JPH0733152Y2 - 蛍光x線分析装置 - Google Patents

蛍光x線分析装置

Info

Publication number
JPH0733152Y2
JPH0733152Y2 JP4698588U JP4698588U JPH0733152Y2 JP H0733152 Y2 JPH0733152 Y2 JP H0733152Y2 JP 4698588 U JP4698588 U JP 4698588U JP 4698588 U JP4698588 U JP 4698588U JP H0733152 Y2 JPH0733152 Y2 JP H0733152Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum
chamber
degree
air
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4698588U
Other languages
English (en)
Other versions
JPH01151244U (ja
Inventor
誠司 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP4698588U priority Critical patent/JPH0733152Y2/ja
Publication of JPH01151244U publication Critical patent/JPH01151244U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0733152Y2 publication Critical patent/JPH0733152Y2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本考案は、蛍光X線分析装置に係り、特には真空排気系
の改善に関する。
(ロ)従来の技術 一般に、蛍光X線分析装置は、一次X線を照射すること
により試料から放射される蛍光X線がX線通路の途中で
空気によって散乱、吸収されるのを防止するため、試料
や分光器が配置される真空室内が真空ポンプによって真
空排気されるようになっている。
(ハ)考案が解決しようとする課題 ところで、真空ポンプを稼動し続けると、第3図の実線
に示すように、真空室内の真空度は時間経過とともに次
第に高くなり、最終的には一定の真空度に到達して平衡
状態となる。しかし、蛍光X線分析では、高真空度でな
くても十分な分析精度が得られるし、また、真空度が平
衡状態に達するまで待っていては分析開始までに時間が
かかり過ぎることになる。そのため、従来は、ある一定
の真空度V0に到達した時点で積分強度の測定を開始する
ようにしている。この場合でも、真空室内の気密性はそ
れほど高くないので所定の真空度を維持するためには、
真空ポンプを稼動し続ける必要がある。真空ポンプを稼
動し続けると、真空度が積分時間の経過とともに次第に
高くなり、これに伴って積分強度の測定値が経時変化し
て精度良い分析結果が得られなくなる。
この対策として、従来の蛍光X線分析装置には、第4図
に示すように、一端が外気に開口した空気導入路aの他
端を真空室bに接続するとともに、空気導入路aの途中
に開閉バルブcと流量調整用のニードルバルブdとを設
け、さらに、真空計eの出力信号に基づいて前記開閉バ
ルブcを開閉制御するコントローラfを備えたものがあ
る。そして、真空室b内が所定の真空度V0に到達して積
分を開始した後に、真空度がさらに高くなってたとえば
第3図のV1の値になると、コントローラfからの信号で
開閉バルブcを開いて外気を真空室b内に導入し、真空
度は過剰に高くならないように制御するようにしてい
る。なお、第4図において、gはX線管、hは真空ポン
プ、iは真空排気路、jは真空排気路iを開閉する開閉
バルブである。
しかしながら、このような従来例の場合では、開閉バル
ブが開いたときに外気が直接真空室内に導入されるため
に過度応答となり、その結果、第4図の破線に示すよう
に、真空度が急激に変動して大幅なハンチングを生じ
る。このような大幅なハンチングは、積分強度の測定結
果が不安定となるため好ましくない。これに対して、ニ
ードルバルブを絞り込めば真空度の急激な変化は少なく
なるものの、開閉バルブの開閉に伴う真空度変化の応答
が遅れるためにオーバシュートを起こし易く、真空度を
一定範囲内に収まるように制御するのは困難である。
本考案は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、積分強度の測定中における真空室内の真空度の変動
をできるだけ抑え、これによって、安定した測定結果が
得られるようにすることを目的とする。
(ニ)課題を解決するための手段 本考案は、上記の目的を達成するために、真空室と真空
ポンプとの間を真空排気路を介して連通するとともに、
前記真空室内の真空度を検出する真空計を備えた蛍光X
線分析装置において、次の構成を採る。
すなわち、本考案では、前記真空排気路を分岐してその
分岐路の端部に空気保持室を接続し、かつ、前記分岐路
とは別に前記空気保持室と真空室との間を空気供給路を
介して連通するとともに、前記空気供給路と分岐路の途
中にそれぞれ第1、第2開閉バルブを設ける一方、前記
真空計の出力信号に基づいて前記第1、第2開閉バルブ
の動作を関連制御するシーケンスコントローラを備える
構成としている。
(ホ)作用 上記構成において、最初、真空室内を予備排気する際に
は、真空計からの出力信号に基づき、シーケンスコント
ローラは、第1、第2開閉バルブを共に開くため同時に
空気保持室内部も排気される。ある程度空気が存在する
所定の真空度に到達した時点で、シーケンスコントロー
ラは第1、第2開閉バルブを共に閉じるため、空気保持
