JPH0743760A - 第2高調波発生装置 - Google Patents
第2高調波発生装置Info
- Publication number
- JPH0743760A JPH0743760A JP20571493A JP20571493A JPH0743760A JP H0743760 A JPH0743760 A JP H0743760A JP 20571493 A JP20571493 A JP 20571493A JP 20571493 A JP20571493 A JP 20571493A JP H0743760 A JPH0743760 A JP H0743760A
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- Japan
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- resonator
- harmonic
- monolithic
- fundamental wave
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- Pending
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】内部散乱光が強く、戻り光量が多いモノリシッ
ク型共振器であってもロッキングレンジの過剰な拡大を
防止し、安定な高調波出力を得る。 【構成】半導体レーザ2、結合光学系、モノリシック型
共振器5を含む第2高調波発生装置21においてコリメ
ートレンズ3とモードマッチングレンズ4の間に透過率
減衰フィルター12としてのNDフィルターを設ける。
ク型共振器であってもロッキングレンジの過剰な拡大を
防止し、安定な高調波出力を得る。 【構成】半導体レーザ2、結合光学系、モノリシック型
共振器5を含む第2高調波発生装置21においてコリメ
ートレンズ3とモードマッチングレンズ4の間に透過率
減衰フィルター12としてのNDフィルターを設ける。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光源から発せら
れる基本波を、非線形光学材料を有するモノリシック型
共振器、もしくはディスクリート型などの共振器を用い
て高調波に変換する高調波発生装置に関する。
れる基本波を、非線形光学材料を有するモノリシック型
共振器、もしくはディスクリート型などの共振器を用い
て高調波に変換する高調波発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体レーザ等から出射される基
本波を非線形光学材料に通して、波長変換された第2高
調波や第3高調波を得る装置が種々提案されている。こ
れらの装置では、複数の反射面で構成される共振器内に
非線形光学材料を配置し、基本波を共振器内に閉じ込め
て増幅させることで、高調波を効率よく発生させるよう
にしている。
本波を非線形光学材料に通して、波長変換された第2高
調波や第3高調波を得る装置が種々提案されている。こ
れらの装置では、複数の反射面で構成される共振器内に
非線形光学材料を配置し、基本波を共振器内に閉じ込め
て増幅させることで、高調波を効率よく発生させるよう
にしている。
【0003】そして、共振器としては、非線形光学材料
の端面に反射膜を設けてその内部で共振させるモノリシ
ック型共振器と、複数のミラーを配置して共振器を構成
し、この共振器内に非線形光学材料を配置したディスク
リート型共振器とが知られている。最近では、装置の小
型化及び高調波への変換効率の向上を図るために、ディ
スクリート型のものから、非線形光学材料の内部におい
て基本波を共振させるモノリシック型のものへとその主
流が移行しつつある。
の端面に反射膜を設けてその内部で共振させるモノリシ
ック型共振器と、複数のミラーを配置して共振器を構成
し、この共振器内に非線形光学材料を配置したディスク
リート型共振器とが知られている。最近では、装置の小
型化及び高調波への変換効率の向上を図るために、ディ
スクリート型のものから、非線形光学材料の内部におい
て基本波を共振させるモノリシック型のものへとその主
流が移行しつつある。
【0004】図2には、従来の高調波発生装置の一例と
してモノリシック型共振器を用いた第2高調波発生装置
が示されている。この第2高調波発生装置1は、半導体
レーザ(以下「LD」と略称する)2、コリメートレン
