JPH07333113A - 流動層処理装置における粉粒体の粒度測定装置 - Google Patents
流動層処理装置における粉粒体の粒度測定装置Info
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- JPH07333113A JPH07333113A JP6152795A JP15279594A JPH07333113A JP H07333113 A JPH07333113 A JP H07333113A JP 6152795 A JP6152795 A JP 6152795A JP 15279594 A JP15279594 A JP 15279594A JP H07333113 A JPH07333113 A JP H07333113A
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Landscapes
- Optical Measuring Cells (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、粉粒体の処理工程における粒度測
定装置に関するものであり、特に造粒中の粉粒体を直
接、粒度測定することができる新規な粒度測定装置を提
供する。 【構成】 本発明の粒度測定装置１は、サンプリング装
置３と、導管４と、レーザ光式粒径センサ５と、コンピ
ュータ７とを具えることを特徴とする。また導管４は、
レーザ光が通過する水平中空部４２と、粉粒体Ｇの自由
落下経路となる垂直中空部４１とから成り、水平中空部
４２の両端部分には反射防止コーティングガラス４３を
具えることを特徴とする。また反射防止コーティングガ
ラス４３の内側には、エアパージ機構４４を具えること
を特徴とする。また水平中空部４２の上下にはそれぞれ
仕切弁８１、８２を具え、更にこれら仕切弁８１、８２
の間にリーク弁８３を具えることを特徴とする。また導
管４と流動室２１とを連結する空輸配管６を設け、粉粒
体Ｇが流動室２１に返送される経路を形成することを特
徴とする。
定装置に関するものであり、特に造粒中の粉粒体を直
接、粒度測定することができる新規な粒度測定装置を提
供する。 【構成】 本発明の粒度測定装置１は、サンプリング装
置３と、導管４と、レーザ光式粒径センサ５と、コンピ
ュータ７とを具えることを特徴とする。また導管４は、
レーザ光が通過する水平中空部４２と、粉粒体Ｇの自由
落下経路となる垂直中空部４１とから成り、水平中空部
４２の両端部分には反射防止コーティングガラス４３を
具えることを特徴とする。また反射防止コーティングガ
ラス４３の内側には、エアパージ機構４４を具えること
を特徴とする。また水平中空部４２の上下にはそれぞれ
仕切弁８１、８２を具え、更にこれら仕切弁８１、８２
の間にリーク弁８３を具えることを特徴とする。また導
管４と流動室２１とを連結する空輸配管６を設け、粉粒
体Ｇが流動室２１に返送される経路を形成することを特
徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は流動層処理装置、コーテ
ィング装置等による粉粒体の処理工程における粒度測定
方法に関するものであり、特に造粒中の粉粒体を直接、
粒度測定することができる装置に係るものである。
ィング装置等による粉粒体の処理工程における粒度測定
方法に関するものであり、特に造粒中の粉粒体を直接、
粒度測定することができる装置に係るものである。
【０００２】
【発明の背景】従来より、粉粒体の処理工程において
は、造粒あるいはコーティングを行う場合、流動層処理
装置が多く使用されている。このような装置を操作する
にあたっては、例えば造粒操作においては、造粒時の層
内水分、噴霧ノズルからの噴霧液速度、液を微粒化する
ための噴霧圧、熱風温度等の操作因子を調整し、目的の
粒径の製品を得ている。このため、あらかじめ操作因子
の制御値を設定しておいて装置の運転を行い、造粒途中
での操作因子の調整は目視観察により制御値を変更して
行っている。従って、例えば季節により外気湿度が変わ
った場合等には噴霧液速度を調整する等の操作が必要と
なるが、この操作は専らオペレータの経験に委ねられ、
その結果、操作ミスの要因となっていた。また仮にオペ
レータの判断が正しかったとしても従来は、直接造粒中
の層内の造粒物の粒度を測定する適当な手段がなかった
ため、例えば造粒途中あるいは終了後にサンプリングを
行い、粒度測定を行う方法によって確認せざるを得ず、
そのデータに基づく操作を行ったとしてももはやタイミ
ングが遅れ、結果的に有効な判断操作とはならなかっ
た。このため、近赤外線水分計を用いて常時層内水分を
監視したり、あるいは、水分計からの出力を用いて層内
水分が一定となるような制御も行なわれているが、いず
れにしても、間接的に粒径を制御しているにすぎない。
また特開平５−２８５３６３号に開示されるように、装
置内部の流動している粒子を、装置壁面に設けた硝子窓
の外側に設けた光学センサにより内部を撮像し、画像処
理により内部の粒子の状態を検出する方法もあるが、粒
子の硝子面への付着対策が複雑になり、装置のサニタリ
ー性、洗浄性の面から実用的ではない。
