JPH07329425A - 保護されたヒートモード記録材料の製造方法 - Google Patents
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- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 直接追記型（ＤＲＡＷ）の能力を有するヒー
トモード記録材料の製造方法を提供する。 【構成】 “直接追記型”（ＤＲＡＷ）能力を有し、永
久支持体上にヒートモード記録層を含有するヒートモー
ド記録材料の製造方法において、前記方法が下記工程を
連続的順序で含むことを特徴とする製造方法： （１） 層又は層の集合が２０μｍ以下の厚さを有する
ウエブ型の仮支持体によって運ばれた単一の接着層又は
多重層の集合を前記記録層に熱及び圧力で積層すること
によって積層ウエブを形成し、かつ （２） 前記記録層上の保護材料として硬化を終えた
後、前記単一の接着層を離して前記接着層から前記仮支
持体を分離し、又は（２′） 転写された層の集合の少
なくとも最外層の硬化を終えた後、前記記録層上の保護
材料として前記層の集合を離して前記接着層の集合から
前記仮支持体を分離する。
トモード記録材料の製造方法を提供する。 【構成】 “直接追記型”（ＤＲＡＷ）能力を有し、永
久支持体上にヒートモード記録層を含有するヒートモー
ド記録材料の製造方法において、前記方法が下記工程を
連続的順序で含むことを特徴とする製造方法： （１） 層又は層の集合が２０μｍ以下の厚さを有する
ウエブ型の仮支持体によって運ばれた単一の接着層又は
多重層の集合を前記記録層に熱及び圧力で積層すること
によって積層ウエブを形成し、かつ （２） 前記記録層上の保護材料として硬化を終えた
後、前記単一の接着層を離して前記接着層から前記仮支
持体を分離し、又は（２′） 転写された層の集合の少
なくとも最外層の硬化を終えた後、前記記録層上の保護
材料として前記層の集合を離して前記接着層の集合から
前記仮支持体を分離する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は“直接追記型”（ＤＲＡ
Ｗ）能力を有するヒートモード記録材料の製造方法及び
ＤＲＡＷのために好適な材料に関する。
Ｗ）能力を有するヒートモード記録材料の製造方法及び
ＤＲＡＷのために好適な材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】公知のＤＲＡＷ記録材料のほとんどすべ
てがヒートモード記録層、即ち人が判読可能な又は機械
が判読可能なマーク（mark）を生じる強い熱を起こす光
の吸収によって記録が行われる層を特徴としている。
てがヒートモード記録層、即ち人が判読可能な又は機械
が判読可能なマーク（mark）を生じる強い熱を起こす光
の吸収によって記録が行われる層を特徴としている。
【０００３】一般的なヒートモードＤＲＡＷ記録材料で
は相対的に低融点の金属、それらの合金又は染料の薄い
記録層が支持体上に存在する。かかる層は厳密には感光
性でないが、高強度、短時間パルスのレーザー光の吸収
によって自由になる熱エネルギーに反応を示す。書き込
みスポットは少量の感熱層を融蝕又は溶融する。その加
熱領域では表面張力によって収縮して小さなクレーター
又は穴を生じる。
は相対的に低融点の金属、それらの合金又は染料の薄い
記録層が支持体上に存在する。かかる層は厳密には感光
性でないが、高強度、短時間パルスのレーザー光の吸収
によって自由になる熱エネルギーに反応を示す。書き込
みスポットは少量の感熱層を融蝕又は溶融する。その加
熱領域では表面張力によって収縮して小さなクレーター
又は穴を生じる。
【０００４】ＤＲＡＷ記録材料は印刷回路の製造に適用
されうるフォトレジスト層の密着露光で中間像（写真用
具（phototool ）とも称せられる）として作用する人が
判読可能な又は機械が判読可能な記録又は光学マスクを
製造するために像に従って変調されたレーザービームを
記録するための媒体として使用することができる。
されうるフォトレジスト層の密着露光で中間像（写真用
具（phototool ）とも称せられる）として作用する人が
判読可能な又は機械が判読可能な記録又は光学マスクを
製造するために像に従って変調されたレーザービームを
記録するための媒体として使用することができる。
【０００５】人が判読可能な記録は例えば拡大及び投影
で読むことができるマイクロ画像である。その例として
は透明支持体上のコンピュータ出力マイクロフィルム
（ＣＯＭ）がある。コンピューター出力マイクロフィル
ム像はそのＣＯＭ記録を通して光を投影して光学的拡大
をすることによって読み手が読むことができる。拡大し
たマイクロフィルム像をジアゾフィルム又はハロゲン化
銀乳剤材料のような好適な記録材料上に複写することが
できる。拡大した像のハードコピーを例えば電子写真の
分野で知られた技術によって読み取りプリンターで得る
ことができる。
で読むことができるマイクロ画像である。その例として
は透明支持体上のコンピュータ出力マイクロフィルム
（ＣＯＭ）がある。コンピューター出力マイクロフィル
ム像はそのＣＯＭ記録を通して光を投影して光学的拡大
をすることによって読み手が読むことができる。拡大し
たマイクロフィルム像をジアゾフィルム又はハロゲン化
銀乳剤材料のような好適な記録材料上に複写することが
できる。拡大した像のハードコピーを例えば電子写真の
分野で知られた技術によって読み取りプリンターで得る
ことができる。
【０００６】機械が判読可能なＤＲＡＷ記録材料の例は
光ディスクである。今まで光ディスクの製造のためにテ
ルル及びテルル合金がレーザービームで局部的に加熱す
るとピット形成により反射率を減ずる高反射率の薄い金
属フィルムを形成するために最も広く使用されてきた
（例えば定期刊行誌 Physik in unserer Zeit，１
５．Jahrg. １９８４／Nr. ５，１２９−１３０，表題
“ Optische Datenspeicher ”， Jochen Fricke 参
照）。テルルは毒性があり、酸素及び湿度の感受性のた
め記録特性に劣る。それゆえテルルを含有する記録層は
許容されうる記録寿命を得るために空密的に保護されて
いる。
光ディスクである。今まで光ディスクの製造のためにテ
ルル及びテルル合金がレーザービームで局部的に加熱す
るとピット形成により反射率を減ずる高反射率の薄い金
属フィルムを形成するために最も広く使用されてきた
（例えば定期刊行誌 Physik in unserer Zeit，１
５．Jahrg. １９８４／Nr. ５，１２９−１３０，表題
“ Optische Datenspeicher ”， Jochen Fricke 参
照）。テルルは毒性があり、酸素及び湿度の感受性のた
め記録特性に劣る。それゆえテルルを含有する記録層は
許容されうる記録寿命を得るために空密的に保護されて
いる。
【０００７】毒性の問題を避けるためにＳｎ及びＢｉの
ような他の相対的に低融点の金属がヒートモード記録材
料の製造に導入されてきた。ＤＲＡＷヒートモード記録
に使用するために好適な他の金属の概括はＵＳ−Ｐ４４
９９１７８及び４３８８４００に与えられている。
ような他の相対的に低融点の金属がヒートモード記録材
料の製造に導入されてきた。ＤＲＡＷヒートモード記録
に使用するために好適な他の金属の概括はＵＳ−Ｐ４４
９９１７８及び４３８８４００に与えられている。
【０００８】金属層はヒードモード記録の融蝕によって
低反射率のスポットが得られるように相対的に高い反射
率を有する。
低反射率のスポットが得られるように相対的に高い反射
率を有する。
【０００９】別の具体例によればレーザービームがあた
る領域で層が融蝕する透明支持体上に初めの反射率が劣
るヒートモード記録層を使用することによって透過率の
増加がレーザービーム加熱された領域で得られる。透明
支持体上にＧｅＳ又はＳｎＳのような硫化物及び低融点
金属を共に付着して作り、かつＣＯＭ製造を意図したそ
のような層は例えば Journal of Applied Photograp
hic Engineering，Vol.９，No. １，１９８３年２月，
１２頁に記載されている。情報が反射モードで読まれる
光ディスクの製造のために前記反射率の劣るヒートモー
ド記録層は支持体によって運ばれる相対的に高融点の反
射支持体又は層（例えばアルミニウム又はグラファイト
層）上に適用される。
る領域で層が融蝕する透明支持体上に初めの反射率が劣
るヒートモード記録層を使用することによって透過率の
増加がレーザービーム加熱された領域で得られる。透明
支持体上にＧｅＳ又はＳｎＳのような硫化物及び低融点
金属を共に付着して作り、かつＣＯＭ製造を意図したそ
のような層は例えば Journal of Applied Photograp
hic Engineering，Vol.９，No. １，１９８３年２月，
１２頁に記載されている。情報が反射モードで読まれる
光ディスクの製造のために前記反射率の劣るヒートモー
ド記録層は支持体によって運ばれる相対的に高融点の反
射支持体又は層（例えばアルミニウム又はグラファイト
層）上に適用される。
【００１０】別の具体例ではヒートモード記録は例えば
定期刊行誌 Philips Techn. T. ４１，３３８−３４６
頁， D. J. Gravesteijn 及び J. Van der Veen 著
に記載のように結合剤のない有機染料層で実行される。
定期刊行誌 Philips Techn. T. ４１，３３８−３４６
頁， D. J. Gravesteijn 及び J. Van der Veen 著
に記載のように結合剤のない有機染料層で実行される。
【００１１】ヒートモード記録のために好適な金属、合
金又は染料の薄い層（通常０．１ミクロン未満の厚さ）
は真空蒸着によって製造することが有利である。これら
の薄い真空蒸着層は機械的に弱く、保護被覆の適用を必
要とする。電気めっきは薄い金属層を付着するために好
適な別の方法であるが、導電性支持体又は中間層、例え
ばポリエステル支持体又はガラス上に適用された透明イ
ンジウム−錫酸化物被覆（ＮＥＳＡ被覆）を必要とす
る。
金又は染料の薄い層（通常０．１ミクロン未満の厚さ）
は真空蒸着によって製造することが有利である。これら
の薄い真空蒸着層は機械的に弱く、保護被覆の適用を必
要とする。電気めっきは薄い金属層を付着するために好
適な別の方法であるが、導電性支持体又は中間層、例え
ばポリエステル支持体又はガラス上に適用された透明イ
ンジウム−錫酸化物被覆（ＮＥＳＡ被覆）を必要とす
る。
【００１２】他の材料との直接摩擦接触に対して記録層
を保護する機械的作用を有する保護被覆は光ディスクに
おいて情報の光学的再生録音中に汚れを焦点から遠ざけ
る光学的機能も有する。
を保護する機械的作用を有する保護被覆は光ディスクに
おいて情報の光学的再生録音中に汚れを焦点から遠ざけ
る光学的機能も有する。
【００１３】機械的に傷つきやすい記録層の保護は二つ
の方法によってなされている。第１の方法では分離支持
体上の二つの記録層は化学的に不活性のガスを満たしう
る空間を間に有しかつ直面する支持体とともにサンドウ
ィッチ状に結合される。第２の方法では記録面は保護オ
ーバーコートとして作用する透明材料で被覆される（Ｉ
ＥＥＥ spectrum １９７８年８月，２２及び２３頁及
び特にFig.２Ａ及びFig.２Ｂ参照）。
の方法によってなされている。第１の方法では分離支持
体上の二つの記録層は化学的に不活性のガスを満たしう
る空間を間に有しかつ直面する支持体とともにサンドウ
ィッチ状に結合される。第２の方法では記録面は保護オ
ーバーコートとして作用する透明材料で被覆される（Ｉ
ＥＥＥ spectrum １９７８年８月，２２及び２３頁及
び特にFig.２Ａ及びFig.２Ｂ参照）。
【００１４】増大した感度、耐久性及び機械的強度を有
するヒートモード記録材料を得るためのＵＳ−Ｐ４４９
９１７８及び４３８８４００によれば保護層の製造に有
機樹脂を使用することが効果的である。スチレン樹脂、
ビニルアセテート樹脂、メタクリル酸エステル樹脂、ア
ミド樹脂、セルロース樹脂、ハロゲン化ポリオレフィ
ン、フェノール樹脂、可溶性ポリエステルなどのような
保護層を形成するための様々な樹脂を使用することがで
きる。
するヒートモード記録材料を得るためのＵＳ−Ｐ４４９
９１７８及び４３８８４００によれば保護層の製造に有
機樹脂を使用することが効果的である。スチレン樹脂、
ビニルアセテート樹脂、メタクリル酸エステル樹脂、ア
ミド樹脂、セルロース樹脂、ハロゲン化ポリオレフィ
ン、フェノール樹脂、可溶性ポリエステルなどのような
保護層を形成するための様々な樹脂を使用することがで
きる。
【００１５】これらの樹脂は広い種類の溶剤に溶解さ
れ、いずれかの公知の方法によって記録層上に塗布さ
れ、一方溶剤は蒸発される。保護層の厚さはフィルム強
さ及び要求される記録濃度で変化する。通常その厚さは
０．０１〜５μｍ（ミクロン）の範囲である。
