JPH0749270A - 温度センサ - Google Patents
温度センサInfo
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- JPH0749270A JPH0749270A JP5235981A JP23598193A JPH0749270A JP H0749270 A JPH0749270 A JP H0749270A JP 5235981 A JP5235981 A JP 5235981A JP 23598193 A JP23598193 A JP 23598193A JP H0749270 A JPH0749270 A JP H0749270A
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- temperature
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/26—Measuring radiation intensity with resistance detectors
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01K7/00—Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements
- G01K7/34—Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements using capacitative elements
- G01K7/343—Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements using capacitative elements the dielectric constant of which is temperature dependant
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ダイヤモド型材料から形成され、電離放射並
びに温度変化に高速応答し、温度補放射測定装置に使用
されるのにも適した温度センサを提供する。 【構成】 温度センサは、絶縁ダイヤモンド型材料の本
体20とこの本体に取り付けられたかつ間隔を挟む1対
の電気接点を含む。本体20がこれらの接点間に所定の
厚さを有し、かつこれらの接点は所定の面積を有し、し
たがって、このセンサがこれらの接点間に温度依存性の
この厚さと面積に 相当するキャパシタンスを有す
る。本体20は、ダイヤモンド型結晶を含むか又は化学
気相成長プロセスによって基板22上に堆積された層で
ある。後者の場合、基板22は半導体シリコン層でよ
く、この層はこれらの接点の1つとして働く。他の接点
は、金属接点24であるか又はドープトアモルファス半
導体材料を含む層である。
びに温度変化に高速応答し、温度補放射測定装置に使用
されるのにも適した温度センサを提供する。 【構成】 温度センサは、絶縁ダイヤモンド型材料の本
体20とこの本体に取り付けられたかつ間隔を挟む1対
の電気接点を含む。本体20がこれらの接点間に所定の
厚さを有し、かつこれらの接点は所定の面積を有し、し
たがって、このセンサがこれらの接点間に温度依存性の
この厚さと面積に 相当するキャパシタンスを有す
る。本体20は、ダイヤモンド型結晶を含むか又は化学
気相成長プロセスによって基板22上に堆積された層で
ある。後者の場合、基板22は半導体シリコン層でよ
く、この層はこれらの接点の1つとして働く。他の接点
は、金属接点24であるか又はドープトアモルファス半
導体材料を含む層である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ダイヤモンド型材料か
ら形成される温度センサであって、温度に感応性であり
かつ電離放射又は中性子放射にもまた感応性である温度
センサに関する。
ら形成される温度センサであって、温度に感応性であり
かつ電離放射又は中性子放射にもまた感応性である温度
センサに関する。
【0002】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、温度セ
ンサは、絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの本体に
取り付けられた1対のかつ間隔を挟む電気接点を含み、
このダイヤモンド型材料の本体はこれら接点間に所定の
厚さを有し、かつこれらの接点は所定の面積を有し、し
たがって、前記センサが前記接点間に温度依存性である
(この厚さ及び面積に)相当するキャパシタンスを有す
る。
ンサは、絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの本体に
取り付けられた1対のかつ間隔を挟む電気接点を含み、
このダイヤモンド型材料の本体はこれら接点間に所定の
厚さを有し、かつこれらの接点は所定の面積を有し、し
たがって、前記センサが前記接点間に温度依存性である
(この厚さ及び面積に)相当するキャパシタンスを有す
る。
【0003】このダイヤモンド型材料の本体は、型式I
a、Ib又はIIa天然又は合成ダイヤモンド型結晶を
含むことがある。
a、Ib又はIIa天然又は合成ダイヤモンド型結晶を
含むことがある。
【0004】このダイヤモンド型材料の本体は、更に、
化学気相成長プロセスによって堆積された非ドープトダ
イヤモンド型材料の層を含むことがある。
化学気相成長プロセスによって堆積された非ドープトダ
イヤモンド型材料の層を含むことがある。
【0005】このダイヤモンド型材料の層は、導体基板
又は半導体基板上に堆積されることがある。
又は半導体基板上に堆積されることがある。
【0006】この基板は、ドープトシリコンを含むこと
がある。
がある。
【0007】このドープトシリコン基板は、電気接点の
1つとして機能することができる。
1つとして機能することができる。
【0008】これらの電気接点の少なくとも1つは、金
属であってよく、かつ、例えば、チタン、アルミニウ
ム、ニッケル、又はクロムを含むことがある。
属であってよく、かつ、例えば、チタン、アルミニウ
ム、ニッケル、又はクロムを含むことがある。
【0009】これらの電気接点の少なくとも1つは、こ
のダイヤモンド型材料の本体上に堆積されたドープトア
モルファス半導体材料を含むことがある。
のダイヤモンド型材料の本体上に堆積されたドープトア
モルファス半導体材料を含むことがある。
【0010】本発明は温度測定装置へ拡張し、この装置
は上に定義された温度センサを含み及び更に発振器回路
を含み、この発振器の出力周波数がこのセンサの温度と
共に変動するようにこのセンサがこの回路に帰還素子と
して接続される。
は上に定義された温度センサを含み及び更に発振器回路
を含み、この発振器の出力周波数がこのセンサの温度と
共に変動するようにこのセンサがこの回路に帰還素子と
して接続される。
【0011】本発明は更に放射測定装置へ拡張し、この
装置は本発明の温度センサを含み、更に、所定の充電速
度でこのセンサに電荷を印加する充電手段、及びこのセ
ンサ上のその結果の電圧を監視する監視手段を含み、こ
れによってこのセンサへ入射する電離放射の強度を測定
する。
装置は本発明の温度センサを含み、更に、所定の充電速
度でこのセンサに電荷を印加する充電手段、及びこのセ
ンサ上のその結果の電圧を監視する監視手段を含み、こ
れによってこのセンサへ入射する電離放射の強度を測定
する。
【0012】本発明はなお更に放射測定装置へ拡張し、
この装置は本発明のセンサを含み、更に、このセンサへ
入射する電離放射に起因するパルス又は導通モード電気
出力信号を測定しかつこれに相当する第1電気信号を発
生するパルス又は導通モード測定手段、温度の関数とし
てこのセンサのキャパシタンスを測定しかつこれに相当
する第2電気信号を発生するキャパシタンス測定手段、
及び第1、第2電気信号に応答してこのセンサへ入射す
