JPH0743304A - 高周波誘導結合プラズマ発光分析装置 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ発光分析装置Info
- Publication number
- JPH0743304A JPH0743304A JP19153893A JP19153893A JPH0743304A JP H0743304 A JPH0743304 A JP H0743304A JP 19153893 A JP19153893 A JP 19153893A JP 19153893 A JP19153893 A JP 19153893A JP H0743304 A JPH0743304 A JP H0743304A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inductively coupled
- coupled plasma
- high frequency
- nebulizer
- sample solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ネブライザにおける霧化の状態を監視し、気
泡の混入やネブライザ先端の目詰まりおよび高粘度試料
の場合などに生じる霧化の異常を測定者が察知できる高
周波誘導結合プラズマ発光分析装置を提供する。 【構成】 キャリアガス12の流れにより生じる負圧に
より吸引された溶液試料2が試料溶液導入用キャピラリ
5の先端から噴射し霧化される。試料溶液2が霧化する
際には特有の周波数特性をもち、その強度が霧化量とと
もに増大する音波が発生する。ネブライザ1にはマイク
ロホン6が霧化の際に発生する音波を検出できるように
取り付けられ、前記音波の音響信号強度もデ−タ処理部
19に取り込まれ、予め記憶された基準値と照合され
る。照合の結果、音響信号強度が基準値よりも小さくな
った場合には、警告表示部21にネブライザ1における
霧化状態に異常がある旨の表示がなされ、測定者が知る
ことができる。
泡の混入やネブライザ先端の目詰まりおよび高粘度試料
の場合などに生じる霧化の異常を測定者が察知できる高
周波誘導結合プラズマ発光分析装置を提供する。 【構成】 キャリアガス12の流れにより生じる負圧に
より吸引された溶液試料2が試料溶液導入用キャピラリ
5の先端から噴射し霧化される。試料溶液2が霧化する
際には特有の周波数特性をもち、その強度が霧化量とと
もに増大する音波が発生する。ネブライザ1にはマイク
ロホン6が霧化の際に発生する音波を検出できるように
取り付けられ、前記音波の音響信号強度もデ−タ処理部
19に取り込まれ、予め記憶された基準値と照合され
る。照合の結果、音響信号強度が基準値よりも小さくな
った場合には、警告表示部21にネブライザ1における
霧化状態に異常がある旨の表示がなされ、測定者が知る
ことができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高周波誘導結合プラズ
マ発光分析装置に係り、試料溶液を高周波誘導結合プラ
ズマに導入して、該試料溶液中に含まれる元素の発光ス
ペクトルを測定し、該元素の濃度を求める高周波誘導結
合プラズマ発光分析装置に関し、特に試料溶液をネブラ
イザによって霧化する高周波プラズマ発光分析装置に利
用されるものである。
マ発光分析装置に係り、試料溶液を高周波誘導結合プラ
ズマに導入して、該試料溶液中に含まれる元素の発光ス
ペクトルを測定し、該元素の濃度を求める高周波誘導結
合プラズマ発光分析装置に関し、特に試料溶液をネブラ
イザによって霧化する高周波プラズマ発光分析装置に利
用されるものである。
【0002】
【従来の技術】従来の高周波誘導結合プラズマ発光分析
装置においては、溶液試料を測定する場合、該試料溶液
を霧化してプラズマ中に導入するため一般にはニュ−マ
ティック形ネブライザが用いられる。前記ネブライザに
よる霧化の方式には種々のものがあるが、一例として、
図4に示す方式について説明する。図4は、従来の高周
