JPH06195706A - 薄膜磁気記録ディスクの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気記録ディスクの製造方法Info
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- JPH06195706A JPH06195706A JP34578492A JP34578492A JPH06195706A JP H06195706 A JPH06195706 A JP H06195706A JP 34578492 A JP34578492 A JP 34578492A JP 34578492 A JP34578492 A JP 34578492A JP H06195706 A JPH06195706 A JP H06195706A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 最近の高記録密度化に対応できるような１４
００Ｏｅ以上もの十分な保磁力を有し、かつこれら磁気
記録媒体の特性ばらつきが小さい薄膜磁気記録ディスク
の製造方法を提供すること。 【構成】 複数個のディスク基板を基板ホルダー上に並
べてインライン式スパッタ装置を通過させて膜を順次デ
ィスク基板上に積層させて形成する場合に、前記基板ホ
ルダーのディスク載置面の面積Ｓ（単位：平方ｍｍ）と
基板厚みｔ（単位：ｍｍ）とがつぎの関係式： ０．２ｘＳ1/2≦１００ｔ≦０．８ｘＳ1/2 を満足するものとする。
００Ｏｅ以上もの十分な保磁力を有し、かつこれら磁気
記録媒体の特性ばらつきが小さい薄膜磁気記録ディスク
の製造方法を提供すること。 【構成】 複数個のディスク基板を基板ホルダー上に並
べてインライン式スパッタ装置を通過させて膜を順次デ
ィスク基板上に積層させて形成する場合に、前記基板ホ
ルダーのディスク載置面の面積Ｓ（単位：平方ｍｍ）と
基板厚みｔ（単位：ｍｍ）とがつぎの関係式： ０．２ｘＳ1/2≦１００ｔ≦０．８ｘＳ1/2 を満足するものとする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、軽合金、ガラス、セラ
ミック、カーボン等の非磁性基板の上にＣｒ等の下地膜
と磁性膜とを含む薄膜磁気記録ディスクの製造方法の改
良に関するものである。特に、インライン式スパッタ装
置を利用する場合に、ディスク基板を装着する基板ホル
ダ−を改良するものである。
ミック、カーボン等の非磁性基板の上にＣｒ等の下地膜
と磁性膜とを含む薄膜磁気記録ディスクの製造方法の改
良に関するものである。特に、インライン式スパッタ装
置を利用する場合に、ディスク基板を装着する基板ホル
ダ−を改良するものである。
【０００２】
【従来の技術】コンピュター用薄膜磁気記録ディスク装
置では、近年その大容量化が強く求められているが、大
容量化を図るためには磁気記録媒体における記録密度を
高めることが必要である。記録密度を高めるためには、
磁気ヘッドの低浮上量化を可能とする平滑な表面を有す
る基板、および磁気記録媒体の高保磁力化が求められて
いる。従来磁気記録媒体用の基板としてはアルミ基板が
用いられているが、より平滑性に優れた基板としてガラ
スやセラミック、カーボン等の非磁性基板を用いること
が検討されている。アルミ基板を用いた場合は通常数１
０μｍのＮｉＰめっき層を設け、その上にＣｒ下地膜、
磁性膜、保護膜をスパッタ装置によって形成する。一般
に、薄膜磁気記録ディスクを量産するスパッタ装置に
は、図１に示すようなインライン式のものが多く使用さ
れている。この装置では、大気中でディスク基板が基板
ホルダ−にならべられ、予備加熱室で加熱された後、ス
パッタによって薄膜がディスク基板上に形成される。デ
ィスク基板と基板ホルダ−を加熱する理由は、大気中で
吸着したガス等がスパッタ時に膜中に取り込まれるのを
防止するためと考えられている。大気中で吸着したガス
等が膜中に取り込まれると膜の特性が劣化する。加熱
は、これらガスを予め脱離させるためと基板上に形成さ
れる膜の特性を上げるためである。特に真空内で、水の
量をいかに制御するかが重要である(特開昭６４−１４
７３０号参照)。
置では、近年その大容量化が強く求められているが、大
容量化を図るためには磁気記録媒体における記録密度を
高めることが必要である。記録密度を高めるためには、
磁気ヘッドの低浮上量化を可能とする平滑な表面を有す
る基板、および磁気記録媒体の高保磁力化が求められて
いる。従来磁気記録媒体用の基板としてはアルミ基板が
用いられているが、より平滑性に優れた基板としてガラ
スやセラミック、カーボン等の非磁性基板を用いること
が検討されている。アルミ基板を用いた場合は通常数１
０μｍのＮｉＰめっき層を設け、その上にＣｒ下地膜、
