JP2000351879A - プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルム - Google Patents
プロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれからなるフィルムInfo
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Abstract
好ましい特性を損なうことなく、優れたヒートシール性
を発現し、かつ高速製袋に必要なスリップ性及びアンチ
ブロッキング性を兼ね備えたフィルムを得ることがで
き、また製膜速度を高速化してもフィルム品質の低下が
極めて小さく、さらには、成形性やフィルム特性が改良
されたプロピレン系ランダム共重合体組成物及びそれか
らなるフィルムを提供する。 【解決手段】 (i)プロピレンと、エチレン及び/又
は1−ブテンとのランダム共重合体に、(ii)核剤を
配合してなるプロピレン系ランダム共重合体組成物であ
って、特定の関係式を満たし、かつ昇温分別クロマトグ
ラフの0℃以下の範囲において溶出する量W0(重量
%)が6重量%以下である。
Description
ダム共重合体組成物及びそれからなるフィルムに関する
ものであり、さらに詳しくはプロピレンと、エチレン及
び/又は1−ブテンとのプロピレン系ランダム共重合体
組成物、及びそれを成形したフィルムに関するものであ
る。このフィルムはラミネートや共押出した積層フィル
ムの少なくとも一層の構成成分として好適に用いられ
る。
ルムはその優れた剛性、透明性、及び防湿性等を活かし
て広く包装用フィルムとして使用されている。包装用フ
ィルムはしばしば袋状に加工して使用されているが、フ
ィルムを袋状に加工し内容物を充填した後に袋口を閉じ
る一連の操作は、通常加熱した棒により圧締してフィル
ム同士を溶融接着するヒートシールと呼ばれる操作によ
り行われている。近年これら一連の製袋、包装工程は生
産性向上のため高速製膜化が図られており、ヒートシー
ル性に優れた素材の開発が強く要望されている。またこ
れら二次加工工程を円滑に行うため、包装用フィルムに
はスリップ性、アンチブロッキング性が優れていること
が必須の特性として要求されている。さらに近年フィル
ム製膜の生産性を上げるために大型製膜化が進んでお
り、結果として従来とはフィルム条件が変化している
が、このような場合にもフィルム品質が低下したりしな
いことが要求されている。
ムをヒートシールするには高い温度で、かつ長い時間の
圧締が必要であるという欠点を有する。そこでこの欠点
を改良する目的でエチレンや1―ブテン、及びその他の
α−オレフィンとプロピレンとの共重合が広く行われて
きた。しかしながら、チーグラーナッタ触媒を用いてプ
ロピレン系重合体を製造するる従来技術においては、充
分なヒートシール性改良効果を得るために多量のエチレ
ンや1−ブテン、及びその他のα−オレフィン等のコモ
ノマーを共重合する必要があった。また、これらのコモ
ノマーはしばしば低分子量成分に集中して含まれてお
り、結晶性に乏しいべとつきの原因成分(以下べとつき
成分と呼ぶ)になっていた。そのため、ポリプロピレン
フィルム本来の特長である剛性が大きく低下したり、フ
ィルム同士がブロッキングして二次加工に支障をきたし
たり、ブリード白化による外観不良を起こしたりして実
用に耐えるものとはならなかった。
は、べとつき成分を不活性溶剤中に溶解し、除去する試
みが行われてきた。しかしながら、べとつき成分を効率
的に洗い落とし、かつヒートシール性に寄与する低温融
解成分が洗浄により減少するのを抑制することは非常に
困難であり、工業的に満足のいくものではなかった。一
方、近年いわゆるメタロセン系触媒によるプロピレン系
重合体の適用が盛んに検討されている。メタロセン系触
媒による重合体は分子量分布や組成分布が極めて狭いこ
とが特徴である。ところが、成形安定性を保持したり、
成形体に幾つもの相反する物性を持たせたりするために
は分子量分布や組成分布を逆に広げた方が良いことが指
摘されており、メタロセン系触媒によるプロピレン系重
合体の組成物がいろいろと提案されている。しかしなが
ら、工業的に満足のいく方法によって用途、成形法に合
わせた樹脂特性の重合体を自由に得ることは未だにでき
ていない状況である。
らなされたもので、ポリプロピレンのフィルムが本来有
する剛性、透明性及び防湿性等の好ましい特性を損なう
ことなく、優れたヒートシール性を発現し、かつ高速製
袋に必要なスリップ性及びアンチブロッキング性を兼ね
備えたフィルムを得ることができ、また製膜速度を高速
化してもフィルム品質の低下が極めて小さく、さらに
は、成形性やフィルム特性が改良されたプロピレン系ラ
ンダム共重合体組成物及びそれからなるフィルムを提供
することを目的とするものである。
ーナッタ触媒に関し、重合活性の経時的な低下が小さ
く、高活性、高立体規則性を発現するオレフィン重合体
製造用触媒成分、オレフィン重合体製造用触媒及びオレ
フィン重合体の製造方法を見出した(特願平10−71
752号)。そこで本発明者らは、前記の触媒成分を用
いて製造して得たプロピレン系重合体のフィルム物性を
鋭意検討した結果、このうちのプロピレン系ランダム共
重合体に核剤を配合した組成物が上記の発明目的を非常
に高いレベルで満足することを見出し、本発明を完成さ
せるに到った。
ンダム共重合体組成物及びそれからなるフィルムを提供
するものである。 1.(i)プロピレンと、エチレン及び/又は1−ブテ
ンとのランダム共重合体に、(ii)核剤を配合してな
るプロピレン系ランダム共重合体組成物であって、示差
走査型熱量計(DSC)で測定した、結晶化曲線におけ
る最高温度側のピークトップ温度Tc(℃)と融解曲線
における最低温度側のピークトップ温度Tm(℃)と
が、下記式(1) Tc≧0.75×Tm−5 ・・・(1) を満たし、かつ昇温分別クロマトグラフの0℃以下の範
囲において溶出する量W0(重量%)が6重量%以下で
あることを特徴とするプロピレン系ランダム共重合体組
成物。 2.(i)プロピレン、エチレン及び1−ブテンのラン
ダム共重合体であって、下記の〜の条件を満たすプ
ロピレン系ランダム共重合体に、(ii)核剤を配合し
てなるプロピレン系ランダム共重合体組成物。13 C−NMRにより測定した共重合体中のエチレン単
位の含有量α(モル%)と13C−NMRにより測定した
共重合体中の1−ブテン単位の含有量β(モル%)との
和(α+β)が0.1〜15モル%であり、 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をTpt
(℃)としたとき、(Tpt−5)℃〜(Tpt+5)
℃の温度範囲において溶出する量Wpt(重量%)が2
0重量%以上であり、 昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温度範囲におい
て溶出する量W0t(重量%)と前記(α+β)が下記
式(2)〜(4)の関係を満たす。 0.1≦(α+β)<2のとき、W0t≦1 ・・・(2) 2≦(α+β)<12のとき、W0t≦(α+β)/2 ・・・(3) 12≦(α+β)≦15のとき、W0t≦6 ・・・(4) 3.(i)プロピレンとエチレンとのランダム共重合体
であって、下記の〜の条件を満たすプロピレン系ラ
ンダム共重合体に、(ii)核剤を配合してなるプロピ
レン系ランダム共重合体組成物。13 C−NMRにより測定した共重合体中のエチレン単
位の含有量γ(重量%)が0.2〜10重量%であり、 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をTpr
(℃)としたとき、(Tpr−5)℃〜(Tpr+5)
℃の温度範囲において溶出する量Wpr(重量%)が2
0重量%以上であり、 昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温度範囲におい
て溶出する量W0r(重量%)とγが下記式(5)の関
係を満たす。 W0r≦(3+2γ)/4 ・・・(5)
100重量部に対して0.001〜5重量部である上記
1〜3のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合
体組成物。 5.(i)成分において、メルトインデックスMI(g
/10min)が0.1〜200g/10minである
上記1〜4のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共
重合体組成物。 6.(i)成分において、13C−NMRにより測定した
共重合体中の立体規則性指標P(モル%)が98モル%
以上である上記1〜5のいずれかに記載のプロピレン系
ランダム共重合体組成物。 7.上記1〜6のいずれかに記載のプロピレン系ランダ
ム共重合体組成物からなるフィルム。 8.上記1〜6のいずかに記載のプロピレン系ランダム
共重合体組成物を少なくともその一層成分とする多層フ
ィルム。
明する。本願第一発明のプロピレン系ランダム共重合体
組成物は、(i)プロピレンと、エチレン及び/又は1
−ブテンとのランダム共重合体に、(ii)核剤を配合
してなるプロピレン系ランダム共重合体組成物であっ
て、示差走査型熱量計(DSC)で測定した、結晶化曲
線における最高温度側のピークトップ温度Tc(℃)と
融解曲線における最低温度側のピークトップ温度Tm
(℃)とが、下記式(1) Tc≧0.75×Tm−5 ・・・(1) を満たし、かつ昇温分別クロマトグラフの0℃以下の範
囲において溶出する量W0(重量%)が6重量%以下で
あることが必須である。
ン系ランダム共重合体は、プロピレンとエチレンとの共
重合体、プロピレンと1−ブテンとの共重合体、プロピ
レンと、エチレン及び1−ブテンとの共重合体から選ば
れるものであり、一種でもよいし、二種以上を混合して
使用してもよい。プロピレン単独重合体では低温ヒート
シール性が不満足なものになるからである。なお、
(i)成分のプロピレン系ランダム共重合体の製造方法
については後述する。
成物は、この(i)成分に、(ii)成分の核剤を配合
したものであるが、核剤についても後述する。また、本
発明のプロピレン系ランダム共重合体組成物は、上記式
(1)を満足する必要がある。式(1)を満足しない
と、成形性やフィルム物性の改良効果が小さいものにな
る。下記式(6)を満たすとより好ましく、下記式
(7)を満たすと更に好ましい。 Tc≧0.75×Tm ・・・(6) Tc≧0.75×Tm+5 ・・・(7) さらに、本発明のプロピレン系ランダム共重合体組成物
は、昇温分別クロマトグラフの0℃以下の範囲において
溶出する量W0(重量%)が6重量%以下である必要が
ある。W0が6重量%を超えると、フィルム、繊維、シ
ート、成形体等がべとついたものとなる。また、添加
剤、低分子量成分のブリードによる外観トラブルが起こ
り好ましくない。より好ましくは5重量%以下、更に好
ましくは4重量%以下である。
ン、エチレン及び1−ブテンのランダム共重合体であっ
て、下記の〜の条件を満たすプロピレン系ランダム
共重合体に、(ii)核剤を配合してなるプロピレン系