波誘導結合プラズマ発光分析装置におけるコンセントリ
ック形ネブライザとスプレ−チャンバとを結合した構造
の略示断面図である。一般に、スプレ−チャンバは、や
や傾斜して分析装置本体に取付られる(図1参照)。
装置においては、溶液試料を測定する場合、該試料溶液
を霧化してプラズマ中に導入するため一般にはニュ−マ
ティック形ネブライザが用いられる。前記ネブライザに
よる霧化の方式には種々のものがあるが、一例として、
図4に示す方式について説明する。図4は、従来の高周
波誘導結合プラズマ発光分析装置におけるコンセントリ
ック形ネブライザとスプレ−チャンバとを結合した構造
の略示断面図である。一般に、スプレ−チャンバは、や
や傾斜して分析装置本体に取付られる(図1参照)。
【0003】図4において、1はコンセントリック形ネ
ブライザ、2は試料溶液、3はドレイン、4はキャリア
ガス用キャピラリ、5は試料溶液導入用キャピラリ、7
はスプレ−チャンバ、12はキャリアガスである。上記
ネブライザ1においては、霧吹きの原理を応用し、キャ
リアガス12、通常アルゴンガスによって試料溶液2を
自動的に吸引・霧化し、試料溶液導入用キャピラリ5を
介してスプレ−チャンバ7内に噴霧する。噴霧された前
記試料溶液2はプラズマト−チ(図示せず)へ送入さ
れ、励起、発光し分光分析されるように構成されてい
る。
ブライザ、2は試料溶液、3はドレイン、4はキャリア
ガス用キャピラリ、5は試料溶液導入用キャピラリ、7
はスプレ−チャンバ、12はキャリアガスである。上記
ネブライザ1においては、霧吹きの原理を応用し、キャ
リアガス12、通常アルゴンガスによって試料溶液2を
自動的に吸引・霧化し、試料溶液導入用キャピラリ5を
介してスプレ−チャンバ7内に噴霧する。噴霧された前
記試料溶液2はプラズマト−チ(図示せず)へ送入さ
れ、励起、発光し分光分析されるように構成されてい
る。
【0004】前記スプレ−チャンバ7からプラズマト−
チに送入される霧状の試料溶液2は、ネブライザ1から
スプレ−チャンバ7に導入される試料溶液の内、わずか
であり、大部分はドレイン3として排出される。このと
き、スプレ−チャンバ7はドレイン3により密封される
構造となっている。
チに送入される霧状の試料溶液2は、ネブライザ1から
スプレ−チャンバ7に導入される試料溶液の内、わずか
であり、大部分はドレイン3として排出される。このと
き、スプレ−チャンバ7はドレイン3により密封される
構造となっている。
【0005】試料溶液2をスプレ−チャンバ7に導入す
る駆動力は、キャリアガス12による負圧吸引力である
が、前記キャリアガス12の流量が小さいので、試料溶
液2への吸引力が弱いという欠点があった。なお、これ
に関しては、「ICP発光分析の基礎と応用」原口著,
講談社刊,(1986年)第61頁から第64頁に詳細
な記載がある。
る駆動力は、キャリアガス12による負圧吸引力である
が、前記キャリアガス12の流量が小さいので、試料溶
液2への吸引力が弱いという欠点があった。なお、これ
に関しては、「ICP発光分析の基礎と応用」原口著,
講談社刊,(1986年)第61頁から第64頁に詳細
な記載がある。
【0006】上記負圧吸引力の弱さが種々の問題を提起
している。例へば、キャリアガスのの流量の変動、スプ
レ−チャンバ内のドレイン水頭の変動等によりスプレ−
チャンバ内の圧力が変動し、プラズマト−チへ送入され
る前記試料溶液の流量が変動し、分光分析の誤差とな
る。また、前記試料溶液の物理的、化学的な状態により
スプレ−チャンバへ噴霧される試料溶液量が低下した
り、霧化が行なわれなくなったりし、プラズマト−チへ
送入される前記試料溶液2の流量が変化し、分光分析の
誤差となる。
している。例へば、キャリアガスのの流量の変動、スプ
レ−チャンバ内のドレイン水頭の変動等によりスプレ−
チャンバ内の圧力が変動し、プラズマト−チへ送入され
る前記試料溶液の流量が変動し、分光分析の誤差とな
る。また、前記試料溶液の物理的、化学的な状態により
スプレ−チャンバへ噴霧される試料溶液量が低下した
り、霧化が行なわれなくなったりし、プラズマト−チへ
