JPH0745780A - 半導体装置用クワッドフラットパッケージ - Google Patents
半導体装置用クワッドフラットパッケージInfo
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- JPH0745780A JPH0745780A JP5190274A JP19027493A JPH0745780A JP H0745780 A JPH0745780 A JP H0745780A JP 5190274 A JP5190274 A JP 5190274A JP 19027493 A JP19027493 A JP 19027493A JP H0745780 A JPH0745780 A JP H0745780A
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- H10W72/5363—Shapes of wire connectors the connected ends being wedge-shaped
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 GNDバウンスノイズ対策を目的に電源系配
線のインダクタンス低減を計ると共に、狭ピッチリード
接続の信頼性を向上させることを目的とする。 【構成】 多層基板2と電源リード4及びGNDリード
5の接続に関し、リード先端部にタイバを設けた半導体
装置用リードフレームを用い、多層基板内の電源プレー
ン層9及びGNDプレーン層8に直接前記リードを接続
することで、電源及びGNDのインダクタンスを低減さ
せる。これにより同時動作時のGNDバウンスノイズの
低減を図る。また前記リード接続方法を用いることで狭
ピッチリード接続時においても電源及びGNDリード
は、ピッチに関係なく強固に接続することができる。
線のインダクタンス低減を計ると共に、狭ピッチリード
接続の信頼性を向上させることを目的とする。 【構成】 多層基板2と電源リード4及びGNDリード
5の接続に関し、リード先端部にタイバを設けた半導体
装置用リードフレームを用い、多層基板内の電源プレー
ン層9及びGNDプレーン層8に直接前記リードを接続
することで、電源及びGNDのインダクタンスを低減さ
せる。これにより同時動作時のGNDバウンスノイズの
低減を図る。また前記リード接続方法を用いることで狭
ピッチリード接続時においても電源及びGNDリード
は、ピッチに関係なく強固に接続することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、多層基板を内蔵した半
導体装置用クワッドフラットパッケージに関し、特に前
記パッケージに用いるリードフレームの形状及び電気的
接続方法に関する。
導体装置用クワッドフラットパッケージに関し、特に前
記パッケージに用いるリードフレームの形状及び電気的
接続方法に関する。
【0002】
【従来の技術】多層基板を内蔵し、トランスファモール
ドした従来の半導体装置用クワッドフラットパッケージ
は、図5に示すように多層基板の表面または裏面に施さ
れた配線用メタライズパターンに半導体装置用リードフ
レームの個々に分離されたリードの先端部を導電性接着
剤を介して接続する構造、あるいは図6に示す様に金属
細線を介して接続する構造であり、いずれの場合におい
ても電源リード及びGNDリードの接続方法は信号リー
ドと同じく前述のように個々に分離されたリードの先端
部と多層基板の表面または裏面に設けられた配線用メタ
ライズパターンとの接続であった。従って、従来の電源
プレーン層及びGNDプレーン層を有する多層基板は、
これらのプレーン層と多層基板の表面または裏面に設け
られている配線用メタライズパターンとを接続する為の
VIAホールを必ず有している。
ドした従来の半導体装置用クワッドフラットパッケージ
は、図5に示すように多層基板の表面または裏面に施さ
れた配線用メタライズパターンに半導体装置用リードフ
レームの個々に分離されたリードの先端部を導電性接着
剤を介して接続する構造、あるいは図6に示す様に金属
細線を介して接続する構造であり、いずれの場合におい
ても電源リード及びGNDリードの接続方法は信号リー
ドと同じく前述のように個々に分離されたリードの先端
部と多層基板の表面または裏面に設けられた配線用メタ
ライズパターンとの接続であった。従って、従来の電源
プレーン層及びGNDプレーン層を有する多層基板は、
これらのプレーン層と多層基板の表面または裏面に設け
られている配線用メタライズパターンとを接続する為の
VIAホールを必ず有している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前述したように従来
の、多層基板を内蔵しトランスファモールドした半導体
装置用クワッドフラットパッケージは、リードフレーム
の個々に分離されたリードの先端部と多層基板の表面ま
たは裏面に施された配線用メタライズパターンとを1対
1で個々に接続している。従って電源またはGNDとな
る端子についても、多層基板の電源またはGNDプレー
ン層から多層基板の表面または裏面に施された配線用メ
タライズパターンを接続する為のVIAホールを設ける
