JPH0732559A - ポリプロピレン多層フィルム - Google Patents
ポリプロピレン多層フィルムInfo
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- JPH0732559A JPH0732559A JP17702193A JP17702193A JPH0732559A JP H0732559 A JPH0732559 A JP H0732559A JP 17702193 A JP17702193 A JP 17702193A JP 17702193 A JP17702193 A JP 17702193A JP H0732559 A JPH0732559 A JP H0732559A
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Abstract
特定のプロピレン系ランダム共重合体とからなるシール
材層とを有する多層フィルムであって、前記シール材層
の厚さが、フィルムの全厚さに対して0.03〜0.4の
範囲にあるポリプロピレン多層フィルム。 【効果】 剛性、透明性、および耐ブロッキング性に優
れ、かつ、ヒートシール性に優れている。
Description
ルムに関し、さらに詳しくは、剛性、透明性および耐ブ
ロッキング性に優れ、かつ、ヒートシール性に優れたポ
リプロピレン多層フィルムに関するものである。
オレフィンは、周期律表第IV〜VI族の遷移金属の化合物
と、周期律表第I〜III族の金属の有機金属化合物とか
らなる、いわゆるチーグラー・ナッタ触媒を用いオレフ
ィンを重合することによって得られることがよく知られ
ている。そしてこのような触媒を用いて、高立体規則性
の結晶性ポリオレフィンを高重合活性で得る方法が、た
とえば、特開昭61-209207号公報、特開昭62-104810号公
報、特開昭62-104811号公報、特開昭62-104812号公報、
特開昭62-104813号公報、特開平1-311106号公報、特開
平1-318011号公報、特開平2-166104号公報などに開示さ
れている。
ピレンは、剛性が高く、一般に高い熱変形温度、融点、
結晶化温度を有するため、優れた耐熱性を示し、結晶化
速度が速く、透明性が高いなどの優れた性質を示す。そ
のため、容器やフィルムなどの種々の用途に好適に用い
られている。
ように融点が高いためヒートシール性に劣るという欠点
がある。このため包装用フィルムなどの分野では、オレ
フィン系ランダム共重合体などからなるシール材層を設
け、ヒートシール性を付与した多層フィルムとして用い
られている。しかしこのような多層フィルムでは、充分
なヒートシール性を得るために、シール材層を厚くする
と、多層フィルムの剛性が低下し、また充分な剛性を得
るためにシール材層を薄くすると、ヒートシール性が低
下するという問題がある。
した結果、特定のプロピレン重合体からなる基材層と、
特定のプロピレン系ランダム共重合体からなるシール材
層とを有し、前記シール材層の厚さと、フィルムの全厚
さとの比が0.03〜0.4の範囲にあるポリプロピレン
多層フィルムは、剛性およびヒートシール性に優れ、し
かも透明性および耐ブロッキング性に優れることを見出
して本発明を完成するに至った。
キング性に優れ、かつ、ヒートシール性に優れるポリプ
ロピレン多層フィルムを提供することを目的としてい
る。
ムは、プロピレン重合体[A]からなる基材層と、プロ
ピレン系ランダム共重合体[B]からなるシール材層と
を有する多層フィルムであって、前記プロピレン重合体
[A]は、230℃、2.16kg荷重におけるメルト
フローレート(MFR)が0.1〜500g/10分の
範囲にあり、沸騰ヘプタン不溶成分の13C−NMRスペ
クトルにおけるPmmmm、Pwの吸収強度から下記式
(1)により求められる立体規則性指標[M5]の値が
0.970〜0.995の範囲にあり、沸騰ヘプタン不溶
成分の13C−NMRスペクトルにおけるPmmrm、Pmrm
r、Pmrrr、Prmrr、Prmmr、Prrrr、Pwの吸収強度
から下記式(2)により求められる立体規則性指標[M
3]の値が0.0020〜0.0050の範囲にあり、沸
騰ヘプタン不溶成分の結晶化度が60%以上であるプロ
ピレン重合体であり、前記プロピレン系ランダム共重合
体[B]は、炭素数4以上のα-オレフィンから誘導さ
れる構成単位を2〜15モル%の量で含有し、エチレン
から誘導される構成単位を5モル%以下の量で含有し、
融点が145℃以下であり、23℃n-デカン可溶成分量
が10重量%以下であるプロピレンと炭素数4以上のα
-オレフィンとのランダム共重合体、または、プロピレ
ンと炭素数4以上のα-オレフィンとエチレンとのラン
ダム共重合体であり、かつ、前記シール材層の厚さと、
フィルムの全厚さとの比(シール材層の厚さ/フィルム
の全厚さ)が0.03〜0.4の範囲にあることを特徴と
している;
チック結合した部位における第3単位目のメチル基に由
来する吸収強度であり、 [Pw] :プロピレン単位のメチル基に由来する吸収
強度である。)
では、前記プロピレン重合体[A]は、下記式(i)ま
たは(ii)で表される化合物から誘導される構成単位か
らなる重合体を10〜10000ppmの範囲の量で含
有していることが望ましい。
多層フィルムについて具体的に説明する。本発明に係る
ポリプロピレン多層フィルムは、プロピレン重合体
[A]からなる基材層と、多層フィルムの最外層に設け
られたプロピレン系ランダム共重合体[B]からなるシ
ール材層とを有している。
ン多層フィルムで用いられるプロピレン重合体およびプ
ロピレン系ランダム共重合体について説明する。なお本
発明において「重合」という語は、単独重合のみなら
ず、共重合を包含した意で用いられることがあり、また
「重合体」という語は、単独重合体のみならず、共重合
体を包含した意で用いられることがある。
レンの単独重合体である。
℃、2.16kg荷重におけるメルトフローレート(M
FR)が0.1〜500g/10分、好ましくは0.2〜
300g/10分の範囲にあることが望ましい。
STM D1238-65T に従い230℃、2.16kg荷重
の条件下に測定される。本発明で用いられるプロピレン
重合体は、沸騰ヘプタン不溶成分の13C−NMRスペク
トルにおけるPmmmm、Pwの吸収強度から下記式(1)
により求められる立体規則性指標[M5]の値が0.97
0〜0.995、好ましくは0.980〜0.995、よ
り好ましくは0.982〜0.995の範囲にある。
チック結合した部位における第3単位目のメチル基に由
来する吸収強度であり、 [Pw] :プロピレン単位のメチル基に由来する吸収
強度である。) 次に本発明で用いられるプロピレン重合体の立体規則性
の評価に用いられる立体規則性指標[M5]について具
体的に説明する。
式(A)のように表すことができる。
位目のメチル基(たとえばMe3、Me4)に由来する13C
−NMRスペクトルにおける吸収強度をPmmmmとし、プ
ロピレン単位中の全メチル基(Me1、Me2、Me3…)に
由来する吸収強度をPwとすると、上記式(A)で表さ
れる重合体の立体規則性は、PmmmmとPwとの比、すな
わち上記式(1)から求められる値[M5 ]により評価
することができる。
ン重合体の沸騰ヘタン不溶成分の立体規則性は、該プロ
ピレン重合体の沸騰ヘプタン不溶成分の13C−NMRス
ペクトルにおけるPmmmm、Pwの吸収強度から上記式
(1)により求められる立体規則性指標[M5]の値に
より評価することができる。
沸騰ヘプタン不溶成分の上記式(1)により求められる
立体規則性指標[M5]の値が0.970〜0.995の
範囲内であると共に、沸騰ヘプタン不溶成分の13C−N
MRスペクトルにおけるPmmrm、Pmrmr、Pmrrr、Prm
rr、Prmmr、Prrrr、Pwの吸収強度から下記式(2)
により求められる立体規則性指標[M3]の値が0.00
20〜0.0050、好ましくは0.0023〜0.00
45、より好ましくは0.0025〜0.0040の範囲
にある。
r]、[Pmrrr]、[Prmrr]、[Prmmr]、[Prrr
r]は、プロピレン単位連鎖中における5個の連続する
プロピレン単位のメチル基のうち、3個が同一方向、2
個が反対方向を向いた構造(以下「M3 構造」というこ
とがある)を有するプロピレン単位5連鎖中の第3単位
目のメチル基に由来する吸収強度を示している。すなわ
ち上記(2)により求められる立体規則性指標[M3]
の値は、プロピレン単位連鎖中におけるM3 構造の割合
を示している。
沸騰ヘプタン不溶成分の上記式(1)により求められる
立体規則性指標[M5]の値が0.970〜0.995の
範囲にあり、沸騰ヘプタン不溶成分の上記式(2)によ
り求められる立体規則性指標[M3]の値が0.0020
〜0.0050の範囲にあるため極めて長いメソ連鎖
(α-メチル炭素が同一方向に向いているプロピレン単
位連鎖)を有している。
[M3]の値が小さい方がメソ連鎖が長い。しかし立体
規則性指標[M5]の値が極めて大きく、立体規則性指
標[M3]の値が非常に小さい場合には、立体規則性指
標[M5]の値がほぼ同じであれば立体規則性指標
[M3]の値が大きい方がメソ連鎖が長くなる場合があ
る。
するポリプロピレンと、構造(ロ)を有するポリプロピ
レンとを比較すると、M3 構造を有する構造(イ)で表
されるポリプロピレンは、M3 構造を有しない構造
(ロ)で表されるポリプロピレンに比べ長いメソ連鎖を
有している。(ただし下記構造(イ)、構造(ロ)は、
いずれも1003単位のプロピレン単位からなるものと
する)
の立体規則性指標[M5]の値は0.986であり、上記
構造(ロ)で表されるポリプロピレンの立体規則性指標
[M 5]の値は0.985であり、構造(イ)で表される
ポリプロピレンおよび構造(ロ)で表されるポリプロピ
レンの立体規則性指標[M5]の値は、ほぼ等しい値で
ある。しかしながら、M3 構造を有する構造(イ)で表
されるポリプロピレンでは、メソ連鎖に含まれるプロピ
レン単位は、平均497単位であり、M3 構造を含有し
ない構造(ロ)で表されるポリプロピレンでは、メソ連
鎖に含まれるプロピレン単位は、平均250単位とな
る。すなわち、立体規則性指標[M5]の値が極めて大
きいポリプロピレンでは、プロピレン単位連鎖中に含ま
れるr(racemo)で示される構造の割合が極めて小さく
なるので、r(racemo)で示される構造が集中して存在
するポリプロピレン(M3 構造を有するポリプロピレ
ン)は、r(racemo)で示される構造が分散して存在す
るポリプロピレン(M3 構造を有しないポリプロピレ
ン)より長いメソ連鎖を有することになる。
上記構造(イ)で示されるようなM 3 構造を有する高結
晶性ポリプロピレンであり、沸騰ヘプタン不溶成分の立
体規則性指標[M5]の値が0.970〜0.995の範
囲にあり、沸騰ヘプタン不溶成分の立体規則性指標[M
3]の値が0.0020〜0.0050の範囲にある。こ
のような本発明で用いられるプロピレン重合体は、理由
は定かではないが従来の高結晶性ポリプロピレンに比べ
て高い剛性、耐熱性および防湿性を有している。なお、
沸騰ヘプタン不溶成分の立体規則性指標[M3]の値
が、0.0020〜0.0050の範囲からはずれると、
上記の特性が低下することがある。
のようにして調製される。すなわち、攪拌装置付1リッ
トルのフラスコに、重合体試料3g、2,6-ジ tert-ブチ
ル-4-メチルフェノール20mg、n-デカン500ml
を入れ、145℃の油浴上で加熱溶解させる。重合体試
料が溶解した後、約8時間かけて室温まで冷却し、続い
て23℃の水浴上で8時間保持する。析出した重合体
(23℃デカン不溶成分)を含むn-デカン懸濁液をG-4
(またはG-2)のグラスフィルターで濾過分離し、減圧
乾燥した後、重合体1.5gを6時間以上ヘプタンを用
いてソックスレー抽出した沸騰ヘプタン不溶成分が試料
となる。本発明で用いられるプロピレン重合体の沸騰ヘ
プタン不溶成分量は、通常80重量%以上、好ましくは
90重量%以上、より好ましくは94重量%以上、さら
に好ましくは95重量%以上、特に好ましくは96重量
%以上である。なお、上記の沸騰へプタン不溶成分量
は、23℃デカン可溶成分は、沸騰ヘプタンにも可溶と
仮定して算出されるものである。
MR測定は、たとえば次のようにして行われる。すなわ
ち、該不溶成分0.35gをヘキサクロロブタジエン2.
