JPH0843057A - 整列確認装置 - Google Patents

整列確認装置

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JPH0843057A
JPH0843057A JP17661494A JP17661494A JPH0843057A JP H0843057 A JPH0843057 A JP H0843057A JP 17661494 A JP17661494 A JP 17661494A JP 17661494 A JP17661494 A JP 17661494A JP H0843057 A JPH0843057 A JP H0843057A
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JP
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light
parts
reflected
integrated circuit
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Application number
JP17661494A
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English (en)
Inventor
Hidekuni Niiyama
秀邦 新山
Mitsuru Okochi
満 大河内
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Nidec Precision Corp
Original Assignee
Nidec Copal Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】2つの部品の位置ずれと傾きとを検出すること
が可能でありながら、コスト的に安い整列確認装置を提
供する。 【構成】2つの部品の間に挿入され、互いに逆方向に照
明光を照射して2つの部品の夫々を照明すると共に、2
つの部品から反射された反射光を受光するためのプリズ
ム12と、照明光を発する光源14と、光源14からの
照明光をプリズム12に導くための第1の光学系と、プ
リズム12に入射した2つの部品からの反射光を同一光
路を通して同一位置に結像させるための第2の光学系
と、同一位置に結像された2つの部品からの反射光を受
光して、2つの部品の像が重畳された画像信号を生成す
るための1つの撮像素子44とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、2つの部品を整列した
状態で接合するために、2つの部品を接合する前の段階
で互いの相対位置及び相対傾斜を確認出来る整列確認装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】LSI等の製造においては、集積回路チ
ップをパターン基体等に取り付けるに当たり、集積回路
チップとパターン基体とを精密に位置合わせすることが
極めて重要である。この様な集積回路チップとパターン
基体とを精密に位置合わせする装置としては、例えば特
開平2−244649号が知られている。
【0003】図7は、上記の従来の位置合わせ装置の構
成を示す図である。この位置合わせ装置は、2つの部
品、例えば集積回路チップとパターン基体の位置を検出
するための光学系と、これらの2つの部品の相対的な傾
きを検出する光学系とを備えている。図7は、主に位置
検出のための光学系を示した平面図であり、図中参照番
号102で示したものは、位置合わせする対象物である
集積回路チップとパターン基板とに照明光を出射すると
共に反射光を受光する出射受光プリズムであり、この出
射受光プリズム102の紙面に対して例えば手前側に集
積回路チップが位置し、向こう側にパターン基板が位置
している。
【0004】光源104から出射された照明光はレンズ
系106と三角プリズム108を介して出射受光プリズ
ム102に入射し、出射受光プリズム102により光路
を紙面手前側に曲げられて集積回路チップに照射され
る。集積回路チップで反射された反射光は、照明光と逆
の経路をたどってビデオカメラ110に入射し、集積回
路チップのビデオ画像信号がミキサ112に入力され
る。
【0005】一方、光源114から出射された照明光は
レンズ系116と三角プリズム118を介して出射受光
プリズム102に入射し、この出射受光プリズム102
により光路を紙面向こう側に曲げられてパターン基板に
照射される。パターン基板で反射された反射光は、照明
光と逆の経路をたどってビデオカメラ120に入射し、
パターン基板のビデオ画像信号がミキサ112に入力さ
れる。
【0006】ミキサ112では、ビデオカメラ110か
らの集積回路チップの画像と、ビデオカメラ120から
