JPH0732892B2 - 耐擦傷性艶消材およびその製造方法 - Google Patents
耐擦傷性艶消材およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0732892B2 JPH0732892B2 JP61024715A JP2471586A JPH0732892B2 JP H0732892 B2 JPH0732892 B2 JP H0732892B2 JP 61024715 A JP61024715 A JP 61024715A JP 2471586 A JP2471586 A JP 2471586A JP H0732892 B2 JPH0732892 B2 JP H0732892B2
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- Japan
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- matte
- scratch
- coating
- film
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、耐擦傷性がすぐれた艶消面を有する艶消材に
関する。
関する。
化粧材等の表面を艶消面とした艶消材は、光の反射をお
さえて落ち着いた感じとすることができること、基材の
凹凸のわかりにくくすること等の点で、よく使われてい
る。
さえて落ち着いた感じとすることができること、基材の
凹凸のわかりにくくすること等の点で、よく使われてい
る。
艶消面の形成方法には、例えば、次の２つの方法がある
が、それぞれ欠点を有している。
が、それぞれ欠点を有している。
艶消剤を含有するシリコーン焼付型塗料を用い、コー
ティング後、焼付ける方法。この方法では艶消剤を含有
するため、得られる皮膜の耐擦傷性が弱くなる。又、焼
付けを行なう時間が長い上、焼付けの温度が高いので軟
化点の低いプラスチックフィルムには適用しにくい。
ティング後、焼付ける方法。この方法では艶消剤を含有
するため、得られる皮膜の耐擦傷性が弱くなる。又、焼
付けを行なう時間が長い上、焼付けの温度が高いので軟
化点の低いプラスチックフィルムには適用しにくい。
艶消剤を含有する電離放射線硬化型塗料を用い、コー
ティング後、電離放射線を照射する方法。この方法で
は、硬化に要する時間は短かいが、艶消剤を含有するた
めに得られる皮膜の耐擦傷性が弱くなる。又、電離放射
線硬化型塗料の硬化の際に、照射する電離放射線のエネ
ルギー強度、分布、照射によって生じる温度、環境条
件、塗料中の溶剤配合等により艶消面の艶がバラついた
り、一旦硬化後も艶が経時的に変化する等、製品の艶の
一定化が極めて難しい。
ティング後、電離放射線を照射する方法。この方法で
は、硬化に要する時間は短かいが、艶消剤を含有するた
めに得られる皮膜の耐擦傷性が弱くなる。又、電離放射
線硬化型塗料の硬化の際に、照射する電離放射線のエネ
ルギー強度、分布、照射によって生じる温度、環境条
件、塗料中の溶剤配合等により艶消面の艶がバラついた
り、一旦硬化後も艶が経時的に変化する等、製品の艶の
一定化が極めて難しい。
なお、本明細書中で「耐擦傷性」とは、スチールウール
＃0000を用いて表面を20回強く摩擦したときに傷がつか
ないことを指すものとする。
＃0000を用いて表面を20回強く摩擦したときに傷がつか
ないことを指すものとする。
従って、本発明においては、得られる皮膜の耐擦傷性が
強く、短時間で硬化し、艶の一定化が容易な化粧材を提
供することを目的としている。又、好ましくは、熱可塑
性プラスチックフィルムを基材とする場合にも、製造
上、不都合のない艶消材を提供することを目的としてい
る。
強く、短時間で硬化し、艶の一定化が容易な化粧材を提
供することを目的としている。又、好ましくは、熱可塑
性プラスチックフィルムを基材とする場合にも、製造
上、不都合のない艶消材を提供することを目的としてい
る。
本発明は、 表面に高低差が１μｍ〜15μｍの微小凹凸からなる艶消
面を有する艶消基材の艶消面に微小凹凸に沿って設けら
れたコーティング時の塗布量が２μｍ〜10μｍである架
橋硬化被膜からなる耐擦傷性層を有することを特徴とす
る耐擦傷性艶消材 を要旨とするものであり、又、本発明は、 表面に高低差が１μｍ〜15μｍの微小凹凸からなる艶消
面を有する艶消基材の艶消面に微小凹凸に沿って電離放
射線硬化性塗料を２μｍ〜10μｍ塗布し、次いで電離放
射線を照射することを特徴とする耐擦傷性艶消材の製造