0ml に加熱溶解させる。この溶液をグラスフィルター
(G2)で濾過した後、重水素化ベンゼン0.5ml を
加え、内径10mmのNMRチューブに装入する。そし
て日本電子製GX−500型NMR測定装置を用い、1
20℃で13C−NMR測定を行う。積算回数は、10,
000回以上とする。立体規則性指標[M5]および
[M3]の値は、上記測定によって得られる各々の構造
に基づくピーク強度あるいはピーク強度の総和とから求
めることができる。
騰ヘプタン不溶成分の結晶化度は、60%以上、好まし
くは65%以上、より好ましくは70%以上であること
が望ましい。
すなわち、試料を180℃の加圧成形機にて厚さ1mm
の角板に成形した後、直ちに水冷して得たプレスシート
を用い、理学電機(株)製ローターフレックス RU3
00測定装置を用いて測定することにより決定される
(出力50kV、250mA)。この際の測定法として
は、透過法を用い、またサンプルを回転させながら測定
を行う。
下記式(i)または(ii)で表される化合物から誘導さ
れる構成単位からなる重合体を10〜10000pp
m、好ましくは100〜5000ppmの範囲の量で含
有していることが望ましい。
ロアルキル基しては、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基、シクロヘプチル基などが挙げられ、アリール基と
しては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル
基などが挙げられる。
R1 、R2 およびR3 で示される炭化水素基としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアル
キル基、フェニル基、ナフチル基などのアリール基、あ
るいはノルボルニル基などが挙げられる。さらにR1 、
R2 およびR3 で示される炭化水素基には、ケイ素、ハ
ロゲンが含まれていてもよい。
される化合物として具体的には、3-メチル-1-ブテン、3
-メチル-1-ペンテン、3-エチル-1-ペンテン、4-メチル-
1-ペンテン、4-メチル-1-ヘキセン、4,4-ジメチル-1-ヘ
キセン、4,4-ジメチル-1-ペンテン、4-エチル-1-ヘキセ
ン、3-エチル-1-ヘキセン、アリルナフタレン、アリル
ノルボルナン、スチレン、ジメチルスチレン類、ビニル
ナフタレン類、アリルトルエン類、アリルベンゼン、ビ
ニルシクロヘキサン、ビニルシクロペンタン、ビニルシ
クロヘプタン、アリルトリアルキルシラン類などが例示
できる。これらの中では3-メチル-1-ブテン、3-メチル-
1-ペンテン、3-エチル-1-ヘキセン、ビニルシクロヘキ
サン、アリルトリメチルシラン、ジメチルスチレンなど
を含有していることが好ましく、3-メチル-1-ブテン、
ビニルシクロヘキサン、アリルトリメチルシランを含有
していることがより好ましく、3-メチル-1-ブテンを含
有していることが特に好ましい。
は、プロピレン以外の炭素数20以下のオレフィン、あ
るいは、炭素数4〜20のジエン化合物から誘導される
構成単位を少量含有していてもよい。
ン以外のモノマー成分を少量含んでいても、上記立体規
則性指標[M5]の値および立体規則性指標[M3]の値
に実質的に影響を与えるものではない。
密度が0.900〜0.936g/cm3 、好ましくは
0.910〜0.936g/cm3 の範囲にあることが望
ましい。
は、23℃デカン可溶成分量は、3.0%以下、好まし
くは2.5%以下、より好ましくは2.0%以下、特に好
ましくは1.5%以下であることが望ましい。
溶成分量は、以下のようにして測定される。すなわち、
攪拌装置付1リットルのフラスコに、重合体試料3g、
2,6-ジ tert-ブチル-4-メチルフェノール20mg、n-
デカン500ml を入れ、145℃の油浴上で加熱溶解
させる。重合体試料が溶解した後、約8時間かけて室温
まで冷却し、続いて23℃の水浴上で8時間保持する。
析出した重合体と、溶解ポリマーを含むn-デカン懸濁液
とをG-4 (またはG-2)のグラスフィルターで濾過分離
する。得られた溶液を10mmHg、150℃で、恒量
になるまで乾燥し、その重量を測定して、前記混合溶媒
中への重合体の可溶成分量とし、試料重合体の重量に対
する百分率として算出する。
騰ヘプタン不溶成分の135℃での半結晶化時間は、5
00秒以下、好ましくは100秒以下、より好ましくは
80秒以下、特に好ましくは70秒以下であることが望
ましい。
溶成分の135℃での半結晶化時間は、以下のようにし
て測定される。すなわちパーキンエルマー社製示差熱計
を用いて、135℃における上記重合体の沸騰ヘプタン
不溶成分の結晶化による発熱量と時間との関係を測定
し、発熱量が総発熱量の50%に達するまでに要する時
間をもって半結晶化時間とする。
は、沸騰ヘプタン不溶成分の融点と結晶化温度との差
は、45℃以下、好ましくは43℃以下、より好ましく
は40℃以下であることが望ましい。
35℃のデカリン中で測定される極限粘度[η]は、通
常0.001〜30dl/g、好ましくは0.01〜10dl
/g、特に好ましくは0.05〜8dl/gの範囲にある
ことが望ましい。
重合体は、たとえば、[Ia]マグネシウム、チタン、
ハロゲンおよび電子供与体を必須成分として含有する固
体状チタン触媒成分(a)と、[II]有機金属触媒成分
(b)と、[III]下記式(iii)で示されるケイ素化合
物(c)または複数の原子を介して存在する2個以上の
エーテル結合を有する化合物(d)と Ra nSi(ORb)4-n … (iii) (式中、nは1、2または3であり、nが1のとき、R
a は2級または3級の炭化水素基であり、nが2または
3のとき、Ra の少なくとも1つは2級または3級の炭
化水素基であり、Ra は同一であっても異なっていても
よく、Rb は炭素数1〜4の炭化水素基であって、4−
nが2または3であるとき、Rb は同一であっても異な
っていてもよい。)から形成されるオレフィン重合触媒
の存在下に、好ましくは[Ib]マグネシウム、チタ
ン、ハロゲンおよび電子供与体を必須成分として含有す
る固体状チタン触媒成分(a)と、有機金属触媒成分
(b)との存在下に、下記式(i)または(ii)で表さ
れるオレフィンから選ばれる少なくとも1種のオレフィ
ンを予備重合してなる予備重合触媒成分と、
I]上記式(iii)で示されるケイ素化合物(c)または
複数の原子を介して存在する2個以上のエーテル結合を
有する化合物(d)とから形成されるオレフィン重合触
媒の存在下に、プロピレンを重合させることにより製造
することができる。
体の製造に使用されるオレフィン重合触媒を形成する各
成分について具体的に説明する。固体状チタン触媒成分
(a)は、下記のようなマグネシウム化合物、チタン化
合物および電子供与体を接触させることにより調製する
ことができる。
られるチタン化合物として具体的には、たとえば、次式
で示される4価のチタン化合物を挙げることができる。 Ti(OR)gX4-g (式中、Rは炭化水素基であり、Xはハロゲン原子であ
り、gは0≦g≦4である。)このようなチタン化合物
として、具体的には、TiCl4、TiBr4、TiI4 など
のテトラハロゲン化チタン;Ti(OCH3)Cl3、Ti(O
C2H5)Cl3、Ti(On-C4H9)Cl3、Ti(OC2H5)Br
3、Ti(O-iso-C4H9)Br3 などのトリハロゲン化アル
コキシチタン;Ti(OCH3)2Cl2、Ti(OC2H5)2Cl
2、Ti(On-C4H9)2Cl2、Ti(OC2H5)2Br2 などの
ジハロゲン化ジアルコキシチタン;Ti(OCH3)3Cl、
Ti(OC2H5)3Cl、Ti(On-C4H9)3Cl、Ti(OC2
H5)3Br などのモノハロゲン化トリアルコキシチタ
ン;Ti(OCH3)4、Ti(OC2H5)4、Ti(On-C4H9)
4、Ti(O-iso-C4H9)4、Ti(O-2-エチルヘキシル)4
などのテトラアルコキシチタンなどを例示することがで
きる。
が好ましく、さらにテトラハロゲン化チタンが好まし
く、特に四塩化チタンが好ましい。これらチタン化合物
は単独で用いてもよいし、2種類以上を組み合わせて用
いてもよい。さらにこれらのチタン化合物は、炭化水素
化合物あるいはハロゲン化炭化水素化合物などに希釈さ
れていてもよい。
られるマグネシウム化合物としては、還元性を有するマ
グネシウム化合物および還元性を有しないマグネシウム
化合物を挙げることができる。
としては、たとえばマグネシウム−炭素結合あるいはマ
グネシウム−水素結合を有するマグネシウム化合物を挙
げることができる。このような還元性を有するマグネシ
ウム化合物の具体的な例としては、ジメチルマグネシウ
ム、ジエチルマグネシウム、ジプロピルマグネシウム、
ジブチルマグネシウム、ジアミルマグネシウム、ジヘキ
シルマグネシウム、ジデシルマグネシウム、エチル塩化
マグネシウム、プロピル塩化マグネシウム、ブチル塩化
マグネシウム、ヘキシル塩化マグネシウム、アミル塩化
マグネシウム、ブチルエトキシマグネシウム、エチルブ
チルマグネシウム、ブチルマグネシウムハイドライドな
どを挙げることができる。これらマグネシウム化合物
は、単独で用いることもできるし、後述する有機金属化
合物と錯化合物を形成していてもよい。また、これらマ
グネシウム化合物は、液体であってもよく、固体あって
もよいし、金属マグネシウムと対応する化合物とを反応
させることで誘導してもよい。さらに触媒調製中に上記
の方法を用いて金属マグネシウムから誘導することもで
きる。
体的な例としては、塩化マグネシウム、臭化マグネシウ
ム、ヨウ化マグネシウム、フッ化マグネシウムのような
ハロゲン化マグネシウム;メトキシ塩化マグネシウム、
エトキシ塩化マグネシウム、イソプロポキシ塩化マグネ
シウム、ブトキシ塩化マグネシウム、オクトキシ塩化マ
グネシウムのようなアルコキシマグネシウムハライド;
フェノキシ塩化マグネシウム、メチルフェノキシ塩化マ
グネシウムのようなアリロキシマグネシウムハライド;
エトキシマグネシウム、イソプロポキシマグネシウム、
ブトキシマグネシウム、n-オクトキシマグネシウム、2-
エチルヘキソキシマグネシウムのようなアルコキシマグ
ネシウム;フェノキシマグネシウム、ジメチルフェノキ
シマグネシウムのようなアリロキシマグネシウム;ラウ
リン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウムのよう
なマグネシウムのカルボン酸塩などを例示することがで
きる。
物は、上述した還元性を有するマグネシウム化合物から
誘導した化合物あるいは触媒成分の調製時に誘導した化
合物であってもよい。還元性を有しないマグネシウム化
合物を、還元性を有するマグネシウム化合物から誘導す
るには、たとえば、還元性を有するマグネシウム化合物
を、ハロゲン、ポリシロキサン化合物、ハロゲン含有シ
ラン化合物、ハロゲン含有アルミニウム化合物、アルコ
ール、エステル、ケトン、アルデヒドなどの活性な炭素
−酸素結合を有する化合物と接触させればよい。
物は上記の還元性を有するマグネシウム化合物および還
元性を有しないマグネシウム化合物の外に、上記のマグ
ネシウム化合物と他の金属との錯化合物、複化合物ある
いは他の金属化合物との混合物であってもよい。さら
に、上記の化合物を2種以上組み合わせて用いてもよ
い。
られるマグネシウム化合物としては、上述した以外にも