送入される前記試料溶液2の流量が変化し、分光分析の
誤差となる。
【0007】前者のスプレ−チャンバ内圧力の変動につ
いては、前記スプレ−チャンバ内の圧力を検知する手段
と、前記検知されたチャンバ内の圧力を一定となる制御
手段とを設ける技術が提案されている。これに関するも
のには、特開平1−250045号公報記載の技術があ
る。後者のスプレ−チャンバへ噴霧される試料溶液の流
量の変化については未解決の状態であるのが実情であっ
た。
いては、前記スプレ−チャンバ内の圧力を検知する手段
と、前記検知されたチャンバ内の圧力を一定となる制御
手段とを設ける技術が提案されている。これに関するも
のには、特開平1−250045号公報記載の技術があ
る。後者のスプレ−チャンバへ噴霧される試料溶液の流
量の変化については未解決の状態であるのが実情であっ
た。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の高周波誘導
結合プラズマ発光分析装置に用いられるニュ−マティッ
ク形のネブライザでは、キャリアガスにより試料溶液を
自動的に吸引することができるが、上述の如くその吸引
力は弱いため試料溶液の物理的、化学的な状態が下記の
ような場合には、試料溶液の霧化が行なわれなくなる
か、霧量が低下する可能性がある。
結合プラズマ発光分析装置に用いられるニュ−マティッ
ク形のネブライザでは、キャリアガスにより試料溶液を
自動的に吸引することができるが、上述の如くその吸引
力は弱いため試料溶液の物理的、化学的な状態が下記の
ような場合には、試料溶液の霧化が行なわれなくなる
か、霧量が低下する可能性がある。
【0009】(1)試料溶液をネブライザまで導くキャ
ピラリチュ−ブに気泡が混入した場合 (2)試料溶液中の塩濃度が高く、ネブライザの試料溶
液吹き出し口に塩分が析出し、前記吹き出し口を塞いだ
場合 (3)試料の粘度が高い場合 そのため、測定者が霧化の異常に気付かずに測定を継続
した場合、プラズマへの試料導入量が変化して対象元素
の発光強度が変化し、測定誤差を生じる危険性があっ
た。
ピラリチュ−ブに気泡が混入した場合 (2)試料溶液中の塩濃度が高く、ネブライザの試料溶
液吹き出し口に塩分が析出し、前記吹き出し口を塞いだ
場合 (3)試料の粘度が高い場合 そのため、測定者が霧化の異常に気付かずに測定を継続
した場合、プラズマへの試料導入量が変化して対象元素
の発光強度が変化し、測定誤差を生じる危険性があっ
た。
【0010】これらの問題を解決するため、ニュ−マテ
ィック形ネブライザにおいては、ペリスタルティックポ
ンプによって試料溶液を強制的にネブライザへ送液する
ことが考えられる。しかし、ペリスタルティックポンプ
には、送液量に脈動があるため、測定精度を損なうとい
う問題点がある。
ィック形ネブライザにおいては、ペリスタルティックポ
ンプによって試料溶液を強制的にネブライザへ送液する
ことが考えられる。しかし、ペリスタルティックポンプ
には、送液量に脈動があるため、測定精度を損なうとい
う問題点がある。
【0011】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解決するためになされたもので、測定者が、試料溶液が
正常に高周波誘導結合プラズマに導かれていることを容
易に確認できるようにすることにより、測定誤差のない
高周波誘導結合プラズマ発光分析装置を提供することを
目的とするものである。
解決するためになされたもので、測定者が、試料溶液が
正常に高周波誘導結合プラズマに導かれていることを容
易に確認できるようにすることにより、測定誤差のない
高周波誘導結合プラズマ発光分析装置を提供することを
目的とするものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る高周波誘導結合プラズマ発光分析装置
の構成は、ネブライザによって霧化した試料溶液をスプ
レ−チャンバを介して高周波誘導結合プラズマに導き、
該試料中に含有される元素の発光分析を行う高周波誘導
結合プラズマ発光分析装置において、前記試料溶液が高