ランダム共重合体組成物である。この第二発明は、前記
の第一発明をより具体化したものとしての意義を有する
る。13 C−NMRにより測定した共重合体中のエチレン単
位の含有量α(モル%)と13C−NMRにより測定した
共重合体中の1−ブテン単位の含有量β(モル%)の和
(α+β)が0.1〜15モル%であり、 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をTpt
(℃)としたとき、(Tpt−5)℃〜(Tpt+5)
℃の温度範囲において溶出する量Wpt(重量%)が2
0重量%以上であり、 昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温度範囲におい
て溶出する量W0t(重量%)と(α+β)が下記の式
(2)〜(4)の関係を満たす。 0.1≦(α+β)<2のとき、W0t≦1 ・・・(2) 2≦(α+β)<12のとき、W0t≦(α+β)/2 ・・・(3) 12≦(α+β)≦15のとき、W0t≦6 ・・・(4) 以下、上記、及びについて詳細に説明する。13 C−NMRにより測定した共重合体中のエチレン単
位の含有量α(モル%)と13C−NMRにより測定した
共重合体中の1−ブテン単位の含有量β(モル%)の和
(α+β)が0.1〜15モル%である。好ましくは、
4〜14モル%である。さらに好ましくは、6〜13モ
ル%である。
(8)の関係を満たす場合である。 −5≦(α−β)≦5 ・・・(8) より好ましくは0.5≦(α/β)≦2を満たす場合で
あり、更に好ましいのはα≧6、かつ1≦(α/β)≦
2の関係を満たす場合である。(α+β)が0.1モル
%未満ではヒートシール性の改良効果が望めなく、また
15モル%を超えるとフィルムの剛性が満足できないも
のになる。また、上記(8)式の関係を満たさない場
合、すなわち、(α−β)<−5であると気相重合にお
いてリアクター内で1−ブテンが液化し、塊が発生し易
くなることがある。また、(α−β)>5だと1−ブテ
ン単位によるべとつき成分のブリード抑制効果が小さく
なり、特にアンチブロッキング性の経時的な低下が起こ
り易くなることがある。 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をTpt
(℃)としたとき、(Tpt−5)℃〜(Tpt+5)
℃の温度範囲において溶出する量Wpt(重量%)が2
0重量%以上である。好ましくは下記式(9)の関係を
満たす。 90−7(α+β)≦Wpt ・・・(9) より好ましくは、Wptが30重量%以上であり、かつ
下記式(10)の関係を満たす。 100−7(α+β)≦Wpt ・・・(10) Wpが20重量%未満の場合は、主溶出ピークの裾が高
温側及び/又は低温側に大きく伸びている場合であり、
低温側の成分はフィルムをべとついたものにするので好
ましくなく、高温側の成分はヒートシール性を不充分に
し、透明性の成形条件依存性を大きくするので好ましく
ない。
ランダム共重合体は主溶出ピークの高温側の成分が、チ
ルロールリリースなどの成形性や剛性に寄与しているた
め全く無いよりもある程度の量は存在していた方が好ま
しく、(Tpt+5)℃以上の温度範囲において溶出す
量WHt(重量%)と(α+β)が下記式(11)の関係を
満たしていることが好ましい。 0.1≦WHt≦(α+β) ・・・(11) より好ましくは、 0.1≦WHt≦(α+β)−3 ・・・(12) さらに好ましくは、 0.5≦WHt≦(α+β)−5 ・・・(13) の関係を満たす場合である。 昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温度範囲におい
て溶出する量W0t(重量%)と(α+β)が下記の式
(2)〜(4)の関係を満たす。 0.1≦(α+β)<2のとき、W0t≦1 ・・・(2) 2≦(α+β)<12のとき、W0t≦(α+β)/2 ・・・(3) 12≦(α+β)≦15の場合、W0t≦6 ・・・(4) 好ましくは、下記の(14)〜(16)の関係を満たす。
たす。 0.1≦(α+β)<4のとき、W0t≦0.5 ・・・(17) 4≦(α+β)≦15のとき、W0t≦(α+β−3)/2 ・・・(18) W0と(α+β)が上記(2)〜(4)の関係を満たさ
ない場合、フィルムがべとついたものなり、添加剤、低
分子量成分などのブリードによるトラブルが起こり易く
なり好ましくない。
ンダム共重合体中の沸騰ジエチルエーテル抽出成分量
(Et(重量%))と(α+β)が下記式(19)及び
(20)の関係を満たすことが好ましい。 0.1≦(α+β)<12のとき、Et≦0.2(α+β)+0.6 ・・・(19) 12≦(α+β)≦15のとき、Et≦3 ・・・(20) さらに好ましくは、下記式(21)及び(21)の関係を満
たす。 0.1≦(α+β)<10のとき、Et≦0.2(α+β)+0.3 ・・・(21) 10≦(α+β)≦15のとき、Et≦2.3 ・・・(22) より好ましくは、下記式(23) 及び(24)の関係を満た
す。 0.1≦(α+β)<10のとき、Et≦0.2(α+β) ・・(23) 10≦(α+β)≦15のとき、Et≦2 ・・・(24) Etと(α+β)が上記の関係を満たすとフィルムがべ
とついたものにならず好ましい。なお、(i)成分のプ
ロピレン系ランダム共重合体の製造方法については後述
する。本発明のプロピレン系ランダム共重合体組成物
は、この(i)成分に、(ii)成分の核剤を配合した
ものであるが、核剤についても後述する。
ンとエチレンとのランダム共重合体であって、下記の
〜の条件を満たすプロピレン系ランダム共重合体に、
(ii)核剤を配合してなるプロピレン系ランダム共重
合体組成物である。この第三発明は、前記の第一発明を
より具体化したものとしての意義を有するる。13 C−NMRにより測定した共重合体中のエチレン単
位の含有量γ(重量%)が0.2〜10重量%である。
好ましくは0.5〜9重量%、より好ましくは1〜8重
量%、最も好ましくは3〜7重量%である。
ートシール性の改良効果が望めない。またエチレン単位
の含有量が多すぎると、フィルムの剛性が満足できない
ものになり好ましくない。また、本発明の(i)成分の
プロピレン系ランダム共重合体は、示差走査型熱量計
(DSC)により測定した共重合体の融点Tmr(℃)
とγが下記式(25)の関係を満たしていることが好まし
く、 Tmr≦160―5γ ・・・(25) より好ましくは、 Tmr≦160―6γ ・・・(26) を満たしている場合である。
シール性が不充分になり易く、またアンチブロッキング
性の低いものになる場合がある。昇温分別クロマトグ
ラフの主溶出ピーク温度をTpr(℃)としたとき、
(Tpr−5)℃〜(Tpr+5)℃の温度範囲におい
て溶出する量Wpr(重量%)が20重量%以上であ
る。好ましくは、 20≦Wpr、かつ(80−15γ)≦Wpr ・・・(27) であり、より好ましくは、 30≦Wpr、かつ(90−12γ)≦Wpr ・・・(28) である。
ピークの裾が高温側及び/又は低温側に大きく伸びてい
る場合であり、低温側の成分は製膜したフィルムをべと
ついたものにするので好ましくなく、高温側の成分はヒ
ートシール性を不充分にし、透明性の成形条件依存性を
大きくするので好ましくない。また、本発明の(i)成
分のプロピレン系ランダム共重合体は、主溶出ピークの
高温側の成分が、チルロールリリースなどの成形性や剛
性に寄与しているため全く無いよりもある程度の量が存
在していた方が好ましく、本発明のプロピレン系ランダ
ム共重合体は(Tpr+5)℃以上の温度範囲において
溶出する量(WHr(重量%))とγが下記式(29)の関
係を満たしていることが好ましい。 0.1≦WHr≦3γ ・・・(29) さらに好ましくは、 WHr≦(3γ−3)、かつ(3γ−15)≦WHr ・・・(30) を満たしている場合である。 昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温度範囲におい
て溶出する量W0r(重量%)とγが下記式(5)の関
係を満たす。 W0r≦(3+2γ)/4 ・・・(5) 好ましくは、 W0r≦(2+2γ)/4 ・・・(31) を満たす。
製膜したフィルムがべとついたものなり、添加剤、低分
子量成分などのブリードによるトラブルが起こり易くな
り好ましくない。また、本発明の(i)成分のプロピレ
ン系ランダム共重合体は、共重合体中の沸騰ジエチルエ
ーテル抽出成分量Er(重量%) が2.5重量%以下で
あり、かつErとγが下記式(32)の関係を満たしてい
ることが好ましい。 Er≦(2γ+15)/10 ・・・(32) さらに好ましくは、 Er≦(γ+5)/5 ・・・(33) を満たしている場合である。
ものにならずに好ましい。さらに、本願第一〜第三発明
の(i)成分のプロピレン系ランダム共重合体は、メル
トインデックスMI(g/10min)が0.1〜20
0g/10minであることが好ましい。より好ましく
は1〜40g/10minであり、さらに好ましくは2
〜20g/10minである。MIがこの範囲から外れ
ると成形性が劣ることがある。
プロピレン系ランダム共重合体は、 13C−NMRにより
測定した共重合体中の立体規則性指標P(モル%)が9
8モル%以上であることが好ましい。より好ましくは9
8.5モル%以上である。立体規則性が98モル%未満
であるとフィルムの剛性やアンチブロッキング性が不十
分なものになる場合がある。
のプロピレン系ランダム共重合体は、ゲルパーミエーシ
ョンクロマトグラフ法(GPC)により測定される重量
平均分子量Mwと数平均分子量Mnの比(Mw/Mn)
が2〜6であることが好ましい。この場合、フィルムの
透明性及び成形性も優れたものとなり好ましい。さらに
好ましくは、2.5〜5である。
のプロピレン系ランダム共重合体の製造法について説明
する。本発明の(i)成分のプロピレン系ランダム共重
合体は(A)マグネシウム化合物とチタン化合物とを電
子供与性化合物および必要に応じてケイ素化合物の存在
下、120℃以上150℃以下の温度にて接触させた
後、100℃以上150℃以下の温度にて不活性溶媒に
より洗浄したものからなる固体触媒成分、(B)有機ア
ルミニウム化合物および必要に応じて(C)第3成分と
して電子供与性化合物からなる触媒を用いてプロピレン
とエチレンを共重合することにより製造することができ
る。
等について説明する。各触媒成分 (A) 固体触媒成分 固体触媒成分は、マグネシウム、チタンおよび電子供与
体を含有するものであり、以下の(a)マグネシウム化
合物、(b)チタン化合物、(c)電子供性化合物およ
び必要に応じてケイ素化合物(d)からなる固体触媒成
分から形成されるものである。
式(I) MgR1 R2 ・・・(I) で表されるマグネシウム化合物を好ましく用いることが
できる。上記の一般式(I)において、R1 およびR2
は、炭化水素基、OR3 基(R 3 は炭化水素基)または
ハロゲン原子を示す。ここで、R1 およびR2 の炭化水
