JPH0744357B2 - Ｉｃ位置決め装置 - Google Patents
Ｉｃ位置決め装置Info
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- JPH0744357B2 JPH0744357B2 JP2001482A JP148290A JPH0744357B2 JP H0744357 B2 JPH0744357 B2 JP H0744357B2 JP 2001482 A JP2001482 A JP 2001482A JP 148290 A JP148290 A JP 148290A JP H0744357 B2 JPH0744357 B2 JP H0744357B2
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- JP
- Japan
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- image
- optical element
- substrate
- optical
- reflection mirror
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はIC（集積回路）のアウターリードを、プリント
基板上のパターンに全リードを同時に半田付けするIC半
田付け装置等に適用して好適なIC位置決め装置に関す
る。
基板上のパターンに全リードを同時に半田付けするIC半
田付け装置等に適用して好適なIC位置決め装置に関す
る。
［従来の技術］ 近年、ICリードはIC自体の微細化および高密度化に伴
い、その数が急激に増加し、またリード幅およびリード
間隔も著しく狭くなってきていることから、プリント基
板への半田付け実装に際しては、高い位置決め精度が要
求されている。
い、その数が急激に増加し、またリード幅およびリード
間隔も著しく狭くなってきていることから、プリント基
板への半田付け実装に際しては、高い位置決め精度が要
求されている。
第２図はIC半田付け装置に用いられている従来のIC位置
決め装置を示す模式図である。同図において、１は前後
左右方向に移動調整されると共に回転されるステージ、
２はステージ１上に設置されたプリント基板、３はステ
ージ１の上方に上下動自在に配置されてIC4を吸着保持
し、これをプリント基板２上に半田付け等により接合す
るヒーターツール、５はプリント基板２とIC4との間に
配置されたアライメント光学系で、このアライメント光
学系５はハーフミラー６、ハーフミラー６の両側に配設
された全反射ミラー７および顕微鏡８とで構成されてい
る。IC4を光源12からの光によって照射すると、その反
射光９はハーフミラー６に入射し、反射光10と透過光11
に２分割される。反射光10は全反射ミラー７に当たって
反射し、同一光路を通って再びハーフミラー６に入射す
る。そしてこの反射光10はハーフミラー６を透過して顕
微鏡８に入射し、IC4の像をそのスクリーン上に結像さ
せる。一方、プリント基板２を光源13からのひかりで照
射すると、その反射光11はハーフミラー６に入射してそ
の一部が透過し、残りが反射して前記顕微鏡８に入射
し、プリント基板２の像をスクリーン上に結像させる。
したがって、スクリーン上にはプリント基板２とIC4の
像が合成され、そのずれを視認しながらステージ１を移
動調整してプリント基板２とIC4の像を一致させること
で、位置合わせが行われる。位置合わせが完了すると、
アライメント光学系５をプリント基板２の上方から側方
に退避させて、ヒーターツール３を下降させ、IC4をプ
リント基板２上に所定圧にて加圧し、加熱することで接
合される。
決め装置を示す模式図である。同図において、１は前後
左右方向に移動調整されると共に回転されるステージ、
２はステージ１上に設置されたプリント基板、３はステ
ージ１の上方に上下動自在に配置されてIC4を吸着保持
し、これをプリント基板２上に半田付け等により接合す
るヒーターツール、５はプリント基板２とIC4との間に
配置されたアライメント光学系で、このアライメント光
学系５はハーフミラー６、ハーフミラー６の両側に配設
された全反射ミラー７および顕微鏡８とで構成されてい
る。IC4を光源12からの光によって照射すると、その反
射光９はハーフミラー６に入射し、反射光10と透過光11
に２分割される。反射光10は全反射ミラー７に当たって
反射し、同一光路を通って再びハーフミラー６に入射す
る。そしてこの反射光10はハーフミラー６を透過して顕
微鏡８に入射し、IC4の像をそのスクリーン上に結像さ