る電離放射の強度に相当する出力信号を発生し、このセ
ンサの温度変化を補償する補償手段を含む。
この装置は本発明のセンサを含み、更に、このセンサへ
入射する電離放射に起因するパルス又は導通モード電気
出力信号を測定しかつこれに相当する第1電気信号を発
生するパルス又は導通モード測定手段、温度の関数とし
てこのセンサのキャパシタンスを測定しかつこれに相当
する第2電気信号を発生するキャパシタンス測定手段、
及び第1、第2電気信号に応答してこのセンサへ入射す
る電離放射の強度に相当する出力信号を発生し、このセ
ンサの温度変化を補償する補償手段を含む。
【0013】本発明は、加えて、温度測定方法へ拡張
し、この方法は絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの
本体に取り付けられたかつ間隔を挟む1対の電気接点を
含む温度センサであって、ダイヤモンド型材料のこの本
体がこれらの接点間に所定の厚さを有し、かつこれらの
接点が所定の面積を有し、したがって、このセンサが、
これらの接点間に、温度依存性の この厚さと面積に
相当するキャパシタンスを有するこの本体を提供するス
テップ、このセンサを測定される環境内又は物体に対し
て配置するステップ、これらの接点間のキャパシタンス
又はこれに関連するパラメータを測定するステップ、及
びその環境又は物体の温度を測定するために測定された
キャパシタンス又は電気的パラメータを基準キャパシタ
ンス又は電気パラメータに関連させるステップを含む。
し、この方法は絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの
本体に取り付けられたかつ間隔を挟む1対の電気接点を
含む温度センサであって、ダイヤモンド型材料のこの本
体がこれらの接点間に所定の厚さを有し、かつこれらの
接点が所定の面積を有し、したがって、このセンサが、
これらの接点間に、温度依存性の この厚さと面積に
相当するキャパシタンスを有するこの本体を提供するス
テップ、このセンサを測定される環境内又は物体に対し
て配置するステップ、これらの接点間のキャパシタンス
又はこれに関連するパラメータを測定するステップ、及
びその環境又は物体の温度を測定するために測定された
キャパシタンス又は電気的パラメータを基準キャパシタ
ンス又は電気パラメータに関連させるステップを含む。
【0014】この方法は、このセンサを発振器回路内の
帰還素子として接続し、及びこのセンサによって測定さ
れた温度変動をこの発振器回路の発振周波数の対応する
変動に関連させることを含む。
帰還素子として接続し、及びこのセンサによって測定さ
れた温度変動をこの発振器回路の発振周波数の対応する
変動に関連させることを含む。
【0015】本発明は、放射測定方法を含み、この方法
は絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの本体に取り付
けられたかつ間隔を挟む1対の電気接点を含む温度セン
サであって、ダイヤモンド型材料のこの本体がこれらの
接点間に所定の厚さを有し、かつこれらの接点が所定の
面積を有し、したがって、このセンサが、これらの接点
間に、温度依存性の この厚さと面積に 相当するキャ
パシタンスを有するこの本体を提供するステップ、所定
の充電速度でこのセンサに電荷を印加する充電ステップ
手段、及びこのセンサ上のその結果の電圧を監視し、こ
れによってこのセンサ上へ入射する電離放射の強度を測
定するステップを含む。
は絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの本体に取り付
けられたかつ間隔を挟む1対の電気接点を含む温度セン
サであって、ダイヤモンド型材料のこの本体がこれらの
接点間に所定の厚さを有し、かつこれらの接点が所定の
面積を有し、したがって、このセンサが、これらの接点
間に、温度依存性の この厚さと面積に 相当するキャ
パシタンスを有するこの本体を提供するステップ、所定
の充電速度でこのセンサに電荷を印加する充電ステップ
手段、及びこのセンサ上のその結果の電圧を監視し、こ
れによってこのセンサ上へ入射する電離放射の強度を測
定するステップを含む。
【0016】本発明は、放射測定方法を含み、この方法
は絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの本体に取り付
けられたかつ間隔を挟む1対の電気接点を含む温度セン
サであって、ダイヤモンド型材料のこの本体がこれらの
接点間に所定の厚さを有し、かつこれらの接点が所定の
面積を有し、したがって、このセンサが、これらの接点
間に、温度依存性の この厚さと面積に 相当するキャ
パシタンスを有するこの本体を提供するステップ、この
センサを電離放射に晒すステップ、この電離放射に起因
するパルス又は導通モード電気信号を測定しかつこれに
相当する第1電気出力信号を発生するステップ、温度の
関数としてこのセンサのキャパシタンスを測定しかつこ
れに相当する第2電気出力信号を発生するステップ、及
び温度変化を補償されるこのセンサへ入射する電離放射
の強度に相当する出力信号を発生するために第1、第2
電気出力信号を処理するステップを含む。
は絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの本体に取り付
けられたかつ間隔を挟む1対の電気接点を含む温度セン
サであって、ダイヤモンド型材料のこの本体がこれらの
接点間に所定の厚さを有し、かつこれらの接点が所定の
面積を有し、したがって、このセンサが、これらの接点
間に、温度依存性の この厚さと面積に 相当するキャ
パシタンスを有するこの本体を提供するステップ、この
センサを電離放射に晒すステップ、この電離放射に起因
するパルス又は導通モード電気信号を測定しかつこれに
相当する第1電気出力信号を発生するステップ、温度の
関数としてこのセンサのキャパシタンスを測定しかつこ
れに相当する第2電気出力信号を発生するステップ、及
び温度変化を補償されるこのセンサへ入射する電離放射
の強度に相当する出力信号を発生するために第1、第2
電気出力信号を処理するステップを含む。
【0017】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【0018】図1に示す本発明による温度センサは、ダ
イヤモンド型材料の本体10を含み、これに電気接点1
2及び14が取り付けられている。導体16及び18
は、接点12及び14に、それぞれ、接続されている。
イヤモンド型材料の本体10を含み、これに電気接点1
2及び14が取り付けられている。導体16及び18
は、接点12及び14に、それぞれ、接続されている。
【0019】本体10は、典型的に、型式Ia、Ib又
はIIa天然又は合成ダイヤモンド型結晶のような、絶
縁ダイヤモンド型材料の1mm立方の立方体である。こ
の結晶は、その絶縁特性に減じるであろう、低レベルの
ホウ素又はリンのような不純物を持つように選択され
る。接点12及び14は、好適には、金属であり、か
つ、例えば、チタン、アルミニウム、ニッケル、クロ
ム、又はその他の金属を含むことがある。これらの接点
は、必ずしもオーミックであるには及ばない。
はIIa天然又は合成ダイヤモンド型結晶のような、絶
縁ダイヤモンド型材料の1mm立方の立方体である。こ
の結晶は、その絶縁特性に減じるであろう、低レベルの
ホウ素又はリンのような不純物を持つように選択され
る。接点12及び14は、好適には、金属であり、か
つ、例えば、チタン、アルミニウム、ニッケル、クロ
ム、又はその他の金属を含むことがある。これらの接点
は、必ずしもオーミックであるには及ばない。
【0020】図2は、本発明の温度センサの代替実施例
を示し、このセンサにおいて、ダイヤモンド型材料の本
体20は、ドープトシリコン基板上に化学気相成長(C
VD)プロセスによって層として形成される。この場合
も、このダイヤモンド型材料の層は、その導電性を増大
