JPH0741465A - キナゾリノン誘導体 - Google Patents

キナゾリノン誘導体

Info

Publication number
JPH0741465A
JPH0741465A JP6133583A JP13358394A JPH0741465A JP H0741465 A JPH0741465 A JP H0741465A JP 6133583 A JP6133583 A JP 6133583A JP 13358394 A JP13358394 A JP 13358394A JP H0741465 A JPH0741465 A JP H0741465A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
quinazolinone
ring
phenyl
production example
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6133583A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3859738B2 (ja
Inventor
Masami Muraoka
正実 村岡
Kazuki Matsui
和貴 松井
Hirohiko Hasegawa
浩彦 長谷川
Atsuyuki Kojima
淳之 小島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Pharma Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd filed Critical Sumitomo Pharmaceuticals Co Ltd
Priority to JP13358394A priority Critical patent/JP3859738B2/ja
Publication of JPH0741465A publication Critical patent/JPH0741465A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3859738B2 publication Critical patent/JP3859738B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】虚血性心疾患、虚血性脳疾患、虚血性腎疾患等
の予防または治療剤として有用なキナゾリノン誘導体を
提供する。 【構成】例えば式 【化1】 で表される化合物ならびに当該化合物を含有する虚血性
心疾患の予防または治療剤。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、細胞内カルシウムイオ
ン(Ca2+)の過剰蓄積を抑制する作用を有するキナゾ
リノン誘導体またはその酸付加塩もしくは4級アンモニ
ウム塩及びそれらの用途に関する。
【0002】
【従来の技術】細胞内のカルシウムイオン(Ca2+)の
過剰蓄積(カルシウムオーバーロード)は虚血あるいは
血流再開通後の細胞障害機構として重要視されている
(アニュアル・レビュー・オブ・フィジオロジー、Ann
u. Rev. Physiol., 1990, 52, 543- 559)。虚血による
細胞障害は日常よく遭遇する疾患に認められ、中でも虚
血による心臓、脳あるいは腎臓の細胞障害は臨床上しば
しば経験する重要な問題である。従って、カルシウムイ
オンの過剰蓄積を抑制する薬剤は、虚血性心疾患、虚血
性脳疾患あるいは虚血性腎疾患に対して有用な予防およ
び治療薬となりうる。従来、心筋あるいは血管平滑筋細
胞内へのカルシウムイオンの流入を抑制する薬剤として
カルシウム拮抗剤が用いられているが、虚血あるいは血
流再開通後の心筋細胞内カルシウムイオンの過剰蓄積に
対する効果は十分とは言えず、カルシウムイオンの過剰
蓄積を抑制する薬剤は切望されている。カルシウムイオ
ンの過剰蓄積は、心筋あるいは血管平滑筋細胞において
は虚血時以外にも収縮・弛緩機能障害、エネルギー代謝
障害、形態学的障害あるいは電気生理学的異常を招き、
循環器系疾患の原因となる(カルディオバスキュラーリ
サーチ、Cardiovasc. Res., 1986, 20, 645 - 651 )。
従って、カルシウムイオンの過剰蓄積を抑制する薬剤
は、心不全、高血圧あるいは不整脈等の循環器系疾患に
対しても有用な予防および治療薬となりうる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、細胞
内のカルシウムイオン過剰蓄積を抑制する化合物を提供
することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】今回本発明者らは上記課
題を解決すべく鋭意検討を重ね、下記一般式(1)で表
される化合物が細胞内へのカルシウムイオン過剰蓄積の
発生を抑制することを見い出し、本発明を完成するに至
った。即ち、本発明は一般式(1)
【化6】 [式中、Tは酸素原子または硫黄原子を表し、Yはアル
キル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル
基、フェニル基、置換フェニル基、アラルキル基、置換
アラルキル基、ヘテロアリール基または置換ヘテロアリ
ール基を表す。環Wはベンゼン環、5〜6員環のヘテロ
芳香環または5〜10員環のシクロアルケン環もしくは
シクロアルカン環を表す。R1 及びR2 は互いに独立し
て、水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子、シアノ
基、トリフルオロメチル基、ニトロ基、アミノ基、置換
アミノ基、水酸基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、低級アルキルスルフィニル基または低級アルキル
スルホニル基を表す。Zは式
【化7】 {式中、A1 及びA2 は互いに独立して水素原子、アル
キル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、飽和ヘテ
ロ環基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニル
アルキル基、アラルキル基、置換アラルキル基、ヘテロ
アリールアルキル基、置換ヘテロアリールアルキル基ま
たは基−CH2 3 (式中、R3 はアルケニル基または
アルキニル基を表す)を表すか、またはA1 とA2 は互
いに結合してヘテロ環を形成してもよい。Gは炭素原子
数1〜6の直鎖状のアルキレンもしくは炭素原子数1〜
8の分岐したアルキレンを表すか、または基
【化8】 (式中、p及びmは互いに独立して0、1又は2を表
し、Dはシクロアルカン環を表す。)を表す}または式
【化9】 {式中、nは0、1または2を表し、環Eは窒素原子を
含む4〜8員環の飽和ヘテロ環を表し、A3 は水素原
子、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、
飽和ヘテロ環基、シクロアルキルアルキル基、シクロア
ルケニルアルキル基、アラルキル基、置換アラルキル
基、ヘテロアリールアルキル基、置換ヘテロアリールア
ルキル基または基−CH2 3 (式中、R3 はアルケニ
ル基またはアルキニル基を表す)を表すか、または環E
と共にビシクロ環を形成する。}で表される基を表
す。]で表されるキナゾリノン誘導体またはその酸付加
塩もしくは4級アンモニウム塩を有効成分として含有す
るカルシウムイオン過剰蓄積阻害剤に関し、さらに本発
明は、環Wが5〜6員環のヘテロ芳香環または5〜10
員環のシクロアルケン環もしくはシクロアルカン環であ
る一般式(1)のキナゾリノン誘導体またはその酸付加
塩もしくは4級アンモニウム塩、または環Wがベンゼン
環であり、Zが式
【化10】 (式中、n、環EおよびA3 は前記と同じ意味を表
す。)で表される基である一般式(1)のキナゾリノン
誘導体またはその酸付加塩もしくは4級アンモニウム塩
に関する。
【0005】本発明で使用できる化合物のうち環Wがベ
ンゼン環であり、Zが式
【化11】 (式中、G、A1 及びA2 は前記と同じ意味を表す。)
で表される基である一部の化合物は中枢神経作用、抗炎
症作用、鎮痛作用を有する化合物として公開特許公報昭
和47年第14183号に、中枢神経系抑制作用を有す
る化合物として仏国特許第2027023号により既知
である。本発明で使用できる一部の化合物はHIV逆転
写酵素阻害剤としてWO93/04047号に開示され
ている。しかしながら、該特許の実施例には本特許の請
求範囲の化合物はない。本発明で使用できる一部の化合
物の類似化合物は、解熱作用を有する化合物として仏国
特許第2012062号に、降圧作用、抗潰瘍作用、抗
血小板凝集作用を有する化合物として公開特許公報昭和
56年第92884号に、鎮痛作用、抗炎症作用及び中
枢神経抑制作用を有する化合物として公開特許公報昭和
51年第13794号に、抗炎症作用を有する化合物と
してジャーナル・オブ・メディシナルケミストリー(J.
Med. Chem., 1974, 17, 636 - 639)に記載されてい
る。
【0006】本発明における各種の基を詳細に説明する
と次の通りである。環Wに於ける5〜6員環のヘテロ芳
香環として具体的には、窒素原子を0、1もしくは2
個、硫黄原子を0もしくは1個、および酸素原子を0も
しくは1個含有するヘテロ芳香族環があげられ、さらに
具体的には以下の基が挙げられる。
【化12】 好ましくは、以下の基が挙げられる。
【化13】 環Wに於ける5〜10員環のシクロアルケン環もしくは
シクロアルカン環としては、具体的には以下の基が挙げ
られる。
【化14】 (式中、u及びvは互いに独立して0または1〜5の整
数を表し、且つ、u+vは1〜6の整数を表す。また、
式中、太い実線と点線は隣接する橋頭位の炭素原子同士
の相対的な立体配置を表すものであって、特定の光学異
性体のみを意味するものではない。以後の構造式も同
じ。)好ましくは、以下の基が挙げられる。
【化15】 Gに於ける炭素原子数1〜6の直鎖状のアルキレンとし
ては具体的には例えばメチレン、ジメチレン、トリメチ
レンおよびテトラメチレンが挙げられ、炭素原子数1〜
8の分岐したアルキレンとしては、具体的には例えば以
下の基が挙げられる。
【化16】 Dに於けるシクロアルカン環としては、炭素原子数3〜
8個のシクロアルカンが挙げられ、具体的には、例えば
シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シク
ロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタンが挙げら
れる。Gに於ける好ましい基としては、例えばジメチレ
ン、トリメチレン、テトラメチレン及び以下の基が挙げ
られる。
【化17】
【0007】アルキル基としては、例えば直鎖または分
枝した炭素原子数1〜8個のアルキル基が挙げられ、具
体的には例えばメチル、エチル、プロピル、2−プロピ
ル、ブチル、2−ブチル、2−メチルプロピル、1,1
−ジメチルエチル、3−ペンチル、3−ヘキシル、4−
ヘプチル、4−オクチル等が挙げられる。好ましい基と
しては、Yに於ては2−プロピル、ブチル、2−ブチ
ル、2−メチルプロピル、3−ペンチル、3−ヘキシル
が挙げられ、A1 、A2 及びA3 に於いてはメチル、エ
チル、プロピルまたは2−プロピルなどの直鎖または分
枝した炭素原子数1〜4個のアルキル基が挙げられる。
シクロアルキル基としては、例えば炭素原子数3〜7個
のシクロアルキル基が挙げられ、具体的には例えばシク
ロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘ
キシル、シクロヘプチル等が挙げられる。シクロアルキ
ルアルキル基としては、例えば炭素原子数10個以下の
シクロアルキルアルキル基が挙げられ具体的には例えば
シクロプロピルメチル、2−シクロペンチルエチル、シ
クロヘキシルメチル、3−シクロヘキシルプロピル、4
−シクロヘキシルブチル等が挙げられる。シクロアルケ
ニルアルキル基としては、例えば炭素原子数10個以下
のシクロアルケニルアルキル基が挙げられ、具体的には
例えば4−シクロヘキセニルメチル、4−シクロペンテ
ニルメチル、4−(4−シクロヘキセニル)ブチル等が
挙げられる アルケニル基としては、例えば炭素原子数2〜6個のア
ルケニル基が挙げられ、具体的には例えばビニル、アリ
ル、1−プロペニル、1−ブテニル、2−ペンテニル、
5−ヘキセニル等が挙げられる。好ましい基としては、
ビニルまたはアリルが挙げられる。アルキニル基として
は、例えば炭素原子数2〜6個のアルキニル基が挙げら
れ、具体的には例えばエチニル、プロパルギル、2−ブ
チニル、3−ペンチニルなどが挙げられる。好ましい基
としては、エチニル、プロパルギルが挙げられる。アラ
ルキル基としては、例えば炭素原子数12個以下の基が
挙げられ、具体的には例えばベンジル、1−フェニルエ
チル、2−フェニルエチル、2−ナフチルメチル等が挙
げられる。好ましい基としては、A3 に於てはベンジル
基が挙げられる。ヘテロアリール基としては、例えば窒
素原子を1〜2個含む5〜6員環の基、窒素原子を1〜
2個と酸素原子を1個もしくは硫黄原子を1個を含む5
〜6員環の基、酸素原子を1個もしくは硫黄原子を1個
を含む5〜6員環の基等が挙げられ、具体的には、例え
ば2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル、2−チ
エニル、3−オキサジアゾリル、2−イミダゾリル、2
−チアゾリル、3−イソチアゾリル、2−オキサゾリ
ル、3−イソオキサゾリル、2−フリル、3−ピロリル
等が挙げられる。ヘテロアリールアルキル基に於けるヘ
テロアリール基としては、例えば窒素原子を1〜4個含
む5〜6員環の基、窒素原子を1〜2個と酸素原子を1
個もしくは硫黄原子を1個を含む5〜6員環の基等が挙
げられ、具体的なヘテロアリールアルキル基としては、
例えば2−ピリジルメチル、3−ピリジルメチル、4−
ピリジルメチル、1−(2−ピリジル)エチル、2−
(2−ピリジル)エチル、2−チエニルメチル、3−チ
エニルメチル、3−オキサジアゾリルメチル、2−イミ
ダゾリルメチル、2−チアゾリルメチル、3−イソチア
ゾリルメチル、2−オキサゾリルメチル、3−イソオキ
サゾリルメチル、2−フリルメチル、3−フリルメチ
ル、2−ピロリルメチル等が挙げられる。飽和ヘテロ環
基としては、例えば酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子
1個と炭素原子3〜5個からなる飽和ヘテロ環基が挙げ
られ、具体的には例えばテトラヒヒドロピラン−4−イ
ル、テトラヒドロフラン−3−イル、テトラヒドロチオ
フェン−3−イル等が挙げられる。A1 とA2 が互いに
結合して形成するヘテロ環としては、例えば窒素原子を
1〜2個含む5〜7員環または窒素原子1個および酸素
原子1個を含む飽和の5〜7員環が挙げられ、具体的に
はピロリジン、ピペリジン、ホモピペリジン、ピペラジ
ン、ホモピペラジン、モルホリン等が挙げられる。環E
に於ける、窒素原子を含む4〜8員環の飽和ヘテロ環と
しては、例えば窒素原子を1または2個、および酸素原
子を0または1個を含む環が挙げられ、具体的にはピロ
リジン−2−イル、ピロリジン−3−イル、ピペリジン
−2−イル、ピペリジン−3−イル、ピペリジン−4−
イル、ホモピペリジン−2−イル、ホモピペリジン−3
−イル、ホモピペリジン−4−イル、モルホリン−2−
イル等が挙げられる。好ましい基としてはnが0のとき
は、ピペリジン−4−イルが挙げられ、nが1または2
のときは、ピロリジン−2−イル、ピロリジン−3−イ
ル、ピペリジン−2−イル、ピペリジン−3−イル、モ
ルホリン−2−イルが挙げられる。環EとA3 とで形成
するビシクロ環としては、例えばキヌクリジン−3−イ
ル、キヌクリジン−4−イルが挙げらる。低級アルキル
基としては、例えば直鎖または分枝した炭素原子数4個
以下のアルキル基が挙げられ、具体的には例えばメチ
ル、エチル、プロピル、2−プロピル、ブチル、2−ブ
チル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチル等
が挙げられる。ハロゲン原子としては例えばフッ素、塩
素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。低級アルコキシ基と
しては、例えば直鎖または分枝した炭素原子数4個以下
のアルコキシ基が挙げられ、具体的には例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、2−プロポキシ、ブトキ
シ、1,1−ジメチルエトキシ等が挙げられる。低級ア
ルキルチオ基としては、例えば直鎖または分枝した炭素
原子数4個以下のアルキルチオ基が挙げられ、具体的に
は例えばメチルチオ、エチルチオ、2−プロピルチオ、
ブチルチオ等が挙げられる。低級アルキルスルフィニル
基としては、例えば直鎖または分枝した炭素原子数4個
以下のアルキルスルフィニル基が挙げられ、具体的に
は、例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、
プロピルスルフィニル、2−プロピルスルフィニル、ブ
チルスルフィニル等が挙げられる。低級アルキルスルホ
ニル基としては、例えば直鎖または分枝した炭素原子数
4個以下のアルキルスルホニル基が挙げられ、具体的に
は例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロ
ピルスルホニル、2−プロピルスルホニル、ブチルスル
ホニル等が挙げられる。
【0008】置換アミノ基の置換基としては、アルキル
基または基−CH2 6 (式中、R6 はアルケニル基ま
たはアルキニル基を表す)が挙げられ、置換基は一個ま
たは同一もしくは異なって2個あってもよい。好ましい
置換アミノ基としては例えば、メチルアミノ、エチルア
ミノ、アリルアミノ、プロパルギルアミノ、プロピルア
ミノ、2−プロピルアミノ、ブチルアミノ、N,N−ジ
メチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ、N,N−ジプ
ロピルアミノ、N,N−ジアリルアミノ等が挙げられ
る。置換フェニル基、置換アラルキル基、置換ヘテロア
リール基及び置換ヘテロアリールアルキル基の置換基と
しては、例えば低級アルキル基、低級アルコキシ基、メ
チレンジオキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、トリフル
オロメチル基、ニトロ基、水酸基、低級アルカノイルオ
キシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アル
キルアミノ基、カルバモイル基、低級アルキルアミノカ
ルボニル基、ジ低級アルキルアミノカルボニル基、カル
ボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキ
ルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキル
スルフォニル基、低級アルカノイルアミノ基、低級アル
キルスルフォンアミド基等が挙げられる。ここで言う低
級とは当該基のアルキル部分が低級アルキルであること
を意味し、そのような低級アルキルとしてはメチル、エ
チル、プロピル、2−プロピル、ブチル等の炭素原子数
が1〜4個のアルキルを挙げることができ、またジ低級
アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミノカルボニル基
の2個の低級アルキル基は同一でも異なっていてもよ
い。置換基は一個または同一もしくは異なって複数個あ
ってもよい。置換アルキル基の置換基としては、水酸
基、低級アルコキシ基、シアノ基、カルボキシル基、カ
ルバモイル基、低級アルコキシカルボニル基等が挙げら
れる。ここで言う低級とは当該基のアルキル部分が低級
アルキルであることを意味し、そのような低級アルキル
としてはメチル、エチル、プロピル、2−プロピル、ブ
チル等の炭素原子数が1〜4個のアルキルを挙げること
ができる。
【0009】酸付加塩を形成する酸としては、例えば塩
酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸などの無機酸また
は、例えば酢酸、シュウ酸、くえん酸、りんご酸、酒石
酸、フマール酸、マレイン酸、メタンスルホン酸などの
有機酸が挙げられる。4級アンモニウム塩としては、式
4 −L1 (式中R4 は低級アルキル基を表し、L1
脱離基を表す)で表されるアルキル化剤と反応させ、必
要に応じて陰イオンを生理学的に許容可能な他の陰イオ
ンに交換することにより生成できる4級アンモニウム塩
が挙げられる。好ましい低級アルキル基としては、メチ
ル基及びエチル基が挙げられる。生理学的に許容可能な
陰イオンとしては、ハロゲンイオン、サルフェート、ホ
スフェート、ナイトレート、アセテート、サイトレー
ト、フマレート、サクシネート等が挙げられる。好まし
い脱離基としては、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子
が挙げられる。
【0010】本発明化合物は1個若しくは複数個の不斉
炭素原子を含んでおり、立体異性体が存在する。本発明
化合物には各異性体の混合物や単離されたものを含む。
【0011】前記一般式(1)で表される化合物または
その酸付加塩もしくは4級アンモニウム塩は、これを虚
血性心疾患、虚血性脳疾患、虚血性腎疾患等を治療また
は予防する薬剤として用いるにあたり、非経口的または
経口的に投与することができる。すなわち溶液、乳剤、
懸濁液等の液剤の型にしたものを注射剤として投与する
ことができ、必要に応じて緩衝剤、溶解補助剤、等張剤
等を添加することもできる。坐剤の型で直腸投与するこ
ともできる。このような投与剤型は通常の担体、賦型
剤、結合剤、安定剤などと有効成分を配合することによ
り、一般的方法に従って製造することができる。また通
常用いられる投与形態、例えば錠剤、カプセル剤、シロ
ップ剤、懸濁液等の型で経口的に投与することができ
る。投与量、投与回数は症状、年令、体重、投与形態等
によって異なるが、注射剤として投与する場合には、通
常は成人に対し0.1〜100mgを1回または数回に
分けて投与することができ、場合によっては点滴静注す
ることもできる。経口投与する場合は、1日0.1〜1
000mg(好ましくは0.1〜100mg)を1日1
回または数回に分けて投与することができる。
【0012】一般式(1)において環Wがベンゼン環ま
たは5〜6員環のヘテロ芳香環である本発明化合物は、
文献記載の方法を参考にして合成することができる(例
えばケミカル・ファーマシューティカル・ブレティン、
Chem. Pharm. Bull., 1981,29, 2135 - 2156)。
【化18】 (式中、環W1 はベンゼン環または5〜6員環のヘテロ
芳香環を表す。X1 は塩素原子、臭素原子またはヨウ素
原子を表し、X2 はフッソ原子、塩素原子または臭素原
子を表す。Y1 はYと同様な基を表すが、その置換基と
してアミノ基、アルキルアミノ基または水酸基などの反
応性基を有する場合はこれらは保護基で保護されている
ものとする。R11はR1 と同様な基を表すが、R1 がア
ミノ基、アルキルアミノ基または水酸基などの反応性基
である場合、これらが保護基で保護されているものを表
す。R21はR2 と同様な基を表すが、R2 がアミノ基、
アルキルアミノ基または水酸基などの反応性基である場
合、これらが保護基で保護されているものを表す。Z1
はZと同様な基を表すが、A1 とA2 とも水素原子であ
る基を除き、且つA1 、A2 またはA3 が置換基として
アミノ基、アルキルアミノ基または水酸基などの反応性
基を有する場合はこれらは保護基で保護されているもの
とする。)
【0013】一般式(2)で表される原料化合物は市販
されているか、若しくは文献記載の方法で合成すること
ができる(例えばジャーナル・オブ・オーガニック・ケ
ミストリー、J. Org. Chem., 1991, 56, 3750 - 3752
:ジャーナル・ヘテロサイクリック・ケミストリー、
J. Heterocyclic Chem., 1989, 26, 105:ケミカル・フ
ァーマシューティカル・ブレティン、Chem. Pharm. Bul
l., 1978, 26, 1633 -1651:ジャーナル・オブ・メデ
ィシナルケミストリー、J. Med. Chem., 1974, 17, 624
- 630)。アミノ基、アルキルアミノ基または水酸基等
の保護基としては、有機合成化学の分野で使われる通常
の一般的保護基(例えば水酸基の保護基としてはベンジ
ル基、アセチル基等;アミノ基の保護基としてはベンジ
ル基等)を挙げることができ、これらは通常の方法に従
って導入、除去することができる(例えばプロテクティ
ブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス、pr
otective groups in organic synthesis, 2nd ed., Joh
n Wily & Sons, Inc.:New Yorkに記載)。一般式(2)
で表されるケトン誘導体を公知の方法に従って、トリハ
ロ酢酸あるいはその酸ハライドでアシル化して、一般式
(3)で表されるアミド体とする。一般式(3)で表さ
れるケトン誘導体と一般式(4)で表される一級アミン
とを、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
テトロヒドロフラン等の非プロトン性極性溶媒中、0℃
〜50℃程度にて反応させると一般式(5)で表される
キナゾリノン誘導体もしくは一般式(6)で表されるイ
ミン誘導体または両者の混合物を得ることができる。一
般式(5)で表されるキナゾリノン誘導体と一般式
(6)で表されるイミン誘導体の生成比は、一般式
(3)で表されるケトン誘導体の構造、一般式(4)で
表される一級アミンの構造及び反応条件によって変化す
る。イミン誘導体(6)は、塩基の存在下上記溶媒中、
50〜100℃または溶媒の沸点までの間で加熱するこ
とにより、一般式(5)で表されるキナゾリノン誘導体
に変換できる。塩基としては、トリエチルアミンやピリ
ジン等の三級アミンまたは芳香族アミンが適当である。
一般式(5)で表されるキナゾリノン誘導体を、ジメチ
ルホルムアミド、テトロヒドロフラン等の非プロトン性
極性溶媒中、0℃〜室温程度にて、水素化ほう素ナトリ
ウム(NaBH4 )で処理することにより、トリハロメ
チル基を水素原子に置換した一般式(7)で表されるキ
ナゾリノン誘導体を得ることができる。このとき、ボラ
ン(BH3 )が基Z1 中の窒素原子に配位することがあ
る。この場合、通常エタノール、メタノール等のアルコ
ール系溶媒中、必要に応じて塩酸水溶液を加えて加熱還
流することによりボランを取り除くことができる。ボラ
ンが配位していない場合はこの操作は必要ない。
【0014】一般式(6)で表されるイミン誘導体から
は、下記ルートにても一般式(7)で表されるキナゾリ
ノン誘導体へ導くことができる。
【化19】 (式中、環W1 、Z1 、R11、R21、Y1 、及びX2
前記と同じ意味を表す。) イミン誘導体(6)をジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、テトロヒドロフラン等の非プロトン性極
性溶媒中、0℃〜50℃程度にて水素化ほう素ナトリウ
ムにて還元することにより、一般式(8)で表されるア
ミン誘導体に導くことができる。次いで、トリハロゲノ
アセチル基を除去して、一般式(9)で表されるジアミ
ン誘導体を得ることができる。トリハロゲノアセチル基
の除去は例えば、メタノール、エタノール等の低級アル
コール中、0℃〜50℃程度にて水素化ほう素ナトリウ
ムにて処理することにより好適に行なうことができる。
また、一般式(9)で表されるジアミン誘導体は、一般
式(6)で表されるイミン誘導体をメタノール、エタノ
ール等の低級アルコール中、0℃〜50℃程度にて水素
化ほう素ナトリウムにて処理することにより一段階で得
ることもできる。この時、一般式(10)で表されるイ
ミン誘導体が生成することがある。イミン誘導体(1
0)はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエー
テル系溶媒中室温から溶媒の沸点までの間で、水素化リ
チウムアルミニウム(LiAlH4 )にて還元してジア
ミン誘導体(9)に導くこともできる。一般式(9)で
表されるジアミン誘導体と1.0〜5倍当量の1,1′
−カルボニルジイミダゾールとを、塩化メチレン、クロ
ロホルム等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の溶媒中
で室温から溶媒の沸点の範囲で反応させることにより、
一般式(7)で表されるキナゾリノン誘導体を合成する
ことができる。また一般式(7)で表されるキナゾリノ
ン誘導体は、炭酸ハロゲン化物(例えばホスゲン、クロ
ロ炭酸アルキル等)と一般式(9)で表されるジアミン
誘導体を公知の手法に従って反応させることにより合成
することもできる。
【0015】一般式(7)で表されるキナゾリノン誘導
体から必要に応じて以下の操作を行なうことにより、一
般式(11)で表されるキナゾリノン誘導体を得ること
ができる。
【化20】 (式中、環W1 、Z、R1 、R2 、Y及びTは前記と同
じ意味を表す。) a)一般式(11)においてTが硫黄原子である化合物
を得るためには、ウレアからチオウレアへの変換。 b)Z1 の変換。 c)一般式(7)においてR11もしくはR21が保護され
ている場合、またはY1 、もしくはZ1 が保護された置
換基を有している場合には、保護基の除去。 d)R1 、R2 、Y1 が有している置換基、またはZ1
が有している置換基の変換。 ウレアからチオウレアへの変換は、二硫化炭素、トルエ
ン、キシレン等の不活性溶媒中、室温〜溶媒の沸点まで
の温度で五硫化リンと反応させることにより行なうこと
ができる。
【0016】Z1 の変換は、例えば化合物(7)が一般
式(12)で表されるキナゾリノン誘導体である場合、
公知の方法に従って脱ベンジル化を行なった後、還元ア
ミノ化反応またはアルキル化反応を行なうことにより、
一般式(15)または一般式(17)で表されるキナゾ
リノン誘導体に変換することができる。
【化21】 {式中、環W1 、環E、R11、R21、Y1 、X1 及びn
は前記の意味を表す。A31は、水素原子、メチル基また
はエチル基を表す。A32はアルキル基、置換アルキル
基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ヘテロアリール基、置換ヘテロア
リール基または基−CH2 3 (式中、R3はアルケニ
ル基またはアルキニル基を表す)を表すか、またはA31
とA32は互いに結合してシクロペンタン環、シクロヘキ