せる。一方、プリント基板２を光源13からのひかりで照
射すると、その反射光11はハーフミラー６に入射してそ
の一部が透過し、残りが反射して前記顕微鏡８に入射
し、プリント基板２の像をスクリーン上に結像させる。
したがって、スクリーン上にはプリント基板２とIC4の
像が合成され、そのずれを視認しながらステージ１を移
動調整してプリント基板２とIC4の像を一致させること
で、位置合わせが行われる。位置合わせが完了すると、
アライメント光学系５をプリント基板２の上方から側方
に退避させて、ヒーターツール３を下降させ、IC4をプ
リント基板２上に所定圧にて加圧し、加熱することで接
合される。
［発明が解決しようとする課題］ ところで、このようなハーフミラー方式による従来のIC
位置決め装置においては、プリント基板２によって反射
されハーフミラー６を介して顕微鏡８に入射する光は元
の光量の半分に減少する。これに対して、IC4によって
反射された光９はハーフミラー６で反射される際、光量
を1/2とされた反射光10は全反射ミラー７に当たり戻っ
てくると更にハーフミラー６を透過する際に２分される
ため、顕微鏡８に入射する光量は元の光量の1/4に減少
する。したがって、光の損失が大きく、スクリーン上の
像が著しく低輝度になると云う欠点があった。
位置決め装置においては、プリント基板２によって反射
されハーフミラー６を介して顕微鏡８に入射する光は元
の光量の半分に減少する。これに対して、IC4によって
反射された光９はハーフミラー６で反射される際、光量
を1/2とされた反射光10は全反射ミラー７に当たり戻っ
てくると更にハーフミラー６を透過する際に２分される
ため、顕微鏡８に入射する光量は元の光量の1/4に減少
する。したがって、光の損失が大きく、スクリーン上の
像が著しく低輝度になると云う欠点があった。
この場合、肉眼での直接視認においては位置合わせに何
とか支障ない明るさを確保し得るが、CCD（電荷結合素
子）カメラによって像を撮像し、これを電気信号に変換
してCRT（陰極線管）で表示する場合は、十分な輝度が
得られず極めて見にくいものである。
とか支障ない明るさを確保し得るが、CCD（電荷結合素
子）カメラによって像を撮像し、これを電気信号に変換
してCRT（陰極線管）で表示する場合は、十分な輝度が
得られず極めて見にくいものである。
このため、大光量の光源を用いて映像輝度を上げること
も考えられるが、アライメント光学系５がプリント基板
２とIC4との間に位置しているため、照明を斜め方向か
ら当てなければならず、光量を均一にすることが困難で
あり、実用的ではない。また、プリント基板２とIC4と
の反射率の相違により、両者の輝度を等しくするには光
量を変える必要があり、２系統の照明を用意する必要が
ある。
も考えられるが、アライメント光学系５がプリント基板
２とIC4との間に位置しているため、照明を斜め方向か
ら当てなければならず、光量を均一にすることが困難で
あり、実用的ではない。また、プリント基板２とIC4と
の反射率の相違により、両者の輝度を等しくするには光
量を変える必要があり、２系統の照明を用意する必要が
ある。
したがって、本発明は上記したような従来の問題点に鑑
みてなされたもので、その目的とするところは、光の損
失が少なく、高輝度の像が得られ、位置合わせを容易且
つ高精度に行い得るようにしたIC位置決め装置を提供す
るものである。
みてなされたもので、その目的とするところは、光の損
失が少なく、高輝度の像が得られ、位置合わせを容易且
つ高精度に行い得るようにしたIC位置決め装置を提供す
るものである。
［課題を解決するための手段］ 本発明は上記目的を達成するためになされたもので、そ
の第１の発明は、ステージ上に載置された基板とこの基
板の上方に配置されたICとの位置決めを行うIC位置決め
装置において、撮像対象面に対し45度傾斜させて配置し
た全反射鏡の反射光路中に対物レンズを配置し基板また
はICのある定められた第１の部位のパターン像を形成す
る第１の光学素子群と、前記全反射鏡の反射光路に平行
な軸を挟んで前記全反射鏡と対称に配置した全反射鏡の
反射光路中に対物レンズと梯形プリズムとを配置しICま
たは基板の前記第１の部位に対応する部分の像を反転さ
せて形成する第２の光学素子群と、前記第１および第２
の光学素子群によって形成された前記第１の部位のパタ
ーン像とIC像とを同一視野に合成する光学素子とを備え
た第１のアライメント光学系と、撮像対象面に対し45度
傾斜させて配置した全反射鏡の反射光路中に対物レンズ
を配置し基板またはICのある定められた第２の部位のパ
ターン像を形成する第３の光学素子群と、前記第３の光
