JPH0733730A - アゾキシ化合物の製造法 - Google Patents
アゾキシ化合物の製造法Info
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- JPH0733730A JPH0733730A JP5200163A JP20016393A JPH0733730A JP H0733730 A JPH0733730 A JP H0733730A JP 5200163 A JP5200163 A JP 5200163A JP 20016393 A JP20016393 A JP 20016393A JP H0733730 A JPH0733730 A JP H0733730A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 抗真菌活性を有するアゾキシ化合物を安価な
原料を用いて高収率で製造する方法を提供する。 【構成】 カルボニル化合物、アゾジカルボキシレー
ト、２，３−ブタンジオ−ルを縮合して得られるβ−ヒ
ドロキシアゾ化合物の選択的酸化、脱水反応により式
（Ｉ）のα，β−不飽和アゾキシ化合物を製造する。 （但し、式中のＸは式 を示し、Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい低級
アルキル基、アラルキル基等を示す。）
原料を用いて高収率で製造する方法を提供する。 【構成】 カルボニル化合物、アゾジカルボキシレー
ト、２，３−ブタンジオ−ルを縮合して得られるβ−ヒ
ドロキシアゾ化合物の選択的酸化、脱水反応により式
（Ｉ）のα，β−不飽和アゾキシ化合物を製造する。 （但し、式中のＸは式 を示し、Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい低級
アルキル基、アラルキル基等を示す。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はアゾキシ化合物の新規な
製造法に関し、さらに詳細には、抗真菌性化合物である
マニワマイシン類及びその誘導体の新規な製造法に関す
る。
製造法に関し、さらに詳細には、抗真菌性化合物である
マニワマイシン類及びその誘導体の新規な製造法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術及びその問題点】マニワマイシンはストレ
プトミセスｓ．ｐ．ＫＣ−７３６７が生産する真菌に対
して強力な抗菌活性を有する化合物で、マニワマイシン
Ａ（ＫＡ−７３６７Ａ）及びマニワマイシンＢ（ＫＡ−
７３６７Ｂ）の二種が知られており、下記の式で表され
る〔特開平1-6248号、J.Antibiot.,42,1541(1989) 参
照〕。
プトミセスｓ．ｐ．ＫＣ−７３６７が生産する真菌に対
して強力な抗菌活性を有する化合物で、マニワマイシン
Ａ（ＫＡ−７３６７Ａ）及びマニワマイシンＢ（ＫＡ−
７３６７Ｂ）の二種が知られており、下記の式で表され
る〔特開平1-6248号、J.Antibiot.,42,1541(1989) 参
照〕。
【化１８】 本発明者等は先にマニワマイシンの全合成に成功し、更
に抗真菌活性が優れ、安定性の良いマニワマイシン誘導
体を種々合成した〔特開平3-240766号、WO90/04585、Te
trahedron Lett.,32,1067(1991) 参照〕。
に抗真菌活性が優れ、安定性の良いマニワマイシン誘導
体を種々合成した〔特開平3-240766号、WO90/04585、Te
trahedron Lett.,32,1067(1991) 参照〕。
【０００３】
【問題点を解決するための手段】本発明者等は、更に簡
便かつ立体特異的にマニワマイシン類及びその誘導体を
製造する方法を検討し、下記に示す新規な製造法が工業
的に有用な方法であることを確認し、本発明を完成し
た。即ち、本発明方法は次の特徴を有する工業的に有用
な方法である。 １．非対称なアゾ化合物の合成法である。 ２．アゾキシ基の構築の際にもっとも重要となるＮ−オ
キサイドの導入をアゾ基の選択的酸化による合成法で解
決した。 ３．種々の置換様式を有するマニワマイシン誘導体の合
成が可能である。 ４．光学活性体の合成が可能である。 ５．容易に入手可能な試薬で合成が可能である。 ６．容易な反応を用いている。 ７．全工程が収率のよい反応からなっている。 本発明の目的化合物は次の一般式（Ｉ）で表される。
便かつ立体特異的にマニワマイシン類及びその誘導体を
製造する方法を検討し、下記に示す新規な製造法が工業
的に有用な方法であることを確認し、本発明を完成し
た。即ち、本発明方法は次の特徴を有する工業的に有用
な方法である。 １．非対称なアゾ化合物の合成法である。 ２．アゾキシ基の構築の際にもっとも重要となるＮ−オ
キサイドの導入をアゾ基の選択的酸化による合成法で解
決した。 ３．種々の置換様式を有するマニワマイシン誘導体の合
成が可能である。 ４．光学活性体の合成が可能である。 ５．容易に入手可能な試薬で合成が可能である。 ６．容易な反応を用いている。 ７．全工程が収率のよい反応からなっている。 本発明の目的化合物は次の一般式（Ｉ）で表される。
【０００４】
【化１９】 ロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基、ハ
ロゲン原子で置換されていてもよい低級アルケニル基、
ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキニル
基、アリール基又はアラルキル基（アリール基及びアラ
ルキル基はハロゲン原子、水酸基、ハロゲン原子で置換
されていてもよい低級アルキル基、ハロゲン原子で置換
されていてもよい低級アルケニル基、ハロゲン原子で置
換されていてもよい低級アルキニル基、ハロゲン原子で
置換されていてもよい低級アルコキシ基、ハロゲン原子
で置換されていてもよい低級アルケニルオキシ基、ハロ
ゲン原子で置換されていてもよい低級アルキニルオキシ
基又はニトロ基で置換されていてもよい）を示す。ま
た、式中の２位及び３位に関する立体異性体も本発明の
目的物である。
ロゲン原子で置換されていてもよい低級アルケニル基、
ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキニル
基、アリール基又はアラルキル基（アリール基及びアラ
ルキル基はハロゲン原子、水酸基、ハロゲン原子で置換
されていてもよい低級アルキル基、ハロゲン原子で置換
されていてもよい低級アルケニル基、ハロゲン原子で置
換されていてもよい低級アルキニル基、ハロゲン原子で
置換されていてもよい低級アルコキシ基、ハロゲン原子
で置換されていてもよい低級アルケニルオキシ基、ハロ
ゲン原子で置換されていてもよい低級アルキニルオキシ
基又はニトロ基で置換されていてもよい）を示す。ま
た、式中の２位及び３位に関する立体異性体も本発明の
目的物である。
【０００５】本発明方法を式で示すと下記のとおりであ
る。
る。
【化２０】
【化２１】
【化２２】 式中のＡはアミノ基の保護基を、Ｂ及びＢ’は水酸基の
保護基を示す。
保護基を示す。
【０００６】上記反応に於いて式（６）化合物として下
記式（６’）の化合物
記式（６’）の化合物
【化２３】 を用いると式（１）の化合物として化合物（１─ｃ）得
られる。
られる。
【化２４】 式（１−ｃ）化合物の水酸基の立体化学を反転すると式
（１−ｃ’）の化合物が得られる。
（１−ｃ’）の化合物が得られる。
【化２５】
【０００７】次に本発明方法の各工程について説明す
る。 工程１ 化合物（２）と化合物（３）を反応させると、化合物
（４）が得られる。化合物（３）のアミノ基の保護基Ａ
としては、ウレタン型が好ましく、例えばベンジルオキ
シカボニル基、エチルオキシカルボニル基、イソプロピ
ルオキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基
などを利用できる。反応は化合物（２）を活性化したの
ち行うのが好ましく、例えばリチウムジイソプロピルア
ミド、リチウムヘキサメチルジシラザン等のリチウム化
合物でリチウム化する方法、水素化ナトリウム等でナト
リウム化する方法、水素化カリウム、ｔ−ブトキシカリ
ウム等でカリウム化する方法などで活性化できる。活性
化された化合物（２）と化合物（３）との反応は、溶媒
中、冷却下で行うことが好ましい。溶媒としては、例え
ばジメトキシエタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類；トルエン、ベンゼ
ン等の炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドなどが用いられる。反応温度は−１００℃〜
＋１００℃、好ましくは室温以下である。
る。 工程１ 化合物（２）と化合物（３）を反応させると、化合物
（４）が得られる。化合物（３）のアミノ基の保護基Ａ
としては、ウレタン型が好ましく、例えばベンジルオキ
シカボニル基、エチルオキシカルボニル基、イソプロピ
ルオキシカルボニル基、ｔ−ブチルオキシカルボニル基
などを利用できる。反応は化合物（２）を活性化したの
ち行うのが好ましく、例えばリチウムジイソプロピルア
ミド、リチウムヘキサメチルジシラザン等のリチウム化
合物でリチウム化する方法、水素化ナトリウム等でナト
リウム化する方法、水素化カリウム、ｔ−ブトキシカリ
ウム等でカリウム化する方法などで活性化できる。活性
化された化合物（２）と化合物（３）との反応は、溶媒
中、冷却下で行うことが好ましい。溶媒としては、例え
ばジメトキシエタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類；トルエン、ベンゼ
ン等の炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドなどが用いられる。反応温度は−１００℃〜
＋１００℃、好ましくは室温以下である。
【０００８】工程２ 化合物（４）のカルボニル基を還元し、得られるヒドロ
キシ化合物の水酸基を保護すると、化合物（５）が得ら
れる。還元は、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素
化リチウムアルミニウムなどの還元剤を用いる還元方法
を利用することが好ましい。例えば、水素化ホウ素ナト
リウムを用いて還元する場合は、溶媒中で化合物（４）
に冷却下で水素化ホウ素ナトリウムを加え、約０乃至約
１００℃、好ましくは室温付近で５分乃至３時間攪拌す
ることにより、還元は終了する。溶媒としては、例えば
メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコ
ール類を利用することが好ましい。水酸基の保護基Ｂと
しては、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリ
ル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、
ベンジルオキシメチル基などが好ましい。例えば、ｔ−
ブチルジメチルシリル基で保護する場合は、化合物
（４）と、例えばｔ−ブチルジメチルシリルトリフラー
ト、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリドなどとを好まし