するであろう低濃度の不純物を持つ。そのドープト基板
22は、導電性又は半導電性であり、かつこのダイヤモ
ンド型材料の層への第1電気接点として働く。
を示し、このセンサにおいて、ダイヤモンド型材料の本
体20は、ドープトシリコン基板上に化学気相成長(C
VD)プロセスによって層として形成される。この場合
も、このダイヤモンド型材料の層は、その導電性を増大
するであろう低濃度の不純物を持つ。そのドープト基板
22は、導電性又は半導電性であり、かつこのダイヤモ
ンド型材料の層への第1電気接点として働く。
【0021】この基板は、約100μm以上の厚さのシ
リコンウェーハで作られ、かつその主結晶面の1つから
3°から4°内にある結晶方向を有する。
リコンウェーハで作られ、かつその主結晶面の1つから
3°から4°内にある結晶方向を有する。
【0022】第2金属接点24が、ダイヤモンド型材料
の本体20に取り付けられる。金属接点の代わりに、非
金属接点を、例えば、本体20上にアモルファスシリコ
ン又は同ゲルマニウムのようなドープトアモルファス半
導体材料を堆積することによって、施すこともできる。
この半導体材料は、これに103Ωcm以下の抵抗性を
与えるに充分高い濃度にホウ素又はリンで以てドープさ
れる。原型センサは、1mm平方の寸法を有し、約10
0μmの厚さのダイヤモンド型材料の層20を備える。
の本体20に取り付けられる。金属接点の代わりに、非
金属接点を、例えば、本体20上にアモルファスシリコ
ン又は同ゲルマニウムのようなドープトアモルファス半
導体材料を堆積することによって、施すこともできる。
この半導体材料は、これに103Ωcm以下の抵抗性を
与えるに充分高い濃度にホウ素又はリンで以てドープさ
れる。原型センサは、1mm平方の寸法を有し、約10
0μmの厚さのダイヤモンド型材料の層20を備える。
【0023】本発明のセンサの両実施例において、その
デバイスは、その電気接点間に温度依存性キャパシタン
スを示す。図3は、このセンサのキャパシタンスと温度
との関係を概略的に示す。図1による本発明のセンサの
第1実施例の原型は20℃で約5pFのキャパシタンス
を有し、他方、その第2実施例の原型は約50pFのキ
ャパシタンスを有する。
デバイスは、その電気接点間に温度依存性キャパシタン
スを示す。図3は、このセンサのキャパシタンスと温度
との関係を概略的に示す。図1による本発明のセンサの
第1実施例の原型は20℃で約5pFのキャパシタンス
を有し、他方、その第2実施例の原型は約50pFのキ
ャパシタンスを有する。
【0024】このセンサのキャパシタンスCは、次の式
に従い、そのダイヤモンド型材料の誘電率Cによって決
定される:
に従い、そのダイヤモンド型材料の誘電率Cによって決
定される:
【0025】
【数1】
【0026】ここに、Aはそれらの接点の面積、及びd
はこれらの接点間のこのダイヤモンド型材料の幅又は厚
さである。
はこれらの接点間のこのダイヤモンド型材料の幅又は厚
さである。
【0027】ε0は定数であり、他方、εは温度の関数
である。
である。
【0028】
【数2】
【0029】ここに、Tは絶対温度である。
【0030】したがって、このセンサのキャパシタンス
が、非線形的に、温度の関数として変化することが判
る。
が、非線形的に、温度の関数として変化することが判
る。
【0031】本発明の温度センサの基本的なキャパシタ
ンスは、それらの接点の寸法(面積)及びこれらの接点
間のダイヤモンド型材料の幅又は厚さを調節することに
よって選択され得る。上に説明された両実施例の場合の
ダイヤモンド型材料の厚さの典型的な範囲は、10μm
から1mmの範囲にある。本発明のセンサの第1実施例
において、ダイヤモンド型結晶を採用することによっ
て、このセンサは、全体的に、寸法において1又は2m
m以下であるが、しかしその第2実施例のセンサは、も
し所望されるならば、遥かに大きくなることができ、数
平方cmの面積、及びこれに相当するキャパシタンスを
持つことができる。
ンスは、それらの接点の寸法(面積)及びこれらの接点
間のダイヤモンド型材料の幅又は厚さを調節することに
よって選択され得る。上に説明された両実施例の場合の
ダイヤモンド型材料の厚さの典型的な範囲は、10μm
から1mmの範囲にある。本発明のセンサの第1実施例
において、ダイヤモンド型結晶を採用することによっ
て、このセンサは、全体的に、寸法において1又は2m
m以下であるが、しかしその第2実施例のセンサは、も
し所望されるならば、遥かに大きくなることができ、数
平方cmの面積、及びこれに相当するキャパシタンスを
持つことができる。
【0032】センサを組み込んでいる温度測定装置の漂
遊キャパシタンスに対する感度を低減する、比較的大き
いキャパシタンスを備えるそのセンサを提供することは
好都合ではあるが、認められているように、そのセンサ
の寸法を増大することは、測定されている物体又は環境
によってそれだけい多くの質量の材料が加熱されるか
ら、なおまた、このセンサの応答速度を遅くすることに
なる。それゆえ、このセンサの意図する応用に従い、妥
協に達する必要がある。
遊キャパシタンスに対する感度を低減する、比較的大き
いキャパシタンスを備えるそのセンサを提供することは
好都合ではあるが、認められているように、そのセンサ
の寸法を増大することは、測定されている物体又は環境
によってそれだけい多くの質量の材料が加熱されるか
ら、なおまた、このセンサの応答速度を遅くすることに
なる。それゆえ、このセンサの意図する応用に従い、妥
協に達する必要がある。
【0033】上に説明された本発明のセンサの実施例に
おいて、電荷キャリヤは温度の変化の関数として移動さ
せられ又は局在させられ、これは放射センサのような他
のセンサの動作機構と異なっている。放射センサにおい
ては、キャリヤは、電離粒子とダイヤモンド型材料の構
造との相互作用によって発生される。しかしながら、こ
の説明されているセンサは、下に説明されるように、両
モードで応答し、これが利点を持たらすように使用され
得る。
おいて、電荷キャリヤは温度の変化の関数として移動さ
せられ又は局在させられ、これは放射センサのような他
のセンサの動作機構と異なっている。放射センサにおい
ては、キャリヤは、電離粒子とダイヤモンド型材料の構
造との相互作用によって発生される。しかしながら、こ
の説明されているセンサは、下に説明されるように、両
モードで応答し、これが利点を持たらすように使用され
得る。
【0034】本発明の温度センサは、温度を測定するた
めに、典型的には基準ダイヤモンド型材料のキャパシタ
を備える、零位法キャパシタンスブリッジと関連して使
用されることがある。
めに、典型的には基準ダイヤモンド型材料のキャパシタ
を備える、零位法キャパシタンスブリッジと関連して使
用されることがある。
【0035】図4及び図5は、温度を測定するために及
びその温度された測定に相当する出力電圧を提供するた
めに本発明のセンサと共に使用することのできる回路を
示す。
びその温度された測定に相当する出力電圧を提供するた
めに本発明のセンサと共に使用することのできる回路を
示す。
【0036】図4は、温度センサCが帰還素子として使
用される電圧制御発振器(以下、VCOと称する)回路
を示す。このVCOは公称周波数で運転するようにプリ
セットされ、この周波数は温度に伴うこのセンサのキャ
パシタンスの変動に従って変動する。図示の回路におい
ては、そのセンサのキャパシタンスは、次の式で与えら
れる:
用される電圧制御発振器(以下、VCOと称する)回路
を示す。このVCOは公称周波数で運転するようにプリ
セットされ、この周波数は温度に伴うこのセンサのキャ
パシタンスの変動に従って変動する。図示の回路におい
ては、そのセンサのキャパシタンスは、次の式で与えら
れる:
【0037】
【数3】
【0038】ここに、TはこのVCOの発振周期であ
る。このセンサのキャパシタンスと絶対温度T(上の発
振周期と混同してはならない)との間の上の関係から、
温度値を計算することできる。
る。このセンサのキャパシタンスと絶対温度T(上の発