サン環もしくはシクロヘプタン環を形成する。A33はア
ルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、飽和ヘ
テロ環基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニ
ルアルキル基、アラルキル基、置換アラルキル基、ヘテ
ロアリールアルキル基、置換ヘテロアリールアルキル基
または基−CH2 3 (式中、R3 はアルケニル基また
はアルキニル基を表す)を表す}。還元アミノ化反応
は、一般式(13)で表される化合物と1〜5当量の一
般式(14)で表されるカルボニル化合物をメタノー
ル、エタノール等の低級アルコール中、0〜50℃にて
1〜5当量の還元剤で処理することにより行なうことが
できる。還元剤としては、水素化ほう素ナトリウム(N
aBH4 )、シアノ水素化ほう素ナトリウム(NaBH
3 CN)を用いることで好適に行なうことができる。ア
ルキル化反応は公知の方法に従って行なうことができ
る。例えば、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミ
ド、ジクロロメタン、メタノール、エタノール等の溶媒
中、一般式(13)で表される化合物と1〜5当量の一
般式(16)で表されるハロゲン化物を必要に応じて炭
酸カリウム、トリエチルアミン等の塩基の存在下、0℃
から溶媒の沸点までの温度にて行なうことができる。
【0017】また化合物(11)が一般式(18)で表
されるキナゾリノン誘導体である場合も同様にして、還
元アミノ化反応またはアルキル化反応を行なうことがで
きる。一般式(18)で表されるキナゾリノン誘導体は
それ自体(18)に含まれる一般式(20)で表される
キナゾリノン誘導体から前記方法により合成でき、一般
式(20)で表されるキナゾリノン誘導体は、一般式
(19)で表されるキナゾリノン誘導体を公知の方法に
従って脱ベンジル化することにより好適に得ることがで
きる。
【化22】 (式中、環W1 、R11、R21、Y1 、及びGは前記の意
味を表す。A21はA2 と同様な基を表すが、その置換基
としてアミノ基、アルキルアミノ基または水酸基などの
反応性基を有する場合はこれらは保護基で保護されてい
るものとする。)一般式(7)においてR11もしくはR
21が保護されている場合、またはY1 、もしくはZ1
保護された置換基を有している場合における保護基の除
去方法としては、有機合成化学の分野で使われる通常の
一般的脱保護方法により行うことができる(例えばプロ
テクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセ
シス、protective groups in organic synthesis, 2nd
ed., John Wily & Sons, Inc.:New Yorkに記載)。
1 、R2 、Y1 が有している置換基、またはZ1 が有
している置換基の変換としては例えば、低級アルキルチ
オ基を酸化することにより低級アルキルスルフィニル基
もしくは低級アルキルスルホニル基へ変換することがで
き、ニトロ基を還元してアミノ基へ変換することがで
き、アミノ基をアルキル化することによりモノまたはジ
アルキル体を得ることもでき、あるいはアミノ基をアシ
ル化することもできる。このような置換基の変換反応
は、有機合成化学の分野で通常行なわれる一般的技術に
より実施することができる。
【0018】一般式(11)で表されるキナゾリノン誘
導体において、Tが硫黄原子である化合物(22)は、
一般式(9)で表されるジアミン誘導体から下記の方法
で合成することもできる。
【化23】 (式中、環W1 、R11、R21、Y1 、Z1 、R1
2 、Z及びYは前記の意味を表す。)一般式(9)で
表されるジアミン誘導体と1.0〜5倍当量の1,1′
−チオカルボニルジイミダゾールとを、塩化メチレン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の
溶媒中で室温から溶媒の沸点の範囲で反応させることに
より、一般式(21)で表されるキナゾリノン誘導体を
合成することができる。ついで、必要に応じて化合物
(7)における場合と同様にして置換基の変換、脱保護
等をおこなって一般式(22)で表されるキナゾリノン
誘導体に導くことができる。
【0019】前記一般式(1)において、環Wが5〜1
0員環のシクロアルケン環またはシクロアルカン環であ
る化合物は以下の方法で合成できる。
【化24】 (式中、Y1 、Z1 、X1 、Y、R1 、R2 、Z及びT
は前記の意味を表す。環W2 は5〜10員環のシクロア
ルケン環またはシクロアルカン環を表す。R12はR11
定義からハロゲン原子を除いたものを表し、R22はR21
の定義からハロゲン原子を除いたものを表す。R5 は低
級アルキル基を表す。また、式中、太い実線と点線は隣
接する橋頭位の炭素原子同士の相対的な立体配置を表す
ものであって、特定の光学異性体のみを意味するもので
はない。以後の構造式も同じ。)一般式(23)で表さ
れる原料化合物は文献記載の方法に従って合成できる
(例えばジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリ
ー、J. Org. Chem., 1992,57, 7285 - 7295:ケミスト
リー・レターズ、Chem. Lett. 1990, 1817 - 1820)。
また必要に応じて、シス体の化合物(23)を一般式
(24)で表されるトランス体に異性化して用いること
もできる。異性化は溶媒中、室温から溶媒の沸点までの
温度で、塩基で処理することにより行なうことができ
る。好ましくは、メタノール、エタノールまたはtert−
ブタノール等のアルコール系溶媒中、ナトリウムもしく
はカリウムのアルコキシドで処理することにより好適に
行なうことができる。一般式(23)もしくは一般式
(24)で表されるケトン誘導体を、メタノール、エタ
ノール等のアルコール系溶媒中、0℃〜室温程度にて水
素化ほう素ナトリウム等の還元剤で処理して一般式(2
5)で表されるアルコール誘導体とした後、水酸基をハ
ロゲン原子で置換して一般式(26)で表されるハロゲ
ン化物とする。ハロゲン原子への置換は、ジクロロメタ
ン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒中、室
温から溶媒の沸点までの間でトリフェニルホスフィン存
在下四塩化炭素、四臭化炭素、N−クロロこはく酸イミ
ドまたはN−ブロモこはく酸イミドと反応させることに
より好適に行なうことができる。またヨウ素体は、クロ
ル体もしくはブロモ体をアセトン、ジメチルホルムアミ
ド等の溶媒中室温〜60℃程度にて、よう化ナトリウム
で処理することにより得ることができる。一般式(2
6)で表されるハロゲン化物と一般式(4)で表される
一級アミンを溶媒中、室温から溶媒の沸点までの間にて
塩基の存在下反応させることにより、一般式(27)で
表されるキナゾリノン誘導体へ導くことができる。溶媒
としてはジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、アセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒、メタノ
ール、エタノール等のアルコール系溶媒、ジクロロエタ
ン等のハロゲン系溶媒を用いることができ、塩基として
は炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無機塩及びトリエ
チルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン等の
三級アミンを用いることができる。好ましくは、ジメチ
ルホルムアミド中トリエチルアミン、N,N−ジイソプ
ロピルエチルアミン等の三級アミン存在下、50〜10
0℃にて反応させることにより好適に得ることができ
る。化合物(27)において必要に応じて化合物(7)
において行なったa)、b)、c)もしくはd)の操作
またはこれらを組み合わせた操作を行なうことにより一
般式(28)で表されるキナゾリノン誘導体を得ること
ができる。この時、R1 もしくはR2 がハロゲン原子で
ある場合はR12もしくはR22が水酸基である化合物から
合成できる。このような置換基の変換反応は、有機合成
化学の分野で通常行なわれる一般的技術により実施する
ことができる。
【0020】4級アンモニウム塩は、例えば以下の方法
により合成することができる。
【化25】 (式中、環W、環E、R1 、R2 、Y、G及びTは前記
の意味を表す。A11はA1 の定義から水素原子を除いた
ものを表し、A22はA2 の定義から水素原子を除いたも
のを表し、A34はA3 の定義から水素原子を除いたもの
を表す。R4 は低級アルキル基を表し、L1 は脱離基を
表し、L- は生理学的に許容可能な陰イオンを表す。)
4級アンモニウム塩は、一般式(29)または一般式
(32)で表されるキナゾリノン誘導体と一般式(3
0)で表されるアルキル化剤を溶媒中、室温から溶媒の
沸点までの間で混合することにより得ることができる。
反応の進行が遅い時はオートクレーブ中120℃位まで
加熱すると好適に進行することがある。好ましい脱離基
としては、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げら
れる。好ましい溶媒としては、メタノール、エタノール
等のアルコール系溶媒、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル系溶媒等が挙げられる。陰イオンの交換は、所望の陰
イオンを含むアルカリ金属塩、例えばナトリウム塩また
はカリウム塩と反応させることによって行なうことがで
きる。
【0021】
【実施例】以下に製造例、製剤例及び試験例により本発
明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に
限定されるものではない。化合物の命名は下記構造式を
基本骨格として行なった。
【化26】
【0022】各製造例の化合物の構造式を以下に示す。
【化27】
【化28】
【化29】
【化30】
【化31】
【化32】
【化33】
【化34】
【化35】
【化36】
【化37】
【化38】
【0023】製造例1 6−クロロ−3−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]
−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナ
ゾリノンの合成 本化合物は、ケミカル・ファーマシューティカル・ブレ
ティン(Chem. Pharm.Bull., 1981, 29, 2135-2156 )
に記載されている方法に従って合成した。 a)5−クロロ−2−トリクロロアセチルアミノベンゾ
フェノンの合成 2−アミノ−5−クロロベンゾフェノン 23.2 g (100 m
mol)及びトリエチルアミン 11 g (110 mmol) のテトラ
ヒドロフラン 200 mL 溶液に、5〜15℃にてトリクロ
ロアセチルクロライド 20 g (110 mmol)を滴下した。室
温にて3時間攪拌した後反応液を水に空け、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下にて濃縮した。得ら
れた粗結晶をエチルアルコールで再結晶化して 33.8 g
(89.9 mmol) の標題化合物を得た。 b)6−クロロ−3−[3−(ジメチルアミノ)プロピ
ル]−4−フェニル−4−(トリクロロメチル)−3,
4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 5−クロロ−2−トリクロロアセチルアミノベンゾフェ
ノン 3.77 g (10 mmol) のジメチルスルホキシド 50 mL
溶液に、3−ジメチルアミノプロピルアミン 1.23 g (1
2 mmol) を加え室温にて24時間攪拌した。反応液を氷
水 200 mL に空け、析出した結晶を濾取した。得られた
粗結晶をクロロホルムとジメチルホルムアミドの混合溶
媒で再結晶化して 3.97 g (8.6 mmol)の標題化合物を得
た。 c)6−クロロ−3−[3−(ジメチルアミノ)プロピ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンの合成 6−クロロ−3−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]
−4−フェニル−4−(トリクロロメチル)−3,4−
ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノン 3.69 g(8 mmol)
のジメチルホルムアミド 80 mL溶液に、5〜15℃にて
水素化ほう素ナトリウム 605 mg (16 mmol) を加えた。
室温にて3時間攪拌した後氷水 300 mLに空け、酢酸エ
チルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下にて濃縮した。
残さをエチルアルコールで結晶化して標題化合物を 2.2
3 g (6.5 mmol)得た。上記フリー塩基 1.72 g (5.0 mmo
l)のエタノール溶液に、室温にてくえん酸一水和物 1.0
5 g (5 mmol)のエタノール溶液を加えた。1時間攪拌し
た後、溶媒を減圧下に留去し、残さをエタノールで結晶
化して標題化合物のくえん酸塩を 2.55 g (4.6 mmol)得
た。 融点 ; 157 - 159℃(再結晶溶媒:エタノール)
【0024】製造例2 3−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−4−シクロ
ヘキシル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノ
ンの合成 製造例1と同様にして、(2−アミノベンゾイル)シク
ロヘキサンと3−ジメチルアミノプロピルアミンから標
題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.65 (1H, brs), 7.17 (1H, m),
6.94 (2H, m), 6.73 (1H, m), 4.16 (1H, d, J=5.0 H
z), 4.04 (1H, m), 3.02 (1H, m), 2.28 (2H, m),2.17
(6H, s), 1.72 (7H, m), 1.04 (5H, m), 0.80 (1H, m). 融点 ; 124 - 125℃(再結晶溶媒:エタノール) 塩酸塩 融点 ; 183 - 184℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例3 3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−4−(3−ヒ
ドロキシフェニル)−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンの合成 a)3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−4−(3
−ベンジルオキシフェニル)−3,4−ジヒドロ−2
(1H)−キナゾリノンの合成 製造例1と同様にして、2−アミノ−3′−ベンジルオ
キシベンゾフェノンと2−(ジエチルアミノ)エチルア
ミンから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.29 〜7.43 (5H, m), 7.22 (1H,
m), 7.12 (1H, m), 6.83〜6.97 (6H, m), 6.66 (1H, d
d, J=7.9, 1.0 Hz), 5.63 (1H, s), 5.01 (2H,s), 3.77
〜3.87 (1H, m), 2.93〜3.03 (1H, m), 2.54〜2.71 (1
H, m), 2.39〜2.52 (5H, m), 0.97 (6H, t, J=7.3Hz). 融点 ; 128 - 129℃(再結晶溶媒:エタノール) b)3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−4−(3
−ヒドロキシフェニル)−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンの合成 3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−4−(3−ベ
ンジルオキシフェニル)−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノン 2.0 g (4.66 mmol)のメタノール 1
00 mL 溶液に5%パラジウム−炭素 200 mg を加え、水
素雰囲気下、室温にて5時間攪拌した。反応液をセライ
ト濾過し、濾液を減圧下にて濃縮した。析出した結晶を
メタノールで再結晶化して標題化合物を 1.30 g (3.83
mmol) 得た。 1H NMR (DMSO- d6 ) δ ; 9.45 (1H, s,
2 O交換消失), 9.33 (1H, s), 7.04 〜7.15 (3H,
m), 6.62〜6.83 (5H, m), 5.62 (1H, s), 3.68 (1H,
m), 2.77(1H, m), 2.34〜2.56 (6H, m), 0.89 (6H, t,
J=7.3Hz). 融点 ; 208 - 210℃(再結晶溶媒:メタノール) 塩酸塩 融点 ; 247 - 249℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)
【0025】製造例4 3−[2−(1−メチルピロリジン−2−イル)エチ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンの合成 製造例1と同様にして、2−アミノベンゾフェノンと2
−(2−アミノエチル)−1−メチルピロリジンから標
題化合物を約1:1のジアステレオマーの混合物として
合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.23 〜7.34 (5H, m), 7.13 (1H,
m), 7.00 (1H, m), 6.87 (1H, m), 6.71 (1H, m), 5.5
1 (0.5H, s), 5.49 (0.5H, s), 3.89〜4.00 (0.5H, m),
3.73〜3.84 (0.5H, m), 2.96〜3.07 (1H, m), 2.75〜
2.86 (1H, m), 2.25 (1.5H, s), 2.23 (1.5H, s), 1.84
〜2.14 (4H, m), 1.36〜1.78 (4H, m). 融点 ; 154 - 157℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例5 3−(ピペリジン−2−イル)メチル−4−フェニル−
3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例1と同様にして、2−アミノベンゾフェノンと2
−アミノメチルピペリジンから標題化合物を約1:1の
ジアステレオマーの混合物として合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.93 (1H, m), 6.74 〜7.49 (9H,
m), 5.56 (0.5H, s),5.52 (0.5H, s), 3.79〜4.00 (1
H, m), 2.52〜3.09 (4H, m), 1.10〜1.80 (6H,m). 融点 ; 193 - 195℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例6 3−(1−エチルピペリジン−3−イル)メチル−4−
フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノ
ンの合成 製造例1と同様にして、2−アミノベンゾフェノンと3
−(アミノメチル)−1−エチルピペリジンから標題化
合物を約2:3のジアステレオマーの混合物として合成
した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.04 (1H, brs), 7.22 〜7.35 (5
H, m), 6.74〜7.16 (4H, m), 5.52 (0.4H, s), 5.47
(0.6H, s), 3.94 (1H, m), 2.59〜3.01 (3H, m),2.44
(2H, m), 1.55〜2.19 (7H, m), 1.05 (3H, m). 塩酸塩 融点 ;約 250℃(分解、再結晶溶媒:エタノール).
【0026】製造例7 3−(モルホリン−2−イル)メチル−4−フェニル−
3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例1と同様にして、2−アミノベンゾフェノンと2
−アミノメチルモルホリンから標題化合物を約1:1の
ジアステレオマーの混合物として合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.80 (0.5H, brs), 7.71 (0.5H,
brs), 6.68 〜7.40 (9H, m), 5.74 (0.5H, s), 5.69
(0.5H, s), 3.35〜3.96 (4H, m), 2.43〜3.03 (5H, m). 製造例8 3−(1−エチルピロリジン−2−イル)メチル−4−
フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノ
ンの合成 製造例1と同様にして、2−アミノベンゾフェノンと2
−(アミノメチル)−1−エチルピロリジンから標題化
合物をジアステレオマーの混合物として 1.02g 合成し
た。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、メタノー
ル:クロロホルム 1:9)でジアステレオマーの混合
物を分離して、ジアステレオマーAを589 mg、ジアステ
レオマーBを 254 mg 、両者の混合物を 150 mg 得た。
ジアステレオマーAは、薄層クロマトグラフィー(展開
溶媒;メタノール:クロロホルム1:9)においてより
Rf値の大きいジアステレオマーであり、ジアステレオ
マーBはよりRf値の小さいジアステレオマーである。 ジアステレオマーA1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 9.59 (1H, brs), 6.80 〜7.35 (9
H, m), 5.81 (1H, s),4.04 (1H, dd, J=14, 3Hz), 3.18
(1H, m), 2.71〜3.02 (3H, m), 1.61〜2.39 (6H, m),
1.17 (3H, t, J=7Hz). 塩酸塩 融点 ; 250℃以上(再結晶溶媒:エタノール) ジアステレオマーB1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 9.02 (1H, brs), 6.81 〜7.39 (9
H, m), 5.83 (1H, s),3.94 (1H, dd, J=14, 6Hz), 3.29
(1H, m), 2.83〜3.11 (3H, m), 2.27〜2.46 (2H, m),
1.62〜1.93 (4H, m), 1.06 (3H, t, J=7Hz). 融点 ; 151 - 153℃(再結晶溶媒:エタノール)
【0027】製造例9 3−[(2S)−1−エチルピロリジン−2−イル]メ
チル−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンの合成 (S)−2−アミノメチル−1−エチルピロリジンを用
い、製造例8と同様にして標題化合物をジアステレオマ
ーの混合物として合成した。カラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、メタノール:クロロホルム 1:9)で
ジアステレオマーの混合物を分離して、ジアステレオマ
ーA1を 11.8 g 、ジアステレオマーB1を 4.62 g 得
た。ジアステレオマーA1は、薄層クロマトグラフィー
(展開溶媒;メタノール:クロロホルム 1:9)にお
いてよりRf値の大きいジアステレオマーであり、ジア
ステレオマーB1はよりRf値の小さいジアステレオマ
ーである。ジアステレオマーA1は製造例8で合成した
ジアステレオマーAの光学活性体であり、ジアステレオ
マーB1はジアステレオマーBの光学活性体である。 ジアステレオマーA1:塩酸塩 融点 ; 299.5 - 302℃(再結晶溶媒:エタノール) [α] D 24 +177.3 °(c 1.07,メタノール) ジアステレオマーB1:塩酸塩 融点 ; 302.5 - 304℃(再結晶溶媒:エタノール) [α] D 24 −204.9 °(c 0.943, メタノール) 製造例10 3−[(2R)−1−エチルピロリジン−2−イル]メ
チル−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンの合成 (R)−2−アミノメチル−1−エチルピロリジンを用
い、製造例8と同様にして標題化合物をジアステレオマ
ーの混合物として合成した。カラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、メタノール:クロロホルム 1:9)で
ジアステレオマーの混合物を分離して、ジアステレオマ
ーA2を 9.89 g 、ジアステレオマーB2を 4.12 g 得
た。ジアステレオマーA2は、薄層クロマトグラフィー
(展開溶媒;メタノール:クロロホルム 1:9)にお
いてよりRf値の大きいジアステレオマーであり、ジア
ステレオマーB2はよりRf値の小さいジアステレオマ
ーである。ジアステレオマーA2は製造例8で合成した
ジアステレオマーAの光学活性体であり、製造例9で合
成したジアステレオマーA1の光学異性体である。同様
にジアステレオマーB2はジアステレオマーBの光学活
性体であり、ジアステレオマーB1の光学異性体であ
る。 ジアステレオマーA2:塩酸塩 融点 ; 305 - 306.5℃(再結晶溶媒:エタノール) [α] D 24 −178.2 °(c 0.995, メタノール) ジアステレオマーB2:塩酸塩 融点 ; 305 - 307.5℃(再結晶溶媒:エタノール) [α] D 24 +203.6 °(c 0.978, メタノール)
【0028】製造例11 3−(1−ベンジルピロリジン−2−イル)メチル−4
−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリ
ノンの合成 製造例1と同様にして、2−アミノベンゾフェノンと2
−(アミノメチル)−1−ベンジルピロリジンから標題
化合物を約2:3のジアステレオマーの混合物として合
成した。 塩酸塩1 H NMR(CD3 OD) δ ; 6.82 〜7.90 (14H, m), 5.66 (0.
4H, s), 5.45 (0.6H, s), 3.78 〜4.87 (4H, m), 2.86
〜3.63 (3H, m), 1.67〜2.69 (4H, m). 製造例12 3−(キヌクリジン−3−イル)メチル−4−フェニル
−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例1と同様にして、2−アミノベンゾフェノンと3
−アミノメチルキヌキリジンから標題化合物を約1:1
のジアステレオマーの混合物として合成した。但し、キ
ヌクリジンの窒素原子に配位したボラン(BH3 )は、
2N塩酸/テトラヒドロフラン中加熱還流することによ
り取り除いた。 塩酸塩1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.96 (0.5H, brs), 8.87 (0.5H,
brs), 7.22 〜7.36 (5H, m), 7.01〜7.16 (2H, m), 6.7
9〜6.90 (2H, m), 5.47 (0.5H, s), 5.42 (0.5H, s),
3.88〜4.19 (1H, m), 2.65〜3.66 (6H,m), 2.34 〜2.48
(1H, m), 2.01〜2.16 (1H, m), 1.40〜1.99 (5H, m). 製造例13 3−(キヌクリジン−4−イル)メチル−4−フェニル
−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例1と同様にして、2−アミノベンゾフェノンと4
−アミノメチルキヌキリジンから標題化合物を合成し
た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.10 〜7.47 (7H, m), 6.88〜7.0
0 (1H, m), 6.68〜6.77(1H, m), 5.39 (2H, s), 3.93
(2H, d, J=14Hz), 2.89 (6H, brt, J=8Hz), 2.44 (2H,
d, J=14Hz), 1.36 〜1.65 (6H, m).
【0029】製造例14 3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)メチル−4
−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリ
ノンの合成 製造例1と同様にして、2−アミノベンゾフェノンと4
−(アミノメチル)−1−ベンジルピペリジンから標題
化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.48 (1H, s), 7.20 〜7.31 (10
H, m), 7.02 〜7.15 (2H, m), 6.85〜6.91 (1H, m), 6.
71 (1H, d, J=7.9Hz), 5.41 (1H, s), 3.90 (1H,dd, J=
14, 7.3Hz), 3.47 (2H, s), 2.85 (2H, brd, J=11Hz),
2.56 (1H, dd, J=14, 6.9Hz), 1.87 〜1.95 (2H, m),
1.66〜1.8 (3H, m), 1.24 〜1.42 (2H, m). 融点 ; 163 - 165℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例15 3−(ピロリジン−2−イル)メチル−4−フェニル−
3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 3−(1−ベンジルピロリジン−2−イル)メチル−4
−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリ
ノン 15.98 g (40.2 mmol)のエタノール溶液 300 mL
に、ぎ酸アンモニウム 13.61 g (216 mmol) 、10%パ
