JPH07321096A - マイクロ波プラズマ処理装置 - Google Patents
マイクロ波プラズマ処理装置Info
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- JPH07321096A JPH07321096A JP6131342A JP13134294A JPH07321096A JP H07321096 A JPH07321096 A JP H07321096A JP 6131342 A JP6131342 A JP 6131342A JP 13134294 A JP13134294 A JP 13134294A JP H07321096 A JPH07321096 A JP H07321096A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 マイクロ波用チョーク構造を有するマイク
ロ波漏洩防止手段によるマイクロ波の漏洩を、さらに低
減させると共に、マイクロ波プラズマ処理装置の小型化
を図る。 【構成】 マイクロ波を伝搬させる方形導波管に、一
端に処理室を設けたプラズマ輸送管を貫通させ、方形導
波管とプラズマ輸送管との結合部のプラズマ輸送管の外
周に配設されたマイクロ波用チョーク構造を有するマイ
クロ波漏洩防止手段を具備し、プラズマ輸送管内にマイ
クロ波によるプラズマを発生させるマイクロ波プラズマ
処理装置において、第１のマイクロ波漏洩防止手段とす
るマイクロ波漏洩防止手段と連続して、筒状を呈した少
なくともマイクロ波吸収体からなる第２のマイクロ波漏
洩防止手段を方形導波管と逆方向側のプラズマ輸送管の
外周に第１のマイクロ波漏洩防止手段と同軸上に配設し
たことを特徴とする。
ロ波漏洩防止手段によるマイクロ波の漏洩を、さらに低
減させると共に、マイクロ波プラズマ処理装置の小型化
を図る。 【構成】 マイクロ波を伝搬させる方形導波管に、一
端に処理室を設けたプラズマ輸送管を貫通させ、方形導
波管とプラズマ輸送管との結合部のプラズマ輸送管の外
周に配設されたマイクロ波用チョーク構造を有するマイ
クロ波漏洩防止手段を具備し、プラズマ輸送管内にマイ
クロ波によるプラズマを発生させるマイクロ波プラズマ
処理装置において、第１のマイクロ波漏洩防止手段とす
るマイクロ波漏洩防止手段と連続して、筒状を呈した少
なくともマイクロ波吸収体からなる第２のマイクロ波漏
洩防止手段を方形導波管と逆方向側のプラズマ輸送管の
外周に第１のマイクロ波漏洩防止手段と同軸上に配設し
たことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、マイクロ波用チョーク
構造を有するマイクロ波漏洩防止手段に、さらに別なマ
イクロ波漏洩防止手段を設けたマイクロ波プラズマ処理
装置に関するものである。
構造を有するマイクロ波漏洩防止手段に、さらに別なマ
イクロ波漏洩防止手段を設けたマイクロ波プラズマ処理
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】薄膜を形成する装置の１つであるＣＶＤ
装置や、半導体製造用のエッチング装置等のプラズマ処
理装置には、マイクロ波により発生させたプラズマが用
いられているものがある。図４は従来のマイクロ波プラ
ズマ処理装置の概略構成図であり、図５はその要部を示
す概略構成図である。図示するように、マイクロ波発振
器１で発生したマイクロ波は、導波管回路２を介して石
英製のプラズマ輸送管３内のプラズマ発生空間４に供給
される。導波管回路２は複数の方形導波管２a 〜２g に
より構成されている。導波管回路２の途中には、発振器
１を反射波から保護するためのアイソレータ２b と、入
射波及び反射波を測定する電力モニター５と、負荷に有
効に電力を伝送するためにインピーダンスの整合をとる
インピーダンス整合器６とが設けられている。
装置や、半導体製造用のエッチング装置等のプラズマ処
理装置には、マイクロ波により発生させたプラズマが用
いられているものがある。図４は従来のマイクロ波プラ
ズマ処理装置の概略構成図であり、図５はその要部を示
す概略構成図である。図示するように、マイクロ波発振
器１で発生したマイクロ波は、導波管回路２を介して石
英製のプラズマ輸送管３内のプラズマ発生空間４に供給
される。導波管回路２は複数の方形導波管２a 〜２g に
より構成されている。導波管回路２の途中には、発振器
１を反射波から保護するためのアイソレータ２b と、入
射波及び反射波を測定する電力モニター５と、負荷に有
効に電力を伝送するためにインピーダンスの整合をとる