方法 をも要旨とするものである。
面を有する艶消基材の艶消面に微小凹凸に沿って設けら
れたコーティング時の塗布量が２μｍ〜10μｍである架
橋硬化被膜からなる耐擦傷性層を有することを特徴とす
る耐擦傷性艶消材 を要旨とするものであり、又、本発明は、 表面に高低差が１μｍ〜15μｍの微小凹凸からなる艶消
面を有する艶消基材の艶消面に微小凹凸に沿って電離放
射線硬化性塗料を２μｍ〜10μｍ塗布し、次いで電離放
射線を照射することを特徴とする耐擦傷性艶消材の製造
方法 をも要旨とするものである。
本発明において基材１としては、表面に微小凹凸２から
なる艶消面を有する限り、すべてのものが使用でき、必
要により表面に印刷や着色が施されていてもよい。
なる艶消面を有する限り、すべてのものが使用でき、必
要により表面に印刷や着色が施されていてもよい。
例えば基材１としてはプラスチックフィルムの表面に高
低差が１μｍ〜15μｍの微小凹凸からなる艶消面を有す
るものが使用でき、プラスチックフィルムとしては、ポ
リエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィ
ルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィル
ム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリカーボネートフ
ィルム、ポリアミド（ナイロン）フィルム、ポリスチレ
ンフィルム、エチレン／酢酸ビニル共重体（EVA）フィ
ルム等を使用でき、なかでも、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビ
ニルフィルムが好ましい。
低差が１μｍ〜15μｍの微小凹凸からなる艶消面を有す
るものが使用でき、プラスチックフィルムとしては、ポ
リエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィ
ルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィル
ム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリカーボネートフ
ィルム、ポリアミド（ナイロン）フィルム、ポリスチレ
ンフィルム、エチレン／酢酸ビニル共重体（EVA）フィ
ルム等を使用でき、なかでも、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ塩化ビ
ニルフィルムが好ましい。
この他、基材を構成する材料としては、次のようなもの
も使用できる； 晒クラフト紙、チタン紙、リンター紙、板紙、石こうボ
ード紙等の紙、木、合板、パーチクルボード等の木質基
材、石こうボード、石こうスラグボード等の石こう系基
材、パルプセメント板、石綿セメント板、木片セメント
板等の繊維セメント板、GRC及びコンクリート、鉄、ア
ルミニウム、銅等の金属箔もしくはシート、並びに以上
の各材料の複合体等。
も使用できる； 晒クラフト紙、チタン紙、リンター紙、板紙、石こうボ
ード紙等の紙、木、合板、パーチクルボード等の木質基
材、石こうボード、石こうスラグボード等の石こう系基
材、パルプセメント板、石綿セメント板、木片セメント
板等の繊維セメント板、GRC及びコンクリート、鉄、ア
ルミニウム、銅等の金属箔もしくはシート、並びに以上
の各材料の複合体等。
上記のような材料からなる基材１の表面の艶消面は微小
凹凸２で形成されている。微小凹凸２の高低差は１μｍ
〜15μｍ程度が好ましく、外観の点や後述する耐擦傷性
層３の設けやすさの点でより好ましいのは２μｍ〜10μ
ｍである。高低差が小さすぎるときは耐擦傷性層３を設
けると艶消感が失なわれて艶が出てくるし、高低差が大
きすぎるときは耐擦傷性層３を凹凸に沿って均一に設け
るのが困難になる。
凹凸２で形成されている。微小凹凸２の高低差は１μｍ
〜15μｍ程度が好ましく、外観の点や後述する耐擦傷性
層３の設けやすさの点でより好ましいのは２μｍ〜10μ
ｍである。高低差が小さすぎるときは耐擦傷性層３を設
けると艶消感が失なわれて艶が出てくるし、高低差が大
きすぎるときは耐擦傷性層３を凹凸に沿って均一に設け
るのが困難になる。
微小凹凸２を設ける手法としては、サンドブラスト法、
溶剤を高温で作用させる溶剤高温処理法、基材製造時に
艶消剤を添加する方法（特に艶消剤含有マスターバッチ
を用いてフィルムを製造する練込み法）等がある。最後
の方法では艶消剤が基材中に分布するため、透過率を高