多くのマグネシウム化合物が使用できるが、最終的に得
られる固体状チタン触媒成分(a)中において、ハロゲ
ン含有マグネシウム化合物の形をとることが好ましく、
従ってハロゲンを含まないマグネシウム化合物を用いる
場合には、調製の途中でハロゲン含有化合物と接触反応
させることが好ましい。
元性を有しないマグネシウム化合物が好ましく、ハロゲ
ン含有マグネシウム化合物がさらに好ましく、塩化マグ
ネシウム、アルコキシ塩化マグネシウム、アリロキシ塩
化マグネシウムが特に好ましい。
(a)は、上記のようなマグネシウム化合物と、前述し
たようなチタン化合物および電子供与体を接触させるこ
とにより形成される。
用いられる電子供与体としては、具体的には下記のよう
な化合物が挙げられる。メチルアミン、エチルアミン、
ジメチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、
テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ト
リブチルアミン、トリベンジルアミンなどのアミン類;
ピロール、メチルピロール、ジメチルピロールなどのピ
ロール類;ピロリン;ピロリジン;インドール;ピリジ
ン、メチルピリジン、エチルピリジン、プロピルピリジ
ン、ジメチルピリジン、エチルメチルピリジン、トリメ
チルピリジン、フェニルピリジン、ベンジルピリジン、
塩化ピリジンなどのピリジン類;ピペリジン類、キノリ
ン類、イソキノリン類などの含窒素環状化合物;テトラ
ヒドロフラン、1,4-シネオール、1,8-シネオール、ピノ
ールフラン、メチルフラン、ジメチルフラン、ジフェニ
ルフラン、ベンゾフラン、クマラン、フタラン、テトラ
ヒドロピラン、ピラン、ジテドロピランなどの環状含酸
素化合物;メタノール、エタノール、プロパノール、ペ
ンタノール、ヘキサノール、オクタノール、2-エチルヘ
キサノール、ドデカノール、オクタデシルアルコール、
オレイルアルコール、ベンジルアルコール、フェニルエ
チルアルコール、クミルアルコール、イソプロピルアル
コール、イソプロピルベンジルアルコールなどの炭素数
1〜18のアルコール類;フェノール、クレゾール、キ
シレノール、エチルフェノール、プロピルフェノール、
ノニルフェノール、クミルフェノール、ナフトールなど
の低級アルキル基を有してもよい炭素数6〜20のフェ
ノール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、アセ
チルアセトン、ベンゾキノンなどの炭素数3〜15のケ
トン類;アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、オ
クチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒ
ド、ナフトアルデヒドなどの炭素数2〜15のアルデヒ
ド類;ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ビニ
ル、酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシ
ル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、吉草酸エチル、
クロル酢酸メチル、ジクロル酢酸エチル、メタクリル酸
メチル、クロトン酸エチル、シクロヘキサンカルボン酸
エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プ
ロピル、安息香酸ブチル、安息香酸オクチル、安息香酸
シクロヘキシル、安息香酸フェニル、安息香酸ベンジ
ル、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、トルイル酸
アミル、エチル安息香酸エチル、アニス酸メチル、マレ
イン酸n-ブチル、メチルマロン酸ジイソブチル、シクロ
ヘキセンカルボン酸ジn-ヘキシル、ナジック酸ジエチ
ル、テトラヒドロフタル酸ジイソプロピル、フタル酸ジ
エチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジn-ブチル、
フタル酸ジ2-エチルヘキシル、γ-ブチロラクトン、δ-
バレロラクトン、クマリン、フタリド、炭酸エチルなど
の炭素数2〜30の有機酸エステル;アセチルクロリ
ド、ベンゾイルクロリド、トルイル酸クロリド、アニス
酸クロリドなどの炭素数2〜15の酸ハライド類;メチ
ルエーテル、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、
ブチルエーテル、アミルエーテル、アニソール、ジフェ
ニルエーテルエポキシ-p-メンタンなどの炭素数2〜2
0のエーテル類;2-イソペンチル-2-イソプロピル-1,3-
ジメトキシプロパン、2,2-イソブチル-1,3-ジメトキシ
プロパン、2,2-イソプロピル-1,3-ジメトキシプロパ
ン、2-シクロヘキシルメチル-2-イソプロピル-1,3-ジメ
トキシプロパン、2,2-イソペンチル-1,3-ジメトキシプ
ロパン、2-イソブチル-2-イソプロピル-1,3-ジメトキシ
プロパン、2-シクロヘキシル-2-イソプロピル-1,3-ジメ
トキシプロパン、2-シクロペンチル-2-イソプロピル-1,
3-ジメトキシプロパン、2,2-ジシクロペンチル-1,3-ジ
メトキシプロパン、1,2-ビス-メトキシメチル-ビシクロ
-[2,2,1]-ヘプタン、ジフェニルジメトキシシラン、イ
ソプロピル-t-ブチルジメトキシシラン、2,2-ジイソブ
チル-1,3-ジメトキシシクロヘキサン、2-イソペンチル-
2-イソプロピル-1,3-ジメトキシシクロヘキサンなどの
ジエーテル類;酢酸アミド、安息香酸アミド、トルイル
酸アミドなどの酸アミド類;アセトニトリル、ベンゾニ
トリル、トルニトリルなどのニトリル類;無水酢酸、無
水フタル酸、無水安息香酸などの酸無水物などが用いら
れる。
般式(iii)で示されるケイ素化合物を用いることもで
きる。また上記のようなチタン化合物、マグネシウム化
合物および電子供与体を接触させる際に、下記のような
担体化合物を用い、担体担持型の固体状チタン触媒成分
(a)を調製することもできる。
2O3、SiO2、B2O3、MgO、CaO、TiO2、Z
nO、ZnO2、SnO2、BaO、ThOおよびスチレ
ン−ジビニルベンゼン共重合体などの樹脂などを挙げる
ことができる。これら担体化合物の中でも、好ましくは
SiO2、Al2O3、MgO、ZnO、ZnO2などを挙
げることができる。
ン、アルミニウムなどの他の反応試剤の存在下に接触さ
せてもよい。固体状チタン触媒成分(a)の製造方法
は、上記したようなチタン化合物、マグネシウム化合物
および電子供与体を接触させることなどにより製造する
ことができ、公知の方法を含むあらゆる方法を採用する
ことができる。
的な製造方法を数例挙げて以下に簡単に述べる。 (1) マグネシウム化合物、電子供与体および炭化水素溶
媒からなる溶液を、有機金属化合物と接触反応させて固
体を析出させた後、または析出させながらチタン化合物
と接触反応させる方法。
なる錯体を有機金属化合物と接触、反応させた後、チタ
ン化合物を接触反応させる方法。 (3) 無機担体と有機マグネシウム化合物との接触物に、
チタン化合物および好ましくは電子供与体を接触反応さ
せる方法。この際、あらかじめ該接触物をハロゲン含有
化合物および/または有機金属化合物と接触反応させて
もよい。
合によっては更に炭化水素溶媒を含む溶液と無機または
有機担体との混合物から、マグネシウム化合物の担持さ
れた無機または有機担体を得、次いでチタン化合物を接
触させる方法。
電子供与体、場合によっては更に炭化水素溶媒を含む溶
液と無機または有機担体との接触により、マグネシウ
ム、チタンの担持された固体状チタン触媒成分を得る方
法。
ハロゲン含有チタン化合物と接触反応させる方法。この
とき電子供与体を少なくとも1回は用いる。 (7) 液状状態の有機マグネシウム化合物をハロゲン含有
化合物と接触反応後、チタン化合物を接触させる方法。
このとき電子供与体を少なくとも1回は用いる。
をハロゲン含有チタン化合物と接触反応する方法。この
とき電子供与体を少なくとも1回は用いる。 (9) アルコキシ基含有マグネシウム化合物および電子供
与体からなる錯体をチタン化合物と接触反応する方法。
および電子供与体からなる錯体を有機金属化合物と接触
後チタン化合物と接触反応させる方法。 (11)マグネシウム化合物と、電子供与体と、チタン化合
物とを任意の順序で接触、反応させる方法。この反応
は、各成分を電子供与体および/または有機金属化合物
やハロゲン含有ケイ素化合物などの反応助剤で予備処理
してもよい。なお、この方法においては、上記電子供与
体を少なくとも一回は用いることが好ましい。
化合物と液状チタン化合物とを、好ましくは電子供与体
の存在下で反応させて固体状のマグネシウム・チタン複
合体を析出させる方法。
化合物をさらに反応させる方法。 (14)(11)あるいは(12)で得られる反応生成物に、電子供
与体およびチタン化合物をさらに反応させる方法。
供与体と、チタン化合物とを粉砕して得られた固体状物
を、ハロゲン、ハロゲン化合物および芳香族炭化水素の
いずれかで処理する方法。なお、この方法においては、
マグネシウム化合物のみを、あるいはマグネシウム化合
物と電子供与体とからなる錯化合物を、あるいはマグネ
シウム化合物とチタン化合物を粉砕する工程を含んでも
よい。また、粉砕後に反応助剤で予備処理し、次いでハ
ロゲンなどで処理してもよい。反応助剤としては、有機
金属化合物あるいはハロゲン含有ケイ素化合物などが挙
げられる。
タン化合物と接触・反応させる方法。この際、粉砕時お
よび/または接触・反応時に電子供与体や、反応助剤を
用いることが好ましい。
ロゲンまたはハロゲン化合物または芳香族炭化水素で処
理する方法。 (18)金属酸化物、有機マグネシウムおよびハロゲン含有
化合物との接触反応物を、好ましくは電子供与体および
チタン化合物と接触させる方法。
マグネシウム、アリーロキシマグネシウムなどのマグネ
シウム化合物を、チタン化合物および/またはハロゲン
含有炭化水素および好ましくは電子供与体と反応させる
方法。
ンとを少なくとも含む炭化水素溶液と、チタン化合物お
よび/または電子供与体とを接触させる方法。この際ハ
ロゲン含有ケイ素化合物などのハロゲン含有化合物を共
存させることが好ましい。
ウム化合物と有機金属化合物とを反応させて固体状のマ
グネシウム・金属(アルミニウム)複合体を析出させ、
次いで、電子供与体およびチタン化合物を反応させる方
法。
に用いられる上記各成分の使用量は、調製方法によって
異なり一概に規定できないが、たとえばマグネシウム化
合物1モル当り、電子供与体は0.01〜10モル、好
ましくは0.1〜5モルの量で用いられ、チタン化合物
は0.01〜1000モル、好ましくは0.1〜200モ
ルの量で用いられる。
成分(a)は、マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび
電子供与体を必須成分として含有している。この固体状
チタン触媒成分(a)において、ハロゲン/チタン(原
子比)は約2〜200、好ましくは約4〜100の範囲
にあり、前記電子供与体/チタン(モル比)は約0.0
1〜100、好ましくは約0.02〜10の範囲にあ
り、マグネシウム/チタン(原子比)は約1〜100、