学素子群の全反射鏡の反射光路に平行な軸を挟んで第３
の光学素子群の全反射鏡と対称に配置した全反射鏡の反
射光路中に対物レンズと梯形プリズムとを配置しICまた
は基板の前記第２の部位に対応する部分の像を反転させ
て形成する第４の光学素子群と、前記第３および第４の
光学素子群によって形成された前記第２の部位のパター
ン像とIC像とを同一視野に合成する光学素子とを備えた
第２のアライメント光学系を備え、前記第１および第２
のアライメント光学系により合成された像を表示手段に
よって表示するようにしたものである。
の第１の発明は、ステージ上に載置された基板とこの基
板の上方に配置されたICとの位置決めを行うIC位置決め
装置において、撮像対象面に対し45度傾斜させて配置し
た全反射鏡の反射光路中に対物レンズを配置し基板また
はICのある定められた第１の部位のパターン像を形成す
る第１の光学素子群と、前記全反射鏡の反射光路に平行
な軸を挟んで前記全反射鏡と対称に配置した全反射鏡の
反射光路中に対物レンズと梯形プリズムとを配置しICま
たは基板の前記第１の部位に対応する部分の像を反転さ
せて形成する第２の光学素子群と、前記第１および第２
の光学素子群によって形成された前記第１の部位のパタ
ーン像とIC像とを同一視野に合成する光学素子とを備え
た第１のアライメント光学系と、撮像対象面に対し45度
傾斜させて配置した全反射鏡の反射光路中に対物レンズ
を配置し基板またはICのある定められた第２の部位のパ
ターン像を形成する第３の光学素子群と、前記第３の光
学素子群の全反射鏡の反射光路に平行な軸を挟んで第３
の光学素子群の全反射鏡と対称に配置した全反射鏡の反
射光路中に対物レンズと梯形プリズムとを配置しICまた
は基板の前記第２の部位に対応する部分の像を反転させ
て形成する第４の光学素子群と、前記第３および第４の
光学素子群によって形成された前記第２の部位のパター
ン像とIC像とを同一視野に合成する光学素子とを備えた
第２のアライメント光学系を備え、前記第１および第２
のアライメント光学系により合成された像を表示手段に
よって表示するようにしたものである。
また、第２の発明は、ステージ上に載置された基板とこ
の基板の上方に配置されたICとの位置決めを行うIC位置
決め装置において、撮像対象面に対し45度傾斜させて配
置した全反射鏡の反射光路中に対物レンズを配置し基板
またはICのある定められた第１の部位のパターン像を形
成する第１の光学素子群と、前記全反射鏡の反射光路に
平行な軸を挟んで前記全反射鏡と対称に配置した全反射
鏡の反射光路中に対物レンズと梯形プリズムとを配置し
ICまたは基板の前記第１の部位に対応する部分の像を反
転させて形成する第２の光学素子群と、前記第１および
第２の光学素子群によって形成された前記第１の部位の
パターン像とIC像とを同一視野に合成する光学素子とを
備えたアライメント光学系と、該アライメント光学系を
前記基板のある定められた第２の部位および前記ICの前
記第２の部位に対応する部分に移動させる摺動機構とを
備え、前記第１および第２の部位においてそれぞれ合成
された像を表示手段によって合成して表示するようにし
たものである。
の基板の上方に配置されたICとの位置決めを行うIC位置
決め装置において、撮像対象面に対し45度傾斜させて配
置した全反射鏡の反射光路中に対物レンズを配置し基板
またはICのある定められた第１の部位のパターン像を形
成する第１の光学素子群と、前記全反射鏡の反射光路に
平行な軸を挟んで前記全反射鏡と対称に配置した全反射
鏡の反射光路中に対物レンズと梯形プリズムとを配置し
ICまたは基板の前記第１の部位に対応する部分の像を反
転させて形成する第２の光学素子群と、前記第１および
第２の光学素子群によって形成された前記第１の部位の
パターン像とIC像とを同一視野に合成する光学素子とを
備えたアライメント光学系と、該アライメント光学系を
前記基板のある定められた第２の部位および前記ICの前
記第２の部位に対応する部分に移動させる摺動機構とを
備え、前記第１および第２の部位においてそれぞれ合成
された像を表示手段によって合成して表示するようにし
たものである。
［作用］ 本発明において、基板とICのある定められた第１の部位
のパターン像は、第１のアラメント光学系の光路中に配
置された第１、第２の光学素子群によって形成される。
また、基板とICのある定められた第２の部位のパターン
像は、第２のアライメント光学系の光路中に配置された
第３、第４の光学素子群によって形成される。この場
合、第２、第４の光学素子群はパターン像を反転形成す
る。第1,第２の光学素子群によるパターン像とIC像は第