振周期と混同してはならない)との間の上の関係から、
温度値を計算することできる。
【0039】図5の回路は、温度センサCが非線形帰還
素子として使用される比較的簡単な方形波発振器であ
る。この回路は、次の関係に従って、センサCのキャパ
シタンス及びこの回路の抵抗器によって決定される周波
数を持つ方形波を発生する:
素子として使用される比較的簡単な方形波発振器であ
る。この回路は、次の関係に従って、センサCのキャパ
シタンス及びこの回路の抵抗器によって決定される周波
数を持つ方形波を発生する:
【0040】
【数4】
【0041】ここに、Tはこの方形波発生器の発振周期
である。
である。
【0042】この場合も、このようにして得られたキャ
パシタンス値から、温度値を計算することができる。
パシタンス値から、温度値を計算することができる。
【0043】図6において、電界効果トランジスタ(F
ETS)T1及びT2を含む簡単な回路が、発振器から
方形波を供給される。このことが、そのパルス列の周波
数繰返し速度でトランジスタT1をスイッチさせて、温
度センサCを一定速度で放電させる。センサCが中性子
放射又は電離放射に晒されるとき、このセンサは、その
入射放射の強度に比例する速度で放電する。トランジス
タT2は、センサC上の電荷を監視しかつこれに相当す
る出力電圧Voutを提供する。
ETS)T1及びT2を含む簡単な回路が、発振器から
方形波を供給される。このことが、そのパルス列の周波
数繰返し速度でトランジスタT1をスイッチさせて、温
度センサCを一定速度で放電させる。センサCが中性子
放射又は電離放射に晒されるとき、このセンサは、その
入射放射の強度に比例する速度で放電する。トランジス
タT2は、センサC上の電荷を監視しかつこれに相当す
る出力電圧Voutを提供する。
【0044】本発明のセンサが電離放射と温度との両方
に感応性であると云う事実は、温度及び入射放射の両方
を測定する測定デバイス、又は温度補償される放射測定
デバイスを提供するために利用され得ることは、認めら
れる所である。後者の場合、基準温度補償キャパシタ
を、適当な補償回路で以て、図4及び図5の回路内に提
供することもできる。
に感応性であると云う事実は、温度及び入射放射の両方
を測定する測定デバイス、又は温度補償される放射測定
デバイスを提供するために利用され得ることは、認めら
れる所である。後者の場合、基準温度補償キャパシタ
を、適当な補償回路で以て、図4及び図5の回路内に提
供することもできる。
【0045】
【発明の効果】説明された温度センサは、パルスモード
又は導通モードで動作する既知の放射センサに物理的に
類似しており、したがって、温度の関数としてそのセン
サのキャパシタンスと、このセンサへの入射放射から生
じるパルスモード信号又は導通モード信号との両方を測
定する複合測定回路に接続され得る。
又は導通モードで動作する既知の放射センサに物理的に
類似しており、したがって、温度の関数としてそのセン
サのキャパシタンスと、このセンサへの入射放射から生
じるパルスモード信号又は導通モード信号との両方を測
定する複合測定回路に接続され得る。
【0046】温度依存性キャパシタンス測定は、温度変
動に起因するそのセンサのパルスモード出力又は導通モ
ード出力の変動を補償するために使用される。
動に起因するそのセンサのパルスモード出力又は導通モ
ード出力の変動を補償するために使用される。
【0047】この温度センサのダイヤモンド型材料の本
体は非導電性であるので、このセンサは、誘導電流に起
因する誤りを生じるおそれなく強力な磁界内に使用され
得る。本発明のセンサは、したがって、従来のサーミス
タが不適当なことがある超電導物体と関連して使用され
るのに適している。
体は非導電性であるので、このセンサは、誘導電流に起
因する誤りを生じるおそれなく強力な磁界内に使用され
得る。本発明のセンサは、したがって、従来のサーミス
タが不適当なことがある超電導物体と関連して使用され
るのに適している。
【0048】ダイヤモンド型材料の優れた熱伝導率に起
因して、本発明の温度センサは、熱絶縁材料でもある電
気絶縁材料を使用することがある、先行技術のセンサと
比較して高速応答を提供することができる。
因して、本発明の温度センサは、熱絶縁材料でもある電
気絶縁材料を使用することがある、先行技術のセンサと
比較して高速応答を提供することができる。
【図1】本発明によるダイヤモンド型材料の温度センサ
の第1実施例の概略側断面図。
の第1実施例の概略側断面図。
【図2】本発明による温度センサの第2実施例の概略側
断面図。
断面図。
【図3】本発明による温度センサの温度に対する電気的
特性を示すグラフ図。
特性を示すグラフ図。
【図4】温度を測定するために本発明の温度センサと共
に使用することのできるVCO回路の回路図。
に使用することのできるVCO回路の回路図。
【図5】温度を測定するために本発明の温度センサと共
に使用することのできる方形波発振器の回路図。
に使用することのできる方形波発振器の回路図。
【図6】放射及び/又は温度を測定するために本発明の
温度センサと共に使用することのできる回路の回路図。
温度センサと共に使用することのできる回路の回路図。
10 ダイヤモンド型材料の本体 12、14 電気接点 16、18 導体 20 ダイヤモンド型材料の本体 22 ドープト基板 24 第2金属接点 C 温度センサ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年10月14日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 温度センサ
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ダイヤモンド型材料か
ら形成される温度センサであって、温度に感応性であり
かつ電離放射又は中性子放射にもまた感応性である温度
センサに関する。
ら形成される温度センサであって、温度に感応性であり
かつ電離放射又は中性子放射にもまた感応性である温度
センサに関する。
【0002】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、温度セ
ンサは、絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの本体に
取り付けられた1対のかつ間隔を挟む電気接点を含み、
このダイヤモンド型材料の本体はこれら接点間に所定の
厚さを有し、かつこれらの接点は所定の面積を有し、し
たがって、前記センサが前記接点間に温度依存性である
(この厚さ及び面積に)相当するキャパシタンスを有す
る。
ンサは、絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの本体に
取り付けられた1対のかつ間隔を挟む電気接点を含み、
このダイヤモンド型材料の本体はこれら接点間に所定の
厚さを有し、かつこれらの接点は所定の面積を有し、し
たがって、前記センサが前記接点間に温度依存性である
(この厚さ及び面積に)相当するキャパシタンスを有す
る。
【0003】このダイヤモンド型材料の本体は、型式I
a、Ib又はIIa天然又は合成ダイヤモンド型結晶を
含むことがある。
a、Ib又はIIa天然又は合成ダイヤモンド型結晶を
含むことがある。
【0004】このダイヤモンド型材料の本体は、更に、
化学気相成長プロセスによって堆積された非ドープトダ
イヤモンド型材料の層を含むことがある。
化学気相成長プロセスによって堆積された非ドープトダ
イヤモンド型材料の層を含むことがある。
【0005】このダイヤモンド型材料の層は、導体基板
又は半導体基板上に堆積されることがある。
又は半導体基板上に堆積されることがある。
【0006】この基板は、ドープトシリコンを含むこと
がある。
がある。
【0007】このドープトシリコン基板は、電気接点の
1つとして機能することができる。
1つとして機能することができる。
【0008】これらの電気接点の少なくとも1つは、金