好ましくは約2〜50の範囲にあることが望ましい。
(触媒成分[Ia])は、該固体状チタン触媒成分
(a)と下記有機金属触媒成分(b)との存在下、オレ
フィンの予備重合を行うことにより得られる[Ib]予
備重合触媒成分として重合に用いることが望ましい。
れる有機金属触媒成分(b)としては、周期律表第I族
〜第III族金属の有機金属化合物が用いられ、具体的に
は、下記のような化合物が用いられる。
ましくは1〜4個含む炭化水素基であり、これらは互い
に同一でも異なってもよい。Xはハロゲン原子を表し、
0<m≦3、nは0≦n<3、pは0≦p<3、qは0
≦q<3の数であり、かつm+n+p+q=3であ
る。)で表される有機アルミニウム化合物。
じである。)で表される第I族金属とアルミニウムとの
錯アルキル化物。
g、ZnまたはCdである。)で表される第II族または
第III族のジアルキル化合物。
合物としては、次のような化合物を例示できる。 一般式 R1 mAl(OR2)3-m (式中、R1 およびR2 は前記と同様であり、mは好ま
しくは1.5≦m≦3の数である。)で表される化合
物、 一般式 R1 mAlX3-m (式中、R1 は前記と同様であり、Xはハロゲンであ
り、mは好ましくは0<m<3である。)で表される化
合物、 一般式 R1 mAlH3-m (式中、R1 は前記と同様であり、mは好ましくは2≦
m<3である。)で表される化合物、 一般式 R1 mAl(OR2)nXq (式中、R1 およびR2 は前記と同様であり、Xはハロ
ゲン、0<m≦3、0≦n<3、0≦q<3であり、か
つm+n+q=3である。)で表される化合物などを挙
げることができる。
は、より具体的には、トリエチルアルミニウム、トリブ
チルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム;ト
リイソプレニルアルミニウムなどのトリアルケニルアル
ミニウム;ジエチルアルミニウムエトキシド、ジブチル
アルミニウムブトキシドなどのジアルキルアルミニウム
アルコキシド;エチルアルミニウムセスキエトキシド、
ブチルアルミニウムセスキブトキシドなどのアルキルア
ルミニウムセスキアルコキシド;R1 2.5Al(OR2)
0.5 などで表される平均組成を有する部分的にアルコキ
シ化されたアルキルアルミニウム;ジエチルアルミニウ
ムクロリド、ジブチルアルミニウムクロリド、ジエチル
アルミニウムブロミドなどのジアルキルアルミニウムハ
ライド;エチルアルミニウムセスキクロリド、ブチルア
ルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキ
ブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド;
エチルアルミニウムジクロリド、プロピルアルミニウム
ジクロリド、ブチルアルミニウムジブロミドなどのアル
キルアルミニウムジハライドなどの部分的にハロゲン化
されたアルキルアルミニウム;ジエチルアルミニウムヒ
ドリド、ジブチルアルミニウムヒドリドなどのジアルキ
ルアルミニウムヒドリド;エチルアルミニウムジヒドリ
ド、プロピルアルミニウムジヒドリドなどのアルキルア
ルミニウムジヒドリドなどその他の部分的に水素化され
たアルキルアルミニウム;エチルアルミニウムエトキシ
クロリド、ブチルアルミニウムブトキシクロリド、エチ
ルアルミニウムエトキシブロミドなどの部分的にアルコ
キシ化およびハロゲン化されたアルキルアルミニウムを
挙げることができる。
素原子や窒素原子を介して2以上のアルミニウムが結合
した有機アルミニウム化合物を挙げることができる。こ
のような化合物としては、たとえば、(C2H5)2Al
OAl(C2H5)2 、(C4H9)2AlOAl(C
4H9)2 、(C2H5)2AlN(C2H5)Al(C
2H5)2などの他に、メチルアルミノオキサンなどのア
ルミノオキサン類を挙げることができる。
Al(C2H5)4 、LiAl(C7H15)4 などを挙げる
ことができる。
好ましく用いられる。 [Ib]予備重合触媒成分の調製に用いられるオレフィ
ンとしては、上記式(i)または(ii)で表される化合
物が好ましく用いられ、具体的には3-メチル-1-ブテ
ン、3-メチル-1-ペンテン、3-エチル-1-ペンテン、4-メ
チル-1-ペンテン、4-メチル-1-ヘキセン、4,4-ジメチル
-1-ヘキセン、4,4-ジメチル-1-ペンテン、4-エチル-1-
ヘキセン、3-エチル-1-ヘキセン、アリルナフタレン、
アリルノルボルナン、スチレン、ジメチルスチレン類、
ビニルナフタレン類、アリルトルエン類、アリルベンゼ
ン、ビニルシクロヘキサン、ビニルシクロペンタン、ビ
ニルシクロヘプタン、アリルトリアルキルシラン類など
の分岐構造を有するオレフィンが挙げられる。これらの
中では3-メチル-1-ブテン、3-メチル-1-ペンテン、3-エ
チル-1-ヘキセン、ビニルシクロヘキサン、アリルトリ
メチルシラン、ジメチルスチレンなどが好ましく、3-メ
チル-1-ブテン、ビニルシクロヘキン、アリルトリメチ
ルシランがより好ましく、3-メチル-1-ブテンが特に好
ましい。
テン、1-オクテン、1-ヘキサデセン、1-エイコセンなど
の直鎖状のオレフィンを併用することができる。予備重
合では、プロピレンの本重合における系内の触媒濃度よ
りもかなり高濃度で触媒を用いることができる。
(a)の濃度は、後述する不活性炭化水素媒体1リット
ル当り、チタン原子換算で、通常約0.01〜200ミ
リモル、好ましくは約0.05〜100ミリモルの範囲
にあることが望ましい。
タン触媒成分(a)1g当り0.1〜1000g、好ま
しくは0.3〜500gの重合体が生成するような量で
あればよく、固体状チタン触媒成分(a)中のチタン原
子1モル当り、通常約0.1〜100ミリモル、好まし
くは約0.5〜50ミリモルの範囲とすることが望まし
い。
触媒成分(a)、有機金属触媒成分(b)の他に電子供
与体(e)を用いてもよい。この電子供与体(e)とし
て、具体的には、先に固体状チタン触媒成分(a)を調
製する際に用いた電子供与体、後述する式(iii)で示
されるケイ素化合物(c)および複数の原子を介して存
在する2個以上のエーテル結合を有する化合物(d)、
さらには下記式(c-i)で表される有機ケイ素化合物を
挙げることができる。
である)なお、この式(c-i)で示される有機ケイ素化
合物としては、後述する式(iii)で示されるケイ素化
合物(c)は含まれない。
ケイ素化合物としては、具体的には、トリメチルメトキ
シシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジメト
キシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジイソプロピ
ルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フ
ェニルメチルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシ
シラン、ビスo-トリルジメトキシシラン、ビスm-トリル
ジメトキシシラン、ビスp-トリルジメトキシシラン、ビ
スp-トリルジエトキシシラン、ビスエチルフェニルジメ
トキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリ
エトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、メチルト
リメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、デ
シルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、γ-クロルプロピルトリ
メトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルト
リエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、n-ブチ
ルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、
γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、クロルトリエ
トキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、ビニ
ルトリブトキシシラン、ケイ酸エチル、ケイ酸ブチル、
トリメチルフェノキシシラン、メチルトリアリロキシ(a
llyloxy)シラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ
シラン)、ビニルトリアセトキシシラン、ジメチルテト
ラエトキシジシロキサンなどが挙げられる。
いは2種以上併用して用いることができる。この電子供
与体(e)は、固体状チタン触媒成分(a)中のチタン
原子1モル当り0.1〜50モル、好ましくは0.5〜3
0モル、さらに好ましくは1〜10モルの量で用いられ
る。
(i)または(ii)で表されるオレフィンおよび上記触
媒成分を加え、温和な条件下で行うことが好ましい。こ
の際用いられる不活性炭化水素媒体としては、具体的に
は、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油などの脂肪族炭
化水素;シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシク
ロペンタンなどの脂環族炭化水素;ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素;エチレンクロリ
ド、クロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、あるい
はこれらの接触物などを挙げることができる。これらの
不活性炭化水素媒体のうちでは、特に脂肪族炭化水素を
用いることが好ましい。
重合体は実質的に不活性炭化水素媒体中に溶解しないよ
うな温度であればよく、通常約−20〜+100℃、好
ましくは約−20〜+80℃、さらに好ましくは0〜+
40℃の範囲にあることが望ましい。なお、予備重合に
おいては、水素のような分子量調節剤を用いることもで
きる。
媒成分(a)1g当り約0.1〜1000g、好ましく
は約0.3〜500gの重合体が生成するように行うこ
とが望ましい。予備重合量をあまり多くすると、本重合
における(共)重合体の生成効率が低下することがあ
り、得られる(共)重合体からフィルムなどを成形した
場合に、フィッシュアイが発生し易くなることがある。
うことができる。本発明で用いられるプロピレン重合体
の製造に用いられるオレフィン重合触媒は、上記[I
a]固体状チタン触媒成分または[Ib]予備重合触媒
成分と、[II]有機金属触媒成分と、[III]ケイ素化
合物(c)または複数の原子を介して存在する2個以上
のエーテル結合を有する化合物(d)とから形成されて
いる。
た[Ib]予備重合触媒成分の調製に用いた(b)有機
金属触媒成分と同様のものを使用することができる。 [III]ケイ素化合物(c)は、下記式(iii)で示され
る化合物である。
a は2級または3級の炭化水素基であり、nが2または
3のとき、Ra の少なくとも1つは2級または3級の炭