必要があり、特に多ピンのパッケージの場合各配線用メ
タライズパターンの間隔が狭ピッチとなりVIAホール
及び配線用メタライズパターンも微小となる。
の、多層基板を内蔵しトランスファモールドした半導体
装置用クワッドフラットパッケージは、リードフレーム
の個々に分離されたリードの先端部と多層基板の表面ま
たは裏面に施された配線用メタライズパターンとを1対
1で個々に接続している。従って電源またはGNDとな
る端子についても、多層基板の電源またはGNDプレー
ン層から多層基板の表面または裏面に施された配線用メ
タライズパターンを接続する為のVIAホールを設ける
必要があり、特に多ピンのパッケージの場合各配線用メ
タライズパターンの間隔が狭ピッチとなりVIAホール
及び配線用メタライズパターンも微小となる。
【0004】VIAホールの微小径化及び配線用メタラ
イズパターンの微小化は、接続部の信頼性をそこなうば
かりでなく導通抵抗の増加及びインダクタンスの増加に
つながり、特にCMOSゲートアレーの同時動作時のG
NDバウンスノイズ(ΔV)に対しては、ΔV=n・L
・dI/dt+R・Iで表わされる様にGNDのインダ
クタンス低減が重要なポイントとなる。図6のように半
導体装置用リードフレームのGNDとなるリードの先端
部と多層基板とを金属細線を介して接続する場合、更に
金属細線によるインダクタンスの増加でΔVは大きくな
ってしまう。
イズパターンの微小化は、接続部の信頼性をそこなうば
かりでなく導通抵抗の増加及びインダクタンスの増加に
つながり、特にCMOSゲートアレーの同時動作時のG
NDバウンスノイズ(ΔV)に対しては、ΔV=n・L
・dI/dt+R・Iで表わされる様にGNDのインダ
クタンス低減が重要なポイントとなる。図6のように半
導体装置用リードフレームのGNDとなるリードの先端
部と多層基板とを金属細線を介して接続する場合、更に
金属細線によるインダクタンスの増加でΔVは大きくな
ってしまう。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置用ク
ワッドフラットパッケージは、電源リードまたはGND
リードの先端部が少なくとも二本以上つながった半導体
装置用リードフレームを用い前記半導体装置用リードフ
レームの電源リードまたはGNDリードの先端部を軟質
はんだあるいは低融点合金属材料等を介して多層基板内
に設けられた電源プレーン層またはGNDプレーン層に
直接接続している。
ワッドフラットパッケージは、電源リードまたはGND
リードの先端部が少なくとも二本以上つながった半導体
装置用リードフレームを用い前記半導体装置用リードフ
レームの電源リードまたはGNDリードの先端部を軟質
はんだあるいは低融点合金属材料等を介して多層基板内
に設けられた電源プレーン層またはGNDプレーン層に
直接接続している。
【0006】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は、GNDのインダクタンス低減を目的とする
本発明の一実施例の半導体装置用クワッドフラットパッ
ケージの断面図である。半導体素子1を多層基板2上に
設けられた搭載部に搭載し、多層基板2上の配線用メタ
ライズパターンと半導体素子1上の電極パッドを金属細
線3aを介して接続している。更に多層基板2のGND
プレーン層8には図2に示す様なGNDとなるリードの
先端部5のみがつながり、他の信号及び電源となるリー
ドの先端部4は、個々に分離された半導体装置用リード
フレームのGNDとなるリード5の先端部の接続部であ
るGNDタイバ6aに軟質はんだあるいは低融点金属材
料等を介して直接接続されている。信号リード7及び電
源リード4は、多層基板2の表面外周部に設けられた配
線用メタライズパターンに金属細線3aを介して接続さ
れている。そして、最終的には、半導体素子1及び多層
基板2、金属細線3a,3bの保護を目的にトランスフ
ァモールドを行う。
る。図1は、GNDのインダクタンス低減を目的とする
本発明の一実施例の半導体装置用クワッドフラットパッ
ケージの断面図である。半導体素子1を多層基板2上に
設けられた搭載部に搭載し、多層基板2上の配線用メタ
ライズパターンと半導体素子1上の電極パッドを金属細
線3aを介して接続している。更に多層基板2のGND
プレーン層8には図2に示す様なGNDとなるリードの
先端部5のみがつながり、他の信号及び電源となるリー
ドの先端部4は、個々に分離された半導体装置用リード
フレームのGNDとなるリード5の先端部の接続部であ
るGNDタイバ6aに軟質はんだあるいは低融点金属材
料等を介して直接接続されている。信号リード7及び電
源リード4は、多層基板2の表面外周部に設けられた配
線用メタライズパターンに金属細線3aを介して接続さ
れている。そして、最終的には、半導体素子1及び多層
基板2、金属細線3a,3bの保護を目的にトランスフ
ァモールドを行う。
【0007】図3は、GND及び電源のインダクタンス
低減を目的とする本発明の第二の実施例の半導体装置用
クワッドフラットパッケージの断面図である。GNDプ
レーン層8の下に部分ラミネートで電源プレーン層9を
形成した多層基板2と、図4に示す様な、電源リード4
の先端部のみがつながり他の信号リード及びGNDリー
