JPH0737311Y2 - 処理装置の気泡発生防止装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 《産業上の利用分野》 本考案は、液晶表示素子に使用するガラス基板やシリコ
ンウエハー、セラミックチップ（以下、基板という）等
を洗剤を使用して洗浄する洗浄ラインや現像液を基板に
あびせる（シャワーする）現像ライン等の処理装置の気
泡発生防止装置に関する。

《従来の技術》 従来、例えば液晶表示素子には基板（ガラス基板）が使
用されており、この基板にゴミ、ケバなどの不純物が付
着していると、製造工程のすべてにおいて、予期しない
トラブル（例えば液晶分子の配向むら、シール不良やセ
グメント電極とコモン電極間の短絡等）の原因となる。

このため従来では液晶素子の製造工程の最初において例
えば第３図に示すような洗浄ラインを使用して基板の洗
浄を行なっている。

すなわち、矢印ａ方向よりラインへ搬入されたガラス基
板は、まずローダｂによりシャワー室ｃへ搬入されて基
板に処理液（洗浄液）がかけられ、次にブラシ洗浄室ｄ
でブラシにより洗浄された後、液切室ｅで基板に付着し
た処理液の液切りが、例えば冷風等を利用して行なわれ
る。

その後、ジェット洗浄室ｆで純水等のジェット流により
洗浄され、さらにシャワー室ｇ、超音波洗浄室ｈを経て
乾燥室ｉで乾燥された後、アンローダｊにより乾燥室ｉ
より搬出されるようになっている。

上記のような洗浄ラインでは、シャワー室ｃやブラシ洗
浄室ｄなどに第４図に示すような処理装置Ｂが使用され
ている。この処理装置は底部に排出口ｍを有する処理槽
ｋとタンクｎから構成されている。前記処理槽ｋ（ブラ
シ洗浄室の場合は、回転ブラシが追加される）は、ポン
プｌより供給された処理液を基板ｏにノズルを介して上
下方向（必要に応じて一方向のみの場合もある）より吹
きつけることにより基板ｏを洗浄している。

また、洗浄の終った処理液は、前記処理槽ｋの底部に設
けられた排出口ｍよりタンクｎ内へ落下して回収された
後、再びポンプｌにより処理槽ｋ内へ循環されるように
なっている。

《考案が解決しようとする課題》 上記従来の洗浄ラインの処理装置Ｂの処理槽ｋでは、洗
浄の終った処理液が排出口ｍよりタンクｎ内へ落下する
際、空気を巻き込んで処理液中に気泡ｐが発生し、この
気泡ｐが処理液と共にポンプｌにより処理槽ｋへと循環
されたり、タンクｎ内で発生した気泡ｐがあふれて処理
槽ｋまで到達するため、洗浄むらが生じて基板ｏの不良
品発生の原因となったり、ポンプｌの故障などの原因と
なる。

本考案は、上記不具合を改善するためになされたもの
で、処理槽内で気泡が発生するのを防止する処理装置の
気泡発生防止装置を提供することを目的とするものであ
る。

《課題を解決するための手段》 本考案は、上記目的を達成するために、処理槽と、この
処理槽の底部に設けられた排出口と、前記処理槽の下方
に設けられ前記排出口からの処理液を回収するタンクか
らなる処理装置において、前記排出口内に螺旋板を設け
た構成にしてある。

《作用》 かかる構成にすることにより、基板の洗浄を終えた処理
液が処理槽より排出口を経てタンク内へ回収される際、
処理液中に空気が巻き込まれることが少なくなるため、
処理液中に気泡が発生するのを最小限に防止することが
できる。

《実施例》 以下、本考案の実施例を第１図及び第２図に示す図面を
参照して詳述する。

第１図は洗浄ラインのシャワー室やブラシ洗浄室、現像
ラインのシャワー室などの処理装置Ａの断面図を示す。
上記処理装置Ａは、処理槽１と、この処理槽１の底部に
設けられた排出口７と、この排出口７からの処理液を回
収するタンク８と、前記排出口７の内に設けられた螺旋
板13等からなる気泡発生防止装置10とから構成されてい
る。