化水素基であり、Ra は同一であっても異なっていても
よく、Rb は炭素数1〜4の炭化水素基であって、4−
nが2または3であるとき、Rb は同一であっても異な
っていてもよい。)この式(iii)で示されるケイ素化
合物(c)において、2級または3級の炭化水素基とし
ては、シクロペンチル基、シクロペンテニル基、シクロ
ペンタジエニル基、置換基を有するこれらの基あるいは
Siに隣接する炭素が2級または3級である炭化水素基
が挙げられる。より具体的に、置換シクロペンチル基と
しては、2-メチルシクロペンチル基、3-メチルシクロペ
ンチル基、2-エチルシクロペンチル基、2-n-ブチルシク
ロペンチル基、2,3-ジメチルシクロペンチル基、2,4-ジ
メチルシクロペンチル基、2,5-ジメチルシクロペンチル
基、2,3-ジエチルシクロペンチル基、2,3,4-トリメチル
シクロペンチル基、2,3,5-トリメチルシクロペンチル
基、2,3,4-トリエチルシクロペンチル基、テトラメチル
シクロペンチル基、テトラエチルシクロペンチル基など
のアルキル基を有するシクロペンチル基を例示すること
ができる。
ルシクロペンテニル基、3-メチルシクロペンテニル基、
2-エチルシクロペンテニル基、2-n-ブチルシクロペンテ
ニル基、2,3-ジメチルシクロペンテニル基、2,4-ジメチ
ルシクロペンテニル基、2,5-ジメチルシクロペンテニル
基、2,3,4-トリメチルシクロペンテニル基、2,3,5-トリ
メチルシクロペンテニル基、2,3,4-トリエチルシクロペ
ンテニル基、テトラメチルシクロペンテニル基、テトラ
エチルシクロペンテニル基などのアルキル基を有するシ
クロペンテニル基を例示することができる。
メチルシクロペンタジエニル基、3-メチルシクロペンタ
ジエニル基、2-エチルシクロペンタジエニル基、2-n-ブ
チルシクロペンテニル基、2,3-ジメチルシクロペンタジ
エニル基、2,4-ジメチルシクロペンタジエニル基、2,5-
ジメチルシクロペンタジエニル基、2,3-ジエチルシクロ
ペンタジエニル基、2,3,4-トリメチルシクロペンタジエ
ニル基、2,3,5-トリメチルシクロペンタジエニル基、2,
3,4-トリエチルシクロペンタジエニル基、2,3,4,5-テト
ラメチルシクロペンタジエニル基、2,3,4,5-テトラエチ
ルシクロペンタジエニル基、1,2,3,4,5-ペンタメチルシ
クロペンタジエニル基、1,2,3,4,5-ペンタエチルシクロ
ペンタジエニル基などのアルキル基を有するシクロペン
タジエニル基をを例示することができる。
炭化水素基としては、i-プロピル基、s-ブチル基、s-ア
ミル基、α-メチルベンジル基などを例示することがで
き、Siに隣接する炭素が3級炭素である炭化水素基と
しては、t-ブチル基、t-アミル基、α,α'-ジメチルベ
ンジル基、アドマンチル基などを例示することができ
る。
合物(c)は、nが1である場合には、 シクロペンチ
ルトリメトキシシラン、2-メチルシクロペンチルトリメ
トキシシラン、2,3-ジメチルシクロペンチルトリメトキ
シシラン、シクロペンチルトリエトキシシラン、iso-ブ
チルトリエトキシシラン、t-ブチルトリエトキシシラ
ン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシ
ルトリエトキシシラン、2-ノルボルナントリメトキシシ
ラン、2-ノルボルナントリエトキシシランなどのトリア
ルコキシシラン類が例示される。
ジエトキシシラン、t-ブチルメチルジメトキシシラン、
t-ブチルメチルジエトキシシラン、t-アミルメチルジエ
トキシシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシラン、シ
クロヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシル
メチルジエトキシシラン、2-ノルボルナンメチルジメト
キシシランなどのジアルコキシシラン類が例示される。
れるケイ素化合物(c)は、下記式(iv)で示されるジ
メトキシ化合物であることが好ましい。
に、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロ
ペンテニル基、置換シクロペンテニル基、シクロペンタ
ジエニル基、置換シクロペンタジエニル基、あるいは、
Siに隣接する炭素が2級炭素または3級炭素である炭
化水素基を示す。
物としては、たとえば、ジシクロペンチルジメトキシシ
ラン、ジシクロペンテニルジメトキシシラン、ジシクロ
ペンタジエニルジメトキシシラン、ジt-ブチルジメトキ
シシラン、ジ(2-メチルシクロペンチル)ジメトキシシ
ラン、ジ(3-メチルシクロペンチル)ジメトキシシラ
ン、ジ(2-エチルシクロペンチル)ジメトキシシラン、
ジ(2,3-ジメチルシクロペンチル)ジメトキシシラン、
ジ(2,4-ジメチルシクロペンチル)ジメトキシシラン、
ジ(2,5-ジメチルシクロペンチル)ジメトキシシラン、
ジ(2,3-ジエチルシクロペンチル)ジメトキシシラン、
ジ(2,3,4-トリメチルシクロペンチル)ジメトキシシラ
ン、ジ(2,3,5-トリメチルシクロペンチル)ジメトキシ
シラン、ジ(2,3,4-トリエチルシクロペンチル)ジメト
キシシラン、ジ(テトラメチルシクロペンチル)ジメト
キシシラン、ジ(テトラエチルシクロペンチル)ジメト
キシシラン、ジ(2-メチルシクロペンテニル)ジメトキ
シシラン、ジ(3-メチルシクロペンテニル)ジメトキシ
シラン、ジ(2-エチルシクロペンテニル)ジメトキシシ
ラン、ジ(2-n-ブチルシクロペンテニル)ジメトキシシ
ラン、ジ(2,3-ジメチルシクロペンテニル)ジメトキシ
シラン、ジ(2,4-ジメチルシクロペンテニル)ジメトキ
シシラン、ジ(2,5-ジメチルシクロペンテニル)ジメト
キシシラン、ジ(2,3,4-トリメチルシクロペンテニル)
ジメトキシシラン、ジ(2,3,5-トリメチルシクロペンテ
ニル)ジメトキシシラン、ジ(2,3,4-トリエチルシクロ
ペンテニル)ジメトキシシラン、ジ(テトラメチルシク
ロペンテニル)ジメトキシシラン、ジ(テトラエチルシ
クロペンテニル)ジメトキシシラン、ジ(2-メチルシク
ロペンタジエニル)ジメトキシシラン、ジ(3-メチルシ
クロペンタジエニル)ジメトキシシラン、ジ(2-エチル
シクロペンタジエニル)ジメトキシシラン、ジ(2-n-ブ
チルシクロペンテニル)ジメトキシシラン、ジ(2,3-ジ
メチルシクロペンタジエニル)ジメトキシシラン、ジ
(2,4-ジメチルシクロペンタジエニル)ジメトキシシラ
ン、ジ(2,5-ジメチルシクロペンタジエニル)ジメトキ
シシラン、ジ(2,3-ジエチルシクロペンタジエニル)ジ
メトキシシラン、ジ(2,3,4-トリメチルシクロペンタジ
エニル)ジメトキシシラン、ジ(2,3,5-トリメチルシク
ロペンタジエニル)ジメトキシシラン、ジ(2,3,4-トリ
エチルシクロペンタジエニル)ジメトキシシラン、ジ
(2,3,4,5-テトラメチルシクロペンタジエニル)ジメト
キシシラン、ジ(2,3,4,5-テトラエチルシクロペンタジ
エニル)ジメトキシシラン、ジ(1,2,3,4,5-ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル)ジメトキシシラン、ジ(1,2,
3,4,5-ペンタエチルシクロペンタジエニル)ジメトキシ
シラン、ジt-アミル-ジメトキシシラン、ジ(α,α'-ジ
メチルベンジル)ジメトキシシラン、ジ(アドマンチ
ル)ジメトキシシラン、アドマンチル-t-ブチルジメト
キシシラン、シクロペンチル-t-ブチルジメトキシシラ
ン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ジs-ブチルジメ
トキシシラン、ジs-アミルジメトキシシラン、イソプロ
ピル-s-ブチルジメトキシシランなどが挙げられる。
ルメトキシシラン、トリシクロペンチルエトキシシラ
ン、ジシクロペンチルメチルメトキシシラン、ジシクロ
ペンチルエチルメトキシシラン、ジシクロペンチルメチ
ルエトキシシラン、シクロペンチルジメチルメトキシシ
ラン、シクロペンチルジエチルメトキシシラン、シクロ
ペンチルジメチルエトキシシランなどのモノアルコキシ
シラン類などが挙げられる。
(iv)で示されるジメトキシシラン類が好ましく、具体
的に、ジシクロペンチルジメトキシシラン、ジ-t-ブチ
ルジメトキシシラン、ジ(2-メチルシクロペンチル)ジ
メトキシシラン、ジ(3-メチルシクロペンチル)ジメト
キシシラン、ジ-t-アミルジメトキシシランが好まし
い。
用して用いることができる。本発明で用いられる複数の
原子を介して存在する2個以上のエーテル結合を有する
化合物(d)(以下ポリエーテル化合物ということもあ
る)では、これらエーテル結合間に存在する原子は、炭
素、ケイ素、酸素、硫黄、リン、ホウ素からなる群から
選択される1種以上であり、原子数は2以上である。こ
れらのうちエーテル結合間の原子に比較的嵩高い置換
基、具体的には炭素数2以上であり、好ましくは3以上
で直鎖状、分岐状、環状構造を有する置換基、より好ま
しくは分岐状または環状構造を有する置換基が結合して
いるものが望ましい。また2個以上のエーテル結合間に
存在する原子に、複数の、好ましくは3〜20、より好
ましくは3〜10、特に好ましくは3〜7の炭素原子が
含まれた化合物が好ましい。
たとえば下記式で示される化合物を挙げることができ
る。
1 〜R26は炭素、水素、酸素、ハロゲン、窒素、硫黄、
リン、ホウ素およびケイ素から選択される少なくとも1
種の元素を有する置換基であり、任意のR1 〜R26、好
ましくはR1 〜R2nは共同してベンゼン環以外の環を形
成していてもよく、主鎖中に炭素以外の原子が含まれて
いてもよい。
具体的には、2-(2-エチルヘキシル)-1,3-ジメトキシ
プロパン、2-イソプロピル-1,3-ジメトキシプロパン、2
-ブチル-1,3-ジメトキシプロパン、2-s-ブチル-1,3-ジ
メトキシプロパン、2-シクロヘキシル-1,3-ジメトキシ
プロパン、2-フェニル-1,3-ジメトキシプロパン、2-ク
ミル-1,3-ジメトキシプロパン、2-(2-フェニルエチ
ル)-1,3-ジメトキシプロパン、2-(2-シクロヘキシル
エチル)-1,3-ジメトキシプロパン、2-(p-クロロフェ
ニル)-1,3-ジメトキシプロパン、2-(ジフェニルメチ
ル)-1,3-ジメトキシプロパン、2-(1-ナフチル)-1,3-
ジメトキシプロパン、2-(2-フルオロフェニル)-1,3-
ジメトキシプロパン、2-(1-デカヒドロナフチル)-1,3
-ジメトキシプロパン、2-(p-t-ブチルフェニル)-1,3-
ジメトキシプロパン、2,2-ジシクロヘキシル-1,3-ジメ
トキシプロパン、2,2-ジシクロペンチル-1,3-ジメトキ
シプロパン、2,2-ジエチル-1,3-ジメトキシプロパン、
2,2-ジプロピル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジイソ
プロピル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジブチル-1,3-
ジメトキシプロパン、2-メチル-2-プロピル-1,3-ジメト
キシプロパン、2-メチル-2-ベンジル-1,3-ジメトキシプ
ロパン、2-メチル-2-エチル-1,3-ジメトキシプロパン、
2-メチル-2-イソプロピル-1,3-ジメトキシプロパン、2-