素基としては、炭素数1〜12個のアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アラルキル基等を、OR3 基
としては、R3 が炭素数1〜12個のアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基、アラルキル基等を、ハロゲ
ン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素等を挙げ
ることができる。また、R1 およびR2 は、同一でも異
なってもよい。
ム化合物の具体例としては、ジメチルマグネシウム,ジ
エチルマグネシウム,ジイソプロピルマグネシウム,ジ
ブチルマグネシウム,ジヘキシルマグネシウム,ジオク
チルマグネシウム,エチルブチルマグネシウム,ジフェ
ニルマグネシウム,ジシクロヘキシルマグネシウム等の
アルキルマグネシウム,アリールマグネシウム;ジメト
キシマグネシウム,ジエトキシマグネシウム,ジプロポ
キシマグネシウム,ジブトキシマグネシウム,ジヘキシ
ロキシマグネシウム,ジオクトキシマグネシウム,ジフ
ェノキシマグネシウム,ジシクロヘキシロキシマグネシ
ウム等のアルコキシマグネシウム,アリロキシマグネシ
ウム;エチルマグネシウムクロリド,ブチルマグネシウ
ムクロリド,ヘキシルマグネシウムクロリド,イソプロ
ピルマグネシウムクロリド,イソブチルマグネシウムク
ロリド,t−ブチルマグネシウムクロリド,フェニルマ
グネシウムブロミド,ベンジルマグネシウムクロリド,
エチルマグネシウムブロミド,ブチルマグネシウムブロ
ミド,フェニルマグネシウムクロリド,ブチルマグネシ
ウムイオダイド等のアルキルマグネシウムハライド,ア
リールマグネシウムハライド;ブトキシマグネシウムク
ロリド,シクロヘキシロキシマグネシウムクロリド,フ
ェノキシマグネシウムクロリド,エトキシマグネシウム
ブロミド,ブトキシマグネシウムブロミド,エトキシマ
グネシウムイオダイド等のアルコキシマグネシウムハラ
イド,アリロキシマグネシウムハライド;塩化マグネシ
ウム,臭化マグネシウム,ヨウ化マグネシウム等のハロ
ゲン化マグネシウム等を挙げることができる。
合活性および立体規則性の面から、マグネシウムハライ
ド、アルコキシマグネシウム、アルキルマグネシウム、
アルキルマグネシウムハライドが好適に使用できる。上
記のマグネシウム化合物は、金属マグネシウム、または
マグネシウムを含有する化合物から調製することができ
る。
ン及びアルコールを接触させる方法を挙げることができ
る。ここで、ハロゲンとしては、ヨウ素,塩素,フッ素
を挙げることができる。アルコールとしては、メタノー
ル,エタノール,プロパノール,ブタノール,シクロヘ
キサノール,オクタノール等を挙げることができる。
で表されるマグネシウムアルコキシ化合物(式中、R4
は、炭素数1〜20の炭化水素基を示す。)にハロゲン
化物を接触する方法を挙げることができる。そのハロゲ
ン化物としては、四塩化ケイ素,四臭化ケイ素,四塩化
スズ,四臭化スズ,塩化水素等が挙げることができる。
これらの中では、重合活性及び立体規則性の面から、四
塩化ケイ素が好ましい。上記のR4 としては、メチル
基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−
ブチル基,イソブチル基,ヘキシル基,オクチル基,シ
クロヘキシル基等のアルキル基;プロペニル基,ブテニ
ル基等のアルケニル基;フェニル基,トリル基,キシリ
ル基等のアリール基;フェネチル基,3−フェニルプロ
ピル基等のアラルキル基などを挙げることができる。
アルミナ,ポリスチレンなどの支持体に担持されていて
もよい。以上のマグネシウム化合物は単独でもよいし、
二種以上組み合わせて用いてもよい。また、ヨウ素など
のハロゲン、珪素、アルミニウムなどの他の元素を含有
していてもよく、アルコール、エーテル、エステル類な
どの電子供与体を含有してもよい。
I) TiX1 p (OR5 )4-p ・・・(II) で表されるチタン化合物を好ましく用いることができ
る。上記の一般式(II)において、X1 はハロゲン原子
を示し、その中でも塩素原子および臭素原子が好まし
く、塩素原子が特に好ましい。R5 は炭化水素基であっ
て、飽和基や不飽和基であってもよく、直鎖や分枝鎖を
有するもの、あるいは環状のものであってもよく、さら
にはイオウ、窒素、酸素、ケイ素、リンなどのヘテロ原
子を含むものであってもよい。好ましくは炭素数1〜1
0個の炭化水素基、特にアルキル基、アルケニル基、シ
クロアルケニル基、アリール基およびアラルキル基など
が好ましく、直鎖または分岐鎖のアルキル基が特に好ま
しい。OR5 が複数存在する場合にはそれらは互いに同
じでも異なってもよい。R5 の具体例としては、メチル
基,エチル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−
ブチル基,sec−ブチル基,イソブチル基,n−ペン
チル基,n−ヘキシル基,n−ヘプチル基,n−オクチ
ル基,n−デシル基,アリル基,ブテニル基,シクロペ
ンチル基,シクロヘキシル基,シクロヘキセニル基,フ
ェニル基,トリル基,ベンジル基,フェネチル基などを
挙げることができる。pは0〜4の整数を示す。
物の具体例としては、テトラメトキシチタン,テトラエ
トキシチタン,テトラ−n−プロポキシチタン,テトラ
イソプロポキシチタン,テトラ−n−ブトキシチタン,
テトライソブトキシチタン,テトラシクロヘキシロキシ
チタン,テトラフェノキシチタン等のテトラアルコキシ
チタン;四塩化チタン,四臭化チタン,四ヨウ化チタン
等のテトラハロゲン化チタン;メトキシチタントリクロ
リド,エトキシチタントリクロリド,プロポキシチタン
トリクロリド,n−ブトキシチタントリクロリド,エト
キシチタントリブロミド等のトリハロゲン化アルコキシ
チタン;ジメトキシチタンジクロリド,ジエトキシチタ
ンジクロリド,ジイソプロポキシチタンジクロリド,ジ
−n−プロポキシチタンジクロリド,ジエトキシチタン
ジブロミド等のジハロゲン化ジアルコキシチタン;トリ
メトキシチタンクロリド,トリエトキシチタンクロリ
ド,トリイソプロポキシチタンクロリド,トリ−n−プ
ロポキシチタンクロリド,トリ−n−ブトキシチタンク
ロリド等のモノハロゲン化トリアルコキシチタンなどを
挙げることができる。これらの中で、重合活性の面か
ら、高ハロゲン含有チタン化合物、特に四塩化チタンが
好ましい。これらのチタン化合物は、それぞれ単独で用
いてもよく、また二種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
類、ケトン類、アルデヒド類、有機酸もしくは無機酸の
エステル類、モノエーテル、ジエーテルもしくはポリエ
ーテル等のエーテル類等の含酸素電子供与体や、アンモ
ニア、アミン、ニトリル、イソシアネート等の含窒素電
子供与性化合物を挙げることができる。これらの中で
は、多価カルボン酸のエステル類が好ましく、さらに好
ましくは、芳香族多価カルボン酸のエステル類である。
重合活性の面から、特に芳香族ジカルボン酸のモノエス
テルおよび/またはジエステルが好ましい。また、エス
テル部の有機基が直鎖、分岐または環状の脂肪族炭化水
素が好ましい。
2−ジカルボン酸、ナフタレン−2,3−ジカルボン
酸、5,6,7,8−テトラヒドロナフタレン−1,2
−ジカルボン酸、5,6,7,8−テトラヒドロナフタ
レン−2,3−ジカルボン酸、インダン−4,5−ジカ
ルボン酸、インダン−5,6−ジカルボン酸等のジカル
ボン酸のメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、n−ペンチ
ル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチル
ブチル、1,1−ジメチルプロピル、1−メチルペンチ
ル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、4−メ
チルペンチル、1−エチルブチル、2−エチルブチル、
n−ヘキシル、シクロヘキシル、n−ヘプチル、n−オ
クチル、n−ノニル、2−メチルヘキシル、3−メチル
ヘキシル、4−メチルヘキシル、2−エチルヘキシル、
3−エチルヘキシル、4−エチルヘキシル、2−メチル
ペンチル、3−メチルペンチル、2−エチルペンチル、
3−エチルペンチル等のジアルキルエステルが挙げられ
る。これらの中では、フタル酸ジエステル類が好まし
く、また、エステル部の有機基の炭素数が4個以上の直
鎖または分岐の脂肪族炭化水素が好ましい。この具体例
としては、フタル酸ジ−n−ブチル,フタル酸ジイソブ
チル,フタル酸ジ−n−ヘプチル,フタル酸ジエチルな
どを好ましく挙げることができる。また、これらの化合
物はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上を組み合
わせて用いてもよい。
(c)成分に加えて、場合により(d)成分として、下
記の一般式(III) Si(OR6 )q X2 4-q ・・・(III) (R6 は炭化水素基、X2 はハロゲン原子、qは0〜3
の整数を示す。)で表されるケイ素化合物を用いること
ができる。ケイ素化合物を用いることにより、触媒活性
および立体規則性の向上ならびに生成ポリマー中の微粉
量の低減が図れることがある。
ゲン原子を示し、これらの中で塩素原子および臭素原子
が好ましく、塩素原子が特に好ましい。R6 は炭化水素
基であって、飽和基や不飽和基であってもよく、直鎖や
分枝鎖を有するもの、あるいは環状のものであってもよ
く、さらにはイオウ、窒素、酸素、ケイ素、リンなどの
ヘテロ原子を含むものであってもよい。好ましくは炭素
数1〜10個の炭化水素基、特にアルキル基、アルケニ
ル基、シクロアルケニル基、アリール基およびアラルキ
ル基などが好ましい。OR6 が複数存在する場合にはそ
れらは互いに同じでも異なってもよい。R6 の具体例と
しては、メチル基,エチル基,n−プロピル基,イソプ
ロピル基,n−ブチル基,sec−ブチル基,イソブチ
ル基,n−ペンチル基,n−ヘキシル基,n−ヘプチル
基,n−オクチル基,n−デシル基,アリル基,ブテニ
ル基,シクロペンチル基,シクロヘキシル基,シクロヘ
キセニル基,フェニル基,トリル基,ベンジル基,フェ
ネチル基などが挙げることができる。qは0〜3の整数
を示す。
物の具体例としては、四塩化ケイ素,メトキシトリクロ
ロシラン,ジメトキシジクロロシラン,トリメトキシク
ロロシラン,エトキシトリクロロシラン,ジエトキシジ
クロロシラン,トリエトキシクロロシラン,プロポキシ
トリクロロシラン,ジプロポキシジクロロシラン,トリ
プロポキシクロロシランなどを挙げることができる。こ
れらの中で特に四塩化ケイ素が好ましい。これらのケイ
素化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、また二種以
上を組み合わせて用いてもよい。
(B)有機アルミニウム化合物としては、特に制限はな
いが、アルキル基、ハロゲン原子、水素原子、アルコキ
シ基を有するもの、アルミノキサンおよびそれらの混合
物を好ましく用いることができる。具体的には、トリメ
