整が可能であり、ＸＹ方向の制御によっては、非常
に微細な加工ができる。しかし、同じパターンのパター
ンエッチング基体を複数個作製する場合、個数分の所要
時間が必要であるので量産性に乏しい。また、局部的に
高温の部分ができ、熱歪みが生じるから、加工に伴い割
れ、欠け、チッピングなどの表面欠陥が生じやすく、微
細加工品質は優れたものではない。
【０００５】また、湿式法であるエッチング液浸漬法で
は、微細加工が可能であり、フォトマスクを使用し、フ
ォトマスクに関わる費用、フォト工程に関する費用を必
要とするが、同じパターンのパターンエッチング基体を
複数個作製する場合、フォトマスクをマスターとしてい
くつも複製できるから、量産性に富んでいる。また、パ
ターン形成が浸漬エッチングに依るため、材料費、設備
費、生産工程数が少ない等、工業的にも生産性が高く、
コスト的にも有利である。しかし、金属薄膜をエッチン
グマスクとして使用したとき微少なピンホールを避けら
れず、これらを起因とする不規則腐食、エッチングマス
クの剥離、サイドエッチング等が発生して、加工品質を
低下させる。微少なピンホールを避けようとするとき
は、金属薄膜を形成する際に密着力の向上、複数回着膜
等の処置が必要となる。密着力の向上には格別の表面処
理、高温加熱等が必要であり、余分な工数や設備費を要
するようになる。また、複数回着膜は工数を増し、設備
生産数を低下させるなど、エッチングマスクのピンホー
ルの低減のために多大のコストを費やすこととなる。な
お、図２はこの従来例のエッチング液浸漬法による方法
で作製したガラス系脆性基体印刷凹版の断面図であり、
２１はガラスからなる基体、２２は正規のエッチング部
分、２３はエッチングマスクのピンホールに起因する不
規則腐食部を示す。
は、微細加工が可能であり、フォトマスクを使用し、フ
ォトマスクに関わる費用、フォト工程に関する費用を必
要とするが、同じパターンのパターンエッチング基体を
複数個作製する場合、フォトマスクをマスターとしてい
くつも複製できるから、量産性に富んでいる。また、パ
ターン形成が浸漬エッチングに依るため、材料費、設備
費、生産工程数が少ない等、工業的にも生産性が高く、
コスト的にも有利である。しかし、金属薄膜をエッチン
グマスクとして使用したとき微少なピンホールを避けら
れず、これらを起因とする不規則腐食、エッチングマス
クの剥離、サイドエッチング等が発生して、加工品質を
低下させる。微少なピンホールを避けようとするとき
は、金属薄膜を形成する際に密着力の向上、複数回着膜
等の処置が必要となる。密着力の向上には格別の表面処
理、高温加熱等が必要であり、余分な工数や設備費を要
するようになる。また、複数回着膜は工数を増し、設備
生産数を低下させるなど、エッチングマスクのピンホー
ルの低減のために多大のコストを費やすこととなる。な
お、図２はこの従来例のエッチング液浸漬法による方法
で作製したガラス系脆性基体印刷凹版の断面図であり、
２１はガラスからなる基体、２２は正規のエッチング部
分、２３はエッチングマスクのピンホールに起因する不
規則腐食部を示す。
【０００６】したがってこの発明の目的は、量産性に富
み、工業生産性が高く、コストが低く、かつ優れた品質
の微細なパターンを形成できるガラス系脆性基体印刷凹
版の作製方法を提供することである。
み、工業生産性が高く、コストが低く、かつ優れた品質
の微細なパターンを形成できるガラス系脆性基体印刷凹
版の作製方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載のガラス系
脆性基体印刷凹版の作製方法は、ガラス系脆性基体上に
金属薄膜を形成し金属薄膜の上に樹脂層を形成する工程
と、樹脂層および金属薄膜を所望のパターンに加工す
る、すなわち樹脂層を所望のパターンに現像し金属薄膜
を所望のパターンにエッチングする工程と、所望のパタ
ーンを形成した樹脂層および金属薄膜をエッチングマス
クとしてガラス系脆性基体をエッチング液浸漬法により
エッチングする工程とを含んでいる。
脆性基体印刷凹版の作製方法は、ガラス系脆性基体上に
金属薄膜を形成し金属薄膜の上に樹脂層を形成する工程
と、樹脂層および金属薄膜を所望のパターンに加工す
る、すなわち樹脂層を所望のパターンに現像し金属薄膜
を所望のパターンにエッチングする工程と、所望のパタ
ーンを形成した樹脂層および金属薄膜をエッチングマス
クとしてガラス系脆性基体をエッチング液浸漬法により
エッチングする工程とを含んでいる。
【０００８】請求項２記載のガラス系脆性基体印刷凹版
の作製方法は、請求項１記載のガラス系脆性基体印刷凹
版の作製方法において、樹脂層は感光性樹脂を用いて形