れ、いずれかの公知の方法によって記録層上に塗布さ
れ、一方溶剤は蒸発される。保護層の厚さはフィルム強
さ及び要求される記録濃度で変化する。通常その厚さは
０．０１〜５μｍ（ミクロン）の範囲である。
【００１６】溶解された樹脂からの保護層の被覆又は塗
布はヒートモード記録層の真空蒸着のために使用される
真空チャンバー内では行われない。ウエブ型支持体がヒ
ートモード記録層で真空被覆された後、真空チャンバー
内の巻取ローラーに巻き取られ、一方それは溶解された
樹脂又は樹脂混合物を有するウエブの巻出及び被覆のた
めに大気条件でそこから被覆ステーションに運ばれる。
布はヒートモード記録層の真空蒸着のために使用される
真空チャンバー内では行われない。ウエブ型支持体がヒ
ートモード記録層で真空被覆された後、真空チャンバー
内の巻取ローラーに巻き取られ、一方それは溶解された
樹脂又は樹脂混合物を有するウエブの巻出及び被覆のた
めに大気条件でそこから被覆ステーションに運ばれる。
【００１７】ＵＳ−Ｐ５１４７４９０に説明されている
ように新しく真空被覆されたヒートモード記録層を有す
るウエブの巻取及び巻出は記録層にピンホールのような
光学的欠点を生成する問題を起こす。なぜならば前記操
作で避けることができない滑り摩擦が巻取及び巻出操作
の制御下に行われる場合であってもほこりの形成及び摩
耗によって記録層に損傷を起こすからである。ピンホー
ル及びあらゆる種類の微小な引掻き傷はマイクロ像を生
成するための記録材料に特に望ましくない。
ように新しく真空被覆されたヒートモード記録層を有す
るウエブの巻取及び巻出は記録層にピンホールのような
光学的欠点を生成する問題を起こす。なぜならば前記操
作で避けることができない滑り摩擦が巻取及び巻出操作
の制御下に行われる場合であってもほこりの形成及び摩
耗によって記録層に損傷を起こすからである。ピンホー
ル及びあらゆる種類の微小な引掻き傷はマイクロ像を生
成するための記録材料に特に望ましくない。
【００１８】ＵＳ−Ｐ５１４７４９０にクレームされた
ヒートモード記録材料の製造方法によれば前記問題は接
着層によって支持された“直接追記型”（ＤＲＡＷ）記
録層上にウエブの形で保護有機樹脂層を積層することで
解決される。それは前記支持された記録層がその記録層
が適用される同じ真空条件下で封止された領域内にとど
まっている間になされる。
ヒートモード記録材料の製造方法によれば前記問題は接
着層によって支持された“直接追記型”（ＤＲＡＷ）記
録層上にウエブの形で保護有機樹脂層を積層することで
解決される。それは前記支持された記録層がその記録層
が適用される同じ真空条件下で封止された領域内にとど
まっている間になされる。
【００１９】実際には前記保護有機樹脂層と接着層の組
合せた全厚さはしわのない用途のためには２０μｍ未満
であるが、その厚さは感光性部材（例えばフォトレジス
ト層）の密着露光においてマスク（即ち、写真手段（ph
ototool ））として最終ＤＲＡＷプリントを使用する場
合に前記厚さによって作られた露光距離のためだけでな
く積層された層の光の回折及び反射のために像解像度に
一定の損失を起こす。
合せた全厚さはしわのない用途のためには２０μｍ未満
であるが、その厚さは感光性部材（例えばフォトレジス
ト層）の密着露光においてマスク（即ち、写真手段（ph
ototool ））として最終ＤＲＡＷプリントを使用する場
合に前記厚さによって作られた露光距離のためだけでな
く積層された層の光の回折及び反射のために像解像度に
一定の損失を起こす。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的の一つは
“直接追記型”（ＤＲＡＷ）の能力を有するヒートモー
ド記録材料の製造方法を提供することであり、その方法
では前記材料の非画像形成ヒートモード記録層は、感光
性材料の密着露光において写真用具（phototool）とし
て使用するのに特に好適なヒートモード像形成記録材料
を上部に作るために充分に薄い保護層または層の集合で
保護し、それによって印刷解像度を改良する。
“直接追記型”（ＤＲＡＷ）の能力を有するヒートモー
ド記録材料の製造方法を提供することであり、その方法
では前記材料の非画像形成ヒートモード記録層は、感光
性材料の密着露光において写真用具（phototool）とし
て使用するのに特に好適なヒートモード像形成記録材料
を上部に作るために充分に薄い保護層または層の集合で
保護し、それによって印刷解像度を改良する。
【００２１】特に本発明の目的は高い耐引掻性の薄い単
一の最外保護層で被覆したヒートモード記録層を有する
直接追記型（ＤＲＡＷ）記録材料を提供することにあ
る。
一の最外保護層で被覆したヒートモード記録層を有する
直接追記型（ＤＲＡＷ）記録材料を提供することにあ
る。
【００２２】本発明の他の目的及び利点は以下の記述及
び図面から明らかであろう。
び図面から明らかであろう。
【００２３】本発明によれば“直接追記型”（ＤＲＡ
Ｗ）能力を有し、永久支持体上にヒートモード記録層を
含有するヒートモード記録材料の製造方法において、前
記方法が下記工程を連続的順序で含むことを特徴とする
製造方法が提供される： （１） 層又は層の集合が２０μｍ以下の厚さを有する
ウエブ型の仮支持体によって運ばれた単一の接着層又は
多重層の集合を前記記録層に熱及び圧力で積層すること
によって積層ウエブを形成し、かつ （２） 前記記録層上の保護材料として硬化を終えた
後、前記単一の接着層を離して前記接着層から前記仮支
持体を分離し、又は（２′） 転写された層の集合の少
なくとも最外層の硬化を終えた後、前記記録層上の保護
材料として前記層の集合を離して前記接着層の集合から
前記仮支持体を分離する。
Ｗ）能力を有し、永久支持体上にヒートモード記録層を
含有するヒートモード記録材料の製造方法において、前
記方法が下記工程を連続的順序で含むことを特徴とする
製造方法が提供される： （１） 層又は層の集合が２０μｍ以下の厚さを有する
ウエブ型の仮支持体によって運ばれた単一の接着層又は
多重層の集合を前記記録層に熱及び圧力で積層すること
によって積層ウエブを形成し、かつ （２） 前記記録層上の保護材料として硬化を終えた
後、前記単一の接着層を離して前記接着層から前記仮支
持体を分離し、又は（２′） 転写された層の集合の少
なくとも最外層の硬化を終えた後、前記記録層上の保護
材料として前記層の集合を離して前記接着層の集合から
前記仮支持体を分離する。
【００２４】さらに本発明は永久支持体上にヒートモー
ド記録層を有する直接追記型（ＤＲＡＷ）記録材料を提
供するものであり、前記ヒートモード記録層は多くても
２０μｍの厚さを有する単一の最外保護層に接着するか
又は多くても２０μｍの全厚さを有する多重層の集合に
接着し、保護層であるその最外層は熱によって及び／又
は紫外線又は電子ビーム線によって化学的に硬化され、
前記最外保護層は１３ミクロンの先端直径を有する単一
の球状先端サファイヤ鉄筆を引掻試験に使用するＡＮＳ
Ｉ試験ＰＨ１．３７−１９７７法Ａによって測定した値
が６ｇ以上の耐引掻性値を２０℃において有する。
ド記録層を有する直接追記型（ＤＲＡＷ）記録材料を提
供するものであり、前記ヒートモード記録層は多くても
２０μｍの厚さを有する単一の最外保護層に接着するか
又は多くても２０μｍの全厚さを有する多重層の集合に
接着し、保護層であるその最外層は熱によって及び／又
は紫外線又は電子ビーム線によって化学的に硬化され、
前記最外保護層は１３ミクロンの先端直径を有する単一
の球状先端サファイヤ鉄筆を引掻試験に使用するＡＮＳ
Ｉ試験ＰＨ１．３７−１９７７法Ａによって測定した値
が６ｇ以上の耐引掻性値を２０℃において有する。
【００２５】ＡＮＳＩは American National Standar
ds Institute の頭文字であり、登録商標である。ＡＮ
ＳＩ試験ＰＨ１．３７−１９７７法Ａは処理写真フィル
ムの耐引掻性を測定するための方法の試験である。標準
試験は乳剤又は基材側のいずれかの上で乾式処理写真フ
ィルムの耐引掻性を評価することを意図したものであ
る。
ds Institute の頭文字であり、登録商標である。ＡＮ
ＳＩ試験ＰＨ１．３７−１９７７法Ａは処理写真フィル
ムの耐引掻性を測定するための方法の試験である。標準
試験は乳剤又は基材側のいずれかの上で乾式処理写真フ
ィルムの耐引掻性を評価することを意図したものであ
る。
【００２６】方法Ａは前記ＡＮＳＩ標準ＰＨ１．３７−
１９７７に記載の引掻試験装置で操作するが、その装置
では試料ホルダー内に保持される試験材料のストリップ
は適用される試験条件において１３ミクロンの先端直径
を有する単一の球状先端サファイヤ鉄筆の下でスムーズ
に、直線状に及び水平に移動する。サファイヤ鉄筆は旋
回可能なアームの端に装着され、かくしてそれを試料上
に降ろすことができ、それによって試料ホルダーが鉄筆
の下に沿って移動するときに試料上に線を引く。鉄筆は
試料と垂直に接触すべきである。
１９７７に記載の引掻試験装置で操作するが、その装置
では試料ホルダー内に保持される試験材料のストリップ
は適用される試験条件において１３ミクロンの先端直径
を有する単一の球状先端サファイヤ鉄筆の下でスムーズ
に、直線状に及び水平に移動する。サファイヤ鉄筆は旋
回可能なアームの端に装着され、かくしてそれを試料上
に降ろすことができ、それによって試料ホルダーが鉄筆
の下に沿って移動するときに試料上に線を引く。鉄筆は
試料と垂直に接触すべきである。
【００２７】鉄筆アームは鉄筆に全く圧力を生じないよ
うにつり合わせられている。引掻くための圧力を形成す
る重さはその重心を鉄筆上部に直接適用している。これ
らの重量は１〜１００グラムの範囲である。適用される
試験手順に従って、平行線は１ｇずつ異なる荷重で上方
に動く線で形成されている。
うにつり合わせられている。引掻くための圧力を形成す
る重さはその重心を鉄筆上部に直接適用している。これ
らの重量は１〜１００グラムの範囲である。適用される
試験手順に従って、平行線は１ｇずつ異なる荷重で上方
に動く線で形成されている。
【００２８】一定の荷重で引掻き傷を形成して視覚的に
評価する。耐引掻性の評価は最初に見ることができる引
掻き傷を生じる荷重（グラム）で行う。
評価する。耐引掻性の評価は最初に見ることができる引
掻き傷を生じる荷重（グラム）で行う。
【００２９】本発明の好ましい具体例によれば、ＤＲＡ
Ｗ能力を有するヒートモード記録材料の製造は実質的に
減圧下でウエブ型の支持体上に薄い層としてバルク材料
（例えば溶融金属）の蒸発及びその再付着を含む方法に
適切に適用する“真空蒸着”によってヒートモード記録
層を被覆する工程を含む。
Ｗ能力を有するヒートモード記録材料の製造は実質的に
減圧下でウエブ型の支持体上に薄い層としてバルク材料
（例えば溶融金属）の蒸発及びその再付着を含む方法に
適切に適用する“真空蒸着”によってヒートモード記録
層を被覆する工程を含む。
【００３０】別の具体例によればＤＲＡＷ記録材料のヒ
ートモード記録層の真空被覆は“スパッタリング”によ
って行われる。スパッタリングはガス（通常、減圧下の
アルゴン）のイオン化による活動粒子の生成及び電界中
での標的材料の前記粒子の衝突を含むものであり、それ
によってウエブ型支持体への標的原子の飛出しが起こ
る。
ートモード記録層の真空被覆は“スパッタリング”によ
って行われる。スパッタリングはガス（通常、減圧下の
アルゴン）のイオン化による活動粒子の生成及び電界中
での標的材料の前記粒子の衝突を含むものであり、それ
によってウエブ型支持体への標的原子の飛出しが起こ
る。
【００３１】本発明による保護材料を形成する接着層又
は多重層の集合はヒートモード記録層に含有される像情
報の視覚検査をそれを通して可能にする程度に透明であ
ることが好ましく、印刷マスク又は写真用具（phototoo
l ）としての用途のためには重合体フォトレジスト材料
のような下にあるＵＶ感光性記録材料に向けて密着露光
に使用される紫外線照射を可能にするため紫外光に関し
て充分に透明であることが好ましい。
は多重層の集合はヒートモード記録層に含有される像情
報の視覚検査をそれを通して可能にする程度に透明であ
ることが好ましく、印刷マスク又は写真用具（phototoo
l ）としての用途のためには重合体フォトレジスト材料
のような下にあるＵＶ感光性記録材料に向けて密着露光
に使用される紫外線照射を可能にするため紫外光に関し
て充分に透明であることが好ましい。
【００３２】前記多重層の集合の全厚さ又は適用される
単一接着層の厚さは０．１〜１５μｍの範囲であること
が好ましく、１〜１０μｍの範囲であることがさらに好
ましい。
単一接着層の厚さは０．１〜１５μｍの範囲であること
が好ましく、１〜１０μｍの範囲であることがさらに好
ましい。
【００３３】本発明を図１及び図２によって説明する。
図１を参照すると、円筒状真空チャンバー１は相対的に
低融点の金属（例えばビスマス）３が金属蒸着源として
存在する電気的に加熱された耐熱性トレー又はボート２