のパターン基板の画像がミックスされ、このミックスさ
れた画像をモニタ122に表示する。これにより、1つ
のモニタ画面上で、集積回路チップとパターン基板が重
ねあわされた画像を見ることができ、両者の相対位置を
一目で確認することが出来る。
【0007】また、図8は主に2つの部品の相対的な傾
きを検出する光学系を示した図である。図中参照番号1
32で示したものは、傾きを検出する対象物である集積
回路チップとパターン基板とに照明光を出射すると共に
反射光を受光する出射受光プリズムであり、図7の場合
と同様に出射受光プリズム132の紙面に対して手前側
に集積回路チップが位置し、向こう側にパターン基板が
位置している。
【0008】光源134からは、クロスヘアのパターン
像を含む照明光が出射され、この照明光はレンズ系13
6と三角プリズム138を介して出射受光プリズム13
2に入射し、出射受光プリズム132により光路を紙面
手前側に曲げられて集積回路チップに照射される。集積
回路チップで反射された反射光は、照明光と逆の経路を
たどってビデオカメラ110に入射し、クロスヘアのビ
デオ画像信号がミキサ112に入力される。
【0009】一方、光源144からは、もう一つのクロ
スヘアのパターン像を含む照明光が出射され、この照明
光はレンズ系146と三角プリズム148を介して出射
受光プリズム132に入射し、この出射受光プリズム1
32により光路を紙面向こう側に曲げられてパターン基
板に照射される。パターン基板で反射された反射光は、
照明光と逆の経路をたどってビデオカメラ120に入射
し、クロスヘアのビデオ画像信号がミキサ112に入力
される。
【0010】ミキサ112では、ビデオカメラ110か
らの一方のクロスヘアの画像と、ビデオカメラ120か
らのもう一方のクロスヘアの画像がミックスされ、この
ミックスされた画像をモニタ122に表示する。これに
より、1つのモニタ画面上で、2つのクロスヘアが重ね
あわされた画像を見ることができ、両者の位置ずれを確
認することにより、集積回路チップとパターン基板との
相対的な傾きを検出することが出来る。
【0011】上記の様な構成により、従来の位置合わせ
装置においては、互いに対向して配置された2つの部品
の位置ずれと相対的な傾きを検出することが出来る。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来例においては、2つの部品の位置ずれを検出する光
学系と、2つの部品の傾きを検出する光学系とが夫々独
立して設けられているので、光学系を構成する光学部品
の部品点数が多くコストが高くなるという問題点があ
る。また、2つの部品の画像を合成するために、2つの
ビデオカメラとビデオ信号を合成するビデオ混合手段が
必要となるため、これも装置のコストを高くする原因と
なっている。
【0013】従って、本発明は上述した課題に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、2つの部
品の位置ずれと傾きとを検出することが可能でありなが
ら、コスト的に安い整列確認装置を提供することにあ
る。
【0014】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決し、目
的を達成するために、本発明の整列確認装置は、互いに
対向した2つの部品が互いに整列された状態にあるか否
かを確認するための整列確認装置であって、前記2つの
部品の間に挿入され、互いに逆方向に照明光を照射して
前記2つの部品の夫々を照明すると共に、該2つの部品
から反射された反射光を受光するためのプローブと、前
記照明光を発する光源と、該光源からの照明光を前記プ
ローブの照明光照射部位に導くための第1の光学系と、
前記プローブの受光部位に入射した前記2つの部品から
の反射光を同一光路を通して同一位置に結像させるため
の第2の光学系と、前記同一位置に結像された前記2つ
の部品からの反射光を受光して、前記2つの部品の像が
重畳された画像信号を生成するための1つの撮像素子と
を具備することを特徴としている。
【0015】また、この発明に係わる整列確認装置にお
いて、前記第2の光学系中に配置され、前記撮像素子か
ら出力される画像信号を、前記2つの部品をあたかも同
一方向から透かしてみた様にするために、前記2つの部
品からの反射光のうちの一方を反転させるための光学プ
リズムを更に具備することを特徴としている。
【0016】また、この発明に係わる整列確認装置にお
いて、前記2つの部品を夫々支持するための第1及び第
2の支持体と、該支持体の表面に夫々設けられた2つの
反射面と、前記第1の光学系中に配置され光透過性の基
板上に所定のパターンを形成したチャートとを更に具備
し、該チャートの像の情報を含む照明光を前記プローブ
から前記2つの反射面に照射し、該2つの反射面から反
射したチャート像を前記第2の光学系を通して前記撮像