インピーダンス整合器６とが設けられている。
【０００３】プラズマ輸送管３は、導波管回路の最端部
の導波管２g を貫通した状態で設けられ、導波管２g の
端末部には、導波管内の最大電界位置をプラズマ輸送管
３の位置に一致するように調整するための可動短絡板を
備えた終端部機構７が設けられている。プラズマ輸送管
３の一端には、ガス供給口３a が設けられ、他端には処
理室８が設けられ、その内部に基板ホルダ９が配置さ
れ、このホルダの上に基板１０が保持されている。プラ
ズマ輸送管３及び処理室８内は図示しない排気装置によ
り真空引きされるようになっている。
の導波管２g を貫通した状態で設けられ、導波管２g の
端末部には、導波管内の最大電界位置をプラズマ輸送管
３の位置に一致するように調整するための可動短絡板を
備えた終端部機構７が設けられている。プラズマ輸送管
３の一端には、ガス供給口３a が設けられ、他端には処
理室８が設けられ、その内部に基板ホルダ９が配置さ
れ、このホルダの上に基板１０が保持されている。プラ
ズマ輸送管３及び処理室８内は図示しない排気装置によ
り真空引きされるようになっている。
【０００４】このような装置によりプラズマ処理を行な
う場合、プラズマ輸送管３内を排気しながら処理用ガス
をガス供給口３a から供給し、処理室８内が所定のガス
圧になるようにガス流量を調整する。その後、マイクロ
波発振器１で発生したマイクロ波（2.45GHz ）がプラズ
マ輸送管３内のプラズマ発生空間４に供給されて、この
プラズマ発生空間４内でプラズマＰが発生し、次第にプ
ラズマ輸送管３内の全体にプラズマが拡散され、処理室
８まで拡散されたプラズマによって、基板１０は所定の
プラズマ処理が行われる。
う場合、プラズマ輸送管３内を排気しながら処理用ガス
をガス供給口３a から供給し、処理室８内が所定のガス
圧になるようにガス流量を調整する。その後、マイクロ
波発振器１で発生したマイクロ波（2.45GHz ）がプラズ
マ輸送管３内のプラズマ発生空間４に供給されて、この
プラズマ発生空間４内でプラズマＰが発生し、次第にプ
ラズマ輸送管３内の全体にプラズマが拡散され、処理室
８まで拡散されたプラズマによって、基板１０は所定の
プラズマ処理が行われる。
【０００５】したがって、図５に示すように、導波管２
g とプラズマ輸送管３との結合部には、プラズマＰが導
電性の挙動を示すことによって、導波管の貫通孔２g1，
２g2とプラズマ発生空間４内で発生したプラズマＰとの
間隙をＴＥＭモードで伝搬するマイクロ波の漏洩を防止
するために、マイクロ波用チョーク構造を有する公知の
マイクロ波漏洩防止手段１１a ，１１b が、それぞれプ
ラズマ輸送管３を取囲むようにガス供給口３a 側及び処
理室８側の導波管２g に取付けられており、この漏洩防
止手段１１a ，１１b はチョーク構造を形成する外筒部
材１１a1，１１b1及び内筒部材１１a2，１１b2から構成
されている。これらのマイクロ波漏洩防止手段を冷却す
るために、外周に冷却媒体Ｗを収納する空間を形成させ
る円筒状の流体収納部材１２a ，１２b が、それぞれマ
イクロ波漏洩防止手段１１a ，１１b の外側に同心的に
取付けられており、冷却媒体として例えば水を図示しな
い冷却水循環装置により循環させている。
g とプラズマ輸送管３との結合部には、プラズマＰが導
電性の挙動を示すことによって、導波管の貫通孔２g1，
２g2とプラズマ発生空間４内で発生したプラズマＰとの
間隙をＴＥＭモードで伝搬するマイクロ波の漏洩を防止
するために、マイクロ波用チョーク構造を有する公知の
マイクロ波漏洩防止手段１１a ，１１b が、それぞれプ
ラズマ輸送管３を取囲むようにガス供給口３a 側及び処
理室８側の導波管２g に取付けられており、この漏洩防
止手段１１a ，１１b はチョーク構造を形成する外筒部
材１１a1，１１b1及び内筒部材１１a2，１１b2から構成
されている。これらのマイクロ波漏洩防止手段を冷却す
るために、外周に冷却媒体Ｗを収納する空間を形成させ
る円筒状の流体収納部材１２a ，１２b が、それぞれマ
イクロ波漏洩防止手段１１a ，１１b の外側に同心的に
取付けられており、冷却媒体として例えば水を図示しな
い冷却水循環装置により循環させている。
【０００６】しかしながら、上記のマイクロ波用チョー
ク構造を有するマイクロ波漏洩防止手段１１a で説明す
ると、Ｃ点での間隙をＴＥＭモードで伝搬したマイクロ
波は、Ｂ点でＡ点側へ分波（Ｆ1 ）して伝搬され、また
Ｄ点側へ分波（Ｆ2 ）して伝搬される。Ａ点側へ伝搬し