くは、塩基の存在下に溶媒中で−２０℃〜＋１００℃、
好ましくは０℃付近で数分〜５時間攪拌することによっ
て保護基が導入される。溶媒としては例えばクロロホル
ム、塩化メチレン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化
水素類、ジメチルホルムアミドなどが用いられる。塩基
としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−メ
チルアミノピリジン、ルチジン、コリジン等の有機塩基
などが挙げられる。
キシ化合物の水酸基を保護すると、化合物（５）が得ら
れる。還元は、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素
化リチウムアルミニウムなどの還元剤を用いる還元方法
を利用することが好ましい。例えば、水素化ホウ素ナト
リウムを用いて還元する場合は、溶媒中で化合物（４）
に冷却下で水素化ホウ素ナトリウムを加え、約０乃至約
１００℃、好ましくは室温付近で５分乃至３時間攪拌す
ることにより、還元は終了する。溶媒としては、例えば
メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコ
ール類を利用することが好ましい。水酸基の保護基Ｂと
しては、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリエチルシリ
ル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、
ベンジルオキシメチル基などが好ましい。例えば、ｔ−
ブチルジメチルシリル基で保護する場合は、化合物
（４）と、例えばｔ−ブチルジメチルシリルトリフラー
ト、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリドなどとを好まし
くは、塩基の存在下に溶媒中で−２０℃〜＋１００℃、
好ましくは０℃付近で数分〜５時間攪拌することによっ
て保護基が導入される。溶媒としては例えばクロロホル
ム、塩化メチレン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化
水素類、ジメチルホルムアミドなどが用いられる。塩基
としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、４−メ
チルアミノピリジン、ルチジン、コリジン等の有機塩基
などが挙げられる。
【０００９】工程３ 化合物（５）のアミノ基を活性化したのち、化合物
（６）を反応させると、化合物（７）が得られる。アミ
ノ基の活性化は、工程１と同様にリチウム化、ナトリウ
ム化、カリウム化などによって行うことができる。更に
ブチルリチウム、メチルリチウムにても行うことができ
る。アミノ基が活性化された化合物（５）と化合物
（６）との反応は、前記の反応液に、化合物（６）を溶
媒に溶解して加えて−１００℃〜＋１００℃で数分間〜
数時間攪拌することによって目的の化合物（７）が得ら
れる。この時用いる溶媒としては、前記のエーテル類、
炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などが好ましい。
（６）を反応させると、化合物（７）が得られる。アミ
ノ基の活性化は、工程１と同様にリチウム化、ナトリウ
ム化、カリウム化などによって行うことができる。更に
ブチルリチウム、メチルリチウムにても行うことができ
る。アミノ基が活性化された化合物（５）と化合物
（６）との反応は、前記の反応液に、化合物（６）を溶
媒に溶解して加えて−１００℃〜＋１００℃で数分間〜
数時間攪拌することによって目的の化合物（７）が得ら
れる。この時用いる溶媒としては、前記のエーテル類、
炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などが好ましい。
【００１０】工程４ 化合物（７）の水酸基を保護し、先に保護した水酸基の
保護基（Ｂ）を脱離し、次いでアミノ基の保護基を脱離
したのち、ヒドラジンを酸化すると、アゾ化合物（８）
が得られる。水酸基の保護基Ｂ’としては、例えばアシ
ル基、（アルキル）シリル基、置換メチル基のようなも
のが好ましく、例えばアセチル基、ベンゾイル基、プロ
ピオニル基などが特に好ましい。これらの保護基の導入
は、通常の方法で行われるが、例えばアシル基で保護す
る場合は対応する酸の反応性誘導体、例えば酸塩化物、
酸無水物と化合物（７）を反応させるか、対応する酸
と、縮合剤の存在下に化合物（７）を反応させることに
よって行われる。水酸基の保護基Ｂを脱離するには、保
護基Ｂの種類によって異なるが、例えばシリル基の場合
は、塩酸、硫酸、トシル酸等の酸、テトラアンモニウム
フロライド、フッ化カリウム、フッ化水素等のフッ素イ
オンなどを作用させることによって脱離させることがで
きる。反応は溶媒中、−２０℃〜＋１００℃で数分〜数
時間で終了する。溶媒としては、例えば前記のアルコー
ル類、エーテル類の他アセトニトリルなどが利用でき
る。アミノ基の保護基Ａを脱離するには、保護基Ａの種
類によって異なるが、例えばベンジルオキシカルボニル
基の場合は、例えば酸の存在下で接触還元する方法が好
ましい。反応は溶媒中、酸及び触媒の存在下に−２０℃
〜＋１００℃の温度で１〜１０気圧の水素ガスを３０分
〜１０時間導入することにより終了する。溶媒としては
前記のアルコール類が特に好ましく、酸としては酢酸、
プロピオン酸、シュウ酸等の有機酸を用いることが好ま
しい。触媒としてはパラジウム炭素、パラジウム黒、水
酸化パラジウム、酸化白金などを利用できる。ヒドラジ
ンからアゾへの酸化は溶媒中、硫酸銅及び水の存在下あ
るいは過酸化水素水の存在下で−２０℃〜＋１００℃で
数分〜数時間攪拌することによって行うことができる。
溶媒としては前記のアルコール類、エーテル類の他水な
ども使用できる。
保護基（Ｂ）を脱離し、次いでアミノ基の保護基を脱離
したのち、ヒドラジンを酸化すると、アゾ化合物（８）
が得られる。水酸基の保護基Ｂ’としては、例えばアシ
ル基、（アルキル）シリル基、置換メチル基のようなも
のが好ましく、例えばアセチル基、ベンゾイル基、プロ
ピオニル基などが特に好ましい。これらの保護基の導入
は、通常の方法で行われるが、例えばアシル基で保護す
る場合は対応する酸の反応性誘導体、例えば酸塩化物、
酸無水物と化合物（７）を反応させるか、対応する酸
と、縮合剤の存在下に化合物（７）を反応させることに
よって行われる。水酸基の保護基Ｂを脱離するには、保
護基Ｂの種類によって異なるが、例えばシリル基の場合
は、塩酸、硫酸、トシル酸等の酸、テトラアンモニウム
フロライド、フッ化カリウム、フッ化水素等のフッ素イ
オンなどを作用させることによって脱離させることがで
きる。反応は溶媒中、−２０℃〜＋１００℃で数分〜数
時間で終了する。溶媒としては、例えば前記のアルコー
ル類、エーテル類の他アセトニトリルなどが利用でき
る。アミノ基の保護基Ａを脱離するには、保護基Ａの種
類によって異なるが、例えばベンジルオキシカルボニル
基の場合は、例えば酸の存在下で接触還元する方法が好
ましい。反応は溶媒中、酸及び触媒の存在下に−２０℃
〜＋１００℃の温度で１〜１０気圧の水素ガスを３０分
〜１０時間導入することにより終了する。溶媒としては
前記のアルコール類が特に好ましく、酸としては酢酸、
プロピオン酸、シュウ酸等の有機酸を用いることが好ま
しい。触媒としてはパラジウム炭素、パラジウム黒、水
酸化パラジウム、酸化白金などを利用できる。ヒドラジ
ンからアゾへの酸化は溶媒中、硫酸銅及び水の存在下あ
るいは過酸化水素水の存在下で−２０℃〜＋１００℃で
数分〜数時間攪拌することによって行うことができる。
溶媒としては前記のアルコール類、エーテル類の他水な
ども使用できる。
【００１１】工程５ 水酸基側のアミノ基を選択的に酸化すると化合物（９）
が得られる。溶媒中、−２０℃〜＋１００℃で金属触媒
の存在下に酸化剤を作用させると水酸基側のアミノ基が
選択的に酸化される。この反応は数分〜数時間で完了す
る。酸化剤としては、例えば無水ｔ−ブチルハイドロパ
ーオキシド、クメンパーオキシド等の有機過酸化物など
が好ましい。金属触媒としては、例えばチタンテトライ
ソプロポキシド、モリブデンヘキサカルボニル、酸化バ
ナジウムアセチルアセトネートなどが好ましい。溶媒と
しては、例えば前記の炭化水素類、ハロゲン化炭化水素
類の他アセトニトリルなどを用いることができる。塩化
メチレン中で酸化バナジウムアセチルアセトネートの存
在下に無水ｔ−ブチルハイドロパーオキシドを反応させ
る方法が特に好ましい。
が得られる。溶媒中、−２０℃〜＋１００℃で金属触媒
の存在下に酸化剤を作用させると水酸基側のアミノ基が
選択的に酸化される。この反応は数分〜数時間で完了す
る。酸化剤としては、例えば無水ｔ−ブチルハイドロパ
ーオキシド、クメンパーオキシド等の有機過酸化物など
が好ましい。金属触媒としては、例えばチタンテトライ
ソプロポキシド、モリブデンヘキサカルボニル、酸化バ
ナジウムアセチルアセトネートなどが好ましい。溶媒と
しては、例えば前記の炭化水素類、ハロゲン化炭化水素
類の他アセトニトリルなどを用いることができる。塩化
メチレン中で酸化バナジウムアセチルアセトネートの存
在下に無水ｔ−ブチルハイドロパーオキシドを反応させ
る方法が特に好ましい。
【００１２】工程６ 化合物（９）を脱水したのち水酸基の保護基を脱離する
と目的化合物（１）が得られる。脱水方法としては、例
えば遊離の水酸基（２’位）をメシル化したのち、メシ
ル体を塩基で処理する方法を採用するのが好ましい。水
酸基のメシル化は例えば、溶媒中で塩基の存在下にメタ
ンスルホニルクロリドを−２０℃〜＋１００℃で数分〜
数時間作用させることによって行われる。塩基として
は、例えばトリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基を
用いることが好ましい。溶媒としては、例えば前記のエ
ーテル類、ハロゲン化炭化水素類の他ピリジンなどを用
いることができる。得られたメシル体に溶媒中、−２０
℃〜＋１００℃で塩基を数分〜数時間作用させると脱水
反応が行われる。このとき使用できる塩基としては、例
えばトリエチルアミン、ピリジン、１，８─ジアザビシ
クロ〔５，４，０〕─７─ウンデセン、１，５─ジアザ
ビシクロ〔４，３，０〕ノン─５─エンなどが挙げられ
る。溶媒としては、例えば前記の炭化水素類の使用が特
に好ましい。２位水酸基の保護基の脱離は保護基の種類
によって異なるが、例えばアシル基の場合は、保護化合
物に溶媒中、塩基又は酸を−２０℃〜＋１００℃で数分
〜数時間作用させることによって行われる。塩基として
は、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、アンモニアなどが、酸として
は、例えば塩酸、硫酸、トシル酸などを使用できる。溶
媒としては前記のアルコール類の使用が特に好ましい。
と目的化合物（１）が得られる。脱水方法としては、例
えば遊離の水酸基（２’位）をメシル化したのち、メシ
ル体を塩基で処理する方法を採用するのが好ましい。水
酸基のメシル化は例えば、溶媒中で塩基の存在下にメタ
ンスルホニルクロリドを−２０℃〜＋１００℃で数分〜
数時間作用させることによって行われる。塩基として