は、造粒あるいはコーティングを行う場合、流動層処理
装置が多く使用されている。このような装置を操作する
にあたっては、例えば造粒操作においては、造粒時の層
内水分、噴霧ノズルからの噴霧液速度、液を微粒化する
ための噴霧圧、熱風温度等の操作因子を調整し、目的の
粒径の製品を得ている。このため、あらかじめ操作因子
の制御値を設定しておいて装置の運転を行い、造粒途中
での操作因子の調整は目視観察により制御値を変更して
行っている。従って、例えば季節により外気湿度が変わ
った場合等には噴霧液速度を調整する等の操作が必要と
なるが、この操作は専らオペレータの経験に委ねられ、
その結果、操作ミスの要因となっていた。また仮にオペ
レータの判断が正しかったとしても従来は、直接造粒中
の層内の造粒物の粒度を測定する適当な手段がなかった
ため、例えば造粒途中あるいは終了後にサンプリングを
行い、粒度測定を行う方法によって確認せざるを得ず、
そのデータに基づく操作を行ったとしてももはやタイミ
ングが遅れ、結果的に有効な判断操作とはならなかっ
た。このため、近赤外線水分計を用いて常時層内水分を
監視したり、あるいは、水分計からの出力を用いて層内
水分が一定となるような制御も行なわれているが、いず
れにしても、間接的に粒径を制御しているにすぎない。
また特開平５−２８５３６３号に開示されるように、装
置内部の流動している粒子を、装置壁面に設けた硝子窓
の外側に設けた光学センサにより内部を撮像し、画像処
理により内部の粒子の状態を検出する方法もあるが、粒
子の硝子面への付着対策が複雑になり、装置のサニタリ
ー性、洗浄性の面から実用的ではない。
【０００３】
【開発を試みた技術的事項】本発明はこのような背景の
認識に基づきなされたものであって、造粒中の流動層内
の粉粒体の粒度を直接測定することのできる、新規な流
動層処理装置における粉粒体の粒度測定装置の開発を試
みたものである。
認識に基づきなされたものであって、造粒中の流動層内
の粉粒体の粒度を直接測定することのできる、新規な流
動層処理装置における粉粒体の粒度測定装置の開発を試
みたものである。
【０００４】
【目的達成の手段】すなわち請求項１記載の流動層処理
装置における粉粒体の粒度測定装置は、粉粒体の乾燥、
造粒、コーティング等を行う流動層処理装置の適所に接
続されるサンプリング装置と、このサンプリング装置か
ら連通状態に分岐するように取付けられた導管と、前記
導管と交差状に組み合わされるレーザ光式粒径センサ
と、前記粒径センサの出力をデータ処理するコンピュー
タとを具えることを特徴とする。
装置における粉粒体の粒度測定装置は、粉粒体の乾燥、
造粒、コーティング等を行う流動層処理装置の適所に接
続されるサンプリング装置と、このサンプリング装置か
ら連通状態に分岐するように取付けられた導管と、前記
導管と交差状に組み合わされるレーザ光式粒径センサ
と、前記粒径センサの出力をデータ処理するコンピュー
タとを具えることを特徴とする。
【０００５】また請求項２記載の流動層処理装置におけ
る粉粒体の粒度測定装置は、前記要件に加え、前記導管
は、レーザ光式粒径センサのレーザ光が通過する水平中
空部と、粉粒体の自由落下経路となる垂直中空部とから
成り、水平中空部の両端部分には反射防止コーティング
ガラスを具えることを特徴とする。
る粉粒体の粒度測定装置は、前記要件に加え、前記導管
は、レーザ光式粒径センサのレーザ光が通過する水平中
空部と、粉粒体の自由落下経路となる垂直中空部とから
成り、水平中空部の両端部分には反射防止コーティング
ガラスを具えることを特徴とする。
【０００６】更にまた請求項３記載の流動層処理装置に
おける粉粒体の粒度測定装置は、前記要件に加え、前記
反射防止コーティングガラスの内側には、エアパージ機
構を具えることを特徴とする。
おける粉粒体の粒度測定装置は、前記要件に加え、前記
反射防止コーティングガラスの内側には、エアパージ機
構を具えることを特徴とする。
【０００７】更にまた請求項４記載の流動層処理装置に
おける粉粒体の粒度測定装置は、前記要件に加え、前記
水平中空部の上下にはそれぞれ仕切弁を具え、更にこれ
ら仕切弁の間にリーク弁を具えることを特徴とする。
おける粉粒体の粒度測定装置は、前記要件に加え、前記
水平中空部の上下にはそれぞれ仕切弁を具え、更にこれ
ら仕切弁の間にリーク弁を具えることを特徴とする。
【０００８】更にまた請求項５記載の流動層処理装置に
おける粉粒体の粒度測定装置は、前記要件に加え、前記
導管と流動室とを連結する空輸配管を設け、粉粒体が流
動室に返送される経路を形成することを特徴とする。こ
れら発明により前記目的を達成しようとするものであ
る。
おける粉粒体の粒度測定装置は、前記要件に加え、前記
導管と流動室とを連結する空輸配管を設け、粉粒体が流
動室に返送される経路を形成することを特徴とする。こ
れら発明により前記目的を達成しようとするものであ
る。
【０００９】
【発明の作用】まず請求項１記載の発明によれば、サン
プリング装置によって、処理中の粉粒体を定量的にサン
プリングし、サンプリングした粉粒体を導管によってレ
ーザ光式粒径センサに導き粒径測定を行い、コンピュー
タにより測定データを解析し、平均粒子径、均一度、粒