たマイクロ波は、Ａ点で短絡されるために、Ａ点からＢ
点へ全反射するが、この反射波はＢ点でＤ点側へ分波
（Ｒ1 ）して伝搬され、またＣ点側へ分波（Ｒ2 ）して
伝搬される。したがって、上記分波（Ｆ2 ）と分波（Ｒ
1 ）とが合成されたマイクロ波がＤ点から装置外に漏洩
することを防止するために、流体収納部材１２a ，１２
b のプラズマ輸送管３側の端部から導波管２g と逆方向
側のプラズマ輸送管３の外周に沿うように、適宜の長さ
を有するマイクロ波減衰管１３a ，１３b がそれぞれ設
けられ、この減衰管とプラズマＰとの間隙をＴＥＭモー
ドで伝搬させることにより減衰させている。
ク構造を有するマイクロ波漏洩防止手段１１a で説明す
ると、Ｃ点での間隙をＴＥＭモードで伝搬したマイクロ
波は、Ｂ点でＡ点側へ分波（Ｆ1 ）して伝搬され、また
Ｄ点側へ分波（Ｆ2 ）して伝搬される。Ａ点側へ伝搬し
たマイクロ波は、Ａ点で短絡されるために、Ａ点からＢ
点へ全反射するが、この反射波はＢ点でＤ点側へ分波
（Ｒ1 ）して伝搬され、またＣ点側へ分波（Ｒ2 ）して
伝搬される。したがって、上記分波（Ｆ2 ）と分波（Ｒ
1 ）とが合成されたマイクロ波がＤ点から装置外に漏洩
することを防止するために、流体収納部材１２a ，１２
b のプラズマ輸送管３側の端部から導波管２g と逆方向
側のプラズマ輸送管３の外周に沿うように、適宜の長さ
を有するマイクロ波減衰管１３a ，１３b がそれぞれ設
けられ、この減衰管とプラズマＰとの間隙をＴＥＭモー
ドで伝搬させることにより減衰させている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、一般的なニ
ーズとして装置の大型化を避ける方向にあり、また客先
から小型化仕様の注文があり、これに対応させる場合、
上記プラズマ輸送管３の短縮化に伴ってマイクロ波減衰
管１３a ，１３b も短縮されるので、漏洩したマイクロ
波が十分に減衰されないために、そのマイクロ波が基板
１０に照射されることになり、基板等のデバイスに損傷
を与えるという問題があった。
ーズとして装置の大型化を避ける方向にあり、また客先
から小型化仕様の注文があり、これに対応させる場合、
上記プラズマ輸送管３の短縮化に伴ってマイクロ波減衰
管１３a ，１３b も短縮されるので、漏洩したマイクロ
波が十分に減衰されないために、そのマイクロ波が基板
１０に照射されることになり、基板等のデバイスに損傷
を与えるという問題があった。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１におい
ては、マイクロ波を伝搬させる方形導波管に、一端に処
理室を設けたプラズマ輸送管を貫通させ、方形導波管と
プラズマ輸送管との結合部のプラズマ輸送管の外周に配
設されたマイクロ波用チョーク構造を有するマイクロ波
漏洩防止手段を具備し、プラズマ輸送管内にマイクロ波
によるプラズマを発生させるマイクロ波プラズマ処理装
置を対象とし、第１のマイクロ波漏洩防止手段とする従
来のマイクロ波漏洩防止手段と連続して、筒状を呈した
少なくともマイクロ波吸収体からなる第２のマイクロ波
漏洩防止手段を方形導波管と逆方向側のプラズマ輸送管
の外周に第１のマイクロ波漏洩防止手段と同軸上に配設
し、マイクロ波吸収体の前記プラズマ輸送管側の長さ
が、第１のマイクロ波漏洩防止手段とプラズマとの間隙
幅より大きく設定されたことを特徴とする。
ては、マイクロ波を伝搬させる方形導波管に、一端に処
理室を設けたプラズマ輸送管を貫通させ、方形導波管と
プラズマ輸送管との結合部のプラズマ輸送管の外周に配
設されたマイクロ波用チョーク構造を有するマイクロ波
漏洩防止手段を具備し、プラズマ輸送管内にマイクロ波
によるプラズマを発生させるマイクロ波プラズマ処理装
置を対象とし、第１のマイクロ波漏洩防止手段とする従
来のマイクロ波漏洩防止手段と連続して、筒状を呈した
少なくともマイクロ波吸収体からなる第２のマイクロ波
漏洩防止手段を方形導波管と逆方向側のプラズマ輸送管
の外周に第１のマイクロ波漏洩防止手段と同軸上に配設
し、マイクロ波吸収体の前記プラズマ輸送管側の長さ
が、第１のマイクロ波漏洩防止手段とプラズマとの間隙
幅より大きく設定されたことを特徴とする。
【０００９】また請求項２においては、第２のマイクロ
波漏洩防止手段が、流体のマイクロ波吸収体と流体のマ
イクロ波吸収体を充填する空間を形成させる流体収納部
材とからなることを特徴とする。
波漏洩防止手段が、流体のマイクロ波吸収体と流体のマ
イクロ波吸収体を充填する空間を形成させる流体収納部
材とからなることを特徴とする。