ラジウム−炭素 1.64 g を加え、5時間加熱還流した。
冷却後反応液をセライト濾過し、濾液を減圧下にて濃縮
した。残さに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ク
ロロホルムで抽出した。有機層を炭酸カリウムで乾燥し
た後減圧下にて濃縮した。残さをカラムクロマトグラフ
ィー(シリカゲル、アンモニア水:メタノール:クロロ
ホルム 5:100:900)で精製して、標題化合物
を約1:1のジアステレオマーの混合物として 9.32 g
(30.3 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.32 (1H, m), 7.21 〜7.37 (5H,
m), 6.99〜7.14 (2H,m), 6.74〜6.89 (2H, m), 5.81
(0.5H, s), 5.64 (0.5H, s), 3.89〜4.03 (1H,m), 3.41
〜3.51 (1H, m), 2.67〜3.07 (3H, m), 2.02 (1H, br
s), 1.64〜1.89 (3H, m), 1.31 (1H, m). 融点 ; 163 - 164℃(再結晶溶媒:酢酸エチル)
【0030】製造例16 3−[1−(2−プロピル)ピロリジン−2−イル]メ
チル−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンの合成 3−(ピロリジン−2−イル)メチル−4−フェニル−
3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノン 554 mg
(1.80 mmol) のメタノール溶液 30 mL溶液に、氷冷下1
0%塩酸/エタノール溶液 660 mg 、アセトン 523 mg
(9.00 mmol) 、シアノ水素化ほう素ナトリウム 566 mg
(9.00 mmol) を加えた。室温にて10時間攪拌した後、
反応液を減圧下にて濃縮した。残さに飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層
を炭酸カリウムで乾燥した後減圧下にて濃縮した。残さ
をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、メタノー
ル:クロロホルム 1:9)にて分離精製して、ジアス
テレオマーAを 279 mg 、ジアステレオマーBを 71 mg
得た。ジアステレオマーAは、薄層クロマトグラフィー
(展開溶媒;メタノール:クロロホルム 1:9)にお
いてよりRf値の大きいジアステレオマーであり、ジア
ステレオマーBはよりRf値の小さいジアステレオマー
である。 ジアステレオマーA1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 9.80 (1H, brs), 7.19 〜7.36 (5
H, m), 7.00〜7.13 (2H, m), 6.82〜6.87 (2H, m), 5.7
2 (1H, s), 3.86 (1H, dd, J=14, 3Hz), 3.18 (1H, m),
2.90〜2.97 (2H, m), 2.76 (1H, dd, J=14, 9Hz), 2.4
6〜2.52 (1H, m), 1.65〜1.82 (4H, m), 1.20 (3H, d,
J=7Hz), 1.06 (3H, d, J=7Hz). ジアステレオマーB:塩酸塩1 H NMR(CD3 OD) δ ; 7.29 〜7.40 (5H, m), 6.89〜7.2
3 (4H, m), 5.70 (1H,s), 3.81〜3.89 (1H, m), 3.38〜
3.61 (3H, m), 3.18〜3.27 (1H, m), 1.88〜2.13 (5H,
m), 1.31 (3H, d, J=7Hz), 1.14 (3H, d, J=7Hz). 融点 ; 250℃以上(再結晶溶媒:エタノール)
【0031】製造例17 3−[1−(テトラヒドロピラン−4−イル)ピロリジ
ン−2−イル]メチル−4−フェニル−3,4−ジヒド
ロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例16と同様にして、3−(ピロリジン−2−イ
ル)メチル−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンとテトラヒドロ−4H−ピラン−4
−オンから標題化合物をジアステレオマーの混合物とし
て得た。ジアステレオマーAは、薄層クロマトグラフィ
ー(展開溶媒;メタノール:クロロホルム1:9)にお
いてよりRf値の大きいジアステレオマーであり、ジア
ステレオマーBはよりRf値の小さいジアステレオマー
である。 ジアステレオマーA:塩酸塩1 H NMR(CD3 OD) δ ; 7.28 〜7.40 (5H, m), 7.06〜7.2
1 (2H, m), 6.87〜6.96(2H, m), 5.77 (1H, s), 3.86〜
4.12 (3H, m), 3.22〜3.64 (7H, m), 1.62〜2.15 (8H,
m). 融点 ; 250℃以上(再結晶溶媒:エタノール) ジアステレオマーB:塩酸塩1 H NMR(CD3 OD) δ ; 6.87 〜7.53 (9H, m), 5.80 (1H,
s), 3.74〜3.96 (3H,m), 3.26〜3.71 (6H, m), 1.61〜
2.15 (9H, m). 製造例18 3−(1−シクロヘキシルピロリジン−2−イル)メチ
ル−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キ
ナゾリノンの合成 製造例16と同様にして、3−(ピロリジン−2−イ
ル)メチル−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンとシクロヘキサノンから標題化合物
をジアステレオマーの混合物として得た。ジアステレオ
マーAは、薄層クロマトグラフィー(展開溶媒;メタノ
ール:クロロホルム 1:9)においてよりRf値の大
きいジアステレオマーであり、ジアステレオマーBはよ
りRf値の小さいジアステレオマーである。 ジアステレオマーA:塩酸塩1 H NMR(CD3 OD) δ ; 6.84 〜7.37 (9H, m), 5.77 (1H,
s), 3.84〜4.04 (2H,m), 3.40〜3.52 (1H, m), 3.15〜
3.33 (2H, m), 1.47〜2.24 (9H, m), 1.14〜1.43 (6H,
m). ジアステレオマーB:塩酸塩1 H NMR(CD3 OD) δ ; 7.30 〜7.43 (5H, m), 7.18〜7.2
4 (1H, m), 7.06〜7.09(1H, m), 6.90〜6.99 (2H, m),
5.75 (1H, s), 3.87〜3.92 (1H, m), 3.58〜3.82 (2H,
m), 3.42〜3.51 (1H, m), 3.24〜3.34 (1H, m), 3.03〜
3.13 (1H, m),1.81〜2.17 (8H, m), 1.64 (1H, m), 1.1
3〜1.45 (5H, m). 融点 ; 250℃以上(再結晶溶媒:イソプロピルアルコー
ル)
【0032】製造例19 3−[1−(テトラヒドロチオフェン−3−イル)ピロ
リジン−2−イル]メチル−4−フェニル−3,4−ジ
ヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例16と同様にして、3−(ピロリジン−2−イ
ル)メチル−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンとテトラヒドロチオフェン−3−オ
ンから標題化合物をジアステレオマーの混合物として得
た。本化合物には4種類のジアステレオマーが存在する
が、薄層クロマトグラフィー(展開溶媒;メタノール:
クロロホルム 1:9)でよりRf値の大きい物から順
に、ジアステレオマーA、B、C、Dと命名した。カラ
ムクロマトグラフィー(展開溶媒;メタノール:クロロ
ホルム 1:9)でジアステレオマーの混合物を分離し
て、ジアステレオマーAとジアステレオマーBの混合
物、及びジアステレオマーCとジアステレオマーDの混
合物として単離した。 ジアステレオマーAとジアステレオマーBの混合物1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.05 〜8.12 (1H, m), 6.73〜7.3
2 (9H, m), 5.70 (0.4H, s), 5.68 (0.6H, s), 3.68〜
3.86 (2H, m), 2.45〜3.20 (10H, m), 1.74 〜2.20 (4
H, m). 融点 ; 123 - 126℃(再結晶溶媒:エタノール) ジアステレオマーCとジアステレオマーDの混合物:塩
酸塩1 H NMR(CD3 OD) δ ; 7.29 〜7.39 (5H, m), 7.18〜7.2
4 (1H, m), 6.90〜7.09(3H, m), 5.76 (1H, s), 3.79〜
3.91 (3H, m), 3.58〜3.64 (2H, m), 3.29〜3.40 (1H,
m), 2.70〜3.08 (4H, m), 1.93〜2.36 (6H, m). 融点 ; 250℃以上(再結晶溶媒:イソプロピルアルコー
ル) 製造例20 3−(1−シアノメチルピロリジン−2−イル)メチル
−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナ
ゾリノンの合成 3−(ピロリジン−2−イル)メチル−4−フェニル−
3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノン 203 mg
(0.66 mmol) 、ブロモアセトニトリル 95 mg (0.79 mmo
l)、トリエチルアミン 283 mg (2.8 mmol)のジメチルホ
ルムアミド 5mL溶液を70℃にて6時間攪拌した。冷却
後反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層
を水で洗浄し、炭酸カリウムで乾燥した後減圧下にて濃
縮した。残さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル、メタノール:クロロホルム 1:9)で精製して標
題化合物を約1:2のジアステレオマーの混合物として
226mg (0.65 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.02 (0.4H, brs), 7.90 (0.6H,
brs), 7.23 〜7.36 (5H, m), 6.75〜7.18 (4H, m), 5.7
0 (0.7H, s), 5.62 (0.3H, s), 3.91〜4.09 (1H, m),
3.57〜3.75 (2H, m), 2.54〜3.09 (5H, m), 1.62〜2.03
(3H, m).
【0033】製造例21 3−(1−エチルピペリジン−2−イル)メチル−4−
フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノ
ンの合成 製造例20と同様にして、4−フェニル−3−(ピペリ
ジン−2−イル)メチル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンとヨウ化エチルから標題化合物を約
1:1のジアステレオマーの混合物として合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.05 (1H, brs), 7.24 〜7.36 (5
H, m), 6.74〜7.16 (4H, m), 5.48 (1H, m), 4.16 (1H,
m), 2.35〜2.96 (8H, m), 1.30〜1.77 (4H, m), 0.99
(3H, t , J=7Hz). 製造例22 3−(4−エチルモルホリン−2−イル)メチル−4−
フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノ
ンの合成 製造例20と同様にして、3−(モルホリン−2−イ
ル)メチル−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンとヨウ化エチルから標題化合物を約
2:3のジアステレオマーの混合物として合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.08 〜7.38 (6H, m), 6.99〜7.0
6 (1H, m), 6.83〜6.92(1H, m), 6.65〜6.73 (1H, m),
5.75 (0.4H, s), 5.71 (0.6H, s), 4.22 (0.4H, dt, J=
2, 11Hz), 4.17 (0.6H, dt, J=2, 11Hz), 4.12 (0.6H,
dd, J=15, 2Hz), 3.94 (0.4H, dd, J=14, 4Hz), 3.70〜
3.90 (2H, m), 2.96 (0.6H, dd, J=15,3Hz), 2.60〜2.8
6 (2.2H, m), 2.37 (2H, q, J=7.2Hz), 2.06 (1.2H, J=
12, 3Hz), 1.94 (0.6H, dd, J=12, 11Hz), 1.74 (0.4H,
dd, J=12, 11Hz), 1.06 (1.8H,t, J=7.2Hz), 1.05 (1.
2H, t, J=7.2Hz). 製造例23 3−(4−ベンジルモルホリン−2−イル)メチル−4
−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリ
ノンの合成 製造例20と同様にして、3−(モルホリン−2−イ
ル)メチル−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンとベンジルブロマイドから標題化合
物を約2:3のジアステレオマーの混合物として合成し
た。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.64 (0.6H, brs), 7.57 (0.4H, b
rs), 7.17〜7.43 (9H,m), 7.12 (0.6H, dt, J=8, 1Hz),
7.11 (0.4H, dt, J=8, 1Hz), 7.02 (0.4H, s), 7.00
(0.6H, s), 6.88 (0.6H, dt, J=7, 1Hz), 6.87 (0.4H,
dt, J=7, 1Hz),6.72 (0.6H, dd, J=8, 1Hz), 6.70 (0.4
H, dd, J=8, 1Hz), 5.77 (0.4H, s), 5.68 (0.6H, s),
4.11 (0.6H, dd, J=15, 6Hz), 3.70〜3.95 (2.4H, m),
3.30〜3.67 (3H, m), 2.95 (0.6H, dd, J=15, 4Hz), 2.
48〜2.85 (2.2H, m), 2.00〜2.19(1.6H, m), 1.83 (0.6
H, dd, J=11, 10Hz).
【0034】製造例24 3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4−フェ
ニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの
合成 a)N−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−2−
(トリクロロアセチルアミノ)ベンゾフェノンイミン 製造例1の方法と同様にして2−アミノベンゾフェノン
より得た2−トリクロロアセチルアミノベンゾフェノン
40.8 g (119 mmol)、4−アミノ−1−ベンジルピペリ
ジン 25.0 g (131 mmol)をジメチルスルホキシド 300 m
L に溶解し、約40℃にて15時間攪拌した。反応液を
水に空け、析出した結晶を濾取した。得られた粗結晶を
酢酸エチルで再結晶化して標題化合物を 44.8 g (86.9
mmol) 得た。 1H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.73 (1H, m), 7.2
2 〜7.54 (9H, m), 7.12〜7.16 (2H, m), 6.88〜6.99
(2H, m), 3.44 (2H, s), 3.06〜3.17 (1H, m), 2.82〜
2.86(2H, m), 1.96〜2.11 (2H,m), 1.72 〜1.82 (2H,
m), 1.50〜1.58 (2H, m). 融点 ; 151 - 152℃(再結晶溶媒:酢酸エチル) b)α−(2−アミノフェニル)−N−(1−ベンジル
ピペリジン−4−イル)ベンジルアミンの合成 N−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−2−(ト
リクロロアセチルアミノ)ベンゾフェノンイミン 44.7
g (86.8 mmol) のエタノール 150 mL 溶液に、5〜15
℃にて水素化ほう素ナトリウム 3.28 g (86.8 mmol) を
加え2時間攪拌した。更に5〜15℃にて水素化ほう素
ナトリウム 3.28 g (86.8 mmol) を加え、室温にて10
時間攪拌した。反応液に水を加え、エタノールを減圧下
に留去した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下にて
濃縮した。残さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル、酢酸エチル)で精製して標題化合物を 27.7 g (74.
5 mmol) 得た。 1H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.21 〜7.35 (10
H, m), 7.01 〜7.07 (1H, m), 6.84〜6.88 (1H, m), 6.
60〜6.65 (2H, m), 5.08 (1H, s), 4.74 (1H, br), 3.4
6 (2H, s), 2.79 (2H, brd, J=11Hz), 2.44 〜2.52 (1
H, m), 1.86〜2.00 (4H, m), 1.65 (2H, brs), 1.46〜
1.60 (2H, m). c)3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4−
フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノ
ンの合成 α−(2−アミノフェニル)−N−(1−ベンジルピペ
リジン−4−イル)ベンジルアミン 27.6 g (74.4 mmo
l) のテトラヒドロフラン 300 mL 溶液に1,1′−カ
ルボニルジイミダゾール 12.1 g (74.5 mmol) を加え、
8時間加熱還流した。放冷後反応液を減圧下にて濃縮
し、残さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、メ
タノール:クロロホルム 1:9)で精製した。得られ
た粗結晶をエタノールで再結晶化して標題化合物を 24.
0 g (60.3 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.11 〜7.40 (12H, m), 6.91 (1
H, dd, J=7.6, 1.0 Hz),6.83 (1H, s), 6.66 (1H, d, J
=7.6Hz), 5.56 (1H, s), 4.33〜4.45 (1H, m),3.45 (1
H, s), 2.90〜2.97 (1H, m), 2.74〜2.81 (1H, m), 1.9
1〜2.14 (2H, m), 1.42〜1.65 (2H, m). 融点 ; 199 - 200℃(再結晶溶媒:エタノール) くえん酸塩 融点 ; 159 - 161.5℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル
/エタノール)
【0035】製造例25 3−(キヌクリジン−3−イル)−4−フェニル−3,
4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例24と同様にして、2−アミノベンゾフェノンと
3−アミノキヌクリジンから標題化合物をジアステレオ
マーの混合物として合成した。カラムクロマトグラフィ
ー(シリカゲル、アンモニア水:メタノール:クロロホ
ルム 1:9:90)で分離して、ジアステレオマーA
を 258 mg 、ジアステレオマーBを 330mg 、両者の混
合物を 480 mg 得た。ジアステレオマーAは、薄層クロ
マトグラフィー(展開溶媒;アンモニア水:メタノー
ル:クロロホルム 1:9:90)においてよりRf値
の大きいジアステレオマーであり、ジアステレオマーB
はよりRf値の小さいジアステレオマーである。 ジアステレオマーA1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.41 (1H, brs), 7.12 〜7.36 (8
H, m), 6.96 (1H, m),6.77 (1H, m), 5.75 (1H, s), 4.
62 (1H, m), 2.77〜3.05 (5H, m), 2.50 (1H,m), 1.36
〜1.98 (5H, m). 塩酸塩 融点 ; 250℃以上(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/エ
タノール) ジアステレオマーB1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.59 (1H, m), 6.76 〜7.30 (9H,
m), 5.59 (1H, s), 3.87 (1H, m), 3.67 (1H, m), 2.7
2〜3.04 (5H, m), 1.40〜2.06 (5H, m). 製造例26 3−(1−メチルピペリジン−4−イル)−4−フェニ
ル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合
成 製造例24と同様にして2−アミノベンゾフェノンと4
−アミノ−1−メチルピペリリジンから標題化合物を合
成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.54 (1H, brs), 7.08 〜7.43 (7
H, m), 6.90 (1H, m),6.72 (1H, m), 5.55 (1H, s), 4.
40 (1H, m), 2.91 (1H, m), 2.73 (1H, m), 3.23 (3H,
s), 1.93〜2.12 (3H, m), 1.46〜1.69 (3H, m). 融点 ; 252 - 253℃(再結晶溶媒:エタノール)
【0036】製造例27 3−(1−ベンジルピロリジン−3−イル)−4−フェ
ニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの
合成 製造例24と同様にして、2−アミノベンゾフェノンと
3−アミノ−1−ベンジルピロリジンから標題化合物を
ジアステレオマーの混合物として合成した。カラムクロ
マトグラフィー(シリカゲル、酢酸エチル:クロロホル
ム 1:2)で分離して、ジアステレオマーAを 520 m
g (1.36 mmol) 、ジアステレオマーBとジアステレオマ
ーAの混合物を 1.08 g (2.82 mmol) 得た。ジアステレ
オマーAは、薄層クロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸
エチル:クロロホルム 1:2)においてよりRf値の
大きいジアステレオマーであり、ジアステレオマーBは
よりRf値の小さいジアステレオマーである。 ジアステレオマーA1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.50 (1H, m), 7.08 〜7.35 (12
H, m), 6.69 〜6.93 (2H, m), 5.77 (1H, s), 4.83 (1
H, m), 3.57 (1H, d, J=13Hz), 3.40 (1H, d, J=13Hz),
2.90 (1H, m), 2.68 (1H, m), 2.20〜2.34 (3H, m)2.1
6 (1H, m). 融点 ;約250 ℃(分解、再結晶溶媒:ジエチルエーテル
/エタノール) 製造例28 3−(ピロリジン−3−イル)−4−フェニル−3,4
−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例15と同様にして、3−(1−ベンジルピロリジ
ン−3−イル)−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2
(1H)−キナゾリノンのジアステレオマー混合物か
ら、標題化合物をジアステレオマー混合物として合成し
た。1 H NMR(CD3 OD) δ ; 7.29 〜7.41 (5H, m), 6.79〜7.1
5 (4H, m), 5.67 (1H,m), 4.20 (1H, m), 3.62 (1H,
m), 2.88〜3.18 (3H, m), 2.14〜2.53 (2H, m). 融点 ; 250℃以上(再結晶溶媒:エタノール) 製造例29 3−(1−エチルピロリジン−3−イル)−4−フェニ
ル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合
成 製造例20と同様にして、3−(ピロリジン−3−イ
ル)−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンとヨウ化エチルから標題化合物を約1:2
のジアステレオマーの混合物として得た。 1H NMR(CDCl
3 ) δ ; 7.52 〜7.58 (1H, m), 7.08〜7.41 (7H, m),
6.90 (1H, m), 6.73 (1H, m), 5.76 (0.7H, s), 5.72
(0.3H, s), 4.72〜4.91 (1H, m), 1.70〜2.88 (9H, m),
1.07 (0.9H, t, J=7Hz), 0.97 (2.1H, t, J=7Hz).
【0037】製造例30 3−(ピペリジン−4−イル)−4−フェニル−3,4
−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例15と同様にして、3−(1−ベンジルピペリジ
ン−4−イル)−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2
(1H)−キナゾリノンから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.37 〜7.41 (2H, m), 7.09〜7.3
1 (5H, m), 6.90 (1H,dt, J=1, 7Hz), 6.71 (1H, d, J=
8Hz), 5.56 (1H, s), 4.36 (1H, m), 3.13 (1H, m), 2.
99 (1H, m), 2.55〜2.73 (2H, m), 1.87〜2.02 (1H,
m), 1.56〜1.76 (2H, m), 1.29〜1.45 (1H, m). 融点 ; 213 - 215℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 塩酸塩 融点 ; 250℃以上(再結晶溶媒:エタノール) 製造例31 3−(1−アリルピペリジン−4−イル)−4−フェニ
ル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合
成 3−(ピペリジン−4−イル)−4−フェニル−3,4
−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノン 300 mg (0.976
mmol)のエタノール 20 mL溶液に、炭酸カリウム 202 m
g (1.46 mmol) 、臭化アリル 142 mg (1.17 mmol) を順
次加え、室温にて4時間攪拌した。反応液を減圧下にて
濃縮した後、残さに水を加えクロロホルムで抽出した。
有機層を炭酸カリウムで乾燥した後減圧下にて濃縮し
た。残さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ア
ンモニア水:メタノール:クロロホルム 1:9:9
0)で精製して標題化合物を 262 mg (0.67 mmol) 得
た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.06 〜7.45 (7H, m), 6.90 (1H,
brt, J=7.8Hz), 6.69(1H, brd, J=8Hz), 5.73〜5.92
(1H, m), 5.58 (1H, s), 5.05〜5.22 (2H, m),5.33〜5.
52 (1H, m), 2.78〜3.10 (4H, m), 1.87〜2.24 (3H,
m), 1.36〜1.80 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 190 - 195℃(再結晶溶媒:エタノール)
【0038】製造例32 3−[1−(2−プロピニル)ピペリジン−4−イル]
−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナ
ゾリノンの合成 製造例31と同様にして、3−(ピペリジン−4−イ
ル)−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンとプロパルギルブロマイドから標題化合物
を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 6.85 〜7.52 (6H, m), 6.68 (1H,
brd, J=8Hz), 5.55 (1H, s), 4.32 〜4.50 (1H, m),
3.25 (2H, d, J=2Hz), 2.71 〜3.40 (2H, m), 1.95〜2.
43 (3H, m), 2.21 (1H, t, J=2Hz), 1.40 〜1.90 (3H,
m). 融点 ; 198 - 201℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例33 3−(1−エチルピペリジン−4−イル)−4−フェニ
ル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合
成 製造例31と同様にして、3−(ピペリジン−4−イ
ル)−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンとヨウ化エチルから標題化合物を合成し
た。 塩酸塩1 H NMR (DMSO- d6 ) δ ; 9.58 〜9.76 (1H, brs), 9.5