度分布、等のあらかじめ設定された項目を算出する。
プリング装置によって、処理中の粉粒体を定量的にサン
プリングし、サンプリングした粉粒体を導管によってレ
ーザ光式粒径センサに導き粒径測定を行い、コンピュー
タにより測定データを解析し、平均粒子径、均一度、粒
度分布、等のあらかじめ設定された項目を算出する。
【００１０】また請求項２記載の発明によれば、前記導
管の水平中空部の両端部分には反射防止コーティングガ
ラスを具えるので、レーザ光式粒径センサのレーザ光を
透過する。
管の水平中空部の両端部分には反射防止コーティングガ
ラスを具えるので、レーザ光式粒径センサのレーザ光を
透過する。
【００１１】更にまた請求項３記載の発明によれば、前
記反射防止コーティングガラスの内側には、エアパージ
機構を具えるので、反射防止コーティングガラスへの粉
粒体の付着を回避する。
記反射防止コーティングガラスの内側には、エアパージ
機構を具えるので、反射防止コーティングガラスへの粉
粒体の付着を回避する。
【００１２】更にまた請求項４記載の発明によれば、前
記水平中空部の上下にはそれぞれ仕切弁を具え、更にこ
れら仕切弁の間にリーク弁を具えるので、これら弁の切
り替えにより、粉粒体Ｇの移動経路を選択することがで
きる。
記水平中空部の上下にはそれぞれ仕切弁を具え、更にこ
れら仕切弁の間にリーク弁を具えるので、これら弁の切
り替えにより、粉粒体Ｇの移動経路を選択することがで
きる。
【００１３】更にまた請求項５記載の発明によれば、前
記導管と流動室とを連結する空輸配管を設け、粉粒体が
流動室に返送される経路を形成するので、測定された粉
粒体を流動室に返送する。
記導管と流動室とを連結する空輸配管を設け、粉粒体が
流動室に返送される経路を形成するので、測定された粉
粒体を流動室に返送する。
【００１４】
【実施例】以下本発明を図示の実施例に基づいて具体的
に説明する。符号１は本発明の粒度測定装置であって、
このものは流動層処理装置２の流動室２１の外部におけ
る適宜の位置に付設され、サンプリング装置３と、導管
４と、レーザ光式粒径センサ５と、空輸配管６と、コン
ピュータ７とを具えて成る。
に説明する。符号１は本発明の粒度測定装置であって、
このものは流動層処理装置２の流動室２１の外部におけ
る適宜の位置に付設され、サンプリング装置３と、導管
４と、レーザ光式粒径センサ５と、空輸配管６と、コン
ピュータ７とを具えて成る。
【００１５】まず本発明を適用する流動層処理装置２に
ついて簡単に説明する。このものは粉粒体Ｇの乾燥、造
粒、コーティング等を行う装置であり、流動室２１と、
噴霧室２３、フィルタ室等により構成される。流動層処
理装置２は公知の構成とし、流動室２１に空気を送り込
み、原料粉体を膨張させて流動化された粉体層である流
動層を形成し、これに水やバインダ液を加えて、粉粒体
Ｇを凝集形成するものである。流動室２１は流動層処理
装置２の下部を構成し逆円錐台形をしており、その外周
面の適宜の位置にはサンプリングノズル２２が設けられ
ている。噴霧室２３には水、あるいは結合剤となるバイ
ンダ液を噴霧するための噴霧ノズル２４が設置されてい
る。フィルタ室には原料粉体と乾燥用空気とを分離する
ためのバグフィルタが組み込んであり、装置外へ原料粉
体が飛散しないようにしてある。更に底部には、多孔板
あるいは金網等が設けられており、ここから空気を送り
込む。
ついて簡単に説明する。このものは粉粒体Ｇの乾燥、造
粒、コーティング等を行う装置であり、流動室２１と、
噴霧室２３、フィルタ室等により構成される。流動層処
理装置２は公知の構成とし、流動室２１に空気を送り込
み、原料粉体を膨張させて流動化された粉体層である流
動層を形成し、これに水やバインダ液を加えて、粉粒体
Ｇを凝集形成するものである。流動室２１は流動層処理
装置２の下部を構成し逆円錐台形をしており、その外周
面の適宜の位置にはサンプリングノズル２２が設けられ
ている。噴霧室２３には水、あるいは結合剤となるバイ
ンダ液を噴霧するための噴霧ノズル２４が設置されてい
る。フィルタ室には原料粉体と乾燥用空気とを分離する
ためのバグフィルタが組み込んであり、装置外へ原料粉
体が飛散しないようにしてある。更に底部には、多孔板
あるいは金網等が設けられており、ここから空気を送り
込む。
【００１６】次にサンプリング装置３について説明す
る。サンプリング装置３は、一例として流動層処理装置
２における流動室２１に標準仕様として設けられること
のあるサンプリングノズル２２を利用して流動室２１の
外部に付設されるものであり、このようにした場合には
既設の装置についても改造することなく設置が可能であ
る。サンプリング装置３は図２に示すように実質的にス
クリューコンベヤを構成するものであって、管状のケー
シング３１内にスクリュー３２を配し、更にこれを回転
駆動するエアモータ３３をケーシング３１の一端に設け
る。ケーシング３１の先端には粒子取入口３４を設け、
流動室２１に対して粒子取入口３４がその内部に臨むよ
うにして設置される。
る。サンプリング装置３は、一例として流動層処理装置
２における流動室２１に標準仕様として設けられること
のあるサンプリングノズル２２を利用して流動室２１の
外部に付設されるものであり、このようにした場合には