【００１０】さらに請求項３においては、流体収納部材
が、内面に突起を設けた金属製からなることを特徴とす
る。
が、内面に突起を設けた金属製からなることを特徴とす
る。
【００１１】また請求項４においては、第２のマイクロ
波漏洩防止手段が、固体のマイクロ波吸収体からなるこ
とを特徴とする。
波漏洩防止手段が、固体のマイクロ波吸収体からなるこ
とを特徴とする。
【００１２】
【作用】上記請求項１に記載した構成にすれば、マイク
ロ波用チョーク構造を有する第１のマイクロ波漏洩防止
手段から漏洩したマイクロ波を、プラズマ処理装置外へ
漏洩することが防止され、しかもプラズマ処理される基
板へ照射することが防止される。
ロ波用チョーク構造を有する第１のマイクロ波漏洩防止
手段から漏洩したマイクロ波を、プラズマ処理装置外へ
漏洩することが防止され、しかもプラズマ処理される基
板へ照射することが防止される。
【００１３】また請求項２に記載した構成にすれば、特
に第１のマイクロ波漏洩防止手段が冷却されつつ第１の
マイクロ波漏洩防止手段から漏洩したマイクロ波が吸収
され、しかも第２のマイクロ波漏洩防止手段の構造が簡
素化される。
に第１のマイクロ波漏洩防止手段が冷却されつつ第１の
マイクロ波漏洩防止手段から漏洩したマイクロ波が吸収
され、しかも第２のマイクロ波漏洩防止手段の構造が簡
素化される。
【００１４】さらに請求項３に記載した構成にすれば、
特に第１のマイクロ波漏洩防止手段から漏洩したマイク
ロ波のマイクロ波吸収体への吸収が効率的に行われる。
特に第１のマイクロ波漏洩防止手段から漏洩したマイク
ロ波のマイクロ波吸収体への吸収が効率的に行われる。
【００１５】また請求項４に記載した構成にすれば、特
にマイクロ波吸収体を収容する部材が不要となり、しか
もマイクロ波吸収体の取付けが容易となる。
にマイクロ波吸収体を収容する部材が不要となり、しか
もマイクロ波吸収体の取付けが容易となる。
【００１６】
＜実施例１＞図１は本発明に係る第１の実施例の要部を
示す概略構成図である。図において、２g は方形導波
管、３はプラズマ輸送管、３a はガス供給口、８は処理
室、１１a ，１１b はマイクロ波用チョーク構造を有す
るマイクロ波漏洩防止手段であって、図４及び図５と全
く同じである。
示す概略構成図である。図において、２g は方形導波
管、３はプラズマ輸送管、３a はガス供給口、８は処理
室、１１a ，１１b はマイクロ波用チョーク構造を有す
るマイクロ波漏洩防止手段であって、図４及び図５と全
く同じである。
【００１７】本実施例は、従来例を示す図５のマイクロ
波漏洩防止手段１１a ，１１b を第１のマイクロ波漏洩
防止手段とし、第２のマイクロ波漏洩防止手段２２a ，
２２b として、流体のマイクロ波吸収体Ｆを用いると共
に、この流体を収納する空間を第１のマイクロ波漏洩防
止手段１１a ，１１b の導波管２g と逆方向の端面側
に、かつプラズマ輸送管３の外周に形成させる円筒状の
流体収納部材が、プラズマ輸送管の外側に第１のマイク
ロ波漏洩防止手段１１a ，１１b と同軸上に配設された
ものである。
波漏洩防止手段１１a ，１１b を第１のマイクロ波漏洩
防止手段とし、第２のマイクロ波漏洩防止手段２２a ，
２２b として、流体のマイクロ波吸収体Ｆを用いると共
に、この流体を収納する空間を第１のマイクロ波漏洩防
止手段１１a ，１１b の導波管２g と逆方向の端面側
に、かつプラズマ輸送管３の外周に形成させる円筒状の
流体収納部材が、プラズマ輸送管の外側に第１のマイク
ロ波漏洩防止手段１１a ，１１b と同軸上に配設された
ものである。
【００１８】第２のマイクロ波漏洩防止手段２２a ，２
２b を構成する流体収納部材は、特に上記マイクロ波吸
収体Ｆを収納する空間と第１のマイクロ波漏洩防止手段
１１a ，１１b の冷却媒体を収納する空間との共用空間
を形成させるために、第１の流体収納部材２２a1，２２
b1と第２の流体収納部材２２a2，２２b2とから構成され
ている。第１の流体収納部材２２a1，２２b1は、従来例
を示す図５の流体収納部材１２a ，１２b をそれぞれ導
波管２g と逆方向側に延長させており、この流体収納部
材２２a1，２２b1とチョーク構造を形成する内筒部材１
１a2，１１b2とをそれぞれ密閉させるために、プラズマ
輸送管３の外周に第２の流体収納部材２２a2，２２b2を
設けており、この流体収納部材２２a2，２２b2は、マイ
クロ波を透過または吸収する材質である必要がある。
２b を構成する流体収納部材は、特に上記マイクロ波吸
収体Ｆを収納する空間と第１のマイクロ波漏洩防止手段
