JPH0741452A - 4ー(3ーオキソアルキル)フェノールの製造法 - Google Patents
4ー(3ーオキソアルキル)フェノールの製造法Info
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- JPH0741452A JPH0741452A JP5204798A JP20479893A JPH0741452A JP H0741452 A JPH0741452 A JP H0741452A JP 5204798 A JP5204798 A JP 5204798A JP 20479893 A JP20479893 A JP 20479893A JP H0741452 A JPH0741452 A JP H0741452A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 フェノールとβーヒドロキシケトンまたはア
ルキルビニルケトンを反応させ、4ー(3ーオキソアル
キル)フェノールを高収率で製造する方法を提供する。 【構成】 フェノールとβーヒドロキシケトンまたはア
ルキルビニルケトンとを、ヘテロポリ酸触媒の存在下に
液相反応させることにより、4ー(3ーオキソアルキ
ル)フェノールを収率良く得ることを特徴とする製造方
法。
ルキルビニルケトンを反応させ、4ー(3ーオキソアル
キル)フェノールを高収率で製造する方法を提供する。 【構成】 フェノールとβーヒドロキシケトンまたはア
ルキルビニルケトンとを、ヘテロポリ酸触媒の存在下に
液相反応させることにより、4ー(3ーオキソアルキ
ル)フェノールを収率良く得ることを特徴とする製造方
法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フェノールとβーヒド
ロキシケトンまたはアルキルビニルケトンとを反応させ
て4ー(3ーオキソアルキル)フェノールを製造する方
法に関する。
ロキシケトンまたはアルキルビニルケトンとを反応させ
て4ー(3ーオキソアルキル)フェノールを製造する方
法に関する。
【0002】本発明に係わる4ー(3ーオキソアルキ
ル)フェノールは、各種の農薬、医薬、香料の中間原料
として、あるいは香料として有用な化合物である。例え
ば4ー(3ーオキソブチル)フェノールはラズベリーケ
トンとして知られる香料である。
ル)フェノールは、各種の農薬、医薬、香料の中間原料
として、あるいは香料として有用な化合物である。例え
ば4ー(3ーオキソブチル)フェノールはラズベリーケ
トンとして知られる香料である。
【0003】
【従来の技術とその問題点】従来、4ー(3ーオキソア
ルキル)フェノールの製造方法として、例えばフェノー
ルと4ーヒドロキシー2ーブタノンとから4ー(3ーオ
キソブチル)フェノールを製造する方法において触媒と
して濃塩酸、濃硫酸、塩化アルミニウム、塩化亜鉛(工
業化学雑誌、57、42(1954))、硫酸、リン
酸、塩酸ガス(ドイツ特許2145308号)を用いる
ことが知られている。これら従来法は、いずれも触媒と
して可溶性の強酸類を使用するために、反応器の材質と
して耐食性の高い特殊なものを使用しなければならず、
さらには反応混合物から用いた触媒を除去するために、
大規模な精製工程が必要となり経済的ではなかった。
ルキル)フェノールの製造方法として、例えばフェノー
ルと4ーヒドロキシー2ーブタノンとから4ー(3ーオ
キソブチル)フェノールを製造する方法において触媒と
して濃塩酸、濃硫酸、塩化アルミニウム、塩化亜鉛(工
業化学雑誌、57、42(1954))、硫酸、リン
酸、塩酸ガス(ドイツ特許2145308号)を用いる
ことが知られている。これら従来法は、いずれも触媒と
して可溶性の強酸類を使用するために、反応器の材質と
して耐食性の高い特殊なものを使用しなければならず、
さらには反応混合物から用いた触媒を除去するために、
大規模な精製工程が必要となり経済的ではなかった。
【0004】そこで、これらの欠点を克服するため、最
近では触媒としてH型陽イオン交換樹脂が利用されるよ
うになってきている。例えば特公昭57ー27096号
公報にはフェノールと4ーヒドロキシー2ーブタノンと
から4ー(3ーオキソブチル)フェノールを製造する際
にその触媒としてH型陽イオン交換樹脂を使用する方法
が、また特開昭64ー34941号公報にはフェノール
とメチルビニルケトンとから4ー(3ーオキソブチル)
フェノールを製造する際にその触媒としてH型陽イオン
交換樹脂を使用する方法が示されている。しかしなが
ら、かかるH型陽イオン交換樹脂を用いる方法では、原
料として用いる4ーヒドロキシー2ーブタノンやメチル
ビニルケトンが反応中に重合して重合体を生成し、該重
合体が触媒であるH型陽イオン交換樹脂を劣化させ、触
媒の寿命を短かくするという欠点があり、また、触媒で
