JPH07320259A - 磁気ディスクとその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ＣＳＳ特性に優れた、新たな磁気ディスクを
提供する。 【構成】 ディスク表面にテクスチャ-加工を施した磁気ディ
スクに於いて、磁気ディスク表面の粗さ曲線を半径0.5
μｍの針を用いて走査長さ200μｍ、サンフ゜リンク゛間隔13.3
μｍの条件で触針式粗さ計により測定し、この粗さ曲線
とその中心線との交点数の1/2をテクスチャ-溝群の「溝数」
と定義し、「走査長さ200μｍ/溝数」を平均溝間隔と定
義した時の、磁気ディスク表面のテクスチャー溝の平均溝間隔
が0.1〜7μｍである事を特徴とする磁気ディスク。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は録画、録音、電算機等に
用いられる水平磁気記録あるいは垂直磁気記録用磁気デ
ィスクに関するものである。特に、磁気ディスク表面の
形状とその形成方法の改良に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】コンピュ−タ用磁気ディスクは、近年そ
の小径化・高密度記録化・大容量化が求められている。
このため、磁気記録装置使用時に於ける、磁気ディスク
に対する磁気ヘッドの浮上量は年々低くなっており、
０．０７５μｍから０．０５μｍ以下になろうとする勢
いである。この様な磁気ディスクの小径化と磁気ヘッド
の低浮上量化に伴い、磁気ディスクに対して高いＣＳＳ
特性が要求されている。ＣＳＳ特性とはコンタクト・ス
タ−ト・ストップ特性の事であり、磁気ヘッドに対する
磁気ディスクの摺動特性を現すものであり、例えば、磁
気ヘッドを磁気ディスク上で一万回ＣＳＳ駆動したとき
の磁気ディスクに作用する摩擦力(フリクション)で表す。従来
は、このＣＳＳ特性を満足するために、例えばアルミ基板
上にNi-Pメッキを施した非磁性,基板（Ni-P/Al基板）表面
をテクスチャ-加工し基板表面を粗化した後、Cr下地、Co磁性
膜、カ-ホ゛ン保護膜を順に形成した後、潤滑剤を塗布する
事により、薄膜磁気ディスクを作製している。他の例と
しては、非磁性基板に適当な表面粗さを持つカ゛ラス基板を
用い、保護膜に酸化珪素系塗布膜を用いる事も行われて
いる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上述のように、ヘッド
の浮上量は近年になって急激に低下し、0.075μｍから
0.05μｍ以下になろうとする勢いである。このため、Ｃ
ＳＳ特性は、常温、常湿雰囲気下と共に、例えば35℃、
80％RHと云うような高温高湿の雰囲気下でも良好なＣＳ
Ｓ特性が要求されている。近年のヘッドの低浮上化に伴
い、従来の磁気ディスクでは特に高温高湿雰囲気下にお
いてヘッドが磁気ディスクに吸着する事(スティクション)が問
題になってきた。また、従来のカ-ホ゛ン保護膜を用いた磁
気ディスクは磁気ヘッドの摺動による摩耗傷が磁気ディ
スク表面上に比較的早いＣＳＳテスト回数に於いて現れ
易く、信頼性に劣る欠点があった。

【０００４】本発明の目的は、これらの欠点を改善し、
ＣＳＳ特性に優れた、新たな磁気ディスクを提供する事
である。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、磁気ディスク
表面のテクスチャ-溝の平均間隔が0.1〜7μｍ以下である事を
特徴とする磁気ディスクとその製法である。また、ハ゜ット
゛を磁気ディスク用基板表面に適当な圧力で接触させ、
砥粒を含んだスラリ-をその間に適宜供給しながらハ゜ット゛と
基板を個別に回転させるスラリ-式テクスチャ-加工法に於いて、
直径が1〜25μｍの繊維により構成されたハ゜ット゛を用いて
基板表面にテクスチャ-加工を施した事を特徴とするの磁気デ
ィスクとその製法を提供するものである。本発明では、
磁気ディスク表面の粗さ曲線を半径0.5μｍの針を用い
て走査長さ200μｍ、サンフ゜リンク゛間隔13.3μｍの条件で触
針式粗さ計DEKTAK8000により測定し、この粗さ曲線の中
心曲線と粗さ曲線の交点数の1/2をテクスチャ-溝群の「溝
数」と定義し、「走査長200μｍ／溝数」を平均溝間隔
と定義した。