１１a ，１１b の冷却媒体を収納する空間との共用空間
を形成させるために、第１の流体収納部材２２a1，２２
b1と第２の流体収納部材２２a2，２２b2とから構成され
ている。第１の流体収納部材２２a1，２２b1は、従来例
を示す図５の流体収納部材１２a ，１２b をそれぞれ導
波管２g と逆方向側に延長させており、この流体収納部
材２２a1，２２b1とチョーク構造を形成する内筒部材１
１a2，１１b2とをそれぞれ密閉させるために、プラズマ
輸送管３の外周に第２の流体収納部材２２a2，２２b2を
設けており、この流体収納部材２２a2，２２b2は、マイ
クロ波を透過または吸収する材質である必要がある。
【００１９】マイクロ波吸収体Ｆの寸法は、このマイク
ロ波吸収体のマイクロ波吸収率により適宜決定すればよ
い。特に、プラズマ輸送管３側の長さＬ1 は、上記した
ように小型化という理由により短くすることが望まし
く、チョーク構造を形成する内筒部材１１a2，１１b2と
プラズマＰとの間隙幅をＬ2 とすると、Ｌ1 ＞Ｌ2 であ
ることが好ましい。この場合、上記内筒部材１１a2，１
１b2とプラズマＰとの間隙をＴＥＭモードで伝搬した後
のマイクロ波は、マイクロ波吸収体内を伝搬しながら吸
収される。逆にＬ1 ＜Ｌ2 であれば、上記間隙を伝搬し
たマイクロ波は図に示したＤ点で一部反射するが、大半
がマイクロ波吸収体に吸収されることなく、マイクロ波
吸収体の長さＬ1 の間隙をそのまま通過してしまうこと
になる。
ロ波吸収体のマイクロ波吸収率により適宜決定すればよ
い。特に、プラズマ輸送管３側の長さＬ1 は、上記した
ように小型化という理由により短くすることが望まし
く、チョーク構造を形成する内筒部材１１a2，１１b2と
プラズマＰとの間隙幅をＬ2 とすると、Ｌ1 ＞Ｌ2 であ
ることが好ましい。この場合、上記内筒部材１１a2，１
１b2とプラズマＰとの間隙をＴＥＭモードで伝搬した後
のマイクロ波は、マイクロ波吸収体内を伝搬しながら吸
収される。逆にＬ1 ＜Ｌ2 であれば、上記間隙を伝搬し
たマイクロ波は図に示したＤ点で一部反射するが、大半
がマイクロ波吸収体に吸収されることなく、マイクロ波
吸収体の長さＬ1 の間隙をそのまま通過してしまうこと
になる。
【００２０】本実施例においては、流体のマイクロ波吸
収体Ｆを第１のマイクロ波漏洩防止手段１１a ，１１b
の冷却媒体に兼用しているので、第２のマイクロ波漏洩
防止手段２２a ，２２b が簡素化できる。この場合、マ
イクロ波吸収体としては、水，アルコールなどが例示さ
れる。また、第１のマイクロ波漏洩防止手段１１a ，１
１b から漏洩するマイクロ波をマイクロ波吸収体により
吸収させることができるので、従来例に示すマイクロ波
減衰管１３a ，１３b が不要になると共に、プラズマ輸
送管３を短くすることができる。
収体Ｆを第１のマイクロ波漏洩防止手段１１a ，１１b
の冷却媒体に兼用しているので、第２のマイクロ波漏洩
防止手段２２a ，２２b が簡素化できる。この場合、マ
イクロ波吸収体としては、水，アルコールなどが例示さ
れる。また、第１のマイクロ波漏洩防止手段１１a ，１
１b から漏洩するマイクロ波をマイクロ波吸収体により
吸収させることができるので、従来例に示すマイクロ波
減衰管１３a ，１３b が不要になると共に、プラズマ輸
送管３を短くすることができる。
【００２１】＜実施例２＞図２は本発明に係る第２の実
施例の要部を示す概略構成図である。図において、２g
は方形導波管、３はプラズマ輸送管、３a はガス供給
口、８は処理室、２１a ，２１b はマイクロ波用チョー
ク構造を有するマイクロ波漏洩防止手段であって、図４
及び図５と全く同じである。
施例の要部を示す概略構成図である。図において、２g
は方形導波管、３はプラズマ輸送管、３a はガス供給
口、８は処理室、２１a ，２１b はマイクロ波用チョー
ク構造を有するマイクロ波漏洩防止手段であって、図４
及び図５と全く同じである。
【００２２】本実施例は実施例１と同様に、第２のマイ
クロ波漏洩防止手段３２a ，３２bを構成する流体収納
部材が、第１の流体収納部材３２a1，３２b1と第２の流
体収納部材３２a2，３２b2とから構成されているが、こ
の第１の流体媒体形成部材３２a1，３２b1は、導体であ
る必要があり、その内面には、図示するように例えば円
錐状の突起３２c が数多く設けられている。また、第２
の流体収納部材３２a2，３２b2は、マイクロ波を透過ま
たは吸収する材質である必要がある。
クロ波漏洩防止手段３２a ，３２bを構成する流体収納