くしたいときは必ずしも適当とは言えない。この他、艶
消剤を含む艶消塗料をコーティングする方法によっても
よい。艶消剤を使うときは、シリカ、炭酸カルシウム、
もしくは酸化チタン等の無機物、ポリエチレン樹脂粒
子、もしくはテフロンパウダー等の有機物を使用すると
よい。
溶剤を高温で作用させる溶剤高温処理法、基材製造時に
艶消剤を添加する方法（特に艶消剤含有マスターバッチ
を用いてフィルムを製造する練込み法）等がある。最後
の方法では艶消剤が基材中に分布するため、透過率を高
くしたいときは必ずしも適当とは言えない。この他、艶
消剤を含む艶消塗料をコーティングする方法によっても
よい。艶消剤を使うときは、シリカ、炭酸カルシウム、
もしくは酸化チタン等の無機物、ポリエチレン樹脂粒
子、もしくはテフロンパウダー等の有機物を使用すると
よい。
艶消面の微小凹凸に沿って設けられている架橋硬化皮膜
３は、公知の熱硬化性樹脂塗料の塗布、硬化によっても
形成できるが、硬化に要する時間が短かく、又、硬化の
際に熱を要しない点で、電離放射線硬化性塗料の塗布、
電離放射線の照射によって形成するのがよい。
３は、公知の熱硬化性樹脂塗料の塗布、硬化によっても
形成できるが、硬化に要する時間が短かく、又、硬化の
際に熱を要しない点で、電離放射線硬化性塗料の塗布、
電離放射線の照射によって形成するのがよい。
電離放射線硬化性塗料は、電離放射線硬化性樹脂、たと
えば、不飽和ポリエステル、ポリエーテルアクリレー
ト、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ウレタンアクリレート、スピロアスタールアクリレ
ート、ポリブタジエン、ポリチオールポリエン等を用い
て作成することができる。電離放射線硬化性塗料には上
記の電離放射線硬化性樹脂に加えて２官能モノマー、た
とえば、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
プロピレングリコールジアクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアク
リレート等、もしくは３官能モノマー、たとえば、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート等の多官能モノマーを混合して用いるこ
とができる。多官能モノマーとしてはこの他、４官能、
５官能、もしくは６官能のモノマーも使用できる。
えば、不飽和ポリエステル、ポリエーテルアクリレー
ト、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ウレタンアクリレート、スピロアスタールアクリレ
ート、ポリブタジエン、ポリチオールポリエン等を用い
て作成することができる。電離放射線硬化性塗料には上
記の電離放射線硬化性樹脂に加えて２官能モノマー、た
とえば、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
プロピレングリコールジアクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアク
リレート等、もしくは３官能モノマー、たとえば、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート等の多官能モノマーを混合して用いるこ
とができる。多官能モノマーとしてはこの他、４官能、
５官能、もしくは６官能のモノマーも使用できる。
電離放射線硬化性塗料には、上記の電離放射線硬化性樹
脂、必要に応じて加える多官能モノマー以外に、紫外線
照射で硬化させる場合には光開始剤、たとえば、アセト
フェノン類、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾ
イン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエー
ト、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラム
モノサルファイド、チオキサンソン類等や、増感剤、た
とえば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−
ｎ−ブチルホスフィン等を添加するとよい。
脂、必要に応じて加える多官能モノマー以外に、紫外線
照射で硬化させる場合には光開始剤、たとえば、アセト
フェノン類、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾ
イン、ベンジルメチルケタール、ベンゾイルベンゾエー
ト、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラム
モノサルファイド、チオキサンソン類等や、増感剤、た
とえば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−
ｎ−ブチルホスフィン等を添加するとよい。
電離放射線硬化性塗料の塗布方法としては、ブレードコ
ーティング法、グラビアコーティング法、ロッドコーテ
ィング法、ナイフコーティング法、リバースロールコー
ティング法、キスコーティング法、スプレイコーティン
グ法、オフセットグラビアコーティング法等をいずれも
利用できるが、薄い膜を厚みムラなくコーティングでき
る点で、グラビアコーティング法、リバースロールコー
ティング法、もしくはオフセットグラビアコーティング
法が好ましい。
ーティング法、グラビアコーティング法、ロッドコーテ
ィング法、ナイフコーティング法、リバースロールコー
ティング法、キスコーティング法、スプレイコーティン
グ法、オフセットグラビアコーティング法等をいずれも
利用できるが、薄い膜を厚みムラなくコーティングでき
る点で、グラビアコーティング法、リバースロールコー
ティング法、もしくはオフセットグラビアコーティング
法が好ましい。
コーティング時の塗布量としては、充分な耐擦傷性を得
るためには２μｍ以上が好ましく、20μｍ程度までであ
れば下層の微小凹凸に沿うことが可能だが、微小凹凸２
の高低差にくらべて塗布量が過度に大きいと、皮膜表面
の凹凸２′の高低差が小さくなり、このため、艶が上昇
し、艶消し効果が減少するため（第３図）、通常は10μ
ｍ以下とするのがよい。
るためには２μｍ以上が好ましく、20μｍ程度までであ
れば下層の微小凹凸に沿うことが可能だが、微小凹凸２
の高低差にくらべて塗布量が過度に大きいと、皮膜表面
の凹凸２′の高低差が小さくなり、このため、艶が上昇
し、艶消し効果が減少するため（第３図）、通常は10μ
ｍ以下とするのがよい。
また、上記の塗布量で塗布する場合、塗布量を基剤の凹
凸高低差よりも小さくすることで、被膜表面の凹凸２′
の高低差が小さくなり、艶が上昇し、艶消し効果が減少
することがない。
凸高低差よりも小さくすることで、被膜表面の凹凸２′
の高低差が小さくなり、艶が上昇し、艶消し効果が減少
することがない。
上記の塗布量で塗布する結果、もともとの基材の表面の
微小凹凸２の高低差が５μｍのものに2.5μｍの皮膜が
形成され、皮膜表面の凹凸２′の高低差は約2.5μｍ程
度となる。
微小凹凸２の高低差が５μｍのものに2.5μｍの皮膜が
形成され、皮膜表面の凹凸２′の高低差は約2.5μｍ程
度となる。
塗布後、硬化に用いる電子線としては、コックロフトワ
ルトン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変
圧器型、直線型、ダイナミトロン型、もしくは高周波型
等の各種電子線加速器から放出され、50〜1000KeV、好
ましくは100〜300KeVの範囲のエネルギーを持つものが
用いられ、紫外線としては、超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、クセノンアーク、も
しくはメタルハライドランプ等の光源を用いた紫外線源
から発するものが用いられる。
ルトン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変
圧器型、直線型、ダイナミトロン型、もしくは高周波型
等の各種電子線加速器から放出され、50〜1000KeV、好
ましくは100〜300KeVの範囲のエネルギーを持つものが
用いられ、紫外線としては、超高圧水銀灯、高圧水銀
灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、クセノンアーク、も
しくはメタルハライドランプ等の光源を用いた紫外線源
から発するものが用いられる。
本発明の耐擦傷性艶消材は、艶消のための高低差１μｍ
〜15μｍの微小凹凸を有する基材の表面に、微小凹凸に
沿ったコーティング時の塗布量が２μｍ〜10μｍである
架橋硬化皮膜を有しているので、最表面には艶消剤が含
有されてなく、きわめて耐擦傷性がすぐれている。
〜15μｍの微小凹凸を有する基材の表面に、微小凹凸に
沿ったコーティング時の塗布量が２μｍ〜10μｍである
架橋硬化皮膜を有しているので、最表面には艶消剤が含