ズ3、モードマッチングレンズ4、及びKNbO3 結晶
等の非線形光学材料でできたモノリシック型共振器5に
よって構成されている。LD2は、例えば波長860n
mの基本波6を出射する。モノリシック型共振器5の図
中左右に対向する2面は、球面状に研磨加工され、所定
の光学膜が施されている。すなわち、図中左側の面は、
基本波6の入射面をなし、基本波6に対して一部透過の
光学膜を施された球面ミラー8をなしている。また、図
中右側の面は、第2高調波7の出射面をなし、基本波6
に対して高反射、第2高調波7に対して高透過の光学膜
を施された球面ミラー9をなしている。更に、モノリシ
ック型共振器5の図中下面は、基本波6及び第2高調波
7のいずれも全反射する平面ミラー10をなしている。
なお、図中11aはLD2の温度を制御するペルチェ素
子、11bはモノリシック型共振器5の温度を制御する
ペルチェ素子である。
してモノリシック型共振器を用いた第2高調波発生装置
が示されている。この第2高調波発生装置1は、半導体
レーザ(以下「LD」と略称する)2、コリメートレン
ズ3、モードマッチングレンズ4、及びKNbO3 結晶
等の非線形光学材料でできたモノリシック型共振器5に
よって構成されている。LD2は、例えば波長860n
mの基本波6を出射する。モノリシック型共振器5の図
中左右に対向する2面は、球面状に研磨加工され、所定
の光学膜が施されている。すなわち、図中左側の面は、
基本波6の入射面をなし、基本波6に対して一部透過の
光学膜を施された球面ミラー8をなしている。また、図
中右側の面は、第2高調波7の出射面をなし、基本波6
に対して高反射、第2高調波7に対して高透過の光学膜
を施された球面ミラー9をなしている。更に、モノリシ
ック型共振器5の図中下面は、基本波6及び第2高調波
7のいずれも全反射する平面ミラー10をなしている。
なお、図中11aはLD2の温度を制御するペルチェ素
子、11bはモノリシック型共振器5の温度を制御する
ペルチェ素子である。
【0005】上記の構成において、LD2から出射する
波長860nmの基本波6は、コリメートレンズ3によ
り平行光にされ、モードマッチングレンズ4を通過し
て、モノリシック型共振器5の球面ミラー8のA点から
入射する。この際、A点に入射した基本波6がモノリシ
ック型共振器5の結晶軸aと平行に進むように、基本波
6を結晶軸aに対して特定の角度θで入射させる。入射
した基本波6は、2つの球面ミラー8、9及び平面ミラ
ー10で構成される共振器内の点A、B、Cでリング型
に反射して増倍される。
波長860nmの基本波6は、コリメートレンズ3によ
り平行光にされ、モードマッチングレンズ4を通過し
て、モノリシック型共振器5の球面ミラー8のA点から
入射する。この際、A点に入射した基本波6がモノリシ
ック型共振器5の結晶軸aと平行に進むように、基本波
6を結晶軸aに対して特定の角度θで入射させる。入射
した基本波6は、2つの球面ミラー8、9及び平面ミラ
ー10で構成される共振器内の点A、B、Cでリング型
に反射して増倍される。
【0006】こうして、増倍された基本波6は、モノリ
シック型共振器5中を結晶軸a方向に伝搬し、位相整合
条件が満足されたとき、その一部がc軸直線偏光の波長
430nmの第2高調波7に変換される。そして、基本
波6の一部は結晶内部の不純物等によって散乱され、逆
回りの経路を持つ戻り光となる。この戻り光がLD2に
入射すると、LD光の周波数は、共振器5の共振周波数
に引き込まれ、ある領域をもって共振器5の共振周波数
にロックされる。このロックされる周波数領域をロッキ
ングレンジといい、共振器5からの戻り光量が40dB
のとき、ロッキングレンジは約3.5GHzとなる。
シック型共振器5中を結晶軸a方向に伝搬し、位相整合
条件が満足されたとき、その一部がc軸直線偏光の波長
430nmの第2高調波7に変換される。そして、基本
波6の一部は結晶内部の不純物等によって散乱され、逆
回りの経路を持つ戻り光となる。この戻り光がLD2に
入射すると、LD光の周波数は、共振器5の共振周波数
に引き込まれ、ある領域をもって共振器5の共振周波数
にロックされる。このロックされる周波数領域をロッキ
ングレンジといい、共振器5からの戻り光量が40dB
のとき、ロッキングレンジは約3.5GHzとなる。
【0007】このようなロッキングレンジ内に、LD光
の周波数を維持することにより安定な第2高調波出力が