4 (1H, s), 7.18〜7.45(6H, m), 7.09 (1H, dd, J=8,
1.5Hz), 6.77 〜6.89 (2H, m), 5.64 (1H, s),4.13〜4.
30 (1H, m), 3.21〜3.50 (2H, m), 2.72〜3.09 (4H,
m), 2.30〜2.59 (1H, m), 1.75〜1.99 (1H, m), 1.50〜
1.72 (2H, m), 1.16 (3H, t, J=7Hz). 融点 ; 295 - 296℃(分解、再結晶溶媒:ジエチルエー
テル/エタノール) 製造例34 3−[1−(2−ヒドロキシエチル)ピペリジン−4−
イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)
−キナゾリノンの合成 製造例31と同様にして、3−(ピペリジン−4−イ
ル)−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンとエチレンブロモヒドリンから標題化合物
を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.04 〜7.50 (7H, m), 6.90 (1H,
dt, J=1, 7.6Hz), 6.69 (1H, d, J=8Hz), 5.53 (1H,
s), 4.27〜4.45 (1H, m), 3.76〜3.89 (1H, m),3.55 (2
H, m), 2.91〜3.05 (2H, m), 2.49 (2H, m), 1.93〜2.2
8 (3H, m), 1.35〜1.72 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 261 - 265℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)
【0039】製造例35 3−(1−エトキシカルボニルメチルピペリジン−4−
イル)−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)
−キナゾリノンの合成 3−(ピペリジン−4−イル)−4−フェニル−3,4
−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノン 1.5 g (4.88 m
mol)のイソプロパノール溶液 30 mLに、ブロモ酢酸エチ
ル 896 mg (5.37 mmol) 、炭酸カリウム 853 mg 96.18
mmol) 、ヨウ化カリウム 20 mgを加え、3時間加熱還流
した。熱溶液を濾過し、固形物を熱イソプロパノール 2
00 mL で洗った。濾液を減圧下にて濃縮し、残さをカラ
ムクロマトグラフィー(シリカゲル、アンモニア水:メ
タノール:クロロホルム 1:9:90)で精製して標
題化合物を 1.88 g (4.37 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.71 〜7.83 (1H, brs), 7.05〜
7.43 (1H, m), 6.90 (1H, dt, J=1, 7Hz), 6.73 (1H,
d, J=8Hz), 5.57 (1H, s), 4.36〜4.54 (1H, m),4.17
(2H, q, J=7Hz), 3.16 (2H, s), 2.95 〜3.07 (1H, m),
2.79〜2.90 (1H,m), 2.00〜2.39 (3H, m), 1.45〜1.82
(2H, m), 1.25 (3H, t, J=7Hz), 1.17 〜1.30 (1H,
m). 塩酸塩 融点 ; 195 - 198℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例36 3−[1−(2−フリルメチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンの合成 3−(ピペリジン−4−イル)−4−フェニル−3,4
−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノン塩酸塩 344 mg
(1.0 mmol)、フルフラール 384 mg (4.0 mmL)のメタノ
ール 40 mL溶液に、氷冷下シアノ水素化ほう素ナトリウ
ム 123 mg (2.0mmol)を加えた。室温にて12時間攪拌
した後、反応液を減圧下にて濃縮した。残さに水を加
え、アンモニア水にてpH10とした後、クロロホルム
で抽出した。有機層を炭酸カリウムで乾燥した後減圧下
にて濃縮した。残さをカラムクロマトグラフィー(シリ
カゲル、メタノール:クロロホルム 1:9)で精製し
て標題化合物を 329 mg (0.85 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.31 〜7.37 (3H, m), 7.08〜7.2
8 (5H, m), 6.88〜6.94(1H, m), 6.60〜6.73 (2H, m),
6.29 (1H, dd, J=3, 2Hz), 6.16 (1H, d, J=3Hz), 5.56
(1H, s), 4.42 (1H, m), 3.49 (2H, s), 2.95 (1H, d,
J=10Hz), 2.79(1H, d, J=12Hz), 1.96〜2.17 (3H, m),
1.45〜1.69 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 205 - 206℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)
【0040】製造例36と同様にして、製造例37〜製
造例69の化合物を合成した。 製造例37 3−[1−(3−フリルメチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.35 〜7.39 (3H, m), 7.08〜7.2
9 (7H, m), 6.87〜6.93(1H, m), 6.68 (1H, d, J=8Hz),
6.34 (1H, d, J=1.6Hz), 5.56 (1H, s), 4.34〜4.43
(1H, m), 3.33 (2H, s), 2.96 (1H, d, J=8Hz), 2.81
(1H, d, J=11Hz),1.91 〜2.12 (3H, m), 1.41〜1.65 (3
H, m). 融点 ; 250℃以上(再結晶溶媒:エタノール) 製造例38 3−[1−(2−チエニルメチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.61 (1H, s), 7.38 (2H, m), 7.
08 〜7.29 (6H, m), 6.86〜6.93 (3H, m), 6.72 (1H,
d, J=8Hz), 5.56 (1H, s), 4.33 〜4.45 (1H, m), 3.68
(2H, s), 2.98 (1H, d, J=10Hz), 2.83 (1H, dd, J=1
1, 2.3Hz), 1.95〜2.18 (3H, m), 1.39〜1.67 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 213 - 214.5℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル
/エタノール) 製造例39 3−[1−(3−チエニルメチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.66 (1H, s), 7.35 〜7.40 (2H,
m), 7.07〜7.29 (7H,m), 7.02 (1H, m), 6.86〜6.92
(1H, m), 6.72 (1H, d, J=8Hz), 5.56 (1H, s),4.34 〜
4.42 (1H, m), 3.49 (2H, s), 2.95 (1H, brd, J=7Hz),
2.08 (1H, brd, J=11Hz), 1.93 〜2.17 (3H, m), 1.47
〜1.65 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 240 - 242℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例40 3−[1−(2−ピリジルメチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.55 (1H, m), 7.69 (1H, s), 7.
59 〜7.65 (1H, m), 7.08〜7.40 (9H, m), 6.87〜6.93
(1H, m), 6.73 (1H, d, J=8Hz), 5.57 (1H, s),4.37 〜
4.47 (1H, m), 3.61 (2H, s), 2.96 (1H, d, J=8.5Hz),
2.80 (1H, d,J=11Hz), 2.02 〜2.25 (3H, m), 1.51〜
1.65 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 253 - 255℃(再結晶溶媒:エタノール)
【0041】製造例41 3−[1−(3−ピリジルメチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.47 〜8.51 (2H, m), 7.53〜7.6
3 (2H, m), 7.37〜7.41(2H, m), 7.08〜7.30 (6H, m),
6.87〜6.93 ( 1H, m), 6.71 (1H, d, J=8Hz),5.55 (1H,
s), 4.32〜4.44 (1H, m), 3.46 (2H, s), 2.90 (1H, b
rd, J=10Hz),2.76 (1H, brd, J=11Hz), 1.95〜2.17 (3
H, m), 1.38〜1.65 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 252 - 254℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例42 3−[1−(4−ピリジルメチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.52 (2H, dd, J=4.6, 1.6Hz),
7.37〜7.41 (2H, m), 7.07〜7.31 (8H, m), 6.88〜6.94
(1H, m), 6.69 (1H, d, J=8Hz), 5.56 (1H, s),4.30
〜4.42 (1H, m), 3.44 (2H, s), 2.89 (1H, dd, J=10,
2Hz), 2.75 (1H,brd, J=11Hz), 1.97〜2.17 (3H, m),
1.45〜1.64 (3H, m). 融点 ; 241.5 - 243℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例43 3−[1−(2−イミダゾリルメチル)ピペリジン−4
−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 9.38 (1H, s), 8.31 (1H, s), 7.
18 〜7.41 (6H, m), 7.03〜7.17 (1H, m), 6.76〜6.87
(2H, m), 5.69 (1H, s), 4.09 (1H, m), 3.41 (2H, s),
2.83 (1H, m), 2.65 (1H, m), 1.97〜2.00 (3H, m),
1.37 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 303 - 305℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例44 3−[1−(2−ピロリルメチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 10.59 (1H, brs), 9.38 (1H, br
s), 7.15〜7.48 (6H, m), 7.05 (1H, m), 6.76〜6.83
(2H, m), 6.59 (1H, m), 5.88 (1H, m), 5.81 (1H, br
s), 5.70 (1H, s), 4.06 (1H, m), 3.33 (2H, s), 2.82
(1H, m), 2.62〜2.71 (1H, m), 1.83〜2.10 (3H, m),
1.28〜1.43 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 201 - 204℃(再結晶溶媒:エタノール)
【0042】製造例45 3−[1−(1−メチル−2−ピロリルメチル)ピペリ
ジン−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−
2(1H)−キナゾリノンの合成1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.08 〜7.58 (7H, m), 6.90 (2H,
m), 6.72 (2H, m), 5.54 (1H, s), 4.33〜4.57 (2H,
m), 3.46〜3.73 (1H, m), 2.95 (1H, m), 2.79 (1H,
m), 2.59 (3H, s), 1.88〜2.10 (3H, m), 1.20〜1.75
(3H, m). 製造例46 3−[1−(2−フェニルエチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.62 (1H, s), 7.37 〜7.41 (2H,
m), 7.09〜7.30 (10H,m), 6.88 〜6.93 (1H, m), 6.73
(1H, d, J=7.6Hz), 5.59 (1H, s), 4.40 〜4.50 (1H,
m), 3.06 (1H, d, J=10Hz), 2.93 (1H, d, J=11Hz), 2.
73〜2.79 (2H,m), 2.53〜2.58 (2H, m), 1.97〜2.20 (3
H, m), 1.43〜1.72 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 284 - 285.5℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル
/エタノール) 製造例47 3−[1−(シクロヘキシルメチル)ピペリジン−4−
イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)
−キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.67 (1H, s), 7.36 〜7.41 (2H,
m), 7.08〜7.29 (5H, m), 6.87〜6.93 (1H, m), 6.72
(1H, d, J=8Hz), 5.57 (1H, s), 4.34 〜4.44(1H, m),
2.90 (1H, d, J=7Hz), 2.77 (1H, d, J=11Hz), 1.62 〜
2.12 (11H, m), 1.35 〜1.51 (3H, m), 1.05〜1.25 (3
H, m), 0.75〜0.88 (2H, m). 塩酸塩 融点 ; 194 - 197.5℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル
/エタノール) 製造例48 3−[1−(4−シクロヘキセニルメチル)ピペリジン
−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2
(1H)−キナゾリノン 塩酸塩1 H NMR (DMSO- d6 ) δ ; 9.53 (1H, s), 9.35 〜9.53
(1H, m), 7.18〜7.45 (6H, m), 7.09 (1H, dt, J=1, 8H
z), 6.76 〜6.89 (2H, m), 5.55〜5.72 (3H, m), 4.12
〜4.38 (1H, m), 3.20〜3.55 (2H, m), 2.80〜3.07 (4
H, m), 2.39〜2.63(1H, m), 1.47〜2.26 (9H, m), 1.10
〜1.30 (1H, m). 融点 ; 160℃(分解、再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)
【0043】製造例49 3−(1−シクロヘキシルピペリジン−4−イル)−4
−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリ
ノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.39 (2H, d, J=7Hz), 7.05〜7.2
9 (5H, m), 6.88〜6.94(1H, m), 6.67 (1H, d, J=8Hz),
5.61 ( 1H, s), 4.45 (1H, m), 3.02 (1H, d,J=10Hz),
2.87 (1H, d, J=11Hz), 1.50〜2.46 (12H, m), 1.04
〜1.20 (5H, m). 融点 ; 213 - 215.5℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例50 3−[1−(テトラヒドロピラン−4−イル)ピペリジ
ン−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2
(1H)−キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.36 〜7.40 (2H, m), 7.08〜7.3
0 (5H, m), 6.88〜6.94(1H, m), 6.68 (1H, dd, J=8, 1
Hz), 5.58 (1H, s), 4.35 〜4.47 (1H, m), 3.97〜4.02
(2H, m), 3.36 (1H, d, J=11Hz), 3.32 (1H, d, J=12H
z), 3.01 (1H,brd, J=12Hz), 2.87 (1H, brd, J=11Hz),
2.10〜2.45 (3H, m), 1.89〜2.04 (1H, m), 1.37〜1.7
2 (7H, m). 融点 ; 282 - 284℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例51 3−[1−(1−フェニルエチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン 約1:1のジアステレオマーの混合物として得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.53 (1H, s), 7.06 〜7.49 (10
H, m), 6.75 〜6.90 (4H, m), 5.56 (0.5H, s), 5.55
(0.5H, s), 4.34 (1H, m), 3.38 (1H, m), 2.70〜3.09
(2H, m), 1.86〜2.08 (4H, m), 1.43〜1.67 (2H, m),
1.34 (1.5H, d, J=6Hz), 1.32 (1.5H, d, J=6Hz). 塩酸塩 融点 ; 282 - 285℃(再結晶溶媒:酢酸エチル/エタノ
ール) 製造例52 3−[1−(2−メトキシベンジル)ピペリジン−4−
イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)
−キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.08 〜7.39 (8H, m), 6.81〜6.9
4 (4H, m), 6.65 (1H,d, J=8Hz), 5.58 (1H, s), 4.39
(1H, m), 3.79 (3H, s), 3.52 (2H, s), 2.97(1H, m),
2.83 (1H, m), 1.95 〜2.17 (3H, m), 1.49〜1.65 (3H,
m). 融点 ; 197 - 198.5℃(再結晶溶媒:エタノール)
【0044】製造例53 3−[1−(3−メトキシベンジル)ピペリジン−4−
イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)
−キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.37 〜7.40 (2H, m), 7.08〜7.2
9 (6H, m), 6.76〜6.94(5H, m), 6.66 (1H, d, J=8Hz),
5.56 (1H, s), 4.38 (1H, m), 3.80 (3H, s),3.43 (2
H, s), 2.93 (1H, m), 2.78 (1H, m), 1.93 〜2.09 (3
H, m), 1.46〜1.65 (3H, m). 融点 ; 187 - 188.5℃(再結晶溶媒:エタノール) メソ酒石酸塩 融点 ; 122 - 140℃(再結晶溶媒:イソプロパノール) 製造例54 3−[1−(4−メトキシベンジル)ピペリジン−4−
イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)
−キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.35 〜7.39 (2H, m), 7.08〜7.2
9 (6H, m), 6.77〜6.93(4H, m), 6.65 (1H, dd, J=8, 1
Hz), 5.56 (1H, s), 4.37 (1H, m), 3.79 (3H,s), 3.39
(2H, s), 2.92 (1H, m), 2.77 (1H, m), 1.90 〜2.10
(3H, m), 1.46〜1.64 (3H, m). 融点 ; 218 - 219.5℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例55 3−[1−(2−クロロベンジル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.08 〜7.42 (11H, m), 6.88 〜
6.94 (1H, m), 6.83 (1H, brs), 6.66 (1H, d, J=8Hz),
5.57 (1H, s), 4.33 〜4.45 (1H, m), 3.56 (2H, s),
2.95 (1H, m), 2.81 (1H, m), 1.95〜2.26 (3H, m), 1.
45〜1.65 (3H, m). 融点 ; 206 - 207.5℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例56 3−[1−(3−クロロベンジル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.37 〜7.41 (2H, m), 7.08〜7.2
9 (9H, m), 6.88〜6.94(1H, m), 6.74 (1H, brs), 6.65
(1H, d, J=8Hz), 5.56 (1H, s), 4.33 〜4.43(1H, m),
3.41 (2H, s), 2.88〜2.92 (1H, m), 2.72〜2.77 (1H,
m), 1.94〜2.13 (3H, m), 1.46〜1.65 (3H, m). 融点 ; 204 - 205.5℃(再結晶溶媒:エタノール)
【0045】製造例57 3−[1−(4−クロロベンジル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.36 〜7.40 (2H, m), 7.08〜7.2
7 (9H, m), 6.91 (1H,m), 6.78 (1H, brs), 6.66 (1H,
d, J=8Hz), 5.55 (1H, s), 3.42 〜4.42 (1H,m), 3.40
(2H, s), 2.88 (1H, m), 2.74 (1H, m), 1.92〜2.12 (3
H, m), 1.38〜1.64 (3H, m). 融点 ; 233 - 234℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例58 3−[1−(3−ニトロベンジル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.19 (1H, d, J=2Hz), 8.08 (1H,
m), 7.61 (1H, d, J=8Hz), 7.39 〜7.48 (3H, m), 7.0
9〜7.31 (5H, m), 6.88〜6.94 (1H, m), 6.68 (1H, m),
5.57 (1H, s), 4.34〜4.45 (1H, m), 3.53 (2H, s),
2.89 (1H, m), 2.75 (1H, m), 1.96〜2.19 (3H, m), 1.
44 (3H, m). 融点 ; 213 - 214.5℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例59 3−[1−(3−メチルベンジル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.37 (2H, m), 7.04 〜7.28 (8H,
m), 6.87〜6.96 (2H,m), 6.66 (1H, d, J = 8Hz), 5.
56 (1H, s), 4.37 (1H, m), 3.41 (2H, s), 2.93 (1H,
m), 2.77 (1H, m), 2.32 (3H, s), 1.92〜2.08 (3H,
m), 1.39〜1.61 (3H, m). 融点 ; 190 - 191℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例60 3−[1−(3−ヒドロキシベンジル)ピペリジン−4
−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノン 塩酸塩1 H NMR (DMSO- d6 ) δ ; 9.37 (1H, brs), 9.25 (1H,
brs), 7.39 〜7.43 (2H, m), 7.26〜7.31 (3H, m), 7.1
5〜7.21 (1H, m), 7.02〜7.09 (2H, m), 6.76〜6.84 (2
H, m), 6.59〜6.66 (3H, m), 5.76 (1H, s), 4.12 (1H,
m), 3.29 (2H,s), 2.82 (1H, m), 2.69 (1H, m), 1.86
〜2.04 (3H, m), 1.35〜1.43 (3H, m). 融点 ; 222.5 - 224℃(再結晶溶媒:エタノール)
【0046】製造例61 3−[1−(3−シアノベンジル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.96 (1H, s), 7.63 (1H, s), 7.
48 〜7.54 (2H, m),7.35〜7.43 (3H, m), 7.09〜7.30
(5H, m), 6.87〜6.93 (1H, m), 6.75 (1H, d,J=8Hz),
5.57 (1H, s), 4.35 〜4.45 (1H, m), 3.46 (2H, s),
2.87 (1H, m),2.73 (1H, m), 1.96〜2.17 (3H, m), 1.4
1〜1.65 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 226 - 227.5℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル
/エタノール) 製造例62 3−[1−(3−エチルベンジル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.36 〜7.39 (2H, m), 7.06〜7.2
9 (9H, m), 6.88〜6.94(1H, m), 6.75 (1H, s), 6.65
(1H, d, J=8Hz), 5.57 (1H, s), 4.40 (1H, m),3.49 (2
H, s), 2.94 (1H, m), 2.78 (1H, m), 2.62 (2H, q, J=
7.6Hz), 1.93 〜2.08 (3H, m), 1.42〜1.64 (3H, m),
1.22 (3H, t, J=7.6Hz). 塩酸塩 融点 ; 175 - 179℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例63 3−[1−(3−メチルチオベンジル)ピペリジン−4
−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.39 (2H, d, J=7Hz), 7.02〜7.2
8 (9H, m), 6.87〜6.92(1H, m), 6.69〜6.90 (1H, m),
5.56 (1H, s), 4.39 (1H, m), 3.42 (2H, s),2.91 (1H,
m), 2.78 (1H, m), 2.47 (3H, s), 1.95〜2.03 (3H,
m), 1.51〜1.64(3H, m). 融点 ; 188 - 189℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例64 3−[1−(3−ヒドロキシメチルベンジル)ピペリジ
ン−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2
(1H)−キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.08 〜7.40 (11H, m), 6.91 (1
H, m), 6.81 (1H, s), 6.65 (1H, d, J=7Hz), 5.56 (1
H, s), 4.68 (2H, s), 4.38 (1H, m), 3.45 (2H,s), 2.
92 (1H, m), 2.77 (1H, m), 1.93〜2.09 (3H, m), 1.46
〜1.68 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 174 - 177℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)
【0047】製造例65 3−[1−(3−フルオロベンジル)ピペリジン−4−
イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)
−キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.58 (1H, brs), 7.38 〜7.41 (2