有されてなく、きわめて耐擦傷性がすぐれている。
又、本発明の耐擦傷性艶消材は、艶消のための微小凹凸
を有する基材の表面に、微小凹凸に沿った皮膜を有する
だけであるから、皮膜の厚みを利御するだけで、一定な
艶に調整することができる。
を有する基材の表面に、微小凹凸に沿った皮膜を有する
だけであるから、皮膜の厚みを利御するだけで、一定な
艶に調整することができる。
本発明の耐擦傷性艶消材の製造方法によれば、耐擦傷性
が大きく、艶の一定化が容易な艶消材を短時間で能率良
く製造でき、しかも品質のバラツキを小さくすることが
できる。
が大きく、艶の一定化が容易な艶消材を短時間で能率良
く製造でき、しかも品質のバラツキを小さくすることが
できる。
なお、架橋硬化皮膜の厚みを変えることにより、艶を所
望の艶にすることが容易である。
望の艶にすることが容易である。
本発明の耐擦傷性艶消化粧材は、上記のような特徴を有
しているので広範な用途に適用できるが、特に、高温で
の焼付けの不可能なプラスチックフィルムを基材とする
場合に特に適しており、プラスチックフィルムを基材と
したときには、CRT防眩フィルター、メンブレンスイッ
チ、ディスプレイ、銘板、電卓の表面材等の艶消が必要
なプラスチックフィルムの耐擦傷性を向上させることが
できて価値が高い。
しているので広範な用途に適用できるが、特に、高温で
の焼付けの不可能なプラスチックフィルムを基材とする
場合に特に適しており、プラスチックフィルムを基材と
したときには、CRT防眩フィルター、メンブレンスイッ
チ、ディスプレイ、銘板、電卓の表面材等の艶消が必要
なプラスチックフィルムの耐擦傷性を向上させることが
できて価値が高い。
実施例 艶消基材として、サンドブラスト法により片方の表面が
艶消処理されたポリエステルフィルム（帝人（株）製、
SM−188−Ｓ、艶消面の凹凸高低差４μｍ、艶消面の60
゜反射グロス値4.7）を使用し、艶消面に、艶消剤を含
まない紫外線硬化性樹脂塗料（大日精化（株）製、セイ
カビームPHC、ポリエステルアクリレート系）をグラビ
アコーティング法により塗布し、次いで、塗布面上12.5
cmに設けた出力160W/cmの紫外線ランプを２灯設置した
下を10m/分の速度で通過させて紫外線を照射した。
艶消処理されたポリエステルフィルム（帝人（株）製、
SM−188−Ｓ、艶消面の凹凸高低差４μｍ、艶消面の60
゜反射グロス値4.7）を使用し、艶消面に、艶消剤を含
まない紫外線硬化性樹脂塗料（大日精化（株）製、セイ
カビームPHC、ポリエステルアクリレート系）をグラビ
アコーティング法により塗布し、次いで、塗布面上12.5
cmに設けた出力160W/cmの紫外線ランプを２灯設置した
下を10m/分の速度で通過させて紫外線を照射した。
得られた耐擦傷性艶消ポリエステルフィルムの表面の60
゜反射グロス値は、塗布量が２μｍ（乾燥時）のとき1
2.0であり、４μｍ（乾燥時）のときは71.2となり、前
者のものは極めて艶の消えた表面を有し、かつ、スチー
ルウールによる耐擦傷性テスト結果も良好であった。
゜反射グロス値は、塗布量が２μｍ（乾燥時）のとき1
2.0であり、４μｍ（乾燥時）のときは71.2となり、前
者のものは極めて艶の消えた表面を有し、かつ、スチー
ルウールによる耐擦傷性テスト結果も良好であった。
なお、上記で用いた塗料から光開始剤、増感剤を除去し
た塗料を用い、硬化のために電子線を用いても、ほぼ同
様の結果が得られた。
た塗料を用い、硬化のために電子線を用いても、ほぼ同
様の結果が得られた。
比較例 両面とも平滑なポリエステルフィルム（帝人（株）製、
Ｓタイプ）に、実施例１と同様な紫外線硬化性樹脂塗料
に艶消剤としてマイクロシリカを７％添加し、更に粘度
を低下させるためキシレンで固型分を65％に調整したも
のを用い、その他は実施例１と同様に行なったところ、
塗布の際のグラビアシリンダーの回転により発生したイ
ンキ流れ、溶剤の揮散ムラによるムラが発生すると共
に、スチールウールによる耐擦傷性テストによっても傷
の発生が見られた。
Ｓタイプ）に、実施例１と同様な紫外線硬化性樹脂塗料
に艶消剤としてマイクロシリカを７％添加し、更に粘度
を低下させるためキシレンで固型分を65％に調整したも
のを用い、その他は実施例１と同様に行なったところ、
塗布の際のグラビアシリンダーの回転により発生したイ
ンキ流れ、溶剤の揮散ムラによるムラが発生すると共
に、スチールウールによる耐擦傷性テストによっても傷
の発生が見られた。
第１図は本発明で用いる基材を示す断面図、第２図は艶
消面に比較的薄い皮膜を設けたときの化粧材の断面図、