【０００６】また、磁気ヘッドの吸着現象をより明確に
する為に、磁気ディスクの回転開始直後の磁気ヘッドと
磁気ディスク間の摩擦係数を詳細に評価した。ディスク
を停止状態である０ｒｐｍから３６００ｒｐｍに回転数
を立ち上げたとき、ヘッドとディスク間の摩擦係数は図
２のように変化する。図中(ａ)と示した摩擦係数のヒ゜-ク
値はディスクが回転し始め、ヘッドが摺動し始める時の
ヘッドとディスク間の吸着力の大きさを表している（以
下、吸着係数μｓと呼ぶ）。摩擦係数はその後急激に減
少した後再び増加し、ヒ゜-ク値(b)を示した後再度減少、
ヘッドが完全に浮上した時点で０になる。このヒ゜-ク値
(b)は従来から測定されている物であり、以下、ＣＳＳ
時の摩擦係数μfと呼ぶ。ＣＳＳ時にヘッドが吸着する
と、ディスクの回転開始時に測定するヘッドとディスク
間の吸着係数μsが大きくなり、1.0を越えるようなこと
が生じ、著しくは、回転に必要なトルクが大きくなりすぎ
て、磁気ディスクが回転しないことも生じる事が判明し
た。

【０００７】

【作用】磁気ディスク表面のテクスチャ-溝の平均間隔を0.1
〜7μｍ以下にする事により、磁気ヘッドと磁気ディス
クとにより構成されたハ-ト゛ディスクト゛ライフ゛(HDD)をＣＳ
Ｓ駆動した時にヘッドとディスク間の一接触点当たりの
接触面積が小さくなり、ヘッド、ディスク間の吸着係数
μsと摩擦係数μfの両者を小さくすることが出来、後に
述べるように良好なＣＳＳ特性が得られる。また、本発
明はテクスチャ-加工後の溝間隔が、加工時に用いるテクスチャ-用
ハ゜ット゛とスラリ-の粒度分布により決定される事を発見した
ものであり、直径が1〜25μｍの繊維により構成されたハ
゜ット゛を用いて、基板表面をテクスチャ-加工する事により基板
表面に平均溝間隔が0.1〜7μｍのテクスチャ-溝群を形成する
事が出来る。

【０００８】テクスチャ-の溝間隔を7μｍ以上にすると一接
点当たりのヘッド、ディスク間の接触面積が大きくなる
と共に、摩擦係数が大きく成り、ＣＳＳテストの初期段階
でディスク表面に摩耗傷が発生する。また、高温高湿雰
囲気下でヘッドとディスク間に吸着した水分の接触面積
が大きくなり、ＣＳＳ駆動時にディスクを回転するため
に大きなトルクを必要とし、著しくは、ディスクの回転を
阻害する事になる欠点が生じる。また、ＣＳＳ特性を良
くする為に必要以上にテクスチャ-の溝深さ(Rmax)を深くする
必要が生じ、磁気ディスクのク゛ライト゛特性が悪くなる欠点
が生じ、このディスクを用いたハ-ト゛ディスクト゛ライフ゛を駆
動した時に、ヘッドが磁気ディスクの突起に衝突する不
良が発生する。磁気記録密度を向上させるために、ヘッ
ドの浮上量を0.075μｍから0.05μｍへと低浮上化させ
ている現在、ク゛ライト゛特性が悪くなる事は致命的である。

【０００９】上述のように、磁気ディスク表面のテクスチャ-
溝の平均間隔を7μｍ以下にする事により、厳しいＣＳ
Ｓ特性とク゛ライト゛特性の両者を満足する磁気ディスクを実
現する事が出来る。テクスチャ-の溝間隔を0.1μｍ以下にす
ると、溝の深さが浅くなりすぎ、吸着係数μsと摩擦係
数μfとが共に大きくなり、磁気ディスクには適さなく
なる。