を含んでいる。高真空下で（例えば１０-2Ｐａ〜８×１
０-1Ｐａの範囲の圧力で）得られる金属蒸気はポリエチ
レンテレフタレートから作られるウエブ４の方に向けら
れ、５ｎｍ〜３００ｎｍの範囲の厚さで上部に付着され
る。ビスマス層の光学濃度は後でヒートモード形成され
るビスマス像の意図する用途に従って１．５〜４の範囲
であることができる。ウエブ４は巻出ロール５によって
供給され、ガイドローラー７上を通って冷却された支持
ローラー６に運ばれる。バッフル８はウエブ４の蒸着を
冷却ローラー６の小さな部分に制限する。そのようにし
て例えば真空チャンバーの壁の望ましくない金属の付着
が防止される。金属蒸着の領域を過ぎた後、ウエブ４は
上方に走行し、内部加熱されたバッキングローラー１１
の方に圧力を及ぼす圧力ローラー１０の間で形成された
ニップ内の供給ローラー１２によって供給される積層ウ
エブ９（接着層、剥離層及び仮支持体の複合材料）に会
う。巻取ローラー１３はこの段階で最外層として仮支持
体を有する積層ウエブ材料１４のための貯蔵ローラーと
して作用する。
図１を参照すると、円筒状真空チャンバー１は相対的に
低融点の金属（例えばビスマス）３が金属蒸着源として
存在する電気的に加熱された耐熱性トレー又はボート２
を含んでいる。高真空下で（例えば１０-2Ｐａ〜８×１
０-1Ｐａの範囲の圧力で）得られる金属蒸気はポリエチ
レンテレフタレートから作られるウエブ４の方に向けら
れ、５ｎｍ〜３００ｎｍの範囲の厚さで上部に付着され
る。ビスマス層の光学濃度は後でヒートモード形成され
るビスマス像の意図する用途に従って１．５〜４の範囲
であることができる。ウエブ４は巻出ロール５によって
供給され、ガイドローラー７上を通って冷却された支持
ローラー６に運ばれる。バッフル８はウエブ４の蒸着を
冷却ローラー６の小さな部分に制限する。そのようにし
て例えば真空チャンバーの壁の望ましくない金属の付着
が防止される。金属蒸着の領域を過ぎた後、ウエブ４は
上方に走行し、内部加熱されたバッキングローラー１１
の方に圧力を及ぼす圧力ローラー１０の間で形成された
ニップ内の供給ローラー１２によって供給される積層ウ
エブ９（接着層、剥離層及び仮支持体の複合材料）に会
う。巻取ローラー１３はこの段階で最外層として仮支持
体を有する積層ウエブ材料１４のための貯蔵ローラーと
して作用する。
【００３４】真空チャンバー１の外では仮支持体がその
剥離層とともに除去（剥離）され、最外層であるあらわ
にされた接着層は所望によりさらなる熱の適用によって
（即ち、熱的化学的硬化）又は電子ビームあるいは紫外
線照射によって硬化される。そのあとすぐにヒートモー
ド記録ウエブは密着露光目的のため（例えば写真用具の
製造のため）のマイクロフィルム型（例えばマイクロフ
ィッシュ型）光フロッピーディスク又はシートに切断さ
れる。
剥離層とともに除去（剥離）され、最外層であるあらわ
にされた接着層は所望によりさらなる熱の適用によって
（即ち、熱的化学的硬化）又は電子ビームあるいは紫外
線照射によって硬化される。そのあとすぐにヒートモー
ド記録ウエブは密着露光目的のため（例えば写真用具の
製造のため）のマイクロフィルム型（例えばマイクロフ
ィッシュ型）光フロッピーディスク又はシートに切断さ
れる。
【００３５】ＵＳ−Ｐ５１４７４９０に説明されるよう
に仮支持体が除去される剥離工程はヒートモード記録層
の被覆中に存在する真空条件下で実施することができ
る。
に仮支持体が除去される剥離工程はヒートモード記録層
の被覆中に存在する真空条件下で実施することができ
る。
【００３６】図２は剥離手順を概略的に表したものであ
り、その手順によれば最外単一保護接着層は図１の供給
ローラー１３から取ったヒートモード記録材料の真空被
覆金属記録層上に残っている。明確にするため記録材料
層の寸法及び割合はいくらか誇張されている。図２はヒ
ートモード記録層２１、例えばビスマス層、接着層２
２、剥離層２３及び仮支持体２４を真空被覆した永久樹
脂支持体２０からなる積層されたウエブ１４を示したも
のである。前記ウエブ１４は圧力ローラー２５及び２６
のニップに導かれ、仮支持体２０はその剥離層２３とと
もにヒートモード記録材料の永久に支持された金属層２
１上の最外層として接着層２２を離して剥離される。
り、その手順によれば最外単一保護接着層は図１の供給
ローラー１３から取ったヒートモード記録材料の真空被
覆金属記録層上に残っている。明確にするため記録材料
層の寸法及び割合はいくらか誇張されている。図２はヒ
ートモード記録層２１、例えばビスマス層、接着層２
２、剥離層２３及び仮支持体２４を真空被覆した永久樹
脂支持体２０からなる積層されたウエブ１４を示したも
のである。前記ウエブ１４は圧力ローラー２５及び２６
のニップに導かれ、仮支持体２０はその剥離層２３とと
もにヒートモード記録材料の永久に支持された金属層２
１上の最外層として接着層２２を離して剥離される。
【００３７】ヒートモード記録によって書かれた透明モ
ードで読む情報のため及び密着露光又は投影目的のた
め、例えば読み取りプリンターで拡大コピーの形でＣＯ
Ｍ再現するため、記録層は透明樹脂支持体上に真空蒸着
される。代表的な樹脂支持体はハードポリマー、例えば
ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル、ポ
リカーボネート、セルローストリアセテート、ポリ（メ
タ）アクリルエステル、ポリ塩化ビニル及び共重合体か
ら作られる。これらの支持体は例えば５０〜２００μｍ
の範囲の厚さを有しており、所望により公開されたヨー
ロッパ特許出願０４６４９０６に記載のように記録層の
接着性を改良する１以上の下塗り層を設けられかつ／又
は低軟化点を有する熱的に変形可能な層、例えば好まし
くは１０μｍ未満の厚さを有するポリエチレン層のよう
なポリオレフィン層をヒートモード記録層と接触させて
設けられる。ヒートモード記録層と直接接触する軟らか
く変形しうる層又はエラストマー層の存在は、ヒートモ
ード記録層を形成する融蝕性金属又は金属合金、例えば
ビスマスがレーザー光線によって加熱される場合に、簡
単に液滴を形成するので好ましい。低融点金属を含有す
るヒートモード記録層及び低軟化点を有するかかる層で
の液滴形成は Journal of Applied Photographic E
ngineering， Volume ９， Number １，１９８３年２
月，１２頁に記載されている。
ードで読む情報のため及び密着露光又は投影目的のた
め、例えば読み取りプリンターで拡大コピーの形でＣＯ
Ｍ再現するため、記録層は透明樹脂支持体上に真空蒸着
される。代表的な樹脂支持体はハードポリマー、例えば
ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル、ポ
リカーボネート、セルローストリアセテート、ポリ（メ
タ）アクリルエステル、ポリ塩化ビニル及び共重合体か
ら作られる。これらの支持体は例えば５０〜２００μｍ
の範囲の厚さを有しており、所望により公開されたヨー
ロッパ特許出願０４６４９０６に記載のように記録層の
接着性を改良する１以上の下塗り層を設けられかつ／又
は低軟化点を有する熱的に変形可能な層、例えば好まし
くは１０μｍ未満の厚さを有するポリエチレン層のよう
なポリオレフィン層をヒートモード記録層と接触させて
設けられる。ヒートモード記録層と直接接触する軟らか
く変形しうる層又はエラストマー層の存在は、ヒートモ
ード記録層を形成する融蝕性金属又は金属合金、例えば
ビスマスがレーザー光線によって加熱される場合に、簡
単に液滴を形成するので好ましい。低融点金属を含有す
るヒートモード記録層及び低軟化点を有するかかる層で
の液滴形成は Journal of Applied Photographic E
ngineering， Volume ９， Number １，１９８３年２
月，１２頁に記載されている。
【００３８】本発明は接着層が多重層の集合（例えば２
層の集合）の一部を形成する具体例を含み、その例では
ヒートモード記録層に接触する層は好ましくは３０℃未
満のガラス転移温度を有する柔らかい非硬化性の熱溶融
接着重合体から作られ、少なくとも記録材料上に最外層
を後で形成する層は熱による硬化及び／又は紫外線又は
電子ビーム照射による硬化が可能である。
層の集合）の一部を形成する具体例を含み、その例では
ヒートモード記録層に接触する層は好ましくは３０℃未
満のガラス転移温度を有する柔らかい非硬化性の熱溶融
接着重合体から作られ、少なくとも記録材料上に最外層
を後で形成する層は熱による硬化及び／又は紫外線又は
電子ビーム照射による硬化が可能である。
【００３９】３０℃未満のガラス転移温度を有する重合
体は当業者に知られており、それらのいくつかは Journ
al of Chemical Education ， Vol. ６１， Number
８，１９８４年８月，６６８頁“ An Overview of t
he Glass Transition Temperature of Synthetic
Polymers ”に記載されている。かかる重合体の例はポ
リオレフィン（例、ポリエチレン又はポリ（１−ブテ
ン））、エチレン−ビニルアセテート共重合体、エチレ
ン−アクリル酸（エステル）共重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、脂肪族炭素鎖を有するポリアミド又は
ポリエステル（例、ポリ（エチレンアジペート））から
なる群から選択される。
体は当業者に知られており、それらのいくつかは Journ
al of Chemical Education ， Vol. ６１， Number
８，１９８４年８月，６６８頁“ An Overview of t
he Glass Transition Temperature of Synthetic
Polymers ”に記載されている。かかる重合体の例はポ
リオレフィン（例、ポリエチレン又はポリ（１−ブテ
ン））、エチレン−ビニルアセテート共重合体、エチレ
ン−アクリル酸（エステル）共重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、脂肪族炭素鎖を有するポリアミド又は
ポリエステル（例、ポリ（エチレンアジペート））から
なる群から選択される。
【００４０】本発明によるヒートモード記録材料の仮支
持体は永久支持体と同じ材料から作ることができるが、
接着層を容易に剥離できる剥離層を被覆することが好ま
しい。
持体は永久支持体と同じ材料から作ることができるが、
接着層を容易に剥離できる剥離層を被覆することが好ま
しい。
【００４１】剥離層は例えば固形ワックス、ポリビニル
アルコール、シリコーン樹脂及び高フッ素化樹脂からな
る群から選択される物質から作ることができ（その例は
ＵＳ−Ｐ４０５９７６８に記載されている）又は仮支持
体に接着するフィルム形成重合体に好ましくは３０重量
％を越えて剥離剤として作用する前記物質を含有するこ
とができる。特別な具体例では重合体結合剤に適用され
る剥離剤は例えばヨーロッパ特許出願０１３３０１２に
記載されるようにある程度まで硬化してもよいシリコー
ンオイルである。前記剥離層のシリコーンオイルのいく
らかは仮支持体から剥離された後、接着層上に摩擦低下
物質として残留することができる。
アルコール、シリコーン樹脂及び高フッ素化樹脂からな
る群から選択される物質から作ることができ（その例は
ＵＳ−Ｐ４０５９７６８に記載されている）又は仮支持
体に接着するフィルム形成重合体に好ましくは３０重量
％を越えて剥離剤として作用する前記物質を含有するこ
とができる。特別な具体例では重合体結合剤に適用され
る剥離剤は例えばヨーロッパ特許出願０１３３０１２に
記載されるようにある程度まで硬化してもよいシリコー
ンオイルである。前記剥離層のシリコーンオイルのいく
らかは仮支持体から剥離された後、接着層上に摩擦低下
物質として残留することができる。
【００４２】剥離層の厚さは０．３〜５μｍの範囲であ
ることが好ましい。剥離層は硬化性組成物を含有するこ
とができ、その硬化は好ましくは接着層を上部に被覆す
る前に行われる。例えば、仮のポリエチレンテレフタレ
ート支持体上に適用されたポリビニルアルコール剥離層
はテトラメトキシシラン（ＴＥＭＯＳ）で架橋すること
によって予備硬化される。
ることが好ましい。剥離層は硬化性組成物を含有するこ
とができ、その硬化は好ましくは接着層を上部に被覆す
る前に行われる。例えば、仮のポリエチレンテレフタレ
ート支持体上に適用されたポリビニルアルコール剥離層
はテトラメトキシシラン（ＴＥＭＯＳ）で架橋すること
によって予備硬化される。
【００４３】本発明に従って使用するための接着層はヒ
ートモード記録層（例えばビスマス層）に充分に良く接
着しなければならない。接着層は既に規定したような意
味において充分に透明でなければならず、しかも完成し
た記録材料を巻取る場合に永久支持体の後側に（硬化
後、例えば冷却によって）粘着してはいけない。
