JPH074769B2 - 研磨用クロス - Google Patents
研磨用クロスInfo
- Publication number
- JPH074769B2 JPH074769B2 JP3263631A JP26363191A JPH074769B2 JP H074769 B2 JPH074769 B2 JP H074769B2 JP 3263631 A JP3263631 A JP 3263631A JP 26363191 A JP26363191 A JP 26363191A JP H074769 B2 JPH074769 B2 JP H074769B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyurethane
- resin
- polishing
- polishing cloth
- composite substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェハー、メモ
リーディスク、光学部品レンズ等を研磨する際に用いら
れる研磨用クロスに関するものである。
リーディスク、光学部品レンズ等を研磨する際に用いら
れる研磨用クロスに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、集積回路を形成するための基材と
して用いられる半導体ウェハーの鏡面研磨に用いる研磨
用クロスとしては、人工皮革として一般に良く知られて
いるベロア調及びスウェード調の繊維・樹脂複合材料、
及びポリウレタン樹脂含浸湿式凝固処理フェルト状繊維
質シートが広く用いられてきた。しかるに近年特にＤＲ
ＡＭ（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ
Ｍｅｍｏｒｙ）として用いられる回路については、その
集積度を高くする努力が鋭意なされ、それに伴って回路
形成を行う基板となる半導体用ウェハーについても回路
間の線幅を縮める目的から平坦性の要求が増々厳しくな
っている状況にある。
して用いられる半導体ウェハーの鏡面研磨に用いる研磨
用クロスとしては、人工皮革として一般に良く知られて
いるベロア調及びスウェード調の繊維・樹脂複合材料、
及びポリウレタン樹脂含浸湿式凝固処理フェルト状繊維
質シートが広く用いられてきた。しかるに近年特にＤＲ
ＡＭ（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ
Ｍｅｍｏｒｙ）として用いられる回路については、その
集積度を高くする努力が鋭意なされ、それに伴って回路
形成を行う基板となる半導体用ウェハーについても回路
間の線幅を縮める目的から平坦性の要求が増々厳しくな
っている状況にある。
【０００３】このような要求に対して、従来からの半導
体ウェハーの鏡面加工工程においては、ウェハーの平坦
性の大部分を決定する一次研磨工程（ストック・リムー
バル・プロセス) で使用される研磨クロスの物性によっ
て仕上がりウェハーの平坦性が大きく左右されることが
明らかになってきた。すなわち、比較的柔軟な研磨クロ
スを用いた場合には、ウェハー表面の粗度は小さく、傷
（スクラッチ）の数は少ないけれども、一般に面ダレ及
びフチダレという呼称で表現されるような平坦性に対す
る悪影響が生じ易く、それに対して剛い研磨クロスを用
いた場合には、比較的良好な平坦性が得られる。
体ウェハーの鏡面加工工程においては、ウェハーの平坦
性の大部分を決定する一次研磨工程（ストック・リムー
バル・プロセス) で使用される研磨クロスの物性によっ
て仕上がりウェハーの平坦性が大きく左右されることが
明らかになってきた。すなわち、比較的柔軟な研磨クロ
スを用いた場合には、ウェハー表面の粗度は小さく、傷
（スクラッチ）の数は少ないけれども、一般に面ダレ及
びフチダレという呼称で表現されるような平坦性に対す
る悪影響が生じ易く、それに対して剛い研磨クロスを用
いた場合には、比較的良好な平坦性が得られる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】現在最も一般的に用い
られている半導体ウェハ−の研磨加工方法、すなわち研
磨用クロスを貼付けた回転研磨機定盤に対向して、被加
工物を圧接させ、主としてＳｉＯ2 微粒子を遊離砥粒と
して含有する研磨液を供給しながら被加工物面を研磨加
工する方法において、加工圧力は被加工物に垂直等分布
荷重として与えられている。このような被加工物と対向
する研磨クロスは、研磨液を充分に保持するという作用
を要求され、人工皮革様の多孔質繊維樹脂複合材料が用
いられているわけであるが、加工圧力として被加工物及
び研磨液膜を介して研磨クロスに伝わる垂直等分布荷重
に対する研磨クロス内部からの反力を圧接面内において
均一にすることと、前述した伝播してくる垂直等分布荷
重により、研磨クロス自体ができるだけ小さく均一な変
形しか起こさないことが、ウェハ−の面ダレ及びフチダ
レを防止し、研磨加工後のウェハ−平坦性を向上させる
重要な要素となっているのである。
られている半導体ウェハ−の研磨加工方法、すなわち研
磨用クロスを貼付けた回転研磨機定盤に対向して、被加
工物を圧接させ、主としてＳｉＯ2 微粒子を遊離砥粒と
して含有する研磨液を供給しながら被加工物面を研磨加
工する方法において、加工圧力は被加工物に垂直等分布
荷重として与えられている。このような被加工物と対向
する研磨クロスは、研磨液を充分に保持するという作用
を要求され、人工皮革様の多孔質繊維樹脂複合材料が用
いられているわけであるが、加工圧力として被加工物及
び研磨液膜を介して研磨クロスに伝わる垂直等分布荷重
に対する研磨クロス内部からの反力を圧接面内において
均一にすることと、前述した伝播してくる垂直等分布荷
重により、研磨クロス自体ができるだけ小さく均一な変
形しか起こさないことが、ウェハ−の面ダレ及びフチダ
レを防止し、研磨加工後のウェハ−平坦性を向上させる
重要な要素となっているのである。
【０００５】従って、従来経験的に判断されていた研磨
用クロスの柔軟さ、あるいは剛さというものは、圧縮荷
重に対する応力の大・小、及び変形の大・小で判断され
るべきものである。このような要素を充足する材料とし
ては、まず第一に材料の均一性という点から、ゴム、プ
ラスチックの単体シートが考えられるが、研磨液により
加工を行う遊離砥粒研磨に用いる研磨クロスとしては研
磨液の保持力がほとんどないという欠点があり、実際に
は使用できない。次に、各種プラスチックの発泡体が考
えられるが、いずれも柔らかすぎたり、硬すぎたり、あ
るいは独立気泡性が高かったりするため、一部の用途で
ポリウレタンの硬質発泡体が使われているにすぎない。
一方、従来からこのような遊離砥粒方式の研磨に用いら
れている人工皮革様の研磨クロスは、研磨液の保持力、
及び圧縮荷重に対する応力、変形の点からも好適の材料
として６４Ｋ、あるいは２５６ＫＤＲＡＭ用の半導体ウ
ェハ−研磨に広く用いられてきたが、近年の１ＭＤＲＡ
Ｍ、あるいは将来の４ＭＤＲＡＭ用ウェハ−の研磨に関
しては、圧縮荷重に対する変形量が大きいために、加工
圧力を下げて長時間の研磨を行わなければならないと