磁性膜、保護膜をスパッタ装置によって形成する。一般
に、薄膜磁気記録ディスクを量産するスパッタ装置に
は、図１に示すようなインライン式のものが多く使用さ
れている。この装置では、大気中でディスク基板が基板
ホルダ−にならべられ、予備加熱室で加熱された後、ス
パッタによって薄膜がディスク基板上に形成される。デ
ィスク基板と基板ホルダ−を加熱する理由は、大気中で
吸着したガス等がスパッタ時に膜中に取り込まれるのを
防止するためと考えられている。大気中で吸着したガス
等が膜中に取り込まれると膜の特性が劣化する。加熱
は、これらガスを予め脱離させるためと基板上に形成さ
れる膜の特性を上げるためである。特に真空内で、水の
量をいかに制御するかが重要である(特開昭６４−１４
７３０号参照)。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の実際と
しては、基板上に形成される膜の特性を制御するため
や、基板が熱による変形を起こさないために、加熱条件
の上限が決まってしまい、市販されている熱容量の大き
な基板ホルダ−だと基板ホルダ−自体の加熱が不十分で
ある。そのため、基板ホルダ−に吸着していた水分が予
備加熱で十分にとられず、スパッタ時に膜中に取り込ま
れ膜の特性を劣化させ、特性ばらつきの原因となる。本
発明の目的は、上記従来技術の欠点を解消し、最近の高
記録密度化に対応できるような１４００Ｏｅ以上もの十
分な保磁力を有し、かつこれら磁気記録媒体の特性ばら
つきが小さい薄膜磁気記録ディスクの製造方法を提供す
ることにある。
しては、基板上に形成される膜の特性を制御するため
や、基板が熱による変形を起こさないために、加熱条件
の上限が決まってしまい、市販されている熱容量の大き
な基板ホルダ−だと基板ホルダ−自体の加熱が不十分で
ある。そのため、基板ホルダ−に吸着していた水分が予
備加熱で十分にとられず、スパッタ時に膜中に取り込ま
れ膜の特性を劣化させ、特性ばらつきの原因となる。本
発明の目的は、上記従来技術の欠点を解消し、最近の高
記録密度化に対応できるような１４００Ｏｅ以上もの十
分な保磁力を有し、かつこれら磁気記録媒体の特性ばら
つきが小さい薄膜磁気記録ディスクの製造方法を提供す
ることにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】基板ホルダ−が短時間で
十分加熱され、一定温度、例えば175℃以上になるよう
に、基板ホルダ−の熱容量を低減した。熱容量を低減す
るには以下の二つの方法がある。ひとつは、基板ホルダ
−の薄肉化すること、もうひとつは、比熱の小さな材料
を使う方法である。本発明では、複数個のディスク基板
を基板ホルダー上に並べてインライン式スパッタ装置を
通過させて膜を順次ディスク基板上に積層させて形成す
る場合に、前記基板ホルダーのディスク載置面の面積Ｓ
（単位：平方ｍｍ）と基板厚みｔ（単位：ｍｍ）とがつ
ぎの関係式： ０．２ｘＳ1/2≦１００ｔ≦０．８ｘＳ1/2 を満足するものとすることで、課題を解決する。１００
ｔが０．２ｘＳ1/2より小さいと作成した磁気ディスク
にソリなどの問題を発生しやすいし、逆に０．８ｘＳ
1/2より大きいと本発明の効果が得られない。特に、好
ましくは、ディスク基板が軽合金、ガラス、セラミッ
ク、カーボン等の非磁性基板であり、その上に形成する
薄膜にはＣｒ等の下地膜と磁性膜と保護膜を含むもので
ある薄膜磁気記録ディスクの製造方法である。更に、好
ましくは、磁性膜がＣｏ基合金である薄膜磁気記録ディ
スクの製造方法である。
十分加熱され、一定温度、例えば175℃以上になるよう
に、基板ホルダ−の熱容量を低減した。熱容量を低減す
るには以下の二つの方法がある。ひとつは、基板ホルダ
−の薄肉化すること、もうひとつは、比熱の小さな材料
を使う方法である。本発明では、複数個のディスク基板
を基板ホルダー上に並べてインライン式スパッタ装置を
通過させて膜を順次ディスク基板上に積層させて形成す
る場合に、前記基板ホルダーのディスク載置面の面積Ｓ
（単位：平方ｍｍ）と基板厚みｔ（単位：ｍｍ）とがつ
ぎの関係式： ０．２ｘＳ1/2≦１００ｔ≦０．８ｘＳ1/2 を満足するものとすることで、課題を解決する。１００
ｔが０．２ｘＳ1/2より小さいと作成した磁気ディスク
にソリなどの問題を発生しやすいし、逆に０．８ｘＳ
1/2より大きいと本発明の効果が得られない。特に、好
ましくは、ディスク基板が軽合金、ガラス、セラミッ
ク、カーボン等の非磁性基板であり、その上に形成する
薄膜にはＣｒ等の下地膜と磁性膜と保護膜を含むもので
ある薄膜磁気記録ディスクの製造方法である。更に、好
ましくは、磁性膜がＣｏ基合金である薄膜磁気記録ディ
スクの製造方法である。
【０００５】
【作用】金属表面に吸着された水は、物理吸着として取
