JPH0736418B2 - ウエーハキャリア - Google Patents
ウエーハキャリアInfo
- Publication number
- JPH0736418B2 JPH0736418B2 JP61115391A JP11539186A JPH0736418B2 JP H0736418 B2 JPH0736418 B2 JP H0736418B2 JP 61115391 A JP61115391 A JP 61115391A JP 11539186 A JP11539186 A JP 11539186A JP H0736418 B2 JPH0736418 B2 JP H0736418B2
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- JP
- Japan
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- wafer
- wafer carrier
- air
- fan
- dust
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0402—Apparatus for fluid treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G1/00—Storing articles, individually or in orderly arrangement, in warehouses or magazines
- B65G1/02—Storage devices
- B65G1/04—Storage devices mechanical
- B65G1/0471—Storage devices mechanical with access from beneath
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/10—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP]
- H10P72/14—Vertical carrier comprising wall type elements whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising sidewalls
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/14—Wafer cassette transporting
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S55/00—Gas separation
- Y10S55/18—Work bench
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S55/00—Gas separation
- Y10S55/29—Air curtains
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 二次電池を内蔵し運搬中はこの電池によりファンを廻し
て送気し、特定位置に置いた時は送気と同時にこの電池
に充電することの出来る空気清浄器を備えたウエーハキ
ャリアで、ウエーハ表面への塵埃付着を防止し、清浄に
保つ。
て送気し、特定位置に置いた時は送気と同時にこの電池
に充電することの出来る空気清浄器を備えたウエーハキ
ャリアで、ウエーハ表面への塵埃付着を防止し、清浄に
保つ。
本発明はウエーハキャリアの構造に関する。
半導体ウエーハの表面を常に清浄に保つことは重要なこ
とで、そのためにウエーハプロセスは全て、塵埃を少な
くしたクリーンルームの内部やクリーンベンチの内部で
行われている。特に半導体装置の集積度が上がるに従っ
て、このウエーハ表面への塵埃付着防止はますます重要
になって来ている。
とで、そのためにウエーハプロセスは全て、塵埃を少な
くしたクリーンルームの内部やクリーンベンチの内部で
行われている。特に半導体装置の集積度が上がるに従っ
て、このウエーハ表面への塵埃付着防止はますます重要
になって来ている。
各ウエーハ処理工程間におけるウエーハの運搬および保
管は通常ウエーハキャリアにウエーハを収納して行われ
るが、この時においてもウエーハへの塵埃付着防止に細
心の注意を要することは勿論である。
管は通常ウエーハキャリアにウエーハを収納して行われ
るが、この時においてもウエーハへの塵埃付着防止に細
心の注意を要することは勿論である。
従来のウエーハキャリアは収納箱の両側が開放になって
おり、運搬および保管は多くの場合、このウエーハキャ
リアを密閉式のボックスの中に収容して行う。しかし前
記ボックスへの出し入れ操作は人手によって行われ、又
時にはウエーハキャリアのままで運搬が行われたりす
る。この場合は最も大きい“ゴミ”の発生源たる人間が
近くにあるため、開放口より塵埃が舞い込んでウエーハ
を汚す危険性が多分にある。
おり、運搬および保管は多くの場合、このウエーハキャ
リアを密閉式のボックスの中に収容して行う。しかし前
記ボックスへの出し入れ操作は人手によって行われ、又
時にはウエーハキャリアのままで運搬が行われたりす