既設の装置についても改造することなく設置が可能であ
る。サンプリング装置３は図２に示すように実質的にス
クリューコンベヤを構成するものであって、管状のケー
シング３１内にスクリュー３２を配し、更にこれを回転
駆動するエアモータ３３をケーシング３１の一端に設け
る。ケーシング３１の先端には粒子取入口３４を設け、
流動室２１に対して粒子取入口３４がその内部に臨むよ
うにして設置される。
【００１７】流動室２１内の流動状態にある粉粒対Ｇ
は、粒子取入口３４より取り込まれ、スクリュー３２に
より流動室２１の外、つまりサンプリング装置３内部へ
と移送される。このときスクリュー３２の回転を調整す
ることにより、サンプリング量を調整することが可能で
ある。スクリュー３２の回転数はエアモータ３３へ供給
するエアの圧力を調整することにより変えることが可能
であり、測定に必要な最低限の量をサンプリングするこ
とができる。
は、粒子取入口３４より取り込まれ、スクリュー３２に
より流動室２１の外、つまりサンプリング装置３内部へ
と移送される。このときスクリュー３２の回転を調整す
ることにより、サンプリング量を調整することが可能で
ある。スクリュー３２の回転数はエアモータ３３へ供給
するエアの圧力を調整することにより変えることが可能
であり、測定に必要な最低限の量をサンプリングするこ
とができる。
【００１８】次に導管４について説明する。このものは
サンプリング装置３と後述する空輸配管６との間に装着
される。導管４は図３に示すようにテーパー状の垂直中
空部４１と、これと交差する水平中空部４２とから成
る。水平中空部４２の両端部分には請求項２に開示した
ように、反射防止コーティングガラス４３を具える。こ
のものは表面をコーティング処理した光学ガラスであ
り、入射するレーザ光をその境界面において反射、散乱
することなく透過させる。反射防止コーティングガラス
４３の内側にはエアパージ機構４４を具える。このもの
はガラス面と平行にガラスの中心に向かってエアを吹き
出すエア吹出口４５を設け、配管継手４６を介してエア
供給機構からエアを送るというものである。供給するエ
アの圧力を調整することにより流速を変えることが可能
である。また前記エアの供給機構は、前記エアモータ３
３を駆動するものと共有することができるし、それぞれ
独立して設けてもよい。導管４はクランプ継手によりサ
ンプリング装置３に取り付けられ、容易に着脱可能な構
造となっており、洗浄性が良い。
サンプリング装置３と後述する空輸配管６との間に装着
される。導管４は図３に示すようにテーパー状の垂直中
空部４１と、これと交差する水平中空部４２とから成
る。水平中空部４２の両端部分には請求項２に開示した
ように、反射防止コーティングガラス４３を具える。こ
のものは表面をコーティング処理した光学ガラスであ
り、入射するレーザ光をその境界面において反射、散乱
することなく透過させる。反射防止コーティングガラス
４３の内側にはエアパージ機構４４を具える。このもの
はガラス面と平行にガラスの中心に向かってエアを吹き
出すエア吹出口４５を設け、配管継手４６を介してエア
供給機構からエアを送るというものである。供給するエ
アの圧力を調整することにより流速を変えることが可能
である。また前記エアの供給機構は、前記エアモータ３
３を駆動するものと共有することができるし、それぞれ
独立して設けてもよい。導管４はクランプ継手によりサ
ンプリング装置３に取り付けられ、容易に着脱可能な構
造となっており、洗浄性が良い。
【００１９】次に仕切弁８１、８２、リーク弁８３と導
管４について説明する。これらの弁は一般に使用される
フルボアタイプのサニタリーボールバルブあるいはバタ
フライバルブである。図１に示すように、仕切弁８１は
サンプリング装置３と導管４との間に設けられ、仕切弁
８２は導管４と後述する空輸配管６との間に設けられ
る。またリーク弁８３は、垂直中空部４１の水平中空部
４２よりもサンプリング装置３側に設けられる。
管４について説明する。これらの弁は一般に使用される
フルボアタイプのサニタリーボールバルブあるいはバタ
フライバルブである。図１に示すように、仕切弁８１は
サンプリング装置３と導管４との間に設けられ、仕切弁
８２は導管４と後述する空輸配管６との間に設けられ
る。またリーク弁８３は、垂直中空部４１の水平中空部
４２よりもサンプリング装置３側に設けられる。
【００２０】次に空輸配管６について説明する。このも
のは図１に示すように、導管４の垂直中空部４１の排出
部に接続された仕切弁８２と、流動層処理装置２におけ
る流動室２１とを接続するように具えられる中空部材で
ある。従ってサンプリング装置３から導管４を経由した
粉粒体Ｇは、仕切弁８２が開放されているときは空輸配
管６に到り、流動室２１内へと移送される。
のは図１に示すように、導管４の垂直中空部４１の排出
部に接続された仕切弁８２と、流動層処理装置２におけ
る流動室２１とを接続するように具えられる中空部材で
ある。従ってサンプリング装置３から導管４を経由した
粉粒体Ｇは、仕切弁８２が開放されているときは空輸配
管６に到り、流動室２１内へと移送される。
【００２１】次にレーザ光式粒径センサ５について説明
