JPH0734261B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH0734261B2 JPH0734261B2 JP61216616A JP21661686A JPH0734261B2 JP H0734261 B2 JPH0734261 B2 JP H0734261B2 JP 61216616 A JP61216616 A JP 61216616A JP 21661686 A JP21661686 A JP 21661686A JP H0734261 B2 JPH0734261 B2 JP H0734261B2
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- Japan
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- recording medium
- magnetic
- magnetic recording
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- xylylene
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、情報産業分野等に応用される高記録密度の磁
気記録媒体に関するものである。
気記録媒体に関するものである。
従来の技術 磁気ディスク、磁気テープ等に供せられる磁気記録媒体
の開発を目的として、従来γ−Fe2O3,Co含有γ−Fe2O3
またはCrO2等の強磁性粉末を有機バインダー中に分散し
て作製する塗布型磁気記録媒体に代わり、現在さらに高
密度化を目的として、非磁性基板上に直接強磁性金属薄
膜をメッキ法、スパッタリング法，真空蒸着法，イオン
プレーティング法等によって形成する金属薄膜型磁気記
録媒体の開発が活発である。
の開発を目的として、従来γ−Fe2O3,Co含有γ−Fe2O3
またはCrO2等の強磁性粉末を有機バインダー中に分散し
て作製する塗布型磁気記録媒体に代わり、現在さらに高
密度化を目的として、非磁性基板上に直接強磁性金属薄
膜をメッキ法、スパッタリング法，真空蒸着法，イオン
プレーティング法等によって形成する金属薄膜型磁気記
録媒体の開発が活発である。
しかしながら、前記の金属薄膜型磁気記録媒体は、信号
の記録再生の際、高速相対運動下で磁気ヘッド等との接
触により摩擦や摩耗によって不安定な走行性が生じ、摩
耗粉や破損が発生することによって長期の使用に耐えな
い。従って、磁気記録媒体は円滑な走行性と耐摩耗性が
使用環境条件下において持続することが実用化において
強く望まれている。
の記録再生の際、高速相対運動下で磁気ヘッド等との接
触により摩擦や摩耗によって不安定な走行性が生じ、摩
耗粉や破損が発生することによって長期の使用に耐えな
い。従って、磁気記録媒体は円滑な走行性と耐摩耗性が
使用環境条件下において持続することが実用化において
強く望まれている。
このため、従来磁性層またはその表面を処理することに
よって耐摩擦耐摩耗性の改良を行なうなど種々の改善が
なされており、例えば特定の活性基を有するフッ素系炭
化水素を保護膜として積層している事例がある（特開昭
58−29147号報）。
よって耐摩擦耐摩耗性の改良を行なうなど種々の改善が
なされており、例えば特定の活性基を有するフッ素系炭
化水素を保護膜として積層している事例がある（特開昭
58−29147号報）。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記の構成では確かに潤滑性にやや改良
が見られるものの、やがてはこれらが剥離したりあるい
は変質するなどの現象が見られるなど不十分な点を有し
ている。したがって、本発明はかかる点にかんがみ、磁
性層と潤滑層の両者に接着性が良く、かつ耐摩耗性にす
ぐれた下地層を形成することにより、磁気ヘッド等との
良好な走行性と耐久性にすぐれた磁気記録媒体を提供す
ることを目的としている。
が見られるものの、やがてはこれらが剥離したりあるい
は変質するなどの現象が見られるなど不十分な点を有し
ている。したがって、本発明はかかる点にかんがみ、磁
性層と潤滑層の両者に接着性が良く、かつ耐摩耗性にす
ぐれた下地層を形成することにより、磁気ヘッド等との
良好な走行性と耐久性にすぐれた磁気記録媒体を提供す
ることを目的としている。
問題点を解決するための手段 非磁性基板上に設けた磁性層の表面上にフェライト化合
物含有の下地層を形成し、さらにその上にｐ−キシリレ
ンまたはその誘導体の重合膜を潤滑層として積層して磁
気記録媒体を構成する。
物含有の下地層を形成し、さらにその上にｐ−キシリレ