属であってよく、かつ、例えば、チタン、アルミニウ
ム、ニッケル、又はクロムを含むことがある。
属であってよく、かつ、例えば、チタン、アルミニウ
ム、ニッケル、又はクロムを含むことがある。
【0009】これらの電気接点の少なくとも1つは、こ
のダイヤモンド型材料の本体上に堆積されたドープトア
モルファス半導体材料を含むことがある。
のダイヤモンド型材料の本体上に堆積されたドープトア
モルファス半導体材料を含むことがある。
【0010】本発明は温度測定装置へ拡張し、この装置
は上に定義された温度センサを含み及び更に発振器回路
を含み、この発振器の出力周波数がこのセンサの温度と
共に変動するようにこのセンサがこの回路に帰還素子と
して接続される。
は上に定義された温度センサを含み及び更に発振器回路
を含み、この発振器の出力周波数がこのセンサの温度と
共に変動するようにこのセンサがこの回路に帰還素子と
して接続される。
【0011】本発明は更に放射測定装置へ拡張し、この
装置は本発明の温度センサを含み、更に、所定の充電速
度でこのセンサに電荷を印加する充電手段、及びこのセ
ンサ上のその結果の電圧を監視する監視手段を含み、こ
れによってこのセンサへ入射する電離放射の強度を測定
する。
装置は本発明の温度センサを含み、更に、所定の充電速
度でこのセンサに電荷を印加する充電手段、及びこのセ
ンサ上のその結果の電圧を監視する監視手段を含み、こ
れによってこのセンサへ入射する電離放射の強度を測定
する。
【0012】本発明はなお更に放射測定装置へ拡張し、
この装置は本発明のセンサを含み、更に、このセンサへ
入射する電離放射に起因するパルス又は導通モード電気
出力信号を測定しかつこれに相当する第1電気信号を発
生するパルス又は導通モード測定手段、温度の関数とし
てこのセンサのキャパシタンスを測定しかつこれに相当
する第2電気信号を発生するキャパシタンス測定手段、
及び第1、第2電気信号に応答してこのセンサへ入射す
る電離放射の強度に相当する出力信号を発生し、このセ
ンサの温度変化を補償する補償手段を含む。
この装置は本発明のセンサを含み、更に、このセンサへ
入射する電離放射に起因するパルス又は導通モード電気
出力信号を測定しかつこれに相当する第1電気信号を発
生するパルス又は導通モード測定手段、温度の関数とし
てこのセンサのキャパシタンスを測定しかつこれに相当
する第2電気信号を発生するキャパシタンス測定手段、
及び第1、第2電気信号に応答してこのセンサへ入射す
る電離放射の強度に相当する出力信号を発生し、このセ
ンサの温度変化を補償する補償手段を含む。
【0013】本発明は、加えて、温度測定方法へ拡張
し、この方法は絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの
本体に取り付けられたかつ間隔を挟む1対の電気接点を
含む温度センサであって、ダイヤモンド型材料のこの本
体がこれらの接点間に所定の厚さを有し、かつこれらの
接点が所定の面積を有し、したがって、このセンサが、
これらの接点間に、温度依存性のこの厚さと面積に相当
するキャパシタンスを有するこの本体を提供するステッ
プ、このセンサを測定される環境内又は物体に対して配
置するステップ、これらの接点間のキャパシタンス又は
これに関連するパラメータを測定するステップ、及びそ
の環境又は物体の温度を測定するために測定されたキャ
パシタンス又は電気的パラメータを基準キャパシタンス
又は電気パラメータに関連させるステップを含む。
し、この方法は絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの
本体に取り付けられたかつ間隔を挟む1対の電気接点を
含む温度センサであって、ダイヤモンド型材料のこの本
体がこれらの接点間に所定の厚さを有し、かつこれらの
接点が所定の面積を有し、したがって、このセンサが、
これらの接点間に、温度依存性のこの厚さと面積に相当
するキャパシタンスを有するこの本体を提供するステッ
プ、このセンサを測定される環境内又は物体に対して配
置するステップ、これらの接点間のキャパシタンス又は
これに関連するパラメータを測定するステップ、及びそ
の環境又は物体の温度を測定するために測定されたキャ
パシタンス又は電気的パラメータを基準キャパシタンス
又は電気パラメータに関連させるステップを含む。
【0014】この方法は、このセンサを発振器回路内の
帰還素子として接続し、及びこのセンサによって測定さ
れた温度変動をこの発振器回路の発振周波数の対応する
変動に関連させることを含む。
帰還素子として接続し、及びこのセンサによって測定さ
れた温度変動をこの発振器回路の発振周波数の対応する
変動に関連させることを含む。
【0015】本発明は、放射測定方法を含み、この方法
は絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの本体に取り付
けられたかつ間隔を挟む1対の電気接点を含む温度セン
サであって、ダイヤモンド型材料のこの本体がこれらの
接点間に所定の厚さを有し、かつこれらの接点が所定の
面積を有し、したがって、このセンサが、これらの接点
間に、温度依存性のこの厚さと面積に相当するキャパシ
タンスを有するこの本体を提供するステップ、所定の充
電速度でこのセンサに電荷を印加する充電ステップ手
段、及びこのセンサ上のその結果の電圧を監視し、これ
によってこのセンサ上へ入射する電離放射の強度を測定
するステップを含む。
は絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの本体に取り付
けられたかつ間隔を挟む1対の電気接点を含む温度セン
サであって、ダイヤモンド型材料のこの本体がこれらの
接点間に所定の厚さを有し、かつこれらの接点が所定の
面積を有し、したがって、このセンサが、これらの接点
間に、温度依存性のこの厚さと面積に相当するキャパシ
タンスを有するこの本体を提供するステップ、所定の充
電速度でこのセンサに電荷を印加する充電ステップ手
段、及びこのセンサ上のその結果の電圧を監視し、これ
によってこのセンサ上へ入射する電離放射の強度を測定
するステップを含む。
【0016】本発明は、放射測定方法を含み、この方法
は絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの本体に取り付
けられたかつ間隔を挟む1対の電気接点を含む温度セン
サであって、ダイヤモンド型材料のこの本体がこれらの
接点間に所定の厚さを有し、かつこれらの接点が所定の
面積を有し、したがって、このセンサが、これらの接点
間に、温度依存性のこの厚さと面積に相当するキャパシ
タンスを有するこの本体を提供するステップ、このセン
サを電離放射に晒すステップ、この電離放射に起因する
パルス又は導通モード電気信号を測定しかつこれに相当
する第1電気出力信号を発生するステップ、温度の関数
としてこのセンサのキャパシタンスを測定しかつこれに
相当する第2電気出力信号を発生するステップ、及び温
度変化を補償されるこのセンサへ入射する電離放射の強
度に相当する出力信号を発生するために第1、第2電気
出力信号を処理するステップを含む。
は絶縁ダイヤモンド型材料の本体及びこの本体に取り付
けられたかつ間隔を挟む1対の電気接点を含む温度セン
サであって、ダイヤモンド型材料のこの本体がこれらの
接点間に所定の厚さを有し、かつこれらの接点が所定の
面積を有し、したがって、このセンサが、これらの接点
間に、温度依存性のこの厚さと面積に相当するキャパシ
タンスを有するこの本体を提供するステップ、このセン
サを電離放射に晒すステップ、この電離放射に起因する
パルス又は導通モード電気信号を測定しかつこれに相当
する第1電気出力信号を発生するステップ、温度の関数
としてこのセンサのキャパシタンスを測定しかつこれに
相当する第2電気出力信号を発生するステップ、及び温
度変化を補償されるこのセンサへ入射する電離放射の強
度に相当する出力信号を発生するために第1、第2電気