ートモード記録層（例えばビスマス層）に充分に良く接
着しなければならない。接着層は既に規定したような意
味において充分に透明でなければならず、しかも完成し
た記録材料を巻取る場合に永久支持体の後側に（硬化
後、例えば冷却によって）粘着してはいけない。
【００４４】好適な単一の接着層は例えばポリ（メタ）
アクリレートエステル、例えばブチルメタクリレート及
びスチレンとその共重合体、硝酸セルロース、及び熱に
よって化学的に硬化可能である（即ち、例えば公開され
たＥＰ−Ａ０５２２６０９に記載のように紫外線又は電
子ビーム線によって硬化又は熱硬化可能である）重合体
組成物から作られる。
アクリレートエステル、例えばブチルメタクリレート及
びスチレンとその共重合体、硝酸セルロース、及び熱に
よって化学的に硬化可能である（即ち、例えば公開され
たＥＰ−Ａ０５２２６０９に記載のように紫外線又は電
子ビーム線によって硬化又は熱硬化可能である）重合体
組成物から作られる。
【００４５】例えば冷却又は重合体硬化による最外単一
接着層の硬化は巻取り時に記録材料の後側にその層の粘
着を避けるために積層工程後、剥離工程前に行われる。
最外の粘着層を全く有しない多重層の集合を適用する場
合、ヒートモード記録層に接触する接着層の化学的硬化
は剥離工程の前と後に行われる。
接着層の硬化は巻取り時に記録材料の後側にその層の粘
着を避けるために積層工程後、剥離工程前に行われる。
最外の粘着層を全く有しない多重層の集合を適用する場
合、ヒートモード記録層に接触する接着層の化学的硬化
は剥離工程の前と後に行われる。
【００４６】最外保護材料を形成する層の耐引掻性を改
良するために、減摩剤が１〜１０μｍの範囲の平均粒径
を有するシロキサン（液体又は固体形状のシリコー
ン）、高級脂肪酸又はその塩（例えばステアリン酸亜
鉛）、又はシリカ又はシリケートのようなスリップ剤、
フッ素−リン酸含有界面活性剤又はワックスの形で最外
層組成物に混入される。接着層の透明性をあまり損なわ
ずにその点において好ましいものは、最外保護層から部
分的に突出するシリカ粒子及び無色シリケート粒子、例
えばマイカ、カルシウムシリケート、アルミニウムシリ
ケート、タルク（マグネシウムシリケート）である。
良するために、減摩剤が１〜１０μｍの範囲の平均粒径
を有するシロキサン（液体又は固体形状のシリコー
ン）、高級脂肪酸又はその塩（例えばステアリン酸亜
鉛）、又はシリカ又はシリケートのようなスリップ剤、
フッ素−リン酸含有界面活性剤又はワックスの形で最外
層組成物に混入される。接着層の透明性をあまり損なわ
ずにその点において好ましいものは、最外保護層から部
分的に突出するシリカ粒子及び無色シリケート粒子、例
えばマイカ、カルシウムシリケート、アルミニウムシリ
ケート、タルク（マグネシウムシリケート）である。
【００４７】仮支持体を除去し、ヒートモード記録層上
の単一の接着層又は接着多重層の集合が離れた後、得ら
れた記録材料の最外面は耐引掻性を改良する補助的な被
覆層で後被覆することができる。好ましくは１０μｍ以
下の厚さを有するこのような被覆はスプレーによって適
用することができる。前記被覆は上記のようなスリップ
剤、例えばシリコーンオイル又は脂肪酸を含んでも良く
あるいはそれらから構成されてもよい。
の単一の接着層又は接着多重層の集合が離れた後、得ら
れた記録材料の最外面は耐引掻性を改良する補助的な被
覆層で後被覆することができる。好ましくは１０μｍ以
下の厚さを有するこのような被覆はスプレーによって適
用することができる。前記被覆は上記のようなスリップ
剤、例えばシリコーンオイル又は脂肪酸を含んでも良く
あるいはそれらから構成されてもよい。
【００４８】接着層又は多重層の集合の接着層の被覆組
成物は適用される重合体のために適当な蒸発性有機溶剤
を使用して公知の薄層被覆技術によって、例えばリバー
スロール被覆又はメニスカス被覆又はスライドホッパー
被覆によって適用することができる。重合体はラテック
スの形で、即ち分散された形で水性媒体から適用するこ
とができ、乾燥時に融合される。多重層の集合を被覆す
るために被覆は多数の被覆工程で行うことができ、その
場合において低軟化点を有する重合体層は押出によって
適用することができる。所望により被覆後、全体の層厚
さを減ずるために被覆構造を延伸する。
成物は適用される重合体のために適当な蒸発性有機溶剤
を使用して公知の薄層被覆技術によって、例えばリバー
スロール被覆又はメニスカス被覆又はスライドホッパー
被覆によって適用することができる。重合体はラテック
スの形で、即ち分散された形で水性媒体から適用するこ
とができ、乾燥時に融合される。多重層の集合を被覆す
るために被覆は多数の被覆工程で行うことができ、その
場合において低軟化点を有する重合体層は押出によって
適用することができる。所望により被覆後、全体の層厚
さを減ずるために被覆構造を延伸する。
【００４９】特別な具体例によれば光硬化性（ＵＶ硬化
性）又は電子ビーム硬化性重合体は溶液又は分散液とし
て水性媒体から被覆される。
性）又は電子ビーム硬化性重合体は溶液又は分散液とし
て水性媒体から被覆される。
【００５０】光硬化性及び電子ビーム硬化性重合体組成
物を被覆後その場で重合化する単量体に重合体の溶液の
形で適用することが有利である。
物を被覆後その場で重合化する単量体に重合体の溶液の
形で適用することが有利である。
【００５１】本発明の具体例では接着層は主成分として
下記（１），（２），（３）を含有する放射線硬化組成
物から作られる： （１） 少なくとも一つの反応性（プレ）ポリマー又は
オリゴマー、（２） 所望により（１）を溶解する少な
くとも一つの反応性溶剤モノマー、（３） ＵＶ硬化配
合の場合には光開始剤。
下記（１），（２），（３）を含有する放射線硬化組成
物から作られる： （１） 少なくとも一つの反応性（プレ）ポリマー又は
オリゴマー、（２） 所望により（１）を溶解する少な
くとも一つの反応性溶剤モノマー、（３） ＵＶ硬化配
合の場合には光開始剤。
【００５２】前記組成物（１）では反応性（プレ）ポリ
マー又はオリゴマーは１以上のエチレン不飽和基を含有
する化合物である。エチレン不飽和基を含有する反応性
重合体はＪＡＹＬＩＮＫの商標の下で BOMAR Speciali
ties Company から商業的に入手可能である（アクリル
アミドメチル基を含有する変性セルロース重合体）。
マー又はオリゴマーは１以上のエチレン不飽和基を含有
する化合物である。エチレン不飽和基を含有する反応性
重合体はＪＡＹＬＩＮＫの商標の下で BOMAR Speciali
ties Company から商業的に入手可能である（アクリル
アミドメチル基を含有する変性セルロース重合体）。
【００５３】これらの反応性（プレ）ポリマー又はオリ
ゴマー（１）は前記組成物に好ましくは１０〜１００重
量％でかつ前記反応溶剤に０〜１０重量％で存在する。
ゴマー（１）は前記組成物に好ましくは１０〜１００重
量％でかつ前記反応溶剤に０〜１０重量％で存在する。
【００５４】存在する場合にはＵＶ吸収力を有する光開
始剤はできるだけ低い濃度で、例えば全被覆組成物に関
して０．１〜１重量％の濃度で使用される。好ましくは
光漂白可能な光開始剤が使用される。
始剤はできるだけ低い濃度で、例えば全被覆組成物に関
して０．１〜１重量％の濃度で使用される。好ましくは
光漂白可能な光開始剤が使用される。
【００５５】本発明に従って適用された接着層の放射線
硬化性組成物に使用するための好適なプレポリマーの例
は下記のとおりである：不飽和ポリエステル、例えばポ
リエステルアクリレート；ウレタン変性不飽和ポリエス
テル、例えばウレタン−ポリエステルアクリレート。末
端基としてアクリル基を有する液状ポリエステル、例え
ばアクリル型末端基を設けた飽和コポリエステルは公開
されたＥＰ−Ａ０２０７２５７及び Radiat.Phys. Che
m.， Vol. ３３， No.５，４４３−４５０（１９８９）
に記載されている。
硬化性組成物に使用するための好適なプレポリマーの例
は下記のとおりである：不飽和ポリエステル、例えばポ
リエステルアクリレート；ウレタン変性不飽和ポリエス
テル、例えばウレタン−ポリエステルアクリレート。末
端基としてアクリル基を有する液状ポリエステル、例え
ばアクリル型末端基を設けた飽和コポリエステルは公開
されたＥＰ−Ａ０２０７２５７及び Radiat.Phys. Che
m.， Vol. ３３， No.５，４４３−４５０（１９８９）
に記載されている。
【００５６】実質的に低分子量でないコポリエステル、
不飽和モノマー及び他の揮発性物質は極めて毒性が低い
（参考． the periodical Adhaesion １９９０ Heft
１２，１２頁）。多くの種類の放射線硬化性アクリルポ
リエステルの製造法が German Offenlegungsschrift
No. ２８３８６９１に与えられている。前記重合体の２
種以上の混合物を使用することができる。
不飽和モノマー及び他の揮発性物質は極めて毒性が低い
（参考． the periodical Adhaesion １９９０ Heft
１２，１２頁）。多くの種類の放射線硬化性アクリルポ
リエステルの製造法が German Offenlegungsschrift
No. ２８３８６９１に与えられている。前記重合体の２
種以上の混合物を使用することができる。
【００５７】さらに放射線（ＵＶ又はＥＢ）硬化性組成
物に使用するために好適な重合体は不飽和ウレタン（メ
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポ
リエステル（メタ）アクリレート及び例えば“ Chemist
ry & Technology of UVand EB formulation for
coatings， inks and paints” Vol. ２： Prepoly
mers and Reactive diluents for UV and EB c
urable formulations”。 Ed. P. K. T. OLDRING −
SITA Technology − London （１９９１）に記載され
ているようなポリエステル（メタ）アクリレートからな
る群から選択される。
物に使用するために好適な重合体は不飽和ウレタン（メ
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポ
リエステル（メタ）アクリレート及び例えば“ Chemist
ry & Technology of UVand EB formulation for
coatings， inks and paints” Vol. ２： Prepoly
mers and Reactive diluents for UV and EB c
urable formulations”。 Ed. P. K. T. OLDRING −
SITA Technology − London （１９９１）に記載され
ているようなポリエステル（メタ）アクリレートからな
る群から選択される。
【００５８】ＵＶ硬化性被覆組成物の概括は例えば定期
刊行誌“Coating ”９／８８，３４８−３５３頁に与え
られている。
刊行誌“Coating ”９／８８，３４８−３５３頁に与え
られている。
【００５９】他のＵＶ硬化性接着層は脂肪族及び芳香族
ポリエステル−ウレタンアクリレートの種類のオリゴマ
ーと称せられるプレポリマーの使用によって得ることが
できる。ポリエステル−ウレタンアクリレートの構造は
小冊子“ Radiation CuredCoatings ” John R. Cons
tanza ， A. P. Silveri and Joseph A. Vona，Fede
ration of Societies for Coatings Technology
によって出版、１３１５ Walnut St. Philadelphia，
PA １９１０７米国（１９８６年６月）９頁に与えられ
ている。
ポリエステル−ウレタンアクリレートの種類のオリゴマ
ーと称せられるプレポリマーの使用によって得ることが
できる。ポリエステル−ウレタンアクリレートの構造は
小冊子“ Radiation CuredCoatings ” John R. Cons
tanza ， A. P. Silveri and Joseph A. Vona，Fede
ration of Societies for Coatings Technology
によって出版、１３１５ Walnut St. Philadelphia，
PA １９１０７米国（１９８６年６月）９頁に与えられ
ている。
【００６０】特に有用な芳香族ポリエステル−ウレタン
アクリレートプレポリマーの化学構造は下記一般式によ
って示される：
アクリレートプレポリマーの化学構造は下記一般式によ
って示される：
【化１】 式中、ＲはＣ２〜Ｃ６のアルキレン基である。
【００６１】前記芳香族ウレタンの合成では最初にトリ
レン２，４−ジイソシアネートが脂肪族ジオールとの重