ある交換樹脂の機械的破壊を併発するという欠点もあ
る。
近では触媒としてH型陽イオン交換樹脂が利用されるよ
うになってきている。例えば特公昭57ー27096号
公報にはフェノールと4ーヒドロキシー2ーブタノンと
から4ー(3ーオキソブチル)フェノールを製造する際
にその触媒としてH型陽イオン交換樹脂を使用する方法
が、また特開昭64ー34941号公報にはフェノール
とメチルビニルケトンとから4ー(3ーオキソブチル)
フェノールを製造する際にその触媒としてH型陽イオン
交換樹脂を使用する方法が示されている。しかしなが
ら、かかるH型陽イオン交換樹脂を用いる方法では、原
料として用いる4ーヒドロキシー2ーブタノンやメチル
ビニルケトンが反応中に重合して重合体を生成し、該重
合体が触媒であるH型陽イオン交換樹脂を劣化させ、触
媒の寿命を短かくするという欠点があり、また、触媒で
ある交換樹脂の機械的破壊を併発するという欠点もあ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、フェノ
ールとβーヒドロキシケトンまたはアルキルビニルケト
ンを反応させ、4ー(3ーオキソアルキル)フェノール
を製造するに際して、特殊な材質の反応装置を用いるこ
となく、かつ反応に使用した触媒の回収、再利用が容易
で、触媒としてのイオン交換樹脂や洗浄用水等の廃棄物
が少ない製造方法について鋭意研究した。その結果、フ
ェノールとβーヒドロキシケトンまたはアルキルビニル
ケトンとを反応し4ー(3ーオキソアルキル)フェノー
ルを製造するに際し、触媒としてヘテロポリ酸を用いる
ことにより、その目的を達成できることを見いだし、こ
の知見に基づき本発明を完成した。以上の記述から明か
なように、本発明の目的は、フェノールとβーヒドロキ
シケトンまたはアルキルビニルケトンとを反応させ、4
ー(3ーオキソアルキル)フェノールを製造するに際し
て、特殊な材質の反応装置を用いる必要がなく、かつ反
応に使用した触媒の回収・再利用が容易で、触媒として
のイオン交換樹脂や洗浄用水等の廃棄物の少ない4ー
(3ーオキソアルキル)フェノールの製造法を提供する
ことである。
ールとβーヒドロキシケトンまたはアルキルビニルケト
ンを反応させ、4ー(3ーオキソアルキル)フェノール
を製造するに際して、特殊な材質の反応装置を用いるこ
となく、かつ反応に使用した触媒の回収、再利用が容易
で、触媒としてのイオン交換樹脂や洗浄用水等の廃棄物
が少ない製造方法について鋭意研究した。その結果、フ
ェノールとβーヒドロキシケトンまたはアルキルビニル
ケトンとを反応し4ー(3ーオキソアルキル)フェノー
ルを製造するに際し、触媒としてヘテロポリ酸を用いる
ことにより、その目的を達成できることを見いだし、こ
の知見に基づき本発明を完成した。以上の記述から明か
なように、本発明の目的は、フェノールとβーヒドロキ
シケトンまたはアルキルビニルケトンとを反応させ、4
ー(3ーオキソアルキル)フェノールを製造するに際し
て、特殊な材質の反応装置を用いる必要がなく、かつ反
応に使用した触媒の回収・再利用が容易で、触媒として
のイオン交換樹脂や洗浄用水等の廃棄物の少ない4ー
(3ーオキソアルキル)フェノールの製造法を提供する
ことである。
【0006】
【問題を解決するための手段】本発明は、下記(1)〜
(3)の構成を有する。 (1)下記化4で表される4ー(3ーオキソアルキル)
フェノールを製造するにあたり、フェノールと下記化5
で表されるβーヒドロキシケトンとを、ヘテロポリ酸触
媒の存在下に液相反応させることを特徴とする4ー(3
ーオキソアルキル)フェノールの製造法。 (2)下記化4で表される4ー(3ーオキソアルキル)
フェノールを製造するにあたり、フェノールと下記化6
で表されるアルキルビニルケトンとを、ヘテロポリ酸触
媒の存在下に液相反応させることを特徴とする前記
(1)項記載の4ー(3ーオキソアルキル)フェノール
の製造法。 (3)触媒のヘテロポリ酸がモリブデン酸化物、タング
ステン酸化物、バナジウム酸化物から選ばれた少なくと
も一種の酸化物とリン、ケイ素およびゲルマニウムのな
かから選ばれた一種の元素のオキシ酸とが縮合した構造
であり、後者に対する前者の原子比が1〜12であるヘ
テロポリ酸であることを特徴とする前記(1)項もしく
は前記(2)項のいずれか1項記載の製造法。
(3)の構成を有する。 (1)下記化4で表される4ー(3ーオキソアルキル)
フェノールを製造するにあたり、フェノールと下記化5
で表されるβーヒドロキシケトンとを、ヘテロポリ酸触
媒の存在下に液相反応させることを特徴とする4ー(3
ーオキソアルキル)フェノールの製造法。 (2)下記化4で表される4ー(3ーオキソアルキル)
フェノールを製造するにあたり、フェノールと下記化6
で表されるアルキルビニルケトンとを、ヘテロポリ酸触
媒の存在下に液相反応させることを特徴とする前記