室内が密閉保持される。さらに真空度が高くなって所定
のしきい値に到達すると、シーケンスコントローラは、
第1開閉バルブのみ開くため、空気保持室に保持されて
いた空気が真空室内に導入される。この場合、空気保持
室内の空気は外気ほどの密度が無いので、真空室内の真
空度は急激に変化しない。すなわち、大幅なハンチング
を抑えることができる。
(ヘ)実施例 第1図は蛍光X線分析装置の構成図である。同図におい
て、符号1は蛍光X線分析装置の全体を示し、2はX線
管、4は真空室で、試料が配置される試料室4aと分光器
が配置される分光室4bとからなる。また、6は真空ポン
プであり、この真空ポンプ6と上記の真空室4とは真空
排気路8を介して連通されている。そして、この真空排
気路8の途中に真空室4内の真空度を検出する真空計10
と該真空排気路8を開閉する第3開閉バルブ12とが設け
られている。
また、上記の真空排気路8からは分岐して分岐路14が設
けられ、この分岐路14の端部に所定の容量をもつ空気保
持室16が接続されている。さらに、分岐路14とは別に空
気保持室16と真空室4との間が空気供給路18を介して連
通されている、そして、空気供給路18と分岐路14の途中
にそれぞれ第1、第2開閉バルブ20、22が設けられてい
る。24は真空計10の出力信号に基づいて第1、第2、第
3開閉バルブ20、22、12の動作を関連制御するシーケン
スコントローラである。
次に、上記構成の蛍光X線分析装置1の真空度制御動作
について第2図を参照して説明する。
分析試料を真空室4内の試料室4aに装填した後、真空室
4内を予備排気する。この場合、シーケンスコントロー
ラ24は、真空計10からの出力信号に基づき、第1、第
2、第3開閉バルブ20、22、12を共に開くため、真空室
4内が排気される際に同時に空気保持室16内部も排気さ
れる。
そして、ある程度空気が存在する所定の真空度Va(第2
図のa点)たとえば130〜200μHgに到達した時点で、シ
ーケンスコントローラ24は第1、第2開閉バルブ20、22
を共に閉じるため、空気保持室16内が密閉されてその内
部が一定の真空度Vaに保持される。この場合も第3開閉
バルブ12は開いたままとなっている。したがって、真空
室4内は引き続いて真空排気される。そして、真空度が
高くなって所定の真空度Vb(第2図のb点)たとえば11
0μHgに到達すると、シーケンスコントローラ24は、積
分強度の測定を開始する信号を出力する。
積分中に、真空度がさらに高くなって所定のしきい値Vc
に達すると、シーケンスコントローラ24は、第1開閉バ
ルブ20を瞬間的に開く。そのため、空気保持室16に保持
されていた空気が僅かに空気供給路18を介して真空室4
内に導入される。この場合、空気保持室16内に保持され
ている空気は外気ほどの密度はなく、上記の例では130
〜200μHg程度であるから外気の約760mmHgと比較すると
格段の差がある。したがって、第1開閉バルブ20を開い
ても真空室4内の真空度の変化は僅かである。以降、積
分強度の測定が終了するまで、シーケンスコントローラ
24は、真空計10からの出力信号に基づいて、真空度がし
きい値Vcに到達するたびに第1開閉バルブ20を開く。そ
の結果、真空度の大幅な変動が無くなる。
(ト)効果 本考案によれば、積分強度の測定中における真空室内の
真空度の変動が抑えられるため、常に安定した積分強度
の測定結果が得られるようになる等の優れた効果が発揮
される。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は本考案の実施例を、第3図および
第4図は従来例をそれぞれ示し、第1図は蛍光X線分析
装置の構成図、第2図は真空度の制御特性図、第3図は
蛍光X線分析装置の構成図、第4図は真空度の制御特性
図である。 1……蛍光X線分析装置、4……真空室、6……真空ポ
ンプ、8……真空排気路、14……分岐路、18……空気供
給路、20……第1開閉バルブ、22……第2開閉バルブ、
24……シーケンスコントローラ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】真空室と真空ポンプとの間を真空排気路を
    介して連通するとともに、前記真空室内の真空度を検出
    する真空計を備えた蛍光X線分析装置において、 前記真空排気路を分岐してその分岐路の端部に空気保持
    室を接続し、かつ、前記分岐路とは別に前記空気保持室
    と真空室との間を空気供給路を介して連通するととも
    に、前記空気供給路と分岐路の途中にそれぞれ第1、第
    2開閉バルブを設ける一方、前記真空計の出力信号に基
    づいて前記第1、第2開閉バルブの動作を関連制御する
    シーケンスコントローラを備えることを特徴とする蛍光
    X線分析装置。
JP4698588U 1988-04-06 1988-04-06 蛍光x線分析装置 Expired - Lifetime JPH0733152Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4698588U JPH0733152Y2 (ja) 1988-04-06 1988-04-06 蛍光x線分析装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4698588U JPH0733152Y2 (ja) 1988-04-06 1988-04-06 蛍光x線分析装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01151244U JPH01151244U (ja) 1989-10-19
JPH0733152Y2 true JPH0733152Y2 (ja) 1995-07-31