か、研磨クロス自体の厚さを薄くして相対変形量を下げ
た結果、研磨クロス寿命が短く、短時間の使用で研磨ク
ロスを貼替えなければならない等の欠点があった。
用クロスの柔軟さ、あるいは剛さというものは、圧縮荷
重に対する応力の大・小、及び変形の大・小で判断され
るべきものである。このような要素を充足する材料とし
ては、まず第一に材料の均一性という点から、ゴム、プ
ラスチックの単体シートが考えられるが、研磨液により
加工を行う遊離砥粒研磨に用いる研磨クロスとしては研
磨液の保持力がほとんどないという欠点があり、実際に
は使用できない。次に、各種プラスチックの発泡体が考
えられるが、いずれも柔らかすぎたり、硬すぎたり、あ
るいは独立気泡性が高かったりするため、一部の用途で
ポリウレタンの硬質発泡体が使われているにすぎない。
一方、従来からこのような遊離砥粒方式の研磨に用いら
れている人工皮革様の研磨クロスは、研磨液の保持力、
及び圧縮荷重に対する応力、変形の点からも好適の材料
として６４Ｋ、あるいは２５６ＫＤＲＡＭ用の半導体ウ
ェハ−研磨に広く用いられてきたが、近年の１ＭＤＲＡ
Ｍ、あるいは将来の４ＭＤＲＡＭ用ウェハ−の研磨に関
しては、圧縮荷重に対する変形量が大きいために、加工
圧力を下げて長時間の研磨を行わなければならないと
か、研磨クロス自体の厚さを薄くして相対変形量を下げ
た結果、研磨クロス寿命が短く、短時間の使用で研磨ク
ロスを貼替えなければならない等の欠点があった。
【０００６】このような欠点を解消するために、種々の
試みがなされた。たとえば、一般に湿式凝固法という名
称で知られている熱可塑性ポリウレタンのジメチルホル
ムアミド（以下ＤＭＦと記す。）溶液をシ−ト状繊維基
材に含浸付与し、ひきつづき水浴中で水とＤＭＦの置換
と同時に、ポリウレタン多孔体を繊維基材中に形成させ
る従来公知の方法において、含浸付与する熱可塑性ポリ
ウレタン／ＤＭＦ溶液中のポリウレタン固型物質を高く
した場合、湿式凝固、洗浄、及び乾燥の各工程を経て、
最終的にバフ加工により表面スキン層を除去して仕上げ
られた研磨クロスは、非常に均一で緻密な構造を持ち、
圧縮荷重に対する変形量も小さくなるが、実際にこのよ
うな研磨クロスを用いてＳｉウェハ−の研磨を行った場
合、ごく短時間で研磨屑が研磨クロスに目詰まりし、そ
れ以上の研磨ができなくなる。また、前述した湿式凝固
に用いる熱可塑性ポリウレタンとして、さらに硬度の高
いものを用いた場合には凝固特性が不均一になり、一枚
の研磨クロス内における圧縮変形量に大きなバラツキが
出るようになる。さらにまた、均一で圧縮変形量の小さ
い研磨クロスを作成する目的で、熱硬化性ウレタンブレ
ポリマ−、及び硬化剤の有機溶剤溶液を直接シ−ト状繊
維基材に含浸付与し、乾燥炉内において溶剤乾燥とウレ
タンの硬化を同時に行わせる場合、乾燥硬化までの時間
に繊維基材中で厚さ方向で樹脂移行が起こり、研磨クロ
スの厚み方向で樹脂量が不均一となるという欠点を持っ
ている。
試みがなされた。たとえば、一般に湿式凝固法という名
称で知られている熱可塑性ポリウレタンのジメチルホル
ムアミド（以下ＤＭＦと記す。）溶液をシ−ト状繊維基
材に含浸付与し、ひきつづき水浴中で水とＤＭＦの置換
と同時に、ポリウレタン多孔体を繊維基材中に形成させ
る従来公知の方法において、含浸付与する熱可塑性ポリ
ウレタン／ＤＭＦ溶液中のポリウレタン固型物質を高く
した場合、湿式凝固、洗浄、及び乾燥の各工程を経て、
最終的にバフ加工により表面スキン層を除去して仕上げ
られた研磨クロスは、非常に均一で緻密な構造を持ち、
圧縮荷重に対する変形量も小さくなるが、実際にこのよ
うな研磨クロスを用いてＳｉウェハ−の研磨を行った場
合、ごく短時間で研磨屑が研磨クロスに目詰まりし、そ
れ以上の研磨ができなくなる。また、前述した湿式凝固
に用いる熱可塑性ポリウレタンとして、さらに硬度の高
いものを用いた場合には凝固特性が不均一になり、一枚
の研磨クロス内における圧縮変形量に大きなバラツキが
出るようになる。さらにまた、均一で圧縮変形量の小さ
い研磨クロスを作成する目的で、熱硬化性ウレタンブレ
ポリマ−、及び硬化剤の有機溶剤溶液を直接シ−ト状繊
維基材に含浸付与し、乾燥炉内において溶剤乾燥とウレ
タンの硬化を同時に行わせる場合、乾燥硬化までの時間
に繊維基材中で厚さ方向で樹脂移行が起こり、研磨クロ
スの厚み方向で樹脂量が不均一となるという欠点を持っ
ている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上述したような
欠点を解消し、１ＭＤＲＡＭおよび将来の４ＭＤＲＡＭ
用半導体ウェハ−を主とした高平坦性ウェハ−などの研
磨加工用クロスを提示するものである。
欠点を解消し、１ＭＤＲＡＭおよび将来の４ＭＤＲＡＭ
用半導体ウェハ−を主とした高平坦性ウェハ−などの研
磨加工用クロスを提示するものである。
【０００８】本発明の研磨用クロスは、フェルト状繊維
質シート中の構成繊維が、線状の熱可塑性ポリウレタン
樹脂を主体とする重合体により、埋設的に囲繞されて複
合基材が形成されるとともに、前記複合基材の多孔質相
に存在するセルの壁が、熱可塑性ポリウレタン樹脂より
硬質の樹脂の薄膜により被覆・補強されていることを特
徴とする。
質シート中の構成繊維が、線状の熱可塑性ポリウレタン
樹脂を主体とする重合体により、埋設的に囲繞されて複
合基材が形成されるとともに、前記複合基材の多孔質相
に存在するセルの壁が、熱可塑性ポリウレタン樹脂より
硬質の樹脂の薄膜により被覆・補強されていることを特
徴とする。
【０００９】本発明で使用されるフェルト状繊維質シ−
トは、ナイロン、ポリエステル、アラミド繊維等のＤＭ
Ｆ、メチル・エチルケトン（以下ＭＥＫと記す。）、テ
トラヒドロフラン等ポリウレタン可溶性の溶剤に対して
耐性があり、かつ研磨時に使用されるｐＨ１０〜１１程
度の研磨液に対する耐アルカリ性をもつ繊維からなる不
織布、好ましくはバインダ−を含まないニ−ドルパンチ
不織布で、その嵩密度が０．１０ｇ／cm3 〜０．２０ｇ
／cm3 の範囲にあるものが好適である。本発明の研磨用
クロスを製造するための方法は、このようなシ−ト状繊
維基材に、ポリエステル系、あるいはポリエ−テル系の
熱可塑性ポリウレタンのＤＭＦ溶液を含浸させ、湿式凝
固させて、一旦中間的な複合基材を作成する一次処理工
程と、さらにその複合基材を熱硬化性ポリウレタン等で
処理する二次処理工程とからなる。以下にそれらを順を
追って説明する。
トは、ナイロン、ポリエステル、アラミド繊維等のＤＭ
Ｆ、メチル・エチルケトン（以下ＭＥＫと記す。）、テ
トラヒドロフラン等ポリウレタン可溶性の溶剤に対して
耐性があり、かつ研磨時に使用されるｐＨ１０〜１１程
度の研磨液に対する耐アルカリ性をもつ繊維からなる不
織布、好ましくはバインダ−を含まないニ−ドルパンチ
不織布で、その嵩密度が０．１０ｇ／cm3 〜０．２０ｇ
／cm3 の範囲にあるものが好適である。本発明の研磨用
クロスを製造するための方法は、このようなシ−ト状繊
維基材に、ポリエステル系、あるいはポリエ−テル系の
熱可塑性ポリウレタンのＤＭＦ溶液を含浸させ、湿式凝
固させて、一旦中間的な複合基材を作成する一次処理工