出力信号を処理するステップを含む。
【0017】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【0018】図1に示す本発明による温度センサは、ダ
イヤモンド型材料の本体10を含み、これに電気接点1
2及び14が取り付けられている。導体16及び18
は、接点12及び14に、それぞれ、接続されている。
イヤモンド型材料の本体10を含み、これに電気接点1
2及び14が取り付けられている。導体16及び18
は、接点12及び14に、それぞれ、接続されている。
【0019】本体10は、典型的に、型式Ia、Ib又
はIIa天然又は合成ダイヤモンド型結晶のような、絶
縁ダイヤモンド型材料の1mm立方の立方体である。こ
の結晶は、その絶縁特性に減じるであろう、低レベルの
ホウ素又はリンのような不純物を持つように選択され
る。接点12及び14は、好適には、金属であり、か
つ、例えば、チタン、アルミニウム、ニッケル、クロ
ム、又はその他の金属を含むことがある。これらの接点
は、必ずしもオーミックであるには及ばない。
はIIa天然又は合成ダイヤモンド型結晶のような、絶
縁ダイヤモンド型材料の1mm立方の立方体である。こ
の結晶は、その絶縁特性に減じるであろう、低レベルの
ホウ素又はリンのような不純物を持つように選択され
る。接点12及び14は、好適には、金属であり、か
つ、例えば、チタン、アルミニウム、ニッケル、クロ
ム、又はその他の金属を含むことがある。これらの接点
は、必ずしもオーミックであるには及ばない。
【0020】図2は、本発明の温度センサの代替実施例
を示し、このセンサにおいて、ダイヤモンド型材料の本
体20は、ドープトシリコン基板上に化学気相成長(C
VD)プロセスによって層として形成される。この場合
も、このダイヤモンド型材料の層は、その導電性を増大
するであろう低濃度の不純物を持つ。そのドープト基板
22は、導電性又は半導電性であり、かつこのダイヤモ
ンド型材料の層への第1電気接点として働く。
を示し、このセンサにおいて、ダイヤモンド型材料の本
体20は、ドープトシリコン基板上に化学気相成長(C
VD)プロセスによって層として形成される。この場合
も、このダイヤモンド型材料の層は、その導電性を増大
するであろう低濃度の不純物を持つ。そのドープト基板
22は、導電性又は半導電性であり、かつこのダイヤモ
ンド型材料の層への第1電気接点として働く。
【0021】この基板は、約100μm以上の厚さのシ
リコンウェーハで作られ、かつその主結晶面の1つから
3°から4°内にある結晶方向を有する。
リコンウェーハで作られ、かつその主結晶面の1つから
3°から4°内にある結晶方向を有する。
【0022】第2金属接点24が、ダイヤモンド型材料
の本体20に取り付けられる。金属接点の代わりに、非
金属接点を、例えば、本体20上にアモルファスシリコ
ン又は同ゲルマニウムのようなドープトアモルファス半
導体材料を堆積することによって、施すこともできる。
この半導体材料は、これに103Ωcm以下の抵抗性を
与えるに充分高い濃度にホウ素又はリンで以てドープさ
れる。原型センサは、1mm平方の寸法を有し、約10
0μmの厚さのダイヤモンド型材料の層20を備える。
の本体20に取り付けられる。金属接点の代わりに、非
金属接点を、例えば、本体20上にアモルファスシリコ
ン又は同ゲルマニウムのようなドープトアモルファス半
導体材料を堆積することによって、施すこともできる。
この半導体材料は、これに103Ωcm以下の抵抗性を
与えるに充分高い濃度にホウ素又はリンで以てドープさ
れる。原型センサは、1mm平方の寸法を有し、約10
0μmの厚さのダイヤモンド型材料の層20を備える。
【0023】本発明のセンサの両実施例において、その
デバイスは、その電気接点間に温度依存性キャパシタン
スを示す。図3は、このセンサのキャパシタンスと温度
との関係を概略的に示す。図1による本発明のセンサの
第1実施例の原型は20℃で約5pFのキャパシタンス
を有し、他方、その第2実施例の原型は約50pFのキ
ャパシタンスを有する。
デバイスは、その電気接点間に温度依存性キャパシタン
スを示す。図3は、このセンサのキャパシタンスと温度
との関係を概略的に示す。図1による本発明のセンサの
第1実施例の原型は20℃で約5pFのキャパシタンス
を有し、他方、その第2実施例の原型は約50pFのキ
ャパシタンスを有する。
【0024】このセンサのキャパシタンスCは、次の式
に従い、そのダイヤモンド型材料の誘電率εによって決
定される:
に従い、そのダイヤモンド型材料の誘電率εによって決
定される:
【0025】
【数1】
【0026】ここに、Aはそれらの接点の面積、及びd
はこれらの接点間のこのダイヤモンド型材料の幅又は厚
さである。
はこれらの接点間のこのダイヤモンド型材料の幅又は厚
さである。
【0027】εoは定数であり、他方、εは温度の関数
である。
である。
【0028】
【数2】
【0029】ここに、Tは絶対温度である。
【0030】したがって、このセンサのキャパシタンス
が、非線形的に、温度の関数として変化することが判
る。
が、非線形的に、温度の関数として変化することが判
る。
【0031】本発明の温度センサの基本的なキャパシタ
ンスは、それらの接点の寸法(面積)及びこれらの接点
間のダイヤモンド型材料の幅又は厚さを調節することに
よって選択され得る。上に説明された両実施例の場合の
ダイヤモンド型材料の厚さの典型的な範囲は、10μm
から1mmの範囲にある。本発明のセンサの第1実施例
において、ダイヤモンド型結晶を採用することによっ
て、このセンサは、全体的に、寸法において1又は2m
m以下であるが、しかしその第2実施例のセンサは、も
し所望されるならば、遥かに大きくなることができ、数
平方cmの面積、及びこれに相当するキャパシタンスを
持つことができる。
ンスは、それらの接点の寸法(面積)及びこれらの接点
間のダイヤモンド型材料の幅又は厚さを調節することに
よって選択され得る。上に説明された両実施例の場合の
ダイヤモンド型材料の厚さの典型的な範囲は、10μm
から1mmの範囲にある。本発明のセンサの第1実施例
において、ダイヤモンド型結晶を採用することによっ
て、このセンサは、全体的に、寸法において1又は2m
m以下であるが、しかしその第2実施例のセンサは、も
し所望されるならば、遥かに大きくなることができ、数
平方cmの面積、及びこれに相当するキャパシタンスを
持つことができる。
【0032】センサを組み込んでいる温度測定装置の漂
遊キャパシタンスに対する感度を低減する、比較的大き
いキャパシタンスを備えるそのセンサを提供することは
好都合ではあるが、認められているように、そのセンサ
の寸法を増大することは、測定されている物体又は環境
によってそれだけい多くの質量の材料が加熱されるか
ら、なおまた、このセンサの応答速度を遅くすることに
なる。それゆえ、このセンサの意図する応用に従い、妥
協に達する必要がある。
遊キャパシタンスに対する感度を低減する、比較的大き
いキャパシタンスを備えるそのセンサを提供することは
好都合ではあるが、認められているように、そのセンサ
の寸法を増大することは、測定されている物体又は環境
によってそれだけい多くの質量の材料が加熱されるか
ら、なおまた、このセンサの応答速度を遅くすることに
なる。それゆえ、このセンサの意図する応用に従い、妥
協に達する必要がある。
【0033】上に説明された本発明のセンサの実施例に
おいて、電荷キャリヤは温度の変化の関数として移動さ
せられ又は局在させられ、これは放射センサのような他
のセンサの動作機構と異なっている。放射センサにおい
ては、キャリヤは、電離粒子とダイヤモンド型材料の構
造との相互作用によって発生される。しかしながら、こ
の説明されているセンサは、下に説明されるように、両
モードで応答し、これが利点を持たらすように使用され
得る。
おいて、電荷キャリヤは温度の変化の関数として移動さ
せられ又は局在させられ、これは放射センサのような他
のセンサの動作機構と異なっている。放射センサにおい