チルアルミニウム,トリエチルアルミニウム,トリイソ
プロピルアルミニウム,トリイソブチルアルミニウム,
トリオクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウ
ム;ジエチルアルミニウムモノクロリド,ジイソプロピ
ルアルミニウムモノクロリド,ジイソブチルアルミニウ
ムモノクロリド,ジオクチルアルミニウムモノクロリド
等のジアルキルアルミニウムモノクロリド;エチルアル
ミニウムセスキクロリド等のアルキルアルミニウムセス
キハライド;メチルアルミノキサン等の鎖状アルミノキ
サン等を挙げることができる。これらの有機アルミニウ
ム化合物の中では、炭素数1〜5個の低級アルキル基を
有するトリアルキルアルミニウム、特にトリメチルアル
ミニウム,トリエチルアルミニウム,トリプロピルアル
ミニウムおよびトリイソブチルアルミニウムが好まし
い。また、これらの有機アルミニウム化合物はそれぞれ
単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いて
もよい。
(C)電子供与性化合物が用いられる。この(C)電子
供与性化合物としては、Si−O−C結合を有する有機
ケイ素化合物、窒素含有化合物、リン含有化合物、酸素
含有化合物を用いることができる。このうち、重合活性
および立体規則性の面から、Si−O−C結合を有する
有機ケイ素化合物、エーテル類およびエステル類を用い
ることが好ましく、特にSi−O−C結合を有する有機
ケイ素化合物を用いることが好ましい。
化合物の具体例としては、テトラメトキシシラン,テト
ラエトキシシラン,テトラブトキシシラン,テトライソ
ブトキシシラン,トリメチルメトキシシラン,トリメチ
ルエトキシシラン,トリエチルメトキシシラン,トリエ
チルエトキシシラン,エチルイソプロピルジメトキシシ
ラン,プロピルイソプロピルジメトキシシラン,ジイソ
プロピルジメトキシシラン,ジイソブチルジメトキシシ
ラン,イソプロピルイソブチルジメトキシシラン,ジ−
t−ブチルジメトキシシラン,t−ブチルメチルジメト
キシシラン,t−ブチルエチルジメトキシシラン,t−
ブチルプロピルジメトキシシラン,t−ブチルイソプロ
ピルジメトキシシラン,t−ブチルブチルジメトキシシ
ラン,t−ブチルイソブチルジメトキシシラン,t−ブ
チル(s−ブチル)ジメトキシシラン,t−ブチルアミ
ルジメトキシシラン,t−ブチルヘキシルジメトキシシ
ラン,t−ブチルヘプチルジメトキシシラン,t−ブチ
ルオクチルジメトキシシラン,t−ブチルノニルジメト
キシシラン,t−ブチルデシルジメトキシシラン,t−
ブチル(3,3,3−トリフルオロメチルプロピル)ジ
メトキシシラン,シクロヘキシルメチルジメトキシシラ
ン,シクロヘキシルエチルジメトキシシラン,シクロヘ
キシルプロピルジメトキシシラン,シクロペンチル−t
−ブチルジメトキシシラン,シクロヘキシル−t−ブチ
ルジメトキシシラン,ジシクロペンチルジメトキシシラ
ン,ジシクロヘキシルジメトキシシラン,ビス(2−メ
チルシクロペンチル)ジメトキシシラン,ビス(2,3
−ジメチルシクロペンチル)ジメトキシシラン,ジフェ
ニルジメトキシシラン,フェニルトリエトキシシラン,
メチルトリメトキシシラン,エチルトリメトキシシラ
ン,プロピルトリメトキシシラン,イソプロピルトリメ
トキシシラン,ブチルトリメトキシシラン,イソブチル
トリメトキシシラン,t−ブチルトリメトキシシラン,
s−ブチルトリメトキシシラン,アミルトリメトキシシ
ラン,イソアミルトリメトキシシラン,シクロペンチル
トリメトキシシラン,シクロヘキシルトリメトキシシラ
ン,ノルボルナントリメトキシシラン,インデニルトリ
メトキシシラン,2−メチルシクロペンチルトリメトキ
シシラン,シクロペンチル(t−ブトキシ)ジメトキシ
シラン,イソプロピル(t−ブトキシ)ジメトキシシラ
ン,t−ブチル(イソブトキシ)ジメトキシシラン,t
−ブチル(t−ブトキシ)ジメトキシシラン,テキシル
トリメトキシシラン,テキシルイソプロポキシジメトキ
シシラン,テキシル(t−ブトキシ)ジメトキシシラ
ン,テキシルメチルジメトキシシラン,テキシルエチル
ジメトキシシラン,テキシルイソプロピルジメトキシシ
ラン,テキシルシクロペンチルジメトキシシラン,テキ
シルミリスチルジメトキシシラン,テキシルシクロヘキ
シルジメトキシシランなどを挙げることができる。ま
た、有機ケイ素化合物として下記の一般式(IV)
水素基を示し、それらは互いに同一でも異なってもよ
く、隣接する基と互いに結合して環を形成していてもよ
い。R10及びR11は炭化水素基を示し、それらは互いに
同一でも異なってもよく、隣接する基と互いに結合して
環を形成していてもよい。R12及びR13は炭素数が1〜
20のアルキル基を示し、それらは互いに同一でも異な
ってもよい。mは2以上の整数であり、nは2以上の整
数である。)で表されるものを用いることができる。
は、R7 〜R9 としては、水素原子,メチル基,エチル
基,n−プロピル基等の直鎖状炭化水素基、イソプロピ
ル基,イソブチル基,t−ブチル基,テキシル基等の分
岐状炭化水素基、シクロブチル基,シクロペンチル基,
シクロヘキシル基等の飽和環状炭化水素基、フェニル
基,ペンタメチルフェニル基等の不飽和環状炭化水素基
が挙げられる。これらのうち、好ましくは水素、炭素数
1〜6の直鎖状炭化水素基であり、特に好ましくは水
素、メチル基、エチル基である。
ル基,n−プロピル基等の直鎖状炭化水素基、イソプロ
ピル基,イソブチル基,t−ブチル基,テキシル基等の
分岐状炭化水素基、シクロブチル基,シクロペンチル
基,シクロヘキシル基等の飽和環状炭化水素基、フェニ
ル基,ペンタメチルフェニル基等の不飽和環状炭化水素
基が挙げられる。また、これらは同じでも良く、異なっ
ていても良い。これらのうち、好ましくは炭素数1〜6
の直鎖状炭化水素基であり、特に好ましくはメチル基、
エチル基である。
ル基,n−プロピル基,イソプロピル基,n−ブチル
基,イソブチル基,sec−ブチル基,t−ブチル基,
n−ペンチル基,n−ヘキシル基,n−オクチル基等の
直鎖状もしくは分岐状のアルキル基が挙げられる。ま
た、これらは同じでも良く、異なっていても良い。これ
らのうち、好ましくは炭素数1〜6の直鎖状炭化水素基
であり、特に好ましくはメチル基である。
物の好ましい化合物としては具体的に、ネオペンチルn
−プロピルジメトキシシラン,ネオペンチルn−ブチル
ジメトキシシラン,ネオペンチルn−ペンチルジメトキ
シシラン,ネオペンチルn−ヘキシルジメトキシシラ
ン,ネオペンチルn−ヘプチルジメトキシシラン,イソ
ブチルn−プロピルジメトキシシラン,イソブチルn−
ブチルジメトキシシラン,イソブチルn−ペンチルジメ
トキシシラン,イソブチルn−ヘキシルジメトキシシラ
ン,イソブチルn−ヘプチルジメトキシシラン,2−シ
クロヘキシルプロピルn−プロピルジメトキシシラン,
2−シクロヘキシルブチルn−プロピルジメトキシシラ
ン,2−シクロヘキシルペンチルn−プロピルジメトキ
シシラン,2−シクロヘキシルヘキシルn−プロピルジ
メトキシシラン,2−シクロヘキシルヘプチルn−プロ
ピルジメトキシシラン,2−シクロペンチルプロピルn
−プロピルジメトキシシラン,2−シクロペンチルブチ
ルn−プロピルジメトキシシラン,2−シクロペンチル
ペンチルn−プロピルジメトキシシラン,2−シクロペ
ンチルヘキシルn−プロピルジメトキシシラン,2−シ
クロペンチルヘプチルn−プロピルジメトキシシラン,
イソペンチルn−プロピルジメトキシシラン,イソペン
チルn−ブチルジメトキシシラン,イソペンチルn−ペ
ンチルジメトキシシラン,イソペンチルn−ヘキシルジ
メトキシシラン,イソペンチルn−ヘプチルジメトキシ
シラン,イソペンチルイソブチルジメトキシシラン,イ
ソペンチルネオペンチルジメトキシシラン,ジイソペン
チルジメトキシシラン,ジイソヘプチルジメトキシシラ
ン,ジイソヘキシルジメトキシシランなどを挙げること
ができる。
オペンチルn−プロピルジメトキシシラン,ネオペンチ
ルn−ペンチルジメトキシシラン,イソペンチルネオペ
ンチルジメトキシシラン,ジイソペンチルジメトキシシ
ラン,ジイソヘプチルジメトキシシラン,ジイソヘキシ
ルジメトキシシランが挙げられ、さらに好ましい化合物
の具体例としては、ネオペンチルn−ペンチルジメトキ
シシラン,ジイソペンチルジメトキシシランを挙げるこ
とができる。前記の一般式(IV)で示されるケイ素化合
物は、任意の方法によって合成することができる。代表
的な合成経路は、下記のとおりである。
は市販されているか、または公知のアルキル化、ハロゲ
ン化等により得ることができる。化合物〔1〕に対し
て、公知のグリニャール反応により、一般式(IV)で表
される有機ケイ素化合物を得ることができる。上記有機
ケイ素化合物はそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以
上を組み合わせて用いてもよい。
−ジイソプロピルピペリジン,2,6−ジイソプロピル
−4−メチルピペリジン,N−メチル2,2,6,6−
テトラメチルピペリジンなどの2,6−置換ピペリジン
類;2,5−ジイソプロピルアゾリジン,N−メチル
2,2,5,5−テトラメチルアゾリジンなどの2,5
−置換アゾリジン類;N,N,N’,N’−テトラメチ
ルメチレンジアミン,N,N,N’,N’−テトラエチ
ルメチレンジアミンなどの置換メチレンジアミン類;
1,3−ジベンジルイミダゾリジン,1,3−ジベンジ
ル−2−フェニルイミダゾリジンなどの置換イミダゾリ
ジン類等を挙げることができる。
チルホスファイト、トリn−プロピルホスファイト、ト
リイソプロピルホスファイト、トリn−ブチルホスファ
イト、トリイソブチルホスファイト、ジエチルn−ブチ
ルホスファイト、ジエチルフェニルホスファイトなどの
亜リン酸エステル類等を挙げることができる。酸素含有
化合物の具体例としては、2,2,6,6−テトラメチ
ルテトラヒドロフラン,2,2,6,6−テトラエチル
テトラヒドロフランなどの2,6−置換テトラヒドロフ
ラン類;1,1−ジメトキシ−2,3,4,5−テトラ
クロロシクロペンタジエン,9,9−ジメトキシフルオ
レン,ジフェニルジメトキシメタンなどのジメトキシメ
タン誘導体等を挙げることができる。
(a)マグネシウム化合物、(b)チタン化合物、
(c)電子供与体、および必要に応じて(d)ケイ素化
合物を、温度を除き通常の方法で接触させればよく、接
触手順については特に問わない。例えば、各成分を炭化
水素などの不活性溶媒の存在下で接触させてもよいし、
予め炭化水素などの不活性溶媒で各成分を希釈して接触
させてもよい。この不活性溶媒としては、例えば、オク
タン、デカン、エチルシクロヘキサンなどの脂肪族炭化
水素、脂環式炭化水素またはこれらの混合物を挙げるこ
とができる。
ウム化合物のマグネシウム1モルに対して、通常、0.
5〜100モル、好ましくは、1〜50モル使用する。
このモル比が前記範囲を逸脱すると触媒活性が不十分と
なることがある。また、上記の電子供与体は、上記のマ
グネシウム化合物のマグネシウム1モルに対して、通
常、0.01〜10モル、好ましくは、0.05〜1.