素子上に結像させ、前記2つの反射面で夫々反射された
チャート像のずれから前記第1及び第2の支持体の表面
の相対的な傾きを確認出来ることを特徴としている。
【0017】また、この発明に係わる整列確認装置にお
いて、前記第1の光学系は、前記チャートの像の情報を
含む照射光を前記反射面を介さずに直接前記第2の光学
系に入射させて前記撮像素子上に結像させ、基準チャー
ト像を形成するための光学手段を備え、前記基準チャー
ト像と前記2つの反射面で夫々反射されたチャート像の
ずれから前記第1及び第2の支持体の表面の傾きを夫々
別々に確認出来ることを特徴としている。
【0018】また、この発明に係わる整列確認装置にお
いて、前記2つの部品の一方は小型電子部品であり、他
方は該小型電子部品を実装するための基板であることを
特徴としている。
【0019】
【作用】以上の様に、この発明に係わる整列確認装置は
構成されているので、2つの部品の反射像を同一の光路
を介して同一の位置に結像させることにより、光学系が
単純化され光学部品の部品点数を減少させることが出来
ると共に、撮像素子も1つで済み、且つビデオ信号を合
成する手段も必要ないので、装置のローコスト化を図る
ことが出来る。
【0020】また、2つの部品の画像のうちの一方を反
転させるためのプリズムを有しているので、最終的に得
られるビデオ画像は、あたかも2つの部品を透かしてみ
ている様な状態となり、2つの部品の位置ずれの視認性
が極めて向上する。
【0021】更には、2つの部品の位置ずれを検出する
ための光学系と、傾きを検出するための光学系が共通で
あるため、部品点数を更に減少させることが出来る。
【0022】
【実施例】以下、本発明の好適な一実施例について、添
付図面を参照して詳細に説明する。
【0023】図1及び図2は、本発明の整列確認装置の
一実施例の構成を示す図である。この整列確認装置は、
2つの部品、例えば集積回路チップとパターン基板の位
置を検出する機能と、これらの2つの部品の相対的な傾
きを検出する機能とを備えている。
【0024】図1は、2つの部品の位置検出を行なう場
合の光の経路を示した図であり、図中参照番号12で示
したものは、位置合わせする対象物である集積回路チッ
プとパターン基板とに照明光を出射すると共に反射光を
受光する出射受光部であり、ミラーキューブビームスプ
リッタから構成されている。このビームスプリッタ12
の紙面に対して例えば手前側に集積回路チップが位置
し、向こう側にパターン基板が位置している。すなわ
ち、この整列確認装置は、図3に示す様に、ビームスプ
リッタ12の部分を集積回路チップCとパターン基板P
の間に挿入し、これらの2つの部品の相対位置及び相対
傾きを検出するものである。
【0025】まず、図1を参照して、整列確認装置の構
成について説明する。
【0026】図1において、参照番号14は集積回路チ
ップCとパターン基板Pを照明するためのコールドライ
ト等の光源であり、光源14からの照明光は、これを集
光させるための照明用レンズ系16に入射される。照明
用レンズ系16から出射した照明光は、フィルター18
に入射する。フィルター18では、位置測定の対象物で
ある集積回路チップCとパターン基板Pの画像の解像力
を向上させるために照明光が単色光に変換される。フィ
ルター18により単色光にされた照明光は、後述する様
に集積回路チップCとパターン基板Pの傾きを検出する
ために用いられるクロスヘア(クロスチャート)20を
透過して、コリメートレンズ系22に入射する。コリメ
ートレンズ系22では、照明光が平行光に変換され、そ
の平行光はハーフキューブビームスプリッタ24に入射
する。
【0027】ハーフキューブビームスプリッタ24は、
ハーフミラー面24aを有しており、照明光はこのハー
フミラー面24aで一部が透過し一部が反射される。ハ
ーフミラー面24aを透過した照明光は三角プリズム2
8により光路を直角に折り曲げられ、ハーフキューブビ
ームスプリッタ30に入射する。また、ハーフミラー面
24aで反射された光は、20%前後の反射率を持つ減
反射ミラー26で更に反射され、再びハーフミラー面2
4aに入射し、これを透過した照明光がハーフキューブ
ビームスプリッタ32に入射する。そして、この照明光
はハーフキューブビームスプリッタ32のハーフミラー
面32aで反射され、後述する結像レンズ42で撮像素
子44上に結像される。このように、ハーフキューブビ
ームスプリッタ24、ハーフキューブビームスプリッタ
32、結像レンズ42を経由して撮像素子44に入射す
る照明光は、クロスヘアの基準像を直接撮像素子44上
に結像させるためのものである。
【0028】一方、ハーフキューブビームスプリッタ3
0は、ハーフミラー面30aを有しており、三角プリズ
ム28からの照明光はこのハーフミラー面30aで一部
が透過し一部が反射される。ハーフミラー面30aで反