ド5の先端部は個々に分離され、かつ本実施例の場合信
号リード7よりGNDリード5の方が長い半導体装置用
リードフレームを用い、両者間を、電源については、電
源リード4の先端部の接続部である電源タイバ6bと多
層基板2の電源プレーン層9を軟質はんだあるいは低融
点金属材料等を介して接続し、GNDについても同様に
個々に分離されたリード先端部を多層基板のGNDプレ
ーン層へ軟質はんだあるいは低融点金属材料等を介して
接続している。信号リード7については、多層基板2の
表面外周部に設けられた配線用メタライズパターンと個
々に分離されたリード先端部を金属細線3bを介して接
続している。最終的には前記実施例同様トランスファモ
ールドを行う。いずれの実施例においても多層基板の外
形コーナ部は応力集中防止の為角部をR0.5mm以上
で丸めた方がよい。
低減を目的とする本発明の第二の実施例の半導体装置用
クワッドフラットパッケージの断面図である。GNDプ
レーン層8の下に部分ラミネートで電源プレーン層9を
形成した多層基板2と、図4に示す様な、電源リード4
の先端部のみがつながり他の信号リード及びGNDリー
ド5の先端部は個々に分離され、かつ本実施例の場合信
号リード7よりGNDリード5の方が長い半導体装置用
リードフレームを用い、両者間を、電源については、電
源リード4の先端部の接続部である電源タイバ6bと多
層基板2の電源プレーン層9を軟質はんだあるいは低融
点金属材料等を介して接続し、GNDについても同様に
個々に分離されたリード先端部を多層基板のGNDプレ
ーン層へ軟質はんだあるいは低融点金属材料等を介して
接続している。信号リード7については、多層基板2の
表面外周部に設けられた配線用メタライズパターンと個
々に分離されたリード先端部を金属細線3bを介して接
続している。最終的には前記実施例同様トランスファモ
ールドを行う。いずれの実施例においても多層基板の外
形コーナ部は応力集中防止の為角部をR0.5mm以上
で丸めた方がよい。
【0008】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、GNDタ
イバまたは電源タイバを有する半導体装置用リードフレ
ームを用い、これらタイバと多層基板のGNDプレーン
層または電源プレーン層をVIAホール及び配線用メタ
ライズパターンを介さずに直接接続、あるいはGNDリ
ードの個々に分離された先端部とGNDプレーン層をV
IAホール及び配線用メタライズパターンを介さずに直
接接続することにより、従来のVIAホール部のインダ
クタンス約0.2nHと配線用メタライズパターン部の
インダクタンス約0.5nHを低減できる。また導通抵
抗についても数十Ωレベルの低減が期待できる。更に狭
ピッチの接続が要求される場合は、リード接続部の信頼
性が著しく向上するという効果を有する。
イバまたは電源タイバを有する半導体装置用リードフレ
ームを用い、これらタイバと多層基板のGNDプレーン
層または電源プレーン層をVIAホール及び配線用メタ
ライズパターンを介さずに直接接続、あるいはGNDリ
ードの個々に分離された先端部とGNDプレーン層をV
IAホール及び配線用メタライズパターンを介さずに直
接接続することにより、従来のVIAホール部のインダ
クタンス約0.2nHと配線用メタライズパターン部の
インダクタンス約0.5nHを低減できる。また導通抵
抗についても数十Ωレベルの低減が期待できる。更に狭
ピッチの接続が要求される場合は、リード接続部の信頼
性が著しく向上するという効果を有する。
【図1】本発明の一実施例の半導体装置用クワッドフラ
ットパッケージの断面図。
ットパッケージの断面図。
【図2】図1の半導体装置用リードフレーム先端部の平
面図。
面図。
【図3】本発明の第二の実施例の半導体装置用クワッド
フラットパッケージの断面図。
フラットパッケージの断面図。
【図4】図3の半導体装置用リードフレーム先端部の平
面図。
面図。
【図5】従来の一例を示す半導体装置用クワッドフラッ
トパッケージの断面図。
トパッケージの断面図。
【図6】従来の他の例を示す半導体装置用クワッドフラ
ットパッケージの断面図。
ットパッケージの断面図。
1 半導体素子 2 多層基板 3a 金属細線 3b 金属細線 4 電源リード 5 GNDリード 6a GNDタイバ 6b 電源タイバ 7 信号リード 8 GNDプレーン層 9 電源プレーン層 10 VIAホール 11 トランスファモールド部 12 リードフレームアイランド部
Claims (3)
- 【請求項1】 少なくとも一層以上の電源プレーン層ま
たはGNDプレーン層を有する多層セラミック配線基板
あるいは多層プラスチック配線基板である多層基板上に
半導体素子を搭載し、前記多層基板をトランスファモー
ルドした半導体装置用クワッドフラットパッケージにお
いて、 電源リードまたはGNDリードの先端部が少なくとも二
本以上つながっているリードフレームを用いることを特
徴とする半導体装置用クワッドフラットパッケージ。 - 【請求項2】 電源リードまたはGNDリードの先端が
全て他リードの先端部より内側に設けられた環状のタイ
バにつながったリードフレームを用いる請求項1記載の
半導体装置用クワッドフラットパッケージ。 - 【請求項3】 電源リードまたはGNDリードの先端部