ンまたはその誘導体の重合膜を潤滑層として積層して磁
気記録媒体を構成する。
作用 前記下地層の介在により、それ自身の耐摩耗性と接着力
が作用することにより、潤滑層の低摩擦性が持続するこ
とによって良好な走行性と耐久性にすぐれた磁気記録媒
体が得られる。
が作用することにより、潤滑層の低摩擦性が持続するこ
とによって良好な走行性と耐久性にすぐれた磁気記録媒
体が得られる。
このことはおそらく、下地層のフェライト化合物含有層
が磁性層表面と化学結合する一方、ｐ−キシリレンまた
はその誘導体の重合膜とも接着性が良いため対ブロッキ
ング性の向上と潤滑性の相乗効果が寄与したものと考え
られる。
が磁性層表面と化学結合する一方、ｐ−キシリレンまた
はその誘導体の重合膜とも接着性が良いため対ブロッキ
ング性の向上と潤滑性の相乗効果が寄与したものと考え
られる。
実施例 図は、本発明の磁気記録媒体の断面図である。図におい
て１は非磁性基板、２は磁性層、３はフェライト化合物
含有の下地層、４はｐ−キシリレンまたはその誘導体の
重合膜からなる潤滑層である。
て１は非磁性基板、２は磁性層、３はフェライト化合物
含有の下地層、４はｐ−キシリレンまたはその誘導体の
重合膜からなる潤滑層である。
本発明の磁気記録媒体に使用し得る非磁性基板１として
は、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリ酢酸セルロース、およびポリ
塩化ビニル等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラス、
磁器等のセラミック材料等周知の材料からなるフィル
ム、板等がある。
は、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカ
ーボネート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリ酢酸セルロース、およびポリ
塩化ビニル等の高分子材料、非磁性金属材料、ガラス、
磁器等のセラミック材料等周知の材料からなるフィル
ム、板等がある。
また磁性層２を形成する強磁性材料としては、Fe,Co,Ni
から選ばれる少なくとも１種の金属、またはこれらとM
n,Cr,Ti,P,V,Sm,Bi等またはこれらの酸化物を組み合わ
せた合金があり、中でもCo,Cr,Niから選ばれる少なくと
も２種の元素で構成される磁性層は高い磁気異方性エネ
ルギーを有していることや耐食性などで好ましく、これ
らは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、メッキ法等の方法で形成させることができる。
またこれらの磁性層２の表面部を、クロム酸や硝酸など
の酸化剤で処理する通常の湿式法または磁性層形成時に
酸素導入による乾式法で磁気特性に影響を与えない範囲
で酸化すると、潤滑層との接着性や耐摩耗性の改善がみ
られより好ましい。
から選ばれる少なくとも１種の金属、またはこれらとM
n,Cr,Ti,P,V,Sm,Bi等またはこれらの酸化物を組み合わ
せた合金があり、中でもCo,Cr,Niから選ばれる少なくと
も２種の元素で構成される磁性層は高い磁気異方性エネ
ルギーを有していることや耐食性などで好ましく、これ
らは真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法、メッキ法等の方法で形成させることができる。
またこれらの磁性層２の表面部を、クロム酸や硝酸など
の酸化剤で処理する通常の湿式法または磁性層形成時に
酸素導入による乾式法で磁気特性に影響を与えない範囲
で酸化すると、潤滑層との接着性や耐摩耗性の改善がみ
られより好ましい。
本発明において、下地層３に用いるフェライト化合物含
有層は、Feの酸化物またはこれに適量の割合でMn,Zn,C
u,Co,Ni,Crのそれぞれが単独または複数混合された複合
酸化物であり、目的成分のターゲットを用いることによ
り、スパッタリングで容易に形成できる。
有層は、Feの酸化物またはこれに適量の割合でMn,Zn,C
u,Co,Ni,Crのそれぞれが単独または複数混合された複合
酸化物であり、目的成分のターゲットを用いることによ
り、スパッタリングで容易に形成できる。
これらの膜は、ち密な強度の大きい被膜のため耐摩耗性
にすぐれるものと考えられる。
にすぐれるものと考えられる。
一方、潤滑層４はｐ−キシリレンまたはその誘導体の重
合膜であり、下記の一般式 で示され、Ｒは−CH3,−C2H5,−C3H7などのアルキル
基、−CH2OH,−C2H5OHなどのヒドロキシアルキル基、−
CH2OCH3,−CH2OC2H5,−C2H5OCH3などのアルコキシアル