１のアライメント光学系によって同一視野に合成され
る。第3,第４の光学素子群によるパターン像とIC像は第
２のアライメント光学系によって同一視野に合成され
る。第１、第２のアライメント光学系により合成された
像は表示手段によってそれぞれ表示される。これら合成
像同士のずれは、ステージの移動調整によって補正さ
れ、基板とICの位置合わせが行われる。
のパターン像は、第１のアラメント光学系の光路中に配
置された第１、第２の光学素子群によって形成される。
また、基板とICのある定められた第２の部位のパターン
像は、第２のアライメント光学系の光路中に配置された
第３、第４の光学素子群によって形成される。この場
合、第２、第４の光学素子群はパターン像を反転形成す
る。第1,第２の光学素子群によるパターン像とIC像は第
１のアライメント光学系によって同一視野に合成され
る。第3,第４の光学素子群によるパターン像とIC像は第
２のアライメント光学系によって同一視野に合成され
る。第１、第２のアライメント光学系により合成された
像は表示手段によってそれぞれ表示される。これら合成
像同士のずれは、ステージの移動調整によって補正さ
れ、基板とICの位置合わせが行われる。
この場合、基板のパターン像とIC像を得るために基板と
ICに対してそれぞれアライメント光学系を別設している
ので、ハーフミラーを含まない光学素子でアライメント
光学系を構成することができる。
ICに対してそれぞれアライメント光学系を別設している
ので、ハーフミラーを含まない光学素子でアライメント
光学系を構成することができる。
［実施例］ 以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明に係るIC位置決め装置の一実施例を示す
模式図である。なお、図中第２図と同一構成部品、部分
については同一符号を以て示し、その説明を省略する。
同図において、20はプリント基板２を照射する光源、21
はIC4を照射する光源、22はステージ１上に載置された
プリント基板２とこのIC4との位置決めを行う第１のア
ライメント光学系である。第１のアライメント光学系22
は、第１の光路23中に配設されプリント基板２のある定
められた第１の部位A1のパターン像を形成する第１の光
学素子群24と、第２の光路25中に配設され前記IC4の前
記第１の部位A1に対応する部位B1の像を反転させて形成
する第２の光学素子群26と、前記第１および第２の光学
素子群24、26によって形成された基板パターン像とIC像
とを収束し、同一視野に合成する光学素子27とで構成さ
れている。第１の光学素子群24は直角プリズム28と、対
物レンズ29とで構成され、第２の光学素子群26は直角プ
リズム30と、対物レンズ31と、梯形プリズム32とで構成
されている。像合成用の光学素子27は第１および第２の
光路23、25に対して共通に配設され前記基板パターン像
とIC像をCCD素子33の一点上に結像させるリレーレンズ
によって構成されている。
模式図である。なお、図中第２図と同一構成部品、部分
については同一符号を以て示し、その説明を省略する。
同図において、20はプリント基板２を照射する光源、21
はIC4を照射する光源、22はステージ１上に載置された
プリント基板２とこのIC4との位置決めを行う第１のア
ライメント光学系である。第１のアライメント光学系22
は、第１の光路23中に配設されプリント基板２のある定
められた第１の部位A1のパターン像を形成する第１の光
学素子群24と、第２の光路25中に配設され前記IC4の前
記第１の部位A1に対応する部位B1の像を反転させて形成
する第２の光学素子群26と、前記第１および第２の光学
素子群24、26によって形成された基板パターン像とIC像
とを収束し、同一視野に合成する光学素子27とで構成さ
れている。第１の光学素子群24は直角プリズム28と、対
物レンズ29とで構成され、第２の光学素子群26は直角プ
リズム30と、対物レンズ31と、梯形プリズム32とで構成
されている。像合成用の光学素子27は第１および第２の
光路23、25に対して共通に配設され前記基板パターン像
とIC像をCCD素子33の一点上に結像させるリレーレンズ
によって構成されている。
この場合、プリント基板２のA1部は上方から見た像であ
るのに対して、IC4のB1部は下方から見た像のため、そ
のままでは合成しても重ね合わせることができず、その
ため前記第２の光学素子群26の梯形プリズム32によって
B1部のIC像を反転させるようにしている。
るのに対して、IC4のB1部は下方から見た像のため、そ
のままでは合成しても重ね合わせることができず、その