部材が、第１の流体収納部材３２a1，３２b1と第２の流
体収納部材３２a2，３２b2とから構成されているが、こ
の第１の流体媒体形成部材３２a1，３２b1は、導体であ
る必要があり、その内面には、図示するように例えば円
錐状の突起３２c が数多く設けられている。また、第２
の流体収納部材３２a2，３２b2は、マイクロ波を透過ま
たは吸収する材質である必要がある。
【００２３】第１の流体収納部材３２a1，３２b1の内面
に設けた突起３２c は、この流体収納部材３２a1，３２
b1の空間内に形成されるマイクロ波回路に、インピーダ
ンスの不連続点を有することになるので、この部分で漏
洩したマイクロ波が反射される。
に設けた突起３２c は、この流体収納部材３２a1，３２
b1の空間内に形成されるマイクロ波回路に、インピーダ
ンスの不連続点を有することになるので、この部分で漏
洩したマイクロ波が反射される。
【００２４】マイクロ波吸収体Ｆは、実施例１と同様
に、マイクロ波吸収体のプラズマ輸送管３側の長さＬ1
と、チョーク構造を形成する内筒部材１１a2，１１b2と
プラズマＰとの間隙幅Ｌ2 とは、Ｌ1 ＞Ｌ2 であること
が好ましく、ＴＥＭモードで伝搬した後のマイクロ波
は、マイクロ波吸収体内を伝搬しながら吸収され、かつ
上記突起３２c で反射して再び吸収される。
に、マイクロ波吸収体のプラズマ輸送管３側の長さＬ1
と、チョーク構造を形成する内筒部材１１a2，１１b2と
プラズマＰとの間隙幅Ｌ2 とは、Ｌ1 ＞Ｌ2 であること
が好ましく、ＴＥＭモードで伝搬した後のマイクロ波
は、マイクロ波吸収体内を伝搬しながら吸収され、かつ
上記突起３２c で反射して再び吸収される。
【００２５】本実施例においては、マイクロ波を吸収さ
せるマイクロ波吸収体Ｆとマイクロ波を反射する突起３
２c とを併用しているので、マイクロ波の吸収が効率的
になる。この突起は円錐状に限定されることなく、他の
形状であってもよく、また帯状であってもよい
せるマイクロ波吸収体Ｆとマイクロ波を反射する突起３
２c とを併用しているので、マイクロ波の吸収が効率的
になる。この突起は円錐状に限定されることなく、他の
形状であってもよく、また帯状であってもよい
【００２６】＜実施例３＞図３は本発明に係る第３の実
施例の要部を示す概略構成図である。図において、２g
は方形導波管、３はプラズマ輸送管、３a はガス供給
口、８は処理室、１１a ，１１b はマイクロ波用チョー
ク構造を有するマイクロ波漏洩防止手段、１２a ，１２
b は流体収納部材、Ｗは冷却媒体であって、図４及び図
５と全く同じである。
施例の要部を示す概略構成図である。図において、２g
は方形導波管、３はプラズマ輸送管、３a はガス供給
口、８は処理室、１１a ，１１b はマイクロ波用チョー
ク構造を有するマイクロ波漏洩防止手段、１２a ，１２
b は流体収納部材、Ｗは冷却媒体であって、図４及び図
５と全く同じである。
【００２７】本実施例は、従来例を示す図５のマイクロ
波漏洩防止手段１１a ，１１b を第１のマイクロ波漏洩
防止手段とし、第２のマイクロ波漏洩防止手段４２a ，
４２b として、内径がプラズマ輸送管３の外径とほぼ同
じ寸法の円筒状に形成された固体のマイクロ波吸収体Ｓ
を、それぞれ流体収納部材１２a ，１２b の導波管２g
と逆方向側の端面に当接させ、かつプラズマ輸送管の外
周に第１のマイクロ波漏洩防止手段１１a ，１１b と同
軸上に配設させたものである。
波漏洩防止手段１１a ，１１b を第１のマイクロ波漏洩
防止手段とし、第２のマイクロ波漏洩防止手段４２a ，
４２b として、内径がプラズマ輸送管３の外径とほぼ同
じ寸法の円筒状に形成された固体のマイクロ波吸収体Ｓ
を、それぞれ流体収納部材１２a ，１２b の導波管２g
と逆方向側の端面に当接させ、かつプラズマ輸送管の外
周に第１のマイクロ波漏洩防止手段１１a ，１１b と同
軸上に配設させたものである。
【００２８】マイクロ波吸収体Ｓは、実施例１と同様
に、マイクロ波吸収体のプラズマ輸送管３側の長さＬ1
と、チョーク構造を形成する内筒部材１１a2，１１b2と
プラズマＰとの間隙幅Ｌ2 とは、Ｌ1 ＞Ｌ2 であること
が好ましく、ＴＥＭモードで伝搬した後のマイクロ波
は、マイクロ波吸収体内を伝搬しながら吸収される。
に、マイクロ波吸収体のプラズマ輸送管３側の長さＬ1
と、チョーク構造を形成する内筒部材１１a2，１１b2と
プラズマＰとの間隙幅Ｌ2 とは、Ｌ1 ＞Ｌ2 であること
が好ましく、ＴＥＭモードで伝搬した後のマイクロ波
は、マイクロ波吸収体内を伝搬しながら吸収される。