(1)項記載の4ー(3ーオキソアルキル)フェノール
の製造法。 (3)触媒のヘテロポリ酸がモリブデン酸化物、タング
ステン酸化物、バナジウム酸化物から選ばれた少なくと
も一種の酸化物とリン、ケイ素およびゲルマニウムのな
かから選ばれた一種の元素のオキシ酸とが縮合した構造
であり、後者に対する前者の原子比が1〜12であるヘ
テロポリ酸であることを特徴とする前記(1)項もしく
は前記(2)項のいずれか1項記載の製造法。
【化4】 (式中、R1は炭素数1〜7の直鎖または分岐鎖のアル
キル基を示す。)
キル基を示す。)
【化5】 (式中、R2は炭素数1〜7の直鎖または分岐鎖のアル
キル基を示す。)
キル基を示す。)
【化6】 (式中、R3は炭素数1〜7の直鎖または分岐鎖のアル
キル基を示す。)
キル基を示す。)
【0007】本発明の構成と効果につき以下に記述す
る。本発明の製造法は、フェノールとβーヒドロキシケ
トンまたはアルキルビニルケトンとを、ヘテロポリ酸の
存在下で攪拌することにより4ー(3ーオキソアルキ
ル)フェノールを製造する製造法である。
る。本発明の製造法は、フェノールとβーヒドロキシケ
トンまたはアルキルビニルケトンとを、ヘテロポリ酸の
存在下で攪拌することにより4ー(3ーオキソアルキ
ル)フェノールを製造する製造法である。
【0008】本発明に用いられる化5で表されるβーヒ
ドロキシケトンとしては、具体的には以下のものを例示
することができるが、これらに限定されるものではな
い。すなわち、4ーヒドロキシー2ーブタノン、1ーヒ
ドロキシー3ーペンタノン、1ーヒドロキシー3ーヘキ
サノン、1ーヒドロキシー3ーヘプタノンなどが挙げら
れる。
ドロキシケトンとしては、具体的には以下のものを例示
することができるが、これらに限定されるものではな
い。すなわち、4ーヒドロキシー2ーブタノン、1ーヒ
ドロキシー3ーペンタノン、1ーヒドロキシー3ーヘキ
サノン、1ーヒドロキシー3ーヘプタノンなどが挙げら
れる。
【0009】本発明に用いられる化6で表されるアルキ
ルビニルケトンとしては、具体的には以下のものを例示
することができるが、これらに限定されるものではな
い。すなわち、メチルビニルケトン、エチルビニルケト
ン、プロピルビニルケトン、ブチルビニルケトンなどが
挙げられる。
ルビニルケトンとしては、具体的には以下のものを例示
することができるが、これらに限定されるものではな
い。すなわち、メチルビニルケトン、エチルビニルケト
ン、プロピルビニルケトン、ブチルビニルケトンなどが
挙げられる。
【0010】βーヒドロキシケトンまたはアルキルビニ
ルケトン1モルに対するフェノールの使用量は2〜10
モルで、好ましくは2〜5モルの範囲内で選択される。
反応は通常フェノールの過剰存在状態で行われるので溶
媒の使用は特に要求されないが、トルエン、キシレンな
ど反応に不活性なものを加えても良い。
ルケトン1モルに対するフェノールの使用量は2〜10
モルで、好ましくは2〜5モルの範囲内で選択される。
反応は通常フェノールの過剰存在状態で行われるので溶
媒の使用は特に要求されないが、トルエン、キシレンな
ど反応に不活性なものを加えても良い。
【0011】本発明の方法は、触媒としてヘテロポリ酸
を用いることを必須の要件とするものである。本発明に
いうヘテロポリ酸とは、モリブデン酸化物、タングステ
ン酸化物、バナジウム酸化物から選ばれた少なくとも一
種の酸化物とリン、ケイ素およびゲルマニウムのなかか
ら選ばれた一種の元素のオキシ酸とが縮合した構造であ
り、後者に対する前者の原子比が1〜12であるヘテロ
ポリ酸である。これらヘテロポリ酸の具体例としては、
リンモリブデン酸、リンタングステン酸、リンモリブド
タングステン酸、リンモリブドバナジン酸、リンモリブ
ドタングストバナジン酸、ケイタングステン酸、ケイモ
リブデン酸、ケイモリブドタングステン酸、ケイモリブ
ドタングストバナジン酸、ゲルマニウムタングステン酸
などである。中でもリンタングステン酸、リンモリブデ
ン酸、ケイタングステン酸あるいはゲルマニウムタング
ステン酸などが好ましい。
を用いることを必須の要件とするものである。本発明に
いうヘテロポリ酸とは、モリブデン酸化物、タングステ
ン酸化物、バナジウム酸化物から選ばれた少なくとも一
種の酸化物とリン、ケイ素およびゲルマニウムのなかか
ら選ばれた一種の元素のオキシ酸とが縮合した構造であ
り、後者に対する前者の原子比が1〜12であるヘテロ
ポリ酸である。これらヘテロポリ酸の具体例としては、
リンモリブデン酸、リンタングステン酸、リンモリブド
タングステン酸、リンモリブドバナジン酸、リンモリブ
ドタングストバナジン酸、ケイタングステン酸、ケイモ
リブデン酸、ケイモリブドタングステン酸、ケイモリブ
ドタングストバナジン酸、ゲルマニウムタングステン酸
などである。中でもリンタングステン酸、リンモリブデ