0モル使用する。このモル比が前記範囲を逸脱すると触
媒活性や立体規則性が不十分となることがある。さら
に、ケイ素化合物を用いるときは、上記のマグネシウム
化合物のマグネシウム1モルに対して、通常、0.00
1〜100モル、好ましくは、0.005〜5.0モル
使用する。このモル比が前記範囲を逸脱すると触媒活性
や立体規則性の向上効果が十分に発揮されず、かつ生成
ポリマー中の微粉量が多くなることがある。
分を加えた後、120〜150℃、好ましくは125〜
140℃の温度範囲にて行う。この接触温度が前記範囲
外では、触媒活性や立体規則性の向上効果が十分に発揮
されない。また、接触は、通常、1分〜24時間、好ま
しくは、10分〜6時間行われる。このときの圧力は、
溶媒を使用する場合はその種類、接触温度などにより、
その範囲は変化するが、通常、0〜50kg/cm
2 G、好ましくは0〜10kg/cm2 Gの範囲にて行
う。また、接触操作中は、接触の均一性および接触効率
の面から攪拌を行うことが好ましい。
い、触媒担体としての役割をするマグネシウム化合物に
十分担持させることが好ましい。接触操作において溶媒
を使用するときは、チタン化合物1モルに対して、通
常、5,000ミリリットル以下、好ましくは、10〜
1,000ミリリットルの溶媒を使用する。この比が前
記範囲を逸脱すると接触の均一性や接触効率が悪化する
ことがある。
00〜150℃、好ましくは120〜140℃の温度に
て不活性溶媒で洗浄する。この洗浄温度が上記範囲外で
は、触媒活性や立体規則性の向上効果が十分に発揮され
ない。この不活性溶媒としては、例えば、オクタン、デ
カンなどの脂肪族炭化水素、メチルシクロヘキサン、エ
チルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素、テトラクロロエタン、
クロロフルオロ炭素類などのハロゲン化炭化水素または
これらの混合物を挙げることができる。これらのなかで
は、脂肪族炭化水素が好ましく使用される。
カンテーション、濾過などの方式が好ましい。不活性溶
媒の使用量、洗浄時間、洗浄回数についても特に制限は
ないが、マグネシウム化合物1モルに対して、通常、1
00〜100,000ミリリットル、好ましくは、10
00〜50,000ミリリットルの溶媒を使用し、通
常、1分〜24時間、好ましくは、10分〜6時間行わ
れる。この比が前記範囲を逸脱すると洗浄が不完全にな
ることがある。
などにより、その範囲は変化するが、通常、0〜50k
g/cm2 G、好ましくは、0〜10kg/cm2 Gの
範囲にて行う。また、洗浄操作中は、洗浄の均一性およ
び洗浄効率の面から攪拌を行うことが好ましい。なお、
得られた固体触媒成分は、乾燥状態または炭化水素など
の不活性溶媒中で保存することもできる。
重合体を製造する際の触媒成分の使用量については、特
に制限はないが、前記(A)成分の固体触媒成分は、チ
タン原子に換算して、反応容積1リットル当たり、通常
0.00005〜1ミリモルの範囲になるような量が用
いられ、(B)成分の有機アルミニウム化合物は、アル
ミニウム/チタン原子比が通常1〜1000、好ましく
は10〜500の範囲になるような量が用いられる。こ
の原子比が前記範囲を逸脱すると触媒活性が不十分とな
ることがある。また、(C)第3成分として有機ケイ素
化合物等の電子供与性化合物を用いるときは、(C)電
子供与性化合物/(B)有機アルミニウム化合物モル比
が、通常0.001〜5.0、好ましくは0.01〜
2.0、より好ましくは0.05〜1.0の範囲になる
ような量が用いられる。このモル比が前記範囲を逸脱す
ると十分な触媒活性および立体規則性が得られないこと
がある。ただし、予備重合を行う場合は、さらに低減す
ることができる。
系ランダム共重合体の重合においては、重合活性、立体
規則性および重合体パウダー形態の面から、所望に応
じ、先ずオレフィンの予備重合を行ったのち、本重合を
行ってもよい。この場合、前記(A)固体触媒成分、
(B)有機アルミニウム化合物および必要に応じて
(C)電子供与性化合物を、それぞれ所定の割合で混合
してなる触媒の存在下に、オレフィンを通常1〜100
℃の範囲の温度において、常圧ないし50kg/cm2
G程度の圧力で予備重合させ、次いで触媒と予備重合生
成物との存在下に、プロピレンとコモノマーであるエチ
レンを本重合させる。
は、一般式(V) R14−CH=CH2 ・・・(V) で表されるα−オレフィンが好ましい。上記の一般式
(V)において、R14は水素原子または炭化水素基であ
って、炭化水素基は飽和基や不飽和基であってもよい。
具体的にはエチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペ
ンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、
1−デセン、3−メチル−1−ペンテン、4−メチル−
1−ペンテン、ビニルシクロヘキサン、ブタジエン、イ
ソプレン、ピペリレン等を挙げることができる。これら
のオレフィンは1種用いてもよいし、2種以上組み合わ
せて用いてもよい。前記オレフィンの中で、特にエチレ
ン、プロピレンが好適である。
に制限はなく、溶液重合、スラリー重合、気相重合、バ
ルク重合等のいずれにも適用可能であり、さらに、回分
式重合や連続重合のどちらにも適用可能であり、異なる
条件での2段階重合や多段重合にも適用可能である。さ
らに、反応条件については、その重合圧は、特に制限は
なく、重合活性の面から、通常、大気圧〜80kg/c
m2 G、好ましくは2〜50kg/cm2 G、重合温度
は、通常、0〜200℃、好ましくは、20〜90℃、
さらに好ましくは、40〜90℃の範囲で適宜選ばれ
る。重合時間は原料のプロピレン/エチレン、プロピレ
ン/1−ブテン、プロピレン/エチレン/1−ブテンの
重合温度によって左右され一概に定めることができない
が、通常、5分〜20時間、好ましくは、10分〜10
時間程度である。原料の混合比は、重合温度、圧力など
により左右され一概に定めることができないが、通常、
エチレン0.1〜20モル%(残りプロピレン)、1−
ブテン0.1〜20モル%(残りプロピレン)、エチレ
ン0.1〜20モル%、1−ブテン0.1〜20モル%
(残りプロピレン)である。分子量は、連鎖移動剤の添
加、好ましくは水素の添加を行うことで調節することが
できる。また、窒素等の不活性ガスを存在させてもよ
い。
重合することもできる。また、本発明を構成する(i)
成分のプロピレン系ランダム共重合体を製造する重合に
おいては、前記触媒成分については、(A)成分と
(B)成分と(C)成分とを所定の割合で混合し、接触
させたのち、ただちにプロピレンとエチレンを導入して
重合をおこなってもよいし、接触後、0.2〜3時間程
度熟成させたのち、プロピレンとエチレンを導入して重
合を行ってもよい。さらに、この触媒成分は不活性溶媒
やプロピレンなどに懸濁して供給することができる。
系ランダム共重合体においては、重合後の後処理は常法
により行うことができる。すなわち、気相重合法におい
ては、重合後、重合器から導出されるポリマー粉体に、
その中に含まれるオレフィンなどを除くために、窒素気
流などを通過させてもよいし、また、所望に応じて押出
機によりペレット化してもよく、その際、触媒を完全に
失活させるために、少量の水、アルコールなどを添加す
ることもできる。また、バルク重合法においては、重合
後、重合器から導出されるポリマーから完全にモノマー
を分離したのち、ペレット化することができる。
系共重合体に配合される(ii)成分の核剤について説
明する。 (ii)成分 (ii)成分の核剤については、特に限定されないが、
有機リン酸系核剤、ソルビトール系核剤、芳香族カルボ
ン酸系核剤、高融点ポリマー系核剤、無機系核剤、ロジ
ン酸系核剤、アミド系核剤から好適に選択することがで
きる。その核剤について順に説明する。有機リン酸系核剤 有機リン酸系核剤としては、例えば、下記一般式(VI)
1〜10の炭化水素基であり、R16、R17は水素または
炭素数1〜10の炭化水素基であり、R16、R17は同種
であっても異種であってもよく、R16同士、R17同士ま
たはR16とR17が結合して環状となっていてもよく、M
は1〜3価の金属原子であり、rは1〜3の整数であ
る。)で表される化合物を挙げることができる。
的なものとしては、ナトリウム−2,2’−メチレン−
ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフェー
ト、ナトリウム−2,2’−エチリデン−ビス(4,6
−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフェ−卜、リチウム−
2,2’−メチレン−ビス−(4,6−ジ−t−ブチル
フェニル)ホスフェート、リチウム−2,2’−エチリ
デン−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフ
ェート、ナトリウム−2,2’−エチリデン−ビス(4
−i−プロピル−6−t−ブチルフェニル)ホスフェー
ト、リチウム−2,2’−メチレン−ビス(4−メチル
−6−t−ブチルフェニル)ホスフェート、リチウム−
2,2’−メチレン−ビス(4−エチル−6−t−ブチ
ルフェニル)ホスフェート、カルシウム−ビス[2,
2’−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェニ
ル)ホスフェート]、カルシウム−ビス[2,2’−チ
オビス(4−エチル−6−t−ブチルフェニル)ホスフ
ェート]、カルシウム−ビス[2,2’−チオビス−
(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフェート]、
マグネシウム−ビス[2,2’−チオビス(4,6−ジ
−t−ブチルフェニル)ホスフェート]、マグネシウム
−ビス[2,2’−チオビス−(4−t−オクチルフェ
ニル)ホスフェート]、ナトリウム−2,2’−ブチリ
デン−ビス(4,6−ジ−メチルフェニルホスフェー
ト、ナトリウム−2,2’−ブチリデン−ビス(4,6
−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフェート、ナトリウム
−2,2’−t−オクチルメチレン−ビス(4,6−ジ
−メチルフェニル)ホスフェート、ナトリウム−2,
2’−t−オクチルメチレン−ビス(4,6−ジ−t−
ブチルフェニル)ホスフエート、カルシウム−ビス−
(2,2’−メチレン−ビス(4,6−ジ−t−ブチル
フェニル)ホスフェート)、マグネシウム−ビス[2,
2’−メチレン−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニ
ル)ホスフェート]、バリウム−ビス[2,2’−メチ
レン−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフ
ェート]、ナトリウム−2,2’−メチレン−ビス(4
−メチル−6−t−ブチルフェニル)ホスフェート、ナ
トリウム−2,2’−メチレン−ビス(4−エチル−6
−t−ブチルフェニル)ホスフェート、ナトリウム
(4,4’−ジメチル−5,6’−ジ−t−ブチル−
2,2’−ビフェニル)ホスフェート、カルシウム−ビ
ス[(4,4’−ジメチル−6,6’−ジ−t−ブチル
−2,2’−ビフェニル)ホスフェート]、ナトリウム
−2,2’−エチリデン−ビス(4−m−ブチル−6−
t−ブチルフェニル)ホスフェート、ナトリウム−2,
2’−メチレン−ビス(4,6−ジ−メチルフェニル)
ホスフェート、ナトリウム−2,2’−メチレン−ビス