Family

ID=31273220

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4698588U Expired - Lifetime JPH0733152Y2 (ja) 1988-04-06 1988-04-06 蛍光x線分析装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0733152Y2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH01151244U (ja) 1989-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5801317A (en) Oxygen/carbon dioxide sensor and controller for a refrigerated controlled atmosphere shipping container
JPH10513561A (ja) テストガス−漏れ検出器
US5894083A (en) Continuous gas analyzer
US6450009B1 (en) Method and device for measuring gas permeability through a porous membrane-like material
JPH0733152Y2 (ja) 蛍光x線分析装置
US20040063195A1 (en) CO2 incubator
KR100300262B1 (ko) 고농도산소측정가스분석장치및가스분석방법
JP7550005B2 (ja) ガス透過度測定装置
US4262522A (en) Method and arrangement for operating gas examining apparatuses
GB2138949A (en) Method to zero-set a gas sensor in a gas-fed incubator
JPH10311789A (ja) 測光装置
JP2906548B2 (ja) 流量制御装置
JP2757322B2 (ja) フイルムの気体透過率の測定方法
JPS60138291A (ja) ガス圧力制御装置
JP2903448B2 (ja) フーリエ変換赤外分光光度計
JP3291263B2 (ja) 蛍光x線分析装置
JPS62280645A (ja) 螢光x線分析装置
JPH09325115A (ja) 赤外線ガス検知器
SU1244096A1 (ru) Устройство дл исследовани кинетики паропроницаемости пленочных материалов
JPS6017730Y2 (ja) 排気ガス採取装置
JPH0635954U (ja) 蛍光x線分析装置
Travis et al. Trace detection in conducting solids using laser-induced fluorescence in a cathodic sputtering cell
JPH01314939A (ja) ガス漏洩検出法および検出装置
JP2004271295A (ja) レーザ分光分析装置
JPS585965Y2 (ja) ガス中の水分測定装置