ン酸、ケイタングステン酸あるいはゲルマニウムタング
ステン酸などが好ましい。
【0012】ヘテロポリ酸は市販のものをそのまま用い
ることができるが、ヘテロポリ酸のプロトンの一部をア
ルカリ金属、アルカリ土類金属元素などで置換して不溶
化あるいは難溶化したヘテロポリ酸塩を用いることも可
能である。置換元素としてはこれらに限定されるもので
はなく、広く遷移金属元素などで置換されたヘテロポリ
酸塩を使用することも可能である。同じく、アンモニ
ア、アミン系化合物等の含窒素化合物でヘテロポリ酸の
プロトンの一部を置換したものも用いることが可能であ
る。
ることができるが、ヘテロポリ酸のプロトンの一部をア
ルカリ金属、アルカリ土類金属元素などで置換して不溶
化あるいは難溶化したヘテロポリ酸塩を用いることも可
能である。置換元素としてはこれらに限定されるもので
はなく、広く遷移金属元素などで置換されたヘテロポリ
酸塩を使用することも可能である。同じく、アンモニ
ア、アミン系化合物等の含窒素化合物でヘテロポリ酸の
プロトンの一部を置換したものも用いることが可能であ
る。
【0013】また、反応後の触媒を容易に分離・回収で
きるようにするために、ヘテロポリ酸を担体に含浸担持
して反応に用いることも可能である。この場合の担体と
してはヘテロポリ酸に対して安定であり、かつ比表面積
の大きい担体が良く、シリカ、アルミナ、チタニア、活
性炭などの一種以上を用いることが好適である。さらに
は共沈法や共ゲル化法により、SiO2やAl2O3でヘ
テロポリ酸、ヘテロポリ酸塩をくるむことにより固定化
した触媒を用いることも可能であり、かかる固定化触媒
を用いると反応後の触媒の分離・回収が容易になる。本
発明の製造方法にあっては、触媒として遊離のヘテロポ
リ酸を用いる均一反応、原料および反応物に不溶性のヘ
テロポリ酸塩、または、上述の担体に担持したヘテロポ
リ酸もしくは固定化したヘテロポリ酸を触媒として用い
る不均一反応のどちらの方法を用いてもかまわないが、
触媒の分離・回収が容易であるためには、不均一反応が
好ましい。
きるようにするために、ヘテロポリ酸を担体に含浸担持
して反応に用いることも可能である。この場合の担体と
してはヘテロポリ酸に対して安定であり、かつ比表面積
の大きい担体が良く、シリカ、アルミナ、チタニア、活
性炭などの一種以上を用いることが好適である。さらに
は共沈法や共ゲル化法により、SiO2やAl2O3でヘ
テロポリ酸、ヘテロポリ酸塩をくるむことにより固定化
した触媒を用いることも可能であり、かかる固定化触媒
を用いると反応後の触媒の分離・回収が容易になる。本
発明の製造方法にあっては、触媒として遊離のヘテロポ
リ酸を用いる均一反応、原料および反応物に不溶性のヘ
テロポリ酸塩、または、上述の担体に担持したヘテロポ
リ酸もしくは固定化したヘテロポリ酸を触媒として用い
る不均一反応のどちらの方法を用いてもかまわないが、
触媒の分離・回収が容易であるためには、不均一反応が
好ましい。
【0014】使用するヘテロポリ酸の量は特に限定され
ないが、反応系内に存在するヘテロポリ酸量が少ないと
反応速度が低くなるので該ヘテロポリ酸はβーヒドロキ
シケトンまたはアルキルビニルケトン1モルに対して
0.0001モル〜0.05モル、好ましくは、0.0
01モル〜0.01モルの範囲で使用される。該ヘテロ
ポリ酸の使用量は、反応終了後、例えば水溶液として、
または濾過して回収、再使用できるので、必ずしも、少
量使用の必要はなく、むしろ安定的に反応を進めるため
に、比較的多量に使用し、回収、再使用によって有利性
を図ることが好ましい。
ないが、反応系内に存在するヘテロポリ酸量が少ないと
反応速度が低くなるので該ヘテロポリ酸はβーヒドロキ
シケトンまたはアルキルビニルケトン1モルに対して
0.0001モル〜0.05モル、好ましくは、0.0
01モル〜0.01モルの範囲で使用される。該ヘテロ
ポリ酸の使用量は、反応終了後、例えば水溶液として、
または濾過して回収、再使用できるので、必ずしも、少
量使用の必要はなく、むしろ安定的に反応を進めるため
に、比較的多量に使用し、回収、再使用によって有利性
を図ることが好ましい。
【0015】フェノールとβーヒドロキシケトンまたは
アルキルビニルケトンとの反応は、通常、不活性ガス雰
囲気下、常圧ないし5気圧程度の圧力下で温度20〜1
00℃、好ましくは30〜80℃で行われる。反応温度
があまり低い場合には、触媒の反応活性が十分に発揮さ
れず、しかも反応生成水による反応速度の低下が大きく
現れるため反応の進行とともに反応速度が極端に遅くな
る。また、反応温度があまり高い場合には、βーヒドロ
キシケトンまたはアルキルビニルケトンの重合体やその
他の副生成物が多く生成し収率が低下する。
アルキルビニルケトンとの反応は、通常、不活性ガス雰
囲気下、常圧ないし5気圧程度の圧力下で温度20〜1