前記処理槽１は上面が開口し、この開口部は基板面に対
して傾斜するように構成されていて、上記開口部は開閉
自在な蓋体２により閉鎖されている。

また処理槽１内には洗浄すべき基板３を搬送する搬送装
置４が設けられていて、この搬送装置４の上方及び下方
にシャワーノズル５（必要に応じてどちらか一方の場合
もある）が設置されている。上記シャワーノズル５は処
理槽１の外側に設けられたポンプ６に接続されていて、
このポンプ６より供給された処理液は、シャワーノズル
５より搬送装置４上の基板３に上下方向から噴出され、
基板３を洗浄するようになっている。

一方、基板３の洗浄を終えた処理液は、処理槽１の底部
に設けられた排出口７に集められて、この排出口７より
処理槽１の下方に設置されたタンク８内へ落下するよう
になっている。

上記排出口７は筒状に形成されていて、下端はタンク８
の底部近傍に達していると共に、排出口７内に気泡発生
防止装置10が設けられている。この気泡発生防止装置10
は排出口７の中心に位置し、かつ上下端が排出口７の上
端及び下端にブラケット11により固定された芯棒12と、
この芯棒12に螺旋状に設けられた、処理液の落下衝撃を
緩和する手段としての螺旋板13より構成され、螺旋板13
の外周部は排出口７の内周面に近接または接している。

そして上記気泡発生防止装置10の螺旋板13を経てタンク
８内へ落下回収された処理液は再びポンプ６により処理
槽１内へ循環されるようになっている。

次に作用を説明すると、ポンプ６により処理槽１内へ供
給された処理液は、シャワーノズル５より基板３へ上下
方向より吹きかけられ、基板３の洗浄に供せられる。ま
た、この際処理液は気泡が混入する。

基板３を洗浄した処理液は、処理槽１底部の排出口７よ
りタンク８内へ落下する際、気泡発生防止装置10の螺旋
板13に案内されて矢印に示すように旋回されながら、タ
ンク８内へ達するため、空気を巻き込むことにより生じ
る泡立ちがほとんどなく、これによって処理液中に気泡
が発生するのを最小限に防止することができる。また、
第１図からも明らかなように排出口７の下端はタンク８
の底部近傍まで達しているので、処理液の上下の変動に
対しても落下衝撃を緩和する効果に影響を受けることが
ない。さらに、気泡を含んだ処理液でも螺旋板13により
旋回しながら長い流路を時間をかけてゆっくりと処理液
が落下するので気泡が消滅する。

なお上記実施例では、螺旋板13により処理液がタンク８
内へ落ちる速度を遅くしたが、第２図に示すように排出
口７内に邪魔板14を斜めに交互に設けて、処理液の落ち
る速度を遅くしても同様な気泡発生防止効果が得られ
る。

また、処理槽１の開口部を基板面に対して傾斜するよう
に構成しているので、蓋体２の内面についた水滴等は基
板３に落ちることがないので、水滴による処理むら等が
起こらない。

《考案の効果》 本考案は、以上詳述したように、基板の洗浄を終えて排
出口よりタンク内へ落下する処理液の落下衝撃を螺旋板
により緩和したことから、空気の巻き込みによる気泡の
発生が最小限に防止できる。

これによって処理液中に混入した気泡処理装置の処理槽
内へ循環されることがないため、気泡による基板の洗浄
むら、ポンプの故障、タンクよりの気泡の流出、処理槽
内への気泡の侵入などの不都合を解消することができる

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例による処理装置及び気泡発生
防止装置の断面図、第２図は気泡発生防止装置の他の実
施例を示す説明図、第３図は洗浄ラインの説明図、第４
図は同処理装置の説明図である。 １……処理槽、３……基板、７……排出口、８……タン
ク、10……気泡発生防止装置、Ａ、Ｂ……処理装置。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】処理槽と、この処理槽の底部に設けられた
   排出口と、前記処理槽の下方に設けられ前記排出口から
   の処理液を回収するタンクからなる処理装置において、
   前記排出口内に螺旋板を設けたことを特徴とする処理装
   置の気泡発生防止装置。