は、例えばトリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基を
用いることが好ましい。溶媒としては、例えば前記のエ
ーテル類、ハロゲン化炭化水素類の他ピリジンなどを用
いることができる。得られたメシル体に溶媒中、−２０
℃〜＋１００℃で塩基を数分〜数時間作用させると脱水
反応が行われる。このとき使用できる塩基としては、例
えばトリエチルアミン、ピリジン、１，８─ジアザビシ
クロ〔５，４，０〕─７─ウンデセン、１，５─ジアザ
ビシクロ〔４，３，０〕ノン─５─エンなどが挙げられ
る。溶媒としては、例えば前記の炭化水素類の使用が特
に好ましい。２位水酸基の保護基の脱離は保護基の種類
によって異なるが、例えばアシル基の場合は、保護化合
物に溶媒中、塩基又は酸を−２０℃〜＋１００℃で数分
〜数時間作用させることによって行われる。塩基として
は、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、アンモニアなどが、酸として
は、例えば塩酸、硫酸、トシル酸などを使用できる。溶
媒としては前記のアルコール類の使用が特に好ましい。
【００１３】工程７ 化合物（１）の水酸基をカルボニル基に酸化すると化合
物（１’）が得られる。酸化は化合物（１）にクロム酸
系の酸化剤で処理する方法またはジメチルスルホキシド
を用いる有機試薬による酸化剤で処理する方法のいずれ
かの方法で行うことが好ましい。クロム酸系の酸化剤で
処理する場合は、化合物（１）に溶媒中、酸化剤を−２
０℃〜＋１００℃で数分〜数時間作用させることによっ
て行われる。酸化剤としては、例えばクロロクロム酸ピ
リジニウム、ジクロム酸ピリジニウムなどの使用が好ま
しい。溶媒としては前記のハロゲン化炭化水素類の他ジ
メチルホルムアミドの使用が好ましい。ジメチルスルホ
キシドを用いる有機試薬による酸化剤で処理する場合
は、化合物（１）を溶媒に溶解し、ジメチルスルホキシ
ドを加え、更に親電子剤を−２０℃〜＋１００℃で数分
〜数時間作用させることによって行われる。親電子剤と
しては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、無水
酢酸、無水トリフルオロ酢酸、オキザリルクロリドなど
を使用できる。溶媒としては前記のエーテル類、ハロゲ
ン化炭化水素類の他ジメチルスルホキシドなどの使用が
特に好ましい。
物（１’）が得られる。酸化は化合物（１）にクロム酸
系の酸化剤で処理する方法またはジメチルスルホキシド
を用いる有機試薬による酸化剤で処理する方法のいずれ
かの方法で行うことが好ましい。クロム酸系の酸化剤で
処理する場合は、化合物（１）に溶媒中、酸化剤を−２
０℃〜＋１００℃で数分〜数時間作用させることによっ
て行われる。酸化剤としては、例えばクロロクロム酸ピ
リジニウム、ジクロム酸ピリジニウムなどの使用が好ま
しい。溶媒としては前記のハロゲン化炭化水素類の他ジ
メチルホルムアミドの使用が好ましい。ジメチルスルホ
キシドを用いる有機試薬による酸化剤で処理する場合
は、化合物（１）を溶媒に溶解し、ジメチルスルホキシ
ドを加え、更に親電子剤を−２０℃〜＋１００℃で数分
〜数時間作用させることによって行われる。親電子剤と
しては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、無水
酢酸、無水トリフルオロ酢酸、オキザリルクロリドなど
を使用できる。溶媒としては前記のエーテル類、ハロゲ
ン化炭化水素類の他ジメチルスルホキシドなどの使用が
特に好ましい。
【００１４】工程８ 化合物（１’）をオキシム化すると化合物（１”）が得
られる。反応は溶媒中、塩基の存在下に−２０℃〜＋１
００℃で数分〜数時間ヒドロキシルアミンを作用させる
ことによって行われる。塩基としては、例えばトリエチ
ルアミン、ピリジン等の有機塩基などを用いることが好
ましい。溶媒としては、例えば前記のアルコール類、エ
ーテル類、ハロゲン化炭化水素類の他酢酸エチルなどの
使用が好ましい。
られる。反応は溶媒中、塩基の存在下に−２０℃〜＋１
００℃で数分〜数時間ヒドロキシルアミンを作用させる
ことによって行われる。塩基としては、例えばトリエチ
ルアミン、ピリジン等の有機塩基などを用いることが好
ましい。溶媒としては、例えば前記のアルコール類、エ
ーテル類、ハロゲン化炭化水素類の他酢酸エチルなどの
使用が好ましい。
【００１５】化合物（１−ｃ）水酸基の立体化学の反
転：光学活性な化合物（１−ｃ）に光延反応を行い、得
られる化合物のエステル基を加水分解すると、水酸基の
立体化学が反転した化合物（１−ｃ’）が得られる。光
延反応には、例えばトリフェニルホスフィン、トリエチ
ルホスフィン、トリブチルホスフィン等のリン化合物；
アゾジカルボン酸のジメチルエステル、ジエチルエステ
ル、ジイソプロピルエステル等のアゾジカルボン酸の誘
導体；安息香酸、ニトロ安息香酸、酢酸、プロピオン酸
等のカルボン酸などが用いられる。溶媒としては、前記
のようなエーテル類などが用いられる。反応は、例えば
化合物（１−ｃ）を溶媒中でリン化合物、アゾジカルボ
ン酸誘導体及びカルボン酸を−20℃〜＋20℃で数分〜数
時間作用させることによって終了する。エステルの加水
分解は通常の酸又は塩基を用いる方法を利用できるが、
塩基による加水分解の採用が好ましい。塩基としては、
例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム等の無機塩基を用いることが好ま
しい。反応は、例えば溶媒中でエステルと塩基を 0℃〜
100 ℃で 1時間〜10時間作用させることによって終了す
る。溶媒としては前記のようなアルコ−ル類、水などを
用いることができる。
転：光学活性な化合物（１−ｃ）に光延反応を行い、得
られる化合物のエステル基を加水分解すると、水酸基の
立体化学が反転した化合物（１−ｃ’）が得られる。光
延反応には、例えばトリフェニルホスフィン、トリエチ
ルホスフィン、トリブチルホスフィン等のリン化合物；
アゾジカルボン酸のジメチルエステル、ジエチルエステ
ル、ジイソプロピルエステル等のアゾジカルボン酸の誘
導体；安息香酸、ニトロ安息香酸、酢酸、プロピオン酸
等のカルボン酸などが用いられる。溶媒としては、前記
のようなエーテル類などが用いられる。反応は、例えば
化合物（１−ｃ）を溶媒中でリン化合物、アゾジカルボ
ン酸誘導体及びカルボン酸を−20℃〜＋20℃で数分〜数
時間作用させることによって終了する。エステルの加水
分解は通常の酸又は塩基を用いる方法を利用できるが、
塩基による加水分解の採用が好ましい。塩基としては、
例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム等の無機塩基を用いることが好ま
しい。反応は、例えば溶媒中でエステルと塩基を 0℃〜
100 ℃で 1時間〜10時間作用させることによって終了す
る。溶媒としては前記のようなアルコ−ル類、水などを
用いることができる。
【００１６】
実施例１ 2-エピ-マニワマイシンBの製造 (a）アルゴン気流下2-ヘキサノン 335μl を、あらかじ
め調製したリチウムジイソロピルアミド（290m mol) の
テトラヒドロフラン溶液(2 ml)に-78℃で加え、-78℃で
10分間攪拌した後、ジベンジル アゾジカルボキシレー
ト 541mgのテトラヒドロフラン 2.7ml溶液を加えて、-7
8℃で10分間攪拌した。上記反応液に飽和塩化アンモニ
ウム水溶液 4ml 及び水 4mlを加え、酢酸エチルで抽出
した。抽出液を乾燥後、減圧下濃縮し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー[ ベンゼン: 酢酸エチル(10:1)]
で精製して、無色固体のN,N'- ビス( ベンジルオキシカ
ルボニル) ヒドラジノ-2-ヘキサノン 460mg (収率 63.5
%) を得た。
め調製したリチウムジイソロピルアミド（290m mol) の
テトラヒドロフラン溶液(2 ml)に-78℃で加え、-78℃で
10分間攪拌した後、ジベンジル アゾジカルボキシレー
ト 541mgのテトラヒドロフラン 2.7ml溶液を加えて、-7
8℃で10分間攪拌した。上記反応液に飽和塩化アンモニ
ウム水溶液 4ml 及び水 4mlを加え、酢酸エチルで抽出
した。抽出液を乾燥後、減圧下濃縮し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー[ ベンゼン: 酢酸エチル(10:1)]
で精製して、無色固体のN,N'- ビス( ベンジルオキシカ
ルボニル) ヒドラジノ-2-ヘキサノン 460mg (収率 63.5
%) を得た。
【００１７】融点:84-85℃(n-ヘキサン) 無色針状晶1 H-NMR(CDCl3) δ(ppm):0.81-0.94(3H, m(t ×2), J=7.0Hz, CH3 -CH2
- ) 1.16-1.39(2H, m, -CH2-CH2-) 1.44-1.64(2H, m, -CH2-CH2-) 2.31(5/6H, t, J=7.4Hz, -CH2 -CO-CH2-N ) 2.48(7/6H, t, J=7.4Hz, -CH2 -CO-CH2-N, ) 4.34(5/6H, br.s, CO-CH2 -N) 4.42(7/6H, br.s, CO-CH2 -N) 5.08-5.18(4H, m, -CH2 -Ph ×2) 7.03(1H, br.s, NH ) 7.23-7.48(10H, br. aromatic H) IR (KBr), cm -1:3276, 2950, 1737, 1715, 1699, 168
7, 1432,
- ) 1.16-1.39(2H, m, -CH2-CH2-) 1.44-1.64(2H, m, -CH2-CH2-) 2.31(5/6H, t, J=7.4Hz, -CH2 -CO-CH2-N ) 2.48(7/6H, t, J=7.4Hz, -CH2 -CO-CH2-N, ) 4.34(5/6H, br.s, CO-CH2 -N) 4.42(7/6H, br.s, CO-CH2 -N) 5.08-5.18(4H, m, -CH2 -Ph ×2) 7.03(1H, br.s, NH ) 7.23-7.48(10H, br. aromatic H) IR (KBr), cm -1:3276, 2950, 1737, 1715, 1699, 168
7, 1432,
【００１８】(b) (a)で得られたケトン体 1.08g をメタ
ノール 10ml とテトラヒドロフラン10ml の混合溶媒に
溶解し、氷冷下で水素化ホウ素ナトリウム 51mg を加え
て、室温で30分間攪拌した。反応液にドライアイスを加
えて中和したのち、濃縮し、水 50ml を加えて酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した。有機層
を乾燥後減圧下濃縮して、白色固体の粗製N,N'-ビス(
ベンジルオキシカルボニル)ヒドラジノ-2-ヘキサノール
1.11g を得た。このものは精製することなく次の反応
に用いた。
ノール 10ml とテトラヒドロフラン10ml の混合溶媒に
溶解し、氷冷下で水素化ホウ素ナトリウム 51mg を加え
て、室温で30分間攪拌した。反応液にドライアイスを加
えて中和したのち、濃縮し、水 50ml を加えて酢酸エチ
ルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄した。有機層
を乾燥後減圧下濃縮して、白色固体の粗製N,N'-ビス(
ベンジルオキシカルボニル)ヒドラジノ-2-ヘキサノール
1.11g を得た。このものは精製することなく次の反応
に用いた。
【００１９】(c) (b) で得られた粗製のヒドロキシ体
1.11g をアルゴン気流下無水塩化メチレン 21.6ml に溶
解し、氷冷下でトリエチルアミン 680μl 及びｔ- ブチ
ルジメチルシリルトリフラート870 μl を加えて 0℃で
40分間攪拌した。反応液に水 20ml を加え、塩化メチレ
ンで抽出した。抽出液を乾燥後、減圧下濃縮した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[ n-ヘキサン─
酢酸エチル(6:1)]で精製して淡黄色シロッップ状の N,
N'-ビス(ベンジルオキシカルボニル) ヒドラジノ-2-t-
ブチルジメチルシリルオキシ-ヘキサン 1.48g (収率 10
0%)を得た。
1.11g をアルゴン気流下無水塩化メチレン 21.6ml に溶
解し、氷冷下でトリエチルアミン 680μl 及びｔ- ブチ
ルジメチルシリルトリフラート870 μl を加えて 0℃で
40分間攪拌した。反応液に水 20ml を加え、塩化メチレ
ンで抽出した。抽出液を乾燥後、減圧下濃縮した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[ n-ヘキサン─
酢酸エチル(6:1)]で精製して淡黄色シロッップ状の N,
N'-ビス(ベンジルオキシカルボニル) ヒドラジノ-2-t-
ブチルジメチルシリルオキシ-ヘキサン 1.48g (収率 10
0%)を得た。
【００２０】1H-NMR (DMSO d-6) (120℃で測定) δ(ppm):0.10-0.20(6H, m, CH3-Si-CH3) 1.00(12H, br.d, CH3 of t-Bu, CH3 -CH2-) 1.30-1.75(6H, m, CH3-CH2 -CH2 -CH2 -C) 3.50-3.60(2H, br.d, -CH2 -N) 3.93-4.05(1H, br.s, Si-O-CH-) 5.24(4H, br.s, CH2-Ph ×2) 7.49(10H, br.s aromatic H) IR (CHCl3), cm -1:2957, 2932, 1748, 1715, 1456, 14
11, 1258,
11, 1258,
【００２１】(d) アルゴン気流下(c) で得られたN,O-保
護化合物 1.39g をテトラヒドロフラン 27.8ml に溶解
し、ヘキサメチルフォスフォラミド 0.705ml を加え、-
78℃に冷却し、1.56M の n-ブチルリチウム n-ヘキサ
ン溶液 2.42ml を加えて -78℃で10分間攪拌した。この
溶液に(2R,3R)-(-)-2,3-ブタンジオールの環状硫酸エス
テル化合物 0.7g のテトラヒドロフラン3.5ml 溶液を -
78℃で滴下し、同温で20分間、次いで室温で45時間攪拌
した。反応液に飽和食塩水 25ml 及び水 20ml を加え、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を乾燥後、減圧下濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[ クロ
ロホルム─メタノ─ル(5:1→2:1)] で精製して、淡黄色
泡状の(2R,3S)-2-(N-(2'-t-ブチルジメチルシリルオキ
シヘキシル)-N,N'-ビス-ベンジルオキシカルボニルヒド
ラジノ)-3-ハイドロジェンスルホニルオキシ- ブタン
1.80g( 収率 96.3%) を得た。
護化合物 1.39g をテトラヒドロフラン 27.8ml に溶解
し、ヘキサメチルフォスフォラミド 0.705ml を加え、-
78℃に冷却し、1.56M の n-ブチルリチウム n-ヘキサ
ン溶液 2.42ml を加えて -78℃で10分間攪拌した。この
溶液に(2R,3R)-(-)-2,3-ブタンジオールの環状硫酸エス
テル化合物 0.7g のテトラヒドロフラン3.5ml 溶液を -
78℃で滴下し、同温で20分間、次いで室温で45時間攪拌
した。反応液に飽和食塩水 25ml 及び水 20ml を加え、
酢酸エチルで抽出した。抽出液を乾燥後、減圧下濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[ クロ
ロホルム─メタノ─ル(5:1→2:1)] で精製して、淡黄色
泡状の(2R,3S)-2-(N-(2'-t-ブチルジメチルシリルオキ
シヘキシル)-N,N'-ビス-ベンジルオキシカルボニルヒド
ラジノ)-3-ハイドロジェンスルホニルオキシ- ブタン
1.80g( 収率 96.3%) を得た。
【００２２】1H-NMR (DMSO d-6) (120℃で測定) δ(ppm):0.13(6H, br.t-like, CH3-Si-CH3) 0.87-1.02(12H, m, CH3 of t-Bu, CH3 -CH2-) 1.22-1.71(12H, m, CH3 ×2, CH3-CH2 -CH2 -CH2 -) 3.38-4.24(4H, m, -Si-O-CH-CH2-N-N-CH-) 4.41-4.71(1H, m, -CH-O-S-) 5.07-5.28(4H, m, -CH2-Ph X2) 7.43(10H, m, aromatic H) IR (CHCl3), cm -1:2957, 1708, 1457, 1409
【００２３】(e) (d)で得られたジ-O-保護化合物 454mg
をジオキサン 12ml に溶解し、5mol% 濃硫酸のジオキ
サン溶液 4.5ml を加え、20分間攪拌した。反応液に飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液 3ml を加え、酢酸エチル
で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。水層を更に
酢酸エチルで抽出し、有機層をあわせ減圧下濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[n- ヘキサ
ン─酢酸エチル(4:1) →クロロホルム─メタノール(3:
1)]で精製して、無色シロップの (2R,3S)-3-(N-(2'-t-
ブチルジメチルシリルオキシヘキシル)-N,N'-ビス-ベン
ジルオキシカルボニルヒドラジノ)-2-ヒドロキシブタン
177mg (収率 45.8%)を得た。また、原料のジ-O-保護化
合物 230mg (回収率50.7%)を回収した。
をジオキサン 12ml に溶解し、5mol% 濃硫酸のジオキ
サン溶液 4.5ml を加え、20分間攪拌した。反応液に飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液 3ml を加え、酢酸エチル
で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。水層を更に
酢酸エチルで抽出し、有機層をあわせ減圧下濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[n- ヘキサ
ン─酢酸エチル(4:1) →クロロホルム─メタノール(3:
1)]で精製して、無色シロップの (2R,3S)-3-(N-(2'-t-
ブチルジメチルシリルオキシヘキシル)-N,N'-ビス-ベン
ジルオキシカルボニルヒドラジノ)-2-ヒドロキシブタン
177mg (収率 45.8%)を得た。また、原料のジ-O-保護化
合物 230mg (回収率50.7%)を回収した。
【００２４】1H-NMR (DMSO d-6) (120℃で測定) δ(ppm):0.14(6H, br.s, CH3-Si-CH3) 0.92(3H, t like, CH3 -CH2) 0.98,(4.5H, br.s, CH3 of t-Bu) 0.99,(4.5H, br.s, CH3 of t-Bu) 1.21(6H, br.d, CH3 ×2 ) 1.24-1.72(6H, m, CH3-CH2 -CH2 -CH2 ) 3.33-4.41(6H, m, Si-CH-CH2 -N, N-CH(CH3)-CH(OH)-C
H3) 5.18-5.27(4H, m, CH2-Ph) 7.45(10H, m, br.s, aromati H) IR (CHCl3), cm -1:2957, 2932, 1698, 1456, 1404, 13
03
H3) 5.18-5.27(4H, m, CH2-Ph) 7.45(10H, m, br.s, aromati H) IR (CHCl3), cm -1:2957, 2932, 1698, 1456, 1404, 13
03
【００２５】(f) (e)で得られたモノ-O-保護化合物 291
mg をピリジン 4.37ml に溶解し、室温で無水酢酸 1.46
ml 及び 4-ジメチルアミノピリジン 6.1mgを加えて 40
℃で17時間攪拌した。反応液に水 20ml を加え、酢酸エ
チルで抽出した。抽出液を減圧下濃縮し、残渣をトルエ
ンと共沸して、橙色シロップの粗製ジ-O-保護化合物 31
2mgを得た。このものは精製せずに次の反応に用いた。 (g) (f)で得られたジ-O-保護化合物 316mg をメタノー
ル 9.35ml に溶解し、室温で10% 塩酸─メタノール 2.4
9ml を加え、室温で30分間攪拌した。反応液に飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液 3.0ml を加えて減圧下濃縮し
た。残渣に水 1ml を加えて、酢酸エチルで抽出し、抽
出液を乾燥後、減圧下濃縮して、橙色シロップとして粗
製のモノ-O-保護化合物 259mgを得た。このものは精製
せずに次の反応に用いた。
mg をピリジン 4.37ml に溶解し、室温で無水酢酸 1.46
ml 及び 4-ジメチルアミノピリジン 6.1mgを加えて 40
℃で17時間攪拌した。反応液に水 20ml を加え、酢酸エ
チルで抽出した。抽出液を減圧下濃縮し、残渣をトルエ
ンと共沸して、橙色シロップの粗製ジ-O-保護化合物 31
2mgを得た。このものは精製せずに次の反応に用いた。 (g) (f)で得られたジ-O-保護化合物 316mg をメタノー
ル 9.35ml に溶解し、室温で10% 塩酸─メタノール 2.4
9ml を加え、室温で30分間攪拌した。反応液に飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液 3.0ml を加えて減圧下濃縮し
た。残渣に水 1ml を加えて、酢酸エチルで抽出し、抽
出液を乾燥後、減圧下濃縮して、橙色シロップとして粗
製のモノ-O-保護化合物 259mgを得た。このものは精製
せずに次の反応に用いた。
【００２６】(h) (g)で得られたモノ-O-保護化合物 259
mg をエタノール 7.65ml に溶解し、酢酸 210μl 及び
10% パラジウム／炭素 25mg を加えて、1 気圧水素気
流下で２時間攪拌した。次いで、触媒を濾去し濾液に蒸
留水 1.53ml 及び酢酸銅(II) 9.0mgを加えて開放系で40