00℃、好ましくは30〜80℃で行われる。反応温度
があまり低い場合には、触媒の反応活性が十分に発揮さ
れず、しかも反応生成水による反応速度の低下が大きく
現れるため反応の進行とともに反応速度が極端に遅くな
る。また、反応温度があまり高い場合には、βーヒドロ
キシケトンまたはアルキルビニルケトンの重合体やその
他の副生成物が多く生成し収率が低下する。
【0016】反応時間は触媒量や反応温度によって異な
るが、例えば、攪拌槽型の反応器を用いたバッチ反応の
場合には、通常1〜20時間程度である。反応形式は、
槽型、塔型など一般に用いられるものが使用される。バ
ッチ式、連続式のいずれの方式でも実施可能である。
るが、例えば、攪拌槽型の反応器を用いたバッチ反応の
場合には、通常1〜20時間程度である。反応形式は、
槽型、塔型など一般に用いられるものが使用される。バ
ッチ式、連続式のいずれの方式でも実施可能である。
【0017】反応終了後、反応液からの触媒の分離方法
としては、遊離のヘテロポリ酸を使用する場合には、水
を用いて該ヘテロポリ酸を抽出して回収、再使用するこ
とが可能である。また、部分塩類や担持品、固定化品と
して用いる場合には、反応液を濾過して該触媒を回収、
再使用することが可能である。
としては、遊離のヘテロポリ酸を使用する場合には、水
を用いて該ヘテロポリ酸を抽出して回収、再使用するこ
とが可能である。また、部分塩類や担持品、固定化品と
して用いる場合には、反応液を濾過して該触媒を回収、
再使用することが可能である。
【0018】目的とする生成物の4ー(3ーオキソアル
キル)フェノールの単離は常法に従って行われる。例え
ば、水、低沸点副生物、フェノールを蒸留分離すること
によって粗4ー(3ーオキソアルキル)フェノールを
得、さらに、蒸留、晶析などの公知の精製操作を行って
純粋な4ー(3ーオキソアルキル)フェノールを得るこ
とができる。
キル)フェノールの単離は常法に従って行われる。例え
ば、水、低沸点副生物、フェノールを蒸留分離すること
によって粗4ー(3ーオキソアルキル)フェノールを
得、さらに、蒸留、晶析などの公知の精製操作を行って
純粋な4ー(3ーオキソアルキル)フェノールを得るこ
とができる。
【0019】本発明の方法によって得られる前記化4で
表される4ー(3ーオキソアルキル)フェノールとして
は、例えば4ー(3ーオキソブチル)フェノール、4ー
(3ーオキソペンチル)フェノール、4ー(3ーオキソ
ヘキシル)フェノール、4ー(3ーオキソヘプチル)フ
ェノールなどを挙げることができるが、これらのみに限
定されるものではない。
表される4ー(3ーオキソアルキル)フェノールとして
は、例えば4ー(3ーオキソブチル)フェノール、4ー
(3ーオキソペンチル)フェノール、4ー(3ーオキソ
ヘキシル)フェノール、4ー(3ーオキソヘプチル)フ
ェノールなどを挙げることができるが、これらのみに限
定されるものではない。
【0020】
【実施例】以下、実施例を用いて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。
【0021】尚、実施例中の反応液は内部標準法によっ
てフェノールと4ー(3ーオキソアルキル)フェノール
を定量し、フェノール及びβーヒドロキシケトンまたは
アルキルビニルケトンに対する選択率はそれぞれ次の定
義に従うものとする。
てフェノールと4ー(3ーオキソアルキル)フェノール
を定量し、フェノール及びβーヒドロキシケトンまたは
アルキルビニルケトンに対する選択率はそれぞれ次の定
義に従うものとする。
【0022】対フェノール選択率=(生成した4ー(3
ーオキソアルキル)フェノールのモル数)/(仕込んだ
フェノールのモル数―未反応フェノールのモル数) 対βーヒドロキシケトンまたはアルキルビニルケトン選
択率=生成した4ー(3ーオキソアルキル)フェノール
のモル数/消費されたβーアルキルケトンまたはアルキ
ルビニルケトンのモル数
ーオキソアルキル)フェノールのモル数)/(仕込んだ
フェノールのモル数―未反応フェノールのモル数) 対βーヒドロキシケトンまたはアルキルビニルケトン選
択率=生成した4ー(3ーオキソアルキル)フェノール
のモル数/消費されたβーアルキルケトンまたはアルキ
ルビニルケトンのモル数
【0023】実施例1 窒素置換した内容積100mlのガラス製四つ口丸型フ
ラスコにジムロート冷却管、滴下ロートを取り付け、フ
ェノール60.0g(0.638モル)を仕込み、これ
に市販のケイタングステン酸(H4SiW12O40・24
H2O)を3g(0.906ミリモル)添加し、60℃
で加熱攪拌し、4ーヒドロキシー2ーブタノン11.2
g(0.128モル)を滴下ロートより2時間かけて滴
下した。その後60℃で3時間攪拌し、ガスクロマトグ
ラフィーによる分析で4ーヒドロキシー2ーブタノンの
消滅を確認した。反応終了後の溶液をガスクロマトグラ