ては、キャリヤは、電離粒子とダイヤモンド型材料の構
造との相互作用によって発生される。しかしながら、こ
の説明されているセンサは、下に説明されるように、両
モードで応答し、これが利点を持たらすように使用され
得る。
【0034】本発明の温度センサは、温度を測定するた
めに、典型的には基準ダイヤモンド型材料のキャパシタ
を備える、零位法キャパシタンスブリッジと関連して使
用されることがある。
めに、典型的には基準ダイヤモンド型材料のキャパシタ
を備える、零位法キャパシタンスブリッジと関連して使
用されることがある。
【0035】図4及び図5は、温度を測定するために及
びその温度された測定に相当する出力電圧を提供するた
めに本発明のセンサと共に使用することのできる回路を
示す。
びその温度された測定に相当する出力電圧を提供するた
めに本発明のセンサと共に使用することのできる回路を
示す。
【0036】図4は、温度センサCが帰還素子として使
用される電圧制御発振器(以下、VCOと称する)回路
を示す。このVCOは公称周波数で運転するようにプリ
セットされ、この周波数は温度に伴うこのセンサのキャ
パシタンスの変動に従って変動する。図示の回路におい
ては、そのセンサのキャパシタンスは、次の式で与えら
れる:
用される電圧制御発振器(以下、VCOと称する)回路
を示す。このVCOは公称周波数で運転するようにプリ
セットされ、この周波数は温度に伴うこのセンサのキャ
パシタンスの変動に従って変動する。図示の回路におい
ては、そのセンサのキャパシタンスは、次の式で与えら
れる:
【0037】
【数3】
【0038】ここに、TはこのVCOの発振周期であ
る。このセンサのキャパシタンスと絶対温度T(上の発
振周期と混同してはならない)との間の上の関係から、
温度値を計算することできる。
る。このセンサのキャパシタンスと絶対温度T(上の発
振周期と混同してはならない)との間の上の関係から、
温度値を計算することできる。
【0039】図5の回路は、温度センサCが非線形帰還
素子として使用される比較的簡単な方形波発振器であ
る。この回路は、次の関係に従って、センサCのキャパ
シタンス及びこの回路の抵抗器によって決定される周波
数を持つ方形波を発生する:
素子として使用される比較的簡単な方形波発振器であ
る。この回路は、次の関係に従って、センサCのキャパ
シタンス及びこの回路の抵抗器によって決定される周波
数を持つ方形波を発生する:
【0040】
【数4】
【0041】ここに、Tはこの方形波発生器の発振周期
である。
である。
【0042】この場合も、このようにして得られたキャ
パシタンス値から、温度値を計算することができる。
パシタンス値から、温度値を計算することができる。
【0043】図6において、電界効果トランジスタ(F
ETs)T1及びT2を含む簡単な回路が、発振器から
方形波を供給される。このことが、そのパルス列の周波
数繰返し速度でトランジスタT1をスイッチさせて、温
度センサCを一定速度で放電させる。センサCが中性子
放射又は電離放射に晒されるとき、このセンサは、その
入射放射の強度に比例する速度で放電する。トランジス
タT2は、センサC上の電荷を監視しかつこれに相当す
る出力電圧Voutを提供する。
ETs)T1及びT2を含む簡単な回路が、発振器から
方形波を供給される。このことが、そのパルス列の周波
数繰返し速度でトランジスタT1をスイッチさせて、温
度センサCを一定速度で放電させる。センサCが中性子
放射又は電離放射に晒されるとき、このセンサは、その
入射放射の強度に比例する速度で放電する。トランジス
タT2は、センサC上の電荷を監視しかつこれに相当す
る出力電圧Voutを提供する。
【0044】本発明のセンサが電離放射と温度との両方
に感応性であると云う事実は、温度及び入射放射の両方
を測定する測定デバイス、又は温度補償される放射測定
デバイスを提供するために利用され得ることは、認めら
れる所である。後者の場合、基準温度補償キャパシタ
を、適当な補償回路で以て、図4及び図5の回路内に提
供することもできる。
に感応性であると云う事実は、温度及び入射放射の両方
を測定する測定デバイス、又は温度補償される放射測定
デバイスを提供するために利用され得ることは、認めら
れる所である。後者の場合、基準温度補償キャパシタ
を、適当な補償回路で以て、図4及び図5の回路内に提
供することもできる。
【0045】
【発明の効果】説明された温度センサは、パルスモード
又は導通モードで動作する既知の放射センサに物理的に
類似しており、したがって、温度の関数としてそのセン
サのキャパシタンスと、このセンサへの入射放射から生
じるパルスモード信号又は導通モード信号との両方を測
定する複合測定回路に接続され得る。
又は導通モードで動作する既知の放射センサに物理的に
類似しており、したがって、温度の関数としてそのセン
サのキャパシタンスと、このセンサへの入射放射から生
じるパルスモード信号又は導通モード信号との両方を測
定する複合測定回路に接続され得る。
【0046】温度依存性キャパシタンス測定は、温度変
動に起因するそのセンサのパルスモード出力又は導通モ
ード出力の変動を補償するために使用される。
動に起因するそのセンサのパルスモード出力又は導通モ
ード出力の変動を補償するために使用される。
【0047】この温度センサのダイヤモンド型材料の本
体は非導電性であるので、このセンサは、誘導電流に起
因する誤りを生じるおそれなく強力な磁界内に使用され
得る。本発明のセンサは、したがって、従来のサーミス
タが不適当なことがある超電導物体と関連して使用され
るのに適している。
体は非導電性であるので、このセンサは、誘導電流に起
因する誤りを生じるおそれなく強力な磁界内に使用され
得る。本発明のセンサは、したがって、従来のサーミス
タが不適当なことがある超電導物体と関連して使用され
るのに適している。
【0048】ダイヤモンド型材料の優れた熱伝導率に起
因して、本発明の温度センサは、熱絶縁材料でもある電
気絶縁材料を使用することがある、先行技術のセンサと
比較して高速応答を提供することができる。
因して、本発明の温度センサは、熱絶縁材料でもある電
気絶縁材料を使用することがある、先行技術のセンサと
比較して高速応答を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるダイヤモンド型材料の温度センサ
の第1実施例の概略側断面図。
の第1実施例の概略側断面図。
【図2】本発明による温度センサの第2実施例の概略側
断面図。
断面図。
【図3】本発明による温度センサの温度に対する電気的
特性を示すグラフ図。
特性を示すグラフ図。
【図4】温度を測定するために本発明の温度センサと共
に使用することのできるVCO回路の回路図
に使用することのできるVCO回路の回路図
【図5】温度を測定するために本発明の温度センサと共
に使用することのできる方形波発振器の回路図
に使用することのできる方形波発振器の回路図
【図6】放射及び/又は温度を測定するために本発明の
温度センサと共に使用することのできる回路の回路図。
温度センサと共に使用することのできる回路の回路図。
【符号の説明】 10 ダイヤモンド型材料の本体 12、14 電気接点 16、18 導体 20 ダイヤモンド型材料の本体 22 ドープト基板 24 第2金属接点 C 温度センサ
Claims (1)
- 【請求項1】 絶縁ダイヤモンド型材料の本体と、前記
本体に取り付けられた1対のかつ間隔を挟む電気接点と
を含む温度センサであって、前記ダイヤモンド型材料の
本体は前記接点間に所定の厚さを有し、かつ前記接点は
所定の面積を有し、したがって、前記センサが、前記接
点間に、温度依存性である相当するキャパシタンスを有
する温度センサ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9217436.6 | 1992-08-17 | ||