分間攪拌した。反応終了後、反応液に飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液 400μl を加えて、減圧下濃縮し、残渣に
水 1ml を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を乾燥
後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー[ベンゼン─酢酸エチル(4:1)]で精製して、
無色シロップとして(2R,3S)-2-(2'-ヒドロキシヘキシル
−アゾ)-3-アセチルオキシブタン 84mg(収率 69%) を得
た。
mg をエタノール 7.65ml に溶解し、酢酸 210μl 及び
10% パラジウム／炭素 25mg を加えて、1 気圧水素気
流下で２時間攪拌した。次いで、触媒を濾去し濾液に蒸
留水 1.53ml 及び酢酸銅(II) 9.0mgを加えて開放系で40
分間攪拌した。反応終了後、反応液に飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液 400μl を加えて、減圧下濃縮し、残渣に
水 1ml を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を乾燥
後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー[ベンゼン─酢酸エチル(4:1)]で精製して、
無色シロップとして(2R,3S)-2-(2'-ヒドロキシヘキシル
−アゾ)-3-アセチルオキシブタン 84mg(収率 69%) を得
た。
【００２７】1H-NMR (CDCl3) δ(ppm):0.92(3H, t, J=6.8Hz, CH3 -CH2- ) 1.24, 1.27, 1.31, 1.32(each 1.5H, each d, J=J=6.6
Hz,CH3 -CH-CH-CH3 ) 1.13〜1.63(6H, m, CH3-CH2 -CH2 -CH2 -) 2.03, 2.04(each 1.5H, each s, CH3 -CO-) 2.27(1H, br.s, -OH) 3.54-3.68(1H, m, =N-CH-CH3) 3.66, 3.79(each 0.5H, each dd, J=7.8, 13.0Hz, =N-
C H2 -) 3.97, 4.09(each 0.5H, each dd, J=3.0, 13.0Hz, =N-
C H2 -) 4.04-4.20(1H, m, CH-OH-) 5.19-5.31(1H, m, CH-OAc) IR (CHCl3), cm -1:2989, 2933, 1730, 1455, 1375 Mass High M+ C12H24N2O3 として 計算値: 244.1787 実測値: 244.1790
Hz,CH3 -CH-CH-CH3 ) 1.13〜1.63(6H, m, CH3-CH2 -CH2 -CH2 -) 2.03, 2.04(each 1.5H, each s, CH3 -CO-) 2.27(1H, br.s, -OH) 3.54-3.68(1H, m, =N-CH-CH3) 3.66, 3.79(each 0.5H, each dd, J=7.8, 13.0Hz, =N-
C H2 -) 3.97, 4.09(each 0.5H, each dd, J=3.0, 13.0Hz, =N-
C H2 -) 4.04-4.20(1H, m, CH-OH-) 5.19-5.31(1H, m, CH-OAc) IR (CHCl3), cm -1:2989, 2933, 1730, 1455, 1375 Mass High M+ C12H24N2O3 として 計算値: 244.1787 実測値: 244.1790
【００２８】(i) (h)で得られたアゾ化合物 47.6mg を
無水塩化メチレン 1.43ml に溶解し、0℃でバナジウム
オキシアセチルアセテネート 20.7mg 及び3.63M t-ブチ
ルハイドロペルオキシドのトルエン溶液 270μl を加え
て、0℃で20分間攪拌した。反応液に水 2ml を加え、ク
ロロホルムで抽出した。抽出液を乾燥後、減圧下濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[ベン
ゼン─酢酸エチル(4:1)]で精製して、無色シロップの(2
R,3S)-2-(2'-ヒドロキシヘキシル-ONN-アゾキシ)-3-ア
セチルオキシブタン 43.9mg(収率:86.7%) を得た。1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):0.92(3H, t, J=7.0Hz, CH3 -CH2-) 1.15, 1.17, 1.27, 1.28(each 1.5H, each d, J=6.6Hz,
CH3 -CH2-CH2-CH3 ) 1.30-1.56(6H, m, -CH2 -CH2 -CH2 -) 2.04, 2.05(each 1.5H, each s, CH3 -CO-) 3.53(0.5H, br.d, J=3.6Hz, -OH, ) 4.06-4.31(4H, m, OH-CH-CH2 -N=N-CH-) 5.04-5.18(1H, m, CH-O-Ac) IR (CHCl3), cm -1:2960, 2935, 1729, 1504, 1374
無水塩化メチレン 1.43ml に溶解し、0℃でバナジウム
オキシアセチルアセテネート 20.7mg 及び3.63M t-ブチ
ルハイドロペルオキシドのトルエン溶液 270μl を加え
て、0℃で20分間攪拌した。反応液に水 2ml を加え、ク
ロロホルムで抽出した。抽出液を乾燥後、減圧下濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[ベン
ゼン─酢酸エチル(4:1)]で精製して、無色シロップの(2
R,3S)-2-(2'-ヒドロキシヘキシル-ONN-アゾキシ)-3-ア
セチルオキシブタン 43.9mg(収率:86.7%) を得た。1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):0.92(3H, t, J=7.0Hz, CH3 -CH2-) 1.15, 1.17, 1.27, 1.28(each 1.5H, each d, J=6.6Hz,
CH3 -CH2-CH2-CH3 ) 1.30-1.56(6H, m, -CH2 -CH2 -CH2 -) 2.04, 2.05(each 1.5H, each s, CH3 -CO-) 3.53(0.5H, br.d, J=3.6Hz, -OH, ) 4.06-4.31(4H, m, OH-CH-CH2 -N=N-CH-) 5.04-5.18(1H, m, CH-O-Ac) IR (CHCl3), cm -1:2960, 2935, 1729, 1504, 1374
【００２９】(j) (i)で得られたアゾキシ化合物 72.0mg
を無水塩化メチレン 2.16ml に溶解し、氷冷下でトリ
エチルアミン 77μl 及びメタンスルフォニルクロライ
ド43μl を加えて0℃で15分間攪拌した。反応液に水 3m
l を加えて塩化メチレンで抽出した。抽出液を乾燥後、
減圧下濃縮して、淡黄色シロップの粗製メシル化合物 1
12.9mgを得た。 このものは精製せずに次の反応に用い
た。 (k) (j)で得られたメシル化合物 112.9mg をトルエン
2.8ml に溶解し、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデ
セン 98μl を加えて40℃で100分間攪拌した。 反応液
を減圧下濃縮して、橙色シロップの粗製(2R,3S)-3-(1'-
ヘキセニル-ONN-アゾキシ)-2-アセチルオキシブタン 2
01mg を得た。 このものは精製せずに次の反応に用い
た。 (l) (k)で得られた1'-ヘキセン化合物 201mg をメタノ
ール 2.0ml に溶解し、炭酸カリウム 76mg を加えて室
温で１時間攪拌した。反応液に水 2ml を加えて、メタ
ノールを減圧留去したのち、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を乾燥後減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー[n-ヘキサン─酢酸エチル(4:1)]で精
製して、無色シロップの2-エピ-マニワマイシンB [(2R,
3S)-3-(1'-ヘキセニル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキシブ
タン] 47.2mg( 収率:85%)を得た。
を無水塩化メチレン 2.16ml に溶解し、氷冷下でトリ
エチルアミン 77μl 及びメタンスルフォニルクロライ
ド43μl を加えて0℃で15分間攪拌した。反応液に水 3m
l を加えて塩化メチレンで抽出した。抽出液を乾燥後、
減圧下濃縮して、淡黄色シロップの粗製メシル化合物 1
12.9mgを得た。 このものは精製せずに次の反応に用い
た。 (k) (j)で得られたメシル化合物 112.9mg をトルエン
2.8ml に溶解し、1,8-ジアザビシクロ[5,4,0]-7-ウンデ
セン 98μl を加えて40℃で100分間攪拌した。 反応液
を減圧下濃縮して、橙色シロップの粗製(2R,3S)-3-(1'-
ヘキセニル-ONN-アゾキシ)-2-アセチルオキシブタン 2
01mg を得た。 このものは精製せずに次の反応に用い
た。 (l) (k)で得られた1'-ヘキセン化合物 201mg をメタノ
ール 2.0ml に溶解し、炭酸カリウム 76mg を加えて室
温で１時間攪拌した。反応液に水 2ml を加えて、メタ
ノールを減圧留去したのち、酢酸エチルで抽出した。抽
出液を乾燥後減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー[n-ヘキサン─酢酸エチル(4:1)]で精
製して、無色シロップの2-エピ-マニワマイシンB [(2R,
3S)-3-(1'-ヘキセニル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキシブ
タン] 47.2mg( 収率:85%)を得た。
【００３０】1H-NMR (CDCl3) δ(ppm):0.92(3H, t, J=6.8Hz, CH3 -CH2-) 1.16, 1.22(each 3H, each d, J=6.6Hz, CH3 -CH-CH-C
H3 ) 1.24-1.52(4H, m, CH3-CH2 -CH2 -CH2-CH= ) 2.01(1H, d, J=4.8Hz, -OH) 2.22(2H, dt, J=7.2, 6.8Hz, CH2 -CH=) 3.91-4.02(1H, m, -CH-OH ) 4.18(1H, dq, J=4.2, 6.6Hz, =N-CH-CH3) 6.91(1H, d, J=13.6Hz, =CH-N=) 7.01(1H, dt, J=6.8, 3.6Hz, -CH=CH-N) IR (CHCl3), cm -1:2934, 1467, 1319 比旋光度: [α]D 23=35.4 o(c=1, CHCl3)