周波誘導結合プラズマに導かれているか否かを監視する
手段を設けたものである。
に、本発明に係る高周波誘導結合プラズマ発光分析装置
の構成は、ネブライザによって霧化した試料溶液をスプ
レ−チャンバを介して高周波誘導結合プラズマに導き、
該試料中に含有される元素の発光分析を行う高周波誘導
結合プラズマ発光分析装置において、前記試料溶液が高
周波誘導結合プラズマに導かれているか否かを監視する
手段を設けたものである。
【0013】試料溶液が高周波誘導結合プラズマへ導か
れているか否かを監視する手段は、前記試料溶液がネブ
ライザにて霧化される時に発生する音響信号を検出する
ように構成したものである。音響信号を検出する手段
は、マイクロホンを用い、前記マイクロホンをネブライ
ザに取り付けて構成したものである。
れているか否かを監視する手段は、前記試料溶液がネブ
ライザにて霧化される時に発生する音響信号を検出する
ように構成したものである。音響信号を検出する手段
は、マイクロホンを用い、前記マイクロホンをネブライ
ザに取り付けて構成したものである。
【0014】マイクロホンは、耐酸または耐アルカリ、
且つ、耐熱性の高い部材により全体または部分を覆うよ
うに構成したものである。試料溶液が高周波誘導結合プ
ラズマへ導かれているか否かを監視する手段は、霧化さ
れた前記試料溶液の霧をはさんで光源と光検出器を配設
し、前記霧によりさえぎられる光量の変化を検出するよ
うに構成したものである。
且つ、耐熱性の高い部材により全体または部分を覆うよ
うに構成したものである。試料溶液が高周波誘導結合プ
ラズマへ導かれているか否かを監視する手段は、霧化さ
れた前記試料溶液の霧をはさんで光源と光検出器を配設
し、前記霧によりさえぎられる光量の変化を検出するよ
うに構成したものである。
【0015】
【作用】上記各技術的手段の働きは次のとおりである。
本発明の構成によれば、試料溶液が高周波誘導結合プラ
ズマに導かれているか否かを監視する手段を設けたの
で、ネブライザの試料溶液吸引が停止したり、前記ネブ
ライザの試料溶液吹き出し口がつまった場合に生じる霧
化異常現象を測定者が容易に察知することができ、誤っ
た測定結果を採用を未然に防止することできる。
本発明の構成によれば、試料溶液が高周波誘導結合プラ
ズマに導かれているか否かを監視する手段を設けたの
で、ネブライザの試料溶液吸引が停止したり、前記ネブ
ライザの試料溶液吹き出し口がつまった場合に生じる霧
化異常現象を測定者が容易に察知することができ、誤っ
た測定結果を採用を未然に防止することできる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の各実施例を図1ないし図3を
参照して説明する。 〔実施例 1〕図1は、本発明に係る高周波誘導結合プ
ラズマ発光分析装置の一実施例の構成を示すブロック
図、図2は、図1の実施例に係る高周波誘導結合プラズ
マ発光分析装置におけるコンセントリック形ネブライザ
の略示断面図、図3は、本発明に係る高周波誘導結合プ
ラズマ発光分析装置の他の一実施例の要部を示すブロッ
ク図である。
参照して説明する。 〔実施例 1〕図1は、本発明に係る高周波誘導結合プ
ラズマ発光分析装置の一実施例の構成を示すブロック
図、図2は、図1の実施例に係る高周波誘導結合プラズ
マ発光分析装置におけるコンセントリック形ネブライザ
の略示断面図、図3は、本発明に係る高周波誘導結合プ
ラズマ発光分析装置の他の一実施例の要部を示すブロッ
ク図である。
【0017】図1、2において、図中、図4と同一符号
は同等部分であるので説明を省略し、新たな符号のみ説
明する。6はマイクロホン、8はプラズマト−チ、9は
高周波誘導コイル、10は誘導結合形プラズマ、11は
ガス制御部、13は冷却ガス、14は補助ガス、15は
高周波電源、16は分光器、17は光電子増倍管、18
はアナログ−デジタル変換器、19はデ−タ処理部、2
0は濃度表示部、21は警告表示部、22は光源、23
は霧、24は受光素子である。
は同等部分であるので説明を省略し、新たな符号のみ説
