JPH0741957U - イオン源電極支持装置 - Google Patents
イオン源電極支持装置Info
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- JPH0741957U JPH0741957U JP7515393U JP7515393U JPH0741957U JP H0741957 U JPH0741957 U JP H0741957U JP 7515393 U JP7515393 U JP 7515393U JP 7515393 U JP7515393 U JP 7515393U JP H0741957 U JPH0741957 U JP H0741957U
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract 1
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 各電極の固定が簡単で部品点数が少なく、ボ
ルトの多少の緩みでは電極の位置ずれを生じないように
する。 【構成】 裁頭円錐形の絶縁スペーサ１３の基部側に径
の大きい円形の大段部１４を形成するとともに、スペー
サ１３の先端側に順次径の小さい円形の小段部１６を形
成し、複数個の電極３，１の周縁部に、それぞれ径の大
きい円形の大孔１７及び順次径の小さい円形の小孔１９
を形成し、大段部１４に大孔１７を嵌合するとともに、
順次小段部１６に小孔１９を嵌合し、最上段の電極１に
座板２１を介して取付ボルト２２を締着する。
ルトの多少の緩みでは電極の位置ずれを生じないように
する。 【構成】 裁頭円錐形の絶縁スペーサ１３の基部側に径
の大きい円形の大段部１４を形成するとともに、スペー
サ１３の先端側に順次径の小さい円形の小段部１６を形
成し、複数個の電極３，１の周縁部に、それぞれ径の大
きい円形の大孔１７及び順次径の小さい円形の小孔１９
を形成し、大段部１４に大孔１７を嵌合するとともに、
順次小段部１６に小孔１９を嵌合し、最上段の電極１に
座板２１を介して取付ボルト２２を締着する。
Description
【０００１】
本考案は、薄膜製造装置に用いられるイオン源のイオン引出電極等を支持する イオン源電極支持装置に関する。
【０００２】
従来のイオン源電極支持装置は、図３に示すようになっている。同図において 、１は加速電極、２は減速電極、３は接地電極、４は各電極１，２，３からなる イオン引出電極、５は各電極１，２，３に透設された電極孔、６は各電極１，２ ，３に透設された位置合わせ孔、７は加速電極１と接地電極３に透設された取付 孔、８は減速電極２に形成された螺孔である。
【０００３】 ９は絶縁カラーであり、加速電極１の上面および接地電極３の下面から、それ ぞれ取付孔７に挿入されている。１０は加速電極１と減速電極２との間及び減速 電極２と接地電極３との間にそれぞれ介在された絶縁スペーサ、１１は２本の取 付ボルトであり、それぞれ両絶縁カラー９に挿入され、先端部が減速電極２の螺 孔８に螺合し、３個の電極１，２，３を一体に固定している。１２は各位置合わ せ孔６に挿入される位置合わせピンである。
【０００４】 そして、各電極１，２，３の固定に際しては、２個ずつの絶縁カラー９，絶縁 スペーサ１０及び取付ボルト１１により、３個の電極１，２，３を緩く固定し、 位置合わせピン１２を各位置合わせ孔６に挿入して３個の電極１，２，３の位置 合わせを行い、その後、両取付ボルト１１を強く締め付けて固定し、位置合わせ ピン１２を抜いている。
【０００５】
従来の前記支持装置の場合、２本の取付ボルト１１の弱，強の締め付け、位置 合わせピン１２の各位置合わせ孔６への着脱等、固定作業が煩雑で長時間を要し 、かつ部品点数が多く、その上、取付ボルト１１の緩みにより各電極１，２，３ に位置ずれを生ずるという問題点がある。 本考案は、前記の点に留意し、各電極の固定作業が簡単で短時間であり、部品 点数が少なく、ボルトの多少の緩みでは各電極に位置ずれを生じないイオン源電 極支持装置を提供することを目的とする。
【０００６】
前記課題を解決するために、本考案のイオン源電極支持装置は、裁頭円錐形の 絶縁スペーサの基部側に径の大きい円形の大段部を形成するとともに、前記スペ ーサの先端側に順次径の小さい円形の小段部を形成し、複数個の電極の周縁部に 、それぞれ径の大きい円形の大孔及び順次径の小さい円形の小孔を形成し、前記 大段部に前記大孔を嵌合するとともに、順次前記小段部に前記小孔を嵌合し、最 上段の電極に座板を介して取付ボルトを締着したものである。
【０００７】
前記のように構成された本考案のイオン源電極支持装置は、絶縁スペーサが裁 頭円錐形で、基部側に径の大きい円形の大段部が形成され、先端側に順次径の小 さい円形の小段部が形成され、各電極の周縁部のそれぞれの大孔及び小孔が順次 大段部及び小段部に嵌合され、最上段の電極に座板を介して取付ボルトが締着さ れるため、絶縁スペーサに各電極を重ね、１個の取付ボルトを締着すればよく、 固定作業が簡単で短時間に済み、部品点数も１個ずつの絶縁スペーサ，座板，取 付ボルトでよく、しかも、取付ボルトが多少緩んでも各電極に位置ずれを生じな い。
【０００８】
１実施例について図１を参照して説明する。同図において図３と同一符号は同 一もしくは相当するものを示す。 １３は裁頭円錐形の絶縁スペーサ、１４はスペーサ１３の基部側に形成された 径の大きい円形の大段部、１５はスペーサ１３の中程に形成された径のやや小さ い円形の中段部、１６はスペーサ１３の先端側に形成された径の小さい円形の小 段部である。
【０００９】 １７は接地電極３の周縁部に形成された径の大きい円形の大孔、１８は減速電 極２の周縁部に形成された径のやや小さい円形の中孔、１９は加速電極１の周縁 部に形成された径の小さい円形の小孔である。 ２０はスペーサ１３の端面に形成された螺孔、２１は小孔１９より径の大きい 円形の座板、２２は座板２１に挿入され螺孔２０に螺合した取付ボルトである。
【００１０】 そして、スペーサ１３の大段部１４，中段部１５，小段部１６に、それぞれ接 地電極３の大孔１７，減速電極２の中孔１８，加速電極１の小孔１９を嵌合し、 座板２１を介して取付ボルト２２を螺孔２０に螺合し、締め付ける。 即ち、スペーサ１３に各電極３，２，１を重ねて嵌合することにより、各電極 １，２，３の電極孔５が適合し、位置合わせが行われる。