する。このものは既存のセンサであり、図４に示すよう
に、Ｈｅ−Ｎｅレーザ５１から発射され、コリメータ５
２を経たレーザ光が、粉粒体Ｇによりラマン散乱した光
をセンサ５３により受光し、その強さ等から散乱物質で
ある粉粒体Ｇの粒径を測定するものである。ラマン効果
を利用しているため散乱光の波長が発射光と異なるので
ＳＮ比が高く、高精度の測定が可能である。またサンプ
リング周期は０．６〜５００ｍｓの範囲で可変である。
そして前記レーザ光が、導管４における水平中空部４２
を通過するように配置される。なお本実施例ではレーザ
光散乱式の粒径センサを用いたが、レーザ光回折法等の
粒径センサを用いてもよい。
する。このものは既存のセンサであり、図４に示すよう
に、Ｈｅ−Ｎｅレーザ５１から発射され、コリメータ５
２を経たレーザ光が、粉粒体Ｇによりラマン散乱した光
をセンサ５３により受光し、その強さ等から散乱物質で
ある粉粒体Ｇの粒径を測定するものである。ラマン効果
を利用しているため散乱光の波長が発射光と異なるので
ＳＮ比が高く、高精度の測定が可能である。またサンプ
リング周期は０．６〜５００ｍｓの範囲で可変である。
そして前記レーザ光が、導管４における水平中空部４２
を通過するように配置される。なお本実施例ではレーザ
光散乱式の粒径センサを用いたが、レーザ光回折法等の
粒径センサを用いてもよい。
【００２２】次にコンピュータ７について説明する。こ
のものは既存のパソコンであり、粒子加工に必要な平均
粒子径、均一度、粒度分布等を演算し、その結果を出力
する。またこの出力値はＪＩＳ規格のふるいに準拠して
いる。なお、本実施例ではコンピュータ７にパソコンを
用いたが、シングルボードコンピュータやＥＷＳ等を用
いてもよい。
のものは既存のパソコンであり、粒子加工に必要な平均
粒子径、均一度、粒度分布等を演算し、その結果を出力
する。またこの出力値はＪＩＳ規格のふるいに準拠して
いる。なお、本実施例ではコンピュータ７にパソコンを
用いたが、シングルボードコンピュータやＥＷＳ等を用
いてもよい。
【００２３】上述したように構成される粒度測定装置１
に対し粉粒体Ｇは、導管４における垂直中空部４１内を
重力で落下し、落下中に水平中空部４２両側面に設けた
反射防止コーティングガラス４３間のほぼ中心を通過
し、その際に照射されているレーザ光により粒子径の測
定が行なわれる。この際、反射防止コーティングガラス
４３部にはガラスへの粉粒体Ｇの付着による外乱を避け
るためにガラス面に対してエアパージされている。
に対し粉粒体Ｇは、導管４における垂直中空部４１内を
重力で落下し、落下中に水平中空部４２両側面に設けた
反射防止コーティングガラス４３間のほぼ中心を通過
し、その際に照射されているレーザ光により粒子径の測
定が行なわれる。この際、反射防止コーティングガラス
４３部にはガラスへの粉粒体Ｇの付着による外乱を避け
るためにガラス面に対してエアパージされている。
【００２４】粉粒体Ｇのサンプリングは連続的に可能で
あるが、実用上は間欠的にサンプリングを行えば充分粒
子成長に対しての対応が可能であり、例えば数十秒に一
度エアモータ３３を回転させてサンプリングを行い、必
要なデータを取ればよく、サンプリング量は最小限でよ
い。このような一連の測定を行うにあたっては、仕切弁
８１を開放し仕切弁８２及びリーク弁８３を閉鎖する。
粒径測定のなされた粉粒体Ｇは、垂直中空部４１排出部
付近に溜まる。この粉粒体Ｇを流動室２１に返送するに
あたっては、仕切弁８１を閉鎖し、仕切弁８２及びリー
ク弁８３を開放する。流動層処理装置２は通常負圧で運
転されているので、リーク弁８３から外気が進入し導管
４、仕切弁８２及び空輸配管６を経由して流動室２１内
へと達するとともに、粉粒体Ｇを空輸する。粉粒体Ｇを
流動室２１に返送するにあたって別の方法として仕切弁
８１及びリーク弁８３を閉鎖し、仕切弁８２を開放す
る。このようにすると反射防止コーティングガラス４３
部にパージしているエアにより、粉粒体Ｇは流動室２１
内へ戻されるので、粒度測定による製品の損失がなくな
る。また、粉粒体Ｇを外部に取り出すときには、仕切弁
８１及び仕切弁８２を閉鎖し、リーク弁８３を開放すれ
ばここから垂直中空部４１排出部付近に溜まった粉粒体
Ｇを取り出すことができる。
あるが、実用上は間欠的にサンプリングを行えば充分粒
子成長に対しての対応が可能であり、例えば数十秒に一
度エアモータ３３を回転させてサンプリングを行い、必
要なデータを取ればよく、サンプリング量は最小限でよ
い。このような一連の測定を行うにあたっては、仕切弁
８１を開放し仕切弁８２及びリーク弁８３を閉鎖する。
粒径測定のなされた粉粒体Ｇは、垂直中空部４１排出部
付近に溜まる。この粉粒体Ｇを流動室２１に返送するに
あたっては、仕切弁８１を閉鎖し、仕切弁８２及びリー
ク弁８３を開放する。流動層処理装置２は通常負圧で運
転されているので、リーク弁８３から外気が進入し導管
４、仕切弁８２及び空輸配管６を経由して流動室２１内
へと達するとともに、粉粒体Ｇを空輸する。粉粒体Ｇを
流動室２１に返送するにあたって別の方法として仕切弁
８１及びリーク弁８３を閉鎖し、仕切弁８２を開放す
る。このようにすると反射防止コーティングガラス４３