キル基、−OCH3,−OC2H5などのアルコキシ基、−COOC
H3,−COOC2H5などのカルボアルコキシ基、カルボキシル
基、水酸基、−CH2NH2,−NH2,−C2H5NH2などのアミノ
基、シアノ基、ニトロ基、F,Cl,Br,Iのハロゲン基、ア
リール基またはアルケニル基であり、それぞれを単独ま
たは複数個有している重合膜である。ｎは10〜10000で
あり、好ましくは4000以上である。そしてこれらは気相
熱分解法によって容易に室温で成膜されるため、記録媒
体に損傷を与えることなく所望の膜厚に形成される。
合膜であり、下記の一般式 で示され、Ｒは−CH3,−C2H5,−C3H7などのアルキル
基、−CH2OH,−C2H5OHなどのヒドロキシアルキル基、−
CH2OCH3,−CH2OC2H5,−C2H5OCH3などのアルコキシアル
キル基、−OCH3,−OC2H5などのアルコキシ基、−COOC
H3,−COOC2H5などのカルボアルコキシ基、カルボキシル
基、水酸基、−CH2NH2,−NH2,−C2H5NH2などのアミノ
基、シアノ基、ニトロ基、F,Cl,Br,Iのハロゲン基、ア
リール基またはアルケニル基であり、それぞれを単独ま
たは複数個有している重合膜である。ｎは10〜10000で
あり、好ましくは4000以上である。そしてこれらは気相
熱分解法によって容易に室温で成膜されるため、記録媒
体に損傷を与えることなく所望の膜厚に形成される。
これらの重合膜は引張り強度や分子凝集エネルギーが高
いことから物性的にも良く、また化学的安定性や耐環境
性にも良いことからすぐれた特性が得られるものと思わ
れる。中でもｐ−キシリレン、クロロまたはジクロロｐ
−キシリレンの重合膜は金属酸化物との接着性が良く、
それ自身のヤング率が高いためより好ましい。
いことから物性的にも良く、また化学的安定性や耐環境
性にも良いことからすぐれた特性が得られるものと思わ
れる。中でもｐ−キシリレン、クロロまたはジクロロｐ
−キシリレンの重合膜は金属酸化物との接着性が良く、
それ自身のヤング率が高いためより好ましい。
以上述べたように下地層、潤滑層を順次磁性層上に形成
することにより、走行性と耐摩耗性にすぐれた記録媒体
を得ることができる。そしてこれらの厚みは薄ければよ
いが、製膜法に起因する限界から塗膜性、膜の均一性を
考えると自ずと制限がある。したがって厚みの上限はス
ペーシングロスによる記録出力の低下に支障をきたさな
い範囲において500A以下が望ましい。
することにより、走行性と耐摩耗性にすぐれた記録媒体
を得ることができる。そしてこれらの厚みは薄ければよ
いが、製膜法に起因する限界から塗膜性、膜の均一性を
考えると自ずと制限がある。したがって厚みの上限はス
ペーシングロスによる記録出力の低下に支障をきたさな
い範囲において500A以下が望ましい。
以下、実施例で詳述する。
実施例１ 膜厚12μｍのポリイミドフィルム基板上に、真空連続蒸
着法でCo−Cr（元素比Co:Cr＝8:2）で膜厚13000A（AES
分析）の磁性層を作製したサンプルとした（サンプルN
o.1）。
着法でCo−Cr（元素比Co:Cr＝8:2）で膜厚13000A（AES
分析）の磁性層を作製したサンプルとした（サンプルN
o.1）。
これをさらに磁性層上に直径50mm,厚み6mmのFeの酸化物
をターゲットにし、周波数13.56MHz,200Wでベルジャー
内アルゴンガス圧力（酸素ガス20％v/v含む）が10-2Tor
rでフェライトの下地層を150A形成した。そしてさらに
これに気相熱分解法によってｐ−キシリレンダイマーを
0.5Torr,60℃の条件で熱分解し、25℃,0.1Torr下でポリ
（ｐ−キシリレン）膜をおよそ100A形成し潤滑層とした
（サンプルNo.2）。
をターゲットにし、周波数13.56MHz,200Wでベルジャー
内アルゴンガス圧力（酸素ガス20％v/v含む）が10-2Tor
rでフェライトの下地層を150A形成した。そしてさらに
これに気相熱分解法によってｐ−キシリレンダイマーを
0.5Torr,60℃の条件で熱分解し、25℃,0.1Torr下でポリ
（ｐ−キシリレン）膜をおよそ100A形成し潤滑層とした
（サンプルNo.2）。
そして比較のためC7F15COOHをトリクロロトリフロロエ
タンで100倍（重量比）希釈した溶液をスピンコートし
（膜厚300A）保護層を形成し、これをサンプルNo.3とし
た。
タンで100倍（重量比）希釈した溶液をスピンコートし
（膜厚300A）保護層を形成し、これをサンプルNo.3とし
た。
以上のサンプルを、動摩擦係数の測定で比較評価し、そ
の結果を表１に示した。
の結果を表１に示した。
なお評価装置は、往復動型の動摩擦係数であり、ヘッド