H, m), 7.01〜7.30 (8H, m), 6.87〜6.95 (2H, m), 6.7
2 (1H, d, J=8Hz), 5.56 (1H, s), 4.40 (1H, m), 3.44
(2H, s), 2.91 (1H, d, J=8Hz), 2.77 (1H, m), 1.95
〜2.14 (3H, m),1.43〜1.65 (3H, m). 融点 ; 202 - 203℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例66 3−[1−(3,4−メチレンジオキシベンジル)ピペ
リジン−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ
−2(1H)−キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.36 〜7.40 (2H, m), 7.08〜7.2
9 (4H, m), 6.87〜6.93(2H, m), 6.80 (1H, s), 6.65〜
6.73 (3H, m), 5.93 (2H, s), 5.56 (1H, s),4.38 (1H,
m), 3.35 (2H, s), 2.91 (1H, m), 2.78 (1H, m), 1.9
1〜2.06 (3H,m), 1.39〜1.64 (3H, m). 融点 ; 209 - 210℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例67 3−[1−(3−エトキシベンジル)ピペリジン−4−
イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)
−キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.15 (1H, brs), 7.37 〜7.41 (2
H, m), 7.07〜7.28 (6H, m), 6.73〜6.92 (5H, m), 5.5
6 (1H, s), 4.40 (1H, m), 4.01 (2H, q, J=7Hz), 3.42
(2H, s), 2.93 (1H, m), 2.79 (1H, m), 1.94 〜2.09
(3H, m), 1.48〜1.63 (3H, m), 1.40 (3H, t, J=7Hz). 塩酸塩 融点 ; 170 - 173℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例68 3−[1−(3−イソプロポキシベンジル)ピペリジン
−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2
(1H)−キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.37 〜7.40 (2H, m), 7.08〜7.2
9 (6H, m), 6.64〜6.94(6H, m), 5.56 (1H, s), 4.54
(1H, m), 4.38 (1H, m), 3.41 (2H, s), 2.93 (1H, m),
2.74 (1H, m), 1.94〜2.12 (3H, m), 1.49〜1.64 (3H,
m), 1.33 (3H,d, J=6.3Hz), 1.32 (3H, d, J=6.3Hz). 塩酸塩 融点 ; 204 - 206℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例69 3−[1−(2−メトキシエチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.53 (1H, brs), 7.36 〜7.39 (2
H, m), 7.08〜7.29 (5H, m), 6.90 (1H, m), 6.71 (1H,
m), 5.57 (1H, s), 4.39〜4.50 (1H, m), 3.40〜3.55
(4H, m), 3.32 (3H, s), 3.00〜3.06 (1H, m), 2.85〜
2.90 (1H, m), 2.53 (2H, m), 1.95〜2.17 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 102 - 104℃(再結晶溶媒:アセトン)
【0048】製造例70 3−[1−(3−アミノベンジル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンの合成 3−[1−(3−ニトロベンジル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン 540 mg (1.22 mmol) のエタノール 50 mL
溶液に、塩化第一すず二水和物 826 mg (3.66 mmol) を
加え、60℃にて12時間攪拌した。冷却後セライト濾
過し、濾液を減圧下にて濃縮した。残さをカラムクロマ
トグラフィー(シリカゲル、メタノール:クロロホルム
1:19)で精製して標題化合物を 210 mg (0.51 mm
ol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.36 〜7.40 (2H, m), 7.04〜7.2
9 (6H, m), 6.88〜6.94(2H, m), 6.63〜6.67 (2H, m),
6.54〜6.58 (1H, m), 5.56 (1H, s), 4.40 (1H, m), 3.
62 (2H, br), 3.37 (2H, s), 2.95 (1H, m), 2.81 (1H,
m), 1.95 〜2.13 (3H, m), 1.50〜1.63 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 247 - 249℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例71 3−[1−(3−メタンスルホンアミドベンジル)ピペ
リジン−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ
−2(1H)−キナゾリノンの合成 3−[1−(3−アミノベンジル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン 200 mg (0.48 mmol) のアセトニトリル 2
0 mL溶液に無水メタンスルホン酸 93 mg (0.53 mmol)を
加え、室温にて10時間攪拌した。反応液を減圧下にて
濃縮した後、残さをカラムクロマトグラフィー(シリカ
ゲル、メタノール:クロロホルム 1:9)で精製して
標題化合物を 180 mg (0.37 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.57 (1H, s), 7.08 〜7.38 (11
H, m), 6.86 〜6.92 (1H, m), 6.72 (1H, dd, J=8, 1H
z), 5.53 (1H, s), 4.31 (1H, m), 3.47 (1H, d,J=13H
z), 3.40 (1H, d, J=13Hz), 3.03 (3H, s), 2.93 (1H,
m), 2.82 (1H, m),1.98 〜2.08 (3H, m), 1.46〜1.57
(3H, m). 塩酸塩 融点 ; 219.5 - 222.5℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテ
ル/エタノール)
【0049】製造例72 3−[1−(3−アセチルアミノベンジル)ピペリジン
−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2
(1H)−キナゾリノンの合成 3−[1−(3−アミノベンジル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン 200 mg (0.48 mmol) のテトラヒドロフラ
ン 20 mL溶液に、塩化アセチル 42 mg (0.53 mmol)、ト
リエチルアミン1 mL を加え、室温にて10時間攪拌し
た。反応液を水に空け、酢酸エチルで抽出した。有機層
を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後減
圧下にて濃縮した。残さをカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、メタノール:クロロホルム 1:9)で
精製して標題化合物を 170 mg (0.37 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.45 (1H, m), 7.36 〜7.40 (3H,
m), 6.87〜7.29 (10H,m), 6.66 (1H, d, J=8Hz), 5.55
(1H, s), 4.31 (1H, s), 3.43 (2H, s), 2.91(1H, m),
2.78 (1H, m), 2.17 (3H, s), 1.93〜2.11 (3H, m),
1.45〜1.61 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 192 - 195℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例73 3−[1−(3−ジメチルアミノベンジル)ピペリジン
−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2
(1H)−キナゾリノンの合成 3−[1−(3−アミノベンジル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン 200 mg (0.48 mmol) のメタノール溶液 2
0 mLに、5〜10℃にてホルマリン415 mg (4.85 mmo
l)、シアノ水素化ほう素ナトリウム 243 mg (3.88 mmo
l) を加えた。室温にて12時間攪拌した後、反応液を
減圧下にて濃縮した。残さに水を加え、アンモニア水に
てpH10とし、クロロホルムで抽出した。有機層を炭
酸カリウムで乾燥した後減圧下にて濃縮した。残さをカ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル、アンモニア水:
メタノール:クロロホルム 1:9:90)で精製して
標題化合物を 210 mg (0.47 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.37 〜7.40 (2H, m), 7.07〜7.2
9 (7H, m), 6.87〜6.93(3H, m), 6.60〜6.69 (4H, m),
5.57 (1H, s), 4.39 (1H, m), 3.42 (2H, s),2.90 (1H,
m), 2.93 (6H, s), 2.80 (1H, m), 1.94〜2.13 (3H,
m), 1.43〜1.60(3H, m). しゅう酸塩 融点 ; 264.5 - 266℃(再結晶溶媒:エタノール)
【0050】製造例74 3−[1−(3−メトキシカルボニルベンジル)ピペリ
ジン−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−
2(1H)−キナゾリノンの合成 (a)3−[1−(3−ベンジルオキシカルボニルベン
ジル)ピペリジン−4−イル]−4−フェニル−3,4
−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例36と同様にして、3−(ピペリジン−4−イ
ル)−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノン塩酸塩 700 (2.03 mmol)と3−ベンジルオ
キシカルボニルベンズアルデヒドから標題化合物を 101
2 mg (1.90 mmol)得た1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.93 〜7.96 (2H, m), 7.08〜7.5
0 (14H, m), 6.87 〜6.93 (1H, m), 6.67 (1H, d, J=8H
z), 5.55 (1H, s), 5.36 (2H, s), 4.39 (1H, m), 3.48
(2H, s), 2.90 (1H, m), 2.83 (1H, m), 2.01 〜2.13
(3H, m), 1.41〜1.61 (3H, m). (b)3−[1−(3−メトキシカルボニルベンジル)
ピペリジン−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒ
ドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 3−[1−(3−ベンジルオキシカルボニルベンジル)
ピペリジン−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒ
ドロ−2(1H)−キナゾリノン 300 mg (0.56 mmol)
のメタノール 20 mL溶液に、炭酸カリウム 8 mg (0.06
mmol) を加え、室温にて12時間攪拌した。反応液を水
に空け、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下にて濃縮し
た。残さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、メ
タノール:クロロホルム 1:9)で精製して標題化合
物を 179 mg (0.39 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.89 〜7.94 (3H, m), 7.08〜7.5
0 (8H, m), 6.88〜6.93(1H, m), 6.77 (1H, m), 5.56
(1H, s), 4.40 (1H, m), 3.91 (3H, s), 3.49 (2H, s),
2.92 (1H, m), 2.78 (1H, m), 2.01〜2.12 (3H, m),
1.52〜1.65 (3H,m). 塩酸塩 融点 ; 190 - 191℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)
【0051】製造例75 3−[1−(3−カルボキシベンジル)ピペリジン−4
−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンの合成 3−[1−(3−ベンジルオキシカルボニルベンジル)
ピペリジン−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒ
ドロ−2(1H)−キナゾリノン 700 mg (1.32 mmol)
の酢酸溶液に、10%パラジウム−炭素 50 mgを加え、
水素雰囲気下、室温にて5時間攪拌した。セライト濾過
し、濾液を減圧下にて濃縮した。得られた粗結晶をエタ
ノールで再結晶化して標題化合物を 450 mg (1.02 mmo
l) 得た。 1 H NMR (DMSO- d6 ) δ ; 9.37 (1H, s), 7.79 〜7.83
(2H, m), 7.15〜7.50 (8H, m), 7.02〜7.08 (1H, m),
6.75〜6.84 (2H, m), 5.80 (1H, s), 4.15 (1H,m), 3.4
6 (2H, s), 2.68〜2.84 (2H, m), 1.91〜2.09 (3H, m),
1.35〜1.43 (3H, m). 融点 ; 250℃以上(再結晶溶媒:エタノール) 製造例76 3−[1−(3−カルバモイルベンジル)ピペリジン−
4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンの合成 3−[1−(3−カルボキシベンジル)ピペリジン−4
−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノン 220 mg (0.50 mmol) 、トリエチル
アミン 111 mg (1.1 mmol)の塩化メチレン 50 mL溶液
に、塩化チオニル 65 mg (0.55 mmol)の塩化メチレン 5
mL 溶液を加え、室温にて1時間攪拌した。反応液にア
ンモニアガスを5分間通じた後、室温にて1時間攪拌し
た。反応液を減圧下にて濃縮し、残さを酢酸エチルに溶
解した。水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで
乾燥した後減圧下に溶媒を留去して標題化合物を 210 m
g (0.48 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.77 (1H, s), 7.66 〜7.70 (1H,
m), 7.09〜7.46 (10H,m), 6.88 〜6.94 (1H, m), 6.69
(1H, d, J=8Hz), 6.15 (1H, br), 5.80 (1H,br), 5.56
(1H, s), 4.33 (1H, m), 3.49 (2H, s), 2.90 (1H,
m), 2.77 (1H, m), 1.96 〜2.14 (3H, m), 1.52〜1.62
(3H, m) 塩酸塩. 融点 ; 202 - 205℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)
【0052】製造例77 3−[1−(3−アセトキシベンジル)ピペリジン−4
−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンの合成 3−[1−(3−ヒドロキシベンジル)ピペリジン−4
−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノン 207 mg (0.5 mmol)のピリジン 3 m
L 溶液に、無水酢酸 61 mg (0.6 mmol) を加え、室温に
て12時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで
抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥した後減圧下にて濃縮した。残さをカラ
ムクロマトグラフィー(シリカゲル、メタノール:クロ
ロホルム 1:9)で精製して標題化合物を 187 mg
(0.41 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 7.37 〜7.39 (3H, m), 6.83〜7.3
2 (10H, m), 6.66 (1H,d, J=8Hz), 5.55 (1H, s), 4.36
(1H, m), 3.44 (2H, m), 2.88 (1H, m), 2.78(1H, m),
2.29 (3H, s), 1.90〜2.08 (3H, m), 1.41〜1.58 (3H,
m). 塩酸塩 融点 ; 171 - 173℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例78 3−[1−(3−メチルスルフィニルベンジル)ピペリ
ジン−4−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−
2(1H)−キナゾリノンの合成 3−[1−(3−メチルチオベンジル)ピペリジン−4
−イル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンの塩酸塩 480 mg (1 mmol)を塩化メ
チレン 10 mLに溶解し、0〜10℃にてm−クロロ過安
息香酸 190 mg (1.1 mmol)を加えた。室温にて10時間
攪拌した後水を加え、アンモニア水でpH10とした
後、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗
浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下にて濃縮し
た。残さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、メ
タノール:クロロホルム 1:9)で精製して標題化合
物を約1:1のジアステレオマーの混合物として 440 m
g (0.96 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 8.41 (1H, s), 7.61 (1H, s), 7.
39 〜7.50 (5H, m), 7.08〜7.28 (5H, m), 6.86〜6.91
(1H, m), 6.78 (1H, d, J=8Hz), 5.56 (1H, s),4.39 (1
H, m), 3.51 (2H, s), 2.88 (1H, m), 2.73 (1H, m),
2.71 (1.5H, s),2.72 (1.5H, s), 2.03 〜2.12 (3H,
m), 1.51〜1.64 (3H, m). 塩酸塩 融点 ; 198 - 202℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)
【0053】製造例79 3−(1−カルボキシメチルピペリジン−4−イル)−
4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾ
リノンの合成 3−(1−エトキシカルボニルメチルピペリジン−4−
イル)−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)
−キナゾリノンの塩酸塩 191 mg (0.445 mmol)を4N塩
酸 30 mLに溶解し、4時間加熱還流した。放冷後、反応
液を減圧下にて濃縮し、残さにトルエン 30 mLを加え、
再度減圧下にて濃縮して黄色結晶を得た。これをジエチ
ルエーテル/エタノールで再結晶化して標題化合物の塩
酸塩を 56 mg (0.14 mmol)得た。 塩酸塩1 H NMR (DMSO- d6 ) δ ; 9.83 〜10.13 (1H, brs), 9.
55 (1H, s), 7.18 〜7.48 (6H, m), 7.03〜7.15 (1H,
m), 6.75〜6.90 (2H, m), 5.67 (1H, s), 4.17〜4.35
(1H, m), 3.93〜4.13 (2H, brs), 2.87〜3.90 (5H, m),
1.49〜1.99 (3H,m). 融点 ; 230 - 236℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例80 3−(1−カルバモイルメチルピペリジン−4−イル)
−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナ
ゾリノンの合成 3−(1−エトキシカルボニルメチルピペリジン−4−
イル)−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)
−キナゾリノン 200 mg (0.508 mmol)をアンモニア/メ
タノール (6.09 M, 30 mL)に溶解し、オートクレーブ中
にて、約150℃で6時間攪拌した。放冷後反応液を減
圧下にて濃縮し、残さをカラムクロマトグラフィー(シ
リカゲル、メタノール:クロロホルム 1:9)にて精
製して標題化合物を 167 mg (0.45 mmol) 得た。 塩酸塩1 H NMR (DMSO- d6 ) δ ; 9.40 (1H, s), 6.95 〜7.50
(7H, m), 6.73〜6.90 (2H, m), 5.74 (1H, s), 4.00〜
4.20 (1H, m), 2.60〜2.90 (2H, m), 2.78 (2H,s), 1.9
2〜2.18 (3H, m), 1.20〜1.55 (3H, m). 融点 ; 208 - 220℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)
【0054】製造例81 3−[1−(3−メトキシベンジル)ピペリジン−4−
イル]−4−(3−ヒドロキシフェニル)−3,4−ジ
ヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 (a)3−[1−(3−メトキシベンジル)ピペリジン
−4−イル]−4−(3−ベンジルオキシフェニル)−
3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例24と同様にして、2−アミノ−3′−ベンジル
オキシベンゾフェノンと4−アミノ−1−(3−メトキ
シベンジル)ピペリジンから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ ; 6.60 〜7.41 (17H, m), 5.50 (1
H, s), 5.01 (2H, s), 4.38 (1H, m), 3.79 (3H, s),
3.43 (2H, s), 2.92 (1H, m), 2.78 (1H, m), 1.77 〜
2.12 (3H, m), 1.47〜1.63 (3H, m). (b)3−[1−(3−メトキシベンジル)ピペリジン
−4−イル]−4−(3−ヒドロキシフェニル)−3,
4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 3−[1−(3−メトキシベンジル)ピペリジン−4−
イル]−4−(3−ベンジルオキシフェニル)−3,4
−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノン 1.3 g(2.44 mm
ol)のメタノール 100 mL 溶液に、ぎ酸アンモニウム 50
4 mg (8 mmol)、10%パラジウム−炭素 50 mgを加え
8時間加熱還流した。放冷後セライト濾過し、濾液を減
圧下にて濃縮した。残さをメタノール 50 mLに溶解し、
5〜10℃にてm−アニスアルデヒド 1.33 g (9.76 mm
ol) 、シアノ水素化ほう素ナトリウム 613 mg (9.76 mm
ol) を加え、室温にて12時間攪拌した。減圧下にて濃
縮した後水を加え、アンモニア水にてpH10とし、ク
ロロホルムで抽出した。有機層を炭酸カリウムで乾燥し
た後減圧下にて濃縮した。残さをカラムクロマトグラフ
ィー(シリカゲル、メタノール:クロロホルム 1:
9)で精製して標題化合物を 810 mg (1.83 mmol) 得
た。 1H NMR (DMSO- d6 ) δ ; 9.39 (1H, s), 9.33 (1
H,s), 7.23〜7.26 (2H, m), 7.03〜7.08 (2H, m), 6.75
〜6.86 (7H, m),6.55 (1H, m), 5.65 (1H, s), 4.09 (1
H, m), 3.72 (3H, s), 3.36 (2H, s), 2.83 (1H, m),
2.71 (1H, m), 1.88〜2.09 (3H, m), 1.39 (3H, br). 融点 ; 250℃以上(再結晶溶媒:エタノール) くえん酸塩 融点 ; 130 - 132℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)
【0055】製造例82 3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−6−クロ
ロ−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キ
ナゾリノンの合成 製造例24と同様にして5−クロロ−2−トリクロロア
セチルアミノベンゾフェノンと4−アミノ−1−ベンジ
ルピペリジンから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.19〜7.38 (10H, m), 7.13 (1H,
s), 7.11 (1H, d, J=8.3Hz), 6.62 (1H, d, J=8.3Hz),
5.50 (1H, s), 4.35 (1H, m), 3.45 (2H, s), 2.93 (1
H, d, J=10.6Hz), 2.78 (1H, d, J=11.6Hz), 1.93 〜2.
09 (3H, m), 1.40〜1.63 (3H, m). 融点 ; 230℃以上(再結晶溶媒:エタノール) 塩酸塩 融点 ; 162 - 165℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール) 製造例83 3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−6−ニトロ−
4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾ
リノンの合成 製造例1と同様にして5−ニトロ−2−トリクロロアセ
チルアミノベンゾフェノンと2−(ジエチルアミノ)エ
チルアミンから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.85 (1H, brs), 8.04 (1H, dd, J
=8.9, 2.3Hz), 7.90 (1H, d, J=2.3Hz), 7.34〜7.38 (5
H, m), 6.85 (1H, d, J=8.9Hz), 5.85 (1H, s),3.80 〜
3.90 (5H, m), 2.96〜3.07 (1H, m), 2.68〜2.78 (1H,
m), 2.44〜2.60(5H, m), 0.99 (6H, t, J=7.3Hz). 融点 ; 161 - 163℃(再結晶溶媒:エタノール) 製造例84 6−アミノ−3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−
4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾ
リノンの合成 製造例70と同様にして3−[2−(ジエチルアミノ)
エチル]−6−ニトロ−4−フェニル−3,4−ジヒド
ロ−2(1H)−キナゾリノンから標題化合物を合成し
た。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.24〜7.34 (5H, m), 6.54 (1H,
d, J=8.3Hz), 6.48 (1H,dd, J=8.3, 2.3Hz), 6.31 (1H,
d, J=2.3), 5.54 (1H, s), 3.74 〜3.84 (1H,m), 3.38
(2H, brs), 2.95〜3.05 (1H, m), 2.65〜2.75 (1H,
m), 2.36〜2.58 (5H, m), 0.99 (6H, t, J=7.3Hz). 塩酸塩 融点 ; 242 - 244℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)
【0056】製造例85 3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−4−フェニル