が少なくとも二本以上つながっているリードのタイバ部
を導電性接着剤を介して直接多層基板の電源プレーン層
またはGNDプレーン層と接続する請求項1記載の半導
体装置用クワッドフラットパッケージ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5190274A JP2570584B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | 半導体装置 |
| KR1019940018398A KR0139257B1 (ko) | 1993-07-30 | 1994-07-28 | 반도체 장치용 쿼드-플랫 패키지 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5190274A JP2570584B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | 半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0745780A true JPH0745780A (ja) | 1995-02-14 |
| JP2570584B2 JP2570584B2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=16255433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5190274A Expired - Lifetime JP2570584B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | 半導体装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2570584B2 (ja) |
| KR (1) | KR0139257B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19757597A1 (de) * | 1997-12-23 | 1999-07-01 | Siemens Ag | Multichipmodul mit geringer Bauhöhe |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100342812B1 (ko) * | 1996-11-28 | 2002-11-18 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 접지선및전원선을구비한에어리어어레이범프드반도체패키지 |
| KR100427389B1 (ko) * | 1997-05-30 | 2004-07-30 | 린나이코리아 주식회사 | 보일러의 운전조작장치 이상시 동결방지운전 제어장치 및 그 방 법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63246851A (ja) * | 1987-01-12 | 1988-10-13 | インテル・コーポレーション | 半導体装置の保持器および集積回路をプラスチック・パッケージの内部に収納する方法 |
| JPH04174551A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-06-22 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
-
1993
- 1993-07-30 JP JP5190274A patent/JP2570584B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-07-28 KR KR1019940018398A patent/KR0139257B1/ko not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63246851A (ja) * | 1987-01-12 | 1988-10-13 | インテル・コーポレーション | 半導体装置の保持器および集積回路をプラスチック・パッケージの内部に収納する方法 |
| JPH04174551A (ja) * | 1990-07-20 | 1992-06-22 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19757597A1 (de) * | 1997-12-23 | 1999-07-01 | Siemens Ag | Multichipmodul mit geringer Bauhöhe |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR950004506A (ko) | 1995-02-18 |
| KR0139257B1 (ko) | 1998-04-27 |
| JP2570584B2 (ja) | 1997-01-08 |
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