付加反応で使用され、重合可能な二重結合末端構造が２
−ヒドロキシエチルアクリレートと末端イソシアネート
基の反応によって導入される。脂肪族ウレタンアクリレ
ートの合成ではアルキレンジイソシアネート、例えば
１，６−ジイソシアネートヘキサンが使用される。
レン２，４−ジイソシアネートが脂肪族ジオールとの重
付加反応で使用され、重合可能な二重結合末端構造が２
−ヒドロキシエチルアクリレートと末端イソシアネート
基の反応によって導入される。脂肪族ウレタンアクリレ
ートの合成ではアルキレンジイソシアネート、例えば
１，６−ジイソシアネートヘキサンが使用される。
【００６２】脂肪族ポリエステル−ウレタンアクリレー
トの製造の例はＵＳ−Ｐ４９８３５０５及びＤＥ２５３
０８９６に与えられている。
トの製造の例はＵＳ−Ｐ４９８３５０５及びＤＥ２５３
０８９６に与えられている。
【００６３】プレポリマーの重合鎖に対して多数のアク
リル二重結合を導入することは最初にアクリル酸とポリ
オール（例えばペンタエリスリトール）の部分的なエス
テル化を行い、次いで多官能価のイソシアネートとポリ
オールのまだ自由なＨＯ−基を反応させることによって
行われる。
リル二重結合を導入することは最初にアクリル酸とポリ
オール（例えばペンタエリスリトール）の部分的なエス
テル化を行い、次いで多官能価のイソシアネートとポリ
オールのまだ自由なＨＯ−基を反応させることによって
行われる。
【００６４】感圧硬化性接着層組成物において本発明に
従って使用するために好適なものはJournal of Radia
tion Curing ， Vol. ９／ No.２ １９８２年４月に
記載されるＩ. アクリレートグラフト化ポリビニルアル
キルエーテル及びII. モノアクリレートグラフト化ポリ
エーテルの種類の紫外線硬化性感圧接着剤である。
従って使用するために好適なものはJournal of Radia
tion Curing ， Vol. ９／ No.２ １９８２年４月に
記載されるＩ. アクリレートグラフト化ポリビニルアル
キルエーテル及びII. モノアクリレートグラフト化ポリ
エーテルの種類の紫外線硬化性感圧接着剤である。
【００６５】ＵＶ又はＥＢ硬化性被覆組成物は不活性重
合体を含有することができる。その重合体は架橋しない
が、その固有の硬さによって保護層の耐引掻性を改良
し、巻上げる時に記録材料の後側に粘着することを妨害
する。その目的のためには例えば芳香族酸、例えばイソ
−又はテレフタル酸から誘導したポリエステル、Ｃ１−
Ｃ４アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル例
えばｎ−ブチルメタアクリレート及びスチレンとそれら
の共重合体及びポリ酢酸ビニルが挙げられる。
合体を含有することができる。その重合体は架橋しない
が、その固有の硬さによって保護層の耐引掻性を改良
し、巻上げる時に記録材料の後側に粘着することを妨害
する。その目的のためには例えば芳香族酸、例えばイソ
−又はテレフタル酸から誘導したポリエステル、Ｃ１−
Ｃ４アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル例
えばｎ−ブチルメタアクリレート及びスチレンとそれら
の共重合体及びポリ酢酸ビニルが挙げられる。
【００６６】従って、特別な具体例によれば接着層は少
なくとも一つの下記（ｉ）及び／又は（ii）を内部に溶
解した付加重合可能な単量体又はこれら単量体の混合物
から本質的に構成される被覆組成物から、好ましくは剥
離層を設けたその仮支持体上に被覆される： （ｉ）はイソフタル酸及び少なくとも一つの他の二塩基
カルボン酸と脂肪族ジオールの線状コポリエステルであ
り、前記コポリエステルは２０℃において１００ｍｌあ
たり少なくとも１０ｇがメチルメタアクリレートに溶解
されている、（ii）はテレフタル酸及び／又はイソフタ
ル酸とオキシアルキレートビスフェノールの線状ポリエ
ステルであり、前記ポリエステルは２０℃において１０
０ｍｌあたり少なくとも１０ｇがメチルメタアクリレー
トに溶解されている、前記組成物は重合体（ｉ）及び／
又は（ii）のための溶剤として作用する前記単量体を前
記重合体及び単量体の全量に関して２０〜７０重量％の
割合で含む。
なくとも一つの下記（ｉ）及び／又は（ii）を内部に溶
解した付加重合可能な単量体又はこれら単量体の混合物
から本質的に構成される被覆組成物から、好ましくは剥
離層を設けたその仮支持体上に被覆される： （ｉ）はイソフタル酸及び少なくとも一つの他の二塩基
カルボン酸と脂肪族ジオールの線状コポリエステルであ
り、前記コポリエステルは２０℃において１００ｍｌあ
たり少なくとも１０ｇがメチルメタアクリレートに溶解
されている、（ii）はテレフタル酸及び／又はイソフタ
ル酸とオキシアルキレートビスフェノールの線状ポリエ
ステルであり、前記ポリエステルは２０℃において１０
０ｍｌあたり少なくとも１０ｇがメチルメタアクリレー
トに溶解されている、前記組成物は重合体（ｉ）及び／
又は（ii）のための溶剤として作用する前記単量体を前
記重合体及び単量体の全量に関して２０〜７０重量％の
割合で含む。
【００６７】特別な具体例によれば上記樹脂（ｉ）及び
（ii）は９０℃未満の軟化点（ring& ball ）を有す
る。軟化点を測定するためのring & ball 法は Annua
l Book of ASTM Standards（１９８５）， Vol. ０
６．０３，１０３１−１０３７頁に記載されている。
（ii）は９０℃未満の軟化点（ring& ball ）を有す
る。軟化点を測定するためのring & ball 法は Annua
l Book of ASTM Standards（１９８５）， Vol. ０
６．０３，１０３１−１０３７頁に記載されている。
【００６８】重合体（ｉ）及び（ii）は少なくとも３０
Ｎ／ｍｍ2 の引張強さを有することが好ましい（適用さ
れた試験機械は G. A. Patfoort “ Polymers ” An I
ntroduction to their Physical Mechanical and
Rheological Behaviour −（１９７４）− E. Story
− Scientia P. V. B. A. Scientific PublishersGe
nt／Belgium １３４−１３６頁を参照されたい）。
Ｎ／ｍｍ2 の引張強さを有することが好ましい（適用さ
れた試験機械は G. A. Patfoort “ Polymers ” An I
ntroduction to their Physical Mechanical and
Rheological Behaviour −（１９７４）− E. Story
− Scientia P. V. B. A. Scientific PublishersGe
nt／Belgium １３４−１３６頁を参照されたい）。
【００６９】前記重合体（ｉ）及び（ii）のゲル透過ク
ロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって測定した重量平均分
子量（Ｍｗ）は好ましくは１００００〜３００００の範
囲である。
ロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって測定した重量平均分
子量（Ｍｗ）は好ましくは１００００〜３００００の範
囲である。
【００７０】好ましいコポリエステル（ｉ）は少なくと
も３０重量％のイソフタレート含有量を有する。
も３０重量％のイソフタレート含有量を有する。
【００７１】コポリエステル（ｉ）の形成においてイソ
フタル酸と結合される好適な二塩基酸はＣ４−Ｃ１０二
塩基酸、例えばテレフタル酸及びセバシン酸である。
フタル酸と結合される好適な二塩基酸はＣ４−Ｃ１０二
塩基酸、例えばテレフタル酸及びセバシン酸である。
【００７２】前記コポリエステル（ｉ）の製造に使用し
うるジオールの例としてはエチレングリコール、１，４
−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール及び１，６
−ヘキサンジオールであり、それらは組合せて使用する
こともできる。
うるジオールの例としてはエチレングリコール、１，４
−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール及び１，６
−ヘキサンジオールであり、それらは組合せて使用する
こともできる。
【００７３】コポリエステル（ｉ）は公知の重縮合法に
よって容易に製造することができ、それらの代表例は商
標名ＶＩＴＥＬ、例えば The Goodyear Tire & Rub
berCo.， Ohio ，米国のＶＩＴＥＬ ＰＥ ２００のも
とで商業的に入手可能であり、Huels Aktiengesellsch
aft ， Postfach １３２０−Ｄ４３７０ Marj，ドイツ
の商標ＤＹＮＡＰＯＬのもとで同様に商業的に入手可能
である。かかるコポリエステルの製造法の例はＵＳ−Ｐ
４０７８１０８に記載されている。
よって容易に製造することができ、それらの代表例は商
標名ＶＩＴＥＬ、例えば The Goodyear Tire & Rub
berCo.， Ohio ，米国のＶＩＴＥＬ ＰＥ ２００のも
とで商業的に入手可能であり、Huels Aktiengesellsch
aft ， Postfach １３２０−Ｄ４３７０ Marj，ドイツ
の商標ＤＹＮＡＰＯＬのもとで同様に商業的に入手可能
である。かかるコポリエステルの製造法の例はＵＳ−Ｐ
４０７８１０８に記載されている。
【００７４】前記ポリエステル及びコポリエステル（i
i）の製造に使用されるアルコキシル化ビスフェノール
は下記一般式の範囲内であることが好ましい：
i）の製造に使用されるアルコキシル化ビスフェノール
は下記一般式の範囲内であることが好ましい：
【化２】 式中、Ｙは１〜４Ｃ原子を有するアルキリデン基を表
し、Ｚはアルキレン基が２〜４Ｃ原子を有するオキシア
ルキレン基を表し、かつｍ及びｎは１〜２の整数であ
る。好適なものはエトキシル化及び／又はプロポキシル
化ビスフェノールＡ化合物であり、そのビスフェノール
Ａはビス（４−ヒドロキシフェニル）−２，２−プロパ
ンを表す。
し、Ｚはアルキレン基が２〜４Ｃ原子を有するオキシア
ルキレン基を表し、かつｍ及びｎは１〜２の整数であ
る。好適なものはエトキシル化及び／又はプロポキシル
化ビスフェノールＡ化合物であり、そのビスフェノール
Ａはビス（４−ヒドロキシフェニル）−２，２−プロパ
ンを表す。
【００７５】好適なプロポキシル化ビスフェノールＡポ
リエステルは Atlas Chemical Industries N. V. の
商標ＡＴＬＡＣ ＫＴＲ２３００及びＫＴＲ２９５９の
もとで販売されている（ Everslaan ４５， Everberg
−ベルギー）。
リエステルは Atlas Chemical Industries N. V. の
商標ＡＴＬＡＣ ＫＴＲ２３００及びＫＴＲ２９５９の
もとで販売されている（ Everslaan ４５， Everberg
−ベルギー）。
【００７６】アルコキシル化ビスフェノールを使用する
ポリエステルの製造法は例えばＧＢ−Ｐ１３７３２２０
に記載されている。
ポリエステルの製造法は例えばＧＢ−Ｐ１３７３２２０
に記載されている。
【００７７】真空被覆ビスマス層に対して特に良好な接
着性を有する接着層は上記重合体（ｉ）及び／又は（i
i）が溶剤として作用する付加重合可能な液体単量体に
２０℃において３０〜７０重量％の範囲で溶解されてい
る被覆組成物によって得られる。
着性を有する接着層は上記重合体（ｉ）及び／又は（i
i）が溶剤として作用する付加重合可能な液体単量体に
２０℃において３０〜７０重量％の範囲で溶解されてい
る被覆組成物によって得られる。
【００７８】被覆においてその場で重合する前記重合可
能な液体単量体の使用は被覆接着プライマー層組成物か
ら除去しなければならない有機溶剤をなしで済ますこと
ができる。
能な液体単量体の使用は被覆接着プライマー層組成物か
ら除去しなければならない有機溶剤をなしで済ますこと
ができる。
【００７９】付加重合可能な単量体は単官能価又は多官
能価であってもよい。即ち、それらは１以上のオレフィ
ン不飽和基を含有してもよいことを意味する。上記重合
体（ｉ) 及び（ii）のための溶剤として作用しうる単官
能価の付加重合可能な液体単量体の例は下記のとおりで
ある：メチルメタ（アクリレート）、エチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、ｎ−ヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレー
ト、及びテトラヒドロフルフリルメタクリレート。
能価であってもよい。即ち、それらは１以上のオレフィ
ン不飽和基を含有してもよいことを意味する。上記重合
体（ｉ) 及び（ii）のための溶剤として作用しうる単官