明する。6はマイクロホン、8はプラズマト−チ、9は
高周波誘導コイル、10は誘導結合形プラズマ、11は
ガス制御部、13は冷却ガス、14は補助ガス、15は
高周波電源、16は分光器、17は光電子増倍管、18
はアナログ−デジタル変換器、19はデ−タ処理部、2
0は濃度表示部、21は警告表示部、22は光源、23
は霧、24は受光素子である。
【0018】図1において、試料溶液導入用キャピラリ
チュ−ブ5は、その一端をコンセントリック形ネブライ
ザ1と他の一端を試料溶液2の液中とにある。また、こ
のネブライザ1には、ガス制御部11よりアルゴンガス
がキャリアガス12として導かれている。
チュ−ブ5は、その一端をコンセントリック形ネブライ
ザ1と他の一端を試料溶液2の液中とにある。また、こ
のネブライザ1には、ガス制御部11よりアルゴンガス
がキャリアガス12として導かれている。
【0019】前記コンセントリック形ネブライザ1は、
ニュ−マティック形ネブライザの一方式であり、図2に
示す如く、キャリアガス用キャピラリ4の内部に該キャ
ピラリと同軸対象に前記試料溶液導入用キャピラリ5が
配置された構造となっている。前記キャリアガス12の
流れにより生じる負圧により吸引された前記溶液試料2
が、前記試料溶液導入用キャピラリ5の先端から噴射し
霧化される。前記試料溶液2が霧化する際には、特有の
周波数特性を有し、その強度が霧化量とともに増大する
音波が発生する。
ニュ−マティック形ネブライザの一方式であり、図2に
示す如く、キャリアガス用キャピラリ4の内部に該キャ
ピラリと同軸対象に前記試料溶液導入用キャピラリ5が
配置された構造となっている。前記キャリアガス12の
流れにより生じる負圧により吸引された前記溶液試料2
が、前記試料溶液導入用キャピラリ5の先端から噴射し
霧化される。前記試料溶液2が霧化する際には、特有の
周波数特性を有し、その強度が霧化量とともに増大する
音波が発生する。
【0020】前記ネブライザ1にはマイクロホン6が、
霧化の際に発生する音波を検出できるうに取り付けられ
ている。霧化した試料溶液2は前記スプレ−チャンバ7
を経由してプラズマト−チ8に導かれる。前記プラズマ
ト−チ8の外周には高周波誘導コイル9が設置され、前
記高周波誘導コイル9には、高周波電源15より27M
Hzもしくは40MHz,出力1〜2kW程度の高周波
電力が印加される。
霧化の際に発生する音波を検出できるうに取り付けられ
ている。霧化した試料溶液2は前記スプレ−チャンバ7
を経由してプラズマト−チ8に導かれる。前記プラズマ
ト−チ8の外周には高周波誘導コイル9が設置され、前
記高周波誘導コイル9には、高周波電源15より27M
Hzもしくは40MHz,出力1〜2kW程度の高周波
電力が印加される。
【0021】また、前記プラズマト−チ8には前記ガス
制御部11よりアルゴンガスが冷却ガス13および補助
ガス14として導かれ、前記高周波電力により誘導結合
形プラズマ10が形成される。前記キャリアガス12に
より前記スプレ−チャンバ7を通過した霧化された前記
試料溶液2は前記プラズマト−チ8の前記プラズマ10
中に導かれる。前記プラズマ10中は高温になってお
り、この中で前記試料溶液2は分解し、含まれている元
素が各元素毎の特有の波長を有する発光線を生じる。
制御部11よりアルゴンガスが冷却ガス13および補助
ガス14として導かれ、前記高周波電力により誘導結合
形プラズマ10が形成される。前記キャリアガス12に
より前記スプレ−チャンバ7を通過した霧化された前記
試料溶液2は前記プラズマト−チ8の前記プラズマ10
中に導かれる。前記プラズマ10中は高温になってお
り、この中で前記試料溶液2は分解し、含まれている元
素が各元素毎の特有の波長を有する発光線を生じる。
【0022】これらの発光は、分光器16により分光さ
れ、所定の元素に対応する特定波長の発光線の発光強度
が光電子増倍管17により電気信号として取り出され
る。この電気信号はアナログ−デジタル変換器18でデ
ジタル量に変換されて、デ−タ処理部19に取り込まれ
る。前記デ−タ処理装置19は、予めこの測定対象元素