にφ6.3mmの鋼球（SUJ2）を用い、荷重（Ｐ）＝10gf,走
行速度（ｖ）＝5.5mm/secで試験した。
にφ6.3mmの鋼球（SUJ2）を用い、荷重（Ｐ）＝10gf,走
行速度（ｖ）＝5.5mm/secで試験した。
表１によると、未処理のサンプルNo.1は、初期からμ値
が大きく、走行途中約10Passで傷が明確になりμｋ値の
変動が生じ始め、やがてはμｋ＝0.55と上昇して金属の
摩耗粉が激しく透過傷が見られた。そして、サンプルN
o.3は初期の走行性こそ0.11で小さく改良されるもの、
走行が継続するにつれ傷が発生し、300Passではμｋ値
が0.38に上昇するなど良くなかった。
が大きく、走行途中約10Passで傷が明確になりμｋ値の
変動が生じ始め、やがてはμｋ＝0.55と上昇して金属の
摩耗粉が激しく透過傷が見られた。そして、サンプルN
o.3は初期の走行性こそ0.11で小さく改良されるもの、
走行が継続するにつれ傷が発生し、300Passではμｋ値
が0.38に上昇するなど良くなかった。
しかしながら、サンプルNo.2では、初期からμｋ値が小
さく、300Pass後においても0.21でほとんど変化なく、
かつ表面観察においても傷がほとんどみられないなど良
好な結果であった。
さく、300Pass後においても0.21でほとんど変化なく、
かつ表面観察においても傷がほとんどみられないなど良
好な結果であった。
従って、磁性層上にフェライト化合物含有の下地層とポ
リ（ｐ−キシリレン）を潤滑層を順次積層した記録媒体
は、走行性の良いかつ耐摩耗性にすぐれた磁気記録媒体
であることが分かる。
リ（ｐ−キシリレン）を潤滑層を順次積層した記録媒体
は、走行性の良いかつ耐摩耗性にすぐれた磁気記録媒体
であることが分かる。
実施例２ 膜厚30μｍのポリイミドフィルム基板上に実施例１と同
様の金属組成で、膜厚1500Aのサンプルを作成した。こ
の際、磁性層の蒸着中、酸素を導入し75Aの酸化被膜層
を形成した（サンプルNo.4）。
様の金属組成で、膜厚1500Aのサンプルを作成した。こ
の際、磁性層の蒸着中、酸素を導入し75Aの酸化被膜層
を形成した（サンプルNo.4）。
これにそれぞれFe−Ni（重量比80:20）,Fe−Cr（88:12w
t％）のターゲットで実施例１と同様に作成した。スパ
ッタリングの時、酸素ガスを同時に導入し（25％ v/
v）、厚み130A,220Aの下地層を形成した。そしてさらに
その上にポリ（ジクロ−ｐ−キシリレン）を100A積層し
たサンプルを作製し、これらをサンプルNo.5,6とした。
t％）のターゲットで実施例１と同様に作成した。スパ
ッタリングの時、酸素ガスを同時に導入し（25％ v/
v）、厚み130A,220Aの下地層を形成した。そしてさらに
その上にポリ（ジクロ−ｐ−キシリレン）を100A積層し
たサンプルを作製し、これらをサンプルNo.5,6とした。
そしてこれらを表２に示す試験条件で動摩擦係数を測定
した。
した。
以上のことから、これらの中で、サンプルNo.4は実施例
１と同様に300Pass後にはμｋ値が上昇し摩擦粉も多く
発生し良くなかった。これに対し、サンプルNo.5,6はμ
ｋも0.20,0.18と小さく、走行後においても摩耗粉が発
生せず耐摩擦、耐摩耗性にもすぐれていることが分かっ
た。
１と同様に300Pass後にはμｋ値が上昇し摩擦粉も多く
発生し良くなかった。これに対し、サンプルNo.5,6はμ
ｋも0.20,0.18と小さく、走行後においても摩耗粉が発
生せず耐摩擦、耐摩耗性にもすぐれていることが分かっ
た。
このことからフェライト化合物を含有した下地層とポリ
（ジクロロ−ｐ−キシリレン）のようなｐ−キシリレン
の誘導体から成膜される重合膜を潤滑層とした試料で
は、耐摩擦、耐摩耗性にすぐれた記録媒体として実現で
き、また磁性層の表面部を酸化処理した場合でも同様の
効果が得られることが明らかである。
（ジクロロ−ｐ−キシリレン）のようなｐ−キシリレン
の誘導体から成膜される重合膜を潤滑層とした試料で
は、耐摩擦、耐摩耗性にすぐれた記録媒体として実現で
き、また磁性層の表面部を酸化処理した場合でも同様の
効果が得られることが明らかである。
実施例３ 表３に示す構成のサンプルをピン−ディスク型の試験機
で評価した。この時、サンプルNo.9,10においては磁性
層を表面酸化したものであり、下地層、潤滑層はそれぞ
れに示す物質を前記実施例1,2と同様にスパッタリング
した後蒸着し、それぞれ組成の下にその時の膜厚を
（ ）であらわしている。また下地層の組成はほかの元
素がFeに対して、実施例1,2と同様の混合比を有したタ
ーゲットを用い、例えばサンプルNo.7ではFe,Znの複合