メチル-2-フェニル-1,3-ジメトキシプロパン、2-メチル
-2-シクロヘキシル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ビス
(p-クロロフェニル)-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-
ビス(2-シクロヘキシルエチル)-1,3-ジメトキシプロ
パン、2-メチル-2-イソブチル-1,3-ジメトキシプロパ
ン、2-メチル-2-(2-エチルヘキシル)-1,3-ジメトキシ
プロパン、2,2-ジイソブチル-1,3-ジメトキシプロパ
ン、2,2-ジフェニル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジ
ベンジル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ビス(シクロ
ヘキシルメチル)-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジイ
ソブチル-1,3-ジエトキシプロパン、2,2-ジイソブチル-
1,3-ジブトキシプロパン、2-イソブチル-2-イソプロピ
ル-1,3-ジメトキシプロパン、2-(1-メチルブチル)-2-
イソプロピル-1,3-ジメトキシプロパン、2-(1-メチル
ブチル)-2-s-ブチル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジ
-s- ブチル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジ-t- ブチ
ル-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ジネオペンチル-1,3-
ジメトキシプロパン、2-イソプロピル-2-イソペンチル-
1,3-ジメトキシプロパン、2-フェニル-2-イソプロピル-
1,3-ジメトキシプロパン、2-フェニル-2-s-ブチル-1,3-
ジメトキシプロパン、2-ベンジル-2-イソプロピル-1,3-
ジメトキシプロパン、2-ベンジル-2-s-ブチル-1,3-ジメ
トキシプロパン、2-フェニル-2-ベンジル-1,3-ジメトキ
シプロパン、2-シクロペンチル-2-イソプロピル-1,3-ジ
メトキシプロパン、2-シクロペンチル-2-s-ブチル-1,3-
ジメトキシプロパン、2-シクロヘキシル-2-イソプロピ
ル-1,3-ジメトキシプロパン、2-シクロヘキシル-2-s-ブ
チル-1,3-ジメトキシプロパン、2-イソプロピル-2-s-ブ
チル-1,3-ジメトキシプロパン、2-シクロヘキシル-2-シ
クロヘキシルメチル-1,3-ジメトキシプロパン、2,3-ジ
フェニル-1,4-ジエトキシブタン、2,3-ジシクロヘキシ
ル-1,4-ジエトキシブタン、2,2-ジベンジル-1,4-ジエト
キシブタン、2,3-ジシクロヘキシル-1,4-ジエトキシブ
タン、2,3-ジイソプロピル-1,4-ジエトキシブタン、2,2
-ビス(p-メチルフェニル)-1,4-ジメトキシブタン、2,
3-ビス(p-クロロフェニル)-1,4-ジメトキシブタン、
2,3-ビス(p-フルオロフェニル)-1,4-ジメトキシブタ
ン、2,4-ジフェニル-1,5-ジメトキシペンタン、2,5-ジ
フェニル-1,5-ジメトキシヘキサン、2,4-ジイソプロピ
ル-1,5-ジメトキシペンタン、2,4-ジイソブチル-1,5-ジ
メトキシペンタン、2,4-ジイソアミル-1,5-ジメトキシ
ペンタン、3-メトキシメチルテトラヒドロフラン、3-メ
トキシメチルジオキサン、1,3-ジイソブトキシプロパ
ン、1,2-ジイソブトキシプロパン、1,2-ジイソブトキシ
エタン、1,3-ジイソアミロキシプロパン、1,3-ジイソネ
オペンチロキシエタン、1,3-ジネオペンチロキシプロパ
ン、2,2-テトラメチレン-1,3-ジメトキシプロパン、2,2
-ペンタメチレン-1,3-ジメトキシプロパン、2,2-ヘキサ
メチレン-1,3-ジメトキシプロパン、1,2-ビス(メトキ
シメチル)シクロヘキサン、2,8-ジオキサスピロ[5,
5]ウンデカン、3,7-ジオキサビシクロ[3,3,1]ノナ
ン、3,7-ジオキサビシクロ[3,3,0]オクタン、3,3-ジ
イソブチル-1,5-オキソノナン、6,6-ジイソブチルジオ
キシヘプタン、1,1-ジメトキシメチルシクロペンタン、
1,1-ビス(ジメトキシメチル)シクロヘキサン、1,1-ビ
ス(メトキシメチル)ビシクロ[2,2,1]ヘプタン、1,1
-ジメトキシメチルシクロペンタン、2-メチル-2-メトキ
シメチル-1,3-ジメトキシプロパン、2-シクロヘキシル-
2-エトキシメチル-1,3-ジエトキシプロパン、2-シクロ
ヘキシル-2-メトキシメチル-1,3-ジメトキシプロパン、
2,2-ジイソブチル-1,3-ジメトキシシクロヘキサン、2-
イソプロピル-2-イソアミル-1,3-ジメトキシシクロヘキ
サン、2-シクロヘキシル-2-メトキシメチル-1,3-ジメト
キシシクロヘキサン、2-イソプロピル-2-メトキシメチ
ル-1,3-ジメトキシシクロヘキサン、2-イソブチル-2-メ
トキシメチル-1,3-ジメトキシシクロヘキサン、2-シク
ロヘキシル-2-エトキシメチル-1,3-ジエトキシシクロヘ
キサン、2-シクロヘキシル-2-エトキシメチル-1,3-ジメ
トキシシクロヘキサン、2-イソプロピル-2-エトキシメ
チル-1,3-ジエトキシシクロヘキサン、2-イソプロピル-
2-エトキシメチル-1,3-ジメトキシシクロヘキサン、2-
イソブチル-2-エトキシメチル-1,3-ジエトキシシクロヘ
キサン、2-イソブチル-2-エトキシメチル-1,3-ジメトキ
シシクロヘキサン、トリス(p-メトキシフェニル)ホス
フィン、メチルフェニルビス(メトキシメチル)シラ
ン、ジフェニルビス(メトキシメチル)シラン、メチル
シクロヘキシルビス(メトキシメチル)シラン、ジ-t-
ブチルビス(メトキシメチル)シラン、シクロヘキシル
-t-ブチルビス(メトキシメチル)シラン、i-プロピル-
t-ブチルビス(メトキシメチル)シランなどが挙げられ
る。
く用いられ、特に、2,2-ジイソブチル-1,3-ジメトキシ
プロパン、2-イソプロピル-2-イソペンチル-1,3-ジメト
キシプロパン、2,2-ジシクロヘキシル-1,3-ジメトキシ
プロパン、2,2-ビス(シクロヘキシルメチル)-1,3-ジ
メトキシプロパンが好ましく用いられる。
以上併用して用いることができる。次に本発明で用いら
れるプロピレン重合体の製造方法について説明する。本
発明で用いられるプロピレン重合体は、たとえば前記
[Ia]固体状チタン触媒成分と、[II]有機金属触媒
成分と、[III]上記式(iii)で示されるケイ素化合物
(c)またはポリエーテル化合物(d)とから形成され
るオレフィン重合触媒の存在下、好ましくは、前記[I
b]予備重合触媒成分と、[II]有機金属触媒成分と、
[III]上記式(iii)で示されるケイ素化合物(c)ま
たはポリエーテル化合物(d)とから形成されるオレフ
ィン重合触媒の存在下に、プロピレンの重合(本重合)
を行うことにより得ることができる。
ピレンに加えて、少量のプロピレン以外の他のオレフィ
ンあるいは少量のジエン化合物を重合系内に共存させる
こともできる。
ンとしては、エチレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキ
セン、4-メチル-1-ペンテン、3-メチル-1-ペンテン、1-
オクテン、3-メチル-1-ブテンなどの炭素数3〜8のオ
レフィンが挙げられる。
1,3-ペンタジエン、1,4-ペンタジエン、1,3-ヘキサジエ
ン、1,4-ヘキサジエン、1,5-ヘキサジエン、4-メチル-
1,4-ヘキサジエン、5-メチル-1,4-ヘキサジエン、6-メ
チル-1,6-オクタジエン、7-メチル-1,6-オクタジエン、
6-エチル-1,6-オクタジエン、6-プロピル-1,6-オクタジ
エン、6-ブチル-1,6-オクタジエン、6-メチル-1,6-ノナ
ジエン、7-メチル-1,6-ノナジエン、6-エチル-1,6-ノナ
ジエン、7-エチル-1,6-ノナジエン、6-メチル-1,6-デカ
ジエン、7-メチル-1,6-デカジエン、6-メチル-1,6-ウン
デカジエン、1,7-オクタジエン、1,9-デカジエン、イソ
プレン、ブタジエン、エチリデンノルボルネン、ビニル
ノルボルネンおよびジシクロペンタジエンなどの炭素数
4〜20のジエン化合物を挙げることができる。
液相で行われる。重合がスラリー重合または溶解重合の
反応形態を採る場合、反応溶媒として、上述の[Ib]
予備重合触媒成分の調製に用いられる不活性炭化水素と
同様の不活性炭化水素を用いることができる。
チタン触媒成分または[Ib]予備重合触媒成分は、重
合容積1リットル当り[Ia]固体状チタン触媒成分中
のチタン原子または[Ib]予備重合触媒成分中のチタ
ン原子に換算して、通常は約0.0001〜50ミリモ
ル、好ましくは約0.001〜10ミリモルの量で用い
られる。また、[II]有機金属触媒成分は、重合系中の
チタン原子1モルに対し、[II]有機金属触媒成分に含
まれる金属原子が、通常約1〜2000モル、好ましく
は約2〜500モルとなるような量で用いられる。さら
に[III]ケイ素化合物(c)またはポリエーテル化合
物(d)は、[II]有機金属触媒成分中の金属原子1モ
ル当り、通常約0.001〜50モル、好ましくは約0.
01〜20モルとなるような量で用いられる。
イトの大きいプロピレン重合体が得られ、水素添加量に
よって得られるプロピレン重合体の分子量を調節するこ
とができる。この場合においても、本発明においては得
られるプロピレン重合体の結晶化度や立体規則性指数が
低下したりすることがなく、また触媒活性が低下するこ
ともない。
は、通常、約−50〜200℃、好ましくは約20〜1
00℃であり、圧力は、通常、常圧〜100kg/cm
2、好ましくは約2〜50kg/cm2に設定される。重
合は回分式、半連続式、連続式の何れの方法においても
行うことができる。
ると、固体触媒成分単位量当りの、プロピレン重合体の
収率を高くすることができるため、プロピレン重合体中
の触媒残渣、特にハロゲン含量を相対的に低減させるこ
とができる。したがって、プロピレン重合体中の触媒を
除去する操作を省略できるとともに、得られたプロピレ
ン重合体を用いて成形体を成形する際に、金型の発錆を
防止し易くなる。
モルファス成分が極めて少なく、したがって炭化水素可
溶成分が少なく、このプロピレン重合体から成形したフ
ィルムは、その表面粘着性が低い。
造は、反応条件を変えて2段以上に分けて行うこともで
きる。この場合は、2〜10器の重合器を用いて、気相
あるいは液相で行われる。
形態を採る場合、反応溶媒として、上述の[Ib]予備
重合触媒成分の調製に用いられる不活性炭化水素と同様
の不活性炭化水素を用いることができる。
以上の重合器の内、少なくとも1器以上の重合器におい
て、プロピレンを重合し(該重合において、以下「A重
合」ということがある)、極限粘度[η]が、3〜40
dl/g、好ましくは5〜30dl/g、特に好ましくは7
〜25dl/gの重合体を製造する。
ン不溶成分のNMR測定で決定されるアイソタクチック
ペンタッド値([M5])は、0.960〜0.995、
好ましくは0.970〜0.995、より好ましくは0.
980〜0.995、さらに好ましくは0.982〜0.