射された照明光は、集積回路チップCとパターン基板P
で反射された夫々の光の光路長を合わせるためのダミー
ガラス34に入射する。ダミーガラス34から出射した
照明光は、三角プリズム36で方向を180°反転され
て、ミラーキューブビームスプリッタ12に入射する。
ミラーキューブビームスプリッタ12は、紙面に対して
手前側と向こう側とに光を反射する様に反射面12aを
有しており(図3参照)、三角プリズム36からの照明
光は、紙面手前側に反射され、集積回路チップCに照射
される。
【0029】また、ハーフキューブビームスプリッタ3
0を透過した照明光は、ペンタプリズム38に入射し、
反射面38a,38bで反射された後、ミラーキューブ
ビームスプリッタ12に入射する。ペンタプリズム38
からの照明光は、ミラーキューブビームスプリッタ12
により紙面向こう側に反射され、パターン基板Pに照射
される。
【0030】この様にして、光源14からの照明光が、
集積回路チップCとパターン基板Pとに夫々照射され
る。
【0031】この様にして照射された照明光のうち集積
回路チップCで反射された光は、ミラーキューブビーム
スプリッタ12に入射し、三角プリズム36の方向に反
射され、三角プリズム36で180°方向を反転され
て、ダミーガラス34に入射する。ダミーガラス34で
光路長を調整された反射光は、ハーフキューブビームス
プリッタ30に入射し、ハーフミラー面30aを透過し
た反射光が対物レンズ40に入射する。対物レンズ40
を透過した反射光は、ハーフキューブビームスプリッタ
32のハーフミラー面32aを透過し、結像レンズ42
により撮像素子44上に結像される。すなわち集積回路
チップCの像が撮像素子44上に結像されることとな
る。
【0032】一方、パターン基板Pで反射された反射光
は、ミラーキューブビームスプリッタ12に入射し、ペ
ンタプリズム38の方向に反射され、ペンタプリズム3
8の反射面38b,38aで更に反射されて、パターン
基板Pの像(反射光)は反転される。ペンタプリズム3
8から出射した反射光は、ハーフキューブビームスプリ
ッタ30に入射し、ハーフミラー面30aで反射された
反射光が対物レンズ40に入射する。対物レンズ40を
透過した反射光は、ハーフキューブビームスプリッタ3
2のハーフミラー面32aを透過し、結像レンズ42に
より撮像素子44上に結像される。すなわちパターン基
板Pの像が集積回路チップCの像と重なり合った状態で
撮像素子44上に結像されることとなる。なお、このと
き、パターン基板Pの像は、ペンタプリズム38により
反転されているので、撮像素子44上に形成される集積
回路チップCの像とパターン基板Pの像は、これらの両
者をあたかも同方向から透かしてみた様な像となる。そ
してこの両者の像を光電変換した画像信号が撮像素子か
ら出力され、モニタ46上に映し出される。
【0033】なお、図3に示す様に集積回路チップCと
パターン基板Pを支持するための支持体50,52が設
けられており、この支持体50,52の表面は鏡面に形
成され、前述したクロスヘア20の像を反射出来る様に
なされている。このクロスヘア20の反射像も撮像素子
44上に結像され、支持体50から反射されるクロスヘ
ア像と支持体52から反射されるクロスヘア像のずれか
ら支持体50と支持体52の表面同士の相対傾きが検出
出来る。集積回路チップCとパターン基板Pは、支持体
50,52に密着した状態で配置されるので、支持体5
0と支持体52の相対傾きを検出するということは実質
的に集積回路チップCとパターン基板Pの相対傾きを検
出することに相当する。また、クロスヘア20は、図4
に示す様に、透明な基板上に十字状のパターンが印刷等
により形成されて構成されている。
【0034】また、支持体50,52の両脇には、集積
回路チップCとパターン基板Pを照明するための照明装
置54,56が配設されている。
【0035】また、配列確認装置の光路の各部には、各
光路を閉鎖するためのシャッター58,60,62,6
4が設けられている。このシャッターの作用については
後述する。
【0036】次に、図5は上記の様に構成される整列確
認装置を分解して示した斜視図である。図5に示す様
に、整列確認装置10は、ケース70,72に収納され
て1つのプローブユニットとして構成されている。そし
て、このプローブユニット状の整列確認装置10を集積
回路チップCとパターン基板Pとの間に挿入して、両者
の位置ずれを検出する様になされている。
【0037】次に、上記の様に構成される整列確認装置
における整列確認動作について説明する。
【0038】まず、集積回路チップCとパターン基板P
の位置ずれを検出する動作について説明する。
【0039】集積回路チップCとパターン基板Pの位置
ずれを検出する場合には、図1に破線で示す様にシャッ
ター58を閉じた状態にしておき、クロスヘア20の照
明像が結像レンズ42に直接進入しない様にする。これ