成することを特徴とする。
の作製方法は、請求項１記載のガラス系脆性基体印刷凹
版の作製方法において、樹脂層は感光性樹脂を用いて形
成することを特徴とする。
【０００９】
【作用】この発明の作製方法によれば、金属薄膜と樹脂
層による複層構造からなるエッチングマスクを用いてガ
ラス系脆性基体をエッチングするため、金属薄膜に微少
なピンホールがあっても樹脂層により塞がれて、ピンホ
ールの影響を免れることができ、腐食性の強いエッチン
グ液に対する良好なエッチングマスクとして機能する。
このエッチングマスクは容易に形成できる。またエッチ
ング液中では等方性の反応が進むから、熱歪みは生じ
ず、加工に伴なう割れ、欠け、チッピングなどの表面欠
陥が生ずることも少ないので、作製したガラス系脆性基
体印刷凹版の微細加工品質は優れたものとなる。また、
エッチング液浸漬法であるので、フォトマスク（上記エ
ッチングマスク）を使用し、フォトマスクに関わる費
用、フォト工程に関する費用を必要とするが、微細加工
品質は優れており、また同じパターンのガラス系脆性基
体印刷凹版を複数個作製する場合、フォトマスクをマス
ターとしていくつも複製できるから、量産性に富んでい
る。そのうえ、この方法によればガラス系脆性基体のパ
ターン形成を浸漬エッチングに依るため、材料費、設備
費、生産工程数が少ない等、工業的にも生産性が高く、
コスト的にも有利である。
層による複層構造からなるエッチングマスクを用いてガ
ラス系脆性基体をエッチングするため、金属薄膜に微少
なピンホールがあっても樹脂層により塞がれて、ピンホ
ールの影響を免れることができ、腐食性の強いエッチン
グ液に対する良好なエッチングマスクとして機能する。
このエッチングマスクは容易に形成できる。またエッチ
ング液中では等方性の反応が進むから、熱歪みは生じ
ず、加工に伴なう割れ、欠け、チッピングなどの表面欠
陥が生ずることも少ないので、作製したガラス系脆性基
体印刷凹版の微細加工品質は優れたものとなる。また、
エッチング液浸漬法であるので、フォトマスク（上記エ
ッチングマスク）を使用し、フォトマスクに関わる費
用、フォト工程に関する費用を必要とするが、微細加工
品質は優れており、また同じパターンのガラス系脆性基
体印刷凹版を複数個作製する場合、フォトマスクをマス
ターとしていくつも複製できるから、量産性に富んでい
る。そのうえ、この方法によればガラス系脆性基体のパ
ターン形成を浸漬エッチングに依るため、材料費、設備
費、生産工程数が少ない等、工業的にも生産性が高く、
コスト的にも有利である。
【００１０】
【実施例】この発明の一実施例を図１を用いて説明す
る。図１はこの発明によるガラス系脆性基体印刷凹版の
作製方法を示す工程断面図である。この実施例の作製方
法は、図１（ａ）に示すように、厚さ１．１ｍｍで、縦
１００ｍｍ×横１００ｍｍのほう珪酸ガラスを基体１と
し、まず、この基体１上に１０００Åのクロムからなる
金属薄膜２を形成する。このとき、金属薄膜２に微小な
ピンホール７が存在している。
る。図１はこの発明によるガラス系脆性基体印刷凹版の
作製方法を示す工程断面図である。この実施例の作製方
法は、図１（ａ）に示すように、厚さ１．１ｍｍで、縦
１００ｍｍ×横１００ｍｍのほう珪酸ガラスを基体１と
し、まず、この基体１上に１０００Åのクロムからなる
金属薄膜２を形成する。このとき、金属薄膜２に微小な
ピンホール７が存在している。
【００１１】つぎに、図１（ｂ）に示すように、金属薄
膜２上にフォトレジストからなる厚さ２μｍの樹脂層を
塗布し、露光、現像を行って所望の樹脂パターン３を形
成する。つぎに、図１（ｃ）に示すように、酸化セリウ
ム系のエッチャントを用いて、湿式エッチングにより金
属薄膜２からなる金属パターン２ａを形成する。これ
で、樹脂パターン３と金属パターン２ａからなる２層構
造のエッチングマスク４が形成される。
膜２上にフォトレジストからなる厚さ２μｍの樹脂層を
塗布し、露光、現像を行って所望の樹脂パターン３を形
成する。つぎに、図１（ｃ）に示すように、酸化セリウ
ム系のエッチャントを用いて、湿式エッチングにより金
属薄膜２からなる金属パターン２ａを形成する。これ
で、樹脂パターン３と金属パターン２ａからなる２層構
造のエッチングマスク４が形成される。
【００１２】この後、図１（ｄ）に示すように、弗化水
素酸系のエッチャントで、樹脂パターン３と金属パター
ン２ａをエッチングマスク４として浸漬エッチングによ
り、基体１にパターンを形成する。５はエッチング部分
を示す。つぎに、レジスト剥離剤等を用いて樹脂パター
ン３を全面除去する。その後、酸化セリウム系のエッチ