H3 ) 1.24-1.52(4H, m, CH3-CH2 -CH2 -CH2-CH= ) 2.01(1H, d, J=4.8Hz, -OH) 2.22(2H, dt, J=7.2, 6.8Hz, CH2 -CH=) 3.91-4.02(1H, m, -CH-OH ) 4.18(1H, dq, J=4.2, 6.6Hz, =N-CH-CH3) 6.91(1H, d, J=13.6Hz, =CH-N=) 7.01(1H, dt, J=6.8, 3.6Hz, -CH=CH-N) IR (CHCl3), cm -1:2934, 1467, 1319 比旋光度: [α]D 23=35.4 o(c=1, CHCl3)
【００３１】実施例2 マニワマイシンＡの製造 実施例1で得られた2-エピ-マニワマイシンB 4.7mg を
アルゴン気流下エーテル 240μl に溶解し、0 ℃でジメ
チルスルホキシド 4μl 、ジシクロヘキシルカボジイミ
ド 10mg 、ピリジン 1.0μl 及びトリフルオロ酢酸 1.0
μl を加えて室温で1.5時間攪拌した。反応液に水 1ml
を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を乾燥後、減圧
下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
[n-ヘキサン─酢酸エチル(6:1)]で精製して、無色油状
物のマニワマイシンＡ 4.1mg( 収率:98%) を得た。機器
データは天然物と一致した。
アルゴン気流下エーテル 240μl に溶解し、0 ℃でジメ
チルスルホキシド 4μl 、ジシクロヘキシルカボジイミ
ド 10mg 、ピリジン 1.0μl 及びトリフルオロ酢酸 1.0
μl を加えて室温で1.5時間攪拌した。反応液に水 1ml
を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を乾燥後、減圧
下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
[n-ヘキサン─酢酸エチル(6:1)]で精製して、無色油状
物のマニワマイシンＡ 4.1mg( 収率:98%) を得た。機器
データは天然物と一致した。
【００３２】実施例3 マニワマイシンBの製造： (a) 実施例1で得られた2-エピ-マニワマイシンB 9.9mg
をテトラヒドロフラン 300μlに溶解し、安息香酸 15.1
mg、トリフェニルホスフィン 32.4mg 及びアゾジカルボ
ン酸ジエチル 19.4μl を加えて0℃で40分間攪拌した。
反応液に飽和食塩水 0.5ml を加え、酢酸エチルで抽出
した。抽出液を乾燥後減圧下濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー[n-ヘキサン─酢酸エチル(8:
1)]で精製して、無色シロップのマニワマイシンB のエ
ステル体10.5mg(収率:70%) を得た。1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):0.90(3H, t, J=7.0Hz, CH3 -CH2-, ) 1.22, 1.39(each 3H, each d, J=J=6.5Hz, CH3 -CH-CH-C
H3 , ) 1.14-1.51(4H, m, CH3-CH2 -CH2 -CH2-CH= ) 2.19(2H, q, J=6.9Hz, -CH2 -CH=, ) 4.47(1H, quintet, J=6.5Hz, =N-C H-CH3, ) 5.34(1H, quintet,J=6.5Hz,-CH-0-CH2-Ph, ) 6.90(1H, d, J=13.6Hz, =CH-N= , ) 7.08(1H, dt, J=6.5,13.6Hz, -CH=CH) 7.38-7.58(3H, m, aromatic H) 7.99-8.06(2H, m, aromatic H) Mass High M+ +1 C17H25N2O3として 計算値: 305.1865 実測値: 305.1841 IR (CHCl3), cm -1:2934, 1713, 1467, 1452 比旋光度:[α]D 23=19.6o (c=1.23, CHCl3)
をテトラヒドロフラン 300μlに溶解し、安息香酸 15.1
mg、トリフェニルホスフィン 32.4mg 及びアゾジカルボ
ン酸ジエチル 19.4μl を加えて0℃で40分間攪拌した。
反応液に飽和食塩水 0.5ml を加え、酢酸エチルで抽出
した。抽出液を乾燥後減圧下濃縮し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー[n-ヘキサン─酢酸エチル(8:
1)]で精製して、無色シロップのマニワマイシンB のエ
ステル体10.5mg(収率:70%) を得た。1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):0.90(3H, t, J=7.0Hz, CH3 -CH2-, ) 1.22, 1.39(each 3H, each d, J=J=6.5Hz, CH3 -CH-CH-C
H3 , ) 1.14-1.51(4H, m, CH3-CH2 -CH2 -CH2-CH= ) 2.19(2H, q, J=6.9Hz, -CH2 -CH=, ) 4.47(1H, quintet, J=6.5Hz, =N-C H-CH3, ) 5.34(1H, quintet,J=6.5Hz,-CH-0-CH2-Ph, ) 6.90(1H, d, J=13.6Hz, =CH-N= , ) 7.08(1H, dt, J=6.5,13.6Hz, -CH=CH) 7.38-7.58(3H, m, aromatic H) 7.99-8.06(2H, m, aromatic H) Mass High M+ +1 C17H25N2O3として 計算値: 305.1865 実測値: 305.1841 IR (CHCl3), cm -1:2934, 1713, 1467, 1452 比旋光度:[α]D 23=19.6o (c=1.23, CHCl3)
【００３３】(b) 前記(a)で得られたO-ベンゾイル化合
物 18.3mg をメタノール 550μl に溶解し、炭酸カリウ
ム 16.6mg を加え、室温で3時間攪拌した。反応液に水
2ml を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩
水で洗浄し、乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー[n-ヘキサン─酢酸エチル
(3:1)]で精製して、無色油状物のマニワマイシンB 6.6m
g(収率:50%)を得た。このものは各種薄層クロマトグラ
フィー上で、天然のマニワマイシンBと一致した。この
ものの機器データは天然物と一致した。 実施例4 (2R,3S)-3-(4'-(2"-プロピニルオキシ)スチリ
ル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキシブタンの製造:実施例1
(a)の2-ヘキサノンに代えて、4-(2- プロピニルオキシ)
フェニル-メチルケトンを用いて実施例1 と同様に処理
して、シリカゲルカラムクロマトラフィー[ エーテル-
ヘキサン(2:1)]で精製し、目的化合物を得た。
物 18.3mg をメタノール 550μl に溶解し、炭酸カリウ
ム 16.6mg を加え、室温で3時間攪拌した。反応液に水
2ml を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩
水で洗浄し、乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー[n-ヘキサン─酢酸エチル
(3:1)]で精製して、無色油状物のマニワマイシンB 6.6m
g(収率:50%)を得た。このものは各種薄層クロマトグラ
フィー上で、天然のマニワマイシンBと一致した。この
ものの機器データは天然物と一致した。 実施例4 (2R,3S)-3-(4'-(2"-プロピニルオキシ)スチリ
ル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキシブタンの製造:実施例1
(a)の2-ヘキサノンに代えて、4-(2- プロピニルオキシ)
フェニル-メチルケトンを用いて実施例1 と同様に処理
して、シリカゲルカラムクロマトラフィー[ エーテル-
ヘキサン(2:1)]で精製し、目的化合物を得た。
【００３４】1H-NMR (CDCl3) δ(ppm):1.19(3H, d, J=6.5Hz, 1 or 4-CH3) 1.25(3H, d, J=6.3Hz, 1 or 4-CH3) 2.20(1H, br.s, OH) 2.55(1H, t, J=2.5Hz, ≡CH) 3.94(1H, br.dt, J=13.2Hz,6.5Hz, 2-CH) 4.12(1H, dt, J=13.2Hz,6.5Hz, 3-CH) 4.73(2H, d, J=2.5Hz, 0-CH2-C ≡) 7.00(2H, d, J=8.7Hz, Aromatic H) 7.46(2H, d, J=8.7Hz, Aromatic H) 7.50(1H, d, J=13.5Hz, 1'or 2'-CH=) 7.77(1H, d, J=13.5Hz, 1'or 2'-CH=) IR (CHCl3), cm -1:3292, 2900, 1640, 1602, 1507, 14
56 比旋光度: [α]D 22= ＋60.7°(c=1, CHCl3)
56 比旋光度: [α]D 22= ＋60.7°(c=1, CHCl3)
【００３５】実施例5 (2S,3S)-3-(4'-(2"-プロピニル
オキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキシブタンの
製造:実施例4 で得られた(2R,3S)-3-(4'-(2"-プロピニ
ルオキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキシブタン
を用い、実施例3 と同様に処理して、シリカゲルカラム
クロマトラフィー[エーテル- ヘキサン(2:1)]で精製し
目的化合物を得た。1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):1.20(3H, d, J=6.8Hz, 1 or 4-CH3) 1.25(3H, d, J=6.3Hz, 1 or 4-CH3) 2.17(1H, br.s, OH) 2.55(1H, t, J=2.5Hz, ≡CH) 4.24(1H, br.dt, J=10.8Hz,6.8Hz, 2-CH) 4.27(1H, dt, J=13.2Hz,6.5Hz, 3-CH) 4.73(2H, d, J=2.5Hz, 0-CH2-C≡) 6.70(2H, d, J=8.7Hz, Aromatic H) 7.46(2H, d, J=8.7Hz, Aromatic H) 7.49(1H, d, J=13.5Hz, 1'or 2'-CH=) 7.78(1H, d, J=13.5Hz, 1'or 2'-CH=) IR (CHCl3), cm -1:3291, 2968, 1637, 1602, 1507, 14
56 比旋光度: [α]D 22= ＋13.1°(c=1, CHCl3)
オキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキシブタンの
製造:実施例4 で得られた(2R,3S)-3-(4'-(2"-プロピニ
ルオキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキシブタン
を用い、実施例3 と同様に処理して、シリカゲルカラム
クロマトラフィー[エーテル- ヘキサン(2:1)]で精製し
目的化合物を得た。1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):1.20(3H, d, J=6.8Hz, 1 or 4-CH3) 1.25(3H, d, J=6.3Hz, 1 or 4-CH3) 2.17(1H, br.s, OH) 2.55(1H, t, J=2.5Hz, ≡CH) 4.24(1H, br.dt, J=10.8Hz,6.8Hz, 2-CH) 4.27(1H, dt, J=13.2Hz,6.5Hz, 3-CH) 4.73(2H, d, J=2.5Hz, 0-CH2-C≡) 6.70(2H, d, J=8.7Hz, Aromatic H) 7.46(2H, d, J=8.7Hz, Aromatic H) 7.49(1H, d, J=13.5Hz, 1'or 2'-CH=) 7.78(1H, d, J=13.5Hz, 1'or 2'-CH=) IR (CHCl3), cm -1:3291, 2968, 1637, 1602, 1507, 14
56 比旋光度: [α]D 22= ＋13.1°(c=1, CHCl3)
【００３６】実施例6 (2R,3S)-3-(4'-(3"-ヨード-2"-プ
ロピニルオキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキシ
ブタンの製造:実施例4 で得られた(2R,3S)-3-(4'-(2"-
プロピニルオキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキ
シブタン 274mg をメタノール 5ml に溶解し、氷冷下、
10規定水酸化ナトリウム溶液 0.4ml及びヨウ素 500mgを
加えた。反応液が均一溶液になったところで冷却をや
め、室温で10分間攪拌した。反応液にエーテルを加えて
抽出し、有機層を 1M チオ硫酸ナトリウム溶液及び飽和
食塩水で洗浄後、乾燥して、減圧下に濃縮した。残渣を
シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー[ 酢酸エチル-
ベンゼン(1:10)] で精製して、目的化合物 360mgを得
た。1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):1.19(3H, d, J=6.5Hz, 1 or 4-CH3) 1.26(3H, d, J=6.5Hz, 1 or 4-CH3) 2.14(1H, d, OH) 3.94(1H, sext., J=6.4Hz, 2-CH) 4.13(1H, quint., J=6.5Hz, 3-CH) 4.86(2H, s, 0-CH2-C≡) 6.98(2H, d, J=8.8Hz, Aromatic H) 7.47(2H, d, J=8.8Hz, Aromatic H) 7.51(1H, d, J=14.2Hz, 1'or 2'-CH=) 7.77(1H, d, J=14.2Hz, 1'or 2'-CH=) IR (CHCl3), cm -1:1456 比旋光度: [α]D 22= ＋47.7°(c=1, CHCl3)
ロピニルオキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキシ
ブタンの製造:実施例4 で得られた(2R,3S)-3-(4'-(2"-
プロピニルオキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキ
シブタン 274mg をメタノール 5ml に溶解し、氷冷下、
10規定水酸化ナトリウム溶液 0.4ml及びヨウ素 500mgを
加えた。反応液が均一溶液になったところで冷却をや
め、室温で10分間攪拌した。反応液にエーテルを加えて
抽出し、有機層を 1M チオ硫酸ナトリウム溶液及び飽和
食塩水で洗浄後、乾燥して、減圧下に濃縮した。残渣を
シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー[ 酢酸エチル-
ベンゼン(1:10)] で精製して、目的化合物 360mgを得
た。1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):1.19(3H, d, J=6.5Hz, 1 or 4-CH3) 1.26(3H, d, J=6.5Hz, 1 or 4-CH3) 2.14(1H, d, OH) 3.94(1H, sext., J=6.4Hz, 2-CH) 4.13(1H, quint., J=6.5Hz, 3-CH) 4.86(2H, s, 0-CH2-C≡) 6.98(2H, d, J=8.8Hz, Aromatic H) 7.47(2H, d, J=8.8Hz, Aromatic H) 7.51(1H, d, J=14.2Hz, 1'or 2'-CH=) 7.77(1H, d, J=14.2Hz, 1'or 2'-CH=) IR (CHCl3), cm -1:1456 比旋光度: [α]D 22= ＋47.7°(c=1, CHCl3)
【００３７】実施例7 (2S,3S)-3-(4'-(3"-ヨード-2"-
プロピニルオキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキ
シブタンの製造:実施例5 で得られた(2S,3S)-3-(4'-(2"
-プロピニルオキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロ
キシブタンを用いて、実施例6 と同様に反応、処理して
目的化合物を得た。1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):1.21(3H, d, J=6.5Hz, 1 or 4-CH3) 1.26(3H, d, J=6.5Hz, 1 or 4-CH3) 2.08(1H, d, J=6.5Hz, 2H-OH) 3.96-4.06(1H, m, 2-CH) 4.26(1H, dq, J=6.5, 4 Hz, 3-CH) 4.86(2H, s, 0-CH2-C≡) 6.98(2H, d, J=8.8Hz, Aromatic H) 7.46(2H, d, J=8.8Hz, Aromatic H) 7.49(1H, d, J=14.2Hz, 1'or 2'-CH=) 7.77(1H, d, J=14.2Hz, 1'or 2'-CH=) IR (CHCl3), cm -1:1449 比旋光度: [α]D 22= ＋7.8 °(c=1, CHCl3)
プロピニルオキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロキ
シブタンの製造:実施例5 で得られた(2S,3S)-3-(4'-(2"
-プロピニルオキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-ヒドロ
キシブタンを用いて、実施例6 と同様に反応、処理して
目的化合物を得た。1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):1.21(3H, d, J=6.5Hz, 1 or 4-CH3) 1.26(3H, d, J=6.5Hz, 1 or 4-CH3) 2.08(1H, d, J=6.5Hz, 2H-OH) 3.96-4.06(1H, m, 2-CH) 4.26(1H, dq, J=6.5, 4 Hz, 3-CH) 4.86(2H, s, 0-CH2-C≡) 6.98(2H, d, J=8.8Hz, Aromatic H) 7.46(2H, d, J=8.8Hz, Aromatic H) 7.49(1H, d, J=14.2Hz, 1'or 2'-CH=) 7.77(1H, d, J=14.2Hz, 1'or 2'-CH=) IR (CHCl3), cm -1:1449 比旋光度: [α]D 22= ＋7.8 °(c=1, CHCl3)
【００３８】実施例8 3(S)-2-ヒドロキシイミノ-3-[4'
-(3"-ヨード-2-プロピニルオキシ)スチリル-ONN-アゾキ
シ]-2-オクソブタンの製造:実施例6 で得られた (2R,3
S)-3-(4'-(3"-ヨード-2"-プロピニルオキシ)スチリル-O
NN-アゾキシ)-2-ヒドロキシブタンを用い、実施例2 と
同様に反応、処理して油状物の3(S)-3-(4'-(3"-ヨード-
2"-プロピニルオキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-オク
ソブタンを得た。上で得られたケトン体 225mgをメタノ
ール 2 ml に溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩 75.3m
g 及びピリジン 0.14ml を加えて室温で10分間攪拌し
た。反応混合物にエーテル 170ml 及び水 34ml を加
え、エーテル層を分取し、これを飽和食塩水で洗浄した
のち乾燥して減圧下に濃縮した。得られた油状物をシリ
カゲル分取薄層クロマトグラフィー[酢酸エチル-ベンゼ
ン(1:3)]で精製して、目的物の水酸基に関するアンチ─
及びシン─異性体をそれぞれ無色油状物として 136mg
及び 52mg 得た。
-(3"-ヨード-2-プロピニルオキシ)スチリル-ONN-アゾキ
シ]-2-オクソブタンの製造:実施例6 で得られた (2R,3
S)-3-(4'-(3"-ヨード-2"-プロピニルオキシ)スチリル-O
NN-アゾキシ)-2-ヒドロキシブタンを用い、実施例2 と
同様に反応、処理して油状物の3(S)-3-(4'-(3"-ヨード-
2"-プロピニルオキシ)スチリル-ONN-アゾキシ)-2-オク
ソブタンを得た。上で得られたケトン体 225mgをメタノ
ール 2 ml に溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩 75.3m
g 及びピリジン 0.14ml を加えて室温で10分間攪拌し
た。反応混合物にエーテル 170ml 及び水 34ml を加
え、エーテル層を分取し、これを飽和食塩水で洗浄した
のち乾燥して減圧下に濃縮した。得られた油状物をシリ
カゲル分取薄層クロマトグラフィー[酢酸エチル-ベンゼ
ン(1:3)]で精製して、目的物の水酸基に関するアンチ─
及びシン─異性体をそれぞれ無色油状物として 136mg
及び 52mg 得た。
【００３９】アンチ─異性体1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):1.42(3H, d, J=7Hz) 2.98(3H, s) 4.86(2H, s,) 4.87(1H, q, J=7Hz) 6.98(2H, d, J=9Hz) 7.46(2H, d, J=9Hz) 7.52(1H, d, J=14Hz) 7.77(1H, d, J=14Hz) IR (CHCl3), cm -1:3550, 3260(br), 1605, 1505, 145