995であることが望ましい。
は、80%以上、好ましくは90%以上、より好ましく
は94%以上、さらに好ましくは95%以上、特に好ま
しくは96%以上であることが望ましい。
最終的に得られるプロピレン重合体中で0.1〜55
%、好ましくは2〜35%、特に好ましくは5〜30%
の割合で存在するように製造されることが望ましい。
いて製造する場合には、前記2器以上の重合器の内、残
りの重合器でもプロピレンの重合を行い(以下「B重
合」ということがある)、最終製品として、メルトフロ
ーレートが0.1〜500g/10分のプロピレン重合
体を得る。
は、前記[Ia]固体状チタン触媒成分または[Ib]
予備重合触媒成分は、重合容積1リットル当り[Ia]
固体状チタン触媒成分中のチタン原子または[Ib]予
備重合触媒成分中のチタン原子に換算して、通常は約
0.0001〜50ミリモル、好ましくは約0.001〜
10ミリモルの量で用いられる。また、[II]有機金属
触媒成分は、重合系中のチタン原子1モルに対し、[I
I]有機金属触媒成分に含まれる金属原子が、通常約1
〜2000モル、好ましくは約2〜500モルとなるよ
うな量で用いられる。さらに[III]ケイ素化合物
(c)またはポリエーテル化合物(d)は、[II]有機
金属触媒成分中の金属原子1モル当り、通常約0.00
1〜50モル、好ましくは約0.01〜20モルとなる
ような量で用いられる。
いても[Ia]固体状チタン触媒成分または[Ib]予
備重合触媒成分、[II]有機金属触媒成分、[III]ケ
イ素化合物(c)またはポリエーテル化合物(d)を供
給してもよい。さらに、いずれの重合器においても固体
状チタン触媒成分(a)を調製する際に用いた電子供与
体および/または上記式(c-i)で表される有機ケイ素
化合物を供給してもよい。
ても、水素を供給もしくは排除することにより得られる
重合体の分子量を容易に調整することができる。この場
合に、本発明においては、得られるプロピレン重合体の
結晶化度や立体規則性指数が低下したりすることがな
く、また触媒活性が低下することもない。水素の供給量
は、諸条件によって異なるが、最終的に得られるポリマ
ーのメルトフローレートが0.1〜500g/10分の
範囲となるような量であれば良い。
値は、0.975〜0.995、好ましくは0.980〜
0.995、より好ましくは0.982〜0.995の範
囲にあり、[M3]の値は、0.0020〜0.005
0、好ましくは0.0023〜0.0045、より好まし
くは0.0025〜0.0040の範囲になるようにすれ
ばよい。
の重合温度は、いずれも通常約−50〜200℃、好ま
しくは20〜100℃であり、圧力は、通常常圧〜10
0kg/cm2、好ましくは2〜50kg/cm2に設定
される。重合は回分式、半連続式、連続式のいずれの方
法においても行うことができる。
後述するような核剤が配合されていてもよい。プロピレ
ン重合体に核材を配合することによって、結晶粒子の微
細化が図れるとともに、結晶化速度の向上し、高速成形
が可能になる。
剤が特に制限されることなく用いられる。中でも、好ま
しい核剤としては、下記に挙げる核剤を例示することが
できる。
数1〜10の炭化水素基であり、R2、R3は水素もしく
は炭素数1〜10の炭化水素基であり、R2、R3は同種
であっても異種であってもよく、R2同士、R3同士また
はR2とR3が結合して環状となっていてもよく、Mは、
1〜3価の金属原子であり、nは1〜3の整数であ
る。)具体的には、ナトリウム-2,2'-メチレン-ビス
(4,6-ジ-t-ブチルフェニル) フォスフェート、ナトリ
ウム-2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニ
ル)フォスフェート、リチウム-2,2'-メチレン-ビス-
(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェート、リチウム
-2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フ
ォスフェート、ナトリウム-2,2'-エチリデン-ビス(4-i
-プロピル-6-t-ブチルフェニル) フォスフェート、リチ
ウム-2,2'-メチレン-ビス(4-メチル-6-t-ブチルフェニ
ル) フォスフェート、リチウム-2,2'-メチレン-ビス(4
-エチル-6-t-ブチルフェニル) フォスフェート、カルシ
ウム-ビス[2,2'-チオビス(4-メチル-6-t-ブチルフェ
ニル) フォスフェート] 、カルシウム-ビス[2,2'-チオ
ビス(4-エチル-6-t-ブチルフェニル) フォスフェート]
、カルシウム-ビス[2,2'-チオビス-(4,6-ジ-t-ブチ
ルフェニル) フォスフェート] 、マグネシウム-ビス
[2,2'-チオビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル) フォスフ
ェート] 、マグネシウム-ビス[2,2'-チオビス-(4-t-
オクチルフェニル) フォスフェート] 、ナトリウム-2,
2'-ブチリデン-ビス(4,6-ジ-メチルフェニル) フォス
フェート、ナトリウム-2,2'-ブチリデン-ビス(4,6-ジ-
t-ブチルフェニル) フォスフェート、ナトリウム-2,2'-
t-オクチルメチレン-ビス(4,6-ジ-メチルフェニル) フ
ォスフェート、ナトリウム-2,2'-t-オクチルメチレン-
ビス(4,6-ジ-t- ブチルフェニル) フォスフェート、カ
ルシウム- ビス-(2,2'-メチレン-ビス(4,6-ジ-t-ブチ
ルフェニル)フォスフェート) 、マグネシウム-ビス[2,
2'-メチレン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル) フォス
フェート] 、バリウム-ビス[2,2'-メチレン-ビス(4,6
-ジ-t-ブチルフェニル) フォスフェート] 、ナトリウム
-2,2'-メチレン-ビス(4-メチル-6-t-ブチルフェニル)
フォスフェート、ナトリウム-2,2'-メチレン-ビス(4-
エチル-6-t-ブチルフェニル) フォスフェート、ナトリ
ウム(4,4'-ジメチル-5,6'-ジ-t-ブチル-2,2'-ビフェニ
ル) フォスフェート、カルシウム-ビス[(4,4'-ジメチ
ル-6,6'-ジ-t-ブチル-2,2'-ビフェニル) フォスフェー
ト] 、ナトリウム-2,2'-エチリデン-ビス(4-m-ブチル-
6-t-ブチルフェニル) フォスフェート、ナトリウム-2,
2'-メチレン-ビス(4,6-ジ-メチルフェニル) フォスフ
ェート、ナトリウム-2,2'-メチレン-ビス(4,6-ジ-エチ
ルフェニル) フォスフェート、カリウム-2,2'-エチリデ
ン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル) フォスフェート、
カルシウム-ビス[2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブ
チルフェニル) フオスフェート] 、マグネシウム-ビス
[2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)
フォスフェート] 、バリウム-ビス[2,2'-エチリデン-
ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル) フォスフェート] 、
アルミニウム-トリス[2,2'-メチレン-ビス(4,6-ジ-t-
ブチルフェル)フォスフェート] およびアルミニウム-
トリス[2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェ
ニル) フォスフェート] およびこれらの2個以上の混合
物を例示することができる。特にナトリウム-2,2'-メチ
レン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェート
が好ましい。
0の炭化水素基であり、Mは、1〜3価の金属原子であ
り、nは1〜3の整数である。)具体的には、ナトリウ
ム-ビス(4-t-ブチルフェニル)フォスフェート、ナト
リウム-ビス(4-メチルフェニル)フォスフェート、ナ
トリウム-ビス(4-エチルフェニル)フォスフェート、
ナトリウム-ビス(4-i-プロピルフェニル)フォスフェ
ート、ナトリウム-ビス(4-t-オクチルフェニル)フォ
スフェート、カリウム-ビス(4-t-ブチルフェニル)フ
ォスフェート、カルシウム-ビス(4-t-ブチルフェニ
ル)フォスフェート、マグネシウム-ビス(4-t-ブチル
フェニル)フォスフェート、リチウム-ビス(4-t-ブチ
ルフェニル)フォスフェート、アルミニウム-ビス(4-t
-ブチルフェニル)フォスフェートおよびこれらの2種
以上の混合物を例示することができる。特にナトリウム
-ビス(4-t-ブチルフェニル) フォスフェートが好まし
い。
0の炭化水素基である。)具体的には、1,3,2,4-ジベン
ジリデンソルビトール、1,3-ベンジリデン-2,4-p-メチ
ルベンジリデンソルビトール、1,3-ベンジリデン-2,4-p
-エチルベンジリデンソルビトール、1,3-p-メチルベン
ジリデン-2,4-ベンジリデンソルビトール、1,3-p-エチ
ルベンジリデン-2,4-ベンジリデンソルビトール、1,3-p
-メチルベンジリデン-2,4-p-エチルベンジリデンソルビ
トール、1,3-p-エチルベンジリデン-2,4-p-メチルベン
ジリデンソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-メチルベンジリ
デン)ソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-エチルベンジリデ
ン)ソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-n-プロピルベンジリ
デン)ソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-i-プロピルベンジ
リデン)ソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-n-ブチルベンジ
リデン)ソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-s-ブチルベンジ
リデン)ソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-t-ブチルベンジ
リデン)ソルビトール、1,3,2,4-ジ(2',4'-ジメチルベ
ンジリデン)ソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-メトキシベ
ンジリデン)ソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-エトキシベ
ンジリデン)ソルビトール、1,3-ベンジリデン-2-4-p-
クロルベンジリデンソルビトール、1,3-p-クロルベンジ
リデン-2,4-ベンジリデンソルビトール、1,3-p-クロル
ベンジリデン-2,4-p-メチルベンジリデンソルビトー
ル、1,3-p-クロルベンジリデン-2,4-p-エチルベンジリ
デンソルビトール、1,3-p-メチルベンジリデン-2,4-p-
クロルベンジリデンソルビトール、1,3-p-エチルベンジ
リデン-2,4-p-クロルベンジリデンソルビトールおよび
1,3,2,4-ジ(p-クロルベンジリデン)ソルビトールおよ
びこれらの2個以上の混合物を例示でき、特に1,3,2,4-
ジベンジリデンソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-メチルベ
ンジリデン)ソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-エチルベン
ジリデン)ソルビトール、1,3-p-クロルベンジリデン-
2,4-p-メチルベンジリデンソルビトール、1,3,2,4-ジ
(p-クロルベンジリデン)ソルビトールおよびそれらの
2種以上の混合物が好ましい。
や脂肪族カルボン酸の金属塩を例示でき、具体的には、
安息香酸アルミニウム塩、p-t-ブチル安息香酸アルミニ
ウム塩やアジピン酸ナトリウム、チオフェネカルボン酸
ナトリウム、ピローレカルボン酸ナトリウムなどを挙げ
られる。
も例示することもできる。本発明で用いられるプロピレ
ン重合体において、上記核剤はプロピレン重合体100
重量部に対して、0.001〜10重量部、好ましくは
0.01〜5重量部、特に好ましくは0.1〜3重量部の
割合で配合されることが望ましい。
することにより、プロピレン重合体が本来有する優れた
特性が損なわれることなく、結晶粒子が微細で結晶化度
が向上したプロピレン重合体が得られる。
[B]は、プロピレンと炭素数4以上のα-オレフィン
とのランダム共重合体、または、プロピレンと炭素数4
以上のα-オレフィンとエチレンとのランダム共重合体
である。
では、炭素数4以上のα-オレフィンから誘導される構
成単位を2〜15モル%、好ましくは3〜10モル%の
量で含有し、エチレンから誘導される構成単位を5モル
%以下、好ましくは3モル%以下の量で含有しているこ
とが望ましい。
が多くなると、フィルムに成形したときに透明性が低下
したり、フィルムの透明性が経時的に悪化することがあ
るがある。この透明性の経時的な悪化は、軟質樹脂成分
のブリードアウトによるものと思われる。さらに、エチ
レンから誘導される構成単位の含有量が多くなると、共
重合体中の軟質樹脂成分の量が多くなり易く、フィルム
の剛性低下の原因になることがある。
-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、4-メチル-1-ペンテ
ンなどが挙げられ、1-ブテンが特に好ましい。プロピレ
ン系ランダム共重合体のα-オレフィン単位の含有量
は、重合時の物質収支から求めた。また1-ブテンの含有
量については、さらに赤外分光光度計を用いて770c
m-1の特性吸収から常法により定量し、結果を確認し
た。なお赤外分光光度計による測定は、プロピレン-1-
ブテンコポリマーについて13C−NMRによる定量値に
より検量線を作成し定量した。
チレン単位の含有量は、重合時の物質収支から求めた。
さらに赤外分光光度計を用いて732cm-1、720c