【００２９】本実施例においては、マイクロ波吸収体Ｓ
として、ポリアイアン，フェライト，グラファイトを含
むセメントなどが例示される。また、マイクロ波吸収体
を予め半割り状にしておけば、取付けが容易となり、取
付け後は周囲から締め付けるようにすればよい。
として、ポリアイアン，フェライト，グラファイトを含
むセメントなどが例示される。また、マイクロ波吸収体
を予め半割り状にしておけば、取付けが容易となり、取
付け後は周囲から締め付けるようにすればよい。
【００３０】
【発明の効果】以上のように、請求項１に記載した発明
によれば、マイクロ波用チョーク構造を有する第１のマ
イクロ波漏洩防止手段から漏洩したマイクロ波が、プラ
ズマ処理装置外へ漏洩することが防止でき、しかもプラ
ズマ処理される基板へ照射することが防止できる。ま
た、従来例に示すマイクロ波減衰管が不要になると共
に、プラズマ輸送管が短くなるので、プラズマ処理装置
を小型化することができる。
によれば、マイクロ波用チョーク構造を有する第１のマ
イクロ波漏洩防止手段から漏洩したマイクロ波が、プラ
ズマ処理装置外へ漏洩することが防止でき、しかもプラ
ズマ処理される基板へ照射することが防止できる。ま
た、従来例に示すマイクロ波減衰管が不要になると共
に、プラズマ輸送管が短くなるので、プラズマ処理装置
を小型化することができる。
【００３１】また請求項２に記載した発明によれば、第
１のマイクロ波漏洩防止手段を冷却しながら漏洩したマ
イクロ波を吸収することができ、しかも第２のマイクロ
波漏洩防止手段が簡素化できる。
１のマイクロ波漏洩防止手段を冷却しながら漏洩したマ
イクロ波を吸収することができ、しかも第２のマイクロ
波漏洩防止手段が簡素化できる。
【００３２】さらに請求項３に記載した発明によれば、
第１のマイクロ波漏洩防止手段から漏洩したマイクロ波
をマイクロ波吸収体へ効率的に吸収させることができ
る。
第１のマイクロ波漏洩防止手段から漏洩したマイクロ波
をマイクロ波吸収体へ効率的に吸収させることができ
る。
【００３３】また請求項４に記載した発明によれば、マ
イクロ波吸収体を収容する部材が不要となり、しかもマ
イクロ波吸収体を容易に取付けることができる。
イクロ波吸収体を収容する部材が不要となり、しかもマ
イクロ波吸収体を容易に取付けることができる。
【図１】本発明に係るマイクロ波プラズマ処理装置の第
１の実施例を示す概略構成図である。
１の実施例を示す概略構成図である。
【図２】本発明に係るマイクロ波プラズマ処理装置の第
２の実施例を示す概略構成図である。
２の実施例を示す概略構成図である。
【図３】本発明に係るマイクロ波プラズマ処理装置の第
３の実施例を示す概略構成図である。
３の実施例を示す概略構成図である。
【図４】従来のマイクロ波プラズマ処理装置を示す概略
構成図である。
構成図である。
【図５】図４の要部を示す概略構成図である。
２g 方形導波管 ３ プラズマ輸送管 ８ 処理室 １１a ，１１b 第１のマイクロ波漏洩防止手段 ２２a ，２２b ，３２a ，３２b ，４２a ，４２b 第
２のマイクロ波漏洩防止手段 ２２a1，２２b1，２２a2，２２b2，３２a1，３２b1，３
２a2，３２b2 マイクロ波吸収体を収納する流体収納部
材 ３２c 突起 Ｆ 流体のマイクロ波吸収体 Ｓ 固体のマイクロ波吸収体
２のマイクロ波漏洩防止手段 ２２a1，２２b1，２２a2，２２b2，３２a1，３２b1，３
２a2，３２b2 マイクロ波吸収体を収納する流体収納部
材 ３２c 突起 Ｆ 流体のマイクロ波吸収体 Ｓ 固体のマイクロ波吸収体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｈ 1/46 Ｂ 9216−2Ｇ Ｈ０１Ｌ 21/31 Ｃ
Claims (4)
- 【請求項１】 マイクロ波を伝搬させる方形導波管に、
一端に処理室を設けたプラズマ輸送管を貫通させ、前記
方形導波管とプラズマ輸送管との結合部のプラズマ輸送
管の外周に配設されたマイクロ波用チョーク構造を有す
るマイクロ波漏洩防止手段を具備し、前記プラズマ輸送
管内にマイクロ波によるプラズマを発生させるマイクロ
波プラズマ処理装置において、 第１のマイクロ波漏洩防止手段とする前記マイクロ波漏
洩防止手段と連続して、筒状を呈した少なくともマイク
ロ波吸収体からなる第２のマイクロ波漏洩防止手段を前
記方形導波管と逆方向側のプラズマ輸送管の外周に第１
のマイクロ波漏洩防止手段と同軸上に配設し、 前記マイクロ波吸収体の前記プラズマ輸送管側の長さ
が、前記第１のマイクロ波漏洩防止手段とプラズマとの