る。この場合は最も大きい“ゴミ”の発生源たる人間が
近くにあるため、開放口より塵埃が舞い込んでウエーハ
を汚す危険性が多分にある。
本発明はウエーハ収納部に常に清浄な空気を流し、塵埃
の侵入を防止し得る簡易なウエーハキャリアを提供しよ
うとするものである。
の侵入を防止し得る簡易なウエーハキャリアを提供しよ
うとするものである。
第3図は従来例におけるウエーハキャリアの構造斜視図
である。
である。
図において、1は側板であり、これに横方向に配列した
多数の溝2を設け、この溝2が対向するように側板1を
左右に置き、これを上板3および底板4(底板4はこの
図では隠れて見えない)により支える構造になってい
て、前方と後方は何もなく開放され開口になっている。
多数の溝2を設け、この溝2が対向するように側板1を
左右に置き、これを上板3および底板4(底板4はこの
図では隠れて見えない)により支える構造になってい
て、前方と後方は何もなく開放され開口になっている。
この溝2の深さは挿入されたウエーハ5が落ちない程度
となっていて、ウエーハ5は開放された前方または後方
の開口から、溝2に嵌めるように挿入する。ウエーハ5
の取り出しもこの前後の開口より行う。
となっていて、ウエーハ5は開放された前方または後方
の開口から、溝2に嵌めるように挿入する。ウエーハ5
の取り出しもこの前後の開口より行う。
このように従来のウエーハキャリア6は全く開放的な構
造であるため、クリーンルームの内においても、このウ
エーハキャリア6を図示しないボックスに入れてから運
搬および保管を行うことをたてまえとしている。
造であるため、クリーンルームの内においても、このウ
エーハキャリア6を図示しないボックスに入れてから運
搬および保管を行うことをたてまえとしている。
然しながらウエーハ5をウエーハキャリア6に出し入れ
すること、およびウエーハ収納のウエーハキャリア6を
ボックスに出し入れすることは、多くの場合、人手によ
って行われる。この時、クリーンルームの内では最大の
ゴミの発生源である人体がウエーハキャリア6の近くに
あることは、ウエーハキャリア6に収納したウエーハ5
に巻き込まれた塵埃が付着するので極めて好ましくない
ことである。
すること、およびウエーハ収納のウエーハキャリア6を
ボックスに出し入れすることは、多くの場合、人手によ
って行われる。この時、クリーンルームの内では最大の
ゴミの発生源である人体がウエーハキャリア6の近くに
あることは、ウエーハキャリア6に収納したウエーハ5
に巻き込まれた塵埃が付着するので極めて好ましくない
ことである。
また、自動化されていない限り、運搬、保管が常にウエ
ーハキャリアをボックスに収納して行っているとの保証
もない。
ーハキャリアをボックスに収納して行っているとの保証
もない。
従って、従来例の前後面開放型のウエーハキャリアは塵
埃の侵入を許すもので、この点を改善した取扱い簡易な
装置が望まれている。
埃の侵入を許すもので、この点を改善した取扱い簡易な
装置が望まれている。
従来のウエーハキャリアは内部に塵埃が容易に侵入する
構造であった。
構造であった。
上記問題点の解決は、複数のウエーハを水平かつ平行か
つ平行に収納するウエーハ収納部と、電源と、該電源に
より作動するファンと、フィルタとを備え、前記ウエー
ハ収納部は前面及び底面において開口しており、前記フ
ァンが外気を取り込んでこれを前記フィルタを介してウ
エーハ収納部の内部へ常時送風し、収納した前記ウエー
ハ上を通過した後、前記ウエーハ収納部の前面から排気
するように構成したことを特徴とするウエーハキャリア
により達成される。
つ平行に収納するウエーハ収納部と、電源と、該電源に
より作動するファンと、フィルタとを備え、前記ウエー
ハ収納部は前面及び底面において開口しており、前記フ
ァンが外気を取り込んでこれを前記フィルタを介してウ
エーハ収納部の内部へ常時送風し、収納した前記ウエー
ハ上を通過した後、前記ウエーハ収納部の前面から排気
するように構成したことを特徴とするウエーハキャリア
により達成される。
二次電池を内蔵し運搬中はこの二次電池によりファンを
動かして送気し、特定位置に置いた時はこの電池に充電
しながら送気を行うことが出来る空気清浄器を備えたウ
エーハキャリアで、ウエーハ表面への塵埃付着を防止
し、清浄に保つ。
動かして送気し、特定位置に置いた時はこの電池に充電
しながら送気を行うことが出来る空気清浄器を備えたウ
エーハキャリアで、ウエーハ表面への塵埃付着を防止
し、清浄に保つ。
第1図(a)、(b)は本発明の実施例(1)における
ウエーハキャリアの構造図で、(a)は斜視図、(b)
は側断面図である。
ウエーハキャリアの構造図で、(a)は斜視図、(b)
は側断面図である。
これら図において、7はウエーハ収納部であり、これら
の後方開口部に接して空気清浄器8を有する構造となっ
ている。
の後方開口部に接して空気清浄器8を有する構造となっ
ている。
ウエーハ収納部7は全く従来のウエーハキャリアと全く
同じ構造であり、又空気清浄器8は上方に空気取入口9
を有し、この空気取入口9の下にはファン10があり、こ
れにより空気を吸入し下方のチェンバー11に送気する。
このチェンバー11の前部にはフィルター12が設けられ、
このフィルター12を通して濾過された清浄な空気がウエ
ーハ収納部7の後方開口部に送り出される。