について試料濃度と発光強度の間の関係式を記憶してお
り、取り込まれた発光強度から前記関係式を用いて試料
溶液2中での前記元素の濃度を算出し、濃度表示部20
に表示する。
れ、所定の元素に対応する特定波長の発光線の発光強度
が光電子増倍管17により電気信号として取り出され
る。この電気信号はアナログ−デジタル変換器18でデ
ジタル量に変換されて、デ−タ処理部19に取り込まれ
る。前記デ−タ処理装置19は、予めこの測定対象元素
について試料濃度と発光強度の間の関係式を記憶してお
り、取り込まれた発光強度から前記関係式を用いて試料
溶液2中での前記元素の濃度を算出し、濃度表示部20
に表示する。
【0023】また、前記マイクロホン6からの音響信号
強度も前記デ−タ処理部19に取り込まれ、予め記憶さ
れたいる基準値と照合される。前記試料導入用キャピラ
リチュ−ブ5への気泡の混入などにより霧化量が減少
し、強度が基準値よりも小さくなった場合には、警告表
示部21に前記ネブライザ1における霧化状態に異常が
ある旨の表示がなされ、測定者が察知することができ
る。
強度も前記デ−タ処理部19に取り込まれ、予め記憶さ
れたいる基準値と照合される。前記試料導入用キャピラ
リチュ−ブ5への気泡の混入などにより霧化量が減少
し、強度が基準値よりも小さくなった場合には、警告表
示部21に前記ネブライザ1における霧化状態に異常が
ある旨の表示がなされ、測定者が察知することができ
る。
【0024】高周波誘導結合プラズマ発光分析装置にお
いては前記ネブライザ1の周辺部は前記試料溶液2に含
まれる酸やアルカリに汚染され易く、また、前記プラズ
マ10の高温にさらされる。そのため、ここで用いるマ
イクロホン6の外面は、耐酸または耐アルカリ性、か
つ、高熱に耐える部材で覆うことがのぞましい。
いては前記ネブライザ1の周辺部は前記試料溶液2に含
まれる酸やアルカリに汚染され易く、また、前記プラズ
マ10の高温にさらされる。そのため、ここで用いるマ
イクロホン6の外面は、耐酸または耐アルカリ性、か
つ、高熱に耐える部材で覆うことがのぞましい。
【0025】本発明は上記実施例に限定されるものでな
く、霧化量の変化を検知する手段であれば差し支えな
い。また、取り付け場所もネブライザに限定されるもの
でなくスプレ−チャンバに設けても差し支えない。本実
施例においては、霧化量の変化に対応して発生する音響
信号の強度をマイクロホンで検出することにより霧化の
状態を監視するが、図3のようにネブライザ1の出口で
発生している霧の部分に光を通し、その光が霧で減光さ
れる量から霧化量を判定してもよい。
く、霧化量の変化を検知する手段であれば差し支えな
い。また、取り付け場所もネブライザに限定されるもの
でなくスプレ−チャンバに設けても差し支えない。本実
施例においては、霧化量の変化に対応して発生する音響
信号の強度をマイクロホンで検出することにより霧化の
状態を監視するが、図3のようにネブライザ1の出口で
発生している霧の部分に光を通し、その光が霧で減光さ
れる量から霧化量を判定してもよい。
【0026】すなわち、光源22から出た光を発生した
霧23の中を通し、反対側に置かれた受光素子24で検
知する。この受光素子24からの光強度信号は、前記音
響信号の場合と同様に、デ−タ処理部19に取り込ま
れ、基準値と比較の上、結果が警告表示部21に表示さ
れる。
霧23の中を通し、反対側に置かれた受光素子24で検
知する。この受光素子24からの光強度信号は、前記音
響信号の場合と同様に、デ−タ処理部19に取り込ま
れ、基準値と比較の上、結果が警告表示部21に表示さ
れる。
【0027】本実施例においては、上記の如く、ネブラ
イザの試料溶液吸引が停止したり、ネブライザの試料溶
液吹き出し口がつまった場合等に生ずる前記ネブライザ
における霧化の状態に異常が発生した旨の表示が警告表
示部に表示されるため、測定者が容易に異常現象を察知
することができ、誤った測定結果の採用する恐れを防ぐ
ことできる。
イザの試料溶液吸引が停止したり、ネブライザの試料溶
液吹き出し口がつまった場合等に生ずる前記ネブライザ