フィーにより分析を行った。ガスクロマトグラフィーの
分析条件は、長さ1mのカラムに充填剤としてエフエフ
エーピー(FFAP)1重量%を用い、キャリアガスと
してヘリウムガスを流速50ml/分で流し、1分間に
10℃の昇温速度で80℃から240℃まで昇温させ
た。検出器は水素イオン化検出器を用いた。その結果、
4ーヒドロキシー2ーブタノンの転換率は100モル
%、目的生成物である4ー(3ーオキソブチル)フェノ
ールのフェノール及び4ーヒドロキシー2ーブタノンに
対する選択率はそれぞれ64.8モル%及び63.2モ
ル%であった。反応条件を表1に、結果を表2に示し
た。
ラスコにジムロート冷却管、滴下ロートを取り付け、フ
ェノール60.0g(0.638モル)を仕込み、これ
に市販のケイタングステン酸(H4SiW12O40・24
H2O)を3g(0.906ミリモル)添加し、60℃
で加熱攪拌し、4ーヒドロキシー2ーブタノン11.2
g(0.128モル)を滴下ロートより2時間かけて滴
下した。その後60℃で3時間攪拌し、ガスクロマトグ
ラフィーによる分析で4ーヒドロキシー2ーブタノンの
消滅を確認した。反応終了後の溶液をガスクロマトグラ
フィーにより分析を行った。ガスクロマトグラフィーの
分析条件は、長さ1mのカラムに充填剤としてエフエフ
エーピー(FFAP)1重量%を用い、キャリアガスと
してヘリウムガスを流速50ml/分で流し、1分間に
10℃の昇温速度で80℃から240℃まで昇温させ
た。検出器は水素イオン化検出器を用いた。その結果、
4ーヒドロキシー2ーブタノンの転換率は100モル
%、目的生成物である4ー(3ーオキソブチル)フェノ
ールのフェノール及び4ーヒドロキシー2ーブタノンに
対する選択率はそれぞれ64.8モル%及び63.2モ
ル%であった。反応条件を表1に、結果を表2に示し
た。
【0024】実施例2 実施例1で使用したケイタングステン酸を水抽出、回収
したものを触媒として用いて、再度実施例1に準拠して
反応を行った。反応条件を表1に、結果を表2に示し
た。
したものを触媒として用いて、再度実施例1に準拠して
反応を行った。反応条件を表1に、結果を表2に示し
た。
【0025】実施例3 原料の4ーヒドロキシー2ーブタノンを18.7g
(0.213モル)とし、触媒をケイタングステン酸の
アンモニウム塩に代えた以外は実施例1に準拠して反応
を行った。ケイタングステン酸のアンモニウム塩はケイ
タングステン酸水溶液に規定量のアンモニア水溶液を滴
下後、6時間室温で攪拌した後、エバポレーターにより
60℃で乾燥したものを用いた。反応条件を表1に、結
果を表2に示した。
(0.213モル)とし、触媒をケイタングステン酸の
アンモニウム塩に代えた以外は実施例1に準拠して反応
を行った。ケイタングステン酸のアンモニウム塩はケイ
タングステン酸水溶液に規定量のアンモニア水溶液を滴
下後、6時間室温で攪拌した後、エバポレーターにより
60℃で乾燥したものを用いた。反応条件を表1に、結
果を表2に示した。
【0026】実施例4 触媒としてシリカにケイタングステン酸を15重量%担
持した触媒を用いる以外は実施例3に準拠して反応を行
った。触媒はシリカゲル(富士デヴィソン社製、フジシ
リカゲルB形)をケイタングステン酸水溶液に入れ、含
浸法により担持し、60〜70℃で乾燥して調製した
後、使用前に3kPaに減圧下300℃で焼成して用い
た。反応条件を表1に、結果を表2に示した。
持した触媒を用いる以外は実施例3に準拠して反応を行
った。触媒はシリカゲル(富士デヴィソン社製、フジシ
リカゲルB形)をケイタングステン酸水溶液に入れ、含
浸法により担持し、60〜70℃で乾燥して調製した
後、使用前に3kPaに減圧下300℃で焼成して用い
た。反応条件を表1に、結果を表2に示した。
【0027】実施例5 触媒として活性炭にケイタングステン酸を15重量%担
持した触媒を用いる以外は実施例3に準拠して反応を行
い、2時間で滴下後8時間の攪拌を行った。触媒は活性
炭(カルゴンFー300)をケイタングステン酸水溶液
に入れ、含浸法により担持し、濾過、温水洗浄した後、
60〜70℃で乾燥して使用前に3kPaに減圧下30
0℃で焼成して用いた。反応条件を表1に、結果を表2
に示した。
持した触媒を用いる以外は実施例3に準拠して反応を行
い、2時間で滴下後8時間の攪拌を行った。触媒は活性
炭(カルゴンFー300)をケイタングステン酸水溶液
に入れ、含浸法により担持し、濾過、温水洗浄した後、
60〜70℃で乾燥して使用前に3kPaに減圧下30
0℃で焼成して用いた。反応条件を表1に、結果を表2
に示した。
【0028】実施例6 4ーヒドロキシー2ーブタノンの代わりに1ーヒドロキ
シー3ーペンタノン13g(0.127モル)を原料に
用い、ケイタングステン酸を4g(1.208ミリモ
ル)とした以外は実施例1に準拠した。その後1ーヒド