ため前記第２の光学素子群26の梯形プリズム32によって
B1部のIC像を反転させるようにしている。
第１のアライメント光学系22の倍率は F/f で与えられる。
但し、ｆは、プリント基板２から対物レンズ29までの光
路長、Ｆはリレーレンズ27からCCD素子33までの光路長
である。例えば、ｆ＝60mm、Ｆ＝300mmに設定すると、
倍率５倍のアライメント光学系を形成し得る。
路長、Ｆはリレーレンズ27からCCD素子33までの光路長
である。例えば、ｆ＝60mm、Ｆ＝300mmに設定すると、
倍率５倍のアライメント光学系を形成し得る。
前記CCD素子33上に結像された基板パターン像とIC像
は、電気信号に変換され、CRT34の画面上に表示され
る。
は、電気信号に変換され、CRT34の画面上に表示され
る。
35はステージ１上に載置されたプリント基板２とこのIC
4との位置決めを行う第２のアライメント光学系で、こ
のアライメント光学系35は前記第１のアライメント光学
系22と同一に構成されて左右対称的に配設されるもの
で、第３の光路36中に配設されプリント基板２のある定
められた第２の部位A2のパターン像を形成する第３の光
学素子群37と、第４の光路38中に配設され前記IC4の前
記第２の部位A2に対応する部位B2の像を反転させて形成
する第４の光学素子群39と、前記第３および第４の光学
素子群37、39によって形成された基板パターン像とIC像
とを収束し同一視野に合成する光学素子40とで構成され
ている。第３の光学素子群37は直角プリズム41と、対物
レンズ42とで構成され、第４の光学素子群39は直角プリ
ズム43と、対物レンズ44と、梯形プリズム45とで構成さ
れている。像合成用の光学素子40は第３および第４の光
路36、38に対して共通に配設され前記基板パターン像と
IC像をCCD素子46の一点上に結像させるリレーレンズに
よって構成されている。前記CCD素子46上に結像された
基板パターン像とIC像は、電気信号に変換され、前記CR
T34の画面上に表示される。
4との位置決めを行う第２のアライメント光学系で、こ
のアライメント光学系35は前記第１のアライメント光学
系22と同一に構成されて左右対称的に配設されるもの
で、第３の光路36中に配設されプリント基板２のある定
められた第２の部位A2のパターン像を形成する第３の光
学素子群37と、第４の光路38中に配設され前記IC4の前
記第２の部位A2に対応する部位B2の像を反転させて形成
する第４の光学素子群39と、前記第３および第４の光学
素子群37、39によって形成された基板パターン像とIC像
とを収束し同一視野に合成する光学素子40とで構成され
ている。第３の光学素子群37は直角プリズム41と、対物
レンズ42とで構成され、第４の光学素子群39は直角プリ
ズム43と、対物レンズ44と、梯形プリズム45とで構成さ
れている。像合成用の光学素子40は第３および第４の光
路36、38に対して共通に配設され前記基板パターン像と
IC像をCCD素子46の一点上に結像させるリレーレンズに
よって構成されている。前記CCD素子46上に結像された
基板パターン像とIC像は、電気信号に変換され、前記CR
T34の画面上に表示される。
この場合、CRT34の画面は左右２分割され、その一方に
第１のアライメント光学系22による合成像が表示され、
他方に第２のアライメント光学系35による合成像が表示
される。
第１のアライメント光学系22による合成像が表示され、
他方に第２のアライメント光学系35による合成像が表示
される。
48は基板パターン像とIC像を直角プリズム41、43に導く
ための光ファイバである。この場合、本実施例において
は図示を省略したが、第１のアライメント光学系22にも
同様の光ファイバ48が用いられるものである。
ための光ファイバである。この場合、本実施例において
は図示を省略したが、第１のアライメント光学系22にも
同様の光ファイバ48が用いられるものである。
このような構成において、基板パターン像とIC像との位
置合わせは、CRT34に表示されている像を見ながらステ
ージ１を移動調整し、左右共に基板パターン像とIC像が
ぴったり一致するようずれを補正することで行われる。
置合わせは、CRT34に表示されている像を見ながらステ
ージ１を移動調整し、左右共に基板パターン像とIC像が
ぴったり一致するようずれを補正することで行われる。
なお、IC4をヒーターツール３に吸着する際の位置合わ
せも、上記したと同様の光学系により、ヒーターツール
３とIC4を同時に見ながらIC4を吸着保持した保持テーブ
ルを移動調整し、両方の像を重ね合わせることにより行