程と、さらにその複合基材を熱硬化性ポリウレタン等で
処理する二次処理工程とからなる。以下にそれらを順を
追って説明する。
【００１０】一次処理に用いられる熱可塑性ポリウレタ
ンは、一般に人工皮革用として市販されているものがい
ずれも使用できるが、本用途として好ましくは、１００
％伸び時のモジュラスが１００ｋｇ／cm2 以上のものが
好ましい。この工程において、より重要なことは、湿式
凝固、洗浄、乾燥という工程を経て形成された複合基材
において、樹脂相と繊維相の重量比率がどの程度である
かということである。たとえば、その比率（樹脂相対繊
維相）が１対１を超えるような場合には、複合基材の樹
脂相に存在する湿式凝固による多孔質構造が緻密にな
り、ひきつづき行われる二次処理の熱硬化性ポリウレタ
ンによるかなりの空孔が充填されてしまうため、研磨に
使用した場合には研磨液、及び研磨屑の流通が阻害さ
れ、目詰まりが短期に起こってしまう。逆に、樹脂相対
繊維相の比率が１対５を下回る状態では、樹脂相は繊維
の交絡点、及び外周部をとり囲むだけになり、次の二次
処理で用いる熱硬化性ポリウレタンの溶剤溶液はその乾
燥硬化過程で移行し、乾燥時に下側となっていた側に局
在化してしまう。従って、この一次処理工程では、使用
するシート状繊維基材の嵩密度により含浸させる熱可塑
性ポリウレタンのＤＭＦ溶液中の固型分量を調節し、出
来上がる中間的な複合基材中における樹脂相対繊維相の
比率を１対１〜１対５にすることが好ましい。このよう
な湿式凝固、洗浄、乾燥を経て作成された中間基材は、
表面近傍にスキン層と呼ばれる緻密な発泡層を持つた
め、これを表面、裏面とも除去し、ひきつづき行われる
二次処理の含浸液を均一、かつ短時間に浸透させるよう
にする。
ンは、一般に人工皮革用として市販されているものがい
ずれも使用できるが、本用途として好ましくは、１００
％伸び時のモジュラスが１００ｋｇ／cm2 以上のものが
好ましい。この工程において、より重要なことは、湿式
凝固、洗浄、乾燥という工程を経て形成された複合基材
において、樹脂相と繊維相の重量比率がどの程度である
かということである。たとえば、その比率（樹脂相対繊
維相）が１対１を超えるような場合には、複合基材の樹
脂相に存在する湿式凝固による多孔質構造が緻密にな
り、ひきつづき行われる二次処理の熱硬化性ポリウレタ
ンによるかなりの空孔が充填されてしまうため、研磨に
使用した場合には研磨液、及び研磨屑の流通が阻害さ
れ、目詰まりが短期に起こってしまう。逆に、樹脂相対
繊維相の比率が１対５を下回る状態では、樹脂相は繊維
の交絡点、及び外周部をとり囲むだけになり、次の二次
処理で用いる熱硬化性ポリウレタンの溶剤溶液はその乾
燥硬化過程で移行し、乾燥時に下側となっていた側に局
在化してしまう。従って、この一次処理工程では、使用
するシート状繊維基材の嵩密度により含浸させる熱可塑
性ポリウレタンのＤＭＦ溶液中の固型分量を調節し、出
来上がる中間的な複合基材中における樹脂相対繊維相の
比率を１対１〜１対５にすることが好ましい。このよう
な湿式凝固、洗浄、乾燥を経て作成された中間基材は、
表面近傍にスキン層と呼ばれる緻密な発泡層を持つた
め、これを表面、裏面とも除去し、ひきつづき行われる
二次処理の含浸液を均一、かつ短時間に浸透させるよう
にする。
【００１１】こうして調製された中間基材は、ひきつづ
き二次処理にかけられる。この工程で用いられる含浸液
は、ポリエステル、あるいはポリエーテル系のＭＤＩ
（メチレンジイソシアネート）、あるいはＴＤＩ（トリ
レンジイソシアネート）末端を持つウレタンプレポリマ
ー単体、あるいは研磨クロスの硬度や圧縮率を調製する
ためにメラミン樹脂、ポリカーボネート樹脂、等をブレ
ンドしたものと、３、３’ジクロロー４、４’ジアミノ
フェニルメタン等の２官能性有機アミン硬化剤、さらに
必要であれば、アジピン酸等のジカルボン酸を主とした
促進剤、とを有機溶剤溶液としたもので、乾燥の熱効率
を考慮する場合にはＭＥＫ等の比較的低沸点の溶剤を用
いる事が望ましい。
き二次処理にかけられる。この工程で用いられる含浸液
は、ポリエステル、あるいはポリエーテル系のＭＤＩ
（メチレンジイソシアネート）、あるいはＴＤＩ（トリ
レンジイソシアネート）末端を持つウレタンプレポリマ
ー単体、あるいは研磨クロスの硬度や圧縮率を調製する
ためにメラミン樹脂、ポリカーボネート樹脂、等をブレ
ンドしたものと、３、３’ジクロロー４、４’ジアミノ
フェニルメタン等の２官能性有機アミン硬化剤、さらに
必要であれば、アジピン酸等のジカルボン酸を主とした
促進剤、とを有機溶剤溶液としたもので、乾燥の熱効率
を考慮する場合にはＭＥＫ等の比較的低沸点の溶剤を用
いる事が望ましい。
【００１２】この二次処理工程において、熱硬化性ポリ
ウレタン配合液は、中間複合基材中の多孔質相に浸透
し、炉内の乾燥により溶剤成分を失いつつ、粘稠液体と
なり、多孔質相に存在するセルの壁を均一にコートして
ゆく。引き続き加熱することによりウレタンの硬化反応
が起こり、三次元架橋した熱硬化性ポリウレタンの薄膜
が、一次処理により形成されていた熱可塑性ポリウレタ
ンのセル壁を被覆・補強する。
ウレタン配合液は、中間複合基材中の多孔質相に浸透
し、炉内の乾燥により溶剤成分を失いつつ、粘稠液体と
なり、多孔質相に存在するセルの壁を均一にコートして
ゆく。引き続き加熱することによりウレタンの硬化反応
が起こり、三次元架橋した熱硬化性ポリウレタンの薄膜
が、一次処理により形成されていた熱可塑性ポリウレタ
ンのセル壁を被覆・補強する。
【００１３】この工程においても、二次処理として使用
する熱硬化性ポリウレタン配合液の固型分量が重要であ
り、多すぎる場合には、やはり一次処理で形成された空
孔が二次処理液の被膜により閉じられてしまい、低すぎ
る場合には補強効果が低く、中間複合基材の物性と大差
ない状態になってしまう。従ってこの二次処理は、乾燥
・硬化後の熱硬化剤ポリウレタンと、中間複合基材に含
まれていた熱可塑性ポリウレタンの重量比が１対３〜１
対１の範囲にコントロールされることが好ましい。
する熱硬化性ポリウレタン配合液の固型分量が重要であ
り、多すぎる場合には、やはり一次処理で形成された空
孔が二次処理液の被膜により閉じられてしまい、低すぎ
る場合には補強効果が低く、中間複合基材の物性と大差
ない状態になってしまう。従ってこの二次処理は、乾燥
・硬化後の熱硬化剤ポリウレタンと、中間複合基材に含
まれていた熱可塑性ポリウレタンの重量比が１対３〜１
対１の範囲にコントロールされることが好ましい。
【００１４】本発明の研磨用クロスによると、フェルト
状繊維質シート中の構成繊維が、線 状の熱可塑性ポリウ
レタン樹脂を主体とする重合体により、埋設的に囲繞さ
れて形成された複合基材の多孔質相に存在するセルの壁
が、熱可塑性ポリウレタン樹脂より硬質の樹脂の薄膜に
より被覆・補強されているので、多孔質セルの空隙を大
幅に低下させることなく研磨用クロスの厚さ方向に於け
る圧縮変形量を小さくすることができる。
状繊維質シート中の構成繊維が、線 状の熱可塑性ポリウ
レタン樹脂を主体とする重合体により、埋設的に囲繞さ
れて形成された複合基材の多孔質相に存在するセルの壁