により集積回路チップCとパターン基板Pの像に不要光
によるかぶりが生じない様にする。この状態で光源14
を発光させて、既に述べた様な光路で、集積回路チップ
Cとパターン基板Pの像を撮像素子44上に結像させ
る。このとき集積回路チップCとパターン基板Pの像
は、既に述べた様にあたかも同一方向から透かしてみた
様にモニター46上に映し出されるので、集積回路チッ
プCとパターン基板Pの位置ずれを容易に確認すること
が出来る。この様子を示した図が図6である。図6で
は、集積回路チップの代わりに三角形状の部材にKとい
う文字を印刷したチャートを用い、パターン基板の代わ
りにBという文字を印刷したチャートを用いた例を示し
ているが、これらの2つのチャートを本実施例の配列確
認装置10で見ると、図6(b)に示す様に、あたかも
2つのチャートを同一方向から見た様に見える状態とな
る。
【0040】なお、この集積回路チップCとパターン基
板Pの位置ずれを確認する動作において、どちらか一方
の像だけを見る必要が生じた場合には、シャッター6
2,64のうちの一方を閉じることにより、集積回路チ
ップCのみを観察したり、パターン基板Pのみを観察し
たりすることも可能である。また、必要な場合には、ど
ちらの像も撮像しない様にすることも可能である。
【0041】次に、集積回路チップCとパターン基板P
の傾きを検出する動作について説明する。
【0042】集積回路チップCとパターン基板Pの傾き
を検出する場合には、図2に示す様にシャッター60を
閉じた状態とする。光源14により照明されたクロスヘ
ア20の像を含む照明光が、ハーフキューブビームスプ
リッタ24に入射すると、その一部がハーフミラー面2
4aと減反射ミラー26で反射されて、ハーフキューブ
ビームスプリッタ32に入射する。この照明光は、ハー
フキューブビームスプリッタ32のハーフミラー面32
aにより反射されて、クロスヘア20の基準像が撮像素
子44上に結像される。
【0043】一方、ハーフキューブビームスプリッタ2
4を透過した照明光は、既に述べた様な光路で、集積回
路チップCとパターン基板Pに照射される。この照射光
は、集積回路チップCとパターン基板Pを支持する支持
体50,52の表面で反射されて、元の光路をたどって
ハーフキューブビームスプリッタ24に再び入射する。
そして、この反射光はハーフキューブビームスプリッタ
24のハーフミラー面24aで反射され、ハーフキュー
ブビームスプリッタ32と結像レンズ42を介して撮像
素子44上に結像される。従って、撮像素子44上に
は、支持体50と支持体52の夫々で反射されたクロス
ヘアの像が結像されることになる。これらのクロスヘア
像のずれをモニター46上で確認することにより、支持
体50と支持体52の相対傾きを検出することが出来
る。また、既に述べた様に、撮像素子44には、集積回
路チップCとパターン基板Pをバイパスして、ハーフキ
ューブビームスプリッタ24,32を介して直接結像さ
れたクロスヘア20の基準像が撮像されているので、こ
の基準像と、支持体50,52の夫々で反射されたクロ
スヘア像とのずれを確認することにより、支持体50,
52の夫々の単独の傾きを検出することも可能である。
【0044】以上説明した様に、本実施例の整列確認装
置によれば、2つの部品の位置ずれと相対傾きを検出す
ることが可能でありながら、部品点数を減らしたローコ
ストな整列確認装置が提供される。
【0045】なお、本発明はその主旨を逸脱しない範囲
で、上記実施例を修正または変形したものに適用可能で
ある。
【0046】例えば、上記実施例では、集積回路チップ
とパターン基板の位置ずれと相対傾きを検出する場合に
ついて説明したが、本発明の装置は、これに限定される
ことなく、互いに対向する2つの部品の内側面同士の相
対位置を検出する場合であれば、どのようなものにも適
用可能である。
【0047】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明の整列確認装
置によれば、2つの部品の反射像を同一の光路を介して
同一の位置に結像させることにより、光学系が単純化さ
れ光学部品の部品点数を減少させることが出来ると共
に、撮像素子も1つで済み、且つビデオ信号を合成する
手段も必要ないので、装置のローコスト化を図ることが
出来る。
【0048】また、2つの部品の画像のうちの一方を反
転させるためのプリズムを有しているので、最終的に得
られるビデオ画像は、あたかも2つの部品を透かしてみ
ている様な状態となり、2つの部品の位置ずれの視認性
が極めて向上する。
【0049】更には、2つの部品の位置ずれを検出する
ための光学系と、傾きを検出するための光学系が共通で
あるため、部品点数を更に減少させることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の整列確認装置の一実施例の構成を示す
