JPH073363A

JPH073363A - 高耐食性Ａｇ−Ｍｇ合金、および、その薄膜

Info

Publication number: JPH073363A
Application number: JP6107566A
Authority: JP
Inventors: Rie Mori; 理恵森; Kenichi Hijikata; 研一土方
Original assignee: Mitsubishi Materials Corp
Current assignee: Mitsubishi Materials Corp
Priority date: 1993-04-22
Filing date: 1994-04-22
Publication date: 1995-01-06
Anticipated expiration: 2019-08-25
Also published as: JP3558301B2

Abstract

(57)【要約】【目的】硫化物成分等によるＡｇの銀白色光沢の黒変
化を防止し、高反射率、低熱伝導率のＡｇ−Ｍｇ合金を
得る。また、光磁気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ
等に使用して好適なＡｇ−Ｍｇ合金薄膜を得る。【構成】Ａｇに対し１〜１０ａｔ％のＭｇを含有させ
たＡｇ−Ｍｇ合金の最表層のＭｇが酸化されて生ずる被
膜により、Ａｇを大気中の硫化物成分やオゾンから遮断
して耐食性を高めると共に、高反射率を維持する。Ｍｇ
の添加により熱伝導率を低下させる。光磁気記録媒体、
光ディスク、照明器具、鏡、標識用の反射膜として有用
である。さらに、家庭用プラスチック製品のめっき膜と
しても使用することができる。スパッタリングにより基
板に合金膜を被着する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、大気中の硫化物成分や
オゾンなどによるＡｇの黒変化を防止する高耐食性Ａｇ
−Ｍｇ合金、および、この合金を用いた反射膜、詳しく
は光磁気記録媒体用反射膜、光記録媒体用反射膜、リフ
レクタ用反射膜、照明器具用反射膜、標識用反射膜、お
よび、プラスチック製品のめっき膜に関する。

【０００２】

【従来の技術】Ａｇはその銀白色の美しい光沢とともに
展性、延性に優れ、金属のうちで電気および熱の伝導率
が最も大きいので非常に有用な金属である。特に可視光
に対する反射率が広い波長範囲にわたって１００％に近
いため、鏡面を必要とする装置、例えば光記録媒体の反
射膜などに広く利用されている。このようなＡｇの特徴
を生かして例えば、洋食器にＡｇメッキを行うと、その
装飾性に優れている点や水分中の微生物が殺菌されるな
どの利点があるため、被メッキ物に高級感を与えること
ができる。

【０００３】以上のようにＡｇは非常に有用な金属であ
り酸素の中で高温に熱しても酸化されない等、化学的に
も安定な金属であるが、唯一その欠点として、大気中の
硫化物成分によって褐色または黒色のＡｇ₂Ｓに変化
し、また、硫化物ほどではないが、大気中のオゾンによ
り黒色のＡｇＯに変化して、その光沢を失うことが挙げ
られる。特に、Ｓ（硫黄）とは直接結合して、例えば、
Ｈ₂Ｓと反応して常温で容易にＡｇ₂Ｓとなり黒変する。
この黒変化を逆に利用した古美術色装飾品もあるが一般
的でない。このような黒変化を一時的に防止するには、
クロム酸処理や透明樹脂を塗装する方法が用いられ、最
も効果的な方法としてはＡｇメッキ上にＲｈメッキを薄
く形成する方法が用いられる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このようなＡｇの退色
を防止する方法は完全なものではなく、上記Ｒｈメッキ
による方法もＲｈ（ロジウム）が非常に高価であるため
一般的でない。また、被覆物とＡｇとの間に界面が存在
する場合には、剥離等の不都合が起こりやすい。さら
に、上記光記録媒体、特に光磁気記録媒体用反射膜とし
て用いる場合には、熱伝導率の高さが問題となる。