が、熱可塑性ポリウレタン樹脂より硬質の樹脂の薄膜に
より被覆・補強されているので、多孔質セルの空隙を大
幅に低下させることなく研磨用クロスの厚さ方向に於け
る圧縮変形量を小さくすることができる。
【００１５】すなわち、研磨用クロスに存在する多孔質
セルの壁が硬質の樹脂薄膜により被覆・補強された構造
を持つため、研磨用クロスの多孔性（密度）を大幅に低
下させることなくその圧縮弾性率を高くすることができ
る。
セルの壁が硬質の樹脂薄膜により被覆・補強された構造
を持つため、研磨用クロスの多孔性（密度）を大幅に低
下させることなくその圧縮弾性率を高くすることができ
る。
【００１６】この研磨用クロスとその研磨性能につい
て、下記の実施例により、さらに詳細に説明するが、こ
れら実施例は本発明の基本的部分を限定するものではな
い。
て、下記の実施例により、さらに詳細に説明するが、こ
れら実施例は本発明の基本的部分を限定するものではな
い。
【００１７】
（実施例１） ３．０デニール、繊維長５０mmのポリエステル繊維で構
成される、厚さ２mm、嵩密度０．１３ｇ／cm3 、目付重
量２６０ｇ／ｍ2 のニードルバンチ不織布を基材とし、
分子量２００，０００、１００％モジュラス１２０ｋｇ
／cm2 のポリエステル系ポリウレタン（商品名：クリス
ボン８８６７）の固型分１３％のＤＭＦ溶液で、該基材
を十分浸漬含浸した後、ＤＭＦ対純水の比率が１０対９
０で、且つ温度３０℃の凝固液に２０分間浸漬後、６０
分間純水中で水洗いし、ポリウレタン樹脂を湿式凝固さ
せ、ポーラス状にフェルト基材を囲繞した後、ＤＭＦを
完全に純水と置換し、更に１２０℃熱風で乾燥し、厚さ
２mm、嵩密度０．２６ｇ／cm3 、目付重量５２０ｇ／ｍ
2 、ウレタン対繊維の重量比０．９対１の複合基材が得
られた。該基材を６０メッシュのバフロールで、表、裏
面を研削し、密度の高いスキン層を除去した。このシー
ト物の硬度はＪＩＳＡで６０度、圧縮率３０％であっ
た。該シート物を以下の配合の二次含浸液に浸漬含浸
後、１２０℃の熱風で２０分間乾燥、溶剤を完全に乾燥
除去し、該熱硬化性ポリウレタンを上記複合基材中のポ
リウレタン多孔質相のセル壁を被覆しながら硬化させる
ことにより、高硬度複合基材を得た。
成される、厚さ２mm、嵩密度０．１３ｇ／cm3 、目付重
量２６０ｇ／ｍ2 のニードルバンチ不織布を基材とし、
分子量２００，０００、１００％モジュラス１２０ｋｇ
／cm2 のポリエステル系ポリウレタン（商品名：クリス
ボン８８６７）の固型分１３％のＤＭＦ溶液で、該基材
を十分浸漬含浸した後、ＤＭＦ対純水の比率が１０対９
０で、且つ温度３０℃の凝固液に２０分間浸漬後、６０
分間純水中で水洗いし、ポリウレタン樹脂を湿式凝固さ
せ、ポーラス状にフェルト基材を囲繞した後、ＤＭＦを
完全に純水と置換し、更に１２０℃熱風で乾燥し、厚さ
２mm、嵩密度０．２６ｇ／cm3 、目付重量５２０ｇ／ｍ
2 、ウレタン対繊維の重量比０．９対１の複合基材が得
られた。該基材を６０メッシュのバフロールで、表、裏
面を研削し、密度の高いスキン層を除去した。このシー
ト物の硬度はＪＩＳＡで６０度、圧縮率３０％であっ
た。該シート物を以下の配合の二次含浸液に浸漬含浸
後、１２０℃の熱風で２０分間乾燥、溶剤を完全に乾燥
除去し、該熱硬化性ポリウレタンを上記複合基材中のポ
リウレタン多孔質相のセル壁を被覆しながら硬化させる
ことにより、高硬度複合基材を得た。
【００１８】この複合基材を更に表、裏面バフ処理した
平坦な高硬度複合基材は、厚さ１．２７mm、嵩密度０．
３６ｇ／cm3 、硬度ＪＩＳＡ８５度、圧縮率６．０％、
繊維対一次樹脂対二次樹脂の比率が１対０．９対０．９
であった。この高硬度複合基材により研磨されたウェハ
ーの平坦度は良好で、研磨クロスのライフは６０時間で
あった。
平坦な高硬度複合基材は、厚さ１．２７mm、嵩密度０．
３６ｇ／cm3 、硬度ＪＩＳＡ８５度、圧縮率６．０％、
繊維対一次樹脂対二次樹脂の比率が１対０．９対０．９
であった。この高硬度複合基材により研磨されたウェハ
ーの平坦度は良好で、研磨クロスのライフは６０時間で
あった。
【００１９】 二次含浸液の配合例： ハイブレンＬ−３１５（三井東圧化学（株）商品名） １００．０部 イハラキュアミンＭＴ（イハラケミカル（株）商品名） ２６．９部 ＭＥＫ ５７６．０部 計 ７０２．９部 〔ハイブレンＬ−３１５〕 ポリオール成分 ：ポリテトラメチレンエーテルグリ
コール イソシアネート成分：２、４−トルエンジイソシアネー
ト 〔イハラキュアミンＭＴ〕 ３、３’−ジクロロー４、４’−ジアミノフェニルメタ
ン （実施例２） ３．０デニール繊維長６０mmのポリエステル繊維と、
２．５デニール繊維長５０mmの熱収縮型ポリエステル繊
維の比率が８０対２０で構成される厚さ２mm、嵩密度
０．１５ｇ／cm3 、目付重量３００ｇ／ｍ2 のニードル
パンチ不織布を基材とし、分子量２００，０００、１０
０％モジュラス１２０ｋｇ／cm2 のポリエステル系ポリ
ウレタン樹脂（大日本インキ（株）商品名：クリスボン
８８６７）の固型分１１％のＤＭＦ溶液で該基材を十分
浸漬含浸した後、ＤＭＦ対純水の比率が２０対８０で、
且つ温度３５℃の凝固液に２０分間浸漬後、６０分間純
水中で水洗いし、ポリウレタン樹脂を湿式凝固させ、ポ
ーラス状にフェルト基材を囲繞した後、ＤＭＦを完全に
純水と置換し、更に１２０℃の熱風で乾燥し、厚さ２m
m、嵩密度０．２６ｇ／cm3 、目付重量５２０ｇ／
ｍ2 、ウレタン対繊維の重量比０．６対１の複合基材が
得られた。該基材を８０メッシュのバフロールで表、裏
面を研削し、密度の高いスキン層を除去した。このシー
ト物の硬度はＪＩＳＡで５２度、圧縮率３３％であっ
た。該シート物を以下の配合の二次含浸液に浸漬含浸
後、１２０℃の熱風で２０分間乾燥、溶剤を完全に乾燥
除去し、該熱硬化性ポリウレタンを上記複合基材中のポ
リウレタン多孔質相のセル壁を被覆しながら硬化させる
ことにより、高硬度複合基材を得た。この複合基材を更
に表、裏面バフ処理した平坦な高硬度複合基材は、厚さ
１．２７mm、嵩密度０．３４ｇ／cm3 、硬度ＪＩＳＡ８
０度、圧縮率６．５％、繊維対一次樹脂対二次樹脂の比
率が１対０．６対０．５であった。この高硬度複合基材
により研磨されたシリコンウェハーの平坦度は良好で、
研磨クロスのライフは１００時間であった。二次含浸液
の配合例は実施例１と同様。 （実施例３） ３．０デニール繊維長７５mmのポリエステル繊維で構成
される、厚さ２mm、嵩密度０．２０g ／cm3 、目付重量
４００g ／ｍ2 のニードルパンチ不織布を基材とし、分
子量２００，０００、１００％モジュラス１２０kg／cm
2 のポリエステル系ポリウレタン樹脂（大日本インキ
（株）商品名：クリスボン８８６７）の固型分９％のＤ
ＭＦ溶液で該基材を十分浸漬含浸した後、ＤＭＦ対純水
の比率が２５％対７５％で、且つ温度が３０℃の凝固液
中に２０分間浸漬し、ポリウレタン樹脂をポーラス状に
湿式凝固させた後、６０分間純水中で洗浄し、ＤＭＦを
純水と完全に置換し、更に１２０℃の熱風で乾燥し、厚
さ２mm、嵩密度０．３０ｇ／cm3 、目付重量６００ｇ／
ｍ2 、ウレタン対繊維の重量比０．５対１の複合基材が