得られる。ロッキングレンジは戻り光が多くなればなる
ほど拡がり、LD周波数変動許容幅も拡大するが、ロッ
キングレンジがモノリシック型共振器5の縦モード間隔
(1FSR=C/nL 10GHz,Cは光速、nは屈
折率、Lは共振長)以上になると、共振器縦モードの隣
接するロッキングレンジと重なり合い、系全体が非常に
不安定となる。よってLD周波数変動許容幅拡大のため
には、ロッキングレンジを隣接する縦モードのロッキン
グレンジと重ならない程度に拡げてやることが重要であ
る。
の周波数を維持することにより安定な第2高調波出力が
得られる。ロッキングレンジは戻り光が多くなればなる
ほど拡がり、LD周波数変動許容幅も拡大するが、ロッ
キングレンジがモノリシック型共振器5の縦モード間隔
(1FSR=C/nL 10GHz,Cは光速、nは屈
折率、Lは共振長)以上になると、共振器縦モードの隣
接するロッキングレンジと重なり合い、系全体が非常に
不安定となる。よってLD周波数変動許容幅拡大のため
には、ロッキングレンジを隣接する縦モードのロッキン
グレンジと重ならない程度に拡げてやることが重要であ
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、戻り光
発生要因である結晶内部の散乱は、個々の結晶によって
その大きさが異なる。特に内部散乱の強い結晶を用いた
モノリシック型共振器の場合、ロッキングレンジが10
GHz以上となり、安定な第2高調波出力が得られない
という問題点があった。したがって本発明は、上記のよ
うな、内部散乱光が強く、戻り光量が多いモノリシック
型共振器5に対しても、その戻り光量を適当な量にする
機能を第2高調波発生装置に付加することによって、安
定な高調波出力を得ようとすることを目的とするもので
ある。
発生要因である結晶内部の散乱は、個々の結晶によって
その大きさが異なる。特に内部散乱の強い結晶を用いた
モノリシック型共振器の場合、ロッキングレンジが10
GHz以上となり、安定な第2高調波出力が得られない
という問題点があった。したがって本発明は、上記のよ
うな、内部散乱光が強く、戻り光量が多いモノリシック
型共振器5に対しても、その戻り光量を適当な量にする
機能を第2高調波発生装置に付加することによって、安
定な高調波出力を得ようとすることを目的とするもので
ある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の問題点を
解決すべくなされたものであり、基本波発生用の光源
と、結合光学系と、非線形光学材料を含む共振器を備え
た高調波発生装置において、該光源と該共振器の間に透
過率減衰フィルターを設けたことを特徴とする第2高調
波発生装置を提供するものである。
解決すべくなされたものであり、基本波発生用の光源
と、結合光学系と、非線形光学材料を含む共振器を備え
た高調波発生装置において、該光源と該共振器の間に透
過率減衰フィルターを設けたことを特徴とする第2高調
波発生装置を提供するものである。
【0010】
【実施例】以下、本発明を実施例としての図面を参照し
て説明する。なお従来例として説明した図2の装置と実
質的に同一部分には、同符号を付してその説明を省略す
ることにする。図1は、本発明の1実施例である第2高
調波発生装置21の概略構成図である。図2の従来例に
対して更にLD2とモノリシック型共振器5との間に透
過率減衰フィルター12が設けてある。図1では透過率
減衰フィルター12は、コリメータレンズ3とモードマ
ッチングレンズ4との間に配しているが、LD2とコリ
メータレンズ3の間、もしくはモードマッチングレンズ
4とモノリシック型共振器5の間に設けてもよい。透過
率減衰フィルター12としてはNDフィルタ(中性濃度
フィルター)を用いるのが適当でありその透過率として
は50〜95%のものが適当である。本発明で共振器と
してはモノリシック型共振器の改良として最適なもので
ありながらそればかりでなくディスクリート型に適用す
ることも勿論可能である。
て説明する。なお従来例として説明した図2の装置と実
質的に同一部分には、同符号を付してその説明を省略す
ることにする。図1は、本発明の1実施例である第2高
調波発生装置21の概略構成図である。図2の従来例に
対して更にLD2とモノリシック型共振器5との間に透
過率減衰フィルター12が設けてある。図1では透過率
減衰フィルター12は、コリメータレンズ3とモードマ