酸化物が形成されていることを示す。潤滑層ではポリ−
ｐ−キシリレン重合膜の置換基Ｒのみを記載している。
そして試験条件は、φ6mmフェライトヘッド（幅500μ
ｍ）,P＝5gf,v＝3.75m/sで、60min後のμｋ値と表面観
察を各サンプルの比較をおこなった。
で評価した。この時、サンプルNo.9,10においては磁性
層を表面酸化したものであり、下地層、潤滑層はそれぞ
れに示す物質を前記実施例1,2と同様にスパッタリング
した後蒸着し、それぞれ組成の下にその時の膜厚を
（ ）であらわしている。また下地層の組成はほかの元
素がFeに対して、実施例1,2と同様の混合比を有したタ
ーゲットを用い、例えばサンプルNo.7ではFe,Znの複合
酸化物が形成されていることを示す。潤滑層ではポリ−
ｐ−キシリレン重合膜の置換基Ｒのみを記載している。
そして試験条件は、φ6mmフェライトヘッド（幅500μ
ｍ）,P＝5gf,v＝3.75m/sで、60min後のμｋ値と表面観
察を各サンプルの比較をおこなった。
表３によるとサンプルNo.7からNo.11のいずれもμｋ値
が0.2以下と小さく、また表面観察においても走行傷が
ほとんどみられないなどすぐれた特性を有している。そ
してこのことが膜厚500A以内で達せられることから、ス
ペーシングロスに影響を与えない範囲で有効であり、実
用化に十分可能な磁気記録媒体であると言える。
が0.2以下と小さく、また表面観察においても走行傷が
ほとんどみられないなどすぐれた特性を有している。そ
してこのことが膜厚500A以内で達せられることから、ス
ペーシングロスに影響を与えない範囲で有効であり、実
用化に十分可能な磁気記録媒体であると言える。
発明の効果 本発明によれば、耐摩耗性が改善され、かつ走行安定性
の良いすぐれた磁気記録媒体が得られる。
の良いすぐれた磁気記録媒体が得られる。
図は本発明の一実施例における磁気記録媒体の断面図で
ある。 １……非磁性基板、２……磁性層、３……下地層、４…
…潤滑層。
ある。 １……非磁性基板、２……磁性層、３……下地層、４…
…潤滑層。
Claims (3)
- 【請求項１】非磁性基板上に設けた磁性層表面上に、フ
ェライト化合物含有の下地層を形成し、さらにその上面
にｐ−キシリレンまたはその誘導体の重合膜を潤滑層と
して積層したことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】前記潤滑層がｐ−キシリレン、クロロまた
はジクロロｐ−キシリレンの重合膜である特許請求の範
囲第１項記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】前記下地層および潤滑層の合計膜厚が500A
以下である特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61216616A JPH0734261B2 (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61216616A JPH0734261B2 (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6370921A JPS6370921A (ja) | 1988-03-31 |
| JPH0734261B2 true JPH0734261B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=16691221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61216616A Expired - Lifetime JPH0734261B2 (ja) | 1986-09-12 | 1986-09-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0734261B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56153534A (en) * | 1980-04-24 | 1981-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1986
- 1986-09-12 JP JP61216616A patent/JPH0734261B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6370921A (ja) | 1988-03-31 |
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