得られた。該基材を８０メッシュのバフロールで表、裏
面を研削し、密度の高いスキン層を除去した。このシー
ト物の硬度はＪＩＳＡで６５度で、圧縮率２２％であっ
た。該シ−ト物を以下の配合の二次含浸液に浸漬含浸
後、１２０℃の熱風で２０分間乾燥、溶剤を完全に乾燥
除去し、該熱硬化性ポリウレタンを上記複合基材中のポ
リウレタン多孔質相のセル壁を被覆しながら硬化させる
ことにより、高硬度複合基材を得た。この複合基材を更
に表、裏面バフ処理した平坦な高硬度複合基材は、厚さ
１．２７mm、嵩密度０．３５ｇ／cm3 、硬度ＪＩＳＡ８
２度、圧縮率６０％、繊維対一次樹脂対二次樹脂の比率
が１対０．５対０．３であった。この高硬度複合基材に
より研磨させたシリコンウェハーの平坦度は良好で、研
磨クロスのライフは１３０時間であった。二次含浸液の
配合例は実施例１と同様。 （実施例４） ３．０デニール、繊維長６０mmのポリエステル繊維と、
２．５デニール、繊維長５０mmの熱収縮型ポリエステル
繊維の比率が８０対２０で構成される、厚さ２mm、嵩密
度０．１５ｇ／cm3 、目付重量３００ｇ／ｍ2 のニード
ルパンチ不織布を基材とし、分子量２００，０００、１
００％モジュラス１２０ｇ／cm2 のポリエステル系ポリ
ウレタン樹脂の固型分１１％のＤＭＦ溶液で該基材を十
分浸漬含浸した後、ＤＭＦ対純水の比率が２０対８０
で、且つ温度が３５℃の凝固液中に２０分間浸漬し、ポ
リウレタン樹脂をポーラス状に湿式凝固させた後、６０
分間純水中で洗浄し、ＤＭＦを純水と完全に置換し、更
に１２０℃の熱風で乾燥し、厚さ２mm、嵩密度０．２６
ｇ／cm2 、目付重量５２０ｇ／ｍ2 、ウレタン対繊維の
重量比０．６対１の複合基材が得られた。該基材を８０
メッシュのバフロールで表、裏面を研削し、密度の高い
スキン層を除去した。このシート物の硬度はＪＩＳＡで
５８度、圧縮率３３％であった。該シート物を以下の配
合の二次含浸液に浸漬含浸後、１２０℃の熱風で２０分
間乾燥し、溶剤を完全に乾燥除去し、該熱硬化性ポリウ
レタンを上記複合基材中のポリウレタン多孔質層中のセ
ル壁を被覆しながら硬化させることにより、高硬度複合
基材を得た。この複合基材を更に表、裏面バフ処理した
平坦な高硬度複合基材は、厚さ１．２７mm、嵩密度０．
３５ｇ／cm3 、硬度ＪＩＳＡ８５度、圧縮率５．０％、
繊維対一次樹脂対二次樹脂の比率が１対０．６対０．５
であった。この高硬度複合基材により研磨されたシリコ
ンウェハーの平坦度は特に良好で、研磨クロスのライフ
は９５時間であった。
コール イソシアネート成分：２、４−トルエンジイソシアネー
ト 〔イハラキュアミンＭＴ〕 ３、３’−ジクロロー４、４’−ジアミノフェニルメタ
ン （実施例２） ３．０デニール繊維長６０mmのポリエステル繊維と、
２．５デニール繊維長５０mmの熱収縮型ポリエステル繊
維の比率が８０対２０で構成される厚さ２mm、嵩密度
０．１５ｇ／cm3 、目付重量３００ｇ／ｍ2 のニードル
パンチ不織布を基材とし、分子量２００，０００、１０
０％モジュラス１２０ｋｇ／cm2 のポリエステル系ポリ
ウレタン樹脂（大日本インキ（株）商品名：クリスボン
８８６７）の固型分１１％のＤＭＦ溶液で該基材を十分
浸漬含浸した後、ＤＭＦ対純水の比率が２０対８０で、
且つ温度３５℃の凝固液に２０分間浸漬後、６０分間純
水中で水洗いし、ポリウレタン樹脂を湿式凝固させ、ポ
ーラス状にフェルト基材を囲繞した後、ＤＭＦを完全に
純水と置換し、更に１２０℃の熱風で乾燥し、厚さ２m
m、嵩密度０．２６ｇ／cm3 、目付重量５２０ｇ／
ｍ2 、ウレタン対繊維の重量比０．６対１の複合基材が
得られた。該基材を８０メッシュのバフロールで表、裏
面を研削し、密度の高いスキン層を除去した。このシー
ト物の硬度はＪＩＳＡで５２度、圧縮率３３％であっ
た。該シート物を以下の配合の二次含浸液に浸漬含浸
後、１２０℃の熱風で２０分間乾燥、溶剤を完全に乾燥
除去し、該熱硬化性ポリウレタンを上記複合基材中のポ
リウレタン多孔質相のセル壁を被覆しながら硬化させる
ことにより、高硬度複合基材を得た。この複合基材を更
に表、裏面バフ処理した平坦な高硬度複合基材は、厚さ
１．２７mm、嵩密度０．３４ｇ／cm3 、硬度ＪＩＳＡ８
０度、圧縮率６．５％、繊維対一次樹脂対二次樹脂の比
率が１対０．６対０．５であった。この高硬度複合基材
により研磨されたシリコンウェハーの平坦度は良好で、
研磨クロスのライフは１００時間であった。二次含浸液
の配合例は実施例１と同様。 （実施例３） ３．０デニール繊維長７５mmのポリエステル繊維で構成
される、厚さ２mm、嵩密度０．２０g ／cm3 、目付重量
４００g ／ｍ2 のニードルパンチ不織布を基材とし、分
子量２００，０００、１００％モジュラス１２０kg／cm
2 のポリエステル系ポリウレタン樹脂（大日本インキ
（株）商品名：クリスボン８８６７）の固型分９％のＤ
ＭＦ溶液で該基材を十分浸漬含浸した後、ＤＭＦ対純水
の比率が２５％対７５％で、且つ温度が３０℃の凝固液
中に２０分間浸漬し、ポリウレタン樹脂をポーラス状に
湿式凝固させた後、６０分間純水中で洗浄し、ＤＭＦを
純水と完全に置換し、更に１２０℃の熱風で乾燥し、厚
さ２mm、嵩密度０．３０ｇ／cm3 、目付重量６００ｇ／
ｍ2 、ウレタン対繊維の重量比０．５対１の複合基材が
得られた。該基材を８０メッシュのバフロールで表、裏
面を研削し、密度の高いスキン層を除去した。このシー
ト物の硬度はＪＩＳＡで６５度で、圧縮率２２％であっ
た。該シ−ト物を以下の配合の二次含浸液に浸漬含浸
後、１２０℃の熱風で２０分間乾燥、溶剤を完全に乾燥
除去し、該熱硬化性ポリウレタンを上記複合基材中のポ
リウレタン多孔質相のセル壁を被覆しながら硬化させる
ことにより、高硬度複合基材を得た。この複合基材を更
に表、裏面バフ処理した平坦な高硬度複合基材は、厚さ
１．２７mm、嵩密度０．３５ｇ／cm3 、硬度ＪＩＳＡ８
２度、圧縮率６０％、繊維対一次樹脂対二次樹脂の比率
が１対０．５対０．３であった。この高硬度複合基材に
より研磨させたシリコンウェハーの平坦度は良好で、研
磨クロスのライフは１３０時間であった。二次含浸液の
配合例は実施例１と同様。 （実施例４） ３．０デニール、繊維長６０mmのポリエステル繊維と、
２．５デニール、繊維長５０mmの熱収縮型ポリエステル
繊維の比率が８０対２０で構成される、厚さ２mm、嵩密
度０．１５ｇ／cm3 、目付重量３００ｇ／ｍ2 のニード
ルパンチ不織布を基材とし、分子量２００，０００、１
００％モジュラス１２０ｇ／cm2 のポリエステル系ポリ
ウレタン樹脂の固型分１１％のＤＭＦ溶液で該基材を十
分浸漬含浸した後、ＤＭＦ対純水の比率が２０対８０
で、且つ温度が３５℃の凝固液中に２０分間浸漬し、ポ
リウレタン樹脂をポーラス状に湿式凝固させた後、６０
分間純水中で洗浄し、ＤＭＦを純水と完全に置換し、更
に１２０℃の熱風で乾燥し、厚さ２mm、嵩密度０．２６
ｇ／cm2 、目付重量５２０ｇ／ｍ2 、ウレタン対繊維の
重量比０．６対１の複合基材が得られた。該基材を８０
メッシュのバフロールで表、裏面を研削し、密度の高い
スキン層を除去した。このシート物の硬度はＪＩＳＡで