m-1の特性吸収から常法により定量し、結果を確認し
た。なお赤外分光光度計による測定は、14Cでラベルし
たエチレンコポリマーの放射線測定による定量値により
検量線を作成し定量した。
共重合体は、軟質樹脂成分の量が少ないことが好まし
く、23℃n-デカン可溶成分量が10重量%以下、好ま
しくは7重量%以下であることが望ましい。
フィルムの剛性が低下したり、フィルムの耐ブロッキン
グ性が低下することがある。n-デカン可溶成分量は、以
下のようにして求める。すなわち、共重合体10gをn-
デカン1.0リットルに溶解し、次いで室温まで徐冷す
る。これを23℃のバス中に6時間放置した後、濾過
し、濾液を濃縮、乾固、乾燥して秤量し、共重合体の可
溶成分量として試料共重合体の重量に対する百分率とし
て算出する。
ンダム共重合体は、融点が145℃以下、好ましくは1
40℃以下であることが望ましい。融点が上記のような
範囲にあるプロピレン系ランダム共重合体は、ヒートシ
ール性に優れている。
は、気相重合法、溶液重合法(溶解重合)などの方法で
製造することができるが、いわゆるスラリー重合法で製
造することが望ましい。
ム共重合体を製造すると、不活性炭化水素溶媒に低融
点、低分子量の軟質樹脂成分が溶解するため、軟質樹脂
成分が共重合体中に取り込まれ難くなり、剛性の比較的
高いプロピレン系ランダム共重合体を得ることができ
る。
[A]およびプロピレン系ランダム共重合体[B]は、
衝撃強度を向上させるためのゴム成分を配合したり、耐
熱安定剤、耐候安定剤、帯電防止剤、スリップ剤、アン
チブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、顔料、天然
油、合成油、ワックスなどを配合することができ、その
配合割合は適宜量である。
ロピレン重合体[A]およびプロピレン系ランダム共重
合体[B]にシリカ、ケイ藻土、アルミナ、酸化チタ
ン、酸化マグネシウム、軽石粉、軽石バルーン、水酸化
アルミニウム、水酸化マグネシウム、塩基性炭酸マグネ
シウム、ドロマイト、硫酸カルシウム、チタン酸カリウ
ム、硫酸バリウム、亜硫酸カルシウム、タルク、クレ
ー、マイカ、アスベスト、ガラス繊維、ガラスフレー
ク、ガラスビーズ、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイ
ト、ベントナイト、グラファイト、アルミニウム粉、硫
化モリブデン、ボロン繊維、炭化ケイ素繊維、ポリエチ
レン繊維、ポリプロピレン繊維、ポリエステル繊維、ポ
リアミド繊維などの充填剤を配合してもよい。
ピレン重合体[A]からなる基材層と、前記プロピレン
系ランダム共重合体[B]からなるシール材層とを有し
ている。このようなポリプロピレン多層フィルムは、前
記プロピレン重合体[A]からなる基材層と、最外層に
前記プロピレン系ランダム共重合体[B]からなるシー
ル材層を有していれば、前記プロピレン重合体[A]か
らなる層および/またはプロピレン系ランダム共重合体
[B]からなる層を複数有する多層フィルムであっても
よく、また他の樹脂からなる層を含む多層フィルムであ
ってもよい。本発明ではポリプロピレン多層フィルム
は、基材層と該基材層の一方の面に設けられたシール材
層とからなる2層、あるいは基材層と該基材層の両面に
設けられたシール材層とからなる3層の構成であること
が好ましい。
特に限定されないが、通常10〜150μmである。ま
た前記シール材層の厚さと、フィルムの全厚さとの比
(シール材層の厚さ/フィルムの全厚さ)が0.03〜
0.4、好ましくは0.05〜0.3の範囲にあることが
望ましい。なお前記シール材層の厚さとは、シール材層
がフィルムの両面に設けられている場合には、各シール
材層の合計の厚さである。また前記シール材層を基材層
の両面に設ける場合には、各シール材層の厚さは、ほぼ
同一とすることが望ましい。
ると、フィルムの剛性が不充分になることがあり、シー
ル材層の厚さが上記の範囲より薄くなると、フィルムの
ヒートシール性が不充分になることがある。
剛性に優れたプロピレン重合体からなる基材層と、ヒー
トシール性に優れたプロピレン系ランダム共重合体から
なるシール材層とを有し、かつ、シール材層の厚さと、
フィルムの全厚さとの比が一定の範囲にあるので、剛性
およびヒートシール性に優れている。また、このポリプ
ロピレン多層フィルムは、透明性および耐ブロッキング
性に優れ、透明性の経時的な悪化が少ない。さらに基材
層と、シール材層との接着性に優れている。
製造する方法としては、多層ダイスを用いた、T−ダイ
キャスト法、水冷インフレ法などの共押出加工法を採用
することができる。
ムは、特定のプロピレン重合体からなる基材層と、特定
のプロピレン系ランダム共重合体からなるシール材層と
を有し、前記シール材層の厚さが、フィルムの全厚さに
対して0.03〜0.4の範囲にあるので、剛性、透明
性、および耐ブロッキング性に優れ、かつ、ヒートシー
ル性に優れている。
的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるも
のではない。
のようにして測定した。 [引張ヤング率]ASTM D−882 に準拠する。
(引張速度:200mm/分) [ヘイズ値]ASTM D−1003 に準拠する。
シーラーを用い、所定の温度で、1秒間、シール圧力2
kg/cm2、シール幅5mmでシールし試験片を作成
する。
5mm幅の前記試験片をチャック間30mm、クロスヘ
ッド速度300mm/minにて剥離し、ヒートシール
強度を測定する。
無水塩化マグネシウム240kg、デカン1100リッ
トルおよび2-エチルヘキシルアルコール990kgを装
入し130℃で加熱して均一溶液とした後、この溶液中
に無水フタル酸54kgを添加し、さらに、130℃に
て攪拌し、無水フタル酸を溶解させた。このようにして
得られた均一溶液を室温に冷却した後、−25℃に保持
した四塩化チタン6.7m3 中に攪拌しながらこの均一
溶液を滴下装入した。装入終了後の温度は約−20℃で
あった。
10℃に昇温し、110℃に達したところでフタル酸ジ
イソブチル(DIBP)13kgを添加し、これより2
時間同温度にて攪拌保持した。2時間の反応終了後、熱
濾過にて固体部を採取し、この固体部を7.3m3 の四
塩化チタンに再懸濁させた後、再び110℃で2時間、
加熱反応を行った。
し、110℃のデカンおよびヘキサンにて溶液中に遊離
のチタン化合物が検出されなくなるまで充分洗浄した。
以上の操作によって固体状チタン触媒成分[A]を得
た。
成は、チタン;2.2重量%、塩素;61重量%、マグ
ネシウム;19重量%、DIBP;12.7重量%であ
った。
ルの攪拌器付き反応器に、窒素雰囲気下、精製ヘキサン
40リットル、トリエチルアルミニウム3.0モル、ト
リメチルメトキシシラン3.0モルおよび上記固体状チ
タン触媒成分[A]をチタン原子換算で0.3モル添加
した後、20℃の温度で3-メチル-1-ブテン(3MB−
1)1.5kgを反応器に供給し、2時間予備重合を行
った。
澄液の除去および精製ヘキサンの添加からなる洗浄操作
を3回行い予備重合触媒[B]を得た。この予備重合触
媒[B]は、精製ヘキサンで再懸濁して保存した。
器付き反応器に精製n-ヘキサン450リットルを装入
し、60℃、プロピレン雰囲気にてトリエチルアルミニ
ウム500ミリモル、ジシクロペンチルジメトキシシラ
ン500ミリモルおよび予備重合触媒[B]をチタン原
子換算で10ミリモルTi装入した。
温した後、これを3時間保持してプロピレン重合を行っ
た。重合中の圧力は6kg/cm2-Gに保った。重合終
了後、脱圧し、生成固体を含むスラリーを遠心分離し、
ドライヤーにて乾燥することで白色粉末状重合体200
kgを得た。
あり、沸騰ヘプタン不溶成分の立体規則性指標[M5]
の値が0.986、沸騰ヘプタン不溶成分の立体規則性
指標[M3]の値が0.0030であり、沸騰ヘプタン不
溶成分の結晶化度が78.5%であり、3MB−1重合
体の含有量は300ppmであり、密度が0.920g
/cm3 であった。
に、精製n-ヘキサン450リットルを装入し、60℃、
プロピレン雰囲気にてトリエチルアルミニウム500ミ
リモル、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン100
ミリモルおよび予備重合触媒[B]をチタン原子換算で
10ミリモルTi装入した。
温した後、これを3時間保持してプロピレン重合を行っ
た。重合中の圧力は6kg/cm2-Gに保った。重合終
了後、脱圧し、生成固体を含むスラリーを遠心分離し、
ドライヤーにて乾燥することで白色粉末状重合体200
kgを得た。
あり、沸騰ヘプタン不溶成分の立体規則性指標[M5]
の値が0.952であり、沸騰ヘプタン不溶成分の立体
規則性指標[M3]の値が0.0037であり、沸騰ヘプ
タン不溶成分の結晶化度が64.0%であり、3MB−
1重合体の含有量は300ppmであり、密度が0.9
02g/cm3 であった。
と、1-ブテン単位含有量が5モル%であり、エチレン単
位含有量が2モル%であり、DSCで測定した融点が1
33℃であり、MFRが6.0g/10分であるプロピ
レン系ランダム共重合体を用いて、2種3層多層T−ダ
イキャスト成形機にて、押出温度230℃、ダイス温度
220℃、冷却ロール温度35℃の条件で、プロピレン
重合体からなる基材層と、プロピレン系ランダム共重合
体からなるシール材層とから形成される厚さ25μmの
多層フィルムを製造した。
8/1(シール材層/基材層/シール材層)であった。
得られたポリプロピレン多層フィルムについて各物性を
測定した結果を表1に示す。
1(シール材層/基材層/シール材層)とした以外は、
実施例1と同様にして厚さ25μmの多層フィルムを製
造した。
いて各物性を測定した結果を表1に示す。
重合体として、1-ブテン単位含有量が7モル%であり、
DSCで測定した融点が135℃であり、MFRが6.
5g/10分であるプロピレン系ランダム共重合体を用
いた以外は、実施例1と同様にして厚さ25μmの多層
フィルムを製造した。
いて各物性を測定した結果を表1に示す。
重合体を用いて、T−ダイキャスト成形機にて、押出温
度230℃、ダイス温度220℃、冷却ロール35℃の
条件で、厚さ25μmの単層フィルムを製造した。
いて各物性を測定した結果を表1に示す。
て、比較製造例で得られたプロピレン重合体を用いた以
外は、実施例2と同様にして厚さ25μmの多層フィル
ムを製造した。
いて各物性を測定した結果を表1に示す。
重合体として、エチレン単位含有量が7モル%であり、
MFRが6.0g/10分であり、DSCで測定した融
点が132℃であるプロピレン系ランダム共重合体を用
いた以外は、実施例1と同様にして厚さ25μmの多層
フィルムを製造した。
いて各物性を測定した結果を表1に示す。
Claims (2)
- 【請求項1】 プロピレン重合体[A]からなる基材層
と、プロピレン系ランダム共重合体[B]からなるシー
ル材層とを有する多層フィルムであって、前記プロピレ
ン重合体[A]は、 230℃、2.16kg荷重におけるメルトフローレー
ト(MFR)が0.1〜500g/10分の範囲にあ
り、 沸騰ヘプタン不溶成分の13C−NMRスペクトルにおけ
るPmmmm、Pwの吸収強度から下記式(1)により求め
られる立体規則性指標[M5]の値が0.970〜0.9
95の範囲にあり、 沸騰ヘプタン不溶成分の13C−NMRスペクトルにおけ
るPmmrm、Pmrmr、Pmrrr、Prmrr、Prmmr、Prrrr、
Pwの吸収強度から下記式(2)により求められる立体
規則性指標[M3]の値が0.0020〜0.0050の
範囲にあり、 沸騰ヘプタン不溶成分の結晶化度が60%以上であるプ
ロピレン重合体であり、 前記プロピレン系ランダム共重合体[B]は、 炭素数4以上のα-オレフィンから誘導される構成単位
を2〜15モル%の量で含有し、 エチレンから誘導される構成単位を5モル%以下で含有
し、 融点が145℃以下であり、 23℃n-デカン可溶成分量が10重量%以下であるプロ
ピレンと炭素数4以上のα-オレフィンとのランダム共
重合体、または、プロピレンと炭素数4以上のα-オレ
フィンとエチレンとのランダム共重合体であり、 かつ、前記シール材層の厚さと、フィルムの全厚さとの
比(シール材層の厚さ/フィルムの全厚さ)が0.03
〜0.4の範囲にあることを特徴とするポリプロピレン
多層フィルム; 【数1】 (式中、 [Pmmmm]:プロピレン単位が5単位連続してイソタク
チック結合した部位における第3単位目のメチル基に由
来する吸収強度であり、 [Pw] :プロピレン単位のメチル基に由来する吸収
強度である。) 【数2】 - 【請求項2】 前記プロピレン重合体[A]が、下記式
(i)または(ii)で表される化合物から誘導される構
成単位からなる重合体を10〜10000ppmの範囲
の量で含有する請求項1に記載のポリプロピレン多層フ
ィルム; 【化1】
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|---|---|---|---|
| JP17702193A JP3415204B2 (ja) | 1993-07-16 | 1993-07-16 | ポリプロピレン多層フィルム |
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|---|---|---|---|
| JP17702193A JP3415204B2 (ja) | 1993-07-16 | 1993-07-16 | ポリプロピレン多層フィルム |
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ID=16023773
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| JP17702193A Expired - Lifetime JP3415204B2 (ja) | 1993-07-16 | 1993-07-16 | ポリプロピレン多層フィルム |
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|---|---|
| JP (1) | JP3415204B2 (ja) |
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