| GB929217436A GB9217436D0 (en) | 1992-08-17 | 1992-08-17 | Diamond temperature sensor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0749270A true JPH0749270A (ja) | 1995-02-21 |
Family
ID=10720464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5235981A Pending JPH0749270A (ja) | 1992-08-17 | 1993-08-17 | 温度センサ |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5407276A (ja) |
| EP (1) | EP0583974B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0749270A (ja) |
| AT (1) | ATE148950T1 (ja) |
| DE (1) | DE69308087T2 (ja) |
| GB (1) | GB9217436D0 (ja) |
| ZA (1) | ZA936006B (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2327306A (en) * | 1996-04-26 | 1999-01-20 | Austin Taylor Communicat Ltd | Electrical socket for two plugs |
| GB9608640D0 (en) * | 1996-04-26 | 1996-07-03 | Austin Taylor Communicat Ltd | An electrical connector |
| FI101831B (fi) * | 1997-02-20 | 1998-08-31 | Quantronics Oy | Menetelmä, laite ja järjestely säteilyn määrittämiseksi |
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| US6390672B1 (en) * | 2000-01-20 | 2002-05-21 | Harris Corporation | Space vehicle with temperature sensitive oscillator and associated method of sensing temperature in space |
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| DE102009018210C5 (de) | 2009-04-21 | 2022-08-18 | Khs Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung der Intensität eines Elektronenstrahles |
| US9515243B2 (en) | 2014-12-22 | 2016-12-06 | Infineon Technologies Ag | Temperature sensor |
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| US10480974B2 (en) * | 2015-10-05 | 2019-11-19 | Siargo Ltd. | Composite MEMS flow sensor on silicon-on-insulator device and method of making the same |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR959423A (fr) * | 1947-05-14 | 1950-03-29 | Western Electric Co | Procédés et appareils pour induire une conductibilité électrique dans les isolants. |
| US2760078A (en) * | 1952-05-27 | 1956-08-21 | Well Surveys Inc | Conduction counter for radioactivity well logging |
| US3065402A (en) * | 1959-12-21 | 1962-11-20 | Ibm | Temperature stabilized non-linear reactance elements and circuits |
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| US3493913A (en) * | 1968-10-17 | 1970-02-03 | Orvin E Wagner | Thermally sensitive material of the semiconductor or dielectric type |
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| JPS6488128A (en) * | 1987-09-29 | 1989-04-03 | Murata Manufacturing Co | Temperature sensor |
| CA1289683C (en) * | 1987-10-27 | 1991-09-24 | De Beers Industrial Diamond Division (Proprietary) | Diamond radiation probe |
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-
1992
- 1992-08-17 GB GB929217436A patent/GB9217436D0/en active Pending
-
1993
- 1993-08-17 JP JP5235981A patent/JPH0749270A/ja active Pending
- 1993-08-17 ZA ZA936006A patent/ZA936006B/xx unknown
- 1993-08-17 DE DE69308087T patent/DE69308087T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-08-17 EP EP93306482A patent/EP0583974B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-17 US US08/107,525 patent/US5407276A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-08-17 AT AT93306482T patent/ATE148950T1/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69308087D1 (de) | 1997-03-27 |
| GB9217436D0 (en) | 1992-09-30 |
| EP0583974B1 (en) | 1997-02-12 |
| DE69308087T2 (de) | 1997-08-28 |
| ZA936006B (en) | 1994-03-10 |
| ATE148950T1 (de) | 1997-02-15 |
| US5407276A (en) | 1995-04-18 |
| EP0583974A1 (en) | 1994-02-23 |
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