同じ構造であり、又空気清浄器8は上方に空気取入口9
を有し、この空気取入口9の下にはファン10があり、こ
れにより空気を吸入し下方のチェンバー11に送気する。
このチェンバー11の前部にはフィルター12が設けられ、
このフィルター12を通して濾過された清浄な空気がウエ
ーハ収納部7の後方開口部に送り出される。
更にファン10の両側には二次電池13としてNiCd電池を設
け、また空気清浄器8の外側下方に二次電池13に充電す
るための端子14を有する。これによりウエーハキャリア
6を運搬している場合等には二次電池13によりファン10
を作動させ、ウエーハキャリア6を定位値に置いて保管
したり、あるいは装置にセットして加工作業に使用する
場合には、二次電池13に充電しながらファン10を作動さ
せる。
け、また空気清浄器8の外側下方に二次電池13に充電す
るための端子14を有する。これによりウエーハキャリア
6を運搬している場合等には二次電池13によりファン10
を作動させ、ウエーハキャリア6を定位値に置いて保管
したり、あるいは装置にセットして加工作業に使用する
場合には、二次電池13に充電しながらファン10を作動さ
せる。
第2図(a)、(b)は本発明の実施例(2)における
ウエーハキャリアの構造図で、(a)は斜視図、(b)
は側断面図である。
ウエーハキャリアの構造図で、(a)は斜視図、(b)
は側断面図である。
これは空気清浄器8をウエーハ収納部7の上部に取りつ
けた型のもので、後側板15をもつためフィルター12を通
過した空気流は、ウエーハ収納部7の前方および下方に
向かう空気流となり、ウエーハ収納部内において圧力の
低いウエーハ間の部分を流れ外部に放出される。よっ
て、このウエーハキャリアにおいても塵埃の侵入の防止
および表面の浄化がなされ、機能的にはウエーハ収納部
7を後部に取りつけた実施例(1)の型のものと同様な
効果が得られる。
けた型のもので、後側板15をもつためフィルター12を通
過した空気流は、ウエーハ収納部7の前方および下方に
向かう空気流となり、ウエーハ収納部内において圧力の
低いウエーハ間の部分を流れ外部に放出される。よっ
て、このウエーハキャリアにおいても塵埃の侵入の防止
および表面の浄化がなされ、機能的にはウエーハ収納部
7を後部に取りつけた実施例(1)の型のものと同様な
効果が得られる。
本発明における空気清浄器付きウエーハキャリアの成績
は次の如くであった。
は次の如くであった。
周囲雰囲気としては、クラス10万以上の一般事務所にお
いて、フィルター12にHEPAフィルターを使用し、ウエー
ハ収納部7における吹き出し風速0.2〜0.5m/secで、0.1
μm以上の粒子数が数ケ/cftの結果を得ることが出来
た。
いて、フィルター12にHEPAフィルターを使用し、ウエー
ハ収納部7における吹き出し風速0.2〜0.5m/secで、0.1
μm以上の粒子数が数ケ/cftの結果を得ることが出来
た。
空気清浄器付きウエーハキャリアは塵埃の侵入を防止
し、またウエーハから発生するガスがあるときはこれを
除去することが出来る。
し、またウエーハから発生するガスがあるときはこれを
除去することが出来る。
例えばドライエッチング直後は生成ガスが付着した状態
でウエーハが出て来ることがある。これを従来は密閉し
たボックスに入れて保管、運搬していた。本発明による
と、これも改善することが出来る。
でウエーハが出て来ることがある。これを従来は密閉し
たボックスに入れて保管、運搬していた。本発明による
と、これも改善することが出来る。
【図面の簡単な説明】 第1図(a)、(b)は本発明の実施例(1)における
ウエーハキャリアの構造図、第2図(a)、(b)は本
発明の実施例(2)におけるウエーキャリアの構造図、 第3図は従来例におけるウエーハキャリア構造斜視図で
ある。 図において、1は側板、2は溝、3は上板、4は底板、
5はウエーハ、6はウエーハキャリア、7はウエーハ収
納部、8は空気清浄器、9は空気取入口、10はファン、
11はチェンバー、12はフィルター、13は二次電池(NiCd
電池)、14は端子、15は後側板 である。
ウエーハキャリアの構造図、第2図(a)、(b)は本
発明の実施例(2)におけるウエーキャリアの構造図、 第3図は従来例におけるウエーハキャリア構造斜視図で
ある。 図において、1は側板、2は溝、3は上板、4は底板、
5はウエーハ、6はウエーハキャリア、7はウエーハ収
納部、8は空気清浄器、9は空気取入口、10はファン、
11はチェンバー、12はフィルター、13は二次電池(NiCd
電池)、14は端子、15は後側板 である。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−20867(JP,A) 特開 昭55−134239(JP,A) 特開 昭56−53956(JP,A) 特開 昭59−186337(JP,A) 実開 昭60−63940(JP,U)
Claims (1)
- 【請求項1】複数のウエーハ(5)を水平かつ平行に収
納するウエーハ収納部(7)と、電源(13)と、該電源
(13)により作動するファン(10)と、フィルタ(12)
とを備え、 前記ウエーハ収納部(7)は前面及び底面において開口
しており、 前記ファン(10)が外気を取り込んでこれを前記フィル