(4,6−ジ−エチルフェニル)ホスフェート、カリウ
ム−2,2’−エチリデン−ビス(4,6−ジ−t−ブ
チルフェニル)ホスフェート、カルシウム−ビス[2,
2’−エチリデン−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェ
ニル)ホスフェート]、マグネシウム−ビス[2,2’
−エチリデン−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニ
ル)ホスフェート]、バリウム−ビス[2,2’−エチ
リデン−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホス
フェート]、アルミニウム−トリス[2,2’−メチレ
ン−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフェ
ート]、アルミニウム−トリス[2,2’−エチリデン
−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフェー
ト]、ビス(2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−
6−ヒドロキシ−12H−ジベンゾ[d,g][1,
3,2]ジオキソホスホシン−6−オキサイド)水酸化
アンモニウム塩およびこれらの二種以上の混合物等を挙
げることができる。特にナトリウム−2,2’−メチレ
ン−ビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフェ
ート、ビス(2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−
6−ヒドロキシ−12H−ジベンゾ[d,g][1,
3,2]ジオキソホスホシン−6−オキサイド)水酸化
アンモニウム塩が好ましい。また有機リン酸系核剤とし
ては、下記一般式(VII)
の炭化水素基であり、Mは1〜3価の金属原子であり、
sは1〜3の整数である。)で表される化合物をも挙げ
ることができる。上記一般式(VII)で表される化合物の
具体的なものとしては、ナトリウム−ビス(4−t−ブ
チルフェニル)ホスフェート、ナトリウム−ビス(4−
メチルフェニル)ホスフェート、ナトリウム−ビス(4
−エチルフェニル)ホスフェート、ナトリウム−ビス
(4−i−プロピルフェニル)ホスフェート、ナトリウ
ム−ビス(4−t−オクチルフェニル)ホスフェート、
カリウム−ビス(4−t−ブチルフエニル)ホスフェー
ト、カルシウム−ビス(4−t−ブチルフェニル)ホス
フェート、マグネシウム−ビス(4−t−ブチルフェニ
ル)ホスフェート、リチウム−ビス(4−t−ブチルフ
ェニル)ホスフェート、アルミニウム−ビス(4−t−
ブチルフェニル)ホスフェートおよびこれらの二種以上
の混合物等を挙げることができる。特にナトリウム−ビ
ス(4−t−ブチルフェニル)ホスフェートが好まし
い。ソルビトール系核剤 ソルビトール系核剤としては、例えば、下記一般式(VI
II)
もよく、水素、塩素などのハロゲン、または炭素数1〜
10の炭化水素基である。tおよびuはそれぞれ0〜5
の整数である。)で表される化合物を挙げることができ
る。上記一般式(VIII)で表される化合物の具体的なも
のとしては、1,3,2,4−ジベンジリデンソルビト
ール、1,3−ベンジリデン−2,4−p−メチルベン
ジリデンソルビトール、1,3−ベンジリデン−2,4
−p−エチルベンジリデンソルビトール、1,3−p−
メチルベンジリデン−2,4−ベンジリデンソルビトー
ル、1,3−p−エチルベンジリデン−2,4−べンジ
リデンソルビトール、1,3−p−メチルベンジリデン
−2,4−p−エチルベンジリデンソルビトビトール、
1,3−p−エチルベンジリデン−2,4−p−メチル
ベンジリデンソルビトール、1,3,2,4−ジ(p−
メチルベンジリデン)ソルビトール、1,3,2,4−
ジ(p−エチルベンジリデン)ソルビトール、1,3,
2,4−ジ(p−n−プロピルベンジリデン)ソルビト
ール、1,3,2,4−ジ(p−i−プロピルベンジリ
デン)ソルビトール、1,3,2,4−ジ(p−n−ブ
チルベンジリデン)ソルビトール、1,3,2,4−ジ
(p−s−ブチルベンジリデン)ソルビトール、1,
3,2,4−ジ(p−t−ブチルベンジリデン)ソルビ
トール、1,3,2,4−ジ(2’,4’−ジメチルベ
ンジリデン)ソルビトール、1,3,2,4−ジ(p−
メトキシベンジリデン)ソルビトール、1,3,2,4
−ジ(p―エトキシベンジリデン)ソルビトール、1,
3−ベンジリデン−2−4−p−クロルベンジリデンソ
ルビトール、1,3−p−クロルベンジリデン−2,4
−ベンジリデンソルビトール、1,3−p−クロルベン
ジリデン−2,4−p−メチルベンジリデンソルビトー
ル、1,3−p−クロルベンジリデン−2,4−p−エ
チルベンジリデンソルビトール、1,3−p−メチルベ
ンジリデン−2,4−p−クロルベンジリデンソルビト
ール、1,3−p−エチルベンジリデン−2,4−p−
クロルベンジリデンソルビトールおよび1,3,2,4
−ジ(p−クロルベンジリデン)ソルビトールおよびこ
れらの二種以上の混合物等を挙げることができ、特に
1,3,2,4−ジベンジリデンソルビトール、1,
3,2,4−ジ(p−メチルベンジリデン)ソルビトー
ル、1,3,2,4−ジ(p−エチルベンジリデン)ソ
ルビトール、1,3−p−クロルベンジリデン−2,4
−p−メチルベンジリデンソルビトール、1,3,2,
4−ジ(p−クロルベンジリデン)ソルビトールおよび
それらの二種以上の混合物が好ましい。またソルビトー
ル系核剤としては、下記一般式(IX)
もよく、炭素数1または2のアルキル基である。)で表
される化合物をも挙げることができる。芳香族カルボン酸系核剤 芳香族カルボン酸系核剤としては、下記式(X)
−t−ブチルベンゾエートなどを挙げることができる。高融点ポリマー系核剤 高融点ポリマーとしては、ポリビニルシクロヘキサン,
ポリビニルシクロペンタン等のポリビニルシクロアルカ
ン、ポリ3−メチルペンテン−1、ポリ3−メチルプテ
ン−1、ポリアルケニルシランなどを挙げることができ
る。
化チタン,酸化マグネシウム,軽石粉,軽石バルーン,
水酸化アルミニウム,水酸化マグネシウム,塩基性炭酸
マグネシウム,ドロマイト,硫酸カルシウム,チタン酸
カリウム,硫酸バリウム,亜硫酸カルシウム,タルク,
クレー,マイカ,アスベスト,ガラス繊維,ガラスフレ
ーク,ガラスビーズ,ケイ酸カルシウム,モンモリロナ
イト,ベントナイト,グラファイト,アルミニウム粉,
硫化モリブデンなどを挙げることができる。特に、タル
クが好ましい。
塩,ロジン酸カリウム塩,ロジン酸マグネシウム塩等の
ロジン酸金属塩が使用される。なお、ロジン酸金属塩
は、ロジン酸と金属化合物との反応生成物であり、ロジ
ン酸金属塩と未反応のロジン酸との混合物、および未反
応のロジン酸を含まないロジン酸金属塩の両方を意味す
る。ロジン酸と反応して金属塩を形成する金属化合物と
しては、ナトリウム,カリウム,マグネシウムなどの金
属元素を有し、かつ前記ロジン酸と造塩する化合物を挙
げることができ、具体的には前記金属の塩化物、硝酸
塩、酢酸塩、硫酸塩、炭酸酸化物、水酸化物などを挙げ
ることができる。
ロジン、ウッドロジンなどの天然ロジン;不均化ロジ
ン、水素化ロジン、脱水素化ロジン、重合ロジン、α,
β−エチレン性不飽和カルボン酸変性ロジンなどの各種
変性ロジン;前記天然ロジンの精製物、前記変性ロジン
の精製物などを例示できる。天然ロジンには、ピマル
酸,サンダラコピマル酸,パラストリン酸,イソピマル
酸,アビエチン酸,デヒドロアビエチン酸,ネオアビエ
チン酸,ジヒドロピマル酸,ジヒドロアビエチン酸,テ
トラヒドロアビエチン酸などの樹脂酸が、通常複数種含
まれている。
ボン酸変性ロジンの調製に用いられる不飽和カルボン酸
としては、例えばマレイン酸,無水マレイン酸,フマル
酸,イタコン酸,無水イタコン酸,シトラコン酸,アク
リル酸,メタクリル酸などを挙げることができる。ロジ
ン酸金属塩の好ましい例として、下記一般式(XIa)と
(XIb)
も異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シクロ
アルキル基またはアリール基を示し、Mは1〜3価の金
属イオン、vはその金属イオンMの価数と同一の整数で
あり、1〜3の整数である。)で表される化合物を挙げ
ることができる。R21〜R23のアルキル基として具体的
には、メチル基,エチル基,n−プロピル基,イソプロ
ピル基,n−ブチル基,イソブチル基,t−ブチル基,
各種ペンチル基,各種ヘプチル基,各種オクチル基など
の炭素原子数が1〜8のアルキル基を挙げることがで
き、これらの基はヒドロキシル基、カルボキシル基、ア
ルコキシ基、ハロゲンなどの置換基を有していてもよ
い。
的には、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
ヘプチル基などの炭素原子数が5〜8のシクロアルキル
基を挙げることができ、これらの基はヒドロキシル基、
カルボキシル基、アルコキシ基、ハロゲンなどの置換基
を有していてもよい。R21〜R23のアリール基として
は、フェニル基、トリル基、ナフチル基などの炭素原子
数が6〜10のアリール基を挙げることができ、これら
の基はヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ
基、ハロゲンなどの置換基を有していてもよい。
プロピル基であり、R22およびR23がメチル基である化
合物がより好ましい。また、Mは1〜3価の金属イオン
であり、具体的にはリチウム,ナトリウム,カリウム,
ルビジウム,セシウム等の1価の金属イオン;ベリリウ
ム,マグネシウム,カルシウム,ストロンチウム,バリ
ウム,亜鉛等の2価の金属イオン;アルミニウムなどの
3価の金属イオンを挙げることができる。これらのうち
1価または2価の金属イオンであることが好ましく、ナ
トリウムイオン,カリウムイオン,マグネシウムイオン
であることがより好ましい。
ヒドロアビエチン酸リチウム,デヒドロアビエチン酸ナ
トリウム,デヒドロアビエチン酸カリウム,デヒドロア
ビエチン酸ベリリウム,デヒドロアビエチン酸マグネシ
ウム,デヒドロアビエチン酸カルシウム,デヒドロアビ
エチン酸亜鉛,デヒドロアビエチン酸アルミニウムなど
のデヒドロアビエチン酸金属塩などを挙げることがで
き、デヒドロアビエチン酸ナトリウム,デヒドロアビエ
チン酸カリウム,デヒドロアビエチン酸マグネシウムが
好ましく用いられる。
ドロアビエチン酸リチウム,ジヒドロアビエチン酸ナト
リウム,ジヒドロアビエチン酸カリウム,ジヒドロアビ
エチン酸ベリリウム,ジヒドロアビエチン酸マグネシウ
ム,ジヒドロアビエチン酸カルシウム,ジヒドロアビエ
チン酸亜鉛,ジヒドロアビエチン酸アルミニウムなどの
ジヒドロアビエチン酸金属塩などを挙げることができ、
ジヒドロアビエチン酸ナトリウム,ジヒドロアビエチン
酸カリウム,ジヒドロアビエチン酸マグネシウムが好ま
しく用いられる。
0号公報記載の尿素誘導体、特開平5−262936号
公報記載のジカルボン酸アミド系化合物、特開平7−2
78374号公報記載のトリカルバリル酸系アミド化合
物、特公平4−34568号記載の含硫黄含有アミド等
を使用することができる。
二種以上組み合わせて使用してもよい。上記の核剤を配
合することにより、フィルムの性質が低下することな
く、高速成形が可能となる。(ii)成分の配合量は、
(i)成分のプロピレン系ランダム共重合体100重量
部に対して、好ましくは0.001〜5重量部、さらに
好ましくは0.001〜1重量部、特に好ましくは0.