り扱う事が出来る。水の金属表面への吸着エネルギ−
は、約22.4kcal/molといわれている。この水をベ−キン
グで取り去るには、約175℃以上の加熱が必要とされる
（JP.Hobson 1961 AVS Symp.Trans.(1962)26）。基板ホ
ルダ−の熱容量を低減することにより、基板を過剰加熱
することなしに素早くこの温度以上に基板ホルダ−を加
熱でき、予備加熱の段階で水が除去できる。以上の作用
により、水の混入による膜の特性劣化、ばらつきを防ぐ
ことが出来る。
り扱う事が出来る。水の金属表面への吸着エネルギ−
は、約22.4kcal/molといわれている。この水をベ−キン
グで取り去るには、約175℃以上の加熱が必要とされる
（JP.Hobson 1961 AVS Symp.Trans.(1962)26）。基板ホ
ルダ−の熱容量を低減することにより、基板を過剰加熱
することなしに素早くこの温度以上に基板ホルダ−を加
熱でき、予備加熱の段階で水が除去できる。以上の作用
により、水の混入による膜の特性劣化、ばらつきを防ぐ
ことが出来る。
【０００６】
【実施例】以下、本発明について実施例及び比較例等に
ついて詳述する。但し本発明の範囲が、これらの実施例
により限定されるものではない。 （実施例１）３．５インチアルミニウム合金ディスク基
板（外径95mm、内径25mm、厚み1.27mm）を市販のアルミ
ニウム合金性基板ホルダ−（830mm×780mm 厚み6.5mm）
に３６枚大気中で図２に示すように装着する。次に、図
１に示すように予備加熱室に送り込み真空引きした後、
３分間第一ヒ−タにより加熱する。この時の基板温度と
基板ホルダ−の温度分布を図３に示す。次に真空に排気
してあるスパッタ室に送り第二ヒ−タで二分間加熱を行
った。この加熱中での水の真空チャンバ−内での分圧を
図４に示す。時間と共に水の分圧が上昇していることが
分かる。これは、第一加熱室で加熱されたものの、基板
ホルダ−の熱容量が大きく、温度が低いために、水のベ
−キングが完全に行われなかったためである。この状態
で、Ａｒガスを導入してスパッタ室内を 2.66 Paに保持
し、Ｃｒ、ＣｏＣｒＴａをスパッタした。この時の、基
板ホルダ−内でのディスクの保磁力分布を図５に示す。
保磁力特性にばらつきが生じている。
ついて詳述する。但し本発明の範囲が、これらの実施例
により限定されるものではない。 （実施例１）３．５インチアルミニウム合金ディスク基
板（外径95mm、内径25mm、厚み1.27mm）を市販のアルミ
ニウム合金性基板ホルダ−（830mm×780mm 厚み6.5mm）
に３６枚大気中で図２に示すように装着する。次に、図
１に示すように予備加熱室に送り込み真空引きした後、
３分間第一ヒ−タにより加熱する。この時の基板温度と
基板ホルダ−の温度分布を図３に示す。次に真空に排気
してあるスパッタ室に送り第二ヒ−タで二分間加熱を行
った。この加熱中での水の真空チャンバ−内での分圧を
図４に示す。時間と共に水の分圧が上昇していることが
分かる。これは、第一加熱室で加熱されたものの、基板
ホルダ−の熱容量が大きく、温度が低いために、水のベ
−キングが完全に行われなかったためである。この状態
で、Ａｒガスを導入してスパッタ室内を 2.66 Paに保持
し、Ｃｒ、ＣｏＣｒＴａをスパッタした。この時の、基
板ホルダ−内でのディスクの保磁力分布を図５に示す。
保磁力特性にばらつきが生じている。
【０００７】（比較例１）次に、実施例１と同様の処理
をしたディスク基板を薄肉化（厚さ3.6mm）によって熱
容量を低減した基板ホルダ−にセットした。この時の基
板温度と基板ホルダ−の温度分布を図６に示す。加熱条
件は実施例１と同じである。基板ホルダ−が基板とほぼ
同じ温度になり175℃以上に加熱されていることが分か
る。次に、水の真空チャンバ−内での分圧を図７に示
す。水の分圧は上昇していない。予備加熱室で、水のベ
−キングが充分に行われていることが分かる。この状態
で、Ａｒガスを導入してスパッタ室内を 2.66 Paに保持
し、Ｃｒ、ＣｏＣｒＴａをスパッタした。この時の、基
板ホルダ−内での保磁力分布を図８に示す。保磁力のば
らつきが著しく低減していることが分かる。
をしたディスク基板を薄肉化（厚さ3.6mm）によって熱
容量を低減した基板ホルダ−にセットした。この時の基
板温度と基板ホルダ−の温度分布を図６に示す。加熱条
件は実施例１と同じである。基板ホルダ−が基板とほぼ
同じ温度になり175℃以上に加熱されていることが分か
る。次に、水の真空チャンバ−内での分圧を図７に示
す。水の分圧は上昇していない。予備加熱室で、水のベ
−キングが充分に行われていることが分かる。この状態
で、Ａｒガスを導入してスパッタ室内を 2.66 Paに保持
し、Ｃｒ、ＣｏＣｒＴａをスパッタした。この時の、基