−2−オキソ−1,2,3,4−テトラヒドロピリド
[2,3−d]ピリミジンの合成 (a)3−ベンゾイル−2−トリクロロアセチルアミノ
ピリジンの合成 2−アミノ−3−ベンゾイルピリジン 11.0 g (55 mmo
l) 及びトリエチルアミン 6.1 g (60 mmol)のテトラヒ
ドロフラン 200 mL 溶液に、5〜15℃にてトリクロロ
アセチルクロライド 10.0 g (55 mmol) を滴下した。室
温にて3時間攪拌した後、反応液を水に空け、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧下にて濃縮した。得
られた粗結晶をエチルアルコールで再結晶化して 14 .0
g (40 mmol)の標題化合物を得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.73〜8.75 (1H, m), 7.99〜8.02
(1H, m), 7.71〜7.77 (2H, m), 7.62〜7.68 (1H, m),
7.42〜7.56 (2H, m), 7.23〜7.28 (1H, m). (b)3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−4−フ
ェニル−4−トリクロロメチル−2−オキソ−1,2,
3,4−テトラヒドロピリド[2,3−d]ピリミジン
の合成 3−ベンゾイル−2−トリクロロアセチルアミノピリジ
ン 1.4 g (4.07 mmol)のジメチルスルホキシド 50 mL溶
液に、2−(ジエチルアミノ)エチルアミン 0.52 g
(4.5 mmol)を加えて室温にて24時間攪拌した。反応液
を水に空け、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減
圧下にて濃縮した。残さをカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、メタノール:クロロホルム 1:9)で
分離精製して標題化合物を 240 mg (0.54 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 9.42 (1H, brd), 8.33〜8.38 (2H,
m), 7.31〜7.46 (3H,m), 7.13〜7.19 (2H, m), 6.83
(1H, dd, J=7.9, 4.9Hz), 3.89 〜4.00 (1H, m), 3.15
〜3.26 (1H, m), 2.75〜2.85 (1H, m), 2.20〜2.34 (4
H, m), 1.92〜2.02(1H, m), 0.79 (6H, t, J=7.3Hz). (c)3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−4−フ
ェニル−2−オキソ−1,2,3,4−テトラヒドロピ
リド[2,3−d]ピリミジンの合成 3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−4−フェニル
−4−トリクロロメチル−2−オキソ−1,2,3,4
−テトラヒドロピリド[2,3−d]ピリミジン 240 m
g (0.54 mmol) のジメチルホルムアミド 10 mL溶液に、
5〜15℃にて水素化ほう素ナトリウム 82 mg (2.16 m
mol)を加えた。室温にて3時間攪拌した後、反応液を氷
水に空け、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和
食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減圧
下にて濃縮した。残さをカラムクロマトグラフィー(シ
リカゲル、メタノール:クロロホルム 1:9)で精製
して標題化合物を 110 mg (0.34 mmol) 得た。 融点; 160-162.5 ℃1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.14 (1H, dd, J=5.0, 1.7Hz), 7.
78 (1H, brs), 7.31 〜7.39 (5H, m), 7.25〜7.28 (1H,
m), 6.82 (1H, dd, J=7.6, 5.0Hz), 5.75 (1H,s), 3.7
7 〜3.87 (1H, m), 2.99〜3.03 (1H, m), 2.69〜2.79
(1H, m), 2.42〜2.60 (5H, m), 0.99 (6H, t, J=7.3H
z).
【0057】製造例86 3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−4−フェニル
−2−オキソ−1,2,3,4−テトラヒドロピリド
[3,4−d]ピリミジンの合成 製造例85と同様にして、3−アミノ−4−ベンゾイル
ピリジンと2−(ジエチルアミノ)エチルアミンから標
題化合物を合成した。 融点; 138-140.5 ℃(再結晶溶媒:酢酸エチル)1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.11 (1H, s), 8.11 (1H, d, J=5.
0Hz), 7.68 (1H, brds), 7.30〜7.36 (5H, m), 6.86 (1
H, d, J=5.0Hz), 5.76 (1H, s), 3.77 〜3.87(1H, m),
2.97 〜3.08 (1H, m), 2.66〜2.78 (1H, m), 2.41〜2.5
9 (5H, m), 0.99(6H, t, J=7.3Hz). 製造例87 3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−4−フェニル
−2−オキソ−1,2,3,4−テトラヒドロピリド
[4,3−d]ピリミジンの合成 製造例85と同様にして、4−アミノ−3−ベンゾイル
ピリジンと2−(ジエチルアミノ)エチルアミンから標
題化合物を合成した。 融点; 132.5-134 ℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.26 (1H, d, J=5.3Hz), 8.16 (1
H, s), 7.30 〜7.36 (5H, m), 6.63 (1H, d, J=5.3Hz),
5.80 (1H, s), 3.81 〜3.89 (1H, m), 2.97〜3.09 (1
H, m), 2.73〜2.76 (1H ,m), 2.44〜2.60 (5H, m), 0.9
9 (6H, t, J=7.3Hz). 塩酸塩:融点; 230 ℃以上(再結晶溶媒:ジエチルエー
テル/エタノール) 製造例88 3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−4−(3−メ
トキシ)フェニル−2−オキソ−1,2,3,4−テト
ラヒドロピリド[2,3−d]ピリミジンの合成 製造例85と同様にして、2−アミノ−3−(3−メト
キシベンゾイル)ピリジンと2−(ジエチルアミノ)エ
チルアミンから標題化合物を合成した。 融点; 162.5-164 ℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル)1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.15 (1H, dd, J=4.9 and 1.6Hz),
7.88 (1H, brs), 7.23〜7.29 (2H, m), 6.92 (1H, dd,
J=8.9, 1.0Hz), 6.80 〜6.86 (3H, m), 5.72 (1H, s),
3.78〜3.87(1H, m), 3.78 (3H, s), 2.91 〜3.02 (1H,
m), 2.67〜2.77(1H, m), 2.38 〜2.60 (5H, m), 0.97
(6H, t, J=7.3Hz).
【0058】製造例89 3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4−フェ
ニル−2−オキソ−1,2,3,4−テトラヒドロピリ
ド[4,3−d]ピリミジンの合成 (a)3−[α−{(1−ベンジルピペリジン−4−イ
ル)イミノ}ベンジル]−4−トリクロロアセチルアミ
ノピリジンの合成 3−ベンゾイル−4−トリクロロアセチルアミノピリジ
ン 19.6 g (57 mmol)のジメチルスルホキシド 100 mL
溶液に、4−アミノ−1−ベンジルピペリジン13.0 g
(68 mmol) を加え、室温にて48時間攪拌した。反応液
を水に空け、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後減
圧下にて濃縮した。カラムクロマトグラフィー(シリカ
ゲル、酢酸エチル:ヘキサン 1:1)にて精製し、酢
酸エチルで再結晶化を行ない標題化合物を 18.5 g (35.
9 mmol) 得た。 融点; 152-154 ℃(分解)1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.60 (1H, d, J=5.9Hz), 8.52 (1
H, d, J=5.9Hz), 8.07 (1H, s), 7.51〜7.53 (3H, m),
7.27〜7.32 (5H, m), 7.14〜7.18 (2H, m), 3.44(2H,
s), 3.14〜3.22 (1H, m), 2.87 (2H, m), 1.96〜2.08
(2H, m), 1.52〜1.83 (4H, m). (b)3−[α−{(1−ベンジルピペリジン−4−イ
ル)アミノ}ベンジル]−4−アミノピリジンの合成 3−[α−{(1−ベンジルピペリジン−4−イル)イ
ミノ}ベンジル]−4−トリクロロアセチルアミノピリ
ジン 18.0 g (34.9 mol)のエタノール 150 mL溶液に氷
冷下、水素化ほう素ナトリウム 2.65 g (70 mmol) を加
え、室温にて5時間攪拌した。反応液を水に空け、エタ
ノールを減圧下に留去後、酢酸エチルで抽出した。有機
層を水及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した後減圧下にて濃縮した。カラムクロマトグラフ
ィー(シリカゲル、メタノール:クロロホルム 1:
9)にて精製して標題化合物を 4.82 g (12.9 mmol)
得、3−[α−[(1−ベンジルピペリジン−4−イ
ル)イミノ]ベンジル]−4−アミノピリジンを 6.65
g (17.9 mmol) 得た。水素化リチウムアルミニウム 0.6
8 g (17.9 mmol) のテトラヒドロフラン 100mL の縣濁
液に、加熱還流下3−[α−{(1−ベンジルピペリジ
ン−4−イル)イミノ」ベンジル]−4−アミノピリジ
ン 6.65 g (17.9 mmol) のテトラヒドロフラン 30 mL溶
液を滴下し、1時間加熱還流した。放冷後、氷冷下、水
0.7 mL 、15%水酸化ナトリウム水溶液 0.7 mL 、水
2 mL を順次加え、室温にて1時間攪拌した後セライト
濾過した。濾液を濃縮し、残さをカラムクロマトグラフ
ィー(シリカゲル、メタノール:クロロホルム 1:
9)にて精製して標題化合物を 4.2 g (11.3 mmol)得
た。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.06 (1H, d, J=5.6Hz), 7.98 (1
H, s), 7.24 〜7.35 (10H, m), 6.42 (1H, d, J=5.6H
z), 5.59 (2H, brs), 5.08 (1H, s), 3.48 (2H, s), 2.
82 (1H, m), 2.45 (1H, m), 1.86〜2.00 (4H, m), 1.36
〜1.54 (2H, m). 3−[α−{(1−ベンジルピペリジン−4−イル)イ
ミノ}ベンジル]−4−アミノピリジン1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.80 (1H, d, J=5.6Hz), 7.74 (1
H, s), 7.43 〜7.46 (3H, m), 7.22〜7.33 (5H, m), 7.
11〜7.14 (2H, m), 6.49 (1H, d, J=5.6Hz), 3.47 (2H,
s), 3.15 〜3.22 (1H, m), 2.77〜2.81 (2H, m), 1.95
〜2.02 (2H, m),1.73〜1.87 (2H, m), 1.63〜1.67 (2H,
m). (c)3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4
−フェニル−2−オキソ−1,2,3,4−テトラヒド
ロピリド[4,3−d]ピリミジンの合成 3−[α−{(1−ベンジルピペリジン−4−イル)ア
ミノ}ベンジル]−4−アミノピリジン 8.0 g (21.5 m
mol)のテトラヒドロフラン 100 mL 溶液に1,1′−カ
ルボニルジイミダゾール 5.0 g (3.1 mmol) を加え、8
時間加熱還流した。放冷後、反応液を減圧下にて濃縮
し、残さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、メ
タノール:クロロホルム 1:9)で精製した。得られ
た粗結晶をジエチルエーテル/エタノールで再結晶化し
て標題化合物を 4.2 g (10.5 mmol)得た。 融点; 209-210 ℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/エ
タノール)1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.35 (1H, s), 8.26 (1H, d, J=5.
6Hz), 8.09 (1H, brs),7.20 〜7.38 (10H, m), 6.65 (1
H, d, J=5.6Hz), 5.64 (1H, s), 4.36 (1H, m), 2.96
(1H, m), 2.80 (1H, m), 2.00〜2.10 (3H, m), 1.50〜
1.65 (3H, m). 塩酸塩:融点; 230 ℃以上(再結晶溶媒:ジエチルエー
テル/エタノール)
【0059】製造例90 3−(ピペリジン−4−イル)−4−フェニル−2−オ
キソ−1,2,3,4−テトラヒドロピリド[2,3−
d]ピリミジンの合成 製造例89と同様にして、3−ベンゾイル−2−トリク
ロロアセチルアミノピリジンと4−アミノ−1−ベンジ
ルピペリジンから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.74 (1H, s), 8.19 (1H, dd, J=
5.0, 1.7Hz), 7.19 〜7.46 (11H, m), 6.85 (1H, dd, J
=7.6, 5.0Hz), 5.55 (1H, s), 4.40 (1H, m), 3.44 (2
H, s), 2.93 (1H, d, J=8.3Hz), 2.78 (1H, d, J=11.6H
z), 1.94 〜2.08 (3H, m), 1.39〜1.75 (3H, m). 塩酸塩:融点; 186-189 ℃(再結晶溶媒:ジエチルエー
テル/エタノール) 製造例91 3−(ピペリジン−4−イル)−4−フェニル−2−オ
キソ−1,2,3,4−テトラヒドロピリド[4,3−
d]ピリミジンの合成 3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4−フェ
ニル−2−オキソ−1,2,3,4−テトラヒドロピリ
ド[4,3−d]ピリミジン 4.13 g (10.4 mmol) のメ
タノール 250 mL 溶液に、ぎ酸アンモニウム 1.89 g (3
0 mmol) 、10%パラジウム−炭素 0.3 gを加え、5時
間加熱還流した。冷却後、反応液をセライト濾過し、濾
液を減圧下にて濃縮した。残さに飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を炭
酸カリウムで乾燥した後減圧下にて濃縮した。残さをカ
ラムクロマトグラフィー(シリカゲル、アンモニア水:
メタノール:クロロホルム 10:100:900)で
精製して標題化合物を 2.67 g (8.66 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 9.53 (1H, brs), 8.31 (1H, s),
8.26 (1H, d, J=5.3Hz),7.22 〜7.41 (5H, m), 6.76 (1
H, d, J=5.3Hz), 5.65 (1H, s), 4.33 (1H, m),3.17 (1
H, d, J=12.2Hz), 3.03 (1H, d, J=12.5Hz), 2.58 〜2.
74 (2H, m), 1.95〜2.04 (1H, m), 1.64 (2H, d, J=10.
6Hz), 1.38〜1.54 (1H, m). 製造例92 3−(1−アリルピペリジン−4−イル)−4−フェニ
ル−2−オキソ−1,2,3,4−テトラヒドロピリド
[4,3−d]ピリミジンの合成 3−(ピペリジン−4−イル)−4−フェニル−2−オ
キソ−1,2,3,4−テトラヒドロピリド[4,3−
d]ピリミジン 500 mg (1.62 mmol) のエタノール 20
mL溶液に、炭酸カリウム 336 mg (2.43 mmol) 、臭化ア
リル 235 mg (1.94 mmol) を順次加え、室温にて4時間
攪拌した。反応液を減圧下にて濃縮し、残さに水を加
え、クロロホルムで抽出した。有機層を炭酸カリウムで
乾燥した後減圧下にて濃縮した。残さをカラムクロマト
グラフィー(シリカゲル、メタノール:クロロホルム
1:9)で精製して標題化合物を 385 mg (1.10 mmol)
得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.44 (1H, s), 8.32 (1H, s), 8.2
4 (1H, d, J=5.3Hz), 7.21 〜7.38 (5H, m), 6.69 (1H,
d, J=5.3Hz), 5.77 〜5.87 (1H, m), 5.64 (1H, s),
5.16 (1H, d, J=7.9Hz), 5.11 (1H, d, J=1.0Hz), 4.38
(1H, m), 2.80〜3.02 (3H, m), 1.91〜2.08 (3H, m),
1.52〜1.70 (3H, m). 塩酸塩:融点; 155-158 ℃(再結晶溶媒:ジエチルエー
テル/エタノール)
【0060】製造例93 3−[1−(3−チエニルメチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−2−オキソ−1,2,3,4−テ
トラヒドロピリド[4,3−d]ピリミジンの合成 3−(ピペリジン−4−イル)−4−フェニル−2−オ
キソ−1,2,3,4−テトラヒドロピリド[4,3−
d]ピリミジン 500 mg (1.62 mmol) のメタノール 30
mL溶液に、氷冷下10%塩酸/エタノール溶液 1200 m
g、3−チオフェンカルボキサアルデヒド 727 mg (6.48
mmol) 、シアノ水素化ほう素ナトリウム407 mg (6.48
mmol) を加えた。室温にて10時間攪拌した後、反応液
を減圧下にて濃縮した。残さに水を加え、アンモニア水
にてpH10とした後、クロロホルムで抽出した。有機
層を炭酸カリウムで乾燥した後減圧下にて濃縮した。残
さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、メタノー
ル:クロロホルム 1:9)にて精製して標題化合物を
550 mg (1.36 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.93 (1H, s), 8.34 (1H, s), 8.2
7 (1H, d, J=5.3Hz), 7.20 〜7.39 (6H, m), 7.07 (1H,
m), 7.01 (1H, dd, J=5.0 and 1.3Hz), 6.70 (1H, d,
J=5.3Hz), 5.64 (1H, s), 4.35 (1H, m), 3.50 (2H,
s), 2.97 (1H, d,J=6.9Hz), 2.82 (1H, d, J=10.9Hz),
1.93〜2.14 (3H, m), 1.47〜1.66 (3H, m). 塩酸塩:融点; 230 ℃以上(再結晶溶媒:ジエチルエー
テル/エタノール) 製造例94 3−[1−(3−メトキシベンジル)ピペリジン−4−
イル]−4−フェニル−2−オキソ−1,2,3,4−
テトラヒドロピリド[4,3−d]ピリミジンの合成 製造例93と同様にして、3−(ピペリジン−4−イ
ル)−4−フェニル−2−オキソ−1,2,3,4−テ
トラヒドロピリド[4,3−d]ピリミジンと3−メト
キシベンズアルデヒドから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.40 (1H, brs), 8.35 (1H, s),
8.24 (1H, d, J=5.3Hz),7.18 〜7.39 (6H, m), 6.76〜
6.84 (3H, m), 6.67 (1H, d, J=5.3Hz), 5.64 (1H, s),
4.35 (1H, m), 3.80 (3H, s), 3.53 (2H, s), 2.96 (1
H, m), 2.81 (1H,m). 塩酸塩:融点; 230 ℃以上(再結晶溶媒:ジエチルエー
テル/エタノール)
【0061】製造例95 3−[2−(ジエチルアミノ)エチル]−5−メチル−
4−フェニル−2−オキソ−1,2,3,4−テトラヒ
ドロチエノ[2,3−d]ピリミジンの合成 製造例85と同様にして、2−アミノ−3−ベンゾイル
−4−メチルチオフェンと2−(ジエチルアミノ)エチ
ルアミンから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.56 (1H, brs),7.28 〜7.34 (5H,
m), 6.18 (1H, d, J=1.0Hz), 5.49 (1H, s), 3.56 〜
3.66 (1H, m), 3.05〜3.15 (1H, m), 2.64〜2.74(1H,
m), 2.46〜2.60 (4H, m), 2.31〜2.41 (2H, m), 1.83
(3H, d, J=1.0Hz),1.00 (6H, t, J=7.3Hz) . 製造例96 3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4−フェ
ニル−シス−3,4,4a,5,8,8a−ヘキサヒド
ロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 (a)4,5−シス−4−メトキシカルボニルアミノ−
5−(α−ヒドロキシベンジル)シクロヘキセンの合成 4,5−シス−4−メトキシカルボニルアミノ−5−ベ
ンゾイルシクロヘキセン 500 mg (1.93 mmol) のメタノ
ール 10 mL溶液に、氷冷下水素化ほう素ナトリウム 162
mg (4.28 mmol) を加えた。室温にて3時間攪拌した
後、反応液を水に空け、減圧下メタノールを留去し、ク
ロロホルムで抽出した。有機層を炭酸カリウムで乾燥し
た後減圧下にて濃縮し、得られた残さをカラムクロマト
グラフィー(シリカゲル、ヘキサン:酢酸エチル 1:
1)で精製して 487 mg (1.87 mmol) の標題化合物をジ
アステレオマーの混合物として得た。上記混合物 35 mg
を更にカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサ
ン:酢酸エチル 1:1)で分離精製して、ジアステレ
オマーAを 10 mg、ジアステレオマーBを 25 mg得た。
ジアステレオマーAは、薄層クロマトグラフィー(展開
溶媒;ヘキサン:酢酸エチル 1:1)においてよりR
f値の大きいジアステレオマーであり、ジアステレオマ
ーBはよりRf値の小さいジアステレオマーである。 ジアステレオマーA1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.18〜7.36 (5H, m), 5.48〜5.62
(2H, m), 5.03 (1H, dd, J=3, 3Hz), 4.73 (1H, d, J=9
Hz), 4.28 (1H, d, J=3Hz), 3.91 (1H, m), 3.73 (3H,
m), 2.39 〜2.50 (1H, m), 2.19〜2.32 (1H, m), 1.94
〜2.07 (1H, m),1.71〜1.82 (1H, m), 1.52〜1.60 (1H,
m). ジアステレオマーB1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.23〜7.36 (5H, m), 5.59 (2H,
m), 5.10 (1H, d, J=9Hz), 4.48 〜4.55 (2H, m), 4.21
(1H, dd, J=10, 4Hz), 3.74 (3H, s), 2.46 〜2.53 (1
H, m), 2.13〜2.20 (1H, m), 1.44〜2.05 (1H, m), 1.5
0〜1.73 (2H, m). (b)4,5−シス−4−メトキシカルボニルアミノ−
5−(α−クロロベンジル)シクロヘキセンの合成 4,5−シス−4−メトキシカルボニルアミノ−5−
(α−ヒドロキシベンジル)シクロヘキセンのジアステ
レオマーの混合物 415 mg (1.59 mmol) の1,2−ジク
ロロエタン 10 mL溶液に、室温にて四塩化炭素 0.17 mL
(1.76 mmol)、トリフェニルフォスフィン512 mg (1.95
mmol)を加えた。室温にて2時間攪拌した後、2時間加
熱還流した。減圧下1,2−ジクロロエタンを留去し、
得られた残さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル、クロロホルム)で精製して 219 mg (0.78 mmol) の
標題化合物をジアステレオマーの混合物として得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.20〜7.41 (5H, m), 5.76〜5.81
(1H, m), 5.58〜5.67 (2H, m), 4.61〜5.05 (2H, m),
3.60〜3.71 (3H, m), 1.81〜2.82 (5H, m). (c)3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4
−フェニル−シス−3,4,4a,5,8,8a−ヘキ
サヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 4,5−シス−4−メトキシカルボニルアミノ−5−
(α−クロロベンジル)シクロヘキセン 200 mg (0.72
mmol) のジメチルホルムアミド 10 mL溶液に、4−アミ
ノ−1−ベンジルピペリジン 1.08 g (9.43 mmol) 、ト
リエチルアミン 1mL を加え、約80℃にて20時間攪
拌した。減圧下ジメチルホルムアミドを留去した後、水
を加えクロロホルムで抽出した。有機層を炭酸カリウム
で乾燥した後減圧下にて濃縮し、得られた残さをカラム
クロマトグラフィー(シリカゲル、アンモニア水:メタ
ノール:クロロホルム 1:10:90)で分離精製し
て、ジアステレオマーAを 64 mg (0.16 mmol)、ジアス
テレオマーBを 112 mg (0.28 mmol) 得た。ジアステレ
オマーAは、薄層クロマトグラフィー(展開溶媒;アン
モニア水:メタノール:クロロホルム 1:10:9
0)においてよりRf値の大きいジアステレオマーであ
り、ジアステレオマーBはよりRf値の小さいジアステ
レオマーである。 ジアステレオマーA1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.21〜7.36 (10H, m), 5.70 (1H,
m), 5.56 (1H, m), 4.85 (1H, d, J=5Hz), 4.64 (1H,
d, J=9Hz), 4.34 (1H, d, J=8Hz), 3.99 (1H, m), 3.52
(1H, m), 3.47 (2H, s), 2.78 (2H, m), 2.24〜2.34
(1H, m), 1.99〜2.12 (6H, m), 1.89 (2H, m), 1.40 (2
H, m). くえん酸塩 融点 ; 120 - 122℃(再結晶溶媒:イソプロパノール/
酢酸エチル) ジアステレオマーB1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.20〜7.37 (10H, m), 5.52 〜5.7
7 (2H, m), 4.84 (1H,d, J=5Hz), 4.76 (1H, d, J=9H
z), 4.50 (1H, d, J=8Hz), 3.81 〜4.01 (2H, m), 3.53
(1H, m), 3.48 (2H, s), 2.76〜2.87 (2H, m), 1.87〜
2.33 (9H, m), 1.45 (2H, m).
【0062】製造例97 3−(ピペリジン−4−イル)−4−フェニル−シス−
3,4,4a,5,8,8a−ヘキサヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンの合成 製造例15と同様にして、3−(1−ベンジルピペリジ
ン−4−イル)−4−フェニル−シス−3,4,4a,
5,8,8a−ヘキサヒドロ−2(1H)−キナゾリノ
ンから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.23〜7.34 (5H, m), 5.69 (1H,
m), 5.56 (1H, m), 4.94(1H, d, J=9Hz), 4.80 (2H,
m), 3.94 (1H, m), 3.61 (1H, m), 2.99 (2H, m),2.62
(2H, m), 1.88 〜2.32 (6H, m), 1.20〜1.33 (2H, m). 製造例98 3−(1−アリルピペリジン−4−イル)−4−フェニ
ル−シス−3,4,4a,5,8,8a−ヘキサヒドロ
−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例31と同様にして3−(ピペリジン−4−イル)
−4−フェニル−シス−3,4,4a,5,8,8a−
ヘキサヒドロ−2(1H)−キナゾリノンから標題化合
物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.14〜7.29 (5H, m), 5.63〜5.81
(2H, m), 5.49 (1H, m), 5.03〜5.11 (3H, m), 4.65〜
4.79 (2H, m), 4.45 (1H, d, J=8Hz), 3.93 (1H,m), 3.