005〜0.5重量部である。その量が少なすぎると、
上記の効果が十分にでない場合があり、その量が多すぎ
ると、量に見合った効果がでない場合がある。
成物には、(ii)成分の他に、必要により用途に応じ
て酸化防止剤,中和剤,アンチブロッキング剤,スリッ
プ剤などの添加剤を配合することができる。好ましい酸
化防止剤として、ペンタエリスリチル−テトラキス[3
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオネート(「イルガノックス1010」,チ
バ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、オクタデシル
−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオネート(「イルガノックス1076」,
チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、1,3,5
−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン(「イルガ
ノックス1330」,チバ・スペシャルティ・ケミカル
ズ社製)、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジル)イソシアヌレイト(「イルガノックス
3114」,チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
等のフェノール系酸化防止剤;トリス(2,4−ジ−t
−ブチルフェニル)ホスファイト(「イルガフォス16
8」,チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、テト
ラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)4,4’−
ビフェニレン−ジ−ホスファイト(「P−EPQ」,チ
バ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)等のリン系酸化
防止剤を挙げることができる。
シウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウ
ム、Mg4.5 Al2 (OH)13CO3 ・3.5H2 O
(「DHT−4A」,協和化学工業社製)等のハイドロ
タルサイト類、[Li2 Al4 (OH)12]CO3 ・3
H2 O(「ミズカラック」,水澤化学工業社製)等のリ
チウムアルミニウム複合水酸化物塩などを挙げることが
できる。好ましいアンチブロッキング剤として、「サイ
リシア」(富士シリシア社製)、「ミズカシル」(水澤
化学工業社製)等の合成シリカ系化合物を挙げることが
できる。好ましいスリップ剤として、エルカ酸アミド,
オレイン酸アミド,ステアリン酸アミド,ベヘニン酸ア
ミド,エチレンビスステアリン酸アミド,エチレンビス
オレイン酸アミド,ステアリルエルカ酸アミド,オレイ
ルパルミチン酸アミド等の脂肪酸アミドを挙げることが
できる。
重合体組成物には、静電防止剤,防曇剤,耐候剤,着色
剤,無滴剤,難燃剤,難燃助剤,抗菌剤,無機又は有機
充填剤などの公知の添加剤を配合してもよい。本願の第
四発明であるフィルムは、前記のプロピレン系ランダム
共重合体を用いて製膜したフィルムである。フィルムを
製造する方法には特に制限はなく、通常のTダイキャス
ト製膜法等が用いられる。すなわち、前記のプロピレン
系ランダム共重合体のパウダーに必要に応じて各種の添
加剤を処方し、混練機にて押出し造粒し、ペレット化
し、Tダイキャスト製膜することができる。通常、本発
明のプロピレン系ランダム共重合体を用いて、Tダイキ
ャスト製膜法により、引取速度が50m/minまたは
これ以上の高速製膜条件においても、厚みが10〜50
0μmのフィルムを得ることができる。また、前述の好
ましい特性を有することから、共押出製膜法による積層
フィルムの製造に際して、その少なくとも一層成分とし
て好適に使用できる。製膜法は、大型製膜機により高速
製膜が実施されるTダイキャスト製膜法が好ましいが、
特にこれに限らず、溶融押出成形法によりフィルムを製
造できる方法であれば、どのような製膜法でもよい。
80リットル)を窒素ガスで十分に置換し、脱水エタノ
ール20リットル、金属マグネシウム1.06kg及び
ヨウ素106gを投入し、攪拌しながら還流条件下で系
内から水素ガスの発生が無くなるまで反応させ、固体状
反応生成物を得た。この固体状反応生成物を含む反応物
を減圧乾燥することにより目的のマグネシウム化合物
(固体触媒の担体)を得た。
拌機付反応層(内容積80リットル)に前記マグネシウ
ム化合物4.0kgを投入し、さらに、脱水処理したn
−ヘプタンを20リットル加えた。40℃に加熱し四塩
化珪素600ミリリットルを加え、20分攪拌し、ジ−
n−ブチルフタレートを850ミリリットル加えた。溶
液を70℃まで昇温し、引き続き四塩化チタンを19.
25リットル投入した。内温を125℃とし2時間接触
反応させた。その後、125℃の脱水n−ヘプタンを用
いて充分洗浄を行った。さらに四塩化チタンを30.5
0リットル加え、内温を125℃とし2時間接触反応さ
せた。その後125℃の脱水n−ヘプタンを用いて充分
洗浄を行い固体触媒成分を得た。
層(内容積80リットル)に前記の固体触媒成分を1.
0kgを投入し、さらに脱水処理したn−ヘプタンを
8.4リットル加えた。40℃に加熱しトリエチルアル
ミニウム43ミリリットルとジシクロペンチルジメトキ
シシランを116ミリリットル加えた。これにプロピレ
ンを常圧で流通させ2時間反応させた。その後、固体成
分を脱水n−ヘプタンを用いて充分洗浄を行い触媒成分
を得た。
重合槽に前記の触媒成分を成分中のチタン原子換算で3
ミリモル/kg(ポリマー)で、トリエチルアルミニウ
ムを4ミリモル/kg(ポリマー)で、ジシクロペンチ
ルジメトキシシランを0.4ミリモル/kg(ポリマ
ー)でそれぞれ供給し、重合温度75℃、重合圧力(全
圧)24kg/cm2 Gでプロピレン、エチレン及び1
−ブテンを反応させた。この時所定のエチレン含量なる
ようにエチレン供給量を、また所定の1−ブテン含量に
なるように1−ブテン供給量を、さらに所定の分子量に
なるように分子量調節剤の水素供給量を調節した。また
この時の重合装置内ガス組成をガスクロマトグラフによ
り分析したところ、エチレン濃度は3.5モル%、1−
ブテン濃度は3.5モル%、水素濃度は11.0モル%
であった。得られたプロピレン系ランダム共重合体のパ
ウダーについて下記の「樹脂特性評価法」に従い評価し
た結果を第1表に示す。
の触媒成分を成分中のチタン原子換算で3ミリモル/k
g(ポリマー)で、トリエチルアルミニウムを4ミリモ
ル/kg(ポリマー)で、ジシクロペンチルジメトキシ
シランを1ミリモル/kg(ポリマー)でそれぞれ供給
し、重合温度80℃、重合圧力(全圧)28kg/cm
2 Gでプロピレンとエチレンを反応させた。この時所定
のエチレン含量なるようにエチレン供給量を、所定の分
子量になるように分子量調節剤の水素供給量を調節し
た。またこの時の重合装置内ガス組成をガスクロマトグ
ラフにより分析したところ、エチレン濃度は5.0モル
%、水素濃度は8.5モル%であった。得られたプロピ
レン系ランダム共重合体のパウダーについて下記の「樹
脂特性評価法」に従い評価した結果を第2表に示す。
(内容積80リットル)に前記マグネシウム化合物4.
0kgを投入し、さらに、脱水処理したn−ヘプタンを
20リットル加えた。40℃に加熱し四塩化珪素600
ミリリットルを加え、20分攪拌し、ジ−n−ブチルフ
タレートを850ミリリットル加えた。溶液を70℃ま
で昇温し、引き続き四塩化チタンを19.25リットル
投入した。内温を110℃とし2時間接触反応させた。
その後、80℃の脱水n−ヘプタンを用いて充分洗浄を
行った。さらに四塩化チタンを30.50リットル加
え、内温を110℃とし2時間接触反応させた。その後
80℃の脱水n−ヘプタンを用いて充分洗浄を行い固体
触媒成分を得た。
層(内容積80リットル)に前記の固体触媒成分を1.
0kgを投入し、さらに脱水処理したn−ヘプタンを
8.4リットル加えた。40℃に加熱しトリエチルアル
ミニウム43ミリリットルとジシクロペンチルジメトキ
シシランを116ミリリットル加えた。これにプロピレ
ンを常圧で流通させ2時間反応させた。その後、固体成
分を脱水n−ヘプタンを用いて充分洗浄を行い触媒成分
を得た。
重合槽に前記の触媒成分を成分中のチタン原子換算で3
ミリモル/kg(ポリマー)で、トリエチルアルミニウ
ムを4ミリモル/kg(ポリマー)で、ジシクロペンチ
ルジメトキシシランを0.4ミリモル/kg(ポリマ
ー)でそれぞれ供給し、重合温度75℃、重合圧力(全
圧)24kg/cm2 Gでプロピレン、エチレン及び1
−ブテンを反応させた。この時所定のエチレン含量なる
ようにエチレン供給量を、また所定の1−ブテン含量に
なるように1−ブテン供給量を、さらに所定の分子量に
なるように分子量調節剤の水素供給量を調節した。また
この時の重合装置内ガス組成をガスクロマトグラフによ
り分析したところ、エチレン濃度は5.4モル%、1−
ブテン濃度は1.3モル%、水素濃度は9.5モル%で
あった。得られたプロピレン系ランダム共重合体のパウ
ダーについて下記の「樹脂特性評価法」に従い評価した
結果を第1表に示す。
ン系ランダム共重合体100重量部に、核剤として、ビ
ス(2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−6−ヒド
ロキシ−12H−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジ
オキソホスホシン−6−オキサイド)水酸化アンモニウ
ム塩(旭電化社製、アデガスタブNA−21)を0.1
重量部添加し、さらに、酸化防止剤として、イルガノッ
クス1010(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社
製)を0.1重量部、イルガフォス168(チバ・スペ
シャルティ・ケミカルズ社製)を0.1重量部、アンチ
ブロッキング剤として、シリカ系化合物(富士シリシア
社製)を0.23重量部、中和剤として、ステアリン酸
カルシウムを0.1重量部、滑剤として、エルカ酸アミ
ドを0.05重量部を添加し、東芝機械(株)のMod
el35B押出機にてペレット化した。そのペレットに
ついて下記の「共重合体組成物特性評価法」に従い評価
した結果を第3表に示す。得られたプロピレン系ランダ
ム共重合体のペレットを三菱重工製75mmφ押出機を
用い、Tダイ出口における樹脂温度243℃、チルロー
ル温度40℃、引取速度125m/ minの条件にて膜
厚30μmのフィルムに成形した。得られたフィルムに
ついて、下記の「フィルム品質の評価法」に従い評価し
た結果を第3表に示す。
て、ナトリウム−2,2’−メチレンビス(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)ホスフェート(旭電化社製、ア
デガスタブNA−11)を0.05重量部添加した以外
は同様に実施した。結果を第3表に示す。 〔実施例3〕実施例1において、核剤として、1,3,
2,4−ジベンジリデンソルビトール(新日本理化学社
製、ゲルオールMD)を0.2重量部添加したこと以外
は同様に実施した。結果を第3表に示す。
ン系ランダム共重合体として製造例2で製造されたもの
を用いたこと以外は同様に実施した。結果を第3表に示
す。 〔比較例1〕実施例1において、プロピレン系ランダム
共重合体として製造例3で製造されたものを用いたこと
以外は同様に実施した。結果を第3表に示す。
用しなかったこと以外は同様に実施した。その結果耳部
のチルロールリリース性が悪くなり、きれいなフィルム
を得ることができなかった。結果の一部を第3表に示
す。 〔参考例2〕実施例4において、核剤を使用しなかった
こと以外は同様に実施した。その結果耳部のチルロール
リリース性が悪くなり、きれいなフィルムを得ることが
できなかった。結果の一部を第3表に示す。
系三元ランダム共重合体共重合体中のエチレン単位の含
有量α(モル%)、及び1−ブテン単位の含有量β(モ
ル%)は、13C−NMRスペクトルからKang−Bo
ng Leeet.al,Polymer J.,2
8,696〜702(1996)に記載の方法に従い算
出した。 α=(Ety/S)×100 β=(Bu/S)×100 但し、S=Pro+Ety+Bu Pro={a+(b+d+e)/2+(h+i+m+r
+s+t)}/3 Ety={(d+e)/2+(j+k+L+p+q)}
/2 Bu={b/2+(c+f+n+o+u)}/4 上記a,b,c等は下記第4表に示すシグナルの強度で