における霧化の状態に異常が発生した旨の表示が警告表
示部に表示されるため、測定者が容易に異常現象を察知
することができ、誤った測定結果の採用する恐れを防ぐ
ことできる。
【0028】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、測定者が、試料溶液が正常に高周波誘導結合プラ
ズマに導入されていることを容易に確認できるようにす
ることにより、測定誤差のない高周波誘導結合プラズマ
発光分析装置を提供することができる。
れば、測定者が、試料溶液が正常に高周波誘導結合プラ
ズマに導入されていることを容易に確認できるようにす
ることにより、測定誤差のない高周波誘導結合プラズマ
発光分析装置を提供することができる。
【図1】本発明に係る高周波誘導結合プラズマ発光分析
装置の一実施例の構成を示すブロック図である。
装置の一実施例の構成を示すブロック図である。
【図2】図1の実施例に係る高周波誘導結合プラズマ発
光分析装置におけるコンセントリック形ネブライザの略
示断面図である。
光分析装置におけるコンセントリック形ネブライザの略
示断面図である。
【図3】本発明に係る高周波誘導結合プラズマ発光分析
装置の他の一実施例の要部を示すブロック図である。
装置の他の一実施例の要部を示すブロック図である。
【図4】従来の高周波誘導結合プラズマ発光分析装置に
おけるコンセントリック形ネブライザとスプレ−チャン
バとを結合した構造の略示断面図である。
おけるコンセントリック形ネブライザとスプレ−チャン
バとを結合した構造の略示断面図である。
1 コンセントリック形ネブライザ 2 試料溶液 3 ドレイン 4 キャリアガス用キャピラリ 5 試料溶液導入用キャピラリ 6 マイクロホン 7 スプレ−チャンバ 8 プラズマト−チ 9 高周波誘導コイル 10 誘導結合形プラズマ 11 ガス制御部 12 キャリアガス 13 冷却ガス 14 補助ガス 15 高周波電源 16 分光器 17 光電子増倍管 18 アナログ−デジタル変換器 19 デ−タ処理部 20 濃度表示部 21 警告表示部 22 光源 23 霧 24 受光素子
Claims (5)
- 【請求項1】 ネブライザによって霧化した試料溶液を
スプレ−チャンバを介して高周波誘導結合プラズマに導
き、該試料中に含有される元素の発光分析を行う高周波
誘導結合プラズマ発光分析装置において、 前記試料溶液が高周波誘導結合プラズマに導かれている
か否かを監視する手段を設けたことを特徴とする高周波
誘導結合プラズマ発光分析装置。 - 【請求項2】試料溶液が高周波誘導結合プラズマに導か
れているか否かの監視手段は、前記試料溶液がネブライ
ザにて霧化される時に発生する音響信号を検出するよう
に構成したことを特徴とする請求項1記載の高周波誘導
結合プラズマ発光分析装置。 - 【請求項3】 音響信号を検出する手段は、マイクロホ
ンを用い、前記マイクロホンをネブライザに取り付けて
構成したことを特徴とする請求項2記載の高周波誘導結
合プラズマ発光分析装置。 - 【請求項4】 マイクロホンは、耐酸または耐アルカ
リ、且つ、耐熱性の高い部材により全体または部分を覆
うように構成したことを特徴とする請求項3記載の高周
波誘導結合プラズマ発光分析装置。 - 【請求項5】試料溶液が高周波誘導結合プラズマに導か
れているか否かの監視手段は、霧化された前記試料溶液
の霧を介して光源と光検出器を配設し、前記霧によりさ
えぎられる光量の変化を検出するように構成したことを
特徴とする請求項1記載の高周波誘導結合プラズマ発光
分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19153893A JPH0743304A (ja) | 1993-08-03 | 1993-08-03 | 高周波誘導結合プラズマ発光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19153893A JPH0743304A (ja) | 1993-08-03 | 1993-08-03 | 高周波誘導結合プラズマ発光分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0743304A true JPH0743304A (ja) | 1995-02-14 |