能価の付加重合可能な液体単量体の例は下記のとおりで
ある：メチルメタ（アクリレート）、エチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリ
レート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、ｎ−ヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレー
ト、及びテトラヒドロフルフリルメタクリレート。
【００８０】本発明に従って使用するための好ましい単
官能価の単量体はメチルメタクリレート及びテトラヒド
ロフルフリルメタクリレートである。
官能価の単量体はメチルメタクリレート及びテトラヒド
ロフルフリルメタクリレートである。
【００８１】好適な２官能価の単量体の例としては１，
６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサ
ンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジア
クリレート、ジビニルベンゼンがある。
６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサ
ンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジア
クリレート、ジビニルベンゼンがある。
【００８２】適用される樹脂（ｉ）及び（ii）のための
極めて良好な溶剤であるアクリレート１，６−ヘキサン
ジオールジアクリレートが好ましく使用される。
極めて良好な溶剤であるアクリレート１，６−ヘキサン
ジオールジアクリレートが好ましく使用される。
【００８３】好適なトリ−又はそれ以上の官能価の単量
体の例としてはトリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート、エチレンジアミンのアクリ
レート、脂肪族及び芳香族ウレタンアクリレート及び公
開されていないヨーロッパ特許出願No. ９１２００４６
８．６（１９９１年３月５日出願）に記載の一般式
（Ｉ）による単量体が挙げられる。前記単量体の製造法
は公開されたドイツ特許出願No. ３５２２００５，３７
０３０８０，３６４３２１６，３７０３１３０，３７０
３０８０，３９１７３２０及び３７４３７２８を参照さ
れたい。
体の例としてはトリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート、エチレンジアミンのアクリ
レート、脂肪族及び芳香族ウレタンアクリレート及び公
開されていないヨーロッパ特許出願No. ９１２００４６
８．６（１９９１年３月５日出願）に記載の一般式
（Ｉ）による単量体が挙げられる。前記単量体の製造法
は公開されたドイツ特許出願No. ３５２２００５，３７
０３０８０，３６４３２１６，３７０３１３０，３７０
３０８０，３９１７３２０及び３７４３７２８を参照さ
れたい。
【００８４】放射線硬化が紫外線（ＵＶ）で実施される
場合は、光開始剤は保護層を形成するための被覆組成物
中に存在し、ＵＶ照射で液体単量体の付加重合を開始す
る光ラジカル形成剤として作用する。
場合は、光開始剤は保護層を形成するための被覆組成物
中に存在し、ＵＶ照射で液体単量体の付加重合を開始す
る光ラジカル形成剤として作用する。
【００８５】光ラジカル生成に使用するために好適な光
開始剤は有機カルボニル化合物の種類に属するものであ
り、例えば、イソブチルエーテル、ベンゾインイソプロ
ピルのようなベンゾインエーテル系化合物；ベンジルケ
タール系化合物；ケトキシムエステル；ｏ−ベンゾイル
メチルベンゾエート、ベンゾフェノンのようなベンゾフ
ェノン系化合物；アセトフェノン、トリクロロアセトフ
ェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、２，２−ジ
エトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノンのようなアセトフェノン系化合
物；２−クロロチオキサントン、２−エチルチオキサン
トンのようなチオキサントン系化合物；２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−４′
−イソプロピル−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトンのような化合物
などがある。
開始剤は有機カルボニル化合物の種類に属するものであ
り、例えば、イソブチルエーテル、ベンゾインイソプロ
ピルのようなベンゾインエーテル系化合物；ベンジルケ
タール系化合物；ケトキシムエステル；ｏ−ベンゾイル
メチルベンゾエート、ベンゾフェノンのようなベンゾフ
ェノン系化合物；アセトフェノン、トリクロロアセトフ
ェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、２，２−ジ
エトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノンのようなアセトフェノン系化合
物；２−クロロチオキサントン、２−エチルチオキサン
トンのようなチオキサントン系化合物；２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−４′
−イソプロピル−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトンのような化合物
などがある。
【００８６】特に好ましい光開始剤は２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンであ
り、その生成物は E. Merck ，Darmstadt ，ドイツによ
って、商標ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３のもとで販売されて
いる。
２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オンであ
り、その生成物は E. Merck ，Darmstadt ，ドイツによ
って、商標ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３のもとで販売されて
いる。
【００８７】使用される光開始剤の量は付加重合可能な
単量体１００重量部に対して０．０１〜５重量部の範囲
であることが好ましい。
単量体１００重量部に対して０．０１〜５重量部の範囲
であることが好ましい。
【００８８】上記化合物を別として接着層組成物は被覆
段階において又は最終的な層において役割を果たす添加
剤を含有することができる。かかる添加剤の例としては
界面活性剤、固型滑剤、例えばワックス、脱泡剤及び帯
電防止剤がある。
段階において又は最終的な層において役割を果たす添加
剤を含有することができる。かかる添加剤の例としては
界面活性剤、固型滑剤、例えばワックス、脱泡剤及び帯
電防止剤がある。
【００８９】硬化のための装置と方法放射線硬化のため
の装置は当業者に公知であり、商業的に入手可能であ
る。プライマー層組成物に光開始剤を適用する場合、硬
化は紫外線で有利に行うことができる。例えば、硬化は
中圧水銀アークランプ又はパルス化キセノンアークで行
う。これらの紫外線は通常、冷却装置、生成されたオゾ
ンを除去するための装置及び放射線処理中に硬化される
べき生成物の表面から空気を排除するための窒素流入を
備えている。２００−４００ｎｍ領域において４０−１
２０Ｗ／ｃｍの強さで通常使用される。商業的に入手可
能な紫外線源は Strahlentechnik，Oberboihingen ，ド
イツによって供給されるＩＳＴである。
の装置は当業者に公知であり、商業的に入手可能であ
る。プライマー層組成物に光開始剤を適用する場合、硬
化は紫外線で有利に行うことができる。例えば、硬化は
中圧水銀アークランプ又はパルス化キセノンアークで行
う。これらの紫外線は通常、冷却装置、生成されたオゾ
ンを除去するための装置及び放射線処理中に硬化される
べき生成物の表面から空気を排除するための窒素流入を
備えている。２００−４００ｎｍ領域において４０−１
２０Ｗ／ｃｍの強さで通常使用される。商業的に入手可
能な紫外線源は Strahlentechnik，Oberboihingen ，ド
イツによって供給されるＩＳＴである。
【００９０】高エネルギー電離線、例えばＸ線、ガンマ
線、ベーター線及び加速電子も被覆の硬化を達成するた
めに使用することができる。代表的なものとして、使用
される放射線は実質的に全ての方向において被覆層を透
過しうる充分な強さを有するべきである。使用される全
線量は、放射線硬化被覆組成物の硬化をもたらし硬い層
を形成するのに充分でなければならない。
線、ベーター線及び加速電子も被覆の硬化を達成するた
めに使用することができる。代表的なものとして、使用
される放射線は実質的に全ての方向において被覆層を透
過しうる充分な強さを有するべきである。使用される全
線量は、放射線硬化被覆組成物の硬化をもたらし硬い層
を形成するのに充分でなければならない。
【００９１】ＵＶ線は照射の充分な透過を可能にする相
対的に薄いフィルムを有する着色されていない又はわず
かに着色された系のために特に好適である。
対的に薄いフィルムを有する着色されていない又はわず
かに着色された系のために特に好適である。
【００９２】保護層が高ＵＶ透過率を有さなければなら
ない場合には、ＵＶ吸収光開始剤なしで作用させ、電子
線（ＥＢ）硬化を適用することが、そのための光開始剤
を全く必要としないので有利である。電子線の透過力は
電子加速ボルトの値及び被覆の吸収能力に左右される。
ない場合には、ＵＶ吸収光開始剤なしで作用させ、電子
線（ＥＢ）硬化を適用することが、そのための光開始剤
を全く必要としないので有利である。電子線の透過力は
電子加速ボルトの値及び被覆の吸収能力に左右される。
【００９３】電子線加速器には二つのタイプがある：高
エネルギースキャナー型及び低エネルギー線形カソード
型（電子カーテン型加速器とも称せられる）。これらの
加速器は通常、窒素流入を備えている。０．０１−１０
メガラドの線量で使用される。商業的に利用可能なＥＢ
加速器の例はＰＩＬＯＴ２００及びＣＢ１７５／６０／
３８０（ともに Energy Sciences Inc. ， Geneva ス
イスによって供給される）である。電子線硬化は例えば
定期刊行誌 Adhaesion１９９０− Heft １２，３９−４
０頁に記載されている。約１秒間の硬化時間が特に薄い
（１０−２０ミクロン）被覆には適当である。
エネルギースキャナー型及び低エネルギー線形カソード
型（電子カーテン型加速器とも称せられる）。これらの
加速器は通常、窒素流入を備えている。０．０１−１０
メガラドの線量で使用される。商業的に利用可能なＥＢ
加速器の例はＰＩＬＯＴ２００及びＣＢ１７５／６０／
３８０（ともに Energy Sciences Inc. ， Geneva ス
イスによって供給される）である。電子線硬化は例えば
定期刊行誌 Adhaesion１９９０− Heft １２，３９−４
０頁に記載されている。約１秒間の硬化時間が特に薄い
（１０−２０ミクロン）被覆には適当である。
【００９４】保護層を形成する被覆組成物の被覆はシル
クスクリーン印刷として知られる被覆技術によって有利
に行われる。
クスクリーン印刷として知られる被覆技術によって有利
に行われる。
【００９５】前記被覆技術を適用する場合には前記接着
層の液体被覆組成物は被覆温度において少なくとも４５
０ｍＰａ．Ｓの粘度を有する。その粘度はヘップラー
（ Hoeppler ）粘度計でその温度において測定したもの
である。
層の液体被覆組成物は被覆温度において少なくとも４５
０ｍＰａ．Ｓの粘度を有する。その粘度はヘップラー
（ Hoeppler ）粘度計でその温度において測定したもの
である。
【００９６】直接追記型能力を有するヒートモード記録
材料の製造にはビスマスは重要な特性を有する。真空蒸
着されたビスマスは極めて薄い（２００ｎｍ未満の厚
さ）層であっても高光学濃度を生じる。かかる真空蒸着
ビスマス層の光学濃度はフラッシュライト又はレーザー
光線露光によって減ずることができ、ビスマスはＧＢ−
Ｐ１５６６８０２に既述したように下塗りしていないポ
リエチレンテレフタレート支持体に直接接着する。
材料の製造にはビスマスは重要な特性を有する。真空蒸
着されたビスマスは極めて薄い（２００ｎｍ未満の厚
さ）層であっても高光学濃度を生じる。かかる真空蒸着
ビスマス層の光学濃度はフラッシュライト又はレーザー
光線露光によって減ずることができ、ビスマスはＧＢ−
Ｐ１５６６８０２に既述したように下塗りしていないポ
リエチレンテレフタレート支持体に直接接着する。
【００９７】ＤＲＡＷ記録のための薄いビスマスフィル
ムの適用は定期刊行誌 Optica Acta ，１９７７ Vol.