【００１０】ハ゜ット゛と砥粒を用いテクスチャ-加工を行った
時、加工品の表面形状は基本的にテクスチャ-に用いたハ゜ット゛
表面の形状を動的に転写したものであり、テクスチャ-の溝間
隔は、主にハ゜ット゛を構成する繊維の直径に依存する事が
わかった。実験の結果、直径が1〜25μｍの繊維により
構成されたハ゜ット゛とスラリ-を用いて、表面にテクスチャ-加工を
施す事により基板表面に溝と溝間の平均間隔が0.1〜7μ
ｍ以下のテクスチャ-溝群が形成される事が分かった。繊維の
直径が1μｍ以下の場合は繊維自体の強度が弱く、繊維
を束ね強度を保つ為に多量の樹脂を必要とし、テクスチャ-用
ハ゜ット゛には不向きになる。直径25μｍ以上の繊維により
構成されたハ゜ット゛を用いると、テクスチャ-加工品の溝間隔が7
μｍ以上になる。

【００１１】本発明によって、磁気ディスク表面に平均
間隔が0.1〜7μｍのテクスチャ-溝群が形成出来、ＣＳＳ駆動
時に発生するヘッド、ディスク間の摩擦係数が小さく、
同時に、吸着係数が小さく、吸着力の弱い磁気ディスク
を作製する事が出来る。

【００１２】

【実施例】以下実施例を上げて本発明を具体的に説明す
る。 実施例１アルミ 基板上にNi-Pメッキを施した直径９５ｍｍ，厚さ１．２
７ｍｍの非磁性基板両表面上に直径25μｍのホ゜リエステル高
分子繊維にホ゜リウレタンを含浸させて作製した直径40μｍのハ
゜ット゛を2kg/cm²の圧力で押しつけ、粒径2μｍのタ゛イヤモント゛
砥粒を分散させたスラリ-を適宜、基板とハ゜ット゛間に供給し
ながら基板とハ゜ット゛をそれぞれ回転させる事により基板
表面にテクスチャ-加工を施した。その後、基板表面を洗浄し
た後、基板温度280℃でCr膜を70nm厚さ及びCoCrTa磁性
膜を60nm厚さだけをスハ゜ッタ法で連続して成膜した後に、
基板温度200℃でカ-ホ゛ン保護膜を25nm厚さだけスパッタ法
により成膜した。この後、潤滑剤ハ゜-フロロホ゜リエ-テルを3nm塗
布し薄膜磁気ディスクを作製した。

【００１３】本発明品の磁気ディスク表面の粗さ曲線を
半径0.5μｍの針を用いて走査長さ200μｍ、サンフ゜リンク゛間
隔13.3μｍの条件で触針式粗さ計DEKTAK8000により評価
した結果、図１の粗さ曲線を得た。この粗さ曲線の上下
の包絡線の中点を結ぶ中心曲線と粗さ曲線の交点数の1/
2からテクスチャ-溝群の溝数を求め、「走査長200μｍ／溝
数」から平均溝間隔7.0μｍを得た。作製した磁気ディ
スクのク゛ライト゛特性を評価した結果、0.075μｍの突起数
は基板の有効領域全面で2個であった。ＣＳＳ特性は浮
上量0.075μｍのコンポジットヘッドを用いて、ディス
クの回転数３６００ｒｐｍ、半径２０ｍｍの評価位置に
於いて評価した。

【００１４】本発明品のＣＳＳ特性を25℃,60%RHおよび
35℃,80%RHの雰囲気下に於いて評価した結果を図３と図
４中の(a)に示す。図３の（ａ）に示すように、本発明
品はＣＳＳテスト開始時に於いてヘッドの摩擦係数μｆ
は0.19であり、その後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１５
ｋ，２０ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回に増加すると共に摩
擦係数μｆが徐々に増加するものの、それぞれ、0.20,
0.20,0.21,0.21,0.22,0.22に留まり、ＣＳＳ特性が優れ
ている事がわかる。ＣＳＳテスト後に磁気ディスク表面
を光学顕微鏡で観察した結果ヘッドによる摩耗傷は見ら
れなかった。