第３図は比較的厚い皮膜を設けたときの断面図である。 １……基材 ２……微小凹凸（基材表面） ２′……微小凹凸（皮膜表面） ３……皮膜
消面に比較的薄い皮膜を設けたときの化粧材の断面図、
第３図は比較的厚い皮膜を設けたときの断面図である。 １……基材 ２……微小凹凸（基材表面） ２′……微小凹凸（皮膜表面） ３……皮膜
Claims (4)
- 【請求項１】表面に高低差が１μｍ〜15μｍの微小凹凸
からなる艶消面を有する艶消基材の艶消面に微小凹凸に
沿って設けられたコーティング時の塗布量が２μｍ〜10
μｍである架橋硬化被膜からなる耐擦傷性層を有するこ
とを特徴とする耐擦傷性艶消材。 - 【請求項２】架橋硬化被膜は艶消剤を含まないことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の耐擦傷性艶消材。 - 【請求項３】表面に高低差が１μｍ〜15μｍの微小凹凸
からなる艶消面を有する艶消基材の艶消面に微小凹凸に
沿って電離放射線硬化性塗料を２μｍ〜10μｍ塗布し、
次いで電離放射線を照射することを特徴とする耐擦傷性
艶消材の製造方法。 - 【請求項４】電離放射線硬化性塗料として艶消剤を含ま
ないものを使用することを特徴とする特許請求の範囲第
３項記載の耐擦傷性艶消材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61024715A JPH0732892B2 (ja) | 1986-02-06 | 1986-02-06 | 耐擦傷性艶消材およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61024715A JPH0732892B2 (ja) | 1986-02-06 | 1986-02-06 | 耐擦傷性艶消材およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62183886A JPS62183886A (ja) | 1987-08-12 |
| JPH0732892B2 true JPH0732892B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=12145862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61024715A Expired - Lifetime JPH0732892B2 (ja) | 1986-02-06 | 1986-02-06 | 耐擦傷性艶消材およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0732892B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2579292B2 (ja) * | 1987-08-24 | 1997-02-05 | 大日本印刷株式会社 | 艶消フィルムの製造方法 |
| JPH02139726U (ja) * | 1989-04-26 | 1990-11-21 | ||
| JPH0373390A (ja) * | 1989-08-14 | 1991-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 熱転写記録用ポリエステルフィルム及びその製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5497640A (en) * | 1978-01-18 | 1979-08-01 | Kansai Paint Co Ltd | Uneven pattern finishing |
| JPS562326A (en) * | 1979-06-21 | 1981-01-12 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Preparation of molded article for decoration use, having matted surface |
-
1986
- 1986-02-06 JP JP61024715A patent/JPH0732892B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62183886A (ja) | 1987-08-12 |
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