ャント等を用いて金属パターン２ａを全面除去して、図
１（ｅ）に示すガラス印刷凹版６を得る。
素酸系のエッチャントで、樹脂パターン３と金属パター
ン２ａをエッチングマスク４として浸漬エッチングによ
り、基体１にパターンを形成する。５はエッチング部分
を示す。つぎに、レジスト剥離剤等を用いて樹脂パター
ン３を全面除去する。その後、酸化セリウム系のエッチ
ャント等を用いて金属パターン２ａを全面除去して、図
１（ｅ）に示すガラス印刷凹版６を得る。
【００１３】この実施例によれば、エッチングマスク４
を金属薄膜２の金属パターン２ａと樹脂層の樹脂パター
ン２ａとからなる複層構造としているため、金属薄膜２
に微少なピンホール７があっても樹脂パターン２ａによ
り塞がれ、例えば図２に示すような不規則腐食部２３の
形成がなく、ピンホール７の影響を免れることができ
る。このようにして、腐食性の強いエッチング液に抵抗
することによって、良好なエッチングマスクとして機能
する。またエッチング液中では等方性の反応が進むか
ら、熱歪みは生じず、加工に伴なう割れ、欠け、チッピ
ングなどの表面欠陥が生ずることも少ないので、作製し
たガラス印刷凹版６の微細加工品質は優れたものとな
る。
を金属薄膜２の金属パターン２ａと樹脂層の樹脂パター
ン２ａとからなる複層構造としているため、金属薄膜２
に微少なピンホール７があっても樹脂パターン２ａによ
り塞がれ、例えば図２に示すような不規則腐食部２３の
形成がなく、ピンホール７の影響を免れることができ
る。このようにして、腐食性の強いエッチング液に抵抗
することによって、良好なエッチングマスクとして機能
する。またエッチング液中では等方性の反応が進むか
ら、熱歪みは生じず、加工に伴なう割れ、欠け、チッピ
ングなどの表面欠陥が生ずることも少ないので、作製し
たガラス印刷凹版６の微細加工品質は優れたものとな
る。
【００１４】また、湿式エッチング液浸漬法であるの
で、フォトマスク（エッチングマスク４）を使用し、フ
ォトマスクに関わる費用、フォト工程に関する費用を必
要とするが、微細加工品質は優れており、また同じパタ
ーンのガラス印刷凹版６を複数個作製する場合、フォト
マスクをマスターとしていくつも複製できるから、量産
性に富んでいる。さらに、パターン形成が浸漬エッチン
グに依るため、材料費、設備費、生産工程数が少ない
等、工業的にも生産性が高く、コスト的にも有利であ
る。
で、フォトマスク（エッチングマスク４）を使用し、フ
ォトマスクに関わる費用、フォト工程に関する費用を必
要とするが、微細加工品質は優れており、また同じパタ
ーンのガラス印刷凹版６を複数個作製する場合、フォト
マスクをマスターとしていくつも複製できるから、量産
性に富んでいる。さらに、パターン形成が浸漬エッチン
グに依るため、材料費、設備費、生産工程数が少ない
等、工業的にも生産性が高く、コスト的にも有利であ
る。
【００１５】以上のように、良好なエッチング形状品
質、製造歩留に相関する作製の容易さ、生産性が高くコ
ストへの反映が期待できるなど、総合的に優れた特長を
もったガラス印刷凹版６（ガラス系脆性基体印刷凹版）
が得られる。なお、この実施例では、基体１にガラスを
用いたが、石英などガラス系脆性材料の構造体が使用可
能である。また金属薄膜２として、多くの金属が使用可
能であるが、望むべくはクロム、ニッケルがもっとも有
効である。金属薄膜２の厚みは、５００Å以上で有効と
考えられるが、耐久性と経済性より１０００Åから３０
００Åが望ましい。
質、製造歩留に相関する作製の容易さ、生産性が高くコ
ストへの反映が期待できるなど、総合的に優れた特長を
もったガラス印刷凹版６（ガラス系脆性基体印刷凹版）
が得られる。なお、この実施例では、基体１にガラスを
用いたが、石英などガラス系脆性材料の構造体が使用可
能である。また金属薄膜２として、多くの金属が使用可
能であるが、望むべくはクロム、ニッケルがもっとも有
効である。金属薄膜２の厚みは、５００Å以上で有効と
考えられるが、耐久性と経済性より１０００Åから３０
００Åが望ましい。
【００１６】また、所望の樹脂パターン３の厚みは、
０．５μｍ以上で有効と考えられるが、耐久性と経済性
より、１μｍから３μｍ程度が望ましい。なお、金属薄
膜２のエッチャントは実施例に示した以外、金属薄膜２
の材料に対応した他の種類のエッチャントの選択ができ
る。また、基体１のエッチャントは実施例に示した以
外、基体１の材料に対応した他の種類のエッチャントの
選択ができる。
０．５μｍ以上で有効と考えられるが、耐久性と経済性
より、１μｍから３μｍ程度が望ましい。なお、金属薄
膜２のエッチャントは実施例に示した以外、金属薄膜２