【００１５】また、図４の（ａ）に示すように、35℃、
80％ＲＨのような高温高湿の雰囲気下に於いてもヘッド
の摩擦係数μfはそれぞれ0.38,0.38,0.38,0.39,0.39,0.
40,0.40と良好であった。図５（ａ）には図３（ａ）と
同時に測定したヘッド/ディスク間の吸着係数μsの測定
結果を示す。図５（ａ）に示すように常温常湿の雰囲気
下に於いてμsは0.38,0.38,0.39,0.39,0.39,0.40,0.40
と良好であった。図６（ａ）には35℃、80％ＲＨの高温
高湿雰囲気下に於ける吸着係数μｓの評価結果を示す。
μsは0.65,0.65,0.66,0.66,0.67,0.67,0.68と小さく、
また、ＣＳＳテスト後に磁気ディスク表面を光学顕微鏡
で観察した結果もヘッドによる摩耗傷も見られなかっ
た。本発明品は高温高湿雰囲気下に於いても、ヘッド、
ディスク間の吸着力が小さくＣＳＳ特性が良好である事
を示している。

【００１６】（比較例１）実施例１と同一の非磁性基板
両表面上に直径30μｍの高分子繊維により構成されたテク
スチャ-用ハ゜ット゛と粒径2μｍのタ゛イヤモント゛砥粒を用いてテクスチャ-
加工を施し、以降は実施例１と同一の成膜及び潤滑剤塗
布を行い薄膜磁気ディスクを作製した。本比較品の磁気
ディスク表面の粗さ曲線を実施例１と同一の方法で測定
し、平均溝間隔を評価した結果8.0μｍを得た。作製し
た磁気ディスクのク゛ライト゛特性を評価した結果、高さが0.
075μmの突起数は一ディスク当たり52個と多く検出され
た。本比較品のＣＳＳ特性を実施例１と同一の条件で評
価した結果を図３、４と図５、６各図中の（ｂ）に示
す。

【００１７】図３の（ｂ）に示すように、比較用ディス
クでは、25℃、60%RHの常温常湿の雰囲気下に於いて、
ＣＳＳテスト開始時にヘッドの摩擦係数μfは0.25であ
り、その後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ回に増加
すると共に摩擦係数μfは、それぞれ、0.27,0.28,0.29
と増加すると共に、ＣＳＳ回数が１７ｋ回に達するとデ
ィスク表面上に摩耗傷が発生し磁気記録用ディスクとし
て使用できない状態になった。 また、図４の（ｂ）に
示すように、３５℃、８０％ＲＨのような高温高湿の雰
囲気下に於いて、ＣＳＳ回数が０回から５ｋ,１０ｋ,１
５ｋ回へと増加するにつれて、ヘッドの摩擦係数μfは
それぞれ0.45,0.48,0.49,0.50と増加し、２０ｋ回に於
いてディスク表面上にヘッドによる摩耗傷が発生した。
発明品に比べてＣＳＳ特性が劣っている事がわかる。

【００１８】図５（ｂ）には実施例１と同様に、比較用
ディスクを用いて図３（ｂ）と同時に測定したヘッド/
ディスク間の吸着係数μsの変化結果を示す。図５
（ｂ）に示すように常温常湿の雰囲気下に於いてμsは
0.76,0.77,0.79,0.79と吸着係数μsが大きく、比較用デ
ィスクは本発明品に比べてＣＳＳ特性が劣る事が判る。
図６（ｂ）に３５℃、８０％ＲＨの高温高湿雰囲気下に
於ける吸着係数μｓの評価結果を示す。μsは1.14,1.1
5,1.16,1.18と吸着係数μsが1.0よりも大きくなり、ヘ
ッド、ディスク間の吸着力が非常に大きく、本発明品に
比べて劣る事が判る。吸着係数μsが1.0を越えるディス
クはト゛ライフ゛に実装出来ないのが現状である。

【００１９】（実施例２）実施例１と同一の非磁性基板
両表面上に直径1μｍの高分子繊維により構成されたテクス
チャ-用ハ゜ット゛と粒径0.5μｍのタ゛イヤモント゛砥粒を用いてテクスチャ
-加工を施し、以降は実施例１と同一の成膜及び潤滑剤
塗布を行い薄膜磁気ディスクを作製した。本発明品の磁
気ディスク表面の粗さ曲線を実施例１と同一の方法で測
定し、平均溝間隔を評価した結果0.1μｍを得た。作製
した磁気ディスクのク゛ライト゛特性を評価した結果、高さが
0.05μmの突起数は一ディスク当たり1個測定された。本
発明品のＣＳＳ特性を浮上量0.05μｍのコンポジットヘ
ッドを用いて、回転数３６００ｒｐｍ、半径２０ｍｍの
評価位置に於いて実施例１と同様の方法でＣＳＳ特性を
評価した。