板ホルダ−内での保磁力分布を図８に示す。保磁力のば
らつきが著しく低減していることが分かる。
【０００８】
【発明の効果】本発明は、以上記述のような構成及び作
用であるから、基板ホルダ−の熱容量低減により、膜の
特性劣化、ばらつきを防ぐことが出来る。
用であるから、基板ホルダ−の熱容量低減により、膜の
特性劣化、ばらつきを防ぐことが出来る。
【図１】インライン式スパッタ装置概略図である。
【図２】市販基板ホルダ−概略図である。
【図３】市販基板ホルダ−を使用したときのディスク及
びホルダ−の温度分布を示す図である。
びホルダ−の温度分布を示す図である。
【図４】市販基板ホルダ−を使用したときの真空チャン
バ−内での水の分圧を示す図である。
バ−内での水の分圧を示す図である。
【図５】市販基板ホルダ−を使用したときの保磁力分布
を示す図である。
を示す図である。
【図６】薄肉化により低熱容量化をはかった基板ホルダ
−を使用したときのディスク及びホルダ−の温度分布を
示す図である。
−を使用したときのディスク及びホルダ−の温度分布を
示す図である。
【図７】低熱容量基板ホルダ−を使用したときの真空チ
ャンバ−内での水の分圧を示す図である。
ャンバ−内での水の分圧を示す図である。
【図８】低熱容量基板ホルダ−を使用したときの保磁力
分布を示す図である。
分布を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 篠原 肇 埼玉県熊谷市三ケ尻5200番地日立金属株式 会社磁性材料研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 複数個のディスク基板を基板ホルダー上
に並べてインライン式スパッタ装置を通過させて膜を順
次ディスク基板上に積層させて形成する場合に、前記基
板ホルダーのディスク載置面の面積Ｓ（単位：平方ｍ
ｍ）と基板厚みｔ（単位：ｍｍ）とがつぎの関係式： ０．２ｘＳ1/2≦１００ｔ≦０．８ｘＳ1/2 を満足するものとした薄膜磁気記録ディスクの製造方
法。 - 【請求項２】 ディスク基板が軽合金、ガラス、セラミ
ック、カーボン等の非磁性基板であり、その上に形成す
る膜としてＣｒ等の下地膜と磁性膜と保護膜を含むもの
である請求項１の薄膜磁気記録ディスクの製造方法。 - 【請求項３】 磁性膜がＣｏ基合金である請求項２の薄
膜磁気記録ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34578492A JPH06195706A (ja) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 薄膜磁気記録ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34578492A JPH06195706A (ja) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 薄膜磁気記録ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06195706A true JPH06195706A (ja) | 1994-07-15 |
Family
ID=18378957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34578492A Pending JPH06195706A (ja) | 1992-12-25 | 1992-12-25 | 薄膜磁気記録ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06195706A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010106350A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Canon Anelva Corp | 薄膜形成装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
-
1992
- 1992-12-25 JP JP34578492A patent/JPH06195706A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010106350A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Canon Anelva Corp | 薄膜形成装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
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