間隙幅より大きく設定されたマイクロ波プラズマ処理装
置。 - 【請求項２】 前記第２のマイクロ波漏洩防止手段が、
流体のマイクロ波吸収体と前記流体のマイクロ波吸収体
を収納する流体収納部材とからなる請求項１に記載のマ
イクロ波プラズマ処理装置。 - 【請求項３】 前記流体充填形成部材が、内面に突起を
設けた金属製からなる請求項２に記載のマイクロ波プラ
ズマ処理装置。 - 【請求項４】 前記第２のマイクロ波漏洩防止手段が、
固体のマイクロ波吸収体からなる請求項１に記載のマイ
クロ波プラズマ処理装置置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6131342A JPH07321096A (ja) | 1994-05-20 | 1994-05-20 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6131342A JPH07321096A (ja) | 1994-05-20 | 1994-05-20 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07321096A true JPH07321096A (ja) | 1995-12-08 |
Family
ID=15055704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6131342A Pending JPH07321096A (ja) | 1994-05-20 | 1994-05-20 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07321096A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002541672A (ja) * | 1999-04-12 | 2002-12-03 | マトリックス インテグレイテッド システムズ インコーポレイテッド | 遠隔式プラズマ発生装置 |
| WO2005099322A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Adtec Plasma Technology Co., Ltd. | 同軸形マイクロ波プラズマトーチ |
| US7975646B2 (en) * | 2006-07-17 | 2011-07-12 | Sidel Participations | Device for depositing a coating on an internal surface of a container |
| WO2024043138A1 (ja) * | 2022-08-25 | 2024-02-29 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
-
1994
- 1994-05-20 JP JP6131342A patent/JPH07321096A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002541672A (ja) * | 1999-04-12 | 2002-12-03 | マトリックス インテグレイテッド システムズ インコーポレイテッド | 遠隔式プラズマ発生装置 |
| WO2005099322A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Adtec Plasma Technology Co., Ltd. | 同軸形マイクロ波プラズマトーチ |
| US7858899B2 (en) | 2004-03-31 | 2010-12-28 | Adtec Plasma Technology Co., Ltd. | Coaxial microwave plasma torch |
| US7975646B2 (en) * | 2006-07-17 | 2011-07-12 | Sidel Participations | Device for depositing a coating on an internal surface of a container |
| WO2024043138A1 (ja) * | 2022-08-25 | 2024-02-29 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
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