ある。例えば、aは表中の番号aのシグナル強度であ
る。
として、13C−NMRスペクトルから立体規則性指標P
(モル%)を次式から算出した。このPt値は共重合体
分子鎖のプロピレン単位、及び/又は1−ブテン単位が
頭―尾結合している領域におけるトライアッド単位のア
イソタクチック分率である。 Pt={r/(r+s+t−h−i)}×100 但し、上記r,s,t等は、前記第4表に示すシグナル
の強度である。例えばrは表中の番号rのシグナル強度
である。 プロピレンとエチレンとのプロピレン系ランダム共重
合体 プロピレン系ランダム共重合体中のエチレン単位の含有
量γ(重量%)は各シグナル強度から次式に従い算出し
た。なお、各シグナルの帰属を第5表に示す。Pはプロ
ピレン単位、Eはエチレン単位を示す。したがって、P
PPはプロピレン単位が3個連続していることを、ま
た、EEEはエチレン単位が3個連続していることを示
している。
+IPEP ) S=IEPE +IPPE +IEEE +IPPP +IPEE +IPEP IEPE =I(4) IPPP =I(8) IPPE =I(5) IPEE =I(9) IEEE =I(7) /2+I(6) /4 IPEP =I(10) 但し、例えばI(1) は第5表におけるシグナル番号1の
シグナル強度である。
から算出した。 Pr={I(11)/(I(11)+I(12)+I(13)−I(4) −
I(5))}×100 このPr値は共重合体分子鎖のプロピレン連鎖領域にお
けるトライアッド単位のアイソタクチック分率である。
なお、この式においてはmr領域に現れるPPE連鎖の
中央のプロピレン単位のメチル炭素のシグナル強度をT
βδ(5番のシグナル)のシグナル強度により、rr領
域に現れるEPE連鎖中のプロピレン単位のメチル炭素
のシグナル強度をTδδ(4番のシグナル)のシグナル
強度により代用している。
も日本電子社製のJNM−EX400型NMR装置を使
用し、以下の条件にて測定した。 NMR測定条件 試料濃度:220mg/NMR溶媒3ミリリットル NMR溶媒:1,2,4−トリクロルベンゼン/ベンゼ
ン−d6=90/10(体積比) 測定温度:130℃ パルス幅:45° パルス繰り返し時間:4秒 積算回数:4,000回 (2)昇温分別クロマトグラフ(TREF)(Wpt,
WHt,W0t,Wpr,WHr,W0r(重量%)) 温度135℃に調節したTREFカラムに試料溶液を導
入し、次いで速度5℃/hrにて徐々に0℃まで降温
し、試料を充填剤に吸着させる。その後カラムを速度4
0℃/hrにて135℃まで昇温し、溶出曲線を得た。
(4.6φ×150mm) フローセル:GLサイエンス社製 光路長 1mm K
Brセル 送液ポンプ:センシュウ科学社製 SSC−3100ポ
ンプ バルブオーブン:GLサイエンス社製 MODEL55
4オーブン TREFオーブン:GLサイエンス社製 二系列温調器:理学工業社製 REX−C100温調器 検出器:液体クロマトグラフィー用赤外検出器 FOXBORO社製 MIRAN 1A CVF 10方バルブ:バルコ社製 電動バルブ ループ:バルコ社製 500μリットルループ イ)測定条件 溶媒:o−ジクロルベンゼン 試料濃度:7.5g/リットル 注入量:500μリットル ポンプ流量:2.0ミリリットル/分 検出波数:3.41μm カラム充填剤:クロモソルブP(30〜60メッシュ) カラム温度分布:±2.0℃以内
共重合体の結晶化曲線における最高温度側のピークトッ
プ温度(Tct,Tcr(℃))及び融点(Tmt,T
mr(℃)) パーキンエルマー社製のDSC7型示差走査型熱量計を
用いて測定した。あらかじめ試料10mgを窒素雰囲気
下230℃で3分間溶融した後、10℃/minで20
℃まで降温して得られた結晶化発熱曲線における最高温
度側のピークトップ温度を(Tct,Tcr(℃))と
した。さらにこの温度で3分間保持した後、10℃/m
inで昇温させて得られた融解吸熱曲線の最大ピークの
ピークトップ温度を融点(Tmt,Tmr(℃))とし
た。
抽出量(Et,Er(重量%)) 1mmφメッシュパスの大きさに粉砕したペレットを円
筒ろ紙に3g、抽出溶剤のジエチルエーテルを平底フラ
スコに160ミリリットル入れ、リフラックス頻度を1
回/5min程度にして10時間のソックスレー抽出を
行う。抽出終了後、ロータリーエバポレーターによりジ
エチルエーテルを回収し、さらに真空乾燥器により恒量
になるまで乾燥し沸騰ジエチルエーテル抽出量とした。 (5)メルトインデックスMI(g/10min) JIS K 7210に従い、温度230℃、荷重2,
160gで測定した。 (6)分子量分布(Mw/Mn) ゲルパーミエーションクロマトグラフィは以下の条件に
て測定した。重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比
を分子量分布(Mw/Mn)として求めた。 カラム:TOSO BMHHR−H(S)HT 溶媒:1,2,4−トリクロルベンゼン カラム温度:145℃ 流速:1.0ミリリットル/分 検量線:Universal Calibration 検出器:RI(Waters 150C) 解析プログラム:HT−GPC(Ver 1.0)
物の結晶化曲線における最高温度側のピークトップ温度
Tc(℃)及び融解曲線における最低温度側のピークト
ップ温度Tm(℃) パーキンエルマー社製のDSC7型示差走査型熱量計を
用いて測定した。あらかじめ試料10mgを窒素雰囲気
下230℃で3分間溶融した後、10℃/minで20
℃まで降温して得られた結晶化発熱曲線における最高温
度側のピークトップ温度をTc(℃)とした。さらにこ
の温度で3分間保持した後、10℃/minで昇温させ
て得られた融解吸熱曲線の最低温度側ピークのピークト
ップ温度をTm(℃)とした。 (2)共重合体組成物中の沸騰ジエチルエーテル抽出量
E(重量%) 前記「樹脂特性評価法」に同じ。
ムは全て温度40℃にて24時間のアニール処理を行
い、更に温度23±2℃、湿度50±10%で16時間
以上の状態調節した後に同じ温度、湿度条件下で測定を
行った。 (1)ヒートシール温度 JIS Z 1707に準拠して測定した。具体的には
表面温度計により較正されたヒートシールバーにより以
下の条件にてシールし、室温で一昼夜放置した後、室温
で剥離速度を200mm/ minにしたT型剥離法によ
り剥離強度を測定した。ヒートシール温度は剥離強度が
300g/ 15mmになる温度と定義し、シール温度−
剥離強度曲線から計算により求めた。
枚の反金属ロール面とを以下の条件にて密着させ、10
×10cmの治具にそれぞれを固定し、10×10cm
の面積の密着強度を以下の条件の引剥試験により測定し
た。 密着条件:温度50℃、7日間、荷重15g/ cm2 、
面積10×10cm 引剥試験条件:テストスピード;20mm/ min、ロ
ードセル;2Kg
板の上に静置した後、ガラス板を傾けてゆき、スレット
が滑り出したときのガラス板の傾き角θのtanで評価
した。測定には東洋精機製作所製の摩擦角測定器を使用
した。以下に条件を示す。 測定面:金属ロール面/金属ロール面 傾斜速度:2.7°/ sec スレッド重量:1Kg スレッド断面積:65cm2 面間圧力:15g/ cm2 (4)透明性(ヘイズ) JIS K 7105に従い測定した。
て1/2インチ衝撃頭を用いた衝撃破壊強度により評価
した。 (6)引張弾性率 JIS K 7127に準拠した引張試験により以下の
条件にて測定した。 クロスヘッド速度:500mm/ min ロードセル:10Kg 測定方向:マシン方向(MD) 第3表において、比較例1では実施例と比較してブリー
ド白化が起こり、スリップ性、アンチブロッキング性が
大きく低下し、引張弾性率も低下し、ヒートシール性も
低い。また、参考例では、上記の厳しいフィルム成形の
条件では実施例のようにきれいなフィルムを得ることが
できず、本発明においては核剤の効果が発揮されている
ことがわかる。
組成物によれば、ポリプロピレンのフィルムが本来有す
る剛性、透明性及び防湿性等の好ましい特性を損なうこ
となく、優れたヒートシール性を発現し、かつ高速製袋
に必要なスリップ性及びアンチブロッキング性を兼ね備
えたフィルムを得ることができる。また製膜速度を高速
化してもフィルム品質の低下が極めて小さく、さらに
は、成形性やフィルム特性が改良されたものである。
Claims (8)
- 【請求項1】 (i)プロピレンと、エチレン及び/又
は1−ブテンとのランダム共重合体に、(ii)核剤を
配合してなるプロピレン系ランダム共重合体組成物であ
って、示差走査型熱量計(DSC)で測定した、結晶化
曲線における最高温度側のピークトップ温度Tc(℃)
と融解曲線における最低温度側のピークトップ温度Tm
(℃)とが、下記式(1) Tc≧0.75×Tm−5 ・・・(1) を満たし、かつ昇温分別クロマトグラフの0℃以下の範
囲において溶出する量W0(重量%)が6重量%以下で
あることを特徴とするプロピレン系ランダム共重合体組
成物。 - 【請求項2】 (i)プロピレン、エチレン及び1−ブ
テンのランダム共重合体であって、下記の〜の条件
を満たすプロピレン系ランダム共重合体に、(ii)核
剤を配合してなるプロピレン系ランダム共重合体組成
物。13 C−NMRにより測定した共重合体中のエチレン単
位の含有量α(モル%)と13C−NMRにより測定した
共重合体中の1−ブテン単位の含有量β(モル%)との
和(α+β)が0.1〜15モル%であり、 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をTpt
(℃)としたとき、(Tpt−5)℃〜(Tpt+5)
℃の温度範囲において溶出する量Wpt(重量%)が2
0重量%以上であり、 昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温度範囲におい
て溶出する量W0t(重量%)と前記(α+β)が下記
式(2)〜(4)の関係を満たす。 0.1≦(α+β)<2のとき、W0t≦1 ・・・(2) 2≦(α+β)<12のとき、W0t≦(α+β)/2 ・・・(3) 12≦(α+β)≦15のとき、W0t≦6 ・・・(4) - 【請求項3】 (i)プロピレンとエチレンとのランダ
ム共重合体であって、下記の〜の条件を満たすプロ
ピレン系ランダム共重合体に、(ii)核剤を配合して
なるプロピレン系ランダム共重合体組成物。13 C−NMRにより測定した共重合体中のエチレン単
位の含有量γ(重量%)が0.2〜10重量%であり、 昇温分別クロマトグラフの主溶出ピーク温度をTpr
(℃)としたとき、(Tpr−5)℃〜(Tpr+5)
℃の温度範囲において溶出する量Wpr(重量%)が2
0重量%以上であり、 昇温分別クロマトグラフの0℃以下の温度範囲におい
て溶出する量W0r(重量%)とγが下記式(5)の関
係を満たす。 W0r≦(3+2γ)/4 ・・・(5) - 【請求項4】 (ii)成分の配合量が、(i)成分1
00重量部に対して0.001〜5重量部である請求項
1〜3のいずれかに記載のプロピレン系ランダム共重合
体組成物。 - 【請求項5】 (i)成分において、メルトインデック
スMI(g/10min)が0.1〜200g/10m
inである請求項1〜4のいずれかに記載のプロピレン
系ランダム共重合体組成物。 - 【請求項6】 (i)成分において、13C−NMRによ
り測定した共重合体中の立体規則性指標P(モル%)が
98モル%以上である請求項1〜5のいずれかに記載の
プロピレン系ランダム共重合体組成物。 - 【請求項7】 請求項1〜6のいずれかに記載のプロピ
レン系ランダム共重合体組成物からなるフィルム。 - 【請求項8】 請求項1〜6のいずかに記載のプロピレ
ン系ランダム共重合体組成物を少なくともその一層成分
とする多層フィルム。
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| DE1999181907 DE19981907T1 (de) | 1998-09-01 | 1999-08-30 | Statistisches Propylen-Copolymer und Propylenharzzusammensetzung, Folien aus diesen und mehrschichtiges Proplyenharzlaminat |
| US09/529,418 US6287705B1 (en) | 1998-09-01 | 1999-08-30 | Propylene random copolymer, propylene resin composition, film of these, and multilayered propylene resin laminate |
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