5, 1220(br), 1170 比旋光度: [α]D 22= ＋21°(c=1.2, CHCl3) シン─異性体1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):1.46(3H, d, J=7Hz) 1.79(3H, s) 4.87(2H, s,) 5.43(1H, q, J=7Hz) 6.98(2H, d, J=9Hz) 7.47(2H, d, J=9Hz) 7.53(1H, d, J=14Hz) 7.79(1H, d, J=14Hz) IR (CHCl3), cm -1:3550, 3260(br), 1605, 1505, 145
5, 1220(br), 1170 比旋光度: [α]D 22= ＋44°(c=0.63, CHCl3)
5, 1220(br), 1170 比旋光度: [α]D 22= ＋21°(c=1.2, CHCl3) シン─異性体1 H-NMR (CDCl3) δ(ppm):1.46(3H, d, J=7Hz) 1.79(3H, s) 4.87(2H, s,) 5.43(1H, q, J=7Hz) 6.98(2H, d, J=9Hz) 7.47(2H, d, J=9Hz) 7.53(1H, d, J=14Hz) 7.79(1H, d, J=14Hz) IR (CHCl3), cm -1:3550, 3260(br), 1605, 1505, 145
5, 1220(br), 1170 比旋光度: [α]D 22= ＋44°(c=0.63, CHCl3)
【００４０】
【発明の効果】本発明方法によれば、安価な原料を使用
し、しかも高収率で目的化合物を製造することができ
る。
し、しかも高収率で目的化合物を製造することができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 良男 埼玉県入間市豊岡５−３−33 アーデン 408 (72)発明者 出牛 武夫 埼玉県狭山市柏原3084−40 狭山ニュータ ウン19−７ (72)発明者 白土 正三 東京都武蔵村山市残堀４−43−２ (72)発明者 中田 雅也 神奈川県横浜市泉区弥生台58−４ (72)発明者 竜田 邦明 東京都杉並区松ノ木２−26−７
Claims (5)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 〔式中、Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい低級
アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級
アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい低
級アルキニル基、アリール基又はアラルキル基（アリー
ル基及びアラルキル基はハロゲン原子、水酸基、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよい低級アルケニル基、ハロ
ゲン原子で置換されていてもよい低級アルキニル基、ハ
ロゲン原子で置換されていてもよい低級アルコキシ基、
ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルケニルオ
キシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アル
キニルオキシ基又はニトロ基で置換されていてもよい）
を示す〕で表される化合物に一般式 【化２】Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ａ （３） （式中、Ａはアミノ基の保護基を示す）を反応させて一
般式 【化３】 （式中の各記号は前記の意味を有する）で表される化合
物を得、次いでこの化合物（４）のカルボニル基を還元
し、得られる化合物の水酸基を保護し、一般式 【化４】 （式中、Ｂは水酸基の保護基を示し、他の記号は前記の
意味を有する）で表される化合物を得、次いでこの化合
物（５）のアミノ基を活性化したのち、式 【化５】 で表される化合物を反応させ、一般式 【化６】 （式中の各記号は前記の意味を有する）で表される化合
物を得、次いでこの化合物（７）の水酸基を保護した
後、保護基Ｂを脱離し、次いでアミノ基の保護基を脱離
し、ヒドラジンを酸化し、一般式 【化７】 （式中、Ｂ’は水酸基の保護基を示し、Ｒは前記の意味
を有する）で表される化合物を得、次いでこの化合物
（８）の水酸基側のアミノ基を選択的に酸化して、一般
式 【化８】 （式中の各記号は前記の意味を有する）で表される化合
物を得、次いでこの化合物（９）を脱水し、水酸基の保
護基を脱離することを特徴とする、一般式 【化９】 （式中、Ｒは前記の意味を有する）で表されるアゾキシ
化合物（１）の製造法。 - 【請求項２】請求項１記載の方法で一般式 【化１０】 〔式中、Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい低級
アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級
アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい低
級アルキニル基、アリール基又はアラルキル基（アリー
ル基及びアラルキル基はハロゲン原子、水酸基、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよい低級アルケニル基、ハロ
ゲン原子で置換されていてもよい低級アルキニル基、ハ
ロゲン原子で置換されていてもよい低級アルコキシ基、
ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルケニルオ
キシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アル
キニルオキシ基又はニトロ基で置換されていてもよい）
を示す〕で表される化合物を得、次いでこのものを酸化
することを特徴とする、一般式 【化１１】 （式中のＲは前記の意味を有する）で表されるアゾキシ
化合物の製造法。 - 【請求項３】請求項２記載の方法で一般式 【化１２】 〔式中、Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい低級
アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級
アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい低
級アルキニル基、アリール基又はアラルキル基（アリー
ル基及びアラルキル基はハロゲン原子、水酸基、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよい低級アルケニル基、ハロ
ゲン原子で置換されていてもよい低級アルキニル基、ハ
ロゲン原子で置換されていてもよい低級アルコキシ基、
ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルケニルオ
キシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アル
キニルオキシ基又はニトロ基で置換されていてもよい）
を示す〕で表される化合物を得、次いでこのものにヒド
ロキシルアミンを作用させることを特徴とする、一般式 【化１３】 （式中のＲは前記の意味を有する）で表されるアゾキシ
化合物の製造法。 - 【請求項４】一般式（６）として、式 【化１４】 で表される化合物を用いて、一般式 【化１５】 で表される光学活性体を製造することを特徴とする請求
項１記載の製造法。 - 【請求項５】一般式 【化１６】 〔式中、Ｒはハロゲン原子で置換されていてもよい低級
アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級
アルケニル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい低
級アルキニル基、アリール基又はアラルキル基（アリー
ル基及びアラルキル基はハロゲン原子、水酸基、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよい低級アルキル基、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよい低級アルケニル基、ハロ
ゲン原子で置換されていてもよい低級アルキニル基、ハ
ロゲン原子で置換されていてもよい低級アルコキシ基、
ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルケニルオ
キシ基、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アル
キニルオキシ基又はニトロ基で置換されていてもよい）
を示す〕で表される化合物の水酸基の立体化学を反転す
ることを特徴とする、一般式 【化１７】 （式中のＲは前記の意味を有する）で表されるアゾキシ
化合物の製造法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5200163A JPH0733730A (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | アゾキシ化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5200163A JPH0733730A (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | アゾキシ化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0733730A true JPH0733730A (ja) | 1995-02-03 |
Family
ID=16419842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5200163A Pending JPH0733730A (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | アゾキシ化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0733730A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008214301A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Ｎ，ｎ，ｎ’，ｎ’−テトラメチルアゾジカルボキサミドの生成方法 |
-
1993
- 1993-07-21 JP JP5200163A patent/JPH0733730A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008214301A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Ｎ，ｎ，ｎ’，ｎ’−テトラメチルアゾジカルボキサミドの生成方法 |
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