タ(12)を介してウエーハ収納部(7)の内部へ常時送
風し、収納した前記ウエーハ(5)上を通過した後、前
記ウエーハ収納部(7)の前面から排気するように構成
したことを特徴とするウエーハキャリア。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61115391A JPH0736418B2 (ja) | 1986-05-19 | 1986-05-19 | ウエーハキャリア |
| US07/048,350 US4770680A (en) | 1986-05-19 | 1987-05-11 | Wafer carrier for a semiconductor device fabrication, having means for sending clean air stream to the wafers stored therein |
| EP87107139A EP0246587B1 (en) | 1986-05-19 | 1987-05-18 | Wafer carrier for semiconductor device fabrication. |
| KR8704880A KR900004050B1 (en) | 1986-05-19 | 1987-05-18 | Water carrier for semiconductor device fabrication |
| DE8787107139T DE3767362D1 (de) | 1986-05-19 | 1987-05-18 | Wafer-traeger fuer halbleiterbauteilerzeugung. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61115391A JPH0736418B2 (ja) | 1986-05-19 | 1986-05-19 | ウエーハキャリア |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62269334A JPS62269334A (ja) | 1987-11-21 |
| JPH0736418B2 true JPH0736418B2 (ja) | 1995-04-19 |
Family
ID=14661386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61115391A Expired - Lifetime JPH0736418B2 (ja) | 1986-05-19 | 1986-05-19 | ウエーハキャリア |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4770680A (ja) |
| EP (1) | EP0246587B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0736418B2 (ja) |
| KR (1) | KR900004050B1 (ja) |
| DE (1) | DE3767362D1 (ja) |
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| EP0319145A3 (en) * | 1987-12-01 | 1991-05-29 | Varian Associates, Inc. | Horizontal laminar air flow work station |
| JPH01240291A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-25 | Texas Instr Japan Ltd | ロボット |
| JPH0451544A (ja) * | 1990-06-19 | 1992-02-20 | Fujitsu Ltd | ウエハ収納器 |
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| US5713711A (en) * | 1995-01-17 | 1998-02-03 | Bye/Oasis | Multiple interface door for wafer storage and handling container |
| US5833726A (en) * | 1995-05-26 | 1998-11-10 | Extraction System, Inc. | Storing substrates between process steps within a processing facility |
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| WO1999028968A1 (fr) * | 1997-12-02 | 1999-06-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Preservation de la proprete des substrats et boite de rangement de substrats |
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