部にパージしているエアにより、粉粒体Ｇは流動室２１
内へ戻されるので、粒度測定による製品の損失がなくな
る。また、粉粒体Ｇを外部に取り出すときには、仕切弁
８１及び仕切弁８２を閉鎖し、リーク弁８３を開放すれ
ばここから垂直中空部４１排出部付近に溜まった粉粒体
Ｇを取り出すことができる。
【００２５】上述したようにして行われるレーザ光式粒
径センサ５による所要測定時間は約２秒であり、この間
に２００回の測定を行い、その平均を演算して出力する
ことが可能である。またレーザ光式粒度センサ５は１μ
ｍ〜２０００μｍまでの非常に広い範囲の粒径を、１台
のセンサで測定することが可能であり、通常の造粒操作
における粒度範囲を全てカバーしている。また本装置か
らの出力はＪＩＳ規格のふるいに準拠しており、従来一
般的に用いられている粒度測定法との比較が容易に可能
である。
径センサ５による所要測定時間は約２秒であり、この間
に２００回の測定を行い、その平均を演算して出力する
ことが可能である。またレーザ光式粒度センサ５は１μ
ｍ〜２０００μｍまでの非常に広い範囲の粒径を、１台
のセンサで測定することが可能であり、通常の造粒操作
における粒度範囲を全てカバーしている。また本装置か
らの出力はＪＩＳ規格のふるいに準拠しており、従来一
般的に用いられている粒度測定法との比較が容易に可能
である。
【００２６】本発明の流動層処理装置２における粉粒体
Ｇの粒度測定装置１の構成及び使用方法は前記したとお
りであり、以下具体的なデータを示し、αコーンスター
チを３ｋｇ仕込み、結合剤に水を用いて造粒した実施例
について説明する。
Ｇの粒度測定装置１の構成及び使用方法は前記したとお
りであり、以下具体的なデータを示し、αコーンスター
チを３ｋｇ仕込み、結合剤に水を用いて造粒した実施例
について説明する。
【００２７】まず、造粒開始後から流動室２１からのサ
ンプリングを行い、同時にレーザ光式粒径センサ５での
測定を行った平均粒子径と、従来より用いているふるい
分け法で測定した結果とを比較したグラフを図５に示
す。横軸はふるい分け法による計測粒子径であり、縦軸
はレーザ法による計測粒子径である。計測は平均粒子径
がＤ２０、Ｄ５０、Ｄ８０の三種類をオフライン、オン
ラインでそれぞれ行った。
ンプリングを行い、同時にレーザ光式粒径センサ５での
測定を行った平均粒子径と、従来より用いているふるい
分け法で測定した結果とを比較したグラフを図５に示
す。横軸はふるい分け法による計測粒子径であり、縦軸
はレーザ法による計測粒子径である。計測は平均粒子径
がＤ２０、Ｄ５０、Ｄ８０の三種類をオフライン、オン
ラインでそれぞれ行った。
【００２８】レーザ光式粒径センサ５で測定した平均粒
子径は、ふるい分け法で測定した結果と非常によく一致
しており、従来不可能であった造粒中の流動室２１内の
粉粒体Ｇの状態をリアルタイムで把握することが可能で
ある。
子径は、ふるい分け法で測定した結果と非常によく一致
しており、従来不可能であった造粒中の流動室２１内の
粉粒体Ｇの状態をリアルタイムで把握することが可能で
ある。
【００２９】また本発明の粒度測定装置１は、流動層処
理装置２のみならず、例えば一般の乾燥装置、粉体の貯
留装置、輸送中の配管内の粉体、等々、粉体を扱う装置
に適用ができる。
理装置２のみならず、例えば一般の乾燥装置、粉体の貯
留装置、輸送中の配管内の粉体、等々、粉体を扱う装置
に適用ができる。
【００３０】
【発明の効果】本発明は以上述べたような構成を有する
ものであり、以下のような効果を奏する。まず請求項１
記載の発明によれば、サンプリング装置３によって粉粒
体Ｇを定量的にサンプリングし、サンプリングした粉粒
体Ｇを導管４によってレーザ光式粒径センサ５に導き粒
径測定を行い、コンピュータにより測定データを解析
し、平均粒子径、均一度、粒度分布、等の項目を算出す
る。
ものであり、以下のような効果を奏する。まず請求項１
記載の発明によれば、サンプリング装置３によって粉粒
体Ｇを定量的にサンプリングし、サンプリングした粉粒
体Ｇを導管４によってレーザ光式粒径センサ５に導き粒
径測定を行い、コンピュータにより測定データを解析
し、平均粒子径、均一度、粒度分布、等の項目を算出す
る。
【００３１】また請求項２記載の発明によれば、前記導
管４の水平中空部４２の両端部分には反射防止コーティ
ングガラス４３を具えるので、レーザ光式粒径センサ５
のレーザ光を反射、散乱することなく透過する。
管４の水平中空部４２の両端部分には反射防止コーティ
ングガラス４３を具えるので、レーザ光式粒径センサ５
のレーザ光を反射、散乱することなく透過する。
【００３２】更にまた請求項３記載の発明によれば、前
記反射防止コーティングガラス４３の内側には、エアパ
ージ機構４４を具えるので、反射防止コーティングガラ
ス４３への粉粒体Ｇの付着を回避する。
記反射防止コーティングガラス４３の内側には、エアパ
ージ機構４４を具えるので、反射防止コーティングガラ
ス４３への粉粒体Ｇの付着を回避する。
【００３３】更にまた請求項４記載の発明によれば、前
記水平中空部４２の上下にはそれぞれ仕切弁８１、８２
を具え、更にこれら仕切弁８１、８２の間にリーク弁８
３を具えるので、これら弁の切り替えにより、粉粒体Ｇ
の移動経路を選択すことができる。
記水平中空部４２の上下にはそれぞれ仕切弁８１、８２
を具え、更にこれら仕切弁８１、８２の間にリーク弁８
３を具えるので、これら弁の切り替えにより、粉粒体Ｇ
の移動経路を選択すことができる。
【００３４】更にまた請求項５記載の発明によれば、前
記導管４と流動室２１とを連結する空輸配管６を設け、
粉粒体Ｇが流動室２１に返送される経路を形成するの
で、測定された粉粒体Ｇを流動室２１に返送する。これ
らによって造粒操作等の粉粒体Ｇ加工時、処理容器内の
粉粒体Ｇをサンプリングし、レーザ光式センサ５で粉粒
体Ｇを測定することにより、粉粒体Ｇの状態をリアルタ
イムで測定することが可能となり、測定結果を操作因子
の制御に用いることにより最適な造粒制御を行うことが
できるため、品質の安定化、生産の合理化に極めて有効
である。更に、測定は既存の流動層処理装置２に後付け
される粒度測定装置１により、流動室２１外部にて行わ
れるため、サニタリー性、洗浄性での問題もなくなる。
またこれまで困難であった造粒のメカニズム解析等への
応用が可能である。
記導管４と流動室２１とを連結する空輸配管６を設け、
粉粒体Ｇが流動室２１に返送される経路を形成するの
で、測定された粉粒体Ｇを流動室２１に返送する。これ
らによって造粒操作等の粉粒体Ｇ加工時、処理容器内の
粉粒体Ｇをサンプリングし、レーザ光式センサ５で粉粒
体Ｇを測定することにより、粉粒体Ｇの状態をリアルタ
イムで測定することが可能となり、測定結果を操作因子
の制御に用いることにより最適な造粒制御を行うことが
できるため、品質の安定化、生産の合理化に極めて有効
である。更に、測定は既存の流動層処理装置２に後付け
される粒度測定装置１により、流動室２１外部にて行わ
れるため、サニタリー性、洗浄性での問題もなくなる。
またこれまで困難であった造粒のメカニズム解析等への
応用が可能である。
【図１】本発明の粒度測定装置を流動層造粒装置に付設
した状態を示す骨格図である。
した状態を示す骨格図である。
【図２】サンプリング装置を示す縦断側面図である。
【図３】導管を示す縦断側面図である。
【図４】レーザ光式粒径センサの内部構造を模式的に示
すブロック図である。
すブロック図である。
【図５】ふるい分け法による計測粒子径と本発明の粒度
測定装置による計測粒子径を比較するグラフである。
測定装置による計測粒子径を比較するグラフである。
１ 粒度測定装置 ２ 流動層処理装置 ３ サンプリング装置 ４ 導管 ５ レーザ光式粒径センサ ６ 空輸配管 ７ コンピュータ ２１ 流動室 ２２ サンプリングノズル ２３ 噴霧室 ２４ 噴霧ノズル ３１ ケーシング ３２ スクリュー ３３ エアモータ ３４ 粒子取入口 ４１ 垂直中空部 ４２ 水平中空部 ４３ 反射防止コーティングガラス ４４ エアパージ機構 ４５ エア吹出口 ４６ 配管継手 ５１ Ｈｅ−Ｎｅレーザ ５２ コリメータ ５３ センサ ８１ 仕切弁 ８２ 仕切弁 ８３ リーク弁 Ｇ 粉粒体
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年７月１３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正内容】
【図５】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山崎 一正 静岡県榛原郡吉田町神戸1235 株式会社大 川原製作所内 (72)発明者 田畑 浩治 静岡県榛原郡吉田町神戸1235 株式会社大 川原製作所内
Claims (5)
- 【請求項１】 粉粒体の乾燥、造粒、コーティング等を
行う流動層処理装置の適所に接続されるサンプリング装
置と、このサンプリング装置から連通状態に分岐するよ
うに取り付けられた導管と、前記導管と交差状に組み合
わされるレーザ光式粒径センサと、前記粒径センサの出
力をデータ処理するコンピュータとを具えることを特徴
とする、流動層処理装置における粉粒体の粒度測定装
置。 - 【請求項２】 前記導管は、レーザ光式粒径センサのレ
ーザ光が通過する水平中空部と、粉粒体の自由落下経路
となる垂直中空部とから成り、水平中空部の両端部分に
は反射防止コーティングガラスを具えることを特徴とす
る、請求項１記載の流動層処理装置における粉粒体の粒
度測定装置。 - 【請求項３】 前記反射防止コーティングガラスの内側
には、エアパージ機構を具えることを特徴とする、請求
項１または２記載の流動層処理装置における粉粒体の粒
度測定装置。 - 【請求項４】 前記水平中空部の上下にはそれぞれ仕切
弁を具え、更にこれら仕切弁の間にリーク弁を具えるこ
とを特徴とする、請求項１、２または３記載の流動層処
理装置における粉粒体の粒度測定装置。 - 【請求項５】 前記導管と流動室とを連結する空輸配管
を設け、粉粒体が流動室に返送される経路を形成するこ
とを特徴とする、請求項１、２、３または４記載の流動
層処理装置における粉粒体の粒度測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6152795A JPH07333113A (ja) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | 流動層処理装置における粉粒体の粒度測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6152795A JPH07333113A (ja) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | 流動層処理装置における粉粒体の粒度測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07333113A true JPH07333113A (ja) | 1995-12-22 |
Family
ID=15548319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6152795A Pending JPH07333113A (ja) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | 流動層処理装置における粉粒体の粒度測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07333113A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100947035B1 (ko) * | 2008-02-28 | 2010-03-10 | 김영훈 | 적외선분광법을 이용한 유해환경의 대기 분석시스템 |
| JP2014039179A (ja) * | 2012-08-17 | 2014-02-27 | Chino Corp | 監視窓パージ機構 |
| CN104236951A (zh) * | 2013-06-12 | 2014-12-24 | 阿克森斯公司 | 从密封容器中对固体进行采样的装置及其使用方法 |
| JP2018151273A (ja) * | 2017-03-14 | 2018-09-27 | 沢井製薬株式会社 | 粒子径測定方法、粒子径測定装置及びそれを用いた品質管理方法 |
| US10151677B2 (en) | 2014-07-08 | 2018-12-11 | Halliburton Energy Services, Inc. | Real-time optical flow imaging to determine particle size distribution |
| JP2022069028A (ja) * | 2020-10-23 | 2022-05-11 | 株式会社タクマ | バイオマス燃焼設備、及びバイオマス燃焼方法 |
| CN115032127A (zh) * | 2022-02-23 | 2022-09-09 | 大连华立金港药业有限公司 | 一种榄香烯口服乳生产过程中初乳质量自动控制方法 |
Citations (7)
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|---|---|---|---|---|
| JPS62175645A (ja) * | 1986-01-30 | 1987-08-01 | Nikkiso Co Ltd | 粉粒体粒度オンライン自動分析装置 |
| JPS6337889B2 (ja) * | 1981-03-19 | 1988-07-27 | Boeicho Gijutsu Kenkyu Honbucho | |
| JPH0234603Y2 (ja) * | 1985-02-20 | 1990-09-18 | ||
| JPH0310145A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-17 | Okawara Mfg Co Ltd | 流動層処理装置における水分検知装置 |
| JPH0466567U (ja) * | 1990-10-19 | 1992-06-11 | ||
| JPH0566190A (ja) * | 1990-11-22 | 1993-03-19 | Satake Eng Co Ltd | 粒体分析方法およびその装置と該装置による粉砕機ロール間隙調節装置 |
| JPH05285363A (ja) * | 1992-04-09 | 1993-11-02 | Powrex:Kk | 粒子加工装置用制御装置 |
-
1994
- 1994-06-10 JP JP6152795A patent/JPH07333113A/ja active Pending
Patent Citations (7)
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| JP2022069028A (ja) * | 2020-10-23 | 2022-05-11 | 株式会社タクマ | バイオマス燃焼設備、及びバイオマス燃焼方法 |
| CN115032127A (zh) * | 2022-02-23 | 2022-09-09 | 大连华立金港药业有限公司 | 一种榄香烯口服乳生产过程中初乳质量自动控制方法 |
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