49 (2H, m), 2.85 (2H, d, J=7Hz), 2.72 (2H, m), 1.6
5〜2.27 (6H, m), 1.31 (2H, m). 製造例99 3−[1−(3−チエニルメチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−シス−3,4,4a,5,8,8
a−ヘキサヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例36と同様にして3−(ピペリジン−4−イル)
−4−フェニル−シス−3,4,4a,5,8,8a−
ヘキサヒドロ−2(1H)−キナゾリノンと3−チオフ
ェンカルボキサアルデヒドから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.25〜7.35 (6H, m), 7.12 (1H,
s), 7.05 (1H, dd, J=5,1Hz), 5.71 (1H, m), 5.57 (1
H, m), 4.86 (1H, d, J=5Hz), 4.56 (1H, d, J=8.6Hz),
4.26 (1H, d, J=7.6Hz), 4.02 (1H, m), 3.54 (2H,
s), 2.83 (2H, d, J=11.9Hz), 1.90〜2.36 (8H, m), 1.
37〜1.50 (2H, m).
【0063】製造例100 3−[1−(3−メトキシベンジル)ピペリジン−4−
イル]−4−フェニル−シス−3,4,4a,5,8,
8a−ヘキサヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例36と同様にして3−(ピペリジン−4−イル)
−4−フェニル−シス−3,4,4a,5,8,8a−
ヘキサヒドロ−2(1H)−キナゾリノンと3−メトキ
シベンズアルデヒドから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.19〜7.35 (6H, m), 6.88 (1H,
m), 6.78〜6.82 (1H, m), 5.74 (1H, m), 5.57 (1H,
m), 4.86 (1H, d, J=5Hz), 4.61 (1H, d, J=8.9Hz), 4.
33 (1H, d, J=7.3Hz), 4.02 (1H, m), 3.81 (3H, s),
3.57 (1H, m), 3.45(2H, s), 2.80 〜2.88 (2H, m), 1.
89〜2.35 (8H, m), 1.37〜1.48 (2H, m). 製造例101 3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4−フェ
ニル−シス−オクタヒドロ−2(1H)−キナゾリノン
の合成 3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4−フェ
ニル−シス−3,4,4a,5,8,8a−ヘキサヒド
ロ−2(1H)−キナゾリノンのジアステレオマーA 3
91 mg (0.97 mmol) のメタノール 15 mL溶液に30%酸
化白金 90 mgを加え、水素雰囲気下室温にて6時間攪拌
した。セライト濾過後減圧下メタノールを留去し、得ら
れた残さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ア
ンモニア水:メタノール:クロロホルム 1:10:9
0)で分離精製して標題化合物を352 mg (0.87 mmol)
得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.25〜7.36 (10H, m), 4.93 (1H,
d, J=7.6Hz), 4.73 (1H, d, J=5.3Hz), 4.21 (1H, d, J
=8.3Hz), 3.54〜3.62 (2H, m), 3.48 (2H, s),2.76 (2
H, m), 2.09 (2H, m), 1.74〜1.91 (8H, m), 1.15〜1.4
8 (9H, m). 製造例102 3−(ピペリジン−4−イル)−4−フェニル−シス−
オクタヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 製造例15と同様にして、3−(1−ベンジルピペリジ
ン−4−イル)−4−フェニル−シス−オクタヒドロ−
2(1H)−キナゾリノンから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.28〜7.36 (5H, m), 5.14 (1H,
d, J=7.6Hz), 4.73 (1H,d, J=5Hz), 4.37 (1H, d, J=8.
3Hz), 3.56 〜3.70 (3H, m), 2.93〜3.02 (2H,m), 2.60
(2H, m), 1.73〜2.08 (5H, m), 1.18〜1.48 (6H, m).
【0064】製造例103 3−(1−アリルピペリジン−4−イル)−4−フェニ
ル−シス−オクタヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの
合成 製造例31と同様にして3−(ピペリジン−4−イル)
−4−フェニル−シス−オクタヒドロ−2(1H)−キ
ナゾリノンから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.22〜7.36 (5H, m), 5.73〜5.88
(1H, m), 5.06〜5.19 (3H, m), 4.74 (1H, d, J=5.3H
z), 4.35 (1H, d, J=7.9Hz), 3.51〜3.67 (2H, m), 2.8
0〜2.96 (5H, m), 1.73〜2.21 (7H, m), 1.15〜1.48 (6
H, m). 製造例104 3−[1−(3−チエニルメチル)ピペリジン−4−イ
ル]−4−フェニル−シス−オクタヒドロ−2(1H)
−キナゾリノンの合成 製造例36と同様にして3−(ピペリジン−4−イル)
−4−フェニル−シス−オクタヒドロ−2(1H)−キ
ナゾリノンと3−チオフェンカルボキサアルデヒドから
標題化合物を合成した。 1H NMR(CDCl3 ) δ; 7.20〜7.
34 (6H, m), 7.11 (1H, m), 7.02 (1H, m), 5.29 (1H,
d, J=7.9Hz), 4.73 (2H, d, J=5Hz), 3.51 (2H, s), 3.
45〜3.68 (3H, m), 2.80 (2H, m), 1.70〜1.85 (5H,
m), 1.12〜1.44 (6H, m). 製造例105 3−[1−(3−メトキシベンジル)ピペリジン−4−
イル]−4−フェニル−シス−オクタヒドロ−2(1
H)−キナゾリノンの合成 製造例36と同様にして3−(ピペリジン−4−イル)
−4−フェニル−シス−オクタヒドロ−2(1H)−キ
ナゾリノンと3−メトキシベンズアルデヒドから標題化
合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.18〜7.34 (5H, m), 6.78〜6.89
(3H, m), 5.25 (1H, d,J=7.9Hz), 4.72 (1H, d, J=5H
z), 4.67 (1H, d, J=7.6 Hz), 3.79 (3H, s), 3.46 (2
H, s), 3.52〜3.74 (3H, m), 2.77 (2H, m), 2.10 (2H,
m), 1.70〜1.85 (5H, m), 1.13〜1.46 (6H, m).
【0065】製造例106 3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4−フェ
ニル−トランス−3,4,4a,5,8,8a−ヘキサ
ヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 (a)4,5−トランス−4−メトキシカルボニルアミ
ノ−5−ベンゾイルシクロヘキセンの合成 4,5−シス−4−メトキシカルボニルアミノ−5−ベ
ンゾイルシクロヘキセン 13.74 g (53.0 mmol)のメタノ
ール 400 mL 溶液にナトリウムメトキシド 3.31 g (61.
27 mmol)を加え、20時間加熱還流した。減圧下メタノ
ールを留去した後、水を加えクロロホルムで抽出した。
有機層を炭酸カリウムで乾燥した後減圧下にて濃縮し、
得られた残さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル、クロロホルム:酢酸エチル 1:1)で精製した。
得られた粗結晶を酢酸エチル/ヘキサンで再結晶化して
標題化合物を 6.94 g (29.7 mmol) 得た。 融点 ; 122 - 124℃1 H NMR(CDCl3 ) δ; 8.07 (2H, m), 7.46〜7.60 (3H,
m), 5.76 (1H, m), 5.65(1H, m), 4.90 (1H, m), 4.20
(1H, m), 4.02 (1H, m), 3.63 (3H, s), 2.36 (3H, m),
2.17 (1H, m). (b)4,5−トランス−4−メトキシカルボニルアミ
ノ−5−(α−ヒドロキシベンジル)シクロヘキセンの
合成 製造例96(a)と同様にして、4,5−トランス−4
−メトキシカルボニルアミノ−5−ベンゾイルシクロヘ
キセンから標題化合物を約2:3のジアステレオマーの
混合物として合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.17〜7.40 (5H, m), 5.49〜5.65
(2.6H, m), 5.24 (0.4H, m), 5.03 (0.6H, m), 4.94
(0.6H, d, J=10.2Hz), 4.59 (0.4H, m), 4.34 (0.4H,
d, J=4Hz), 3.81 〜4.08 (1H, m), 3.71 (1.8H, s), 3.
59 (1.2H, s), 1.57〜2.61 (5H, m). (c)4,5−トランス−4−メトキシカルボニルアミ
ノ−5−(α−クロロベンジル)シクロヘキセンの合成 製造例96(b)と同様にして、4,5−トランス−4
−メトキシカルボニルアミノ−5−(α−ヒドロキシベ
ンジル)シクロヘキセンから標題化合物をジアステレオ
マーの混合物として合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.20〜7.44 (5H, m), 5.56〜5.71
(2H, m), 5.02 (1H, d,J=6.9Hz), 4.76 (1H, m), 3.57
〜3.76 (4H, m), 2.49〜2.56 (2H, m), 1.93〜2.33 (3
H, m). (d)3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4
−フェニル−トランス−3,4,4a,5,8,8a−
ヘキサヒドロ−2(1H)−キナゾリノンの合成 4,5−トランス−4−メトキシカルボニルアミノ−5
−(α−クロロベンジル)シクロヘキセン 202 mg (0.7
2mmol)のアセトニトリル 10 mL溶液に、4−アミノ−1
−ベンジルピペリジン 205 mg (1.08 mmol) 、ヨウ化ナ
トリウム 163 mg (1.09 mmol) 、炭酸カリウム 300 mg
(2.17 mmol) を加え、オートクレーブ中約120℃にて
10時間攪拌した。放冷後セライト濾過し、濾液を減圧
下濃縮した。残さに水を加え、クロロホルムで抽出し
た。有機層を飽和食塩水で洗浄し、炭酸カリウムで乾燥
した後減圧下にて濃縮した。残さをカラムクロマトグラ
フィー(シリカゲル、アンモニア水:メタノール:クロ
ロホルム 1:10:90)で精製して、標題化合物を
119 mg (0.30 mmol) 得た。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.34 (3H, m), 7.20〜7.32 (7H,
m), 5.53〜5.63 (2H, m), 5.01 (1H, d, J=10.2Hz), 3.
45〜3.58 (2H, m), 3.45 (2H, m), 2.60〜2.78 (3H,
m), 1.63〜2.17 (11H, m).
【0066】製造例107 3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4−フェ
ニル−トランス−オクタヒドロ−2(1H)−キナゾリ
ノンの合成 製造例101と同様にして3−(1−ベンジルピペリジ
ン−4−イル)−4−フェニル−トランス−3,4,4
a,5,8,8a−ヘキサヒドロ−2(1H)−キナゾ
リノンから標題化合物を合成した。1 H NMR(CDCl3 ) δ; 7.40〜7.47 (3H, m), 7.19〜7.33
(7H, m), 5.05 (1H, d,J=10.6Hz), 3.51 (1H, m), 3.46
(2H, m), 3.28 (1H, m), 2.76 (2H, m), 2.26(1H, m),
2.09 (2H, m), 1.61〜1.86 (7H, m), 0.94〜1.49 (5H,
m). 製造例108 3−(1−ベンジルピペリジン−4−イル)−4−フェ
ニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリンチオ
ンの合成 α−(2−アミノフェニル)−N−(1−ベンジルピペ
リジン−4−イル)ベンジルアミン 503 mg (1.35 mmo
l) のテトラヒドロフラン 10 mL溶液に1,1′−チオ
カルボニルジイミダゾール 300 mg (1.68 mmol) を加
え、3時間加熱還流した。放冷後反応液を減圧下にて濃
縮し、残さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲル、
酢酸エチル:クロロホルム 1:4)で精製して標題化
合物を 540 mg (1.30 mmol) 得た。 塩酸塩 融点 ; 212 - 214℃(再結晶溶媒:ジエチルエーテル/
エタノール)1 H NMR(CD3 OD) δ; 7.13〜7.57 (12H, m), 6.88 〜7.0
3 (2H, m), 5.70〜5.84(2H, m), 4.85 (2H, s), 3.02〜
3.59 (4H, m), 2.43 (1H, m), 1.74〜2.04 (3H, m). 製造例109 6−クロロ−3−[3−(トリメチルアンモニオ)プロ
ピル]−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)
−キナゾリノン イオダイドの合成 6−クロロ−3−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]
−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナ
ゾリノン 418 mg (1.22 mmol) のエタノール 30 mL溶液
にヨウ化メチル 176 mg (1.24 mmol) を加え、室温にて
4日間攪拌した。析出した結晶を濾取し、ジエチルエー
テルで洗浄して標題化合物を 374 mg (0.77 mmol) 得
た。 融点 ; 164 - 166℃1 H NMR(CD3 OD) δ; 7.28〜7.45 (5H, m), 7.09〜7.15
(2H, m), 6.83 (1H, m), 5.77 (1H, s), 3.61 (1H, m),
3.30 (2H, m), 3.15 (1H, m), 3.06 (9H, s),2.00 (2
H, m).
【0067】製造例110 3−(1−メチル−3−キヌクリジニオ)−4−フェニ
ル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−キナゾリノン イ
オダイドの合成 製造例109と同様にして3−(キヌクリジン−3−イ
ル)−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンのジアステレオマーBから標題化合物を合
成した。 融点 ; 230℃以上(再結晶溶媒:エタノール/アセト
ン)1 H NMR (DMSO- d6 ) δ; 9.89 (1H, s), 7.11〜7.48 (7
H, m), 6.80〜6.95 (2H, m), 5.76 (1H, s), 3.80〜4.0
1 (2H, m), 3.27〜3.59 (5H, m), 2.92 (3H, s), 2.28
〜2.33 (1H, m), 1.70〜2.08 (4H, m). 製造例111 3−[(2S)−1,1−ジエチル−2−ピロリジニ
オ]メチル−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1
H)−キナゾリノン イオダイドの合成 3−[(2S)−1−エチルピロリジン−2−イル]メ
チル−4−フェニル−3,4−ジヒドロ−2(1H)−
キナゾリノンのジアステレオマーA1 156 mg(0.46 mm
ol)のクロロホルム 10 mL溶液に、ヨウ化エチル 819 mg
(5.25 mmol)を加え、4日間加熱還流した。放冷後セラ
イト濾過し、濾液を減圧下にて濃縮した。得られた固形
物をジエチルエーテル/エタノールで洗浄してアモルフ
ァス状の標題化合物を 63 mg (0.13 mmol)得た。1 H NMR(CD3 OD) δ; 7.25〜7.43 (5H, m), 7.13〜7.19
(2H, m), 6.84〜6.96 (2H, m), 5.79 (1H, s), 4.18〜
4.35 (2H, m), 3.28〜3.60 (6H, m), 3.04〜3.12(1H,
m), 2.40 (1H, m), 2.08〜2.20 (3H, m).
【0068】製剤例1 錠剤は例えば次のようにして製造できる。
【表1】 各成分を混合し、打錠して120mgの錠剤に成形する
ことができる。
【0069】製剤例2 注射剤は例えば次のようにして製造できる。
【表2】 上記成分の溶液を濾過滅菌し、洗浄、滅菌したバイアル
ビンに充填し、洗浄、滅菌したゴム栓で密封し、フリッ
プオフキャップで巻締して注射剤を製造することができ
る。
【0070】試験例1 本発明の使用目的の1つである心筋細胞内Ca2+の過剰
蓄積に対する抑制の程度を評価するために、本発明の化
合物を用いてウアバイン中毒抑制作用を測定した。ウア
バイン中毒は心筋細胞内にCa2+が流入し、Ca2+の過
剰蓄積が起こることにより引き起こされるので(アメリ
カン・ジャーナル・オブ・フィジオロジー、Am. J. Phy
siol., 1989, 256, C1273-C1276 :ベーシック・リサー
チ・オブ・カルディオロジー、Basic Res. Cardiol., 1
989, 84, 553-563)、ウアバインの作用を抑制する化合
物は心筋細胞内のCa2+過剰蓄積を抑制すると言える。 試験方法 1)標本の作製 雄性モルモット(日本チャールズリバー)の頭部を殴
打、頸椎脱臼して屠殺した後、直ちに心臓を摘出し、予
め冷却したタイロード液中にて拍動を速やかに停止せし
め、左心房筋を分離した。95%O2 +5%CO2 ガス
を通気し、32±0.3℃に維持したタイロード液25
mLを満たしたマグヌス管内に左心房標本を懸垂し、
0.45〜0.55gの負荷をかけた。標本は電気刺激
装置(ダイヤメディカル DPS−160B)を用い、
双極銀電極を介して矩形波刺激(刺激頻度;2Hz、持
続時間;3msec、域値の50%増しの電圧)により
電気的に駆動させた。張力はFDトランスデューサー
(Toyo Baldwin T7−30−240)及
び変換増幅ユニット(日本電気三栄 1829型)を介
して等尺性に(isometorically)リニア
コーダー(グラフテックWR−3101)上に記録し
た。標本を懸垂後1時間放置し、発生張力が充分に安定
したことを確認した後実験を開始した。 2)本発明化合物のウアバイン誘発心筋障害改善作用の
評価 本発明の化合物を3×10−6Mとなるように添加し、
10分間放置した後、ウアバイン(メルク)を10−6
Mとなるように適用した。各々、ウアバイン適用40分
後に発生張力を記録し、60分後に発生張力、静止張力
を記録した。発生張力および静止張力はウアバイン適用
直前の値を100%として各時点での変化量(%発生張
力および%静止張力)で表し、薬物無処理群との間で S
tudentのt検定で、危険率5%以下の差を有意差有りと
判断した。なお、試験化合物は3×10-4Mになるよう
に精製水で溶解して原液とした。 3)試験化合物 化合物 1:製造例1;くえん酸塩 化合物 2:製造例2;塩酸塩 化合物 3:製造例3;塩酸塩 化合物 4:製造例8;ジアステレオマーAの塩酸塩 化合物 5:製造例15;塩酸塩 化合物 6:製造例24;くえん酸塩 化合物 7:製造例25;ジアステレオマーAの塩酸塩 化合物 8:製造例53;メソ酒石酸塩 化合物 9:製造例84;塩酸塩 化合物10:製造例109 化合物11:製造例110 化合物12:製造例111
【0071】試験結果 各化合物の試験結果を表3に示す。
【表3】 成績は平均値±標準誤差で示す。 * 非処置群との間に5%の危険率で有意差あり。 ** 非処置群との間に1%の危険率で有意差あり。
【0072】試験例2 本発明の使用目的の1つである心筋細胞内Ca2+の過剰
蓄積に対する抑制の程度を評価するために、本発明化合
物の心筋細胞内へのCa2+の流入を抑制する効果を培養
心筋細胞を用いて調べた。評価は文献記載の方法(モレ
キュラー・ファーマコロジー、Mol. Pharmacol., 1986,
30, 164-170:サーキュレイション・リサーチ、Circ.
Res., 1992, 70, 804-811 )に従い、Na+ 非含有液置
換による細胞質Ca2+濃度増大に対する抑制作用を指標
に行なった。 試験方法 1)心筋細胞の培養 文献記載の方法(サーキュレイション・リサーチ、Cir
c. Res., 1993, 73, 758-770)に従って妊娠14〜1
5日目のICR系マウス胎児(日本チャールズリバー)
より心筋細胞を単離培養した。すなわち、胎児心筋より
心室筋を採取しミンス(mince)後、0.25%トリプ
シン(GIBCO)にて心室筋細胞を分離した。得られ
た心筋細胞を予めフィブロネクチン(高研)をコートし
たカバーガラスに付着させ10%ウシ胎児血清(GIBC
O)含有EagleMEM倍地(阪大微生物研究所)中
でCO2 インキュベーター(アステック BL−16
0:37℃,5%CO2 +95%空気)にて培養した。 2)Na+ 非含有液置換による細胞質Ca2+濃度変化の
測定 培養4〜6日目の細胞を117.4mM NaCl,
5.4mM KCl,0.8mM MgCl2 ,1.8
mM CaCl2 ,0.1%グルコース,5mMHEP
ES(ナカライテスク), pH7.4(正常HEPES
液)で洗浄後、20μM Fura2−AM(同仁化学
研究所),0.4%ウシ血清アルブミン(Sigma)
含有正常HEPES液に(遮光下、37℃)にて20分
間インキュベートすることにより、Fura2−AM
を細胞内に負荷させた。正常HEPES液2mLにて2
回洗浄後、37℃保温可能灌流用チャンバーに細胞の付
着したカバーガラスを設置し高純度酸素ガスを通気した
正常HEPES液を2mL/分の流速で灌流させた。次
に、文献記載の方法(ビョーシニカ・エ・ビョウーフィ
ジカ・アクタ、Biochimica et Biophysica Acta, 1981,
642, 158-172 )に従い 28mM NaCl,108
mM choline−Cl(和光純薬),0.1mM
EGTA(和光純薬), 0.1%グルコース,5mM
HEPES,pH7.4(28mM Na負荷HEP
ES液)にて5分間灌流することによりNa+ を細胞に
負荷した後、135mM choline−Cl,1.
8mMCaCl2 ,0.1%グルコース,5mM HE
PES,pH7.4(Na非含有HEPES液)で灌流
し、細胞質Ca2+濃度を増加させた。細胞質Ca2+濃度
は340nm及び380nm励起時の500nmの蛍光
強度を2波長分光蛍光測定装置(日本分光CAM−23
0)にて測定し、その蛍光強度比(340nm/380
nm)より算出した。薬物は1mMになるよう精製水で
調製した後、灌流液に所定の濃度になるよう適宜希釈し
て用いた。 3)本発明化合物のCa2+濃度増大に対する抑制作用の
評価 本発明化合物を28mM Na負荷HEPES液灌流時
とNa非含有HEPES液灌流時の両方に処置し、Na
非含有HEPES液灌流時のFura2−AM蛍光強度
比変化(細胞内Ca2+濃度変化)を観察した。試験化合
物による抑制作用は、処置群と非処置群におけるNa非含
有HEPES 液灌流時のFura2−AM蛍光強度比変化を
比較することにより評価した。
【0073】
【図面の簡単な説明】
【図1】化合物 6(製造例24;くえん酸塩)のNa
+ 非含有液置換による細胞質Ca2+濃度増大に対する抑
制作用試験結果を示すグラフである。横軸は試験化合物
処置後の時間を表し、縦軸はNa非含有HEPES液灌
流時のFura2−AM蛍光強度比変化を示す。
【0074】
【図2】化合物13(製造例89;塩酸塩)のNa+
含有液置換による細胞質Ca2+濃度増大に対する抑制作
用試験結果を示すグラフである。横軸は試験化合物処置
後の時間を表し、縦軸はNa非含有HEPES液灌流時
のFura2−AM蛍光強度比変化を示す。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 239/80 8615−4C 239/82 8615−4C 401/04 239 401/06 239 403/06 207 403/14 405/14 207 211 409/14 207 211 413/06 239 453/02 471/04 117 N Z 118 Z 495/04 105 Z (72)発明者 小島 淳之 大阪市此花区春日出中3丁目1番98号 住 友製薬株式会社内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 [式中、Tは酸素原子または硫黄原子を表し、Yはアル
    キル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル
    基、フェニル基、置換フェニル基、アラルキル基、置換
    アラルキル基、ヘテロアリール基または置換ヘテロアリ
    ール基を表す。環Wはベンゼン環、5〜6員環のヘテロ
    芳香環または5〜10員環のシクロアルケン環もしくは
    シクロアルカン環を表す。R1 及びR2 は互いに独立し
    て、水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子、シアノ
    基、トリフルオロメチル基、ニトロ基、アミノ基、置換
    アミノ基、水酸基、低級アルコキシ基、低級アルキルチ
    オ基、低級アルキルスルフィニル基または低級アルキル
    スルホニル基を表す。Zは式 【化2】 {式中、A1 及びA2 は互いに独立して水素原子、アル
    キル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、飽和ヘテ
    ロ環基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニル
    アルキル基、アラルキル基、置換アラルキル基、ヘテロ
    アリールアルキル基、置換ヘテロアリールアルキル基ま
    たは基−CH2 3 (式中、R3 はアルケニル基または
    アルキニル基を表す)を表すか、またはA1 とA2 は互
    いに結合してヘテロ環を形成してもよい。Gは炭素原子
    数1〜6の直鎖状のアルキレンもしくは炭素原子数1〜
    8の分岐したアルキレンを表すか、または基 【化3】 (式中、p及びmは互いに独立して0、1又は2を表
    し、Dはシクロアルカン環を表す。)を表す}または式 【化4】 {式中、nは0、1または2を表し、環Eは窒素原子を
    含む4〜8員環の飽和ヘテロ環を表し、A3 は水素原
    子、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、
    飽和ヘテロ環基、シクロアルキルアルキル基、シクロア
    ルケニルアルキル基、アラルキル基、置換アラルキル
    基、ヘテロアリールアルキル基、置換ヘテロアリールア
    ルキル基または基−CH2 3 (式中、R3 はアルケニ
    ル基またはアルキニル基を表す)を表すか、または環E
    と共にビシクロ環を形成する。}で表される基を表
    す。]で表されるキナゾリノン誘導体またはその酸付加
    塩もしくは4級アンモニウム塩を有効成分として含有す
    るカルシウムイオン過剰蓄積阻害剤。
  2. 【請求項2】 環Wがベンゼン環である請求項1記載の
    キナゾリノン誘導体またはその酸付加塩もしくは4級ア
    ンモニウム塩を有効成分として含有するカルシウムイオ
    ン過剰蓄積阻害剤。
  3. 【請求項3】 虚血性心疾患、虚血性脳疾患もしくは虚
    血性腎疾患の予防または治療薬である請求項1または2
    記載のカルシウムイオン過剰蓄積阻害剤。
  4. 【請求項4】 環Wが5〜6員環のヘテロ芳香環または
    5〜10員環のシクロアルケン環もしくはシクロアルカ
    ン環である請求項1記載のキナゾリノン誘導体またはそ
    の酸付加塩もしくは4級アンモニウム塩、または環Wが
    ベンゼン環であり、Zが式 【化5】 (式中、n、環EおよびA3 は請求項1と同じ意味を表
    す。)で表される基である請求項1記載のキナゾリノン
    誘導体またはその酸付加塩もしくは4級アンモニウム
    塩。
  5. 【請求項5】 環Wがベンゼンまたはピリジン環である
    請求項4記載のキナゾリノン誘導体またはその酸付加塩
    もしくは4級アンモニウム塩。
  6. 【請求項6】 Yがフェニル基もしくは置換フェニル基
    である請求項4または5記載のキナゾリノン誘導体また
    はその酸付加塩もしくは4級アンモニウム塩。
  7. 【請求項7】 R1 が水素原子である請求項4、5また
    は6記載のキナゾリノン誘導体またはその酸付加塩もし
    くは4級アンモニウム塩。
  8. 【請求項8】 環Wがピリジン環である請求項4、5、
    6または7記載のキナゾリノン誘導体またはその酸付加
    塩もしくは4級アンモニウム塩。
JP13358394A 1993-05-26 1994-05-23 キナゾリノン誘導体 Expired - Fee Related JP3859738B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13358394A JP3859738B2 (ja) 1993-05-26 1994-05-23 キナゾリノン誘導体