ロキシー3ーペンタノンの消滅をガスクロマトグラフィ
ーによる分析により確認できるまで60℃で4時間攪拌
を続けた。反応終了後、内部標準法によりガスクロマト
グラフィーによる分析を行った。ガスクロマトグラフィ
ーによる分析は実施例1に準拠した。その結果、1ーヒ
ドロキシー3ーペンタノンの転換率は100モル%、目
的生成物である4ー(3ーオキソペンチル)フェノール
のフェノール及び1ーヒドロキシー3ーペンタノンに対
する選択率はそれぞれ62.5モル%及び61.3モル
%であった。反応条件を表1に、結果を表2に示した。
シー3ーペンタノン13g(0.127モル)を原料に
用い、ケイタングステン酸を4g(1.208ミリモ
ル)とした以外は実施例1に準拠した。その後1ーヒド
ロキシー3ーペンタノンの消滅をガスクロマトグラフィ
ーによる分析により確認できるまで60℃で4時間攪拌
を続けた。反応終了後、内部標準法によりガスクロマト
グラフィーによる分析を行った。ガスクロマトグラフィ
ーによる分析は実施例1に準拠した。その結果、1ーヒ
ドロキシー3ーペンタノンの転換率は100モル%、目
的生成物である4ー(3ーオキソペンチル)フェノール
のフェノール及び1ーヒドロキシー3ーペンタノンに対
する選択率はそれぞれ62.5モル%及び61.3モル
%であった。反応条件を表1に、結果を表2に示した。
【0029】実施例7 4ーヒドロキシー2ーブタノンの代わりにメチルビニル
ケトンを8.9g(0.127モル)原料に用いた以外
は実施例1に準拠して反応および分析を行った。その結
果、メチルビニルケトンの転換率は100モル%、目的
生成物である4ー(3ーオキソブチル)フェノールのフ
ェノール及びメチルビニルケトンに対する選択率はそれ
ぞれ63.5モル%及び60.2モル%であった。反応
条件を表1に、結果を表2に示した。
ケトンを8.9g(0.127モル)原料に用いた以外
は実施例1に準拠して反応および分析を行った。その結
果、メチルビニルケトンの転換率は100モル%、目的
生成物である4ー(3ーオキソブチル)フェノールのフ
ェノール及びメチルビニルケトンに対する選択率はそれ
ぞれ63.5モル%及び60.2モル%であった。反応
条件を表1に、結果を表2に示した。
【0030】比較例1 実施例1のケイタングステン酸の代わりに、濃硫酸(9
8重量%)を1.6g加えた以外は実施例1に準拠して
反応を行った。その結果、4ーヒドロキシー2ーブタノ
ンの転換率は100モル%、目的生成物である4ー(3
ーオキソブチル)フェノールのフェノール及び4ーヒド
ロキシー2ーブタノンに対する選択率はそれぞれ47モ
ル%及び48モル%であった。反応条件を表1に、結果
を表2に示した。
8重量%)を1.6g加えた以外は実施例1に準拠して
反応を行った。その結果、4ーヒドロキシー2ーブタノ
ンの転換率は100モル%、目的生成物である4ー(3
ーオキソブチル)フェノールのフェノール及び4ーヒド
ロキシー2ーブタノンに対する選択率はそれぞれ47モ
ル%及び48モル%であった。反応条件を表1に、結果
を表2に示した。
【0031】比較例2 実施例1のケイタングステン酸の代わりに、スルホン酸
型陽イオン交換樹脂(三菱化成工業(株)、商品名ダイ
ヤイオンSK−1B)18gを用いた以外は実施例1に
準拠して反応を行った。その結果、4ーヒドロキシー2
ーブタノンの転換率は100モル%、目的生成物である
4ー(3ーオキソブチル)フェノールのフェノール及び
4ーヒドロキシー2ーブタノンに対する選択率はそれぞ
れ45.1モル%及び52.2モル%であった。また、
攪拌による機械的破壊でイオン交換樹脂は微細に粉化
し、触媒の分離に困難をきたすと共に、触媒への反応液
同伴が多く、取得率が低下した。反応条件を表1に、結
果を表2に示した。
型陽イオン交換樹脂(三菱化成工業(株)、商品名ダイ
ヤイオンSK−1B)18gを用いた以外は実施例1に
準拠して反応を行った。その結果、4ーヒドロキシー2
ーブタノンの転換率は100モル%、目的生成物である
4ー(3ーオキソブチル)フェノールのフェノール及び
4ーヒドロキシー2ーブタノンに対する選択率はそれぞ
れ45.1モル%及び52.2モル%であった。また、
攪拌による機械的破壊でイオン交換樹脂は微細に粉化
し、触媒の分離に困難をきたすと共に、触媒への反応液
同伴が多く、取得率が低下した。反応条件を表1に、結
果を表2に示した。
【0032】
【表1】
【0033】
【表2】
【0034】
【発明の効果】本発明の方法によれば、フェノールとβ
ーヒドロキシケトンまたはアルキルビニルケトンとを反
応させて4ー(3ーオキソアルキル)フェノールを製造
するに際して、触媒として特定のヘテロポリ酸を用いる
ことにより、従来の方法に比べて4ー(3ーオキソアル
キル)フェノールを極めて高い選択率でかつ高収率で製
造することができる。また、本発明の製造方法は反応装