【００２０】本発明品のＣＳＳ特性を25℃,60%RHおよび
35℃,80%RHの雰囲気下に於いて評価したＣＳＳテストの結
果を図７、８と図９，１０の各図中の(a)に示す。図７
の（ａ）に示すように、本発明品はＣＳＳテスト開始時
に於いてヘッドの摩擦係数μfは0.37であり、その後Ｃ
ＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０ｋ，２５ｋおよ
び３０ｋ回に増加すると共に摩擦係数μfが徐々に増加
するものの、それぞれ、0.38,0.38,0.39,0.39,0.40,0.4
0に留まり、ＣＳＳ特性が優れている事がわかる。ＣＳ
Ｓテスト後に磁気ディスク表面を光学顕微鏡により観察
した結果ヘッドによる摩耗傷は見られなかった。

【００２１】また、図８の（ａ）に示すように、３５
℃、８０％ＲＨのような高温高湿の雰囲気下に於いても
ヘッドの摩擦係数μfはそれぞれ0.58,0.61,0.61,0.62,
0.62,0.63,0.63と良好であった。図９（ａ）には図７
（ａ）と同時に測定したヘッド/ディスク間の吸着係数
μsの測定結果を示す。図９（ａ）に示すように常温常
湿の雰囲気下に於いてμsは0.52,0.58,0.61,0.61,0.62,
0.62,0.63と良好であった。図１０（ａ）には図８
（ａ）と同時に測定した３５℃、８０％ＲＨの高温高湿
雰囲気下に於ける吸着係数μｓの評価結果を示す。μs
は0.80,0.89,0.91,0.91,0.92,0.93,0.94と1より小さ
く、ディスク表面に摩耗傷は見られなかった。本発明品
は高温高湿雰囲気下に於いても、ヘッド、ディスク間の
吸着力が小さくＣＳＳ特性が良好である事が分かる。

【００２２】（比較例２）実施例２と同一の非磁性基板
両表面上に直径0.5μｍの高分子繊維により構成されたテ
クスチャ-用ハ゜ット゛と粒径0.5μｍのタ゛イヤモント゛砥粒を用いてテクス
チャ-加工を施し、以降は実施例２と同一の成膜及び潤滑
剤塗布を行い薄膜磁気ディスクを作製した。 本比較品
の磁気ディスク表面を光学顕微鏡で観察したところ多数
の深いスクラッチが観測され、均一にテクスチャ-加工されていな
かった。実施例２と同一の方法で測定し、平均溝間隔を
評価した結果大きなスクラッチを含むために、平均溝間隔は
3.0μｍを得た。作製した磁気ディスクのク゛ライト゛特性を
評価した結果、高さが0.075μmの突起数は一ディスク当
たり126個と多く検出された。本比較品のＣＳＳ特性を
実施例２と同一の条件で評価した結果を図７、８と図
９、１０の各図中の（ｂ）に示す。

【００２３】図７の（ｂ）に示すように、比較用ディス
クでは、25℃、60%RHの常温常湿の雰囲気下に於いて、
ＣＳＳテスト開始時にヘッドの摩擦係数μfは0.46であ
り、その後ＣＳＳ回数が５ｋ，１０ｋ，１５ｋ，２０
ｋ，２５ｋおよび３０ｋ回に増加すると共に摩擦係数μ
fが徐々に増加し、それぞれ、0.48,0.49,0.50,0.51,0.5
2,0.52に, また、図８の（ｂ）に示すように、３５℃、
８０％ＲＨのような高温高湿の雰囲気下に於いて、ヘッ
ドの摩擦係数μfはそれぞれ0.69,0.72,0.78となり、Ｃ
ＳＳ回数が1200回を越えた段階で後述の様にディスクの
回転が止まり以降の測定を中止した。発明品に比べてＣ
ＳＳ特性が劣っている事がわかる。