われる。
せも、上記したと同様の光学系により、ヒーターツール
３とIC4を同時に見ながらIC4を吸着保持した保持テーブ
ルを移動調整し、両方の像を重ね合わせることにより行
われる。
かくしてこのような構成からなるIC位置決め装置によれ
ば、別設した光源を含む２つの光学素子群によってプリ
ント基板２のパターン像と、IC4の像を別々に形成し、
合成するようにしているので、従来装置と異なり、ハー
フミラーによって光を透過光と反射光に２分する必要が
なく、光量の損失を減少させることができる。したがっ
て、大光量の光源を使用せずとも高輝度の像が得られ、
高精度に位置合わせすることができる。
ば、別設した光源を含む２つの光学素子群によってプリ
ント基板２のパターン像と、IC4の像を別々に形成し、
合成するようにしているので、従来装置と異なり、ハー
フミラーによって光を透過光と反射光に２分する必要が
なく、光量の損失を減少させることができる。したがっ
て、大光量の光源を使用せずとも高輝度の像が得られ、
高精度に位置合わせすることができる。
なお、上記実施例はプリント基板２のある定められた部
位A1、A2のパターン像によって位置合わせを行うように
したが、これに限らずプリント基板２に表示されたアラ
イメント用マークを基板パターン像として使用してもよ
いことは勿論である。また、像をCCD素子33、46によっ
て電気信号に変換し、これをCRT34によって映像表示さ
せるようにしたが、表示手段として顕微鏡を用い、リレ
ーレンズ27、40によって合成された像を直接そのスクリ
ーン上に結像させるようにしてもよい。
位A1、A2のパターン像によって位置合わせを行うように
したが、これに限らずプリント基板２に表示されたアラ
イメント用マークを基板パターン像として使用してもよ
いことは勿論である。また、像をCCD素子33、46によっ
て電気信号に変換し、これをCRT34によって映像表示さ
せるようにしたが、表示手段として顕微鏡を用い、リレ
ーレンズ27、40によって合成された像を直接そのスクリ
ーン上に結像させるようにしてもよい。
［発明の効果］ 以上説明したように本発明に係るIC位置決め装置によれ
ば、個々独立した光学素子群によって基板パターン像と
IC像を形成し、これらの像を合成するようにしているの
で、光量の損失の大きいハーフミラーを使用することな
く光学系を形成でき、位置合わせを容易に且つ高精度に
行うことができる。
ば、個々独立した光学素子群によって基板パターン像と
IC像を形成し、これらの像を合成するようにしているの
で、光量の損失の大きいハーフミラーを使用することな
く光学系を形成でき、位置合わせを容易に且つ高精度に
行うことができる。
第１図は本発明に係るIC位置決め装置の一実施例を示す
模式図、第２図は従来装置の模式図である。 １……ステージ、２……プリント基板、３……ヒーター
ツール、４……IC、５……ハーフミラー、20、21……光
源、22……第１のアライメント光学系、23……第１の光
路、24……第１の光学素子群、25……第２の光路、26…
…第２の光学素子群、27……光学素子、33……CCD素
子、34……CRT、35……第２のアライメント光学系、36
……第３の光路、37……第３の光学素子群、38……第４
の光路、39……第４の光学素子群。
模式図、第２図は従来装置の模式図である。 １……ステージ、２……プリント基板、３……ヒーター
ツール、４……IC、５……ハーフミラー、20、21……光
源、22……第１のアライメント光学系、23……第１の光
路、24……第１の光学素子群、25……第２の光路、26…
…第２の光学素子群、27……光学素子、33……CCD素
子、34……CRT、35……第２のアライメント光学系、36
……第３の光路、37……第３の光学素子群、38……第４
の光路、39……第４の光学素子群。
Claims (2)
- 【請求項１】ステージ上に載置された基板とこの基板の
上方に配置されたICとの位置決めを行うIC位置決め装置
において、 撮像対象面に対し45度傾斜させて配置した全反射鏡の反
射光路中に対物レンズを配置し基板またはICのある定め
られた第１の部位のパターン像を形成する第１の光学素
子群と、 前記全反射鏡の反射光路に平行な軸を挟んで前記全反射
鏡と対称に配置した全反射鏡の反射光路中に対物レンズ
と梯形プリズムとを配置しICまたは基板の前記第１の部
位に対応する部分の像を反転させて形成する第２の光学
素子群と、 前記第１および第２の光学素子群によって形成された前
記第１の部位のパターン像とIC像とを同一視野に合成す
る光学素子とを備えた第１のアライメント光学系と、 撮像対象面に対し45度傾斜させて配置した全反射鏡の反