Family
ID=16276343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19153893A Pending JPH0743304A (ja) | 1993-08-03 | 1993-08-03 | 高周波誘導結合プラズマ発光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0743304A (ja) |
-
1993
- 1993-08-03 JP JP19153893A patent/JPH0743304A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20070144253A1 (en) | Liquid surface detection device | |
| JP2002503807A (ja) | マイクロ波誘導プラズマ元素センサ | |
| US10801945B2 (en) | Inline particle sensor | |
| US4804519A (en) | Sample analysis apparatus | |
| US20100085569A1 (en) | Apparatus for high-accuracy fiber counting in air | |
| US5066125A (en) | Electrothermal direct injection torch for inductively coupled plasma | |
| US7701578B1 (en) | Planar micro-discharge gas detector | |
| JPH0743304A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ発光分析装置 | |
| JP2825131B2 (ja) | 分光計でアトマイザを用いて操作する原子化装置へ液体を供給するための装置 | |
| US9869227B2 (en) | System and method for repeatable fluid measurements | |
| US20130201477A1 (en) | Elementary analysis apparatus and method | |
| JPH06222005A (ja) | Icp発光分光分析方法 | |
| JP2009240898A (ja) | 霧状液体流量測定装置及び霧状液体流量測定方法 | |
| JP6795095B2 (ja) | プラズマ発生装置、これを備えた発光分析装置及び質量分析装置、並びに、装置状態判定方法 | |
| JPS6325535A (ja) | Icp発光分析装置 | |
| JPH08313441A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ発光分析装置 | |
| JP4595875B2 (ja) | Icp分析装置 | |
| JP3593470B2 (ja) | フレーム原子吸光光度計、及びその制御方法 | |
| JP4013647B2 (ja) | アンモニア計 | |
| JPH01124951A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析装置 | |
| JPH06109639A (ja) | 発光分光分析方法 | |
| JPS63103944A (ja) | Icp発光分析装置 | |
| CN113227578A (zh) | 检测注射泵有无吸入液体的方法及具备注射泵的装置 | |
| JPH08145892A (ja) | Icp発光分析装置 | |
| JP2000074840A (ja) | Icp分光分析装置 |