の材料に対応した他の種類のエッチャントの選択ができ
る。また、基体１のエッチャントは実施例に示した以
外、基体１の材料に対応した他の種類のエッチャントの
選択ができる。
【００１７】
【発明の効果】この発明のガラス系脆性基体印刷凹版の
作製方法は、ガラス系脆性基体上に金属薄膜を形成しこ
の金属薄膜の上に感光性樹脂からなる樹脂層を形成した
後、樹脂層および金属薄膜を所望のパターンに加工し
（すなわち樹脂層を所望のパターンに現像し金属薄膜を
所望のパターンにエッチングし）、この所望のパターン
を形成した樹脂層および金属薄膜をエッチングマスクと
してガラス系脆性基体をエッチング液浸漬法によりエッ
チングして、オフセット印刷等に用いられる凹版を作製
するものであり、金属薄膜と樹脂層による複層構造から
なるエッチングマスクを用いてガラス系脆性基体をエッ
チングするため、金属薄膜に微少なピンホールがあって
も樹脂層により塞がれ、ピンホールの影響を免れること
ができる。このようにして、腐食性の強いエッチング液
に抵抗することによって、良好なエッチングマスクとし
て機能する。このエッチングマスクは容易に形成でき
る。また、エッチング液中では等方性の反応が進むか
ら、熱歪みは生じず、加工に伴なう割れ、欠け、チッピ
ングなどの表面欠陥が生ずることも少ないので、作製し
たガラス系脆性基体印刷凹版の微細加工品質は優れたも
のとなる。また、エッチング液浸漬法であるので、フォ
トマスク（上記エッチングマスク）を使用し、フォトマ
スクに関わる費用、フォト工程に関する費用を必要とす
るが、微細加工品質は優れており、また同じパターンの
ガラス系脆性基体印刷凹版を複数個作製する場合、フォ
トマスクをマスターとしていくつも複製できるから、量
産性に富んでいる。そのうえ、この方法によればガラス
系脆性基体のパターン形成を浸漬エッチングに依るた
め、材料費、設備費、生産工程数が少ない等、工業的に
も生産性が高く、コスト的にも有利である。
作製方法は、ガラス系脆性基体上に金属薄膜を形成しこ
の金属薄膜の上に感光性樹脂からなる樹脂層を形成した
後、樹脂層および金属薄膜を所望のパターンに加工し
（すなわち樹脂層を所望のパターンに現像し金属薄膜を
所望のパターンにエッチングし）、この所望のパターン
を形成した樹脂層および金属薄膜をエッチングマスクと
してガラス系脆性基体をエッチング液浸漬法によりエッ
チングして、オフセット印刷等に用いられる凹版を作製
するものであり、金属薄膜と樹脂層による複層構造から
なるエッチングマスクを用いてガラス系脆性基体をエッ
チングするため、金属薄膜に微少なピンホールがあって
も樹脂層により塞がれ、ピンホールの影響を免れること
ができる。このようにして、腐食性の強いエッチング液
に抵抗することによって、良好なエッチングマスクとし
て機能する。このエッチングマスクは容易に形成でき
る。また、エッチング液中では等方性の反応が進むか
ら、熱歪みは生じず、加工に伴なう割れ、欠け、チッピ
ングなどの表面欠陥が生ずることも少ないので、作製し
たガラス系脆性基体印刷凹版の微細加工品質は優れたも
のとなる。また、エッチング液浸漬法であるので、フォ
トマスク（上記エッチングマスク）を使用し、フォトマ
スクに関わる費用、フォト工程に関する費用を必要とす
るが、微細加工品質は優れており、また同じパターンの
ガラス系脆性基体印刷凹版を複数個作製する場合、フォ
トマスクをマスターとしていくつも複製できるから、量
産性に富んでいる。そのうえ、この方法によればガラス
系脆性基体のパターン形成を浸漬エッチングに依るた
め、材料費、設備費、生産工程数が少ない等、工業的に
も生産性が高く、コスト的にも有利である。
【００１８】以上のように、良好なエッチング形状品
質、製造歩留に相関する作製の容易さ、生産性が高くコ
ストへの反映が期待できるなど、総合的に優れた特長を
もったガラス系脆性基体印刷凹版が得られる。
質、製造歩留に相関する作製の容易さ、生産性が高くコ
ストへの反映が期待できるなど、総合的に優れた特長を
もったガラス系脆性基体印刷凹版が得られる。
【図１】この発明によるガラス系脆性基体印刷凹版の作
製方法を示す工程断面図である。
製方法を示す工程断面図である。
【図２】従来例のエッチング液浸漬法による方法で作製
したガラス系脆性基体印刷凹版の断面図である。
したガラス系脆性基体印刷凹版の断面図である。
１ 基体 ２ 金属薄膜 ２ａ 金属パターン ３ 樹脂パターン ４ エッチングマスク ６ ガラス印刷凹版（ガラス系脆性基体印刷凹版） ７ ピンホール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚本 勝秀 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 ガラス系脆性基体上に金属薄膜を形成し
前記金属薄膜の上に樹脂層を形成する工程と、前記樹脂
層および金属薄膜を所望のパターンに加工する工程と、
前記所望のパターンを形成した樹脂層および金属薄膜を
エッチングマスクとして前記ガラス系脆性基体をエッチ
ング液浸漬法によりエッチングする工程とを含むガラス
系脆性基体印刷凹版の作製方法。 - 【請求項２】 樹脂層は感光性樹脂を用いて形成するこ
とを特徴とする請求項１記載のガラス系脆性基体印刷凹
版の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6109235A JPH07319152A (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | ガラス系脆性基体印刷凹版の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6109235A JPH07319152A (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | ガラス系脆性基体印刷凹版の作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07319152A true JPH07319152A (ja) | 1995-12-08 |
Family
ID=14505046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6109235A Pending JPH07319152A (ja) | 1994-05-24 | 1994-05-24 | ガラス系脆性基体印刷凹版の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07319152A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030019654A (ko) * | 2001-08-29 | 2003-03-07 | 일진다이아몬드(주) | 마이크로렌즈 제조용 몰드 및 이를 이용한 마이크로렌즈의제조방법 |
| JP2006290701A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Techno Quartz Kk | 基板のエッチング方法 |
| JP2007069553A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Toppan Printing Co Ltd | 凹版の製造方法および印刷方法 |
| US7914691B2 (en) | 2004-11-04 | 2011-03-29 | Lg Display Co., Ltd. | Printing plate and method for fabricating the same |
-
1994
- 1994-05-24 JP JP6109235A patent/JPH07319152A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030019654A (ko) * | 2001-08-29 | 2003-03-07 | 일진다이아몬드(주) | 마이크로렌즈 제조용 몰드 및 이를 이용한 마이크로렌즈의제조방법 |
| US7914691B2 (en) | 2004-11-04 | 2011-03-29 | Lg Display Co., Ltd. | Printing plate and method for fabricating the same |
| US8372749B2 (en) | 2004-11-04 | 2013-02-12 | Lg Display Co., Ltd. | Printing plate and method for fabricating the same |
| JP2006290701A (ja) * | 2005-04-14 | 2006-10-26 | Techno Quartz Kk | 基板のエッチング方法 |
| JP2007069553A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Toppan Printing Co Ltd | 凹版の製造方法および印刷方法 |
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