２４，No. ４，４２７−４３１頁に記載されている。そ
の中で記載されている貯蔵層（ storage layer ）、即
ち記録層はビスマス層の酸化をある程度防止するＧｅ耐
反射被覆及び６０ｎｍビスマス層から構成されている。
ムの適用は定期刊行誌 Optica Acta ，１９７７ Vol.
２４，No. ４，４２７−４３１頁に記載されている。そ
の中で記載されている貯蔵層（ storage layer ）、即
ち記録層はビスマス層の酸化をある程度防止するＧｅ耐
反射被覆及び６０ｎｍビスマス層から構成されている。
【００９８】反射モードで全体的に又は部分的に読み出
すことができる像の生成のために好適な記録材料を得る
ために記録層、例えば黒色艶消ビスマス層が例えばアル
ミニウムから作られる又は白色顔料の分散液、例えば重
合体結合剤（例、ゼラチン）中の二酸化チタンを含有す
る、反射支持体又は支持された反射中間層上に適用され
る。
すことができる像の生成のために好適な記録材料を得る
ために記録層、例えば黒色艶消ビスマス層が例えばアル
ミニウムから作られる又は白色顔料の分散液、例えば重
合体結合剤（例、ゼラチン）中の二酸化チタンを含有す
る、反射支持体又は支持された反射中間層上に適用され
る。
【００９９】
【実施例】本発明を下記実施例により説明するが、本発
明はこれらに限定されない。全ての百分率及び比率は特
記しない限り重量による。
明はこれらに限定されない。全ての百分率及び比率は特
記しない限り重量による。
【０１００】実施例 １ 仮支持体として作用する６３μｍ厚のポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片側にメチルエチルケトンのコ
（スチレン／ブチルメタクリレート）（７０／３０）溶
液を被覆し、６μｍ厚の接着層を乾燥後形成した。
フタレートフィルムの片側にメチルエチルケトンのコ
（スチレン／ブチルメタクリレート）（７０／３０）溶
液を被覆し、６μｍ厚の接着層を乾燥後形成した。
【０１０１】かくして得られたフィルム材料を新しい真
空蒸着ビスマス層と接触させてその接着層を通して積層
した。前記ビスマス層は図１に概略的に表された装置を
使用して１７５μｍ厚の永久ポリエチレンテレフタレー
ト樹脂支持体上に０．３μｍの厚さで付着させた。
空蒸着ビスマス層と接触させてその接着層を通して積層
した。前記ビスマス層は図１に概略的に表された装置を
使用して１７５μｍ厚の永久ポリエチレンテレフタレー
ト樹脂支持体上に０．３μｍの厚さで付着させた。
【０１０２】積層は８９℃の温度及び４０ｃｍ／分の積
層スピードで行った。その後、通常圧に回復した後、真
空チャンバーから除去される収集ローラー（ collercto
r roller ）上に積層材料を巻き取った。
層スピードで行った。その後、通常圧に回復した後、真
空チャンバーから除去される収集ローラー（ collercto
r roller ）上に積層材料を巻き取った。
【０１０３】積層材料の仮支持体を、前記ビスマスヒー
トモード記録層上の最外保護層として前記接着層を離し
て図２に示すように真空チャンバーの外で室温条件（約
２０℃）下で剥離した。
トモード記録層上の最外保護層として前記接着層を離し
て図２に示すように真空チャンバーの外で室温条件（約
２０℃）下で剥離した。
【０１０４】前記最外保護層の耐引掻性を前述のように
測定すると６ｇの耐引掻性の値を有していた。
測定すると６ｇの耐引掻性の値を有していた。
【０１０５】得られたヒートモード記録材料の透過光学
濃度は Macbeth濃度計 type ９０４ＴＤ（ＵＶフィルタ
ー）で前記最外保護記録層を通して測定すると３．５３
であった。
濃度は Macbeth濃度計 type ９０４ＴＤ（ＵＶフィルタ
ー）で前記最外保護記録層を通して測定すると３．５３
であった。
【０１０６】ヒートモード記録材料を商業的なＮｄ：Ｙ
ｌｆレーザー（スポット直径１／ｅ2 ＝１８μｍ及び記
録層に当たる最大露光力１．７Ｗ）の１０５３ｎｍ光に
スキャンに従って（３８．８ｍ／ｓ）露光した。かくし
て露光した大きな固体領域で得られた透過率は０．２４
であった。
ｌｆレーザー（スポット直径１／ｅ2 ＝１８μｍ及び記
録層に当たる最大露光力１．７Ｗ）の１０５３ｎｍ光に
スキャンに従って（３８．８ｍ／ｓ）露光した。かくし
て露光した大きな固体領域で得られた透過率は０．２４
であった。
【０１０７】テープ（３Ｍ Co. のＴＥＳＡタイプ４１
２２）によって実施した接着試験は最初に前記保護層に
圧力粘着させ、そして急に引きはがして行った。但し、
積層保護被覆層はレーザー光線非露光領域上と同様にレ
ーザー光線露光領域上もそのまま残した。
２２）によって実施した接着試験は最初に前記保護層に
圧力粘着させ、そして急に引きはがして行った。但し、
積層保護被覆層はレーザー光線非露光領域上と同様にレ
ーザー光線露光領域上もそのまま残した。
【０１０８】実施例 ２ ポリビニルアルコールが２％のサポニン化されていない
酢酸ビニル基を含有する５％ポリビニルアルコール水溶
液から適用した２μｍ厚のポリビニルアルコール層の形
で仮支持体を剥離層で予備被覆した違いだけで実施例１
を繰り返した。被覆溶液は湿潤剤として０．０５％のサ
ポニンを含有した。実施例１に記載の接着層を前記剥離
層上に被覆した。
酢酸ビニル基を含有する５％ポリビニルアルコール水溶
液から適用した２μｍ厚のポリビニルアルコール層の形
で仮支持体を剥離層で予備被覆した違いだけで実施例１
を繰り返した。被覆溶液は湿潤剤として０．０５％のサ
ポニンを含有した。実施例１に記載の接着層を前記剥離
層上に被覆した。
【０１０９】剥離工程では剥離層は仮支持体とともに容
易に除去された。
易に除去された。
【０１１０】実施例１に記載と同じ耐引掻性と接着性の
結果が得られた。
結果が得られた。
【０１１１】実施例 ３ 仮支持体として作用する６３μｍ厚のポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片側に、８％のコ（塩化ビニル／
酢酸ビニル／マレイン酸）（８６／１３／１）（ＵＮＩ
ＯＮ ＣＡＲＢＩＤＥから商標ＶＩＮＹＬＩＴＥ ＶＭ
ＣＨの下で商業的に入手可能）、１．８２％のＣＹＭＥ
Ｌ３０３（ヘキサメトキシメチルメルアミンのためのＣ
ＹＮＡＭＩＤＥの商標）、及び０．１８％のＣＹＣＡＴ
６００（ＣＹＮＡＭＩＤＥから入手可能な硬化触媒のた
めの商標）を被覆して乾燥後６μｍ厚の熱硬化性接着層
を形成した。
フタレートフィルムの片側に、８％のコ（塩化ビニル／
酢酸ビニル／マレイン酸）（８６／１３／１）（ＵＮＩ
ＯＮ ＣＡＲＢＩＤＥから商標ＶＩＮＹＬＩＴＥ ＶＭ
ＣＨの下で商業的に入手可能）、１．８２％のＣＹＭＥ
Ｌ３０３（ヘキサメトキシメチルメルアミンのためのＣ
ＹＮＡＭＩＤＥの商標）、及び０．１８％のＣＹＣＡＴ
６００（ＣＹＮＡＭＩＤＥから入手可能な硬化触媒のた
めの商標）を被覆して乾燥後６μｍ厚の熱硬化性接着層
を形成した。
【０１１２】かくして得られたフィルム材料を実施例１
に記載のように新しい真空蒸着ビスマス層と接触させて
その接着層を通して積層した。
に記載のように新しい真空蒸着ビスマス層と接触させて
その接着層を通して積層した。
【０１１３】積層材料の仮支持体は図２に示すように真
空チャンバーの外で室温条件（約２０℃）下で剥離し、
１１０℃で３０分間硬化した。
空チャンバーの外で室温条件（約２０℃）下で剥離し、
１１０℃で３０分間硬化した。
【０１１４】前記最外保護層の耐引掻性を前述のように
測定すると８ｇの耐引掻性の値を有していた
測定すると８ｇの耐引掻性の値を有していた
【０１１５】実施例 ４ 仮支持体として作用する６３μｍ厚のポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片側に６．５％のコ（スチレン／
ブチルメタクリレート）（７３／３０）、２．０％のト
リメチロールプロパントリアクリレート（ＳＡＲＴＯＭ
ＥＲ ３５１ＣＲＡＹ ＶＡＬＬＥＹの商標）、１．３
５％の１，１′−ビイミダゾール−２，２′−ビス（ｏ
−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェ
ニル、０．０７５％のメルカプトベンズオキサゾール及
び０．０７５％のミヒラーケトンを含有するメチルエチ
ルケトンの溶液を被覆して乾燥後６μｍ厚のＵＶ硬化性
接着層を形成した。
フタレートフィルムの片側に６．５％のコ（スチレン／
ブチルメタクリレート）（７３／３０）、２．０％のト
リメチロールプロパントリアクリレート（ＳＡＲＴＯＭ
ＥＲ ３５１ＣＲＡＹ ＶＡＬＬＥＹの商標）、１．３
５％の１，１′−ビイミダゾール−２，２′−ビス（ｏ
−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェ
ニル、０．０７５％のメルカプトベンズオキサゾール及
び０．０７５％のミヒラーケトンを含有するメチルエチ
ルケトンの溶液を被覆して乾燥後６μｍ厚のＵＶ硬化性
接着層を形成した。
【０１１６】かくして得られたフィルム材料を実施例１
に記載のように新しい真空蒸着ビスマス層と接触させて
その接着層を通して積層した。
に記載のように新しい真空蒸着ビスマス層と接触させて
その接着層を通して積層した。
【０１１７】その後、真空チャンバーの外側で、転写さ
れたＵＶ硬化性接着層のＵＶ硬化を、ＵＶ硬化源から１
１ｃｍの距離で硬化性層を維持しながら２ｍ／ｍｉｎの
処理速度で８０Ｗ／ｃｍのエネルギー供給を空気冷却と
ともに操作する Labcure Unit（ＴＥＣＨＮＩＧＲＡＦ
ＧｍｂＨ，Graevenwiesbach ，ドイツによって販売）
によって実行した。
れたＵＶ硬化性接着層のＵＶ硬化を、ＵＶ硬化源から１
１ｃｍの距離で硬化性層を維持しながら２ｍ／ｍｉｎの
処理速度で８０Ｗ／ｃｍのエネルギー供給を空気冷却と
ともに操作する Labcure Unit（ＴＥＣＨＮＩＧＲＡＦ
ＧｍｂＨ，Graevenwiesbach ，ドイツによって販売）
によって実行した。
【０１１８】次いで積層材料の仮支持体を図２に示すよ
うに真空チャンバーの外で室温条件（約２０℃）下で剥
離した。
うに真空チャンバーの外で室温条件（約２０℃）下で剥
離した。
【０１１９】ＵＶ硬化最外保護層の耐引掻性は前述のよ
うに測定すると８ｇの耐引掻性の値を有していた。
うに測定すると８ｇの耐引掻性の値を有していた。
【０１２０】実施例 ５ 仮支持体として作用する６３μｍ厚のポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片側に６．５％のコ（スチレン／
ブチルメタクリレート）（７３／３０）、２．０％のト
リメチロールプロパントリアクリレート（ＳＡＲＴＯＭ
ＥＲ ３５１ＣＲＡＹ ＶＡＬＬＥＹの商標）を含有す
るメチルエチルケトン溶液を被覆し、乾燥後６μｍ厚の
ＥＢ硬化性接着層を形成した。
フタレートフィルムの片側に６．５％のコ（スチレン／
ブチルメタクリレート）（７３／３０）、２．０％のト
リメチロールプロパントリアクリレート（ＳＡＲＴＯＭ
ＥＲ ３５１ＣＲＡＹ ＶＡＬＬＥＹの商標）を含有す
るメチルエチルケトン溶液を被覆し、乾燥後６μｍ厚の
ＥＢ硬化性接着層を形成した。
【０１２１】かくして得られたフィルム材料を実施例１
に記載のように新しい真空蒸着ビスマス層と接触させて
その接着層を通して積層した。
に記載のように新しい真空蒸着ビスマス層と接触させて
その接着層を通して積層した。
【０１２２】積層材料の仮支持体を図２に示すように真
空チャンバーの外で室温条件（約２０℃）下で剥離し
た。
空チャンバーの外で室温条件（約２０℃）下で剥離し
た。
【０１２３】その後、転写されたＥＢ硬化性接着層のＥ
Ｂ硬化を、約３ｍ／ｍｉｎの照射材料の走行速度で４ｍ
Ｇｙに相当する照射エネルギー及び１５０ｋＶで操作す
る電子線生成装置によって実行した。
Ｂ硬化を、約３ｍ／ｍｉｎの照射材料の走行速度で４ｍ
Ｇｙに相当する照射エネルギー及び１５０ｋＶで操作す
る電子線生成装置によって実行した。
【０１２４】前記最外保護層の耐引掻性を前述のように
測定すると、８ｇの耐引掻性値を有していた。
測定すると、８ｇの耐引掻性値を有していた。
【０１２５】実施例 ６ 仮支持体として作用する６３μｍ厚のポリエチレンテレ