ッチングレンズ4との間に配しているが、LD2とコリ
メータレンズ3の間、もしくはモードマッチングレンズ
4とモノリシック型共振器5の間に設けてもよい。透過
率減衰フィルター12としてはNDフィルタ(中性濃度
フィルター)を用いるのが適当でありその透過率として
は50〜95%のものが適当である。本発明で共振器と
してはモノリシック型共振器の改良として最適なもので
ありながらそればかりでなくディスクリート型に適用す
ることも勿論可能である。
【0011】
【作用】本発明において、上記の透過率減衰フィルター
12は、内部散乱光の強いモノリシック共振器からのL
D2への過度の戻り光を減衰させ、1FSR(〜10G
Hz)以下(6〜9GHz)のロッキングレンジが得ら
れるよう機能する。実際には、種々の透過率減衰フィル
ター12の透過率を変えながら、ロッキングレンジの大
きさを測定することにより、最適透過率の透過率減衰フ
ィルター12を選ぶことができる。
12は、内部散乱光の強いモノリシック共振器からのL
D2への過度の戻り光を減衰させ、1FSR(〜10G
Hz)以下(6〜9GHz)のロッキングレンジが得ら
れるよう機能する。実際には、種々の透過率減衰フィル
ター12の透過率を変えながら、ロッキングレンジの大
きさを測定することにより、最適透過率の透過率減衰フ
ィルター12を選ぶことができる。
【0012】
【発明の効果】本発明は、透過率減衰フィルターを内蔵
することにより、内部散乱光の強いモノリシック共振器
に対しても、安定な第2高調波出力を得ることができる
という優れた効果を有する。また、これによって共振器
の製作歩留りも向上し、装置のコストダウンに寄与する
という効果も認められる。
することにより、内部散乱光の強いモノリシック共振器
に対しても、安定な第2高調波出力を得ることができる
という優れた効果を有する。また、これによって共振器
の製作歩留りも向上し、装置のコストダウンに寄与する
という効果も認められる。
【図1】本発明の第2高調波発生装置の一実施例を示す
側面図。
側面図。
【図2】従来の第2高調波発生装置の一例を示す側面
図。
図。
1、21:高調波発生装置 2:半導体レーザ(LD) 3:コリメートレンズ 4:モードマッチングレンズ 5:モノリシック型共振器 6:基本波 7:第2高調波 8、9:球面ミラー 10:平面ミラー 11a、11b:ペルチェ素子 12:透過率減衰フィルター
Claims (3)
- 【請求項1】基本波発生用の光源と、結合光学系と、非
線形光学材料を含む共振器を備えた高調波発生装置にお
いて、該光源と該共振器の間に透過率減衰フィルターを
設けたことを特徴とする第2高調波発生装置。 - 【請求項2】透過率減衰フィルターがNDフィルターで
ある請求項1記載の第2高調波発生装置。 - 【請求項3】共振器がモノリシック型共振器またはディ
スクリート型共振器である請求項1記載の第2高調波発
生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20571493A JPH0743760A (ja) | 1993-07-28 | 1993-07-28 | 第2高調波発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20571493A JPH0743760A (ja) | 1993-07-28 | 1993-07-28 | 第2高調波発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0743760A true JPH0743760A (ja) | 1995-02-14 |
Family
ID=16511484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20571493A Pending JPH0743760A (ja) | 1993-07-28 | 1993-07-28 | 第2高調波発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0743760A (ja) |
-
1993
- 1993-07-28 JP JP20571493A patent/JPH0743760A/ja active Pending
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