５８度、圧縮率３３％であった。該シート物を以下の配
合の二次含浸液に浸漬含浸後、１２０℃の熱風で２０分
間乾燥し、溶剤を完全に乾燥除去し、該熱硬化性ポリウ
レタンを上記複合基材中のポリウレタン多孔質層中のセ
ル壁を被覆しながら硬化させることにより、高硬度複合
基材を得た。この複合基材を更に表、裏面バフ処理した
平坦な高硬度複合基材は、厚さ１．２７mm、嵩密度０．
３５ｇ／cm3 、硬度ＪＩＳＡ８５度、圧縮率５．０％、
繊維対一次樹脂対二次樹脂の比率が１対０．６対０．５
であった。この高硬度複合基材により研磨されたシリコ
ンウェハーの平坦度は特に良好で、研磨クロスのライフ
は９５時間であった。
【００２０】 二次含浸液の配合例： バイブラセンＢ−８０３（ユニロイヤルＩｎｃ．商品名） １００．０部 イハラキュアミンＭＴ（イハラケミカル（株）商品名） ３２．９部 ＭＥＫ ６０５．０部 計 ７３７．９部 （実施例５） ３．０デニール、繊維長６０mmのポリエステル繊維と、
２．５デニール、繊維長５０mmの熱収縮型ポリエステル
繊維の比率が８０対２０で構成される、厚さ２mm、嵩密
度０．１５ｇ／cm3 、目付重量３００ｇ／ｍ2 のニード
ルパンチ不織布を基材とし、分子量２５０，０００、１
００％モジュラス１８０ｇ／cm2 のポリエステル系ポリ
ウレタン樹脂（サンブレンＬＱ３７００）の固型分９％
のＤＭＦ溶液で該基材を十分浸漬含漬した後、ＤＭＦ対
純水の比率が２０対８０で、且つ温度が３５℃の凝固液
中に２０分間浸漬し、ポリウレタン樹脂をポーラス状に
湿式凝固させた後、６０分間純水中で洗浄し、ＤＭＦを
純水と完全に置換し、更に１２０℃の熱風で乾燥し、厚
さ２mm、嵩密度０．２６ｇ／cm2 、目付重量５２０ｇ／
ｍ2 、ウレタン対繊維の重量比０．６対１の複合基材が
得られた。該基材を８０メッシュのバフロールで表、裏
面を研削し、密度の高いスキン層を除去した。このシー
ト物の硬度はＪＩＳＡで６５度、圧縮率２２％であっ
た。該シート物を実施例１の二次含浸液に浸漬含浸後、
１２０℃の熱風で２０分間乾燥し、溶剤を完全に乾燥除
去し、該熱硬化性ポリウレタンを上記複合基材中のポリ
ウレタン多孔質層中のセル壁を被覆しながら硬化させる
ことにより、高硬度複合基材を得た。この複合基材を更
に表、裏面バフ処理した平坦な高硬度複合基材は、厚さ
１．２７mm、嵩密度０．３５ｇ／cm3 、硬度ＪＩＳＡ８
２度、圧縮率５．６％、繊維対一次樹脂対二次樹脂の比
率が１対０．６対０．５であった。この高硬度複合基材
により研磨させたシリコンウェハーの平坦度は良好で、
研磨クロスのライフは１１０時間であった。 （比較例１） ３．０デニール、繊維長６０mmのポリエステル繊維と、
２．５デニール、繊維長５０mmの熱収縮型ポリエステル
繊維の比率が８０対２０で構成される、厚さ２mm、嵩密
度０．１７５ｇ／cm3 、目付重量３５０ｇ／ｍ2 のニー
ドルパンチ不織布を基材とし、分子量３００，０００、
１００％モジュラス２４０ｇ／cm2 のポリエステル系ポ
リウレタン樹脂（大日本インキ（株）商品名：クリスボ
ン８９６６）の固型分１５％のＤＭＦ溶液で該基材を十
分浸漬含浸した後、ＤＭＦ対純水の比率が２０対８０
で、且つ温度が３５℃の凝固液中に２０分間浸漬し、ポ
リウレタン樹脂をポーラス状に湿式凝固させた後、６０
分間純水中で洗浄し、ＤＭＦを純水と完全に置換し、更
に１２０℃の熱風で乾燥し、厚さ２mm、嵩密度０．３０
ｇ／cm2 、目付重量６００ｇ／ｍ2 、ウレタン対繊維の
重量比０．８対１の複合基材が得られた。該基材を８０
メッシュのバフロールで表、裏面を研削し、密度の高い
スキン層を除去した。このシート物の硬度はＪＩＳＡで
７２度、圧縮率１１％であった。この複合基材により研
磨されたシリコンウェハーの平坦度は面ダレが大きく、
良好とは云えないものであった。
２．５デニール、繊維長５０mmの熱収縮型ポリエステル
繊維の比率が８０対２０で構成される、厚さ２mm、嵩密
度０．１５ｇ／cm3 、目付重量３００ｇ／ｍ2 のニード
ルパンチ不織布を基材とし、分子量２５０，０００、１
００％モジュラス１８０ｇ／cm2 のポリエステル系ポリ
ウレタン樹脂（サンブレンＬＱ３７００）の固型分９％
のＤＭＦ溶液で該基材を十分浸漬含漬した後、ＤＭＦ対
純水の比率が２０対８０で、且つ温度が３５℃の凝固液
中に２０分間浸漬し、ポリウレタン樹脂をポーラス状に
湿式凝固させた後、６０分間純水中で洗浄し、ＤＭＦを
純水と完全に置換し、更に１２０℃の熱風で乾燥し、厚
さ２mm、嵩密度０．２６ｇ／cm2 、目付重量５２０ｇ／
ｍ2 、ウレタン対繊維の重量比０．６対１の複合基材が
得られた。該基材を８０メッシュのバフロールで表、裏
面を研削し、密度の高いスキン層を除去した。このシー
ト物の硬度はＪＩＳＡで６５度、圧縮率２２％であっ
た。該シート物を実施例１の二次含浸液に浸漬含浸後、
１２０℃の熱風で２０分間乾燥し、溶剤を完全に乾燥除
去し、該熱硬化性ポリウレタンを上記複合基材中のポリ
ウレタン多孔質層中のセル壁を被覆しながら硬化させる
ことにより、高硬度複合基材を得た。この複合基材を更
に表、裏面バフ処理した平坦な高硬度複合基材は、厚さ
１．２７mm、嵩密度０．３５ｇ／cm3 、硬度ＪＩＳＡ８
２度、圧縮率５．６％、繊維対一次樹脂対二次樹脂の比
率が１対０．６対０．５であった。この高硬度複合基材
により研磨させたシリコンウェハーの平坦度は良好で、
研磨クロスのライフは１１０時間であった。 （比較例１） ３．０デニール、繊維長６０mmのポリエステル繊維と、
２．５デニール、繊維長５０mmの熱収縮型ポリエステル
繊維の比率が８０対２０で構成される、厚さ２mm、嵩密
度０．１７５ｇ／cm3 、目付重量３５０ｇ／ｍ2 のニー
ドルパンチ不織布を基材とし、分子量３００，０００、
１００％モジュラス２４０ｇ／cm2 のポリエステル系ポ
リウレタン樹脂（大日本インキ（株）商品名：クリスボ
ン８９６６）の固型分１５％のＤＭＦ溶液で該基材を十
分浸漬含浸した後、ＤＭＦ対純水の比率が２０対８０
で、且つ温度が３５℃の凝固液中に２０分間浸漬し、ポ
リウレタン樹脂をポーラス状に湿式凝固させた後、６０
分間純水中で洗浄し、ＤＭＦを純水と完全に置換し、更
に１２０℃の熱風で乾燥し、厚さ２mm、嵩密度０．３０
ｇ／cm2 、目付重量６００ｇ／ｍ2 、ウレタン対繊維の
重量比０．８対１の複合基材が得られた。該基材を８０
メッシュのバフロールで表、裏面を研削し、密度の高い
スキン層を除去した。このシート物の硬度はＪＩＳＡで
７２度、圧縮率１１％であった。この複合基材により研
磨されたシリコンウェハーの平坦度は面ダレが大きく、
良好とは云えないものであった。
【００２１】本実施例の研磨用クロスは、近年の１ＭＤ
ＲＡＭ、あるいは将来の４ＭＤＲＡＭ用ウェハー製造に
適した物性を保有し、ＬＴＶ値が０．８μ以下で、ＰＵ
Ａ値９５％以上の高平坦性ウェハーの供給が可能となっ
たばかりか、研磨屑等による目詰まりのために研磨能力
が短期に低下する欠点のない研磨用クロスを提供するこ
とが出来た。さらに副次効果として、研磨用クロスとし
ての寿命が長い為、新しい研磨用クロスに貼り替え頻度
が格段に少なくなった。
ＲＡＭ、あるいは将来の４ＭＤＲＡＭ用ウェハー製造に
適した物性を保有し、ＬＴＶ値が０．８μ以下で、ＰＵ
Ａ値９５％以上の高平坦性ウェハーの供給が可能となっ
たばかりか、研磨屑等による目詰まりのために研磨能力
が短期に低下する欠点のない研磨用クロスを提供するこ
とが出来た。さらに副次効果として、研磨用クロスとし
ての寿命が長い為、新しい研磨用クロスに貼り替え頻度
が格段に少なくなった。
【００２２】
【発明の効果】本発明の研磨用クロスは、研磨用クロス
に存在する多孔質セルの壁が硬質の樹脂薄膜により被覆
・補強された構造を持つため、研磨用クロスの多孔性
（密度）を大幅に低下させることなくその圧縮弾性率を
高くすることができるので、加工液及び加工屑を保持す
る空間を低下させることなく維持でき、研磨用クロスが
短時間で目詰まりを起こし研磨できなくなることを回避
することができると共に、研磨速度（生産効率）、研磨
布の使用可能時間（作業効率及び生産コスト）を低下さ
せずに被加工物の表面の高平坦性を達成することができ
る。
に存在する多孔質セルの壁が硬質の樹脂薄膜により被覆
・補強された構造を持つため、研磨用クロスの多孔性
（密度）を大幅に低下させることなくその圧縮弾性率を
高くすることができるので、加工液及び加工屑を保持す
る空間を低下させることなく維持でき、研磨用クロスが
短時間で目詰まりを起こし研磨できなくなることを回避
することができると共に、研磨速度（生産効率）、研磨
布の使用可能時間（作業効率及び生産コスト）を低下さ
せずに被加工物の表面の高平坦性を達成することができ
る。
Claims (5)
- 【請求項１】 フェルト状繊維質シート中の構成繊維
が、線状の熱可塑性ポリウレタン樹脂を主体とする重合
体により、埋設的に囲繞されて複合基材が形成されると
ともに、前記複合基材の多孔質相に存在するセルの壁
が、熱可塑性ポリウレタン樹脂より硬質の樹脂の薄膜に
より被覆・補強されていることを特徴とする研磨用クロ
ス。 - 【請求項２】 前記記載の熱可塑性ポリウレタン及びフ
ェルト状繊維質シートからなる複合基材が、二次処理と
して、３、３’ジクロロー４、４’ジアミノジフェニル
メタン等の有機アミン化合物により硬化し得る熱硬化性
ポリウレタン、及び該ポリウレタンの硬化剤としての有
機アミン化合物とを溶解した溶剤溶液を含浸して、該硬
化剤の反応温度以上の温度にて加熱し、溶剤を蒸発させ
て除去すると同時に、ポリウレタンの硬化反応を起こさ
せることによって製造される請求項１記載の研磨用クロ
ス。 - 【請求項３】 前記記載の熱可塑性ポリウレタン及びフ
ェルト状繊維質シートからなる複合基材が、二次処理と
して、３、３’ジクロロー４、４’ジアミノジフェニル
メタン等の有機アミン化合物により硬化し得る熱硬化性
ポリウレタン及びメラミン樹脂、ポリカーボネート樹脂
等をブレンドした樹脂及び該ポリウレタンの硬化剤とし
ての有機アミン化合物とを溶解した溶剤溶液を含浸し
て、該硬化剤の反応温度以上の温度にて加熱し、溶剤を
蒸発させて除去すると同時に、ポリウレタンの硬化反応
を起こさせることによって製造される請求項１記載の研
磨用クロス。 - 【請求項４】 前記記載の熱可塑性ポリウレタン及びフ
ェルト状繊維質シートからなる複合基材が、ポリウレタ
ンと繊維との重量比率が１対５〜１対１の範囲にあるよ
うな複合基材を用いて製造される請求項１乃至３のいず
れかに記載の研磨用クロス。 - 【請求項５】 前記複合基材を形成するのに用いる熱可
塑性ポリウレタンと、該複合基材にさらに含浸、乾燥、
硬化を行う二次処理含浸樹脂との重量比率が１対３〜１
対１にあるような請求項２乃至４のいずれかに記載の研
磨用クロス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3263631A JPH074769B2 (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | 研磨用クロス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3263631A JPH074769B2 (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | 研磨用クロス |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1068389A Division JPH02250776A (ja) | 1989-03-21 | 1989-03-21 | 半導体ウェハー研磨用クロスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH058178A JPH058178A (ja) | 1993-01-19 |
| JPH074769B2 true JPH074769B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=17392192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3263631A Expired - Lifetime JPH074769B2 (ja) | 1991-10-11 | 1991-10-11 | 研磨用クロス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH074769B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007531276A (ja) * | 2004-03-23 | 2007-11-01 | キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション | 成分を満たした複数の孔を有するｃｍｐ多孔質パッド |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6174227B1 (en) | 1997-11-07 | 2001-01-16 | Nikon Corporation | Polishing pad and polishing apparatus using the same |
| KR100563172B1 (ko) * | 1998-06-02 | 2006-03-27 | 퍼리퍼럴 프로덕츠 인크. | 감소된 수분 흡수성을 가지는 개선된 연마 패드 |
| US6533645B2 (en) * | 2000-01-18 | 2003-03-18 | Applied Materials, Inc. | Substrate polishing article |
| JP2002009025A (ja) * | 2000-06-21 | 2002-01-11 | Toray Ind Inc | 研磨パッド |
| JP2004358584A (ja) | 2003-06-03 | 2004-12-24 | Fuji Spinning Co Ltd | 研磨布及び研磨加工方法 |
| JP4555559B2 (ja) * | 2003-11-25 | 2010-10-06 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨布及び研磨布の製造方法 |
| JP2007044858A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-02-22 | Nitta Haas Inc | 研磨布の製造方法および研磨布 |
| KR20060094063A (ko) * | 2006-07-20 | 2006-08-28 | 대원화성 주식회사 | 피연마체 파지용 폴리우레탄패드의 제조방법 |
| TWI349596B (en) | 2007-03-20 | 2011-10-01 | Kuraray Co | Cushion for polishing pad and polishing pad using the same |
| JP2012056032A (ja) * | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Fujibo Holdings Inc | 発泡シート材 |
| JP5639822B2 (ja) * | 2010-09-15 | 2014-12-10 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 保持パッド |
| JP5683194B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2015-03-11 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 保持パッド |
| JP5989393B2 (ja) * | 2012-05-07 | 2016-09-07 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 |
| JP5989394B2 (ja) * | 2012-05-07 | 2016-09-07 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 |
| US11465255B2 (en) | 2015-10-27 | 2022-10-11 | Fujibo Holdings, Inc. | Lapping material and method for producing the same, and method for producing polished product |
| KR102372553B1 (ko) | 2016-06-01 | 2022-03-10 | 후지보 홀딩스 가부시키가이샤 | 연마 패드 및 그의 제조 방법, 그리고 연마물의 제조 방법 |
| KR102305796B1 (ko) * | 2020-02-05 | 2021-09-28 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 연마 장치용 연마 패드, 그의 제조 장치 및 제조 방법 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02250776A (ja) * | 1989-03-21 | 1990-10-08 | Rodeele Nitta Kk | 半導体ウェハー研磨用クロスの製造方法 |
-
1991
- 1991-10-11 JP JP3263631A patent/JPH074769B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007531276A (ja) * | 2004-03-23 | 2007-11-01 | キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション | 成分を満たした複数の孔を有するｃｍｐ多孔質パッド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH058178A (ja) | 1993-01-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH074769B2 (ja) | 研磨用クロス | |
| US20080047205A1 (en) | Method of producing polishing pad | |
| KR101455218B1 (ko) | 연마 패드 | |
| JP5697889B2 (ja) | 平滑加工用シート | |
| EP2123400A1 (en) | Polishing pad and process for production of polishing pad | |
| JP5501722B2 (ja) | 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法 | |
| JPH0525635B2 (ja) | ||
| WO2008029537A1 (en) | Method for production of polishing pad | |
| JP7833872B2 (ja) | 研磨パッド、及び研磨加工物の製造方法 | |
| US7267601B2 (en) | Method of producing polishing cloth | |
| JP4818062B2 (ja) | 研磨布の製造方法 | |
| JP3149340B2 (ja) | 研磨用パッド | |
| JPH10128674A (ja) | 研磨用パッド | |
| JPH1199479A (ja) | 研磨パッド | |
| JP4754921B2 (ja) | 研磨布 | |
| JP2002371154A (ja) | 熱可塑性ポリウレタン発泡体およびその製造方法並びに該発泡体からなる研磨パッド | |
| JP4040293B2 (ja) | シリコンウエハー研磨用シート | |
| JP5091613B2 (ja) | 研磨布 | |
| JP2005335028A (ja) | 精密研磨用の研磨布及びその製造方法 | |
| JP2711469B2 (ja) | 研磨クロスとその養生方法 | |
| JP2004306149A (ja) | 研磨用クロス及びその製造方法 | |
| JP5437894B2 (ja) | 多孔シート状物の製造方法 | |
| JP2002166352A (ja) | 湿式研磨用研磨材 | |
| JP7123721B2 (ja) | 研磨パッド | |
| JPH0357229B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080125 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090125 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100125 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100125 Year of fee payment: 15 |