フタレートフィルムの片側に６．５％のコ（スチレン／
ブチルメタクリレート）（７３／３０）、２．０％のト
リメチロールプロパントリアクリレート（ＳＡＲＴＯＭ
ＥＲ ３５１ＣＲＡＹ ＶＡＬＬＥＹの商標）、１．３
５％の１，１′−ビイミダゾール−２，２′−ビス（ｏ
−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェ
ニル、０．０７５％のメルカプトベンズオキサゾール及
び０．０７５％のミヒラーケトンを含有するメチルエチ
ルケトンの溶液を被覆し、乾燥後６μｍ厚のＵＶ硬化性
接着層を形成した。
フタレートフィルムの片側に６．５％のコ（スチレン／
ブチルメタクリレート）（７３／３０）、２．０％のト
リメチロールプロパントリアクリレート（ＳＡＲＴＯＭ
ＥＲ ３５１ＣＲＡＹ ＶＡＬＬＥＹの商標）、１．３
５％の１，１′−ビイミダゾール−２，２′−ビス（ｏ
−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェ
ニル、０．０７５％のメルカプトベンズオキサゾール及
び０．０７５％のミヒラーケトンを含有するメチルエチ
ルケトンの溶液を被覆し、乾燥後６μｍ厚のＵＶ硬化性
接着層を形成した。
【０１２６】前記乾燥したＵＶ硬化層上にコ（ブタジエ
ン／スチレン／アクリル酸／アクリルアミド）（３４／
６２／２．０／４．０）の水性分散液（ラテックス）、
ＢＡＹＥＲ ＡＧ ドイツによって販売されるエラスト
マー（商標ＢＡＹＳＴＡＬＰＶＰ ＫＡ８５２２）を被
覆し、４ｇ／ｍ2 の乾燥被覆面積を有する相対的に軟ら
かい接着層を形成した。
ン／スチレン／アクリル酸／アクリルアミド）（３４／
６２／２．０／４．０）の水性分散液（ラテックス）、
ＢＡＹＥＲ ＡＧ ドイツによって販売されるエラスト
マー（商標ＢＡＹＳＴＡＬＰＶＰ ＫＡ８５２２）を被
覆し、４ｇ／ｍ2 の乾燥被覆面積を有する相対的に軟ら
かい接着層を形成した。
【０１２７】かくして得られたフィルム材料を図１に示
すように新しい真空蒸着ビスマス層と接触させてその積
層された接着層を通して積層した。
すように新しい真空蒸着ビスマス層と接触させてその積
層された接着層を通して積層した。
【０１２８】その後、真空チャンバーの外側で、ＵＶ硬
化層のＵＶ硬化を、ＵＶ硬化源から１１ｃｍの距離でＵ
Ｖ硬化性層を維持しながら２ｍ／ｍｉｎの処理速度で８
０Ｗ／ｃｍのエネルギー供給を空気冷却とともに操作す
る Labcure Unit（ＴＥＣＨＮＩＧＲＡＦ ＧｍｂＨ，
Graevenwiesbach ，ドイツによって販売）によって実行
した。
化層のＵＶ硬化を、ＵＶ硬化源から１１ｃｍの距離でＵ
Ｖ硬化性層を維持しながら２ｍ／ｍｉｎの処理速度で８
０Ｗ／ｃｍのエネルギー供給を空気冷却とともに操作す
る Labcure Unit（ＴＥＣＨＮＩＧＲＡＦ ＧｍｂＨ，
Graevenwiesbach ，ドイツによって販売）によって実行
した。
【０１２９】次いで積層材料の仮支持体を、図２に示す
ように真空チャンバーの外で室温条件（約２０℃）下で
剥離した。
ように真空チャンバーの外で室温条件（約２０℃）下で
剥離した。
【０１３０】かくして硬化された最外保護層の耐引掻性
は前述のように測定すると、８ｇの耐引掻性の値を有し
ていた。
は前述のように測定すると、８ｇの耐引掻性の値を有し
ていた。
【図１】本発明による方法の工程（１）を実施するため
の積層ユニットを含む真空蒸着装置の断面図を表したも
のである。
の積層ユニットを含む真空蒸着装置の断面図を表したも
のである。
【図２】本発明による方法の工程（２）を実施するため
の剥離手順を概略的に示したものである。
の剥離手順を概略的に示したものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リュク・レーンデル ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 イヴァン・オーグマルタン ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内 (72)発明者 ディル・ドン ベルギー国モートゼール、セプテストラー ト 27 アグファ・ゲヴェルト・ナームロ ゼ・ベンノートチャップ内
Claims (14)
- 【請求項１】 “直接追記型”（ＤＲＡＷ）能力を有
し、永久支持体上にヒートモード記録層を含有するヒー
トモード記録材料の製造方法において、前記方法が下記
工程を連続的順序で含むことを特徴とする製造方法： （１） 層又は層の集合が２０μｍ以下の厚さを有する
ウエブ型の仮支持体によって運ばれた単一の接着層又は
多重層の集合を前記記録層に熱及び圧力で積層すること
によって積層ウエブを形成し、かつ （２） 前記記録層上の保護材料として前記単一の接着
層を離して前記接着層から前記仮支持体を分離し、又は
（２′） 前記記録層上の保護材料として前記層の集合
を離して前記接着層の集合から前記仮支持体を分離し、
かつ （３） 熱によって及び／又は紫外線又は電子ビーム線
によって前記分離工程（２）又は（２′）の後、前記多
重層の集合の前記最外層又は前記単一の接着層を化学的
に硬化し、１３ミクロンの先端直径を有する単一の球状
先端サファイヤ鉄筆を引掻試験に使用するＡＮＳＩ試験
ＰＨ１．３７−１９７７法によって測定した値が６ｇ以
上の耐引掻性値を２０℃において有する最外保護層を前
記硬化によって設ける。 - 【請求項２】 前記記録層が真空条件下でその永久支持
体上に被覆され、かつ前記工程（１）がその永久支持体
上の前記記録層の被覆が生じるのと同じ真空条件下で実
施される請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 前記ヒードモード記録層上への転写後、
前記多重層の集合の前記最外層又は前記単一の接着層が
前記（２），（２′）の分離の前に室温（２０℃）に冷
却されてから硬化されるように変更した請求項１記載の
方法。 - 【請求項４】 前記多重層の集合が３０℃未満のガラス
転移温度を有する軟らかい非硬化性ホットメルト接着剤
重合体から作られたヒートモード記録層に接触する層を
有し、少なくとも記録材料上の前記最外層を形成する層
が熱によって及び／又は紫外線又は電子ビーム線によっ
て化学的に硬化可能である請求項１記載の方法。 - 【請求項５】 前記単一の接着層の厚さ又は前記多重層
の集合の全厚さが１〜１０μｍの範囲である請求項１記
載の方法。 - 【請求項６】 前記工程（２）が真空条件下で実施され
る請求項１記載の方法。 - 【請求項７】 前記工程（２），（２′）が非真空条件
下で実施され、工程（１）で得られた積層ウエブが圧力
ローラーのニップに導かれ、仮支持体がその任意の剥離
層とともに前記ヒートモート記録層の上部の前記多重層
の集合又は単一の接着層を離して剥離される請求項１記
載の方法。 - 【請求項８】 前記永久支持体がポリエステル、ポリカ
ーボネート、セルローストリアセテート、ポリ（メタ）
アクリルエステル、ポリ塩化ビニル及び共重合体からな
る群から選択される重合体から作られる請求項１記載の
方法。 - 【請求項９】 前記永久支持体が５０〜２００μｍの範
囲の厚さを有し、所望により前記記録層の接着性を改良
する１以上の下塗り層を設けた請求項１記載の方法。 - 【請求項１０】 前記仮支持体が永久支持体と同じ材料
で作られる請求項１記載の方法。 - 【請求項１１】 前記仮支持体が前記工程（１）を実施
する前に前記接着層又は多重層の集合のための中間剥離
層で被覆され、前記工程（２），（２′）において前記
剥離層が前記仮支持体とともに前記接着層又は多重層の
集合から分離され、かつ前記剥離層が固形ワックス、ポ
リビニルアルコール、シリコーン樹脂、高フッ素化樹脂
及びシリコーンオイルからなる群から選択される物質か
ら作られるか又は剥離剤として作用する前記物質を仮支
持体に接着するフィルム形成重合体中に３０重量％を超
えて含有する請求項１記載の方法。 - 【請求項１２】 前記層の集合の最外層又は前記単一の
接着層が下記（１），（２），（３）を主成分として含
有する放射線硬化組成物から作られる請求項１記載の方
法： （１） 少なくとも一つの反応性（プレ）ポリマー又は
オリゴマー、（２） 所望により（１）を溶解する少な
くとも一つの反応性溶剤モノマー、（３） ＵＶ硬化配
合の場合には光開始剤。 - 【請求項１３】 得られた保護材料の耐引掻性が接着層
から部分的に突出する１〜１０μｍの平均粒径を有する
シリカ又はシリケートである無機スリップ剤、フッ素−
又は燐酸−含有界面活性剤及びワックスの形で減摩剤を
内部に存在させることによって改良される請求項１記載
の方法。 - 【請求項１４】 ヒートモード記録層が真空条件下で前
記永久支持体上に被覆されるビスマス層である請求項１
記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP94201713 | 1994-06-15 | ||
| DE94201713.8 | 1994-06-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07329425A true JPH07329425A (ja) | 1995-12-19 |
Family
ID=8216952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7171443A Pending JPH07329425A (ja) | 1994-06-15 | 1995-06-13 | 保護されたヒートモード記録材料の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5656410A (ja) |
| JP (1) | JPH07329425A (ja) |
| DE (1) | DE69501853T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006123538A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-05-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 保護層熱転写フィルム |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5989777A (en) * | 1997-06-18 | 1999-11-23 | Agfa-Gevaert, N. V. | Heat mode recording element based on a thin metallic recording layer |
| US6261740B1 (en) * | 1997-09-02 | 2001-07-17 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Processless, laser imageable lithographic printing plate |
| US6187508B1 (en) * | 1998-08-14 | 2001-02-13 | Agfa-Gevaert, N.V. | Heat mode recording element based on a thin metal layer |
| EP1185982A1 (de) * | 1999-06-16 | 2002-03-13 | Steag HamaTech AG | Vorrichtung und verfahren zum beschichten eines optisch lesbaren datenträgers |
| US6414048B1 (en) | 1999-12-07 | 2002-07-02 | Sumitomo Electric Fine Polymer, Inc. | Chemical grafting onto a substrate and coating composition |
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