図である。
【図2】本発明の整列確認装置の一実施例の構成を示す
図である。
【図3】2つの部品の間に、整列確認装置を挿入した状
態を示した図である。
【図4】クロスヘアのパターンを示した図である。
【図5】整列確認装置の分解斜視図である。
【図6】2つの部品を整列確認装置で観察した場合の見
え方を示した図である。
【図7】従来例を示した図である。
【図8】従来例を示した図である。
【符号の説明】
12 ミラーキューブビームスプリッタ 14 光源 16 照明用レンズ系 18 フィルター 20 クロスヘア 22 コリメートレンズ 24 ハーフキューブビームスプリッタ 28 三角プリズム 30,32 ハーフキューブビームスプリッタ 34 ダミーガラス 36 三角プリズム 38 ペンタプリズム 40 対物レンズ 42 結像レンズ 44 撮像素子 46 モニター 50,52 支持体 54,56 照明 58,60,62,64 シャッター 70,72 ケース
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年5月22日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の整列確認装置の一実施例の構成を示す
図である。
【図2】本発明の整列確認装置の一実施例の構成を示す
図である。
【図3】2つの部品の間に、整列確認装置を挿入した状
態を示した図である。
【図4】クロスヘアのパターンを示した図である。
【図5】整列確認装置の分解斜視図である。
【図6】2つの部品を整列確認装置で観察した場合の見
え方を示した図である。
【図7】従来例を示した図である。
【図8】従来例を示した図である。
【符号の説明】 12 ミラーキューブビームスプリッタ 14 光源 16 照明用レンズ系 18 フィルター 20 クロスヘア 22 コリメートレンズ 24 ハーフキューブビームスプリッタ 26 減反射ミラー 28 三角プリズム 30,32 ハーフキューブビームスプリッタ 34 ダミーガラス 36 三角プリズム 38 ペンタプリズム 40 対物レンズ 42 結像レンズ 44 撮像素子 46 モニター 50,52 支持体 54,56 照明 58,60,62,64 シャッター 70,72 ケース
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図2
【補正方法】変更
【補正内容】
【図2】
【手続補正3】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図5
【補正方法】変更
【補正内容】
【図5】

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 互いに対向した2つの部品が互いに整列
    された状態にあるか否かを確認するための整列確認装置
    であって、 前記2つの部品の間に挿入され、互いに逆方向に照明光
    を照射して前記2つの部品の夫々を照明すると共に、該
    2つの部品から反射された反射光を受光するためのプロ
    ーブと、 前記照明光を発する光源と、 該光源からの照明光を前記プローブの照明光照射部位に
    導くための第1の光学系と、 前記プローブの受光部位に入射した前記2つの部品から
    の反射光を同一光路を通して同一位置に結像させるため
    の第2の光学系と、 前記同一位置に結像された前記2つの部品からの反射光
    を受光して、前記2つの部品の像が重畳された画像信号
    を生成するための1つの撮像素子とを具備することを特
    徴とする整列確認装置。
  2. 【請求項2】 前記第2の光学系中に配置され、前記撮
    像素子から出力される画像信号を、前記2つの部品をあ
    たかも同一方向から透かしてみた様にするために、前記
    2つの部品からの反射光のうちの一方を反転させるため
    の光学プリズムを更に具備することを特徴とする請求項
    1に記載の整列確認装置。
  3. 【請求項3】 前記2つの部品を夫々支持するための第
    1及び第2の支持体と、該支持体の表面に夫々設けられ
    た2つの反射面と、前記第1の光学系中に配置され光透
    過性の基板上に所定のパターンを形成したチャートとを
    更に具備し、該チャートの像の情報を含む照明光を前記
    プローブから前記2つの反射面に照射し、該2つの反射
    面から反射したチャート像を前記第2の光学系を通して
    前記撮像素子上に結像させ、前記2つの反射面で夫々反
    射されたチャート像のずれから前記第1及び第2の支持
    体の表面の相対的な傾きを確認出来ることを特徴とする
    請求項1に記載の整列確認装置。
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