【００１１】 つぎに、各電極１，２，３を図２に示すように縦方向に取付ける場合は、各電 極１，２，３の間隔がスペーサ１３の軸心方向にずれることを防ぐため、各スペ ーサ１３の方向を交互に、或いは幾つかのスペーサ１３を逆方向に取付けること が望ましい。 なお、各電極１，２，３の間隔が異なる場合は、中段部１５の位置の異なるス ペーサを要する。
【００１２】
本考案は、以上説明したように構成されているため、つぎに記裁する効果を奏 する。 本考案のイオン源電極支持装置は、絶縁スペーサ１３が裁頭円錐形で、基部側 に径の大きい円形の大段部１４が形成され、先端側に順次径の小さい円形の小段 部１６が形成され、各電極３，２，１の周縁部のそれぞれの大孔１７及び小孔１ ９が順次大段部１４及び小段部１６に嵌合され、最上段の電極１に座板２１を介 して取付ボルト２２が締着されるため、絶縁スペーサ１３に各電極３，２，１を 重ね、１個の取付ボルト２２を締着すればよく、固定作業が簡単で短時間であり 、部品点数も１個ずつの絶縁スペーサ１３，座板２１，取付ボルト２２で部品点 数が少なく、しかも、取付ボルト２２が多少緩んでも各電極３，２，１に位置ず れを生じることがない。
【図１】本考案の１実施例の切断正面図である。
【図２】本考案の他の実施例の切断正面図である。
【図３】従来例の切断正面図である。
１，３ 電極 １３ 絶縁スペーサ １４ 大段部 １６ 小段部 １７ 大孔 １９ 小孔 ２１ 座板 ２２ 取付ボルト
Claims (1)
- 【請求項１】 裁頭円錐形の絶縁スペーサの基部側に径
の大きい円形の大段部を形成するとともに、前記スペー
サの先端側に順次径の小さい円形の小段部を形成し、 複数個の電極の周縁部に、それぞれ径の大きい円形の大
孔及び順次径の小さい円形の小孔を形成し、 前記大段部に前記大孔を嵌合するとともに、順次前記小
段部に前記小孔を嵌合し、最上段の電極に座板を介して
取付ボルトを締着したイオン源電極支持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1993075153U JP2591081Y2 (ja) | 1993-12-29 | 1993-12-29 | イオン源電極支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1993075153U JP2591081Y2 (ja) | 1993-12-29 | 1993-12-29 | イオン源電極支持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0741957U true JPH0741957U (ja) | 1995-07-21 |
| JP2591081Y2 JP2591081Y2 (ja) | 1999-02-24 |
Family
ID=13567982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1993075153U Expired - Fee Related JP2591081Y2 (ja) | 1993-12-29 | 1993-12-29 | イオン源電極支持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2591081Y2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10149789A (ja) * | 1996-11-18 | 1998-06-02 | Nissin Electric Co Ltd | イオン源装置 |
| JP2003151485A (ja) * | 2001-11-19 | 2003-05-23 | Showa Shinku:Kk | イオンガン本体への付属部品の取付け方法及び取付け構造 |
| JP2009545102A (ja) * | 2006-07-20 | 2009-12-17 | アビザ テクノロジー リミティド | イオンソース |
| JP2010062056A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-18 | Ulvac Japan Ltd | イオン照射装置、真空処理装置 |
| JP2014513390A (ja) * | 2011-03-28 | 2014-05-29 | 東京エレクトロン株式会社 | イオンエネルギーアナライザ、当該イオンエネルギーアナライザ内での電気信号処理方法、並びに、当該イオンエネルギーアナライザの製造及び操作方法 |
-
1993
- 1993-12-29 JP JP1993075153U patent/JP2591081Y2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10149789A (ja) * | 1996-11-18 | 1998-06-02 | Nissin Electric Co Ltd | イオン源装置 |
| JP2003151485A (ja) * | 2001-11-19 | 2003-05-23 | Showa Shinku:Kk | イオンガン本体への付属部品の取付け方法及び取付け構造 |
| JP2009545102A (ja) * | 2006-07-20 | 2009-12-17 | アビザ テクノロジー リミティド | イオンソース |
| JP2010062056A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-03-18 | Ulvac Japan Ltd | イオン照射装置、真空処理装置 |
| JP2014513390A (ja) * | 2011-03-28 | 2014-05-29 | 東京エレクトロン株式会社 | イオンエネルギーアナライザ、当該イオンエネルギーアナライザ内での電気信号処理方法、並びに、当該イオンエネルギーアナライザの製造及び操作方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2591081Y2 (ja) | 1999-02-24 |
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|---|---|---|---|
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