【０００５】そこで、本発明の目的は、大気中の硫化物
成分やオゾンによるＡｇの退色を防止し、併せてＡｇの
反射率の高さを保持しつつ、Ａｇよりも熱伝導率の低
い、高耐食性Ａｇ−Ｍｇ（銀−マグネシウム）合金を提
供することにある。また、本発明は、この高耐食性Ａｇ
−Ｍｇ合金を用いた高耐食性反射膜を提供することを、
その目的としている。また、本発明の目的は、この高耐
食性Ａｇ−Ｍｇ合金を用いた光磁気記録媒体用反射膜、
光記録媒体用反射膜、リフレクタ用反射膜、照明器具用
反射膜、標識用反射膜、プラスチック製品のめっき膜を
提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】このような目的は下記の
本発明により達成される。すなわち、請求項１に記載の
発明は、Ａｇに１〜１０ａｔ％のＭｇを含有させた高耐
食性Ａｇ−Ｍｇ合金である。その表面に生成するＭｇの
自然酸化膜により合金内部のＡｇを大気から保護して
（酸化、硫化等を防止して）退色を防止するものであ
る。

【０００７】請求項２に記載の発明は、Ａｇに１〜１０
ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる高耐
食性反射膜である。この高耐食性反射膜は、例えば光磁
気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ、各種標識、照明
器具等に用いられる。

【０００８】請求項３に記載の発明は、Ａｇに１〜８ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる光磁気
記録媒体用反射膜である。

【０００９】請求項４に記載の発明は、Ａｇに１〜８ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなり、その
膜厚が５００〜１０００オングストロームである光磁気
記録媒体用反射膜である。

【００１０】請求項５に記載の発明は、Ａｇに１〜５ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる光記録
媒体用反射膜である。

【００１１】請求項６に記載の発明は、Ａｇに１〜５ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなり、その
膜厚が５００〜１０００オングストロームである光記録
媒体用反射膜である。

【００１２】請求項７に記載の発明は、Ａｇに１〜５ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなるリフレ
クタ用反射膜である。このリフレクタとは、反射器、反
射鏡、反射板を示している。

【００１３】請求項８に記載の発明は、Ａｇに１〜５ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなり、その
膜厚が１０００〜２０００オングストロームであるリフ
レクタ用反射膜である。

【００１４】請求項９に記載の発明は、Ａｇに１〜５ａ
ｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる標識用
反射膜である。

【００１５】請求項１０に記載の発明は、Ａｇに１〜５
ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる照明
器具用反射膜である。

【００１６】請求項１１に記載の発明は、Ａｇに１〜５
ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなり、そ
の膜厚が１０００〜１００００オングストロームである
プラスチック製品のめっき膜である。プラスチック製品
としては例えば家庭で使用される各種製品があり、例え
ば化粧品容器等である。

【００１７】

【作用】請求項１に記載した発明において、Ａｇに含有
させるＭｇは、Ａｇと近似した銀白色の光沢を有する金
属であり、銀と同様に展性、延性に富み容易に箔化す
る。よって、銀と合金をつくるのに適した金属である。
このＭｇは常温の空気中で容易にその表面に酸化被膜を
生成する。このため、大気中で安定な金属であり、その
酸化被膜はＡｇに対する保護膜として最適である。ま
た、この酸化被膜は略透明であり、Ａｇの銀白色光沢を
損なうことはない。この合金のＭｇ濃度を１〜１０ａｔ
％と限定したのは、この範囲未満では、Ｍｇの量が保護
膜を形成するには不十分であり、この範囲を越えると最
表層のＭｇが強固なＡｇ−Ｍｇ金属間化合物を形成して
いると考えられるので、Ｍｇの酸化被膜の生成が困難と
なるからである。

【００１８】請求項２に記載の発明は、Ａｇに１〜１０
ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からなる高耐
食性反射膜である。この高耐食性反射膜は、例えば光磁
気記録媒体、光記録媒体、リフレクタ、各種標識、照明
器具等に用いられる。

【００１９】請求項３，４に記載の発明に係る反射膜は
光磁気記録媒体、いわゆる大容量メモリとしての光磁気
ディスク等に用いられる。この場合、Ａｇに対するＭｇ
の含有量は１〜８ａｔ％とする。また、その膜厚は５０
０〜１０００オングストロームとする。この組成範囲に
限定した理由は、熱伝導率がＡｇのそれの２／３以下で
あり、かつ、反射率が８０％以上であることが必要だか
らである。

【００２０】請求項５，６に記載の発明は、例えば光デ
ィスク（ＣＤ）用反射膜、光カード用反射膜として使用
することができる光記録媒体用反射膜であり、Ａｇに１
〜５ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からな
り、特にその膜厚を５００〜１０００オングストローム
とする。反射率が９０％以上になる組成範囲とすること
が好ましいからである。なお、従来の光デイスクのＡｌ
反射膜の反射率は９０％である。

【００２１】請求項７，８に記載の発明では、リフレク
タ用の反射膜として用いるＡｇ−Ｍｇ合金を示す。反射
器、反射鏡、反射板等に使用される反射膜としては反射
率がＡｌの反射率以上、すなわち９０％以上であること
が望ましいことから、組成範囲をＭｇの１〜５ａｔ％に
限定している。また、その反射膜の膜厚は１０００〜２
０００オングストロームが好ましい。

【００２２】請求項９に記載の発明では、標識用の反射
膜として、請求項１０に記載の発明では、照明器具用の
反射膜として、Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなる反射膜をそれぞれ用いる。この
組成範囲限定の理由は、反射率をＡｌの反射率以上、す
なわち９０％以上にすることにある。

【００２３】請求項１１に記載の発明では、プラスチッ
ク製品のめっき膜としてＡｇ−Ｍｇ合金を用いる。例え
ば化粧品容器、アクセサリ等の表面装飾用のめっき膜で
ある。反射率をＡｌの反射率以上、すなわち９０％以上
にするため、その組成を限定している。

【００２４】

【実施例】以下に本発明の具体的構成について詳述す
る。本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金のＭｇ濃度は１〜１０
ａｔ％である。この合金を大気中あるいは酸化されやす
い雰囲気、例えば高温、高湿度の雰囲気中に置くと、Ａ
ｇよりは酸化されやすいＭｇが優先的に酸化され、合金
表面に透明なＭｇ酸化被膜が形成される。このＭｇ酸化
被膜は透明であるのでＡｇの銀白色光沢を損なうことが
ないだけでなく、Ａｇを前述の大気中の硫化物成分から
遮断する有効な保護膜として機能する。そして、このＭ
ｇ酸化被膜が合金最表層に形成される際に、表層のＭｇ
が酸化被膜中に取り込まれるため、この表層の合金組成
は純Ａｇに近づく。そのため、Ｍｇ酸化被膜が形成され
ると、合金の反射率は９０〜９５％と増加し、純Ａｇの
９８％に近づく。

【００２５】また、このように最表層の組成は純Ａｇに
近くなるが、内部はＡｇ−Ｍｇ組成であるので熱伝導率
を純Ａｇの１／３程度に抑えることができる。この合金
のＭｇ濃度を１〜１０ａｔ％と限定したのは、この範囲
未満では、Ｍｇの量が保護膜を形成するには不十分であ
り、この範囲を越えると最表層のＭｇが強固なＡｇ−Ｍ
ｇ金属間化合物を形成していると考えられるので、酸化
被膜の生成が困難となるからである。このような組成の
Ａｇ−Ｍｇ合金の製造は、通常のスパッタリング法によ
るのが最適である。ＡｇとＭｇの二元ターゲットから被
着体上に上記組成の合金を堆積する。組成の制御はスパ
ッタリングの際にターゲットに印加される高周波電力値
の増減、あるいは、被着体の位置の移動等により行えば
よい。次に、具体的数字および図を示して本発明を更に
詳細に実証する。

【００２６】図１および図２は本発明のＡｇ−Ｍｇ合金
において、Ｍｇが６．１８ａｔ％で含有される場合の最
表層から内部にいたる組成の変化をオージェ分析計によ
り測定したものである。横軸はアルゴンイオンにより等
速度に堀穿した時間を表し、時間０が最表層の組成、時
間１０分が表面より１０００オングストローム深さの組
成を示している。また、図１が合金作製直後の組成を示
し、図２は温度８０℃、相対湿度８５％の条件下に２４
時間放置後の組成を示す。図２に示されるように、２４
時間放置後には、表層部において、Ａｇ（折線（１））
の濃度が７０ａｔ％から５０ａｔ％に低下し、Ｍｇ（折
線（２））の濃度が２０ａｔ％から３０ａｔ％に増加し
ている。このことは前述のように表層部にＭｇの酸化被
膜が形成されていることを実証している。また、深さ略
５０オングストロームからはＡｇの濃度が１５ａｔ％増
加し、Ｍｇの濃度が略１０ａｔ％低下している。このこ
とは、前述のように５０オングストロームより内部では
合金の組成が純Ａｇに近づくことを実証している。な
お、析線（３）は酸素濃度を示す。

【００２７】図３はＡｇＭｇ合金膜の組成依存性を示し
ている。反射率の測定は波長６３２．８ｎｍのレーザ光
を照射してエリプソメータにより行った。なお、この反
射膜は後述するコスパッタ法により被着、形成したもの
である。

【００２８】図４はＡｇ，Ａｇ−Ｍｇ合金についての耐
食試験結果を示すグラフである。縦軸は６３２．８ｎｍ
の波長のレーザ光を照射しエリプソメータで測定した反
射率を示す。横軸は温度８０℃、相対湿度８５％の雰囲
気での放置時間である。図４に示すように、ＡｇＭｇ6.
18合金では、Ｍｇの酸化被膜形成後から表面層の組成が
純Ａｇに近づいて、反射率が上昇し、略８時間後から反
射率が一定となる様子がわかる。なお、この反射膜はコ
スパッタ法により形成したものである。

【００２９】図５は本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金の組成
を変化させた場合の熱伝導率の変化を示すグラフであ
る。サンプルとしては膜厚１０００オングストロームの
合金膜のその幅方向の熱伝導率の値を示している。熱伝
導率Ｋは、まず四点探針法で電気伝導度σを測定したの
ち、次の関係式（ブィーデマン・フランツの法則）から
計算した。Ｋ＝ＬσＴ（Ｌ：ローレンツ数、Ｔ：絶対温度）同図のグラフからＭｇ濃度が本発明の範囲である８ａｔ
％以上で熱伝導率が大きく低下していることが分かる。

【００３０】図６、図７は本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金
膜を光磁気ディスクに使用した実施例を示している。こ
れらの図に示すように、光磁気ディスク６１は、ポリカ
ーボネイト（ＰＣ）基板６２に保護層６３を介して記録
層６４を積層し、さらに保護層６５を介して反射層６６
を積み重ねている。この反射層６６を本発明に係るＡｇ
−Ｍｇ合金膜で形成している。反射層６６はＡｇに１〜
８ａｔ％の範囲のＭｇを含むＡｇ−Ｍｇ合金膜で形成さ
れ、その厚さは５００〜１０００オングストロームが好
適な値である。なお、保護層にはＳｉＡｌＯＮ，Ｓｉ3
Ｎ4が、記録層としてはＴｂＦｅＣｏ、または、ＴｂＦ
ｅＣｏＣｒがそれぞれ使用される。この記録層の厚さは
２００〜２５０オングストロームのものが用いられる。
図７の（Ａ）は３．５インチの光磁気ディスク、（Ｂ）
は５．２５インチの光磁気ディスクの構造を示してい
る。本発明に係る反射膜はこれらのいずれについても用
いることができる。

【００３１】図８は光記録媒体の一例としての光ディス
ク（ＣＤ）について本発明に係る反射膜を適用した場合
を示す。透明プラスチックの基板８２に反射膜８１を積
層し、保護膜８３で被覆している。反射膜は、Ａｇに１
〜５ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からな
り、５００〜１０００オングストロームの厚さに被着す
る。また、光ディスクの他にも光カード等へこの反射膜
を適用することもできる。保護膜８３はＳｉＡｌＯＮま
たはＳｉ3Ｎ4で形成する。

【００３２】図９には本発明に係る反射膜を使用した照
明器具の断面構造を示す。９１がＳＰＧ製の原板で、こ
れに粘着剤層９２、密着コート層９３を介して、Ａｇに
１〜５ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金からな
る反射膜９４が積層されている。９５はトップコート層
である。耐食性を高めるため、この組成範囲としてい
る。反射膜９４の厚さは１０００〜２０００オングスト
ロームが好ましい。アクリル樹脂等にこの合金をスパッ
タリングして被着してもよい。

【００３３】図１０はリフレクタの一つである鏡（家庭
用、自動車用等）について本発明合金膜を適用した例で
ある。この鏡では、平坦なガラス板１０１に、Ａｇに１
〜５ａｔ％のＭｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金の反射膜
１０２を１０００オングストローム〜１μｍの厚さに被
着している。１０３は樹脂コーティング層である。この
組成範囲であれば、従来のＡｌまたはＣｒ製の反射膜を
有する鏡と同等の反射率を維持しつつ、耐食性を一段と
優れたものとすることができる。

【００３４】図１１は家庭用プラスチック製品、例えば
化粧品容器に施されるめっき膜として、本発明に係る高
耐食性合金を用いた場合を示している。容器本体１１
５、その蓋１１４の各表面にめっき膜１１２を施してい
る。その構造は、円筒状のプラスチック基体１１１に、
めっき膜１１２をコーティングしたものである。めっき
膜１１２は透明な樹脂層１１３でサンドイッチ状にはさ
まれている。めっき膜１１２は、Ａｇに１〜５ａｔ％の
Ｍｇを含有させたＡｇ−Ｍｇ合金であって、１０００オ
ングストローム〜１μｍの厚さに形成されている。反射
率として９０％以上とした組成範囲である。

【００３５】次に、本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金反射膜
の作製方法について説明する。このＡｇ−Ｍｇ合金膜
は、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法
を用いて作製することができる。特にマグネトロンスパ
ッタリング法が好適である。これは、合金組成を制御し
易いこと、基板に対する膜の付着力が大きいこと、大面
積の基板に組成、厚さの均一な膜を形成し易いことが、
他の方法よりも優れているからである。例えば上記光磁
気ディスク、ＣＤ、照明器具用反射板等はこのマグネト
ロンスパッタリングで反射膜を作製する。なお、家庭用
プラスチック製品のめっき膜、鏡の反射膜については、
真空蒸着法、イオンプレーティング法が用いられること
もある。

【００３６】以下、図１２を用いてコスパッタ法による
合金膜の作製法を説明する。コスパッタ法は、Ａｇター
ゲット１２１とＭｇターゲット１２２を、基板ホルダ１
２３に対して所定距離（１４ｃｍ）、所定高さ（例えば
７０ｍｍ）だけ離して配置する。ターゲット１２１，１
２２同士はチャンバ中心に対して例えば１２０゜離間し
て半径１４ｃｍの円周上に配置している。この基板ホル
ダ１２３とターゲットとの間の角度θを適宜変更設定す
ることにより、所定組成の合金膜を形成するものであ
る。例えば図示の装置ではθ＝０゜ではＭｇが１．２８
ａｔ％の合金膜が、θ＝２０゜で６．１８ａｔ％の合金
膜をそれぞれ作製することができる。図４はこの場合を
示している。スパッタリング条件は、Ａｇターゲット投
入電力がＲＦ１００Ｗ、Ｍｇのそれは１５０Ｗ、チャン
バ内のＡｒガス圧は１×１０^-3Ｔｏｒｒ、到達真空度は
５×１０^-7Ｔｏｒｒである。そして、このようにして形
成した合金膜の上記耐食試験（図４）は、恒温恒湿容器
（８０℃、８５％）を用いて行った。反射率の測定は、
エリプソメータを使用して行った。測定波長は６３２．
８ｎｍである。

【００３７】図１３は合金ターゲットによるスパッタリ
ングを説明するための模式図である。この方法は、Ｍｇ
３．５ａｔ％のＡｇ−Ｍｇ合金ターゲットを用い、図示
（Ａ）〜（Ｃ）のようにターゲット１３２と基板ホルダ
１３１との相対位置を変化させて行った。基板ホルダ１
３１と合金ターゲット１３２との高さは７ｃｍ離間して
配置している。スパッタリング条件は、投入電力がＲＦ
２００Ｗ、Ａｒガス圧が１×１０^-3Ｔｏｒｒ、到達真空
度は５×１０^-7Ｔｏｒｒである。そして、このようにし
てガラス基板上に１０００オングストロームの厚さに形
成した各組成（Ｍｇ１．０〜１．５ａｔ％）の合金膜に
ついて、その耐食試験は、恒温恒湿容器（８０℃、８５
％）を用いて行った。反射率は、エリプソメータで測定
した。測定波長は６３２．８ｎｍである。（Ａ）〜
（Ｃ）に示すように、各組成の成膜直後の反射率Ｒは９
６％以上の高率を示している。

【００３８】

【発明の効果】本発明のＡｇ−Ｍｇ合金は、その最表層
にＭｇ酸化被膜を形成することにより、耐食性が高ま
り、経時によるＡｇ白色光沢の退色が防止され、洋食器
などの銀製品に応用すると効果的である。また、Ａｇの
高反射率を保持しつつ、熱伝導率は１／３であるため、
光磁気記録媒体の反射膜として使用すると効果的であ
る。さらに、リフレクタ、照明器具、光記録媒体、交通
標識等として好適な反射膜を提供することができる。い
ずれの反射膜についても高反射率を長期にわたって維持
することができる。耐久性の高い反射膜、さらには、高
耐久性の光磁気記録媒体等を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のＡｇ−Ｍｇ合金の深さ方向の組成の変
化を示すグラフである。

【図２】本発明のＡｇ−Ｍｇ合金の深さ方向の組成の変
化を示すグラフである。

【図３】本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金膜の反射率の組成
依存性を示すグラフである。

【図４】本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金膜の耐食試験結果
を示すグラフである。

【図５】本発明に係るＡｇ−Ｍｇ合金膜の熱伝導率の組
成依存性を示すグラフである。

【図６】本発明の実施例に係る光磁気ディスクの構造を
示す斜視図である。

【図７】本発明の実施例に係る光磁気ディスクの構造を
示す断面図である。

【図８】本発明の実施例に係るコンパクトディスクの構
造を示す斜視図である。

【図９】本発明の実施例に係る照明器具の構造を示す断
面図である。

【図１０】本発明の実施例に係る鏡の構造を示す斜視図
である。

【図１１】本発明の実施例に係る化粧品容器の構造を示
す斜視図および断面図である。

【図１２】本発明の実施例に係るスパッタ装置を示す模
式図である。

【図１３】本発明の実施例に係るスパッタ条件を説明す
るための模式図である。

【符号の説明】

６４光磁気ディスクの反射層８１光ディスクのＡｇ−Ｍｇ反射膜

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】高耐食性Ａｇ−Ｍｇ合金であって、Ｍｇ
の含有量が１〜１０ａｔ％（原子％）である高耐食性Ａ
ｇ−Ｍｇ合金。
【請求項２】Ａｇに１〜１０ａｔ％のＭｇを含有させ
たＡｇ−Ｍｇ合金からなる高耐食性反射膜。
【請求項３】Ａｇに１〜８ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなる光磁気記録媒体用反射膜。
【請求項４】Ａｇに１〜８ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなり、その膜厚が５００〜１０００
オングストロームである光磁気記録媒体用反射膜。
【請求項５】Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなる光記録媒体用反射膜。
【請求項６】Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなり、その膜厚が５００〜１０００
オングストロームである光記録媒体用反射膜。
【請求項７】Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなるリフレクタ用反射膜。
【請求項８】Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなり、その膜厚が１０００〜２００
０オングストロームであるリフレクタ用反射膜。
【請求項９】Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させた
Ａｇ−Ｍｇ合金からなる標識用反射膜。
【請求項１０】Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させ
たＡｇ−Ｍｇ合金からなる照明器具用反射膜。
【請求項１１】Ａｇに１〜５ａｔ％のＭｇを含有させ
たＡｇ−Ｍｇ合金からなり、その膜厚が１０００〜１０
０００オングストロームであるプラスチック製品のめっ
き膜。