【００２４】図９（ｂ）には実施例２と同様に、比較用
ディスクを用いて図７（ｂ）と同時に測定したヘッド/
ディスク間の吸着係数μsの変化結果を示す。図９
（ｂ）に示すように常温常湿の雰囲気下に於いてμsは
1.09,1.16,1.17,1.18,1.18,1.19,1.19と吸着係数μsが
大きく、比較用ディスクは本発明品に比べてＣＳＳ特性
が劣る事が判る。また、図１０（ｂ）に示す様に３５
℃、８０％ＲＨの高温高湿雰囲気下に於ける吸着係数μ
sはそれぞれ、1.52,1.74,1.95であり、ＣＳＳ回数が120
0回を越えた段階で、ディスク回転時のトルクが大きくなり
すぎディスクの回転が止まり、これ以上のＣＳＳ評価を
中止した。比較用ディスクは本発明品に比べてＣＳＳ特
性が劣る事が判る。

【００２５】

【発明の効果】本発明によれば、従来不十分であった磁
気ディスクの信頼性特性、特にＣＳＳ特性が大幅に向上
し、この磁気ディスクを組み込んだハ−ドディスクドラ
イブに於いて、ＣＳＳ駆動時にヘッドによる磁気ディス
ク表面に対する摩擦力が低く、しかも、高温高湿雰囲気
下に於ける吸着力が小さく、ディスク表面の損傷の発生
が少なく、信頼性の高い薄膜磁気ディスクを作製するこ
とが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わる磁気ディスクの第１の実施例に
ついて粗さ曲線を示す図である。

【図２】本発明品や比較品の評価に用いたＣＳＳ特性の
評価例を示した図である。

【図３】本発明品の第１の実施例と比較例１の磁気ディ
スクの常温常湿に於けるＣＳＳテスト時の摩擦係数の評価
結果を示す図である。

【図４】本発明品の第１の実施例と比較例１の磁気ディ
スクの高温高湿に於けるＣＳＳテスト時の摩擦係数の評価
結果を示す図である。

【図５】本発明品の第１の実施例と比較例１の磁気ディ
スクの常温常湿に於けるＣＳＳテスト時の吸着係数の評価
結果を示す図である。

【図６】本発明品の第１の実施例と比較例１の磁気ディ
スクの高温高湿に於けるＣＳＳテスト時の吸着係数の評価
結果を示す図である。

【図７】本発明品の第２の実施例と比較例２の磁気ディ
スクの常温常湿に於けるＣＳＳテスト時の摩擦係数の評価
結果を示す図である。

【図８】本発明品の第２の実施例と比較例２の磁気ディ
スクの高温高湿に於けるＣＳＳテスト時の摩擦係数の評価
結果を示す図である。

【図９】本発明品の第２の実施例と比較例２の磁気ディ
スクの常温常湿に於けるＣＳＳテスト時の吸着係数の評価
結果を示す図である。

【図１０】本発明品の第２の実施例と比較例２の磁気デ
ィスクの高温高湿に於けるＣＳＳテスト時の吸着係数の評
価結果を示す図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 康平 埼玉県熊谷市三ケ尻5200番地日立金属株式 会社磁性材料研究所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ディスク表面にテクスチャ-加工を施した磁気
   ディスクに於いて、磁気ディスク表面の粗さ曲線を半径
   0.5μｍの針を用いて走査長さ200μｍ、サンフ゜リンク゛間隔1
   3.3μｍの条件で触針式粗さ計により測定し、この粗さ
   曲線とその中心線との交点数の1/2をテクスチャ-溝群の「溝
   数」と定義し、「走査長さ200μｍ/溝数」を平均溝間隔
   と定義した時の、磁気ディスク表面のテクスチャー溝の平均溝
   間隔が0.1〜7μｍである事を特徴とする磁気ディスク。
2. 【請求項２】 ハ゜ット゛とスラリ-を用いて行うテクスチャ-加工に
   よって、直径が1〜25μｍの繊維により構成されたハ゜ット゛
   を用いて、基板表面にテクスチャ-加工を施した請求項１の磁
   気ディスク。