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14849593 1993-05-26
JP5-148495 1993-05-26
JP13358394A JP3859738B2 (ja) 1993-05-26 1994-05-23 キナゾリノン誘導体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0741465A true JPH0741465A (ja) 1995-02-10
JP3859738B2 JP3859738B2 (ja) 2006-12-20

Family

ID=26467906

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13358394A Expired - Fee Related JP3859738B2 (ja) 1993-05-26 1994-05-23 キナゾリノン誘導体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3859738B2 (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998043943A1 (fr) * 1997-03-27 1998-10-08 Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. Derives de 2-phenoxyaniline
WO1999020598A1 (fr) * 1997-10-20 1999-04-29 Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. Derives de la 2-phenoxyaniline
WO2000023436A1 (en) * 1998-10-16 2000-04-27 Sumitomo Pharmaceuticals Co., Ltd. Quinazolinone derivatives
JP2005104931A (ja) * 2003-10-01 2005-04-21 Sumitomo Chemical Co Ltd キナゾリノン化合物の製造法
JP2005104930A (ja) * 2003-10-01 2005-04-21 Sumitomo Chemical Co Ltd キナゾリノン化合物の製造方法
JP2005529161A (ja) * 2002-04-18 2005-09-29 シェーリング コーポレイション ヒスタミンh3アンタゴニストとしての1−(4−ピペリジニル)ベンズイミダゾロン
JP2006056843A (ja) * 2004-08-23 2006-03-02 Sumitomo Chemical Co Ltd キナゾリノン化合物の酸付加塩の製造方法
KR100703278B1 (ko) * 2003-07-07 2007-04-03 삼성전자주식회사 이동통신 시스템에서 기지국의 stc 검증을 위한 장치 및 방법
JP2012025673A (ja) * 2010-07-20 2012-02-09 Taisho Pharmaceutical Co Ltd Ncxを標的とした単離膵島ならびに移植膵島障害の新規制御法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6156801A (en) * 1997-03-27 2000-12-05 Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. 2-phenoxyaniline derivatives
WO1998043943A1 (fr) * 1997-03-27 1998-10-08 Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. Derives de 2-phenoxyaniline
WO1999020598A1 (fr) * 1997-10-20 1999-04-29 Taisho Pharmaceutical Co., Ltd. Derives de la 2-phenoxyaniline
US6162832A (en) * 1997-10-20 2000-12-19 Taisho Pharmaceutical Co., Inc. 2-Phenoxyaniline derivatives
WO2000023436A1 (en) * 1998-10-16 2000-04-27 Sumitomo Pharmaceuticals Co., Ltd. Quinazolinone derivatives
US6645971B1 (en) 1998-10-16 2003-11-11 Sumitomo Pharmaceuticals Company Limited Quinazolinone derivatives
JP4484368B2 (ja) * 1998-10-16 2010-06-16 大日本住友製薬株式会社 キナゾリノン誘導体
JP2006206603A (ja) * 2002-04-18 2006-08-10 Schering Plough Corp ヒスタミンh3アンタゴニストとしての1−(4−ピペリジニル)ベンズイミダゾロン
JP2005529161A (ja) * 2002-04-18 2005-09-29 シェーリング コーポレイション ヒスタミンh3アンタゴニストとしての1−(4−ピペリジニル)ベンズイミダゾロン
KR100703278B1 (ko) * 2003-07-07 2007-04-03 삼성전자주식회사 이동통신 시스템에서 기지국의 stc 검증을 위한 장치 및 방법
JP2005104931A (ja) * 2003-10-01 2005-04-21 Sumitomo Chemical Co Ltd キナゾリノン化合物の製造法
JP2005104930A (ja) * 2003-10-01 2005-04-21 Sumitomo Chemical Co Ltd キナゾリノン化合物の製造方法
JP2006056843A (ja) * 2004-08-23 2006-03-02 Sumitomo Chemical Co Ltd キナゾリノン化合物の酸付加塩の製造方法
JP2012025673A (ja) * 2010-07-20 2012-02-09 Taisho Pharmaceutical Co Ltd Ncxを標的とした単離膵島ならびに移植膵島障害の新規制御法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3859738B2 (ja) 2006-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6642228B1 (en) α1b-adrenergic receptor antagonists
TWI440634B (zh) 經三取代之吡唑類
TWI336699B (en) Stat3/5 activation inhibitor
JP5607046B2 (ja) Trpv4拮抗薬
JP2019517475A (ja) Rock阻害剤としてのトリアゾロンおよびテトラゾロン
CZ20011760A3 (cs) Pyrrolidinové deriváty jako antagonisty CCR-3 receptorů
JP5636428B2 (ja) 置換n−フェニル−1−(4−ピリジニル)−1h−ピラゾル−3−アミン類
PL180150B1 (pl) Nowi niepeptydowi antagonisci receptorów tachykinin, sposób ich wytwarzania i srodek farmaceutyczny PL PL PL PL PL PL PL PL
JPH08508738A (ja) 5−ht1a及び/又は5−ht2リガンドとしてのインドール誘導体
JP2016538303A (ja) 新規なオクタヒドロ−シクロブタ[1,2−c;3,4−c’]ジピロール−2−イル
JP2006505533A (ja) 1−ピリジン−4−イル−尿素誘導体
JP5072827B2 (ja) ヒスタミンh3受容体薬剤、製剤及び治療的使用
JP2000509371A (ja) ファルネシル―タンパク質トランスフェラーゼ阻害剤
JP2002508780A (ja) 新規な化合物
JPWO2003095432A1 (ja) ベンズイミダゾール誘導体
TWI651317B (zh) 新穎3,4-二氫-2h-異喹啉-1-酮及2,3-二氫異吲哚-1-酮化合物
AU703701B2 (en) Substituted 4-(1H-benzimidazol-2-YL-amino)piperidines useful for the treatment of allergic diseases
CN102459244B (zh) 喹唑啉二酮衍生物、其制备及其多种治疗用途
EP0626373B1 (en) Quinazolinone derivatives
JPH0741465A (ja) キナゾリノン誘導体
CA2634636A1 (en) 3-aminocyclopentanecarboxamides as modulators of chemokine receptors
EA015974B1 (ru) Производные пирролизина, индолизина и хинолизина, их получение и их применение в терапии
EA001912B1 (ru) Замещенные 1,2,3,4-тетрагидро-2-дибензофуранамины
JP2006503056A (ja) ヒスタミンh3受容体アンタゴニスト、その製造および治療用使用
JPWO2000023436A1 (ja) キナゾリノン誘導体

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040422

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040521

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20051026

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060904

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060920

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090929

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100929

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110929

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110929

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120929

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120929

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130929

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees