JPH0748670A - 薄膜磁気ディスク製造用基板ホルダー - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 薄膜磁気ディスクを製造するインライン式ス
パッタ装置において、基板ホルダーを改良することによ
り、磁気特性のばらつきを低減する。 【構成】 フレームに細線を縦横に張り、該細線の交叉
部にディスクの中心孔を支持するハンガーを取り付け
る。前記細線の一端はフレームに固定し、他端はコイル
バネを介してフレームに固定する。前記ハンガーはディ
スクを支える複数のＶ溝と前記細線を保持する複数のＵ
溝を有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、軽合金、ガラス、セラ
ミック、カーボン等の非磁性基板の上にＣｒ等の下地膜
と磁性膜とを含む薄膜磁気ディスクを製造するインライ
ン式スパッタ装置の基板ホルダーの改良に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】コンピュータ用薄膜磁気ディスク装置で
は、近年、その大容量化が強く求められているが、大容
量化を図るためには磁気記録媒体における記録密度を高
めることが必要である。記録密度を高めるためには、磁
気ヘッドの低浮上量化を可能とする平滑な表面を有する
基板、および磁気記録媒体の高保磁力化が求められる。
従来、磁気記録媒体用の基板としてはアルミ基板が用い
られているが、より平滑性に優れた基板としてガラスや
セラミック、カーボン等の非磁性基板を用いることが検
討されている。アルミ基板を用いた場合は通常数１０μ
ｍのＮｉＰメッキ層を設け、その上にＣｒ下地膜、磁性
膜、保護膜をスパッタ装置によって形成する。一般に、
薄膜磁気記録ディスクを量産するスパッタ装置には、図
３に示すようなインライン式のものが多く使用されてい
る。この装置では、大気中でロボットなどにより、ディ
スク基板が図４に示すような基板ホルダーにならべら
れ、予備加熱室で加熱された後、スパッタによって薄膜
がディスク基板上に形成される。ディスク基板と基板ホ
ルダーを加熱する理由は、大気中で吸着したガス等がス
パッタ時に膜中に取り込まれるのを防止するためと考え
られている。大気中で吸着したガス等が膜中に取り込ま
れると膜の特性が劣化する。加熱は、これらガスを予め
離脱させるためと基板上に形成される膜の特性を上げる
ためである。特に真空内で、水の量をいかに制御するか
が重要である。（特開昭６４−１４７３０号参照）

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の実際と
しては、基板上に形成される膜の特性を制御するため
や、基板が熱による変形を起こさないために、温度およ
び加熱時間の上限が決まってしまい、市販されている熱
容量の大きな基板ホルダーだと基板ホルダー自体の加熱
が不十分である。そのため、基板ホルダーに吸着してい
た水分が予備加熱で十分にとられず、スパッタ時に膜中
に取り込まれ膜の特性を劣化させ、特性ばらつきの原因
となる。基板ホルダーの熱容量を下げるためには、基板
ホルダーの厚さを薄くすればよいが、熱により基板ホル
ダーが変形するという新たな問題が生じる。また、図４
に示すように、従来の基板ホルダーはアルミ合金の平板
にディスクを装着する孔を多数形成し、各孔の下部円周
部にＶ溝等を形成する。そして、このＶ溝にディスクの
外周部を落し込むことにより支持するため、支持部近傍
はスパッタにおいてＶ溝の影となり、正常な膜が形成で
きない。そのため、従来、最外周部は記録領域として利
用できなかった。本発明の目的は、上記従来基板ホルダ
ーの欠点を解消し、最近の高記録密度化に対応できるよ
うな１４００Ｏｅ以上もの十分な保磁力を有し、かつこ
れら磁気記録媒体の特性ばらつきが小さい薄膜磁気ディ
スクを製造するための基板ホルダーを提供することであ
る。また、最外周部まで記録領域として利用できる薄膜
磁気ディスクを製造するための基板ホルダーを提供する
ことである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明では複数枚のディ
スク基板を基板ホルダー上に並べて、スパッタチャンバ
ー内を通過させ、順次ディスク基板上に膜を積層するイ
ンライン式スパッタ装置の基板ホルダーにおいて、フレ
ームに細線を縦横に張り、該細線の交叉部にディスクの
中心孔を支持するハンガーを取り付ける。前記細線の一
端はフレームに固定し、他端はコイルバネを介してフレ
ームに固定する。前記ハンガーはディスクを支える複数
のＶ溝と前記細線を保持する複数のＵ溝を有する。

【０００５】

【作用】本発明によれば、基板ホルダーを細線とハンガ
ーで構成することにより、熱容量は極めて小さく、従っ
て、短時間で十分に加熱され、基板ホルダーに吸着した
水等のガスは速やかに除去される。さらに基板ホルダー
自体の表面積、質量が小さいため、すなわち余分なもの
が真空チャンバー内に入らないため、所望の真空状態を
速やかに作り出すことができる。以上の作用により、水
の混入による膜の特性劣化、ばらつきを防ぐことができ
る。また、本発明の基板ホルダーはディスクの中心孔を
支持するため、ディスクの最外周まで膜を形成すること
ができる。そのため、従来の外周支持の基板ホルダーで
は利用できなかった最外周も記録領域として利用するこ
とができ、記憶容量が増加する。また、熱膨張による細
線の伸縮は細線の一端に設けたコイルバネが吸収し、縦
横に張られた細線で構成されたネットは張力が作用して
いるため、常に平面を保つことができる。

【０００６】

【実施例】以下、本発明の実施例について図１から図７
に基づいて詳述する。図１は本発明の基板ホルダーの全
体構成図を示す。図２、図５はディスクの中心孔を支持
するハンガーを示す。フレーム１はディスクを保持し、
スパッタ装置内を循環して移送される。そのため、上下
端はＶ溝２が形成され、移送機構のガイドとなる。

【０００７】フレーム１はその中空部に複数の細線１
１、１２を縦横に張る。細線１１、１２の一端はフレー
ム１の内側に固定する。他端はコイルバネ１３を介し
て、対向するフレーム１の内側に固定する。一方、ハン
ガー２０は図２に示すように、ディスク３０の中心孔３
１を支持するための複数のＶ溝２１と細線１１、１２を
保持するための微細なＵ溝２２を化学エッチング、ワイ
ヤカット、レーザー加工等により形成する。

【０００８】ハンガー２０に設けたＵ溝２２のなかで、
左右のＵ溝２２は水平に張られた細線１１に係合し、下
部のＵ溝２２は垂直に張られた細線１２に係合する。

【０００９】図５は機械加工で形成したハンガー４０を
示す。円筒状に形成したハンガー４０の一端には、ディ
スク３０の中心孔３１を支持するためのＶ型連続溝４１
を形成し、他端には上下部２ケ所に垂直の細線１２に係
合する微細なＵ溝４２を、さらに左右部には水平の細線
１１を保持するための、屈曲した溝４３を形成する。

【００１０】図６は本発明による基板ホルダーと従来の
ものを使用した場合のホルダー内の各位置で成膜された
ディスクの保磁力の分布を示す。図７は図６のＸ軸に示
された番号とホルダー内の位置の対応を示す。本発明に
よる基板ホルダーの場合、熱容量が小さいため、速やか
に加熱が進み、保磁力の平均値は大きくなる。また、保
磁力のばらつきも小さくなる。

【発明の効果】本発明によれば、記録密度の高いディス
クを保磁力のばらつきを小さくして生産することがで
き、製品の歩留は向上する。また、ディスクの外周部ま
で磁性媒体を製膜でき、記録領域として有効に利用でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例を示す。

【図２】本発明の実施例１のハンガー部の詳細を示す。

【図３】インライン式スパッタ装置の模式図を示す。

【図４】従来の基板ホルダーを示す。

【図５】本発明の実施例２のハンガー部の詳細を示す。

【図６】本発明の実施例と従来のものを使用した場合の
ディスク保磁力の比較を示す。

【図７】図６のＸ軸の番号とホルダー内位置の対応図を
示す。

【符号の説明】

１ フレーム １１ 水平細線 １２ 垂直細線 １３ コイルバネ ２０ ハンガー ３０ ディスク

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数枚のディスク基板を基板ホルダー上
   に並べて、スパッタチャンバー内を通過させ、順次ディ
   スク基板上に膜を積層するインライン式スパッタ装置の
   基板ホルダーにおいて、フレームに細線を縦横に張り、
   該細線の交叉部にディスクの中心孔を支持するハンガー
   を取り付けたことを特徴とする薄膜磁気ディスク製造用
   基板ホルダー。
2. 【請求項２】 前記細線の一端はフレームに固定し、他
   端はコイルバネを介してフレームに固定したことを特徴
   とする請求項１記載の薄膜磁気ディスク製造用基板ホル
   ダー。
3. 【請求項３】 前記ハンガーはディスクを支える複数の
   Ｖ溝と前記細線を保持する複数のＵ溝を有することを特
   徴とする請求項１記載の薄膜磁気ディスク製造用基板ホ
   ルダー。