置に特殊な材質を用いる必要がなく、かつ反応に使用し
た触媒の回収・再利用が容易であり、触媒としてのイオ
ン交換樹脂や洗浄用水等の廃棄物の少ない、工業的に有
利な製造方法である。
ーヒドロキシケトンまたはアルキルビニルケトンとを反
応させて4ー(3ーオキソアルキル)フェノールを製造
するに際して、触媒として特定のヘテロポリ酸を用いる
ことにより、従来の方法に比べて4ー(3ーオキソアル
キル)フェノールを極めて高い選択率でかつ高収率で製
造することができる。また、本発明の製造方法は反応装
置に特殊な材質を用いる必要がなく、かつ反応に使用し
た触媒の回収・再利用が容易であり、触媒としてのイオ
ン交換樹脂や洗浄用水等の廃棄物の少ない、工業的に有
利な製造方法である。
Claims (3)
- 【請求項1】 下記化1で表される4ー(3ーオキソア
ルキル)フェノールを製造するにあたり、フェノールと
下記化2で表されるβーヒドロキシケトンとを、ヘテロ
ポリ酸触媒の存在下に液相反応させることを特徴とする
4ー(3ーオキソアルキル)フェノールの製造法。 【化1】 (式中、R1は炭素数1〜7の直鎖または分岐鎖のアル
キル基を示す。) 【化2】 (式中、R2は炭素数1〜7の直鎖または分岐鎖のアル
キル基を示す。) - 【請求項2】 化1で表される4ー(3ーオキソアルキ
ル)フェノールを製造するにあたり、フェノールと下記
化3で表されるアルキルビニルケトンとを、ヘテロポリ
酸触媒の存在下に液相反応させることを特徴とする請求
項1に記載の4ー(3ーオキソアルキル)フェノールの
製造法。 【化3】 (式中、R3は炭素数1〜7の直鎖または分岐鎖のアル
キル基を示す。) - 【請求項3】 触媒のヘテロポリ酸がモリブデン酸化
物、タングステン酸化物、バナジウム酸化物から選ばれ
た少なくとも一種の酸化物とリン、ケイ素およびゲルマ
ニウムのなかから選ばれた一種の元素のオキシ酸とが縮
合した構造であり、後者に対する前者の原子比が1〜1
2であるヘテロポリ酸であることを特徴とする請求項1
もしくは請求項2のいずれか1項記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5204798A JPH0741452A (ja) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | 4ー(3ーオキソアルキル)フェノールの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5204798A JPH0741452A (ja) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | 4ー(3ーオキソアルキル)フェノールの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0741452A true JPH0741452A (ja) | 1995-02-10 |
Family
ID=16496541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5204798A Pending JPH0741452A (ja) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | 4ー(3ーオキソアルキル)フェノールの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0741452A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6386868B1 (en) * | 1998-10-15 | 2002-05-14 | Kazuya Fujita | Dental articulator and its transform plate |
| CN106748694A (zh) * | 2016-12-21 | 2017-05-31 | 山东新和成药业有限公司 | 一种香料覆盆子酮的制备方法 |
-
1993
- 1993-07-27 JP JP5204798A patent/JPH0741452A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6386868B1 (en) * | 1998-10-15 | 2002-05-14 | Kazuya Fujita | Dental articulator and its transform plate |
| CN106748694A (zh) * | 2016-12-21 | 2017-05-31 | 山东新和成药业有限公司 | 一种香料覆盆子酮的制备方法 |
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