射光路中に対物レンズを配置し基板またはICのある定め
られた第２の部位のパターン像を形成する第３の光学素
子群と、 前記第３の光学素子群の全反射鏡の反射光路に平行な軸
を挟んで第３の光学素子群の全反射鏡と対称に配置した
全反射鏡の反射光路中に対物レンズと梯形プリズムとを
配置しICまたは基板の前記第２の部位に対応する部分の
像を反転させて形成する第４の光学素子群と、 前記第３および第４の光学素子群によって形成された前
記第２の部位のパターン像とIC像とを同一視野に合成す
る光学素子とを備えた第２のアライメント光学系を備
え、 前記第１および第２のアライメント光学系により合成さ
れた像を表示手段によって表示するようにしたことを特
徴とするIC位置決め装置。 - 【請求項２】ステージ上に載置された基板とこの基板の
上方に配置されたICとの位置決めを行うIC位置決め装置
において、 撮像対象面に対し45度傾斜させて配置した全反射鏡の反
射光路中に対物レンズを配置し基板またはICのある定め
られた第１の部位のパターン像を形成する第１の光学素
子群と、 前記全反射鏡の反射光路に平行な軸を挟んで前記全反射
鏡と対称に配置した全反射鏡の反射光路中に対物レンズ
と梯形プリズムとを配置しICまたは基板の前記第１の部
位に対応する部分の像を反転させて形成する第２の光学
素子群と、 前記第１および第２の光学素子群によって形成された前
記第１の部位のパターン像とIC像とを同一視野に合成す
る光学素子とを備えたアライメント光学系と、 該アライメント光学系を前記基板のある定められた第２
の部位および前記ICの前記第２の部位に対応する部分に
移動させる摺動機構とを備え、 前記第１および第２の部位においてそれぞれ合成された
像を表示手段によって合成して表示するようにしたこと
を特徴とするIC位置決め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001482A JPH0744357B2 (ja) | 1990-01-10 | 1990-01-10 | Ｉｃ位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001482A JPH0744357B2 (ja) | 1990-01-10 | 1990-01-10 | Ｉｃ位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03208399A JPH03208399A (ja) | 1991-09-11 |
| JPH0744357B2 true JPH0744357B2 (ja) | 1995-05-15 |
Family
ID=11502657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001482A Expired - Fee Related JPH0744357B2 (ja) | 1990-01-10 | 1990-01-10 | Ｉｃ位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0744357B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0843057A (ja) * | 1994-07-28 | 1996-02-16 | Copal Co Ltd | 整列確認装置 |
| JPH1137712A (ja) * | 1997-07-15 | 1999-02-12 | Nikon Corp | 光学アライメント装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58182718A (ja) * | 1982-04-20 | 1983-10-25 | Datsuku Eng Kk | 位置合わせ装置 |
| JPS60103700A (ja) * | 1983-11-11 | 1985-06-07 | 株式会社日立製作所 | 部品の位置決め装置 |
-
1990
- 1990-01-10 JP JP2001482A patent/JPH0744357B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03208399A (ja) | 1991-09-11 |
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Legal Events
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